JPH0577341B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0577341B2
JPH0577341B2 JP62112908A JP11290887A JPH0577341B2 JP H0577341 B2 JPH0577341 B2 JP H0577341B2 JP 62112908 A JP62112908 A JP 62112908A JP 11290887 A JP11290887 A JP 11290887A JP H0577341 B2 JPH0577341 B2 JP H0577341B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
power supply
circuit
terminal
vss
semiconductor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP62112908A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS63276268A (en
Inventor
Michihiro Yamada
Hiroshi Myamoto
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP62112908A priority Critical patent/JPS63276268A/en
Priority to US07/144,383 priority patent/US4855613A/en
Publication of JPS63276268A publication Critical patent/JPS63276268A/en
Publication of JPH0577341B2 publication Critical patent/JPH0577341B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Bipolar Transistors (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、半導体回路例えばMOSトランジス
タを用いて構成される半導体メモリ、例えばダイ
ナミツクMOS・RAMのような半導体装置に係
り、特には電源電圧供給回路を備えた半導体装置
に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to a semiconductor circuit such as a semiconductor memory constructed using MOS transistors, such as a semiconductor device such as a dynamic MOS/RAM, and particularly relates to a semiconductor device such as a dynamic MOS/RAM. The present invention relates to a semiconductor device including a circuit.

(従来の技術) 第4図は、従来の半導体装置の構成例を示す図
であり、詳しくは半導体チツプとその半導体チツ
プに形成されたダイナミツクMOS・RAM回路
(図中ではブロツク回路で図示されており、この
回路を以下の説明ではMOS回路ということにす
る。)とそのMOS回路に電源電圧を供給するため
のアルミニウム配線等を示す図である。第4図に
おいて、符号1はダイナミツクMOS・RAM用の
半導体チツプである。2は半導体チツプ1上に配
線されて電源電圧(Vcc)をMOS回路に供給す
る電源電圧供給用アルミニウム配線(Vcc用アル
ミニウム配線)である。3は半導体チツプ1に対
してVcc用アルミニウム配線2を通してVccレベ
ルの電源電圧を外部から印加する電源端子(Vcc
用電源端子)である。4は半導体チツプ1上に配
線された接地(Vss)レベルの電源電圧をMOS
回路に供給するアルミニウム配線(Vss用アルミ
ニウム配線)である。5は半導体チツプ1に対し
てVss用アルミニウム配線4を通して接地レベル
の電圧を外部から印加する電源端子(Vss用電源
端子)である。
(Prior Art) Fig. 4 is a diagram showing an example of the configuration of a conventional semiconductor device. (This circuit will be referred to as a MOS circuit in the following explanation.) and aluminum wiring for supplying a power supply voltage to the MOS circuit. In FIG. 4, reference numeral 1 is a semiconductor chip for dynamic MOS/RAM. Reference numeral 2 denotes a power supply voltage supplying aluminum wiring (Vcc aluminum wiring) which is wired on the semiconductor chip 1 and supplies the power supply voltage (Vcc) to the MOS circuit. Reference numeral 3 denotes a power supply terminal (Vcc
power supply terminal). 4 is the ground (Vss) level power supply voltage wired on the semiconductor chip 1.
This is aluminum wiring (aluminum wiring for Vss) that supplies the circuit. Reference numeral 5 denotes a power supply terminal (Vss power supply terminal) for externally applying a ground level voltage to the semiconductor chip 1 through the Vss aluminum wiring 4.

6は半導体チツプ1上に配置されたMOSトラ
ンジスタを用いて構成されるMOS回路である。
Reference numeral 6 denotes a MOS circuit constructed using MOS transistors arranged on the semiconductor chip 1.

