JPH0566365A - Switching mechanism for laser beam - Google Patents

Switching mechanism for laser beam

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Publication number
JPH0566365A
JPH0566365A JP3224533A JP22453391A JPH0566365A JP H0566365 A JPH0566365 A JP H0566365A JP 3224533 A JP3224533 A JP 3224533A JP 22453391 A JP22453391 A JP 22453391A JP H0566365 A JPH0566365 A JP H0566365A
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JP
Japan
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laser beam
laser
wave plate
polarizing element
optical path
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JP3224533A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshio Araki
義雄 荒木
Hideo Kinoshita
英夫 木下
Shigehiko Mukai
成彦 向井
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Abstract

PURPOSE:To shorten the switching time and automate the switching by eliminating the need for adjusting operation accompanying the switching of the optical path of a laser beam. CONSTITUTION:A half-wavelength plate 1 is disposed halfway in the laser beam 8 emitted by a laser device 5. This half-wavelength plate 1 is driven by a half- wavelength plate driving mechanism 2 and put in and off the optical path of the laser beam 8. A laser beam 9 transmitted through the half-wavelength plate 1 is transmitted through a polarizing element 3 aligned with the laser device 5 and reaches a 1st laser application device 6. A total reflecting mirror 4 is installed nearby the polarizing element 3.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はレーザーシステムまたは
レーザー応用装置などに使用されるレーザービームの切
換機構に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a laser beam switching mechanism used in a laser system or a laser application device.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、レーザー発生装置(以下、レーザ
ー装置と記す)から出射するレーザービームの光路を切
換えて複数のレーザー応用装置へ導き供給する場合、図
6および図7の第1の従来例で示したようにレーザー装
置5からのレーザービーム8を二箇所の供給元である第
1のレーザー応用装置6と第2のレーザー応用装置7へ
切換えて供給する。例えば、図6に示したように第1の
レーザー応用装置6へレーザービーム10を供給する場
合、レーザー装置5から出射したレーザービーム8をそ
のまま通過させ、入射用レーザービーム10として第1の
レーザー応用装置6へ供給する。なお、図中符号4は全
反射ミラーで、第2のレーザー応用装置7に対向して配
置されている。第2のレーザー応用装置7へ切換える場
合には図7に示したようにレーザービーム8の光路の途
中に他の全反射ミラー33を配置し、レーザー装置5から
出射したレーザービーム8を他の全反射ミラー33に反射
させることによって全反射ミラー4へ導くレーザービー
ム11とし、このレーザービーム11を全反射ミラー4で反
射させて入射用レーザービーム12として導き、第2のレ
ーザー応用装置7へ供給する。
2. Description of the Related Art Conventionally, when switching the optical paths of a laser beam emitted from a laser generator (hereinafter referred to as a laser device) and guiding and supplying the same to a plurality of laser application devices, the first conventional example shown in FIGS. As shown in, the laser beam 8 from the laser device 5 is switched and supplied to the first laser application device 6 and the second laser application device 7 which are the two supply sources. For example, when the laser beam 10 is supplied to the first laser application device 6 as shown in FIG. 6, the laser beam 8 emitted from the laser device 5 is allowed to pass through as it is, and the laser beam 10 for incidence is used as the first laser application device 10. Supply to the device 6. In the figure, reference numeral 4 is a total reflection mirror, which is arranged so as to face the second laser application device 7. When switching to the second laser application device 7, another total reflection mirror 33 is arranged in the optical path of the laser beam 8 as shown in FIG. 7, and the laser beam 8 emitted from the laser device 5 is changed to the other total reflection mirror 33. A laser beam 11 which is guided to the total reflection mirror 4 by being reflected by the reflection mirror 33 is reflected by the total reflection mirror 4 and guided as an incident laser beam 12, which is supplied to the second laser application device 7. ..

【0003】また、レーザービームを使用するレーザー
応用装置において長時間の連続安定運転を要する場合に
は、単一のレーザー装置では安定運転が確保できないた
め、複数台のレーザー装置を配置してレーザー装置の故
障や保守の際にレーザー装置を切換えて運転することが
必要になる。
When a laser application apparatus using a laser beam requires continuous stable operation for a long time, a single laser apparatus cannot secure stable operation. Therefore, a plurality of laser apparatuses are arranged and the laser apparatus is arranged. It is necessary to switch the laser device to operate in case of failure or maintenance.

