JPH0572405A - Diffraction grating plotter - Google Patents

Diffraction grating plotter

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Publication number
JPH0572405A
JPH0572405A JP3231955A JP23195591A JPH0572405A JP H0572405 A JPH0572405 A JP H0572405A JP 3231955 A JP3231955 A JP 3231955A JP 23195591 A JP23195591 A JP 23195591A JP H0572405 A JPH0572405 A JP H0572405A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
diffraction grating
laser beam
dry plate
shutter
laser
Prior art date
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Pending
Application number
JP3231955A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshitaka Toda
敏貴 戸田
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Toppan Inc
Original Assignee
Toppan Printing Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Toppan Printing Co Ltd filed Critical Toppan Printing Co Ltd
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Publication of JPH0572405A publication Critical patent/JPH0572405A/en
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70408Interferometric lithography; Holographic lithography; Self-imaging lithography, e.g. utilizing the Talbot effect
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03HHOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H1/00Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
    • G03H1/04Processes or apparatus for producing holograms
    • G03H1/0476Holographic printer
    • G03H2001/0482Interference based printer
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03HHOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H1/00Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
    • G03H1/04Processes or apparatus for producing holograms
    • G03H1/0493Special holograms not otherwise provided for, e.g. conoscopic, referenceless holography
    • G03H2001/0497Dot matrix holograms

Abstract

PURPOSE:To continuously and uniformly manufacture a diffraction grating, which is tolerant to external vibration and has an optional spatial frequency in an optional direction, to obtain extremely high light utilization, and to make the size of the diffraction grating variable. CONSTITUTION:This diffraction grating plotter is equipped with an X-Y-theta stage 6 which moves and rotates a dry plate 3, a laser light source 7, a shutter 8 which is opened and closed to expose and not to expose the dry plate 3 to a laser beam, an optical branching means 9 which branches the laser beam into two, a 1st optical system which makes one laser beam incident as a reference beam on the dry plate 3, and a 2nd optical system consisting of a rotatable mirror 13 which is movable in parallel and in a specific direction and receives and reflects the other laser beam at the position of the center of rotation to make its reflected light as an object beam on the dry plate 3 at the same position with the reference beam or a position deviating from it, and a control means 16 which controls the X-Y-theta stage 6, shutter 8, and rotary moving mirror 13 according to image data.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、レーザー光を用い、そ
の2光束干渉によって回折格子を作製する装置に係り、
特に任意の空間周波数を持った任意の方向の回折格子を
任意の位置に連続して作製し得るようにした回折格子プ
ロッターに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for producing a diffraction grating by using a laser beam and interference of two light beams thereof,
In particular, the present invention relates to a diffraction grating plotter capable of continuously producing a diffraction grating having an arbitrary spatial frequency in an arbitrary direction at an arbitrary position.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般的に、レーザー光源のようなコヒー
レントな光源を用いて、これからのレーザービームを一
度2光束に分けたものを、再び感光材料上で同時に露光
すると、干渉縞が記録される。この干渉縞は、感光材料
に入射する2光束の角度の差によって、そのピッチ(空
間周波数の逆数)が変わり、その方向は2光束の入射す
る方向によって変わり、その記録される濃さは光強度に
よって変わる。すなわち、観察時には、干渉縞のピッチ
は見える色に、干渉縞の方向は見える方向に、干渉縞の
濃さは見える色の輝度にそれぞれ関係する。
2. Description of the Related Art Generally, an interference fringe is recorded by using a coherent light source such as a laser light source, and dividing a laser beam from this into two light fluxes once and exposing them again on a photosensitive material at the same time. .. The pitch of the interference fringes (the reciprocal of the spatial frequency) changes depending on the angle difference between the two light beams incident on the photosensitive material, the direction changes depending on the direction in which the two light beams enter, and the recorded density is the light intensity. Depends on That is, during observation, the pitch of the interference fringes is related to the visible color, the direction of the interference fringes is related to the visible direction, and the density of the interference fringes is related to the brightness of the visible color.

【0003】さて、このように、2光束干渉によって回
折格子を形成して、回折格子パターンを有するディスプ
レイを作製する方法としては、例えば“特開昭60−1
56004号公報”、“特願昭63−222477号”
等が提案されてきている。
A method of forming a diffraction grating by the interference of two light fluxes to manufacture a display having a diffraction grating pattern in this manner is described in, for example, "JP-A-60-1".
No. 56004, "Japanese Patent Application No. 63-222477"
Etc. have been proposed.

【0004】すなわち、まず前者の方法は、回折格子露
光ヘッドを用い、この回折格子露光ヘッドを移動するこ
とによって、2光束干渉による微小な干渉縞(以下、回
折格子と称する)を、そのピッチ、方向、および光強度
を変化させて、感光材料に対して次々と露光し、任意の
位置に任意の回折格子を作製する方法である。この方法
を用いることにより、平面状の感光材料と、その表面に
形成された回折格子パターンとからなるディスプレイが
得られる。そして、この回折格子パターンは、回折格子
により形成された複数の微小なドットから構成されてい
るため、各ドットがそれぞれの色にそれぞれの方向にそ
れぞれの強さで光って様々な模様が描かれる。
That is, first, the former method uses a diffraction grating exposure head, and by moving this diffraction grating exposure head, minute interference fringes (hereinafter referred to as a diffraction grating) due to two-beam interference are formed at the pitch, This is a method of changing the direction and the light intensity, successively exposing the photosensitive material, and producing an arbitrary diffraction grating at an arbitrary position. By using this method, a display including a flat photosensitive material and a diffraction grating pattern formed on the surface thereof can be obtained. Since this diffraction grating pattern is composed of a plurality of minute dots formed by the diffraction grating, each dot shines in each color in each direction with each intensity, and various patterns are drawn. ..