従来の半導体装置は上記のように構成されてい
る。そして、この場合、Vcc用電源端子3は直
接、Vcc用アルミニウム配線2と接続されてお
り、またVss用電源端子5は直接、Vss用アルミ
ニウム配線4と接続されている。半導体チツプ1
上に配置されたMOS回路6には、Vcc用電源端
子3とVss用電源端子5との間に外部から印加さ
れたVccレベルの電圧が、そのままVcc用アルミ
ニウム配線2とVss用アルミニウム配線4とを通
じて印加されることによりMOS回路6は動作す
るようになつている。
A conventional semiconductor device is configured as described above. In this case, the Vcc power terminal 3 is directly connected to the Vcc aluminum wiring 2, and the Vss power terminal 5 is directly connected to the Vss aluminum wiring 4. semiconductor chip 1
In the MOS circuit 6 arranged above, a Vcc level voltage applied from the outside between the Vcc power supply terminal 3 and the Vss power supply terminal 5 is directly applied to the Vcc aluminum wiring 2 and the Vss aluminum wiring 4. The MOS circuit 6 is made to operate by applying the voltage through the MOS circuit 6.

(発明が解決しようとする問題点) しかるに、上記従来装置においては、同じく第
4図に示すように、Vcc用アルミニウム配線2と
Vss用アルミニウム配線4との間に図中に抵抗7
で表わされるような電気的短絡状態が存在したと
きには、過大な短絡電流iがVcc用電源端子3と
Vss用電源端子5との間に長時間にわたり流れて
しまう。
(Problems to be Solved by the Invention) However, in the above conventional device, as shown in FIG.
Resistor 7 in the diagram between aluminum wiring 4 for Vss
When an electrical short-circuit condition as expressed by
It flows for a long time between it and the Vss power supply terminal 5.

そして、例えば、半導体チツプ1がウエハの状
態でVcc用電源端子3とVss用電源端子5とのそ
れぞれにプロービング用の針(プローブ針)を介
してVccレベルの電圧を印加しているような場合
に、そのプローブ針に長時間にわたり前記過大短
絡電流iが流れ、その結果、プローブ針がその過
大短絡電流により溶断してしまうとか、Vccレベ
ルの電圧を印加する外部電源の方が破壊されてし
まうといつた問題が生じる。
For example, when the semiconductor chip 1 is in a wafer state, a voltage at the Vcc level is applied to each of the Vcc power supply terminal 3 and the Vss power supply terminal 5 through a probing needle (probe needle). Then, the excessive short-circuit current i flows through the probe needle for a long time, and as a result, the probe needle may melt due to the excessive short-circuit current, or the external power supply that applies the voltage at the Vcc level may be destroyed. The following problem arises.

さらに、特に第5図に図示すように、RAMの
半導体チツプ1をウエハ上に多数個並べてウエハ
をスクライブすることなく、つまりウエハのまま
アセンブリをするような場合に(ウエハスケール
インテグレーシヨンと呼ばれている)、次に述べ
るような問題もある。
Furthermore, as shown in FIG. 5, in particular, when a large number of RAM semiconductor chips 1 are arranged on a wafer and assembled without scribing the wafer, in other words, the wafer is assembled as is (called wafer scale integration). ), there are also problems as described below.

第5図では多数のRAM用半導体チツプ1a,
1a′,1a″……,1b,1b′,1b″,……,1
c,1c′,1c″,……,1d,1d′,1d″,……
の各々が第4図に示す半導体チツプ1に対応し、
各々の半導体チツプ上のVcc用電源端子3どうし
をウエハ上で別のアルミニウム配線で相互に共通
に結線し、また各々の半導体チツプ上のVss電源
用端子5どうしをウエハ上で別のアルミニウム配
線で相互に共通に結線している。
In FIG. 5, a large number of RAM semiconductor chips 1a,
1a', 1a''..., 1b, 1b', 1b'',..., 1
c, 1c', 1c'', ..., 1d, 1d', 1d'', ...
each corresponds to the semiconductor chip 1 shown in FIG.
The Vcc power supply terminals 3 on each semiconductor chip are commonly connected to each other using separate aluminum wiring on the wafer, and the Vss power supply terminals 5 on each semiconductor chip are connected together using separate aluminum wiring on the wafer. They are commonly connected to each other.

