JPH0574748A - History information recording system and semiconductor integrated circuit - Google Patents

History information recording system and semiconductor integrated circuit

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Publication number
JPH0574748A
JPH0574748A JP26116091A JP26116091A JPH0574748A JP H0574748 A JPH0574748 A JP H0574748A JP 26116091 A JP26116091 A JP 26116091A JP 26116091 A JP26116091 A JP 26116091A JP H0574748 A JPH0574748 A JP H0574748A
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JP
Japan
Prior art keywords
chip
history information
wafer
information recording
information
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP26116091A
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Japanese (ja)
Inventor
Mitsuo Kawamoto
光男 川本
Hajime Iijima
肇 飯島
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Hitachi Ltd
Hitachi Consumer Electronics Co Ltd
Japan Display Inc
Original Assignee
Hitachi Device Engineering Co Ltd
Hitachi Ltd
Hitachi Consumer Electronics Co Ltd
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH0574748A publication Critical patent/JPH0574748A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To provide a technique capable of recording easily more information in a unit of chip. CONSTITUTION:Information on the history in every chip is marked by inflicting damage on a pattern 8 for exclusive use for chip history information record with a laser beam, whereby it becomes possible to record more information, such as positional information on semiconductor chips 10 in a wafer 9, a lot number of the wafer 9 and a wafer number, in a unit of chip.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体チップに対して
当該チップ毎の来歴情報を記録するための技術に関し、
例えば半導体記憶装置に適用して有効な技術に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a technique for recording history information for each chip on a semiconductor chip,
For example, the present invention relates to a technique effectively applied to a semiconductor memory device.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体記憶装置等の半導体集積回路チッ
プにおいては、当該チップ識別情報としてのチップナン
バが付される。従来そのようなチップナンバリングは、
パッシベーション膜加工用ホトマスクに、ウェーハ上の
全チップに対応して互いに異なる数値情報をパターンニ
ングし、そのようなホトマスクのパターン情報をウェー
ハ上に転写することによって行われていた。
2. Description of the Related Art A semiconductor integrated circuit chip such as a semiconductor memory device is provided with a chip number as the chip identification information. Conventionally, such chip numbering is
It has been performed by patterning a photomask for processing a passivation film with different numerical information corresponding to all the chips on the wafer, and transferring the pattern information of such a photomask onto the wafer.

【0003】尚、パターン形成及びウェーハ上へのパタ
ーン情報の転写について記載された文献の例としては、
昭和59年11月30日に株式会社オーム社より発行さ
れた「LSIハンドブック(第423頁から第426
頁)」がある。
Incidentally, as an example of a document describing pattern formation and transfer of pattern information onto a wafer,
"LSI Handbook (Pages 423 to 426) issued by Ohmsha, Ltd. on November 30, 1984.
Page) ”.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】従来のチップナンバリ
ングについて本発明者が検討したところ、パッシベーシ
ョン膜加工用ホトマスクに数値情報をパターンニングす
るのは、単にウェーハ上のチップ位置を区別するに過ぎ
ず、換言すれば全ロットに共通の情報のみの記録を可能
とするに過ぎず、チップの特性ばらつきなどの解析にお
いて情報不足とされるのが明かとされた。例えば、チッ
プの特性ばらつきなどの解析において、ウェーハ上のチ
ップ位置のみならず、ロットナンバやウェーハナンバを
知ることは製品モニタ上極めて有益であるにも拘らず、
上記した従来のチップナンバリングでは、ウェーハ上の
チップ位置情報の把握が可能とされるだけで、それ以外
の情報の把握は不可能とされる。上記ホトマスクをウェ
ーハ単位で作成するようにすればれば、より多くの情報
の記録が可能とされるが、そのようにするのは、ウェー
ハの数だけホトマスクを製作しなければならないから、
手間がかかり、LSIの製造コスト増大を招来する。
As a result of the present inventor's examination of the conventional chip numbering, the patterning of numerical information on the passivation film processing photomask merely distinguishes the chip positions on the wafer. In other words, it was made clear that only information common to all lots could be recorded, and information was lacking in analysis of variations in chip characteristics. For example, in analyzing characteristics variations of chips, not only the chip position on the wafer, but also knowing the lot number and the wafer number is extremely useful on the product monitor,
In the above-described conventional chip numbering, it is only possible to grasp the chip position information on the wafer, but it is impossible to grasp the other information. If the photomask is made on a wafer-by-wafer basis, more information can be recorded, but in order to do so, photomasks must be produced for the number of wafers,
It takes time and labor, and the manufacturing cost of the LSI increases.