【0004】図8および図9はこのような応用でのレー
ザービームを切換える第2の従来例を示したものであ
る。図8では第1のレーザー装置13を運転中には第2の
レーザー装置14を停止または待機させておき、第1のレ
ーザー装置13から出射したレーザービーム8をそのまま
通過しレーザービーム10として、レーザー応用装置34へ
供給する。なお、図中第2のレーザー装置14の光路に全
反射ミラー4が設置されている。第2のレーザー装置14
に切換える場合、図9に示したように第1のレーザー装
置13を停止して第2のレーザー装置14を運転し、その出
射したレーザービーム8を全反射ミラー4に導き、直角
に反射させてレーザービーム35とし、光路途中に設置し
た他の全反射ミラー33により方向変更して入射用レーザ
ービーム10とし、レーザー応用装置34へ供給する。
FIGS. 8 and 9 show a second conventional example for switching laser beams in such an application. In FIG. 8, the second laser device 14 is stopped or put on standby while the first laser device 13 is in operation, and the laser beam 8 emitted from the first laser device 13 passes through as it is as a laser beam 10, Supply to the application device 34. A total reflection mirror 4 is installed in the optical path of the second laser device 14 in the figure. Second laser device 14
In the case of switching to, the first laser device 13 is stopped and the second laser device 14 is operated as shown in FIG. 9, and the emitted laser beam 8 is guided to the total reflection mirror 4 and reflected at a right angle. The laser beam 35 is changed in direction by another total reflection mirror 33 installed in the middle of the optical path to be an incident laser beam 10 which is supplied to a laser application device 34.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】第1の従来例は光学系
が単純であるという利点はあるが、他の全反射ミラー33
の光学系の設定位置,方向等の変更を伴うため、変更に
時間を要する上に、レーザービームの光路は光学系の位
置,角度のずれに対して敏感である。従って、レーザー
ビームの光路を高い精度で調整するには光学系の設置位
置,配置角度等を高い精度で調整することが必要になる
ため、多大な調整の手間と時間を要する課題がある。
The first conventional example has an advantage that the optical system is simple, but another total reflection mirror 33.
Since the setting position and the direction of the optical system are changed, the change takes time, and the optical path of the laser beam is sensitive to the position and angle deviation of the optical system. Therefore, in order to adjust the optical path of the laser beam with high accuracy, it is necessary to adjust the installation position, the arrangement angle, etc. of the optical system with high accuracy, and there is a problem that a great deal of effort and time are required for the adjustment.

【0006】第2の従来例は図6および図7に示した第
1の従来例と同様に切換時にミラー等の光学系の設置位
置,方向の変更が必要であり、レーザービームの光路の
微調整を含め多大な時間と手間を要し、大きな運転損失
を生じる課題がある。
In the second conventional example, as in the first conventional example shown in FIGS. 6 and 7, it is necessary to change the installation position and direction of the optical system such as a mirror when switching, and the optical path of the laser beam is slightly changed. There is a problem that it takes a lot of time and labor including adjustment and causes a large operation loss.

【0007】本発明は上記課題を解決するためになされ
たもので、レーザーシステムおよびその応用装置におけ
る光学系レーザービームの切換機構において、レーザー
ビームの入射方向および出射方向の切換時間の短縮およ
び無調整化を図ることができるレーザービームの切換機
構を提供することにある。
The present invention has been made to solve the above problems, and in an optical system laser beam switching mechanism in a laser system and its application device, shortens the switching time between the laser beam incident direction and the laser beam emitting direction and makes no adjustment. It is an object of the present invention to provide a laser beam switching mechanism that can achieve high efficiency.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明はレーザー装置
と、このレーザー装置のレーザービーム出射側に配設さ
れた偏光レーザービームの偏光方向を略90°回転させる
半波長板と、この半波長板を透過したレーザービームを
入射する偏光素子と、この偏光素子で偏光されたレーザ
ービームを入射するレーザー応用装置と、前記偏光素子
の近傍に設けられた全反射ミラーとを具備したことを特
徴とする。
The present invention is directed to a laser device, a half-wave plate disposed on the laser beam emitting side of the laser device for rotating the polarization direction of a polarized laser beam by approximately 90 °, and the half-wave plate. And a laser application device for injecting a laser beam polarized by the polarizing element, and a total reflection mirror provided in the vicinity of the polarizing element. ..