そして、仮にウエハ上で1チツプの半導体チツ
プでもVcc用アルミニウム配線2(実線で図示さ
れている。)とVss用アルミニウム配線4(破線
で図示されている。)との間に電気的短絡状態が
存在すれば、第4図に示す従来の半導体装置にお
ける電源電圧供給回路の場合には、電気的短絡状
態が存在する半導体チツプに過大な短絡電流が流
れることにより電源電圧が降下してしまつて、他
の正常な半導体チツプに対して正常レベルの電源
電圧を印加できなくなるという問題がある。
Even if there is only one semiconductor chip on a wafer, there is an electrical short circuit between the Vcc aluminum wiring 2 (indicated by a solid line) and the Vss aluminum wiring 4 (indicated by a broken line). If so, in the case of the power supply voltage supply circuit in the conventional semiconductor device shown in FIG. 4, the power supply voltage would drop due to an excessive short circuit current flowing through the semiconductor chip in which the electrical short circuit exists. There is a problem in that a normal level power supply voltage cannot be applied to other normal semiconductor chips.

本発明は、以上の問題点を解消して、Vcc用と
Vss用の両アルミニウム配線間に電気的短絡状態
が存在した場合にも、過大な短絡電流が長時間に
わたり流れるといつたことを防止すると共に、そ
れ以後も半導体チツプでの消費電流をゼロに抑制
することができるようにした半導体装置を提供す
ることを目的としている。
The present invention solves the above problems and provides a
Even if an electrical short circuit exists between both aluminum wiring lines for Vss, it prevents excessive short circuit current from flowing for a long period of time, and even after that, current consumption in the semiconductor chip is suppressed to zero. The object of the present invention is to provide a semiconductor device that can perform the following steps.

(問題点を解決するための手段) 本発明は、前記目的を達成するために、次の構
成をとる。半導体回路と、前記半導体回路の電源
電圧供給回路とを具備し、前記電源電圧供給回路
は、前記半導体回路に電源電圧を印加する電源端
子と、接地電位を印加する接地端子と、前記電源
端子に電気的に接続されて前記半導体回路に電流
を供給する電源配線と、前記接地端子に電気的に
接続されて前記半導体回路に接地電位を供給する
接地配線とを含む半導体装置において、 前記電源電圧供給回路を、前記電源端子と前記
電源配線との間、前記接地端子と前記接地配線と
の間のいずれか一方にあるいは両方の間に直列に
設けられたスイツチング手段と、前記スイツチン
グ手段を切断によつて不活性にするヒユーズ素子
と、前記ヒユーズ素子の切断後スイツチング手段
を不活性に保つ保持手段と、前記スイツチング手
段を充分にオンにするために、前記電源端子に印
加される電源電圧より高い高電圧を発生する高電
圧発生手段とで構成したことを特徴としている。
(Means for Solving the Problems) In order to achieve the above object, the present invention takes the following configuration. The power supply voltage supply circuit includes a semiconductor circuit and a power supply voltage supply circuit for the semiconductor circuit, and the power supply voltage supply circuit includes a power supply terminal for applying a power supply voltage to the semiconductor circuit, a ground terminal for applying a ground potential, and a power supply terminal for applying a power supply voltage to the semiconductor circuit. A semiconductor device including a power supply wiring that is electrically connected to supply a current to the semiconductor circuit, and a ground wiring that is electrically connected to the ground terminal and supplies a ground potential to the semiconductor circuit. The circuit includes switching means provided in series between the power supply terminal and the power supply wiring, between the ground terminal and the ground wiring, or between both, and the switching means being disconnected. a fuse element for inactivating the fuse element, a retaining means for keeping the switching means inactive after disconnection of the fuse element, and a high voltage voltage higher than the power supply voltage applied to the power supply terminals for sufficiently turning on the switching means; It is characterized by comprising a high voltage generating means for generating voltage.

(作用) 本発明の構成による作用は次の通りである。す
なわち、この構成によれば、電源電圧発生回路に
おける電源端子と接地配線との間、前記接地端子
と接地配線との間に直列に設けられたスイツチン
グ手段をヒユーズ素子でオフすることができる。
(Function) The function of the configuration of the present invention is as follows. That is, according to this configuration, the switching means provided in series between the power supply terminal and the ground wiring in the power supply voltage generating circuit and between the ground terminal and the ground wiring can be turned off by the fuse element.

さらに、電源電圧発生回路は、高電圧発生手段
を有しているので、この高電圧発生手段の高電圧
出力によつてスイツチング手段を充分にオンする
ことができる。
Further, since the power supply voltage generating circuit includes a high voltage generating means, the switching means can be sufficiently turned on by the high voltage output of the high voltage generating means.