【0005】本発明の目的は、より多くの情報をチップ
単位で容易に記録することができる技術を提供すること
にある。
An object of the present invention is to provide a technique capable of easily recording more information in chip units.

【0006】また本発明の別の目的は、チップの特性ば
らつきなどの解析において有益な情報をチップ単位で容
易に記録することができる技術を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a technique capable of easily recording information useful for each chip in analysis of variations in characteristics of chips.

【0007】本発明の前記並びにその他の目的と新規な
特徴は本明細書の記述及び添付図面から明らかになるで
あろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば下記
の通りである。
The outline of a typical one of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.

【0009】すなわち、半導体チップ毎の来歴情報を記
録するための専用パターンにレーザ光でダメージを与え
ることによりチップ毎の来歴情報を刻印するステップを
含むものである。このとき、上記来歴情報には、ウェー
ハにおけるチップの位置情報、ウェーハのロット番号、
及びウェーハ番号を含めることができる。また、上記半
導体チップ毎の来歴情報を記録するための専用パターン
は、ポリシリコンなどにより形成されたヒューズとする
ことができる。
That is, it includes a step of marking the history information for each chip by damaging the dedicated pattern for recording the history information for each semiconductor chip with a laser beam. At this time, the history information includes the position information of the chip on the wafer, the lot number of the wafer,
And a wafer number. The dedicated pattern for recording the history information for each semiconductor chip may be a fuse formed of polysilicon or the like.

【0010】[0010]

【作用】上記した手段によれば、専用パターンにレーザ
光でダメージを与えることによりチップ毎の来歴情報を
刻印することは、より多くの情報をチップ単位で容易に
記録可能とする。また、上記来歴情報に、ウェーハにお
けるチップ毎の位置情報、当該チップが含まれるウェー
ハのロット番号、及び当該ウェーハ番号を含めること
は、チップの特性ばらつきなどの解析において有益な情
報をチップ単位で容易に記録可能とする。
According to the above-mentioned means, marking the history information for each chip by damaging the dedicated pattern with the laser beam enables more information to be easily recorded in chip units. In addition, including the position information for each chip on the wafer, the lot number of the wafer in which the chip is included, and the wafer number in the history information makes it easy to provide useful information in analysis of chip characteristic variations in chip units. Can be recorded on.

【0011】[0011]

【実施例】図3には本発明の一実施例係るダイナミック
RAMを形成するためのシリコンウェーハ(ウェーハと
いう)が示される。同図に示されるように略円形状のウ
ェーハ9には、マトリクス状に複数の半導体チップ10
が形成される。この半導体チップ10は、特に制限され
ないが、公知の半導体集積回路製造技術により形成され
るダイナミックRAMとされる。尚、本明細書において
チップ又は半導体チップは、ウェーハ上におけるそれら
の形成領域をも意味する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENT FIG. 3 shows a silicon wafer (referred to as a wafer) for forming a dynamic RAM according to an embodiment of the present invention. As shown in the figure, a plurality of semiconductor chips 10 are arranged in a matrix on a substantially circular wafer 9.
Is formed. The semiconductor chip 10 is not particularly limited, but is a dynamic RAM formed by a known semiconductor integrated circuit manufacturing technique. In the present specification, a chip or a semiconductor chip also means a formation region thereof on the wafer.

【0012】図1には上記複数の半導体チップ10の一
つとされるダイナミックRAM(ランダム・アクセス・
メモリ)の構成ブロックが示される。
FIG. 1 shows a dynamic RAM (random access memory) which is one of the plurality of semiconductor chips 10.
Memory) building blocks are shown.