【0009】[0009]

【作用】半波長板駆動機構により半波長板を移動させ、
直線変更レーザービームの光路途中に半波長板を挿入し
た状態にするとレーザービームの偏光角度が90°回転す
る。このレーザービームの偏光角の変更により偏光素子
に伴うレーザービームの入射方向または出射方向、すな
わちレーザービームの光路が変わることになる。このレ
ーザービームの切換機構によるレーザービームの光路変
更において特徴的なことは、位置,角度移動を伴う光学
素子は半波長板のみで済む点であり、その特性上、半波
長板の位置,角度のずれに対する出射レーザービームの
光路および偏光角への影響は微少のため、半波長板の位
置角度のずれの許容範囲が十分広く確保できる。従っ
て、既存のソレノイドやステッピングモータ等を用いた
簡易な機構の半波長板駆動機構を用いて半波長板の状態
を変更し、調整機構なしにレーザービームの入射方向ま
たは出射方向を高い精度を維持したまま切換えることが
できる。
[Operation] The half-wave plate is moved by the half-wave plate drive mechanism,
Straight line change When a half-wave plate is inserted in the optical path of the laser beam, the polarization angle of the laser beam rotates by 90 °. By changing the polarization angle of the laser beam, the incident direction or the emission direction of the laser beam, that is, the optical path of the laser beam accompanying the polarizing element is changed. A characteristic of changing the optical path of the laser beam by the switching mechanism of the laser beam is that only the half-wave plate is required for the optical element that moves the position and the angle. Since the influence of the deviation on the optical path and the polarization angle of the emitted laser beam is slight, the allowable range of deviation of the position angle of the half-wave plate can be sufficiently wide. Therefore, the state of the half-wave plate is changed by using the half-wave plate drive mechanism, which is a simple mechanism that uses existing solenoids and stepping motors, and the laser beam incident direction or emission direction is maintained with high accuracy without the adjustment mechanism. You can switch while you are doing.

【0010】[0010]

【実施例】図1および図2を参照しながら本発明のレー
ザービームの切換機構の第1の実施例を説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A first embodiment of the laser beam switching mechanism of the present invention will be described with reference to FIGS.

【0011】本実施例は1台のレーザー装置5からのレ
ーザービーム8を切換えて第1および第2のレーザー応
用装置6,7へ供給する場合への適用例を示したもの
で、図1は第1のレーザー応用装置6へ入射用レーザー
ビーム10を供給している状態を示しており、図2は第2
のレーザー応用装置7へ入射用レーザービーム12を供給
している状態を示している。
This embodiment shows an application example in which the laser beam 8 from one laser device 5 is switched and supplied to the first and second laser application devices 6 and 7. FIG. FIG. 2 shows a state in which an incident laser beam 10 is being supplied to the first laser application device 6, and FIG.
It shows a state in which an incident laser beam 12 is being supplied to the laser application device 7 of FIG.

【0012】図1において、図中符号5は直線偏光レー
ザービームを発生させるレーザー装置である。符号8は
レーザー装置5から出射されるレーザービームであり、
符号1は半波長板であり、符号2はその半波長板1をレ
ーザービーム8の光路途中に挿入または非挿入の状態に
移動させる半波長板駆動機構であり、符号9は半波長板
1を通過または通過させない状態のレーザービームであ
る。図1では半波長板駆動機構2により半波長板1は光
路中に非挿入の状態であり、レーザービーム9の偏光角
度はレーザービーム8と同じである。符号3は入射レー
ザービームの偏光方向によりレーザービームの出射方向
が変わる性質を持った偏光プリズム等の偏光素子であ
り、本実施例では半波長板1が非挿入のとき、入射レー
ザービームはそのまま透過するように配置している。従
って、図1ではレーザー装置5から出射したレーザービ
ーム8は偏光素子3を透過してレーザービーム10となっ
て進み、第1のレーザー応用装置6へ供給されることに
なる。偏光素子3の直下には全反射ミラー4が配置され
ている。
In FIG. 1, reference numeral 5 is a laser device for generating a linearly polarized laser beam. Reference numeral 8 is a laser beam emitted from the laser device 5,
Reference numeral 1 is a half-wave plate, reference numeral 2 is a half-wave plate driving mechanism for moving the half-wave plate 1 to a state of being inserted or not inserted in the optical path of the laser beam 8, and reference numeral 9 is a half-wave plate. It is a laser beam that passes or does not pass. In FIG. 1, the half-wave plate 1 is not inserted in the optical path by the half-wave plate driving mechanism 2, and the polarization angle of the laser beam 9 is the same as that of the laser beam 8. Reference numeral 3 is a polarizing element such as a polarizing prism having a property that the emission direction of the laser beam changes depending on the polarization direction of the incident laser beam. In this embodiment, when the half-wave plate 1 is not inserted, the incident laser beam is transmitted as it is. It is arranged to. Therefore, in FIG. 1, the laser beam 8 emitted from the laser device 5 is transmitted through the polarization element 3 and travels as the laser beam 10 to be supplied to the first laser application device 6. A total reflection mirror 4 is arranged immediately below the polarizing element 3.