(実施例) 以下、本発明の実施例を図面を参照して詳細に
説明する。第1図は、本発明の実施例に係る半導
体装置の構成図であり、符号1ないし6は上記従
来の半導体装置と全く同一のものである。すなわ
ち、1は半導体チツプ、2はVcc用アルミニウム
配線、3はVcc用電源端子、4はVss用アルミニ
ウム配線、5はVss用電源端子、6は半導体回路
としてのMOS回路である。
(Example) Hereinafter, an example of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a block diagram of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention, and numerals 1 to 6 are the same as those of the conventional semiconductor device described above. That is, 1 is a semiconductor chip, 2 is an aluminum wiring for Vcc, 3 is a power supply terminal for Vcc, 4 is an aluminum wiring for Vss, 5 is a power supply terminal for Vss, and 6 is a MOS circuit as a semiconductor circuit.

8はスイツチング手段としてのNチヤンネル
MOSトランジスタであり、このトランジスタ8
はそのゲートをノードN2に接続され、そのソー
スをVss用電源端子5に接続され、そのドレイン
をVss用アルミニウム配線4に接続されている。
つまり、トランジスタ8はそのソース・ドレイン
をVss用アルミニウム配線4中に挿入接続されて
いる。9は、その一端をVcc用アルミニウム配線
2を介してVcc用電源端子3に接続され、その他
端をノードN1に接続されたヒユーズ素子であ
る。ヒユーズ素子9の切断方法はレーザ光によつ
たりあるいは電気的に過大な電流を流すことによ
つたりして行なうことができるが、その具体的な
切断手段は本発明の主旨ではないから省略され
る。
8 is N channel as a switching means
It is a MOS transistor, and this transistor 8
has its gate connected to the node N2, its source connected to the Vss power supply terminal 5, and its drain connected to the Vss aluminum wiring 4.
In other words, the source and drain of the transistor 8 are inserted and connected to the aluminum wiring 4 for Vss. A fuse element 9 has one end connected to the Vcc power supply terminal 3 via the Vcc aluminum wiring 2, and the other end connected to the node N1. The fuse element 9 can be cut by laser light or by electrically passing an excessive current, but the specific cutting method is not the subject matter of the present invention and will therefore be omitted. be done.

14はVccレベルより高い電圧を発生する高電
圧発生回路であり、この高電圧発生回路14に対
する電流供給はVcc用電源端子3の方からヒユー
ズ素子9を介して行われるようになつている。そ
して、高電圧発生回路14からのVccレベルより
高い出力電圧はレードN2に出力されるようにな
つている。
Reference numeral 14 denotes a high voltage generating circuit that generates a voltage higher than the Vcc level, and current is supplied to this high voltage generating circuit 14 from the Vcc power supply terminal 3 through the fuse element 9. The output voltage higher than the Vcc level from the high voltage generation circuit 14 is output to the radar N2.

10は、その一端をノードN2に接続され、そ
の他端をVss用電源端子5に接続された保持手段
としての抵抗である。抵抗10は充分高い抵抗値
を有している。このため、Vcc用電源端子3から
ヒユーズ素子9を介してVss用電源端子5に流れ
る電流値はこの保持抵抗10の大きな抵抗値によ
り極めて小さな値に制限される。
Reference numeral 10 denotes a resistor serving as a holding means, which has one end connected to the node N2 and the other end connected to the Vss power supply terminal 5. The resistor 10 has a sufficiently high resistance value. Therefore, the value of the current flowing from the Vcc power supply terminal 3 to the Vss power supply terminal 5 via the fuse element 9 is limited to an extremely small value due to the large resistance value of the holding resistor 10.