【0013】図1においてダイナミックRAM1の中央
部にはダイナミック型のメモリセルアレイ(MA)2が
配置される。このメモリセルアレイ2は、特に制限され
ないが、4個のアレイ2A,2B,2C,2Dにマット
分割されている。メモリセルアレイ2A,2B間には、
カラムアドレスデコーダ(YDEC)3Aが配置され、
同様にメモリセルアレイ2C,2D間には、カラムアド
レスデコーダ3Bが配置されている。メモリセルアレイ
2Aとカラムアドレスデコーダ3Aとの間には当該メモ
リセルアレイ2Aから読出されたデータを増幅するため
のセンスアンプ(SA)4Aが配置され、メモリセルア
レイ2Bとカラムアドレスデコーダ3Aとの間には当該
メモリセルアレイ2Bから読出されたデータを増幅する
ためのセンスアンプ4Bが配置される。同様にメモリセ
ルアレイ2Cとカラムアドレスデコーダ4Cとの間には
当該メモリセルアレイ2Cから読出されたデータを増幅
するためのセンスアンプ4Cが配置され、メモリセルア
レイ2Dとカラムアドレスデコーダ3Bとの間には当該
メモリセルアレイ2Dから読出されたデータを増幅する
ためのセンスアンプ4Dが配置される。メモリセルアレ
イ2A,2C間にはメモリセルアレイ2A,2Bのワー
ド線選択のためのロウアドレスデコーダ(XDEC)5
Aが配置され、同様にメモリセルアレイ2B,2D間に
は当該メモリセルアレイ2B,2Dのワード線駆動のた
めのロウアドレスデコーダ5Bが配置される。さらに、
本実施例ダイナミックRAMのメモリセルアレイ2A,
2B側の周辺部6には、当該ダイナミックRAMの各部
に供給されるタイミング信号を生成するためのタイミン
グ発生回路(TG)、外部からデータを取り込むための
データ入力バッファ(DinB)、及びメモリセルアレ
イからの読出しデータの外部送出を可能とするデータ出
力バッファ(DoutB)等が配置される。そして、本
実施例ダイナミックRAMのメモリセルアレイ2C,2
Dの側周辺部7には、外部からのロウアドレス信号を取
り込むためのロウアドレスバッファ(XADB)、外部
からのカラムアドレス信号を取り込むためのカラムアド
レスバッファ(YADB)が配置される。
In FIG. 1, a dynamic memory cell array (MA) 2 is arranged at the center of the dynamic RAM 1. The memory cell array 2 is matted into four arrays 2A, 2B, 2C and 2D, although not particularly limited thereto. Between the memory cell arrays 2A and 2B,
A column address decoder (YDEC) 3A is arranged,
Similarly, a column address decoder 3B is arranged between the memory cell arrays 2C and 2D. A sense amplifier (SA) 4A for amplifying the data read from the memory cell array 2A is arranged between the memory cell array 2A and the column address decoder 3A, and between the memory cell array 2B and the column address decoder 3A. A sense amplifier 4B for amplifying the data read from the memory cell array 2B is arranged. Similarly, a sense amplifier 4C for amplifying data read from the memory cell array 2C is arranged between the memory cell array 2C and the column address decoder 4C, and a sense amplifier 4C is arranged between the memory cell array 2D and the column address decoder 3B. A sense amplifier 4D for amplifying data read from memory cell array 2D is arranged. A row address decoder (XDEC) 5 for selecting word lines of the memory cell arrays 2A and 2B is provided between the memory cell arrays 2A and 2C.
A is arranged, and similarly, a row address decoder 5B for driving the word line of the memory cell arrays 2B and 2D is arranged between the memory cell arrays 2B and 2D. further,
In this embodiment, the dynamic RAM memory cell array 2A,
In the peripheral section 6 on the 2B side, a timing generation circuit (TG) for generating a timing signal supplied to each section of the dynamic RAM, a data input buffer (DinB) for fetching data from the outside, and a memory cell array are provided. A data output buffer (DoutB), etc., which enables the external output of the read data of (1) is arranged. Then, the memory cell arrays 2C, 2 of the dynamic RAM according to the present embodiment.
A row address buffer (XADB) for fetching a row address signal from the outside and a column address buffer (YADB) for fetching a column address signal from the outside are arranged in the peripheral portion 7 on the D side.

【0014】図1において、8で示されるのは、チップ
毎に形成されるチップ来歴情報記録専用パターンであ
り、この専用パターン8は、特に制限されないが、機能
モジュールのレイアウトが禁止されるような部位、例え
ばチップ周辺部のボンディングパッド形成エリアなどを
利用してに形成される。
In FIG. 1, reference numeral 8 denotes a chip history information recording dedicated pattern formed for each chip. The dedicated pattern 8 is not particularly limited, but the layout of functional modules is prohibited. It is formed by utilizing a portion, for example, a bonding pad forming area around the chip.

【0015】図2には上記チップ来歴情報記録専用パタ
ーン8の一例が示される。
FIG. 2 shows an example of the chip history information recording dedicated pattern 8.

【0016】図2に示されるチップ来歴情報記録専用パ
ターン8は、特に制限されないが、ウェーハにおける当
該チップの位置情報を記録するためのヒューズ群とされ
る。このヒューズ群は、ウェーハにおける当該チップの
X方向の位置情報を示す第1ヒューズ群Xiと、ウェー
ハにおける当該チップのY方向の位置情報を示す第2ヒ
ューズ群Yiとを含む。図2に示される例では、第1ヒ
ューズ群Xiは、X1,X2,X3で示されるように、
また、第2のヒューズ群はY1,Y2,Y3で示される
ように、それぞれ複数のヒューズが一方向に配列され
る。例えば一つのウェーハ上の最大チップ配列数が、X
方向に8個、Y方向に8個の場合を考えると、そのよう
なウェーハにおいて、それに含まれる一つのチップのX
座標とY座標とを2進数で示すのにそれぞれ4ビット必
要とされるから、上記第1、第2のヒューズ群Xi,Y
iはそれぞれ4本とされる。そのようなヒューズ群は、
特に制限されないが、ポリシリコンによって形成するこ
とができ、レーザ光の照射でダメージを与えることによ
ってウェーハにおける当該チップの位置情報の書込みが
可能とされる。
The chip history information recording-dedicated pattern 8 shown in FIG. 2 is a fuse group for recording the position information of the chip on the wafer, although not particularly limited thereto. This fuse group includes a first fuse group Xi that indicates position information of the chip in the X direction on the wafer, and a second fuse group Yi that indicates position information of the chip in the Y direction on the wafer. In the example shown in FIG. 2, the first fuse group Xi, as indicated by X1, X2 and X3,
In the second fuse group, a plurality of fuses are arranged in one direction, as indicated by Y1, Y2, and Y3. For example, the maximum number of chips on one wafer is X
Considering the case of 8 in the direction and 8 in the Y direction, in such a wafer, the X of one chip included in it is
Since each of the coordinates and the Y coordinate is represented by a binary number, 4 bits are required. Therefore, the first and second fuse groups Xi and Y are required.
i is set to 4 each. Such fuses are
Although not particularly limited, it can be formed of polysilicon, and the position information of the chip on the wafer can be written by damaging it by irradiation of laser light.

【0017】ここで、半導体記憶装置などの冗長救済回
路などに用いられるヒューズは、電源やMOSFETな
どの回路素子に電気的に結合され、それが熔断されるか
否かによって機能選択が可能とされるが、本実施例にお
けるヒューズは、ダメージの有無によってウェーハにお
けるチップの位置情報を物理的に示すことができればそ
れで十分とされることから、電源やMOSFETなどの
回路素子との結合は一切不要とされる。換言すれば、上
記チップ来歴情報記録専用パターン8は、それが形成さ
れるチップの回路素子から電気的に隔絶される。そのこ
とは、ボンディングパッド形成領域などのように機能モ
ジュールの配置が禁止されるような領域へのチップ来歴
情報記録専用パターンの形成を可能とし、当該専用パタ
ーン8のレイアウト設計を容易とする。また上記と同様
の理由により、ヒューズは、レーザ光によって完全に熔
断する必要はなく、ダメージの有無の判別が可能な程度
に熔けていれば、それで十分とされる。
Here, a fuse used in a redundancy repair circuit of a semiconductor memory device or the like is electrically coupled to a power source or a circuit element such as a MOSFET, and a function can be selected depending on whether or not the fuse is blown. However, the fuse in the present embodiment is sufficient if it can physically indicate the positional information of the chip on the wafer depending on the presence or absence of damage, and therefore, the fuse is not required to be connected to a power source or a circuit element such as MOSFET. To be done. In other words, the chip history information recording dedicated pattern 8 is electrically isolated from the circuit element of the chip on which it is formed. This makes it possible to form a chip history information recording dedicated pattern in a region such as a bonding pad formation region where the placement of functional modules is prohibited and facilitates the layout design of the dedicated pattern 8. Further, for the same reason as above, the fuse does not have to be completely blown by the laser light, and it is sufficient if the fuse is melted to the extent that it is possible to determine the presence or absence of damage.