【0013】図2においては、半波長板駆動機構2の働
きにより半波長板1はレーザービーム8の光路途中に挿
入の状態に移動されており、レーザービーム9の偏光角
度はレーザービーム8のそれに比べ略90°回転した状態
にある。従って、図2では偏光素子3の性質のため偏光
素子3を出射するレーザービームの方向は変化し、レー
ザービーム11が出射レーザービームとなる。レーザービ
ーム11は全反射ミラー4により反射されて入射用レーザ
ービーム12となり、第2のレーザー応用装置7へ供給さ
れる。なお、本実施例において半波長板駆動機構2はソ
レノイドやステッピングモータ等の簡易な駆動機構にて
構成可能である。次に、図3から図5を参照しながら本
発明の第2の実施例を説明する。
In FIG. 2, the half-wave plate 1 is moved by the action of the half-wave plate driving mechanism 2 into a state of being inserted in the optical path of the laser beam 8, and the polarization angle of the laser beam 9 is that of the laser beam 8. Compared to that, it is rotated by about 90 °. Therefore, in FIG. 2, the direction of the laser beam emitted from the polarizing element 3 changes due to the nature of the polarizing element 3, and the laser beam 11 becomes the emitted laser beam. The laser beam 11 is reflected by the total reflection mirror 4 to become an incident laser beam 12 and is supplied to the second laser application device 7. In this embodiment, the half-wave plate drive mechanism 2 can be configured by a simple drive mechanism such as a solenoid or a stepping motor. Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

【0014】第2の実施例は長時間の連続安定運転を要
するレーザー光応用装置等で、最低限必要な台数以外に
予備のレーザー装置を備えておき、レーザー装置の故障
や保守の際にレーザー装置を切換えて運転することによ
り、レーザービームの供給中断を減少させた冗長化レー
ザー装置へ適用した例である。
The second embodiment is a laser light application device that requires continuous stable operation for a long time, and a spare laser device is provided in addition to the minimum required number of laser devices so that the laser device can be used when the laser device fails or is maintained. This is an example of application to a redundant laser device in which interruption of laser beam supply is reduced by switching and operating the device.

【0015】図3中、符号13は冗長化レーザー装置を構
成する第1のレーザー装置であり、符号14は同様に第2
のレーザー装置であり、符号15は同様に第3のレーザー
装置である。図3においては、第1のレーザー装置13と
第2のレーザー装置14が運転中にあり、第1のレーザー
装置13からはレーザービーム24が、第2のレーザー装置
14からはレーザービーム25が出射されている。符号20で
示す第1の偏光素子と、符号21で示す第2の偏光素子
は、レーザー装置13,14から出射されたままの偏光方向
のレーザービームをそのまま透過させるように設定され
ている。図3においては、入射したレーザービーム24と
レーザービーム25はそのまま透過しそれぞれレーザービ
ーム26とレーザービーム27となり、それぞれ符号22で示
す第1のレーザー応用装置と、符号23で示す第2のレー
ザー応用装置に供給される。このとき、符号15で示す第
3のレーザー装置は待機中となっている。
In FIG. 3, reference numeral 13 is a first laser device constituting a redundant laser device, and reference numeral 14 is a second laser device.
Laser device, and reference numeral 15 is likewise a third laser device. In FIG. 3, the first laser device 13 and the second laser device 14 are in operation, and the laser beam 24 from the first laser device 13 is the second laser device.
A laser beam 25 is emitted from 14. The first polarizing element indicated by the reference numeral 20 and the second polarizing element indicated by the reference numeral 21 are set so that the laser beam in the polarization direction as it is emitted from the laser devices 13 and 14 is transmitted as it is. In FIG. 3, the incident laser beam 24 and laser beam 25 are transmitted as they are to become laser beam 26 and laser beam 27, respectively, which are a first laser application device indicated by reference numeral 22 and a second laser application indicated by reference numeral 23, respectively. Supplied to the device. At this time, the third laser device indicated by the reference numeral 15 is on standby.

【0016】また、図4は第2のレーザー装置14を故障
修理や保守のために停止させた場合であり、運転を開始
した第3のレーザー装置15から出射されたレーザービー
ム28は全反射ミラー4にて反射され、方向を変えてレー
ザービーム29となる。符号19で示す第2の半波長板駆動
機構の働きにより光路途中に符号17で示す第2の半波長
板が挿入されることにより、レーザービーム29の偏光方
向は略90°回転しレーザービーム30となる。符号21で示
す第2の偏光素子により反射されてレーザービーム27と
なり、符号23で示す第2のレーザー応用装置へ供給され
る。
FIG. 4 shows the case where the second laser device 14 is stopped for the purpose of repair and maintenance, and the laser beam 28 emitted from the third laser device 15 which has started operation is a total reflection mirror. It is reflected at 4 and changes its direction to become a laser beam 29. By inserting the second half-wave plate shown by the reference numeral 17 in the optical path by the action of the second half-wave plate driving mechanism shown by the reference numeral 19, the polarization direction of the laser beam 29 is rotated by about 90 ° and the laser beam 30 is rotated. Becomes The laser beam 27 is reflected by the second polarizing element indicated by reference numeral 21 and is supplied to the second laser application apparatus indicated by reference numeral 23.

【0017】また、図5は第1のレーザー装置13を故障
修理や保守のために停止させた場合であり、運転を開始
した第3のレーザー装置15から出射されたレーザービー
ム28は全反射ミラー4にて反射され方向を変えてレーザ
ービーム29となり、第2の半波長板17が非挿入の状態に
あるので、そのまま第2の偏光素子21への入射用レーザ
ービーム30となる。偏光角度(方向)が変わっていない
ので、第2の偏光素子21もそのまま透過し第1の半波長
板16への入射用レーザービーム31となる。第1の半波長
板駆動機構18の働きにより光路途中に第1の半波長板16
が挿入され、これによりレーザービーム31の偏光方向は
略90°回転し第1の偏光素子20の入射用レーザービーム
32となる。このレーザービーム32は第1の偏光素子20に
より反射されて入射用レーザービーム26となり、符号22
で示す第1のレーザー応用装置へ供給される。第2のレ
ーザー装置14から出射したレーザービーム25は第2の偏
光素子21を通過し、通過したレーザービーム27は第2の
レーザー応用装置23へ供給されている。なお、第1およ
び第2の実施例において、レーザー装置の台数やレーザ
ー応用装置の台数を変更し、大規模化することもでき
る。
Further, FIG. 5 shows the case where the first laser device 13 is stopped for the purpose of repair and maintenance, and the laser beam 28 emitted from the third laser device 15 which has started operation is a total reflection mirror. The laser beam 29 is reflected at 4 and changes its direction to become a laser beam 29. Since the second half-wave plate 17 is not inserted, it becomes the laser beam 30 for incidence on the second polarizing element 21 as it is. Since the polarization angle (direction) has not changed, the second polarizing element 21 is also transmitted as it is, and becomes the laser beam 31 for incidence on the first half-wave plate 16. Due to the action of the first half-wave plate drive mechanism 18, the first half-wave plate 16 is provided in the middle of the optical path.
Is inserted, whereby the polarization direction of the laser beam 31 is rotated by about 90 ° and the laser beam for incidence on the first polarization element 20 is inserted.
32. This laser beam 32 is reflected by the first polarizing element 20 to become an incident laser beam 26, which is denoted by reference numeral 22.
Is supplied to the first laser application device indicated by. The laser beam 25 emitted from the second laser device 14 passes through the second polarizing element 21, and the passed laser beam 27 is supplied to the second laser application device 23. In the first and second embodiments, the number of laser devices and the number of laser application devices can be changed to increase the scale.

【0018】[0018]

【発明の効果】本発明によれば、半波長板の位置,角度
の設定精度がレーザービームの光路の精度にほとんど影
響しないため、従来多大な時間と手間を要していた光学
素子の配置変更,光路の微調整作業等が不要である。ま
た、ほとんど瞬時にレーザービームの光路の切換えが実
現でき、複数のレーザー応用装置でレーザー装置を共用
している場合等でレーザービームの供給先の変更,故障
や保守でのレーザー装置の停止が許容されない連続運転
のレーザー応用装置に適した冗長化レーザーシステムを
提供できる。
According to the present invention, since the setting accuracy of the position and angle of the half-wave plate has almost no influence on the accuracy of the optical path of the laser beam, the arrangement change of the optical element, which has conventionally required a great deal of time and labor. No need for fine adjustment of the optical path. In addition, the optical path of the laser beam can be switched almost instantly, and when the laser device is shared by multiple laser application devices, the laser beam supply destination can be changed, and the laser device can be stopped for failure or maintenance. It is possible to provide a redundant laser system suitable for a continuous operation laser application device that is not operated.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係るレーザービームの切換機構の第1
の実施例を示す構成図。
FIG. 1 shows a first laser beam switching mechanism according to the present invention.
FIG.