第2図は第1図に示された高電圧発生回路14
の一例を示す図である。第2図において、符号1
5は奇数個のインバータを縦続接続して構成され
たリング発振器であり、そのリング発振器15に
対する電流供給はノードN1を通じてなされる。
16はキヤパシタであり、キヤパシタ16はその
一端をリング発振器15の出力であるノードN3
に接続され、他端をノードN4に接続されてい
る。17はゲートおよびドレインと共にノードN
1に接続され、ソースをノードN4に接続された
NチヤンネルMOSトランジスタ、18はゲート
およびドレインと共にノードN4に接続され、ソ
ースをノードN2に接続されたNチヤンネル
MOSトランジスタである。そして、キヤパシタ
16とトランジスタ17および18とで構成され
たチヤージポンプ回路は、リング発振器15の出
力である発振クロツクをうけて、ノードN2に
Vccレベルより高い電圧VGGを発生する。
FIG. 2 shows the high voltage generation circuit 14 shown in FIG.
It is a figure showing an example. In Figure 2, reference numeral 1
Reference numeral 5 denotes a ring oscillator constructed by cascading an odd number of inverters, and current is supplied to the ring oscillator 15 through a node N1.
16 is a capacitor, and one end of the capacitor 16 is connected to a node N3 which is the output of the ring oscillator 15.
The other end is connected to node N4. 17 is connected to the node N along with the gate and drain.
1 and the source connected to node N4; 18 is an N-channel MOS transistor connected together with the gate and drain to node N4 and the source connected to node N2;
It is a MOS transistor. Then, the charge pump circuit composed of the capacitor 16 and the transistors 17 and 18 receives the oscillation clock that is the output of the ring oscillator 15, and outputs the signal to the node N2.
Generates a voltage V GG higher than the Vcc level.

このような構成を有する高電圧発生回路14の
出力負荷は充分高い抵抗値を有する抵抗10だけ
なので、この高電圧発生回路14での消費電流を
極めて小さく抑制することができる。
Since the output load of the high voltage generating circuit 14 having such a configuration is only the resistor 10 having a sufficiently high resistance value, the current consumption in the high voltage generating circuit 14 can be suppressed to an extremely low level.

したがつて、ヒユーズ素子9を介して高電圧発
生回路14に電流を供給してもヒユーズ素子9が
切断されることはなく、また、そこでの電圧降下
は無視することができる。
Therefore, even if current is supplied to the high voltage generation circuit 14 through the fuse element 9, the fuse element 9 will not be disconnected, and the voltage drop there can be ignored.

上記のように構成された半導体装置において
は、通常の場合、つまりヒユーズ素子9が切断さ
れていないときに、Vcc用電源端子3とVss用電
源端子5との間にVccレベルの電圧が印加される
と、高電圧発生回路14が動作してトランジスタ
8のゲートにはVccレベルよりも高い電圧が印加
される。すなわち、トランジスタ8は充分にオン
されるので、Vss用アルミニウム配線4にはVss
レベルがトランジスタ8を介して伝達され、電圧
の損失はない。Vss用アルミニウム配線4が有す
る配線抵抗値は、その配線の大きさが例えば幅
50μm、長さが10mmであつたとすればアルミニウ
ムのシート抵抗を50mΩ/□として10Ωとなる。
したがつて、トランジスタ8が有するインピーダ
ンスを10Ωと比較して小さくなるようにトランジ
スタ8のチヤンネル幅を設定してやれば、トラン
ジスタ8によるインピーダンスの損失を無視する
ことができる。
In the semiconductor device configured as described above, in a normal case, that is, when the fuse element 9 is not cut, a voltage at the Vcc level is applied between the Vcc power supply terminal 3 and the Vss power supply terminal 5. Then, the high voltage generating circuit 14 operates and a voltage higher than the Vcc level is applied to the gate of the transistor 8. In other words, since the transistor 8 is turned on sufficiently, the Vss aluminum wiring 4 has Vss.
The level is transferred through transistor 8 and there is no loss of voltage. The wiring resistance value of the Vss aluminum wiring 4 is determined by the width of the wiring, for example.
If the resistance is 50μm and the length is 10mm, then the sheet resistance of aluminum is 50mΩ/□ and it becomes 10Ω.
Therefore, if the channel width of the transistor 8 is set so that the impedance of the transistor 8 is smaller than 10Ω, the impedance loss caused by the transistor 8 can be ignored.