【0018】以上の説明ではウェーハにおける半導体チ
ップの位置情報を記録する場合について説明したが、図
2に示されるチップ来歴情報記録専用パターン8と同様
の形式でウェーハのロットナンバやウェーハ番号をも記
録することができる。
In the above description, the case of recording the position information of the semiconductor chip on the wafer has been described. However, the lot number and the wafer number of the wafer are also recorded in the same format as the pattern 8 for recording the chip history information shown in FIG. can do.

【0019】例えばロットナンバやウェーハ番号は2進
数に置き換えて記録される。また、ロットナンバやウェ
ーハ番号がアルファベットと数字とで構成される場合に
は、先ずアルファベットの部分を数字に置き換えてから
2進数に置換するようにするとよい。特に制限されない
が、「A」,「B」,「C」,「D」,・・・は、それ
ぞれ「1」,「2」,「3」,「4」,・・・のように
数字に置き換えることができる。従ってその場合に、ロ
ットナンバ「B8」は、「000001」,「100
0」のように置き換えられ、そのような情報に応じて該
当ヒューズにレーザ光が照射されることによってロット
ナンバやウェーハ番号の記録が可能とされる。
For example, the lot number and wafer number are replaced with binary numbers and recorded. When the lot number or wafer number is composed of an alphabet and a number, it is preferable to first replace the alphabet part with a number and then with a binary number. Although not particularly limited, “A”, “B”, “C”, “D”, ... are numbers such as “1”, “2”, “3”, “4”, ... Can be replaced with Therefore, in that case, the lot number "B8" is "000001", "100".
It is replaced with "0" and the fuse number is irradiated with the laser beam according to such information, so that the lot number and the wafer number can be recorded.

【0020】図4にはチップ来歴情報記録専用パターン
の他の構成例が示される。
FIG. 4 shows another configuration example of the chip history information recording dedicated pattern.

【0021】図4に示されるチップ来歴情報記録専用パ
ターン8Aは、図2に示される場合と同様にヒューズ群
とされ、それが、図3に示されるウェーハ9における複
数の半導体チップ10の配列状態に対応してマトリクス
状に配列される。そのようなチップ来歴情報記録専用パ
ターン8Aにおけるヒューズに対してレーザ光でダメー
ジを与えることによって、ウェーハ9における半導体チ
ップの位置情報の記録が可能とされる。例えば図3にお
いてハッチングで示されるチップに形成されるチップ来
歴情報記録専用パターン8Aには、図4においてハッチ
ングで示される箇所にレーザ光が照射されることによっ
てダメージが与えられ、それによって当該チップの位置
情報の記録が可能とされる。
The chip history information recording dedicated pattern 8A shown in FIG. 4 is a fuse group as in the case shown in FIG. 2, and this is the arrangement state of the plurality of semiconductor chips 10 on the wafer 9 shown in FIG. Are arranged in a matrix corresponding to. By damaging the fuse in such a chip history information recording dedicated pattern 8A with a laser beam, it becomes possible to record the position information of the semiconductor chip on the wafer 9. For example, the chip history information recording dedicated pattern 8A formed on the chip shown by hatching in FIG. 3 is damaged by irradiating the portion shown by hatching in FIG. It is possible to record position information.

【0022】上記実施例によれば以下の作用効果を得る
ことができる。
According to the above embodiment, the following operational effects can be obtained.

【0023】(1)チップ来歴情報記録専用パターン8
や8Aにレーザ光でダメージを与えることによりチップ
毎の来歴情報を刻印することにより、ウェーハ9におけ
る半導体チップ10の位置情報や、ウェーハ9のロット
番号、ウェーハ番号など、より多くの情報をチップ単位
で容易に記録可能とされる。
(1) Chip history information recording dedicated pattern 8
By marking the history information for each chip by damaging 8A or 8A with a laser beam, more information such as the position information of the semiconductor chip 10 on the wafer 9, the lot number of the wafer 9 and the wafer number can be obtained on a chip basis. Can be recorded easily.

【0024】(2)ダイナミックRAMなどの半導体記
憶装置において冗長救済回路を含む場合には、当該救済
回路に含まれるヒューズの熔断工程において、チップ来
歴情報記録専用パターン8又は8Aへの情報記録を行う
ことができ、製造工程の大幅な変更を伴わずに済む。
(2) When a semiconductor memory device such as a dynamic RAM includes a redundancy repair circuit, information is recorded on the chip history information recording dedicated pattern 8 or 8A in the step of blowing the fuse included in the repair circuit. Therefore, it is possible to avoid making a large change in the manufacturing process.