【0005】一方、後者の方法は、計算機から読み出し
た画像データにしたがって、X−Yステージ上の乾板
(感光材料を塗布したガラス等からなる)の対応位置
に、回折格子からなるドットを作製していく方法であ
る。この方法を用いることにより、ほぼ完全に均一な回
折格子のパターンを有するディスプレイが得られる。
On the other hand, in the latter method, dots made of a diffraction grating are formed at corresponding positions on a dry plate (made of glass coated with a photosensitive material) on an XY stage according to image data read from a computer. Is the way to go. By using this method, a display with an almost perfectly uniform diffraction grating pattern is obtained.

【0006】しかしながら、まず前者の作製方法におい
ては、次のような問題がある。すなわち、回折格子のピ
ッチ、方向、光強度を変化させる場合に、その都度回折
格子露光ヘッドの光学系を移動する必要がある。そし
て、このように光学系を固定させることができないこと
から、振動に対して弱く、外部からの振動の影響を受け
易い。従って、振動を十分に減衰させるために長い待ち
時間が必要となるばかりでなく、回折格子作製の安定性
も悪く、均一な(精度がよい)回折格子を作製すること
ができないという問題がある。
However, first, the former manufacturing method has the following problems. That is, when changing the pitch, direction, or light intensity of the diffraction grating, it is necessary to move the optical system of the diffraction grating exposure head each time. Since the optical system cannot be fixed in this way, it is weak against vibration and is easily affected by external vibration. Therefore, there is a problem that not only a long waiting time is required to sufficiently damp the vibration but also the stability of the production of the diffraction grating is poor, and a uniform (highly accurate) diffraction grating cannot be produced.

【0007】一方、後者の作製方法においては、次のよ
うな問題がある。すなわち、レーザービームをいくつか
に分岐し、その中の一つを選択することによって、作製
する回折格子の空間周波数を決めていることから、光の
利用効率が非常に低いというという問題がある。また、
分岐されるビームの数も、光学系の空間的な配置や光強
度が弱くなることから、3本程度が限界である。そのた
め、3種類程度の空間周波数を持った回折格子しか作製
することができない(回折格子の空間周波数が3種類程
度に限定されてしまっている)という問題がある。
On the other hand, the latter manufacturing method has the following problems. That is, since the laser beam is branched into several beams and one of them is selected to determine the spatial frequency of the diffraction grating to be produced, there is a problem that the light utilization efficiency is very low. Also,
The number of beams to be branched is limited to about three because the spatial arrangement of the optical system and the light intensity become weak. Therefore, there is a problem that only a diffraction grating having about three kinds of spatial frequencies can be produced (the spatial frequency of the diffraction grating is limited to about three kinds).

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】以上のように、従来の
作製方法においては、外部からの振動に対して強く、均
一な回折格子を作製することができず、さらに回折格子
の空間周波数が限定され、光の利用効率も低いという問
題があった。
As described above, in the conventional manufacturing method, it is not possible to manufacture a uniform diffraction grating that is strong against external vibration, and the spatial frequency of the diffraction grating is limited. However, there is a problem in that the light utilization efficiency is low.

【0009】本発明は上述のような問題を解決するため
に成されたもので、外部からの振動に対して強く、任意
の空間周波数を持った任意の方向の回折格子を任意の位
置に連続して均一に作製することが可能で、しかも光の
利用効率も極めて高い回折格子プロッターを提供するこ
とを目的とする。
The present invention was made in order to solve the above-mentioned problems, and it is strong against external vibrations, and a diffraction grating in an arbitrary direction having an arbitrary spatial frequency is continuously formed at an arbitrary position. Therefore, it is an object of the present invention to provide a diffraction grating plotter that can be manufactured uniformly and has extremely high light utilization efficiency.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明では、レーザー光を用い、その2光束干渉に
よって回折格子を作製する装置において、回折格子を形
成するための感光材料を塗布した乾板が載置され、当該
乾板を移動,回転させるX−Y−θステージと、レーザ
ービームを発生するレーザー光源と、レーザー光源から
のレーザービームを受け、その開閉によって露光,非露
光を行なうシャッターと、シャッターからのレーザービ
ームを2本のレーザービームに分岐する光分岐手段と、
光分岐手段からの一方のレーザービームを、参照ビーム
として乾板上に入射させる第1の光学系と、光分岐手段
からの他方のレーザービームをその回動中心位置に受け
て反射し、かつその反射光を物体ビームとして乾板上に
参照ビームと常に同一位置、またはずらした位置に入射
させる、回動中心位置を支点として回動自在でかつ所定
方向に平行移動自在な回動・移動ミラーからなる第2の
光学系と、読み取られた画像データに基づいて、X−Y
−θステージの移動,回転、シャッターの開閉、および
回動・移動ミラーの回動角度および移動位置をそれぞれ
制御する制御手段とを備えて構成している。
In order to achieve the above object, the present invention uses a laser beam to coat a photosensitive material for forming a diffraction grating in an apparatus for producing a diffraction grating by the two-beam interference. An XY-θ stage that moves and rotates the dry plate, a laser light source that generates a laser beam, and a shutter that receives the laser beam from the laser light source and performs exposure and non-exposure by opening and closing the laser beam. And a light splitting means for splitting the laser beam from the shutter into two laser beams,
A first optical system for making one of the laser beams from the light splitting means incident on the dry plate as a reference beam, and receiving and reflecting the other laser beam from the light splitting means at its rotation center position, and reflecting the same. A first rotating / moving mirror that is rotatable about the center of rotation as a fulcrum and that is movable in parallel in a predetermined direction. 2 based on the optical system and the read image data, XY
A control means for controlling the movement and rotation of the stage, the opening and closing of the shutter, and the rotation angle and movement position of the rotation / moving mirror.