ところで、Vcc用アルミニウム配線2とVss用
アルミニウム配線4との間に電気的短絡状態が存
在してとき、過大な短絡電流iが流れる。ここで
半導体チツプ1がウエハ状態であつて、Vcc用電
源端子3とVss用電源端子5とのそれぞれにはプ
ローブ針を介してVccレベルの電圧が印加されて
いる。過大な短絡電流を外部テスタによつて検出
し、かつこれに連動して例えばレーザ光でヒユー
ズ素子9を切断する。そうすると、ノードN2は
抵抗10によつてVssレベルに固定され、したが
つて、トランジスタ8のゲート電圧はVssレベル
になり、トランジスタ8は完全にオフする。
By the way, when an electrical short circuit exists between the Vcc aluminum wiring 2 and the Vss aluminum wiring 4, an excessive short circuit current i flows. Here, the semiconductor chip 1 is in a wafer state, and a voltage at the Vcc level is applied to each of the Vcc power supply terminal 3 and the Vss power supply terminal 5 via a probe needle. An excessive short circuit current is detected by an external tester, and in conjunction with this, the fuse element 9 is cut using, for example, a laser beam. Then, the node N2 is fixed at the Vss level by the resistor 10, so the gate voltage of the transistor 8 becomes the Vss level, and the transistor 8 is completely turned off.

以上の動作により、Vcc用電源端子3とVss用
電源端子5の間に過大な短絡電流iが長時間流れ
ることを防止することができるとともに、ヒユー
ズ素子9の切断以後は、半導体チツプ1での消費
電流をゼロにすることができる。このことは、第
5図に示すように半導体チツプ1をウエハ上に多
数並べて、ウエハをスクライプすることなくウエ
ハのままアセンブリする場合でも、ウエハ上の1
チツプの半導体チツプでVcc用アルミニウム配線
とVss用アルミニウム配線との間で電気的短絡状
態があれば、その半導体チツプのヒユーズ素子を
切断して電流を流れなくすることができる。よつ
て、電気的短絡状態が存在する半導体チツプで過
大に短絡電流が流れて電源電圧が降下し、他の正
常な半導体チツプに正常なレベルの電源電圧が印
加できなくなることを防止することを可能にする
ので、他の正常な半導体チツプに何の影響を与え
ることなくウエハのままアセンブリできる。
By the above operation, it is possible to prevent an excessive short circuit current i from flowing between the Vcc power terminal 3 and the Vss power terminal 5 for a long time. Current consumption can be reduced to zero. This means that even if a large number of semiconductor chips 1 are arranged on a wafer and assembled as a wafer without scribing the wafer as shown in FIG.
If there is an electrical short circuit between the Vcc aluminum wiring and the Vss aluminum wiring in a semiconductor chip, the fuse element of the semiconductor chip can be cut to prevent current from flowing. Therefore, it is possible to prevent the power supply voltage from dropping due to an excessive short-circuit current flowing in a semiconductor chip where an electrical short circuit exists, and from being unable to apply a normal level of power supply voltage to other normal semiconductor chips. As a result, the wafer can be assembled without affecting other normal semiconductor chips.

第3図はこの発明の更に他の実施例に係る半導
体装置の構成図である。第3図において、符号1
ないし6、および8ないし10は先に述べた本発
明の実施例と全く同一のものである。ただし、高
電圧発生回路14への電流供給はVcc用電源端子
3より行なわれている代わりに、ヒユーズ素子9
の一端が高電圧発生回路14の出力へ接続され、
他端がノードN2へ接続されている点が異なる。
第6図においても、ヒユーズ素子9の切断により
第1図と全く同一の効果を発揮することができ
る。
FIG. 3 is a block diagram of a semiconductor device according to still another embodiment of the invention. In Fig. 3, reference numeral 1
6 to 6 and 8 to 10 are exactly the same as the embodiments of the present invention described above. However, instead of supplying current to the high voltage generation circuit 14 from the Vcc power supply terminal 3, the fuse element 9
One end of is connected to the output of the high voltage generation circuit 14,
The difference is that the other end is connected to node N2.
In FIG. 6, the same effect as in FIG. 1 can be achieved by cutting the fuse element 9.

なお、上記実施例では、ダイナミツクMOS・
RAMの場合について述べたが、広くはスタチツ
クRAM,ROM等の半導体メモリに適用できる
ことはいうまでもない。
In addition, in the above embodiment, the dynamic MOS
Although the case of RAM has been described, it goes without saying that the present invention can be broadly applied to semiconductor memories such as static RAM and ROM.