【0025】(3)特にチップ来歴情報に、ウェーハに
おけるチップ毎の位置情報、当該チップが含まれるウェ
ーハのロット番号、及び当該ウェーハ番号を含めること
は、ダイシング後にロット混入などの不都合を防止する
ことができるし、チップ位置によるダイナミックRAM
の電気的特性や、信頼性を的確にトレースすることがで
き、完成品としてのダイナミックRAMの不良解析など
において有益な情報を得ることができる。
(3) In particular, including the position information for each chip in the wafer, the lot number of the wafer containing the chip, and the wafer number in the chip history information prevents inconvenience such as lot mixing after dicing. Dynamic RAM depending on chip position
The electrical characteristics and reliability of can be traced accurately, and useful information can be obtained in defect analysis of the dynamic RAM as a finished product.

【0026】(4)チップ来歴情報記録専用パターン8
や8Aは、それが形成されるチップの回路素子から電気
的に隔絶されるため、ボンディングパッド形成領域など
のように機能モジュールの配置が禁止されるような領域
へのチップ来歴情報記録専用パターン形成が可能とさ
れ、当該専用パターンのレイアウト設計が容易とされ
る。
(4) Pattern 8 dedicated to recording chip history information
And 8A are electrically isolated from the circuit element of the chip on which they are formed, so that a pattern for recording chip history information is formed in an area where the arrangement of functional modules is prohibited, such as a bonding pad formation area. And the layout design of the dedicated pattern is facilitated.

【0027】以上本発明者によってなされた発明を実施
例に基づいて具体的に説明したが、本発明はそれに限定
されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲におい
て種々変更可能であることは言うまでもない。
Although the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiments, the present invention is not limited thereto, and needless to say, various modifications can be made without departing from the scope of the invention. Yes.

【0028】例えば、上記実施例では、チップ来歴情報
記録専用パターンにヒューズを適用した場合について説
明したが、半導体基板にレーザ光を直接照射することに
よってチップ来歴情報を記録するようにしてもよい。ま
た、チップ来歴情報記録専用パターンを同一チップ上に
分散配置するようにしてもよい。さらに、チップ来歴情
報記録専用パターンを形成するヒューズの形状、大き
さ、及び配置箇所は任意とされる。
For example, in the above embodiment, the case where the fuse is applied to the chip history information recording dedicated pattern has been described, but the chip history information may be recorded by directly irradiating the semiconductor substrate with laser light. Further, the chip history information recording-dedicated patterns may be dispersedly arranged on the same chip. Further, the shape, size, and location of the fuse forming the pattern for recording chip history information are arbitrary.

【0029】以上の説明では主として本発明者によって
なされた発明をその背景となった利用分野であるダイナ
ミックRAMに適用した場合について説明したが、本発
明はそれに限定されるものではなく、スタティックRA
MやROM(リード・オンリ・メモリ)などの半導体記
憶装置、さらにはマイクロコンピュータなど、各種半導
体集積回路に広く適用することができる。
In the above description, the case where the invention made by the present inventor is mainly applied to the dynamic RAM which is the field of use as the background has been described. However, the present invention is not limited thereto and the static RA is used.
It can be widely applied to various semiconductor integrated circuits such as semiconductor memory devices such as M and ROM (read only memory), and further to microcomputers.

【0030】本発明は、少なくとも一つのウェーハから
複数の半導体チップが切り出されることを条件に適用す
ることができる。
The present invention can be applied on condition that a plurality of semiconductor chips are cut out from at least one wafer.

【0031】[0031]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば下記
の通りである。
The effects obtained by the typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.

【0032】すなわち、専用パターンにレーザ光でダメ
ージを与えることによりチップ毎の来歴情報を刻印する
ことにより、より多くの情報をチップ単位で容易に記録
することができる。また、上記来歴情報に、ウェーハに
おけるチップ毎の位置情報、当該チップが含まれるウェ
ーハのロット番号、及び当該ウェーハ番号を含めること
により、チップの特性ばらつきなどの解析において有益
な情報をチップ単位で得ることができる。
That is, more information can be easily recorded on a chip-by-chip basis by marking the history information for each chip by damaging the dedicated pattern with laser light. Further, by including the position information for each chip in the wafer, the lot number of the wafer in which the chip is included, and the wafer number in the history information, information useful in analysis of the characteristic variation of the chip is obtained in chip units. be able to.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】図1は本発明の一実施例に係るダイナミックR
AMにおける主要ブロックのレイアウト平面図である。
FIG. 1 is a dynamic R according to an embodiment of the present invention.
It is a layout plan view of a main block in AM.

