JPH0567356A - Optical recording/reproducing medium and manufacture thereof - Google Patents

Optical recording/reproducing medium and manufacture thereof

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JPH0567356A
JPH0567356A JP22782291A JP22782291A JPH0567356A JP H0567356 A JPH0567356 A JP H0567356A JP 22782291 A JP22782291 A JP 22782291A JP 22782291 A JP22782291 A JP 22782291A JP H0567356 A JPH0567356 A JP H0567356A
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JP
Japan
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information
substrate
recording
information recording
optical
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Withdrawn
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JP22782291A
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Japanese (ja)
Inventor
Makoto Miyamoto
真 宮本
Yasushi Miyauchi
靖 宮内
Motoyasu Terao
元康 寺尾
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Hitachi Ltd
Maxell Holdings Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Hitachi Maxell Ltd
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Abstract

PURPOSE:To manufacture an inexpensive optical recording/reproducing medium at a high speed and in large quantities by decreasing the number of processes for manufacturing the optical recording/reproducing medium. CONSTITUTION:Between an information recording base body 16 consisting of a substrate, and an information recording layer 10 provided on its substrate, and a light source 18 for recording information in the information recording layer 10, an optical mask 17 having the part whose transmission factor is high and the part whose transmission factor is low in accordance with information to be recorded is placed, and by using a beam 19 radiated from the light source 18, the information is recorded in the information recording base body 16. The number of processes for manufacturing an optical recording/reproducing medium can be decreased remarkably. Accordingly, an inexpensive optical recording/ reproducing medium can be manufactured at a high speed and in large quantities.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は光記録再生媒体およびそ
の製造方法に係り、特に、レーザ光を用いて情報を読み
だす光記録再生媒体に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical recording / reproducing medium and a method for manufacturing the same, and more particularly to an optical recording / reproducing medium for reading information by using a laser beam.

【0002】[0002]

【従来の技術】光記録再生媒体は記録密度が高く大容量
であり、非接触記録再生であり、さらに再生装置への着
脱掛け換えが容易であるという長所を生かして、光カー
ド,光ディスクなどに実用化されている。特に、RO
M、すなわち、情報の記録はできないが再生することが
できる光再生媒体は、コンパクトデイスク,レーザディ
スク等として最も普及している。これは既にあげた長所
のほかに、廉価で高速にしかも大量に複製が可能である
という長所が生かされている例である。
2. Description of the Related Art An optical recording / reproducing medium has a high recording density and a large capacity, is non-contact recording / reproducing, and can be easily attached to and detached from a reproducing apparatus. It has been put to practical use. Especially RO
M, that is, an optical reproducing medium that cannot reproduce information but can be reproduced, is most popular as a compact disk, a laser disk or the like. This is an example in which, in addition to the advantages already mentioned, the advantages that it is inexpensive, high-speed, and capable of mass copying are utilized.

【0003】これらのROMの従来の作製方法を図2を
用いて説明する。平面研磨されたガラス円板1にポジ型
のフォトレジスト2を塗布する。そして、情報を記録す
るため、記録機のアルゴンレーザの照射光3をオン−オ
フ変調し、回転しているガラス円板上のフォトレジスト
を感光させる。感光後のフォトレジスト面は現像によっ
て感光部分が溶解して流れ落ち、いわゆるピット4が形
成される。こうして凹凸の状態で信号が記録されている
ガラス原板に規定の厚さのニッケルなどの金属をメッキ
する。これをスタンパ5として射出成形機にセットし
1.2mm 厚の透明なディスク6を成型する。情報が記録
されている凹凸面に反射膜7を蒸着し、その上から保護
膜8を塗布して、単板もしくは両面張り合わせとして完
成させる。
A conventional method of manufacturing these ROMs will be described with reference to FIG. A positive type photoresist 2 is applied to a glass disk 1 which has been flat-polished. Then, in order to record information, the irradiation light 3 of the argon laser of the recorder is modulated on-off, and the photoresist on the rotating glass disk is exposed. On the photoresist surface after exposure, the photosensitive portion is dissolved and flows down by development, so-called pit 4 is formed. Thus, a metal such as nickel having a prescribed thickness is plated on the original glass plate on which the signal is recorded in the uneven state. This is set as a stamper 5 in an injection molding machine and a transparent disk 6 having a thickness of 1.2 mm is molded. A reflective film 7 is vapor-deposited on the uneven surface on which information is recorded, and a protective film 8 is applied thereon to complete a single plate or double-sided bonding.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】既に述べたように、光
記録再生媒体は廉価で高速にしかも大量に複製が可能で
あるという長所があるが、この長所をさらに生かすこと
でパーソナルコンピュータなどのデータベース、さらに
雑誌や新聞などの代替メディアにその用途を拡大でき
る。
As described above, the optical recording / reproducing medium has an advantage that it is inexpensive and can be mass-produced at high speed. However, by further utilizing this advantage, a database for a personal computer or the like can be obtained. , And its application can be expanded to alternative media such as magazines and newspapers.

【0005】しかし従来技術ではスタンパを作製するま
での時間が最低でも20時間程度必要であり、射出成形
する時間を考慮すると、新聞などのように高速にしかも
大量に情報を伝達するメディアは使用することができな
かった。また、光記録再生媒体を作製するまでの工程数
が多く、少量の複製を作るにも上述の工程を経なければ
ならず、結果的に光記録再生媒体のコストが高くなると
いう問題があった。
In the prior art, however, it takes at least about 20 hours until the stamper is manufactured. Considering the injection molding time, a medium such as a newspaper which transmits a large amount of information at high speed is used. I couldn't. In addition, the number of steps required to manufacture the optical recording / reproducing medium is large, and the above-described steps must be performed to make a small amount of copy, resulting in a problem that the cost of the optical recording / reproducing medium becomes high. ..