(効果) 以上説明したことから明らかなように本発明に
よれば、電源端子と電源配線との間とか、接地端
子と接地配線との間とか、あるいは両方の間にス
イツチング手段を設け、そのスイツチング手段を
ヒユーズ素子の切断によつて不活性制御し、かつ
そのヒユーズ素子の切断後もそのスイツチング手
段の不活性状態を保持手段で保持するようにした
から、電源端子と接地端子との間に電気的短絡状
態が発生し、そのため過大な短絡電流が流れよう
としてもヒユーズ素子の切断でスイツチング手段
が不活性になることより電源または接地の端子と
配線との間が電気的に非導通にされることでその
短絡電流が流れることを防止することができる。
(Effects) As is clear from the above explanation, according to the present invention, switching means is provided between the power terminal and the power wiring, between the grounding terminal and the grounding wiring, or between both, and the switching Since the switching means is inactivated by cutting the fuse element, and the holding means maintains the inactive state of the switching means even after the fuse element is cut, there is no electricity between the power supply terminal and the ground terminal. Even if a short-circuit condition occurs and an excessive short-circuit current attempts to flow, the fuse element is cut and the switching means becomes inactive, resulting in electrical non-continuity between the power supply or ground terminal and the wiring. This can prevent the short circuit current from flowing.

したがつて、本発明では前述したように従来の
半導体装置において前記短絡電流により半導体チ
ツプに用いられるプローブ針が短絡電流により溶
断するといつたこととか、外部電源の破壊とかを
防止することができ、かつ、短絡電流による無駄
な消費電流をゼロに抑制することもできる。
Therefore, in the present invention, as described above, it is possible to prevent the probe needles used in the semiconductor chip from melting due to the short circuit current in conventional semiconductor devices, and the destruction of the external power supply. Moreover, wasteful current consumption due to short circuit current can be suppressed to zero.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図ないし第3図はそれぞれ本発明の各実施
例を示す半導体装置の構成図である。第4図は従
来例の半導体装置の構成図、第5図は半導体チツ
プを多数個並べた状態にあるウエハの平面図であ
る。 図において、1は半導体チツプ、2はVcc用ア
ルミニウム配線、3はVcc用電源端子、4はVss
用アルミニウム配線、5はVss用電源端子、6は
MOS回路、8はNチヤンネルMOSトランジス
タ、9はヒユーズ素子、10は抵抗、14は高電
圧発生回路である。なお、各図中、同一符号は同
一または相当部分を示している。
1 to 3 are configuration diagrams of semiconductor devices showing respective embodiments of the present invention. FIG. 4 is a block diagram of a conventional semiconductor device, and FIG. 5 is a plan view of a wafer on which a large number of semiconductor chips are arranged. In the figure, 1 is a semiconductor chip, 2 is an aluminum wiring for Vcc, 3 is a power supply terminal for Vcc, and 4 is a Vss
5 is the power supply terminal for Vss, 6 is the aluminum wiring for
MOS circuit, 8 is an N-channel MOS transistor, 9 is a fuse element, 10 is a resistor, and 14 is a high voltage generation circuit. In each figure, the same reference numerals indicate the same or corresponding parts.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 半導体回路と、 前記半導体回路の電源電圧供給回路とを具備
し、 前記電源電圧供給回路は、 前記半導体回路に電源電圧を印加する電源端子
と、 接地電位を印加する接地端子と、 前記電源端子に電気的に接続されて前記半導体
回路に電流を供給する電源配線と、 前記接地端子に電気的に接続されて前記半導体
回路に接地電位を供給する接地配線 とを含む半導体装置において、 前記電源電圧供給回路を、 前記電源端子と前記電源配線との間、前記接地
端子と前記接地配線との間のいずれか一方にある
いは両方の間に直列に設けられたスイツチング手
段と、 前記スイツチング手段を切断によつて不活性に
するヒユーズ素子と、 前記ヒユーズ素子の切断後スイツチング手段を
不活性に保つ保持手段と、 前記スイツチング手段を充分にオンにするため
に、前記電源端子に印加される電源電圧より高い
高電圧を発生する高電圧発生手段 とで構成したことを特徴とする半導体装置。
[Claims] 1. A semiconductor circuit, and a power supply voltage supply circuit for the semiconductor circuit, wherein the power supply voltage supply circuit includes: a power supply terminal that applies a power supply voltage to the semiconductor circuit; and a ground terminal that applies a ground potential. A semiconductor comprising: a terminal; a power wiring electrically connected to the power terminal to supply a current to the semiconductor circuit; and a ground wiring electrically connected to the ground terminal to supply a ground potential to the semiconductor circuit. In the apparatus, the power supply voltage supply circuit is connected to a switching means provided in series between either the power terminal and the power wiring, the ground terminal and the ground wiring, or both; a fuse element for inactivating the switching means by cutting; a holding means for keeping the switching means inactive after cutting the fuse element; 1. A semiconductor device comprising: high voltage generating means for generating a high voltage higher than a power supply voltage.
JP62112908A 1987-05-08 1987-05-08 Semiconductor device Granted JPS63276268A (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62112908A JPS63276268A (en) 1987-05-08 1987-05-08 Semiconductor device
US07/144,383 US4855613A (en) 1987-05-08 1988-01-15 Wafer scale integration semiconductor device having improved chip power-supply connection arrangement