【図2】図2は上記ダイナミックRAMに形成されるチ
ップ来歴情報記録専用パターンの説明図である。
FIG. 2 is an explanatory diagram of a chip history information recording dedicated pattern formed in the dynamic RAM.

【図3】図3は上記ダイナミックRAMが含まれるウェ
ーハの平面図である。
FIG. 3 is a plan view of a wafer including the dynamic RAM.

【図4】図4は上記チップ来歴情報記録専用パターンの
他の構成例の説明図である。
FIG. 4 is an explanatory diagram of another configuration example of the chip history information recording dedicated pattern.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ダイナミックRAM 2,2A乃至2D メモりセルアレイ 3A,3B カラムアドレスデコーダ 4A乃至4D センスアンプ 5A,5B ロウアドレスデコーダ 8,8A チップ来歴情報記録専用パターン 9 ウェーハ 10 半導体チップ 1 dynamic RAM 2, 2A to 2D memory cell array 3A, 3B column address decoder 4A to 4D sense amplifier 5A, 5B row address decoder 8, 8A chip history information recording dedicated pattern 9 wafer 10 semiconductor chip

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体チップ毎の来歴情報を記録するた
めの来歴情報記録方式であって、ダイシング前のウェー
ハにおける半導体チップ毎に形成された来歴情報記録専
用パターンに対して、レーザ光でダメージを与えること
により半導体チップ毎に当該チップの来歴情報を刻印す
るステップを含むことを特徴とする来歴情報記録方式。
1. A history information recording system for recording history information for each semiconductor chip, wherein a pattern for exclusive use of history information formed on each semiconductor chip on a wafer before dicing is damaged by laser light. A history information recording method, characterized by including the step of marking the history information of each semiconductor chip by giving it.
【請求項2】 上記来歴情報には、ウェーハにおけるチ
ップの位置情報、ウェーハのロット番号、及びウェーハ
番号が含まれる請求項1記載の来歴情報記録方式。
2. The history information recording method according to claim 1, wherein the history information includes chip position information on the wafer, a wafer lot number, and a wafer number.
【請求項3】 上記来歴情報記録専用パターンは、半導
体チップに含まれる回路素子から電気的に隔絶されたた
ヒューズとされる請求項1又は2記載の来歴情報記録方
式。
3. The history information recording system according to claim 1, wherein the history information recording dedicated pattern is a fuse electrically isolated from a circuit element included in a semiconductor chip.
【請求項4】 半導体チップ毎に形成された来歴情報記
録専用パターンを含み、この来歴情報記録専用パターン
に対して、レーザ光でダメージを与えることにより当該
チップの来歴情報が刻印されて成る半導体集積回路。
4. A semiconductor integrated circuit including a history information recording dedicated pattern formed for each semiconductor chip, wherein the history information of the chip is imprinted by damaging the history information recording dedicated pattern with a laser beam. circuit.
【請求項5】 上記来歴情報には、ウェーハにおけるチ
ップの位置情報、ウェーハのロット番号、及びウェーハ
番号が含まれる請求項4記載の半導体集積回路。
5. The semiconductor integrated circuit according to claim 4, wherein the history information includes chip position information on a wafer, a wafer lot number, and a wafer number.
【請求項6】 上記来歴情報記録専用パターンは、半導
体チップに含まれる回路素子から電気的に隔絶されたヒ
ューズとされる請求項4又は5記載の半導体集積回路。
6. The semiconductor integrated circuit according to claim 4, wherein the history information recording dedicated pattern is a fuse electrically isolated from a circuit element included in the semiconductor chip.
JP26116091A 1991-09-12 1991-09-12 History information recording system and semiconductor integrated circuit Withdrawn JPH0574748A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5611655A (en) * 1993-04-23 1997-03-18 Tokyo Electron Limited Vacuum process apparatus and vacuum processing method
EP2289700A1 (en) 2009-08-25 2011-03-02 Canon Kabushiki Kaisha Liquid discharge head and method for manufacturing the same

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