【0011】ここで、特に上記シャッターの開いている
時間を制御するようにしている。
Here, in particular, the opening time of the shutter is controlled.

【0012】[0012]

【作用】従って、本発明による回折格子プロッターにお
いては、読み取られた画像データに従って、回動ミラー
の回動角度を連続的に任意の値に制御することにより、
任意の空間周波数を持った回折格子を均一に作製するこ
とができる。また、読み取られた画像データの対応する
位置に、X−Y−θステージを移動,回転することによ
り、感光材料上の任意の位置に任意の方向の回折格子を
作製することができる。さらに、シャッターの開いてい
る時間を制御することにより、回折格子の深さを変化さ
せることができ、すなわち観察時のその回折格子のドッ
トの明るさを変化させることができる。さらにまた、物
体ビームを乾板上に参照ビームの入射位置とずらした位
置に入射させることにより、回折格子の大きさを可変す
ることができる。
Therefore, in the diffraction grating plotter according to the present invention, the rotating angle of the rotating mirror is continuously controlled to an arbitrary value in accordance with the read image data.
It is possible to uniformly manufacture a diffraction grating having an arbitrary spatial frequency. Further, by moving and rotating the XY-θ stage to a position corresponding to the read image data, it is possible to fabricate a diffraction grating in any position on the photosensitive material. Further, the depth of the diffraction grating can be changed by controlling the opening time of the shutter, that is, the brightness of the dots of the diffraction grating at the time of observation can be changed. Furthermore, the size of the diffraction grating can be changed by making the object beam incident on the dry plate at a position shifted from the incident position of the reference beam.

【0013】[0013]

【実施例】本発明は、レーザービームを2つのレーザー
ビーム、すなわち参照ビームとなるレーザービームと、
物体ビームとなるレーザービームとに分割し、X−Y−
θステージ上に載置された乾板の感光材料上に、各々あ
らかじめ設定された角度で入射させて干渉させ、さらに
レーザービームをシャッターの開閉によって露光または
非露光を制御すると共に、X−Y−θステージを相対的
に移動させて、乾板の感光材料の表面に回折格子からな
る複数の微小なドットを配置することにより、回折格子
を作製する場合に、参照ビームとなるレーザービーム
を、あらかじめ設定された角度(固定角度)で乾板の感
光材料上に入射させると共に、物体ビームとなるレーザ
ービームを、回動・移動ミラーによって、その入射角度
を連続的に任意の値に制御(可変角度)しながら、乾板
の感光材料上に参照ビームと常に同一位置、またはずれ
た位置に入射させる、すなわち参照ビームと物体ビーム
との相対角度を任意に可変して、双方のレーザービーム
を干渉させるものである。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the present invention, two laser beams, namely a laser beam serving as a reference beam, are used.
It is divided into a laser beam that becomes an object beam and X-Y-
On the photosensitive material of the dry plate placed on the θ stage, each is made incident at a preset angle to cause interference, and the exposure or non-exposure of the laser beam is controlled by opening and closing the shutter, and XY-θ When the diffraction grating is produced by moving the stage relatively and arranging a plurality of minute dots consisting of the diffraction grating on the surface of the photosensitive material of the dry plate, the laser beam which is the reference beam is preset. While making it incident on the photosensitive material of the dry plate at a fixed angle (fixed angle), while controlling the incident angle of the laser beam, which becomes the object beam, by the turning / moving mirror continuously (variable angle). , Always on the photosensitive material of the dry plate at the same position as the reference beam or at a shifted position, that is, the relative angle between the reference beam and the object beam is arbitrarily set. It is variable so that both laser beams interfere with each other.

【0014】以上の手法は、次のような根拠に基づくも
のである。すなわち、入射光と回折光との関係は、図7
に示すような関係にある。また、回折格子作製時の物体
ビームの入射角度θと、観察時の観察できる角度βと、
その色(再成波長λ)との関係を式で表わすと、次式の
ようになる。 (1/λ)(sin α−sin β)=(1/λ0 )(sin α0 −sin θ) ただし、λは回折光の波長(観察される色)、αは照明
光の入射角、βは回折光の出射角(観察位置)、λ0
作製時のレーザービームの波長、α0 は参照ビームの入
射角、θは物体ビームの入射角である。
The above method is based on the following grounds. That is, the relationship between the incident light and the diffracted light is shown in FIG.
The relationship is as shown in. Further, the incident angle θ of the object beam at the time of making the diffraction grating, the observable angle β at the time of observation,
The relation with the color (reconstruction wavelength λ) is expressed by the following equation. (1 / λ) (sin α-sin β) = (1 / λ 0 ) (sin α 0 −sin θ) where λ is the wavelength of the diffracted light (observed color), α is the incident angle of the illumination light, β is the outgoing angle (observation position) of the diffracted light, λ 0 is the wavelength of the laser beam at the time of fabrication, α 0 is the incident angle of the reference beam, and θ is the incident angle of the object beam.

【0015】ここで、図8に示すような条件で作製した
回折格子を白色光で照明すると、図9に示すように上記
式を満足して光が回折する。従って、物体ビームの入射
角θを連続的に任意の値に制御することによって、回折
光の出射角(観察位置)βを決めると、全く任意の色で
見えるドットからなる回折格子を作製できることにな
る。 λ=λ0 (sin α−sin β)/(sin α0 −sin θ) 別の言い方をすると、回折格子の空間周波数fは、 f=(sin α0 −sin θ)/λ0 で表わされる。従って、物体ビームの入射角θを連続的
に任意の値に制御することによって、任意の空間周波数
を持った回折格子を作製できることになる。
When the diffraction grating manufactured under the conditions shown in FIG. 8 is illuminated with white light, the light is diffracted by satisfying the above expression as shown in FIG. Therefore, if the exit angle (observation position) β of the diffracted light is determined by continuously controlling the incident angle θ of the object beam to an arbitrary value, it is possible to fabricate a diffraction grating composed of dots that can be seen in any arbitrary color. Become. λ = λ 0 (sin α−sin β) / (sin α 0 −sin θ) In other words, the spatial frequency f of the diffraction grating is represented by f = (sin α 0 −sin θ) / λ 0 .. Therefore, a diffraction grating having an arbitrary spatial frequency can be manufactured by continuously controlling the incident angle θ of the object beam to an arbitrary value.

【0016】以下、上記のような考え方に基づいた本発
明の一実施例について、図面を参照して詳細に説明す
る。
An embodiment of the present invention based on the above concept will be described below in detail with reference to the drawings.

【0017】図1は、本発明の2光束干渉による回折格
子の作製方法を示す斜視図である。すなわち、図1に示
すように、2本のレーザービーム1,2を、感光材料が
塗布された乾板3上でドット状に交わらせると、ドット
4に回折格子5が生じる。この回折格子5のピッチは、
2本のレーザービーム1,2の交わる角度を変えること
により、変化させることが可能である。コンピュータの
指示に従って、X−Y−θステージ6を移動させなが
ら、この回折格子5のドット4を乾板3の感光材料面上
に形成する。
FIG. 1 is a perspective view showing a method of manufacturing a diffraction grating by two-beam interference according to the present invention. That is, as shown in FIG. 1, when two laser beams 1 and 2 are made to cross each other in a dot shape on a dry plate 3 coated with a photosensitive material, a diffraction grating 5 is formed in a dot 4. The pitch of this diffraction grating 5 is
It can be changed by changing the angle at which the two laser beams 1 and 2 intersect. The dots 4 of the diffraction grating 5 are formed on the surface of the photosensitive material of the dry plate 3 while moving the XY-θ stage 6 according to the instruction of the computer.

【0018】図2は、乾板の感光材料面上にドットを形
成するための回折格子プロッターの構成例を示す概要図
である。
FIG. 2 is a schematic diagram showing a structural example of a diffraction grating plotter for forming dots on the surface of the photosensitive material of the dry plate.

【0019】図2において、本実施例の回折格子プロッ
ターは、回折格子を形成するための感光材料を塗布した
乾板3が載置され、この乾板3を移動,回転させるX−
Y−θステージ6と、レーザービームを発生するレーザ
ー光源7と、レーザー光源7からのレーザービームを受
け、その開閉によって露光,非露光を行なうシャッター
8と、シャッター8からのレーザービームを2本のレー
ザービームに分岐する光分岐手段であるハーフミラー9
と、ハーフミラー9からの一方のレーザービームを反射
させ、参照ビームとして乾板3上に入射させる2個の全
反射ミラー10,11からなる第1の光学系と、ハーフ
ミラー9からの他方のレーザービームをその回動中心位
置に受けて反射し、かつその反射光を物体ビームとして
乾板3上に参照ビームと常に同一位置に入射させる、回
動中心位置を支点として回動自在でかつ所定方向(本例
では、上下方向)に平行移動自在な回動・移動ミラー1
3からなる第2の光学系と、読み取られた画像データに
基づいて、X−Y−θステージ6の移動,回転、シャッ
ター8の開閉、および回動・移動ミラー13の回動角度
および移動位置をそれぞれ制御する制御手段であるコン
トローラ16とから構成している。
In FIG. 2, the diffraction grating plotter of this embodiment is provided with a dry plate 3 coated with a photosensitive material for forming a diffraction grating, and the dry plate 3 is moved and rotated X-.
A Y-θ stage 6, a laser light source 7 for generating a laser beam, a shutter 8 for receiving and exposing the laser beam from the laser light source 7, and performing exposure / non-exposure by opening / closing it, and two laser beams from the shutter 8 Half mirror 9 which is an optical branching means for branching into a laser beam
And a first optical system consisting of two total reflection mirrors 10 and 11 for reflecting one laser beam from the half mirror 9 and making it incident on the dry plate 3 as a reference beam, and the other laser from the half mirror 9. The beam is received at its rotation center position and reflected, and the reflected light is always made incident on the dry plate 3 at the same position as the reference beam as an object beam. In this example, a rotating / moving mirror 1 that can move in parallel in the vertical direction.
2nd optical system consisting of 3 and the movement and rotation of the XY-θ stage 6, the opening and closing of the shutter 8, and the rotation angle and movement position of the rotation / moving mirror 13 based on the read image data. And a controller 16 which is a control means for controlling each of the above.

【0020】次に、図3および図4を用いて、本実施例
の回折格子プロッターの作用について説明する。
Next, the operation of the diffraction grating plotter of this embodiment will be described with reference to FIGS. 3 and 4.

【0021】まず最初に、画像入力手段であるスキャナ
―から取り込んだ画像データを読取り、計算機で色情報
の分解や調整等から画像データを補正し、視域の設定や
観察の方向の設定等を含む回折格子パターンのデータ
(ドットデータ)を作る。
First, the image data taken in by the scanner which is the image input means is read, and the image data is corrected by the decomposition and adjustment of the color information by the computer to set the viewing zone and the direction of observation. Create the data (dot data) of the diffraction grating pattern that contains it.

【0022】次に、コントローラ16により、このデー
タの対応する位置、方向にX−Y−θステージ6を移動
させ、またこのデータにしたがった回折格子の空間周波
数を形成するように、回動・移動ミラー13の回動角度
および移動位置を制御し、さらにこのデータにしたがっ
た回折格子の明るさとなるようにシャッター8の開閉時
間を制御して、感光材料が塗布された乾板3上に露光を
行なう。この段階で、一つのドットに対して決定された
色に対応した回折格子の形成工程が完了する。
Next, the controller 16 moves the XY-θ stage 6 in the corresponding position and direction of this data, and also rotates and forms the spatial frequency of the diffraction grating according to this data. The rotation angle and the moving position of the moving mirror 13 are controlled, and the opening / closing time of the shutter 8 is controlled so that the brightness of the diffraction grating is in accordance with this data, so that the dry plate 3 coated with the photosensitive material is exposed. To do. At this stage, the process of forming the diffraction grating corresponding to the color determined for one dot is completed.

【0023】次に、データの露光が全てについて終了し
たかどうかを判定する。その結果、まだ露光が全てのデ
ータについて終了していなければ、上記の各処理を、全
データの露光が終了するまで繰り返して行ない、露光が
全てのデータについて終了した時点で終了する。このよ
うにして、複数ドット状の回折格子パターンを有するデ
ィスプレイが完成(感光材料現像後)する。
Next, it is determined whether or not the data exposure has been completed for all. As a result, if the exposure has not been completed for all the data, the above processes are repeated until the exposure for all the data is completed, and the process is completed when the exposure is completed for all the data. In this way, a display having a plurality of dot-shaped diffraction grating patterns is completed (after developing the photosensitive material).

【0024】すなわち、本実施例の回折格子プロッター
では、図5に示すように、乾板3上で2本のレーザービ
ーム(参照ビーム、物体ビーム)を交わらせ、その時に
できた回折格子5からなるドット4を記録し、ドット4
の集まりによって画像を作製する。
That is, in the diffraction grating plotter of this embodiment, as shown in FIG. 5, two laser beams (reference beam and object beam) are intersected on the dry plate 3 and the diffraction grating 5 is formed at that time. Record dot 4 and dot 4
An image is created by a collection of.

【0025】ここで、参照ビームは、2個の全反射ミラ
ー10,11を通って乾板3の感光材料面上に、あらか
じめ設定された角度αで入射される。また、物体ビーム
は、回動・移動ミラー13によって乾板3の感光材料面
への入射角度が任意に制御され、θの入射角度で乾板3
の感光材料面上に、参照ビームの入射位置と同位置(1
点)に入射される。この場合、回動・移動ミラー13の
回動角度および移動位置の変化によって、物体ビームの
感光材料面への入射角度θが変わるが、回動・移動ミラ
ー13が回動および移動しても、物体ビームの感光材料
面上の入射位置は変化せず、参照ビームが感光材料面上
で正確に物体ビームと交わり、そこに回折格子が形成さ
れる。これにより、任意の空間周波数を持った回折格子
が均一に作製できる。
Here, the reference beam passes through the two total reflection mirrors 10 and 11 and is incident on the photosensitive material surface of the dry plate 3 at a preset angle α. Further, the angle of incidence of the object beam on the surface of the photosensitive material of the dry plate 3 is arbitrarily controlled by the rotating / moving mirror 13, and the dry plate 3 has an incident angle of θ.
On the surface of the photosensitive material of the same position (1
Point). In this case, the incident angle θ of the object beam on the surface of the photosensitive material changes depending on the change of the rotation angle and the movement position of the rotation / moving mirror 13, but even if the rotation / moving mirror 13 rotates and moves, The incident position of the object beam on the surface of the photosensitive material does not change, and the reference beam exactly intersects the object beam on the surface of the photosensitive material, forming a diffraction grating there. Thereby, a diffraction grating having an arbitrary spatial frequency can be uniformly manufactured.

【0026】また、読み取られた画像データの対応する
位置に、X−Y−θステージ6を移動,回転することに
より、感光材料上の任意の位置に任意の方向の回折格子
が作製できる。そして、これらの回折格子を自動的に作
製し、これによって画像を表現したディスプレイが作製
できる。
Further, by moving and rotating the XY-θ stage 6 to a position corresponding to the read image data, a diffraction grating in an arbitrary direction can be produced at an arbitrary position on the photosensitive material. Then, these diffraction gratings are automatically produced, and thereby a display expressing an image can be produced.

【0027】さらに、シャッター8の開いている時間を
制御することにより、その回折格子の深さを変化させる
ことができる。これは、観察時のその回折格子のドット
の明るさを変化させることと等しい。
Further, by controlling the opening time of the shutter 8, the depth of the diffraction grating can be changed. This is equivalent to changing the brightness of the dots of the diffraction grating during observation.

【0028】上述したように、本実施例の回折格子プロ
ッターは、回折格子を形成するための感光材料を塗布し
た乾板3が載置され、この乾板3を移動,回転させるX
−Y−θステージ6と、レーザービームを発生するレー
ザー光源7と、レーザー光源7からのレーザービームを
受け、その開閉によって露光,非露光を行なうシャッタ
ー8と、シャッター8からのレーザービームを2本のレ
ーザービームに分岐する光分岐手段であるハーフミラー
9と、ハーフミラー9からの一方のレーザービームを反
射させ、参照ビームとして乾板3上に入射させる2個の
全反射ミラー10,11からなる第1の光学系と、ハー
フミラー9からの他方のレーザービームをその回動中心
位置に受けて反射し、かつその反射光を物体ビームとし
て乾板3上に参照ビームと常に同一位置に入射させる、
回動中心位置を支点として回動自在でかつ所定方向(本
例では、上下方向)に平行移動自在な回動・移動ミラー
13からなる第2の光学系と、読み取られた画像データ
に基づいて、X−Y−θステージ6の移動,回転、シャ
ッター8の開閉、および回動・移動ミラー13の回動角
度および移動位置をそれぞれ制御する制御手段であるコ
ントローラ16とから構成し、参照ビームおよび物体ビ
ームの双方のレーザービームを干渉させることにより、
回析格子を作製するようにしたものである。
As described above, in the diffraction grating plotter of this embodiment, the dry plate 3 coated with the photosensitive material for forming the diffraction grating is placed, and the dry plate 3 is moved and rotated X.
-Y-θ stage 6, a laser light source 7 for generating a laser beam, a shutter 8 for receiving and exposing the laser beam from the laser light source 7, and performing exposure / non-exposure by opening / closing it, and two laser beams from the shutter 8. A half mirror 9 which is a light splitting means for splitting into a laser beam and two total reflection mirrors 10 and 11 which reflect one of the laser beams from the half mirror 9 and make it enter the dry plate 3 as a reference beam. The optical system of No. 1 and the other laser beam from the half mirror 9 are received and reflected at the rotational center position, and the reflected light is made to be an object beam on the dry plate 3 at the same position as the reference beam at all times.
Based on the second optical system composed of a rotation / moving mirror 13 which is rotatable about the center of rotation and is movable in parallel in a predetermined direction (vertical direction in this example), and the read image data. , A controller 16, which is a control means for controlling the movement and rotation of the XY-θ stage 6, the opening and closing of the shutter 8, and the rotation angle and the movement position of the rotation / moving mirror 13, respectively. By interfering both laser beams of the object beam,
A diffraction grating is produced.

【0029】従って、次のような作用効果が得られるも
のである。
Therefore, the following effects can be obtained.

【0030】(a)従来では、回折格子のピッチ、方
向、光強度を変化させる場合に、その都度回折格子露光
ヘッドの光学系を移動しなければならないことから、外
部からの振動の影響を受け易く、均一な回折格子が得ら
れなかったのに対して、本実施例の回折格子プロッター
では、回動・移動ミラー13の回動角度および移動位置
を連続的に任意の値に制御することによって、物体ビー
ムの入射角度を可変するようにしているため、外部から
の振動に対して強く、振動を減衰させるための待ち時間
が不要となるばかりでなく、回折格子作製の安定性が良
くなり、ほぼ均一な(精度がよい)回折格子を作製する
ことが可能となる。
(A) Conventionally, when changing the pitch, direction, and light intensity of the diffraction grating, the optical system of the diffraction grating exposure head has to be moved each time, so that it is affected by external vibration. Although a uniform and uniform diffraction grating could not be obtained, in the diffraction grating plotter of the present embodiment, the rotation angle and the movement position of the rotation / moving mirror 13 are continuously controlled to arbitrary values. Since the incident angle of the object beam is variable, it is strong against external vibration, not only the waiting time for damping the vibration is unnecessary, but also the stability of the diffraction grating fabrication is improved. It is possible to manufacture a substantially uniform (highly accurate) diffraction grating.

【0031】(b)従来では、レーザービームをそのま
ま使用し、ハーフミラー等でレーザービームを分けてい
たことから、R,G,B等の3種類程度の回折格子しか
作製できなかったのに対して、本実施例の回折格子プロ
ッターでは、物体ビームの入射角度を連続的に任意の値
に可変するようにしているため、任意の空間周波数を持
った回折格子を連続して作製することが可能(回折格子
の空間周波数が3種類程度に限定されない)となる。
(B) In the prior art, since the laser beam was used as it was and the laser beam was divided by a half mirror or the like, only about three types of diffraction gratings such as R, G and B could be produced. In the diffraction grating plotter of this embodiment, since the incident angle of the object beam is continuously variable to an arbitrary value, it is possible to continuously manufacture a diffraction grating having an arbitrary spatial frequency. (The spatial frequency of the diffraction grating is not limited to about 3 types).

【0032】(c)従来では、レーザービームをいくつ
かに分岐し、その中の一つを選択することによって、作
製する回折格子の空間周波数を決めていることから、光
の利用効率が非常に低かったのに対して、本実施例の回
折格子プロッターでは、2つに分岐したレーザービーム
の全てを使用しているため、光の利用効率を著しく高め
ることが可能となる。
(C) Conventionally, the spatial frequency of the diffraction grating to be produced is determined by branching the laser beam into several beams and selecting one of them, so that the light utilization efficiency is extremely high. On the other hand, since the diffraction grating plotter of this embodiment uses all of the laser beams branched into two, it is possible to remarkably increase the light utilization efficiency.

【0033】(d)シャッター8の開いている時間を制
御しているため、回折格子の深さを変化、すなわち観察
時のその回折格子のドットの明るさを変化させることが
可能となる。
(D) Since the opening time of the shutter 8 is controlled, it is possible to change the depth of the diffraction grating, that is, the brightness of the dots of the diffraction grating during observation.

【0034】(e)回動自在でかつ平行移動自在な回動
・移動ミラー13のみから光学系を構成しているため、
装置構成が極めて簡単である。
(E) Since the optical system is composed only of the rotatable / movable mirror 13 which is rotatable and movable in parallel,
The device configuration is extremely simple.

【0035】尚、本発明は上述した実施例に限定される
ものではなく、次のようにしても同様に実施することが
できるものである。
The present invention is not limited to the above-described embodiments, but can be implemented in the same manner as described below.

【0036】(a)上記実施例では、露光を行なう場合
に、シャッター8の開いている時間を制御する場合につ
いて述べたが、これに限らず露光を行なう場合に、あら
かじめ設定した時間だけシャッター8を開くようにする
ことも可能である。
(A) In the above embodiment, the case where the opening time of the shutter 8 is controlled when the exposure is performed has been described, but the present invention is not limited to this, and when the exposure is performed, the shutter 8 is kept for a preset time. It is also possible to open.

【0037】(b)上記実施例では、物体ビームとして
乾板3上に参照ビームと常に同一位置に入射させる場合
について述べたが、これに限らず例えば図6に示すよう
に、故意に物体ビームを、乾板上に参照ビームの入射位
置とずらした位置に入射させるようにしてもよいもので
ある。このようにすることにより、回折格子の大きさを
可変する、すなわち観察時の回折格子の明るさを可変す
ることが可能となる。
(B) In the above embodiment, the case where the object beam is always incident on the dry plate 3 at the same position as the reference beam has been described, but the present invention is not limited to this and, for example, as shown in FIG. The reference beam may be incident on the dry plate at a position deviated from the incident position. By doing so, it is possible to change the size of the diffraction grating, that is, the brightness of the diffraction grating during observation.

【0038】[0038]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、回
折格子を形成するための感光材料を塗布した乾板が載置
され、当該乾板を移動,回転させるX−Y−θステージ
と、レーザービームを発生するレーザー光源と、レーザ
ー光源からのレーザービームを受け、その開閉によって
露光,非露光を行なうシャッターと、シャッターからの
レーザービームを2本のレーザービームに分岐する光分
岐手段と、光分岐手段からの一方のレーザービームを、
参照ビームとして乾板上に入射させる第1の光学系と、
光分岐手段からの他方のレーザービームをその回動中心
位置に受けて反射し、かつその反射光を物体ビームとし
て乾板上に参照ビームと常に同一位置、またはずらした
位置に入射させる、回動中心位置を支点として回動自在
でかつ所定方向に平行移動自在な回動・移動ミラーから
なる第2の光学系と、読み取られた画像データに基づい
て、X−Y−θステージの移動,回転、シャッターの開
閉、および回動・移動ミラーの回動角度および移動位置
をそれぞれ制御する制御手段とを備えて構成するように
したので、外部からの振動に対して強く、任意の空間周
波数を持った任意の方向の回折格子を任意の位置に連続
して均一に作製することが可能で、光の利用効率が極め
て高く、かつ装置構成が簡単で、しかも必要に応じて回
折格子の大きさを可変することが可能な回折格子プロッ
ターが提供できる。
As described above, according to the present invention, a dry plate coated with a photosensitive material for forming a diffraction grating is placed, an XY-θ stage for moving and rotating the dry plate, and a laser. A laser light source for generating a beam, a shutter for receiving and exposing the laser beam from the laser light source, and exposing and non-exposure by opening and closing the beam, an optical branching unit for branching the laser beam from the shutter into two laser beams, and an optical branch. One laser beam from the means,
A first optical system that is incident on the plate as a reference beam;
A rotation center that receives the other laser beam from the light branching means at its rotation center position and reflects it, and makes the reflected light as an object beam always enter the dry plate at the same position as the reference beam or at a shifted position. A second optical system composed of a rotating / moving mirror which is rotatable about a position as a fulcrum and is movable in parallel in a predetermined direction, and based on the read image data, movement and rotation of the XY-θ stage, Since the control means for controlling the opening / closing of the shutter and the rotating angle and moving position of the rotating / moving mirror are provided, the structure is strong against external vibration and has an arbitrary spatial frequency. It is possible to fabricate a diffraction grating in any direction continuously and uniformly at any position. The light utilization efficiency is extremely high, the device configuration is simple, and the size of the diffraction grating can be adjusted as required. Diffraction grating plotter capable of varying can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の2光束干渉による回折格子の作製の概
要を示す斜視図。
FIG. 1 is a perspective view showing an outline of manufacturing a diffraction grating by two-beam interference according to the present invention.

【図2】本発明による回折格子プロッターの一実施例を
示す全体構成図。
FIG. 2 is an overall configuration diagram showing an embodiment of a diffraction grating plotter according to the present invention.

【図3】同実施例における作用を説明するための概要
図。
FIG. 3 is a schematic diagram for explaining the operation in the same embodiment.

【図4】同実施例における作用を説明するためのフロー
図。
FIG. 4 is a flowchart for explaining the operation of the embodiment.

【図5】同実施例において形成された回折格子の形成例
を示す図。
FIG. 5 is a view showing a formation example of the diffraction grating formed in the same example.

【図6】本発明による回折格子プロッターの他の実施例
を示す概要図。
FIG. 6 is a schematic view showing another embodiment of the diffraction grating plotter according to the present invention.

【図7】本発明の考え方を説明するための概要図。FIG. 7 is a schematic diagram for explaining the concept of the present invention.

【図8】本発明の考え方を説明するための概要図。FIG. 8 is a schematic diagram for explaining the concept of the present invention.