【0006】一方、あらかじめ情報が記録されておら
ず、ユーザが記録及び書き換えを行う光記録再生媒体で
は、情報を記録する位置に、レーザスポットを正確に照
射させるための案内溝やピットが必要である。そのた
め、この案内溝及びピットを形成するこの工程が必要で
あり、コスト高となるという問題があった。
On the other hand, in an optical recording / reproducing medium in which information is not recorded in advance and a user records and rewrites, a guide groove or a pit for accurately irradiating a laser spot is required at a position where information is recorded. is there. Therefore, this step of forming the guide groove and the pit is necessary, and there is a problem that the cost becomes high.

【0007】これらの問題を解決するには、例えば、特
開昭62−183047号公報のように、光学マスクを利用して
案内溝を形成する方法がある。この方法は工程数を低減
させるため、案内溝に対応したパターンの光学マスクを
介してフォトレジスト層を感光し、現像により感光部分
を除去した後、記録層を成膜する方法である。この方法
を用いることでスタンパを使用せずに光記録再生媒体を
作製することが可能となった。ところがこの方法では光
学マスクを作製してからの工程数が多く、光学マスクを
作製してから光記録再生媒体を完成させるまでに数時間
程度の時間が必要であった。
To solve these problems, for example, there is a method of forming a guide groove using an optical mask, as disclosed in JP-A-62-183047. In order to reduce the number of steps, this method is a method in which the photoresist layer is exposed through an optical mask having a pattern corresponding to the guide groove, the exposed portion is removed by development, and then the recording layer is formed. By using this method, an optical recording / reproducing medium can be manufactured without using a stamper. However, this method involves many steps after the optical mask is manufactured, and it takes about several hours from the manufacturing of the optical mask to the completion of the optical recording / reproducing medium.

【0008】本発明の目的は、光記録再生媒体を作製す
るための工程数をさらに低減し、高速にしかも大量に光
記録再生媒体を作製する手段を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a means for further reducing the number of steps for producing an optical recording / reproducing medium and producing an optical recording / reproducing medium at a high speed and in a large amount.

【0009】本発明の他の目的は、上記手段を用い、廉
価な光記録再生媒体を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide an inexpensive optical recording / reproducing medium using the above means.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】(1) 上記目的は、基板
と前記基板上に設けられた情報記録層とからなる情報記
録基体と、前記情報記録層に情報を記録するための光源
との間に、記録すべき情報に応じて透過率が高い部分と
低い部分をもつ光学マスクを配置し、前記光源から照射
した光線を用いて前記情報記録基体に情報を記録するこ
とを特徴とした情報記録方法により達成される。
(1) The object is to provide an information recording substrate comprising a substrate and an information recording layer provided on the substrate, and a light source for recording information on the information recording layer. In between, an optical mask having a portion having a high transmittance and a portion having a low transmittance is arranged according to the information to be recorded, and information is recorded on the information recording substrate by using a light beam emitted from the light source. This is achieved by the recording method.

【0011】(2) また、上記目的は、基板と前記基板
上に設けられた情報記録層とからなる情報記録基体と、
前記情報記録層にレーザスポットを案内するための案内
マークを記録するための光源との間に、記録すべき案内
マークに応じて透過率が高い部分と低い部分をもつ光学
マスクを配置し、前記光源から照射した光を用いて前記
情報記録基体に前記案内マークを記録することを特徴と
した光記録再生媒体製造方法により達成される。
(2) Further, the above object is to provide an information recording substrate comprising a substrate and an information recording layer provided on the substrate,
Between the light source for recording a guide mark for guiding a laser spot on the information recording layer, an optical mask having a portion having a high transmittance and a portion having a low transmittance is arranged according to the guide mark to be recorded, This is achieved by an optical recording / reproducing medium manufacturing method characterized by recording the guide mark on the information recording substrate using light emitted from a light source.

【0012】(3) さらに、上記目的は、基板とBi,
Pb,Sb,Sn,Te,Seのうち少なくとも一種類
の元素を含有したマスク形成層とからなるマスク基体
に、記録する情報もしくは案内マークに応じたレーザ光
を照射し、前記マスク形成層に孔を形成した光学マスク
を使用することを特徴とした(1)(2)に記載の光記
録再生媒体製造方法を用いることにより達成される。
(3) Further, the above-mentioned object is
A mask substrate composed of a mask forming layer containing at least one element of Pb, Sb, Sn, Te, and Se is irradiated with laser light according to information to be recorded or a guide mark, and a hole is formed in the mask forming layer. It is achieved by using the optical recording / reproducing medium manufacturing method described in (1) or (2), which is characterized in that an optical mask having the above is used.

【0013】(4) さらに上記目的は上記(3)に記載
の光学マスクのマスク形成層の上にSiNx,SiO
x,ZnSxなどの誘電体層を設けた光学マスクを使用
することを特徴とした上記(1)(2)に記載の光記録
再生媒体製造方法を用いることにより達成される。
(4) Further, the above object is to provide SiNx, SiO on the mask forming layer of the optical mask described in the above (3).
This can be achieved by using the optical recording / reproducing medium manufacturing method described in (1) or (2) above, which uses an optical mask provided with a dielectric layer such as x, ZnSx.

【0014】(5) さらに上記目的は、高出力の閃光光
線を上記情報記録基体の情報を記録する部分に照射し、
前記情報を記録する部分の全体あるいは一部に、一括し
て前記情報もしくは前記案内マークを記録する前記光線
の照射方法を使用することを特徴とした上記(1)
(2)に記載の光記録再生媒体製造方法を用いることに
より達成される。
(5) Further, the above-mentioned object is to irradiate a portion of the above-mentioned information recording substrate for recording information with a high-power flash light beam,
(1) The method of irradiating the light beam for collectively recording the information or the guide mark on the whole or a part of the portion for recording the information is used.
This is achieved by using the optical recording / reproducing medium manufacturing method described in (2).

【0015】(6) さらに上記目的は、上記(1)から
(5)のうち少なくとも一種類の製造方法により製造さ
れたレーザ光を案内するための凹凸がない光記録再生媒
体を用いることによって達成される。
(6) Further, the above object is achieved by using an optical recording / reproducing medium having no unevenness for guiding a laser beam manufactured by at least one manufacturing method among the above (1) to (5). To be done.

【0016】[0016]

【作用】以下に本発明の原理、及び本発明を構成してい
る情報記録基体,光学マスク,光源に要求される基本的
な特性を示す。
The principle of the present invention and the basic characteristics required for the information recording substrate, the optical mask and the light source constituting the present invention will be shown below.

【0017】図3に示すように、情報記録基体は基板9
と情報記録層10からなっており、情報記録層10には
ある一定強度の光が照射されることにより、その光学的
な性質を変化させる物質が使用される。ここでいう光学
的性質とは、反射率、及び透過率、あるいはカー回転
角,カー楕円率,ファラデー回転角などを指している。
従って、記録層はシアニン系,ナフトキノン系,有機金
属錯体などの有機色素膜、また、スピロピラン,スピロ
チオピラン,チオインジゴ,テトラベンゾペンタセン化
合物などのフォトクロミズムを利用した有機膜,Ge−
Sb−Te系,In−Sb−Te系,Sb−Se−Bi
系,Sn−Te−Se系などのカルコゲナイド系相変化
膜、Sb−Se/Bi−Te系などの合金化膜、及び、
Tb−Fe−Co系,Gd−Tb−Fe−Co系,Gd
−Tb−Co系,Gd−Tb−Fe系,Nd−Tb−F
e−Co系などの希土類遷移金属系磁性膜,Pt−Co
系などの超格子磁性膜が良い。
As shown in FIG. 3, the information recording substrate is the substrate 9
The information recording layer 10 is made of a material that changes its optical properties when irradiated with a certain intensity of light. The optical properties mentioned here refer to reflectance and transmittance, or Kerr rotation angle, Kerr ellipticity, Faraday rotation angle, and the like.
Therefore, the recording layer is an organic dye film such as cyanine-based, naphthoquinone-based, or organometallic complex, or an organic film utilizing photochromism such as spiropyran, spirothiopyran, thioindigo, or tetrabenzopentacene compound, Ge-
Sb-Te system, In-Sb-Te system, Sb-Se-Bi
System, chalcogenide phase change film such as Sn-Te-Se system, alloyed film such as Sb-Se / Bi-Te system, and
Tb-Fe-Co system, Gd-Tb-Fe-Co system, Gd
-Tb-Co system, Gd-Tb-Fe system, Nd-Tb-F
e-Co-based rare earth transition metal-based magnetic film, Pt-Co
A superlattice magnetic film such as a system is preferable.

【0018】図4に示すように光学マスクは、基板11
と記録すべき情報あるいは案内マークに対応した透過率
の高い部分12とそれ以外の透過率の低い部分13から
なる。この光学マスクを作製するにはレーザ光を用いる
のが良い。例えば、プラスチック基板上にカルコゲナイ
ド系の薄膜を成膜したマスク基体に対してレーザ光を照
射し、薄膜に孔をあけ、この部分の透過率を高くするこ
とにより光学マスクを得る方法が良い。マスク形成層は
Pb−Te−Se系膜やTe−C系,Te−Se系,T
e−Ti−Ag−Se系,Te−Ox系,Te−Se−
Sb系,Te−Al系などのカルコゲナイド系の薄膜が
優れている。その他、Au−Pt系,Au−Pd系など
の高反射率金属膜を用いても良い。これらの物質は低融
点であるため、ガスレーザなどのような大型のレーザを
用いなくとも、半導体レーザなどの簡易なレーザによっ
て孔を形成できる。そのため製造コストを大幅に抑える
ことができる。
The optical mask, as shown in FIG.
And a portion 12 having a high transmittance and a portion 13 having a low transmittance corresponding to the information to be recorded or the guide mark. Laser light is preferably used to manufacture this optical mask. For example, a method of obtaining an optical mask by irradiating a mask substrate having a chalcogenide-based thin film formed on a plastic substrate with laser light to form holes in the thin film and increasing the transmittance of this portion is preferable. The mask forming layer is a Pb-Te-Se-based film, a Te-C-based film, a Te-Se-based film, or a T-based film.
e-Ti-Ag-Se system, Te-Ox system, Te-Se-
Chalcogenide type thin films such as Sb type and Te-Al type are excellent. In addition, a high-reflectance metal film such as Au-Pt type or Au-Pd type may be used. Since these substances have low melting points, the holes can be formed by a simple laser such as a semiconductor laser without using a large laser such as a gas laser. Therefore, the manufacturing cost can be significantly reduced.

【0019】この光源は、レーザ光などに較べて広範囲
を高出力のパワーで照射できる方が良い。例えばキセノ
ンフラッシュランプやハロゲンランプなどが良い。ここ
で注意する点は、情報記録基体の情報を記録すべき部分
全体に一定量の光線を照射することである。すなわち、
上述の部分で照射される光量にばらつきがあると、部分
的に記録すべき情報が記録されない可能性があるからで
ある。
This light source is preferably capable of irradiating a wide range with a high output power as compared with laser light or the like. For example, a xenon flash lamp or a halogen lamp is preferable. A point to be noted here is to irradiate a constant amount of light rays on the entire portion of the information recording substrate where information is to be recorded. That is,
This is because there is a possibility that the information to be partially recorded may not be recorded if there is a variation in the amount of light emitted in the above-mentioned portion.

【0020】従って、図5に示すように、光源には単一
のランプを用いるより複数のランプを用いた方が良い。
その結果、情報記録基体の情報を記録すべき部分全体に
均一に光線が照射されるため、より品質の高い情報記録
再生媒体を得ることができる。
Therefore, as shown in FIG. 5, it is better to use a plurality of lamps as the light source than to use a single lamp.
As a result, since the light beam is uniformly irradiated to the entire portion of the information recording substrate where the information is to be recorded, it is possible to obtain an information recording / reproducing medium of higher quality.

【0021】図1を用いて本発明の原理を説明する。情
報記録基体16と光学マスク17を所定の位置にセット
する。そして二つの基体の相対的な位置は固定したま
ま、光源18から二つの基体の全体あるいは一部に光線
19を照射する。すると光学マスク17の透過率の低い
部分13に到達した光線は光学マスク17によりその強
度が弱められ、ほとんど情報記録基体16には届かな
い。一方、光学マスク17の透過率の高い部分12に到
達した光線は光学マスク17によりその強度を弱められ
にくいので強度の高いまま情報記録基体16まで到達す
る。従って、情報記録基体16には光学マスク17の透
過率の高低に応じて、光源18からの光線が強く照射さ
れる部分と弱く照射される部分が生じる。情報記録基体
16にはある一定強度の光線が照射されることによりそ
の光学的な性質が変化する物質を情報記録層10として
設けてあるため、光学マスク17の透過率の高い部分1
2に対応した部分だけがその光学的な性質を変化させ
る。また、光学マスク17の透過率の高低は情報記録基
体16に記録すべき情報に対応しているので、情報記録
基体16には記録すべき情報が記録されることになる。
このように本発明によれば、光学マスクを作製した後、
数分程度で光記録再生媒体が得られる。
The principle of the present invention will be described with reference to FIG. The information recording substrate 16 and the optical mask 17 are set at predetermined positions. The light source 18 irradiates the whole or a part of the two bases with a light beam 19 while the relative positions of the two bases are fixed. Then, the intensity of the light beam reaching the low transmittance portion 13 of the optical mask 17 is weakened by the optical mask 17 and hardly reaches the information recording substrate 16. On the other hand, the light beam that has reached the high transmittance portion 12 of the optical mask 17 is not easily weakened by the optical mask 17, and therefore reaches the information recording substrate 16 with high intensity. Therefore, depending on the transmittance of the optical mask 17, the information recording substrate 16 has a portion where the light beam from the light source 18 is strongly irradiated and a portion where the light beam is weakly irradiated. Since the information recording layer 16 is provided with a substance whose optical properties are changed by being irradiated with a light beam having a certain intensity as the information recording layer 10, the portion 1 having a high transmittance of the optical mask 17 is formed.
Only the part corresponding to 2 changes its optical properties. Further, since the level of the transmittance of the optical mask 17 corresponds to the information to be recorded on the information recording substrate 16, the information to be recorded is recorded on the information recording substrate 16.
Thus, according to the present invention, after producing the optical mask,
An optical recording / reproducing medium can be obtained in about several minutes.

【0022】次に、本発明を実行するにあたり、情報記
録基体,光学マスク、そして光源の間に要求される相対
関係を示す。
Next, in carrying out the present invention, a relative relationship required between the information recording substrate, the optical mask and the light source will be shown.

【0023】光源から光線を照射する際、光学マスクで
光線が回折されその進路を曲げるため、情報記録基体と
光学マスクは、なるべく密着している方が良い。したが
って、光学マスクの基板はガラスのような固いものより
も、むしろプラスチックのようなある程度の柔軟性をも
っている物質を用いる方が望ましい。もちろん情報記録
基体の基板に柔軟性の高い物質を用いている場合は、光
学マスクの基板は固いものでも差し支えない。
When the light beam is emitted from the light source, the light beam is diffracted by the optical mask and the course of the light beam is bent. Therefore, it is preferable that the information recording substrate and the optical mask are in close contact with each other. Therefore, it is preferable to use a material having a certain degree of flexibility, such as plastic, for the substrate of the optical mask, rather than a hard material such as glass. Of course, when a highly flexible substance is used for the substrate of the information recording substrate, the substrate of the optical mask may be hard.

【0024】また光線を照射する際、光源と光学マスク
および情報記録基体との相対的な位置関係を変化させな
がら照射することにより、情報記録基体の情報を記録す
べき部分全体に均一に光線を照射できる。その結果より
品質の高い情報記録再生媒体を得ることができる。
When irradiating the light beam, the light beam is irradiated uniformly while changing the relative positional relationship between the light source and the optical mask and the information recording substrate, so that the light beam is evenly distributed over the entire portion of the information recording substrate where information is to be recorded. Can be irradiated. As a result, a higher quality information recording / reproducing medium can be obtained.

【0025】また、本発明に要求される最も重要な点
は、光源からの光線により光学マスクが破壊されないこ
とである。情報記録基体に情報を記録するにはある一定
強度の光線が必要である。一方、光学マスクを破壊しな
いためには、光線の強度を一定以下に抑える必要があ
る。従って、二つの関係を満足させるためにはある条件
が必要となる。この二つの関係を満足させるためには、
情報記録層と光学マスク形成層の相対的な記録感度を調
整すれば良い。この記録感度は情報記録層及び光学マス
ク形成層の膜厚、また、情報記録基体及び光学マスクの
反射率と透過率を調整すれば良い。
The most important point required for the present invention is that the light beam from the light source does not destroy the optical mask. In order to record information on the information recording substrate, a certain intensity of light beam is required. On the other hand, in order not to destroy the optical mask, it is necessary to suppress the intensity of light rays to a certain level or less. Therefore, certain conditions are necessary to satisfy the two relationships. To satisfy these two relationships,
The relative recording sensitivities of the information recording layer and the optical mask forming layer may be adjusted. This recording sensitivity may be adjusted by adjusting the film thickness of the information recording layer and the optical mask forming layer, and the reflectance and transmittance of the information recording substrate and the optical mask.

【0026】マスク形成層に孔をあける場合、その孔の
形状は情報記録層に記録される信号の品質に対応してい
るので、厳しい管理が必要である。特に、光源からの光
量が必要以上に大きく、かつ、そのような光線を複数回
照射すると、孔の形状が変形する。その原因を以下に示
す。図6に示すように、マスク形成層20には孔21の
周りに他の部分より膜厚が厚くなっている部分であるリ
ム22がある(a)。一方、情報記録基体16に情報を
記録する際、情報記録基体16とリム22が直接接触す
る(b)。このときリム22が融点付近まで加熱される
と、リム22が押しつぶされ孔21の形状を変形させる
(c)。
When forming a hole in the mask forming layer, the shape of the hole corresponds to the quality of the signal recorded in the information recording layer, so that strict control is required. In particular, the amount of light from the light source is larger than necessary, and when such light rays are irradiated a plurality of times, the shape of the hole is deformed. The cause is shown below. As shown in FIG. 6, the mask forming layer 20 has a rim 22 around the hole 21, which is a portion having a larger film thickness than other portions (a). On the other hand, when information is recorded on the information recording substrate 16, the information recording substrate 16 and the rim 22 are in direct contact with each other (b). At this time, when the rim 22 is heated to near the melting point, the rim 22 is crushed and the shape of the hole 21 is deformed (c).

【0027】従って、この変形を抑えるには図7のよう
にSiNx,SiOx,ZnSxなどの高融点高硬度の
誘電体膜を光学マスク保護膜23としてマスク形成層2
0上に成膜すると良い。
Therefore, in order to suppress this deformation, as shown in FIG. 7, the mask forming layer 2 is formed by using the dielectric film having a high melting point and high hardness such as SiNx, SiOx, ZnSx as the optical mask protective film 23.
It is recommended to form a film on 0.

【0028】[0028]

【実施例】【Example】

〈実施例1〉 (1)情報記録基体の作製 スパッタ装置内に、直径3.5インチの厚さ1.2mmのポ
リカーボネート製のディスク状基板をターゲットから1
0cmの距離にセットして回転させた。次にアルゴンガス
中で第一のターゲットより、スパッタガス圧10mTorr
でSb−Se合金をスパッタし、Sb2Se3層を40n
mの厚さに成膜した。次に、アルゴン中で第二のターゲ
ットよりスパッタガス圧5mTorrでBi−Te合金をス
パッタし膜厚40nmのBi2Te3層を成膜した。
Example 1 (1) Preparation of Information Recording Substrate A disk-shaped substrate made of polycarbonate having a diameter of 3.5 inches and a thickness of 1.2 mm is placed in a sputtering apparatus from a target.
It was set at a distance of 0 cm and rotated. Next, the sputtering gas pressure is 10 mTorr from the first target in argon gas.
In sputtered Sb-Se alloy, 40n the Sb 2 Se 3 layer
The film was formed to a thickness of m. Next, a Bi—Te alloy was sputtered from a second target in argon at a sputtering gas pressure of 5 mTorr to form a Bi 2 Te 3 layer having a film thickness of 40 nm.

【0029】(2)光学マスクの作製 スパッタ装置内に、直径3.5インチの1.6μmピッチ
案内溝付きのガラス製のディスク状基板をターゲットか
ら10cmの距離にセットし回転させた。そして、Pb−
Te−Se合金をスパッタし膜厚60nmで組成がPb
5Te80Se15のカルコゲナイド系薄膜を光学マスク形
成層として設けた。融点は約430℃であった。次に、
この光学マスク基体を光ディスク用の記録装置に装着
し、ディスク線速度8m/s,レーザパワー12mW,
記録周波数4MHzという条件のもとで、記録信号に対
応した孔を光学形成層に形成した。記録された孔の品質
を調べるためにCN比を測定したところ、55dBであ
った。
(2) Fabrication of optical mask A glass disk-shaped substrate with a diameter of 3.5 inches and a 1.6 μm pitch guide groove was set in the sputtering apparatus at a distance of 10 cm from the target and rotated. And Pb-
Te-Se alloy is sputtered and the film thickness is 60 nm and the composition is Pb.
A chalcogenide thin film of 5 Te 80 Se 15 was provided as an optical mask forming layer. The melting point was about 430 ° C. next,
This optical mask substrate is mounted on a recording device for an optical disc, the disc linear velocity is 8 m / s, the laser power is 12 mW,
Under the condition that the recording frequency was 4 MHz, holes corresponding to recording signals were formed in the optical forming layer. The CN ratio was measured to examine the quality of the recorded holes and was found to be 55 dB.

【0030】(3)情報記録基体への記録 先に作製しておいた情報記録基体の情報記録層を成膜し
た面と、光学マスクのマスク形成層を成膜した面とを密
着させた。そして、情報記録基体、光学マスクを、これ
らを固定する治具とキセノンランプとを備えた光線照射
装置にセットした。このときキセノンランプは直径10
mm,長さ300mmの棒状としておき、150mmおきに三
本備え付けた。そして、光学マスクとキセノンランプと
の距離を150mmとし、キセノンランプから閃光を照射
した。キセノンランプの照射光線エネルギW(J)は、ラ
ンプ発光効率η,キセノンランプに接続されるメインコ
ンデンサの容量C(F)と充電電圧V(V)によりW=(1
/2)ηCV2 で与えられる。ランプの発光効率ηはラ
ンプにより異なるため本実施例ではランプの入力エネル
ギ(1/2)CV2 を目安とした。本実施例によれば入力
エネルギを2000Jとすることにより直径3.5 イン
チの情報記録基体全体に一括して情報を記録することが
できた。このときの充電電圧は約800Vであった。こ
のようにして百枚の情報記録基体に上記信号を、順次、
記録した。
(3) Recording on Information Recording Substrate The surface of the previously prepared information recording substrate on which the information recording layer was formed was brought into close contact with the surface of the optical mask on which the mask forming layer was formed. Then, the information recording substrate and the optical mask were set in a light irradiation device equipped with a jig for fixing these and a xenon lamp. At this time, the xenon lamp has a diameter of 10
It was made into a rod shape with a length of 300 mm and a length of 300 mm, and three pieces were provided at intervals of 150 mm. The distance between the optical mask and the xenon lamp was set to 150 mm, and flash light was emitted from the xenon lamp. The irradiation light energy W (J) of the xenon lamp is W = (1) depending on the lamp luminous efficiency η, the capacity C (F) of the main capacitor connected to the xenon lamp and the charging voltage V (V).
/ 2) given by ηCV 2 . Since the luminous efficiency η of the lamp differs depending on the lamp, the input energy (1/2) CV 2 of the lamp is used as a guide in this embodiment. According to the present embodiment, by setting the input energy to 2000 J, it was possible to record information collectively on the entire information recording substrate having a diameter of 3.5 inches. The charging voltage at this time was about 800V. In this way, the above signals are sequentially applied to 100 information recording substrates.
Recorded.

【0031】次に、情報記録基体を光ディスク用の評価
装置に装着した。この情報記録基体に用いた厚さ1.2m
m のポリカーボネート製のディスク状基板にはレーザス
ポットを案内するための案内溝がないにもかかわらず、
レーザスポットのトラッキングサーボは良好に作動し
た。これは、記録されたピット自身が案内溝と同様の役
割を果たしているからである。従って、本発明によれば
トラッキングサーボ用の案内溝などの凹凸が必要なく、
よりコストを低減できることが明らかになった。さら
に、記録された信号の品質を調べるためCN比を測定し
た。結果を図8に示す。一枚目に記録された情報記録基
体では53dBであったが、その後CN比は徐々に低減
し百枚目では48dBであった。
Next, the information recording substrate was mounted on an evaluation device for optical disks. 1.2m thickness used for this information recording substrate
Although there is no guide groove for guiding the laser spot on the m-shaped polycarbonate disc-shaped substrate,
The tracking servo of the laser spot worked well. This is because the recorded pit itself plays the same role as the guide groove. Therefore, according to the present invention, there is no need for irregularities such as guide grooves for tracking servo,
It has become clear that the cost can be further reduced. In addition, the CN ratio was measured in order to check the quality of the recorded signal. The results are shown in Fig. 8. The information recording substrate recorded on the first sheet had a level of 53 dB, but after that, the CN ratio gradually decreased to 48 dB on the 100th sheet.

【0032】〈実施例2〉 (1)情報記録基体の作製 実施例1と同じ情報記録基体を作製した。Example 2 (1) Production of Information Recording Substrate The same information recording substrate as in Example 1 was produced.

【0033】(2)光学マスクの作製 実施例1で作製した光学マスクと同じものを作製した
後、さらに、孔の形状を安定に保つためにスパッタ法で
Si34を膜厚100nm積層し、光学マスク保護層と
した。
(2) Fabrication of optical mask After fabricating the same optical mask as the one fabricated in Example 1, Si 3 N 4 having a film thickness of 100 nm was further laminated by a sputtering method in order to keep the shape of the hole stable. , As an optical mask protective layer.

【0034】(3)情報記録基体への記録 保護層付き光学マスクも用い、実施例1と同じ条件で百
枚の情報記録基体に上記信号を記録した。
(3) Recording on Information Recording Substrate Using the optical mask with a protective layer, the above signals were recorded on 100 information recording substrates under the same conditions as in Example 1.

【0035】次に、記録された信号の品質を調べるため
CN比を測定した。図8に示すように、一枚目に記録さ
れた情報記録基体では実施例1と同じ53dBであった
が、百枚目のCN比は最初とまったく変わりなかった。
Next, the CN ratio was measured in order to examine the quality of the recorded signal. As shown in FIG. 8, the information recording substrate recorded on the first sheet had the same 53 dB as in Example 1, but the CN ratio of the 100th sheet was not different from that at the beginning.

【0036】〈実施例3〉 (1)情報記録基体の作製 スパッタ装置内に、直径3.5インチの厚さ1.2mmのポ
リカーボネート製のディスク状基板をターゲットから1
0cmの距離にセットし回転させた。アルゴンガス中で第
一のターゲットより、スパッタガス圧10mTorrで保護
層兼光学干渉層としてZnS−SiO2 誘電体層を厚さ
125nm成膜した。次に、情報記録層としてアルゴン
中で第二のターゲットよりスパッタガス圧5mTorrでG
e−Sb−Te合金をスパッタし、膜厚30nmで組成
がGe22Sb22Te56のカルコゲナイド系相変化膜を成
膜した。さらに、アルゴンガス中で第一のターゲットよ
り、スパッタガス圧10mTorrで保護層としてZnS−
SiO2誘電体層を厚さ20nm成膜した。
Example 3 (1) Preparation of Information Recording Substrate A disk-shaped substrate made of polycarbonate having a diameter of 3.5 inches and a thickness of 1.2 mm was placed in a sputtering apparatus from a target.
It was set at a distance of 0 cm and rotated. A ZnS—SiO 2 dielectric layer having a thickness of 125 nm was formed as a protective layer and an optical interference layer from a first target in argon gas at a sputtering gas pressure of 10 mTorr. Next, as an information recording layer, G was sputtered at a sputtering gas pressure of 5 mTorr from a second target in argon.
sputtered e-Sb-Te alloy, the composition in the film thickness 30nm was deposited chalcogenide phase change layer of Ge 22 Sb 22 Te 56. Furthermore, in the argon gas, a ZnS- layer was formed as a protective layer at a sputtering gas pressure of 10 mTorr from the first target.
A SiO 2 dielectric layer was formed to a thickness of 20 nm.

【0037】(2)光学マスクの作製 実施例1と同様の光学マスク基体を光ディスク用の記録
装置に装着し、ディスク線速度8m/s、レーザパワー
12mW、記録周波数4MHzという条件のもとで、光
学マスク形成層にトラッキングサーボ用のピット、及
び、アドレス信号に対応した孔を形成した。さらに、孔
の形状を安定に保つためにスパッタ法でZnS−SiO
2 誘電体層を厚さ125nm成膜した。
(2) Fabrication of optical mask The same optical mask substrate as in Example 1 was mounted on an optical disk recording apparatus, and the disk linear velocity was 8 m / s, the laser power was 12 mW, and the recording frequency was 4 MHz. Pits for tracking servo and holes corresponding to address signals were formed in the optical mask formation layer. Furthermore, in order to keep the shape of the holes stable, ZnS-SiO 2 is formed by the sputtering method.
2 A dielectric layer having a thickness of 125 nm was formed.

【0038】(3)情報記録基体への記録 先に作製しておいた情報記録基体の情報記録層を成膜し
た面と、光学マスクの光学マスク形成層を成膜した面と
を密着させた。そして、実施例1と同じ光線照射装置に
セットした。そして、光学マスクとキセノンランプとの
距離を150mmとし、キセノンランプから閃光を照射し
た。入力エネルギを1500Jとすることにより直径
3.5 インチの情報記録基体全体に一括して情報を記録
することができた。入力エネルギを1000Jとした場
合には、キセノンランプを一回照射しただけでは、直径
3.5 インチの情報記録基体全体に情報を十分記録する
ことはできなかった。しかし、基体を回転させながらこ
の照射を数回繰り返すことにより完全に記録することが
できた。
(3) Recording on Information Recording Substrate The surface of the information recording substrate prepared earlier on which the information recording layer was formed was brought into close contact with the surface of the optical mask on which the optical mask forming layer was formed. .. Then, it was set in the same light irradiation device as in Example 1. The distance between the optical mask and the xenon lamp was set to 150 mm, and flash light was emitted from the xenon lamp. By setting the input energy to 1500 J, it was possible to collectively record information on the entire 3.5-inch diameter information recording substrate. When the input energy was 1000 J, it was not possible to sufficiently record information on the entire information recording substrate having a diameter of 3.5 inches by irradiating the xenon lamp once. However, complete recording was possible by repeating this irradiation several times while rotating the substrate.

【0039】〈実施例4〉 (1)情報記録基体の作製 スパッタ装置内に、直径3.5インチの厚さ1.2mmのポ
リカーボネート製のディスク状基板をターゲットから1
0cmの距離にセットして回転させた。窒素濃度10%の
アルゴン窒素混合ガス中で第一のターゲットより、スパ
ッタガス圧10mTorrでSiを反応性スパッタし保護層
兼光学干渉層としてSi34を85nmの厚さに成膜し
た。次に情報記録層としてアルゴン中で第二のターゲッ
トよりスパッタガス圧5mTorrでTb−Fe−Co合金
をスパッタし膜厚30nm、キュリー温度約200℃,
保磁力10kOeで組成がTb24Fe67Co9 の磁性層
を成膜した。さらに、窒素濃度10%のアルゴン窒素混
合ガス中で第一のターゲットより、スパッタガス圧10
mTorrでSiを反応性スパッタし、保護層としてSi3
4を20nm積層した。
Example 4 (1) Preparation of Information Recording Substrate A disk-shaped substrate made of polycarbonate having a diameter of 3.5 inches and a thickness of 1.2 mm is placed in a sputtering apparatus from a target.
It was set at a distance of 0 cm and rotated. Si was reactively sputtered at a sputtering gas pressure of 10 mTorr from a first target in a mixed gas of argon and nitrogen having a nitrogen concentration of 10% to form Si 3 N 4 as a protective layer and an optical interference layer in a thickness of 85 nm. Next, as an information recording layer, a Tb-Fe-Co alloy was sputtered with a sputtering gas pressure of 5 mTorr from argon as a second target in argon to form a film having a thickness of 30 nm and a Curie temperature of about 200 ° C.
A magnetic layer having a composition of Tb 24 Fe 67 Co 9 was formed with a coercive force of 10 kOe. Further, in the argon-nitrogen mixed gas having a nitrogen concentration of 10%, the sputtering gas pressure was 10
Reactively sputter Si with mTorr and use Si 3 as a protective layer.
20 nm of N 4 was laminated.

【0040】(2)光学マスクの作製 実施例1で用いた光学マスクを用いた。(2) Fabrication of optical mask The optical mask used in Example 1 was used.

【0041】(3)情報記録基体への記録 先に作製しておいた情報記録基体の情報記録層を成膜し
た面と、光学マスクの光学マスク形成層を成膜した面と
を密着させた。そして、実施例1と同じ光線照射装置に
セットした。そして、光学マスクとキセノンランプとの
距離を150mmとし、キセノンランプから閃光を照射し
た。入力エネルギを1000Jとすることにより直径
3.5 インチの情報記録基体全体に一括して情報を記録
することができた。ただし、このとき記録磁界として磁
界1kOeの板状磁石を情報記録基体の基板側にセット
しておいた。
(3) Recording on Information Recording Substrate The surface of the previously prepared information recording substrate on which the information recording layer was formed was brought into close contact with the surface of the optical mask on which the optical mask forming layer was formed. .. Then, it was set in the same light irradiation device as in Example 1. The distance between the optical mask and the xenon lamp was set to 150 mm, and flash light was emitted from the xenon lamp. By setting the input energy to 1000 J, it was possible to collectively record information on the entire information recording substrate having a diameter of 3.5 inches. However, at this time, a plate-shaped magnet having a magnetic field of 1 kOe as a recording magnetic field was set on the substrate side of the information recording substrate.

【0042】情報記録基体に記録された信号の品質を調
べるためCN比を測定したところ51dBであった。
When the CN ratio was measured in order to check the quality of the signal recorded on the information recording substrate, it was 51 dB.

【0043】[0043]

【発明の効果】本発明によれば光記録再生媒体を作製す
るための工程数を大幅に低減することができる。従っ
て、高速にしかも大量に廉価な光記録再生媒体を作製す
ることができる。
According to the present invention, the number of steps for manufacturing an optical recording / reproducing medium can be significantly reduced. Therefore, an inexpensive optical recording / reproducing medium can be manufactured at high speed and in large quantities.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例の原理図。FIG. 1 is a principle diagram of an embodiment of the present invention.

【図2】従来の光記録再生媒体の作製工程図。FIG. 2 is a process drawing of a conventional optical recording / reproducing medium.

【図3】情報記録基体の断面図。FIG. 3 is a sectional view of an information recording substrate.

【図4】光学マスクの断面図。FIG. 4 is a sectional view of an optical mask.

【図5】光源の説明図。FIG. 5 is an explanatory diagram of a light source.

【図6】光学マスクの劣化原因の説明図。FIG. 6 is an explanatory diagram of a cause of deterioration of an optical mask.

【図7】光学マスクの改良の説明図。FIG. 7 is an explanatory view of the improvement of the optical mask.

【図8】光学マスクの改良による複数回使用後の効果の
説明図。
FIG. 8 is an explanatory diagram of an effect after multiple uses by improving the optical mask.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…情報記録層、12…透過率の高い部分、13…透
過率の低い部分、16…情報記録基体、17…光学マス
ク、18…光源、19…光線。
Reference numeral 10 ... Information recording layer, 12 ... High transmittance portion, 13 ... Low transmittance portion, 16 ... Information recording substrate, 17 ... Optical mask, 18 ... Light source, 19 ... Ray.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 寺尾 元康 東京都国分寺市東恋ケ窪1丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 ─────────────────────────────────────────────────── --- Continuation of the front page (72) Inventor Motoyasu Terao 1-280 Higashi-Kengikubo, Kokubunji-shi, Tokyo Inside Central Research Laboratory, Hitachi, Ltd.

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】基板と、前記基板上に設けられた情報記録
層とからなる情報記録基体と、前記情報記録層に情報を
記録するための光源との間に、記録すべき情報に応じて
透過率が高い部分と低い部分をもつ光学マスクを配置
し、前記光源から照射した光線を用いて前記情報記録基
体に情報を記録することを特徴とする光記録再生媒体の
製造方法。
1. An information recording substrate comprising a substrate, an information recording layer provided on the substrate, and a light source for recording information on the information recording layer according to the information to be recorded. A method of manufacturing an optical recording / reproducing medium, characterized in that an optical mask having a portion having a high transmittance and a portion having a low transmittance is arranged, and information is recorded on the information recording substrate using a light beam emitted from the light source.
【請求項2】基板と、前記基板上に設けられた情報記録
層とからなる情報記録基体と、前記情報記録層にレーザ
スポットを案内するための案内マークを記録するための
光源との間に、記録すべき前記案内マークに応じて透過
率が高い部分と低い部分をもつ光学マスクを配置し、前
記光源から照射した光線を用いて前記情報記録基体に前
記案内マークを記録することを特徴とする光記録再生媒
体の製造方法。
2. An information recording substrate comprising a substrate, an information recording layer provided on the substrate, and a light source for recording a guide mark for guiding a laser spot on the information recording layer. An optical mask having a portion having a high transmittance and a portion having a low transmittance is arranged according to the guide mark to be recorded, and the guide mark is recorded on the information recording substrate using a light beam emitted from the light source. Optical recording / reproducing medium manufacturing method.
【請求項3】請求項1または2において、基板とBi,
Pb,Sb,Sn,Te,Seのうち一種類以上の元素
を含有したマスク形成層からなるマスク基体に、記録す
る情報もしくは前記案内マークに応じたレーザ光を照射
し、前記マスク形成層に孔を形成した光学マスクを使用
する光記録再生媒体の製造方法。
3. The substrate and Bi, according to claim 1 or 2,
A mask substrate made of a mask forming layer containing at least one element of Pb, Sb, Sn, Te, and Se is irradiated with laser light according to the information to be recorded or the guide mark, and a hole is formed in the mask forming layer. A method of manufacturing an optical recording / reproducing medium using an optical mask on which is formed.
【請求項4】請求項3において、孔を形成した前記マス
ク形成層の表面にSiNx,SiOxまたはZnSxから
なる誘電体層を設けた光学マスクを使用する光記録再生
媒体の製造方法。
4. The method of manufacturing an optical recording / reproducing medium according to claim 3, wherein an optical mask is used in which a dielectric layer made of SiNx, SiOx or ZnSx is provided on the surface of the mask forming layer having holes.
【請求項5】請求項1または2において、高出力の閃光
光線を前記情報記録基体の情報を記録する部分全体に照
射し、前記情報を記録する部分の全体あるいは一部に、
一括して前記情報もしくは前記案内マークを記録する光
線照射方法を用いる光記録再生媒体製造方法。
5. The information output substrate according to claim 1 or 2, wherein a high-output flash light beam is applied to the entire portion of the information recording substrate where information is recorded, and all or a portion of the portion where the information is recorded,
An optical recording / reproducing medium manufacturing method using a light beam irradiation method for collectively recording the information or the guide mark.
【請求項6】請求項1,2,3,4または5において、
発生した前記レーザ光を案内するための凹凸がない光記
録再生媒体。
6. The method according to claim 1, 2, 3, 4 or 5.
An optical recording / reproducing medium having no unevenness for guiding the generated laser light.
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