【図2】図1におけるレーザービームの切換機構による
切換状態を示す構成図。
FIG. 2 is a configuration diagram showing a switching state by a laser beam switching mechanism in FIG.

【図3】本発明に係るレーザービームの切換機構の第2
の実施例を示す構成図。
FIG. 3 is a second laser beam switching mechanism according to the present invention.
FIG.

【図4】図3におけるレーザービームの切換機構による
切換状態を示す構成図。
FIG. 4 is a configuration diagram showing a switching state by a laser beam switching mechanism in FIG.

【図5】図3におけるレーザービームの切換機構による
他の切換状態を示す構成図。
5 is a configuration diagram showing another switching state by the laser beam switching mechanism in FIG.

【図6】従来のレーザービームの切換機構の第1の例を
示す構成図。
FIG. 6 is a configuration diagram showing a first example of a conventional laser beam switching mechanism.

【図7】図6におけるレーザービームの切換機構による
切換状態を示す構成図。
7 is a configuration diagram showing a switching state by a laser beam switching mechanism in FIG.

【図8】従来のレーザービームの切換機構の第2の例を
示す構成図。
FIG. 8 is a configuration diagram showing a second example of a conventional laser beam switching mechanism.

【図9】図8におけるレーザービームの切換機構による
切換状態を示す構成図。
FIG. 9 is a configuration diagram showing a switching state by a laser beam switching mechanism in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…半波長板、2…半波長板駆動機構、3…偏光素子、
4…全反射ミラー、5…レーザー装置、6…第1のレー
ザー応用装置、7…第2のレーザー応用装置、8〜12…
レーザービーム、13…第1のレーザー装置、14…第2の
レーザー装置、15…第3のレーザー装置、16…第1の半
波長板、17…第2の半波長板、18…第1の半波長板駆動
機構、19…第2の半波長板駆動機構、20…第1の偏光素
子、21…第2の偏光素子、22…第1のレーザー応用装
置、23…第2のレーザー応用装置、24〜32…レーザービ
ーム、33…他の全反射ミラー、34…レーザー応用装置、
35…レーザービーム。
1 ... Half-wave plate, 2 ... Half-wave plate driving mechanism, 3 ... Polarizing element,
4 ... Total reflection mirror, 5 ... Laser device, 6 ... First laser application device, 7 ... Second laser application device, 8-12 ...
Laser beam, 13 ... First laser device, 14 ... Second laser device, 15 ... Third laser device, 16 ... First half-wave plate, 17 ... Second half-wave plate, 18 ... First Half-wave plate driving mechanism, 19 ... Second half-wave plate driving mechanism, 20 ... First polarizing element, 21 ... Second polarizing element, 22 ... First laser application device, 23 ... Second laser application device , 24-32 ... laser beam, 33 ... other total reflection mirror, 34 ... laser application device,
35 ... laser beam.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 レーザー装置と、このレーザー装置のレ
ーザービーム出射側に配設された偏光レーザービームの
偏光方向を略90°回転させる半波長板と、この半波長板
を透過したレーザービームを入射する偏光素子と、この
偏光素子で偏光されたレーザービームを入射するレーザ
ー応用装置と、前記偏光素子の近傍に設けられた全反射
ミラーとを具備したことを特徴とするレーザービームの
切換機構。
1. A laser device, a half-wave plate disposed on the laser beam emission side of the laser device for rotating the polarization direction of the polarized laser beam by approximately 90 °, and a laser beam transmitted through the half-wave plate is incident. A switching mechanism of a laser beam, comprising: a polarizing element, a laser application device for injecting a laser beam polarized by the polarizing element, and a total reflection mirror provided in the vicinity of the polarizing element.
JP3224533A 1991-09-05 1991-09-05 Switching mechanism for laser beam Pending JPH0566365A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102649199A (en) * 2011-02-25 2012-08-29 三星钻石工业股份有限公司 Substrate processing device and substrate processing method
JP2019181534A (en) * 2018-04-12 2019-10-24 パナソニックIpマネジメント株式会社 Laser oscillator and laser processing device using the same

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