【図9】本発明の考え方を説明するための概要図。FIG. 9 is a schematic diagram for explaining the concept of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,2…レーザービーム、3…乾板、4…ドット、5…
回折格子、6…X−Y−θステージ、7…レーザー光
源、8…シャッター、9…ハーフミラー、10,11…
全反射ミラー、12…全反射ミラー、13…回動・移動
ミラー、16…コントローラ。
1, 2 ... laser beam, 3 ... dry plate, 4 ... dot, 5 ...
Diffraction grating, 6 ... XY-θ stage, 7 ... Laser light source, 8 ... Shutter, 9 ... Half mirror, 10, 11 ...
Total reflection mirror, 12 ... Total reflection mirror, 13 ... Rotation / moving mirror, 16 ... Controller.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 レーザー光を用い、その2光束干渉によ
って回折格子を作製する装置において、 回折格子を形成するための感光材料を塗布した乾板が載
置され、当該乾板を移動,回転させるX−Y−θステー
ジと、 レーザービームを発生するレーザー光源と、 前記レーザー光源からのレーザービームを受け、その開
閉によって露光,非露光を行なうシャッターと、 前記シャッターからのレーザービームを2本のレーザー
ビームに分岐する光分岐手段と、 前記光分岐手段からの一方のレーザービームを、参照ビ
ームとして前記乾板上に入射させる第1の光学系と、 前記光分岐手段からの他方のレーザービームをその回動
中心位置に受けて反射し、かつその反射光を物体ビーム
として前記乾板上に前記参照ビームと常に同一位置に入
射させる、前記回動中心位置を支点として回動自在でか
つ所定方向に平行移動自在な回動・移動ミラーからなる
第2の光学系と、 読み取られた画像データに基づいて、前記X−Y−θス
テージの移動,回転、前記シャッターの開閉、および前
記回動・移動ミラーの回動角度および移動位置をそれぞ
れ制御する制御手段と、 を備えて成ることを特徴とする回折格子プロッター。
1. An apparatus for producing a diffraction grating by using a laser beam by the two-beam interference thereof, wherein a dry plate coated with a photosensitive material for forming the diffraction grating is placed, and the dry plate is moved and rotated. A Y-θ stage, a laser light source that generates a laser beam, a shutter that receives and emits a laser beam from the laser light source, and performs exposure and non-exposure by opening and closing the laser beam, and a laser beam from the shutter into two laser beams. Optical branching means for branching, a first optical system for making one of the laser beams from the optical branching means incident on the dry plate as a reference beam, and the other laser beam from the optical branching means for its rotation center Received at a position and reflected, and the reflected light is always incident on the dry plate at the same position as the reference beam as an object beam, Based on the read image data, the XY stage based on the second optical system, which is composed of a rotating / moving mirror that is rotatable about the center of rotation and is movable in parallel in a predetermined direction. And a control means for respectively controlling the movement, rotation, opening and closing of the shutter, and the rotation angle and movement position of the rotation / moving mirror.
【請求項2】 前記シャッターの開いている時間を制御
するようにしたことを特徴とする請求項1に記載の回折
格子プロッター。
2. The diffraction grating plotter according to claim 1, wherein the opening time of the shutter is controlled.
【請求項3】 レーザー光を用い、その2光束干渉によ
って回折格子を作製する装置において、 回折格子を形成するための感光材料を塗布した乾板が載
置され、当該乾板を移動,回転させるX−Y−θステー
ジと、 レーザービームを発生するレーザー光源と、 前記レーザー光源からのレーザービームを受け、その開
閉によって露光,非露光を行なうシャッターと、 前記シャッターからのレーザービームを2本のレーザー
ビームに分岐する光分岐手段と、 前記光分岐手段からの一方のレーザービームを、参照ビ
ームとして前記乾板上に入射させる第1の光学系と、 前記光分岐手段からの他方のレーザービームをその回動
中心位置に受けて反射し、かつその反射光を物体ビーム
として前記乾板上に前記参照ビームの入射位置とずらし
た位置に入射させる、前記回動中心位置を支点として回
動自在でかつ所定方向に平行移動自在な回動・移動ミラ
ーからなる第2の光学系と、 読み取られた画像データに基づいて、前記X−Y−θス
テージの移動,回転、前記シャッターの開閉、および前
記回動・移動ミラーの回動角度および移動位置をそれぞ
れ制御する制御手段と、 を備えて成ることを特徴とする回折格子プロッター。
3. In an apparatus for producing a diffraction grating by using a laser beam and interference of two light beams, a dry plate coated with a photosensitive material for forming the diffraction grating is placed, and the dry plate is moved and rotated. A Y-θ stage, a laser light source that generates a laser beam, a shutter that receives and emits a laser beam from the laser light source, and performs exposure and non-exposure by opening and closing the laser beam, and a laser beam from the shutter into two laser beams. Optical branching means for branching, a first optical system for making one of the laser beams from the optical branching means incident on the dry plate as a reference beam, and the other laser beam from the optical branching means for its rotation center It is received at a position and reflected, and the reflected light is incident as an object beam on the dry plate at a position deviated from the incident position of the reference beam. A second optical system composed of a rotating / moving mirror that is rotatable about the center of rotation as a fulcrum and is movable in parallel in a predetermined direction; and based on the read image data, the XY- A diffraction grating plotter comprising: a control unit that controls the movement and rotation of the θ stage, the opening and closing of the shutter, and the rotation angle and the movement position of the rotation / moving mirror.
【請求項4】 前記シャッターの開いている時間を制御
するようにしたことを特徴とする請求項3に記載の回折
格子プロッター。
4. The diffraction grating plotter according to claim 3, wherein the opening time of the shutter is controlled.
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS623280A (en) * 1985-06-28 1987-01-09 Fuji Photo Optical Co Ltd Diffraction grating exposure device
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