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62112908A JPS63276268A (en) 1987-05-08 1987-05-08 Semiconductor device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS63276268A JPS63276268A (en) 1988-11-14
JPH0577341B2 true JPH0577341B2 (en) 1993-10-26

Family

ID=14598502

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP62112908A Granted JPS63276268A (en) 1987-05-08 1987-05-08 Semiconductor device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS63276268A (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10332786A (en) * 1997-05-27 1998-12-18 Nec Kyushu Ltd Semiconductor device
KR100790819B1 (en) 2006-07-20 2008-01-02 삼성전자주식회사 Semiconductor integrated circuit and method for fabricating the same

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63217821A (en) * 1987-03-06 1988-09-09 Toshiba Corp Semiconductor integrated circuit

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63217821A (en) * 1987-03-06 1988-09-09 Toshiba Corp Semiconductor integrated circuit

Also Published As

Publication number Publication date
JPS63276268A (en) 1988-11-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6236249B1 (en) Power-on reset circuit for a high density integrated circuit
KR0158478B1 (en) Substrate voltage control circuit of semiconductor memory apparatus
KR890008849A (en) Fuse state detection circuit
KR900001740B1 (en) Integrated simiconductor circuit device for generating a switching control signal
KR960012001A (en) Semiconductor Memory with Improved Hierarchy of Power Supply Lines
KR100206870B1 (en) Circuit for preventing electrostatic discharge and latch up
KR970029882A (en) Semiconductor memory device with wafer test signal generator
US4855613A (en) Wafer scale integration semiconductor device having improved chip power-supply connection arrangement
KR0170514B1 (en) A semiconductor memory device with boosted power supply
JPH058520B2 (en)
US4621346A (en) Low power CMOS fuse circuit
JPH11176945A (en) Fusing device
KR960009158A (en) Reference voltage generator
JP2589938B2 (en) ESD protection circuit for semiconductor integrated circuit device
JPH0577341B2 (en)
US6271692B1 (en) Semiconductor integrated circuit
KR920702499A (en) Zero Power Consumption Laser Fuse Signature Circuit for Redundancy in Ultra-Integrated Semiconductor Devices
US6327178B1 (en) Programmable circuit and its method of operation
KR970017589A (en) Internal power supply voltage generation circuit of semiconductor memory device
KR960043522A (en) Semiconductor Memory Device Stable to Power Fluctuations
KR0157344B1 (en) Fuse circuit for semiconductor memory
US5212413A (en) Stable, programmable low-dissipation reference circuit
JPH0278090A (en) Reference voltage generating circuit in memory device
KR100399896B1 (en) Power supply control circuit for anti-fuse
KR100215761B1 (en) Level shift circuit in semiconductor memory device

Legal Events

Date Code Title Description
S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

R360 Written notification for declining of transfer of rights

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360

R360 Written notification for declining of transfer of rights

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360

R371 Transfer withdrawn

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees