JPH0558015A - レーザー加工によるゴム印の製作法 - Google Patents
レーザー加工によるゴム印の製作法Info
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- JPH0558015A JPH0558015A JP24845991A JP24845991A JPH0558015A JP H0558015 A JPH0558015 A JP H0558015A JP 24845991 A JP24845991 A JP 24845991A JP 24845991 A JP24845991 A JP 24845991A JP H0558015 A JPH0558015 A JP H0558015A
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- Japan
- Prior art keywords
- rubber stamp
- rubber
- silicic acid
- stamp material
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- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 強度２００〜４００Ｗ、スポットの大きさ８
０μの炭酸ガスレーザーによって含水ケイ酸および無水
ケイ酸を含有するコム印材の表面を彫刻して後、アルカ
リ溶液で処理しゴム印を製作する。 【効果】 目詰り、残存物のないゴム印が効率よく生産
することができる。
０μの炭酸ガスレーザーによって含水ケイ酸および無水
ケイ酸を含有するコム印材の表面を彫刻して後、アルカ
リ溶液で処理しゴム印を製作する。 【効果】 目詰り、残存物のないゴム印が効率よく生産
することができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ゴム印材の表面に彫刻
部を形成して印字面とした印鑑やスタンプの製作法もし
くは加工処理方法に関する。
部を形成して印字面とした印鑑やスタンプの製作法もし
くは加工処理方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のゴム印の製作法としては、先ず印
字パターンのネガを作製し、ネガにより光硬化性樹脂の
原版に紫外線を照射（露光）した後ジェット水流により
洗浄して凸状のパターンを形成し、乾燥後、再露光して
硬化させ原型を製作する。次に原型を使ってフェノール
樹脂版に加熱圧造して凹状のパターンを形成して母型を
製作し、母型にゴム印材を置いて加熱プレスして凸状の
印字面を有した印板を製作している。しかしながら、従
来の方法では原型、母型の製作およびゴム印版を製作す
るのに手間が掛かり生産効率が悪いことと、材料費が嵩
みコスト高となる問題が存在している。
字パターンのネガを作製し、ネガにより光硬化性樹脂の
原版に紫外線を照射（露光）した後ジェット水流により
洗浄して凸状のパターンを形成し、乾燥後、再露光して
硬化させ原型を製作する。次に原型を使ってフェノール
樹脂版に加熱圧造して凹状のパターンを形成して母型を
製作し、母型にゴム印材を置いて加熱プレスして凸状の
印字面を有した印板を製作している。しかしながら、従
来の方法では原型、母型の製作およびゴム印版を製作す
るのに手間が掛かり生産効率が悪いことと、材料費が嵩
みコスト高となる問題が存在している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記のような
問題を解決したゴム印の加工処理方法を目的とするもの
である。
問題を解決したゴム印の加工処理方法を目的とするもの
である。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意研究
を重ねた結果、無水ケイ酸と含水ケイ酸とが含まれる特
定のゴム印材にレーザー加工し、特定の処理剤で洗浄す
ることにより目詰りのないきれいなゴム印を効率よく製
作することを見出し、本発明を完成するに至った。すな
わち、
を重ねた結果、無水ケイ酸と含水ケイ酸とが含まれる特
定のゴム印材にレーザー加工し、特定の処理剤で洗浄す
ることにより目詰りのないきれいなゴム印を効率よく製
作することを見出し、本発明を完成するに至った。すな
わち、
【０００５】本発明のゴム印の製作法は、含水ケイ酸お
よび無水ケイ酸が含有するゴム印材の表面にレーザー加
工による彫刻部を形成して後アルカリ溶液に洗浄するこ
とを特徴とする。
よび無水ケイ酸が含有するゴム印材の表面にレーザー加
工による彫刻部を形成して後アルカリ溶液に洗浄するこ
とを特徴とする。
【０００６】本発明のゴム印の製作法に用いるゴム印材
としては、含水ケイ酸および無水ケイサンを含有するこ
とである。含有量としては原料ゴム１００重量部に対し
てケイ酸合計約１００重量部が好ましく、含水ケイ酸と
無水ケイ酸の比は特に限定しないが等量が好ましい。原
料ゴムとしては、天然ゴム、スチレン、ブタジエンラバ
ー（ＳＢＲ）、アクリルニトリル‐ブタジエン共重合ゴ
ム（ＮＢＲ）などがあげられる。
としては、含水ケイ酸および無水ケイサンを含有するこ
とである。含有量としては原料ゴム１００重量部に対し
てケイ酸合計約１００重量部が好ましく、含水ケイ酸と
無水ケイ酸の比は特に限定しないが等量が好ましい。原
料ゴムとしては、天然ゴム、スチレン、ブタジエンラバ
ー（ＳＢＲ）、アクリルニトリル‐ブタジエン共重合ゴ
ム（ＮＢＲ）などがあげられる。
【０００７】ゴム印材の配合としては、上記の含水ケイ
酸および無水ケイ酸以外に原料ゴム１００重量部に対し
て亜鉛華３〜５、ステアリン酸０：５〜２、数種類の架
橋促進剤１〜２、硫黄１〜３、フィラー５０未満好まし
くは１０〜４０、可塑剤（プロセスオイル）０〜１０の
重量比で構成されている。
酸および無水ケイ酸以外に原料ゴム１００重量部に対し
て亜鉛華３〜５、ステアリン酸０：５〜２、数種類の架
橋促進剤１〜２、硫黄１〜３、フィラー５０未満好まし
くは１０〜４０、可塑剤（プロセスオイル）０〜１０の
重量比で構成されている。
【０００８】本発明の製作法におけるレーザー加工によ
る彫刻部の形成の方法、すなわち印字面の形成の方法
は、まず、写植、構成して印字パターンの原稿を作製
し、つぎにこの印字パターンをスキャニング、イメージ
スキャナーによりデーター処理し、そのデーターに基づ
きゴム印材に直接レーザー光を照射してパターンを彫刻
する。操作はコンピューターにより処理する。レーザー
光は通常炭酸ガスレーザーが使用され、強度は２００〜
４００Ｗ、スポットの大きさは５０〜１００μである。
る彫刻部の形成の方法、すなわち印字面の形成の方法
は、まず、写植、構成して印字パターンの原稿を作製
し、つぎにこの印字パターンをスキャニング、イメージ
スキャナーによりデーター処理し、そのデーターに基づ
きゴム印材に直接レーザー光を照射してパターンを彫刻
する。操作はコンピューターにより処理する。レーザー
光は通常炭酸ガスレーザーが使用され、強度は２００〜
４００Ｗ、スポットの大きさは５０〜１００μである。
【０００９】本発明の製作法におけるアルカリ処理は、
通常レーザー加工後のゴム印材をアルカリ溶液に侵漬
し、ゴム印材表面を洗浄することからなる。使用される
アルカリとしては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、水酸化カルシウムなどがあげられる。アルカリ溶液
の濃度は５〜４０％、好ましくは２０〜３０％であり、
水溶液が好ましい。処理温度としては５０°〜９０℃、
好ましくは７０〜８０℃である。続いて水洗し、５〜１
０％の塩酸で常温１分ほどの中和処理を行い、再度水洗
を行い完了する。中和処理は塩酸が適当で例えば硝酸で
はゴムを劣化させる危険がある。又、場合により、上記
水洗の後ジェット水流の洗浄機などで更に５分程度洗浄
することが最適である。なお、中和処理は、インクとの
適合性（インクの濡れ性など）やインクの経時変化を考
慮した場合に中性にするのが望ましいが、中和により中
性とすることは必ずしも必須ではない。
通常レーザー加工後のゴム印材をアルカリ溶液に侵漬
し、ゴム印材表面を洗浄することからなる。使用される
アルカリとしては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、水酸化カルシウムなどがあげられる。アルカリ溶液
の濃度は５〜４０％、好ましくは２０〜３０％であり、
水溶液が好ましい。処理温度としては５０°〜９０℃、
好ましくは７０〜８０℃である。続いて水洗し、５〜１
０％の塩酸で常温１分ほどの中和処理を行い、再度水洗
を行い完了する。中和処理は塩酸が適当で例えば硝酸で
はゴムを劣化させる危険がある。又、場合により、上記
水洗の後ジェット水流の洗浄機などで更に５分程度洗浄
することが最適である。なお、中和処理は、インクとの
適合性（インクの濡れ性など）やインクの経時変化を考
慮した場合に中性にするのが望ましいが、中和により中
性とすることは必ずしも必須ではない。
【００１０】通常ゴム印材をレーザー加工すると彫刻部
における配合成分の大半は揮散するが、一部は残存物と
して彫刻部の凹部に目詰まりとして残っている。残存物
はフィラーとゴム解重合成分及び添加剤が混在した状態
となっており、ゴム解重合成分のブタジェン成分の臭い
が残存している。残存物の除去はジェット水流やブラシ
ングにより可能であるが、彫刻部に目詰りした残存物を
確実に除去することは困難で、多大な作業時間を要す
る。
における配合成分の大半は揮散するが、一部は残存物と
して彫刻部の凹部に目詰まりとして残っている。残存物
はフィラーとゴム解重合成分及び添加剤が混在した状態
となっており、ゴム解重合成分のブタジェン成分の臭い
が残存している。残存物の除去はジェット水流やブラシ
ングにより可能であるが、彫刻部に目詰りした残存物を
確実に除去することは困難で、多大な作業時間を要す
る。
【００１１】しかしながら、本発明の製作法はゴム印材
に混入される含水ケイ酸および無水ケイ酸とアルカリ溶
液との効果により印字面のべとつきが減少しブタジエン
臭はなくなる。このような効果は含水ケイ酸の持つ数多
い細孔が解重合成分を吸着するためと考えられる。それ
故、彫刻部の目詰まりはなくなり、残存物は確実に除去
でき作業時間はいちじるしく短縮できる。
に混入される含水ケイ酸および無水ケイ酸とアルカリ溶
液との効果により印字面のべとつきが減少しブタジエン
臭はなくなる。このような効果は含水ケイ酸の持つ数多
い細孔が解重合成分を吸着するためと考えられる。それ
故、彫刻部の目詰まりはなくなり、残存物は確実に除去
でき作業時間はいちじるしく短縮できる。
【００１２】本発明の製作法のレーザー加工により従来
得られなかった鮮明な印字面が形成され、従来の方法に
比較して原型や母型の準備作業や加熱プレスなどの手間
の掛かる作業がなく、コンピューター制御による操作が
可能となるので生産性は大幅に向上する。
得られなかった鮮明な印字面が形成され、従来の方法に
比較して原型や母型の準備作業や加熱プレスなどの手間
の掛かる作業がなく、コンピューター制御による操作が
可能となるので生産性は大幅に向上する。
【００１３】本発明のゴム印は、把手などに貼着し、イ
ンクを含浸させたスタンプ台に押し当ててインクを吸着
させ、書類などに押圧して捺印する印鑑やスタンプに使
用される。
ンクを含浸させたスタンプ台に押し当ててインクを吸着
させ、書類などに押圧して捺印する印鑑やスタンプに使
用される。
【００１４】〔実施例〕以下、実施例により本発明をさ
らに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例によ
って限定されるものではない。 実施例１ ａ）下記の配合により印材用のゴム板（厚さ５ｍｍ）を
加工した。 ＳＢＲ １００重量部 亜鉛華 ５重量部 ステアリン酸 １重量部 ジベンゾチアジルジスルフィド １重量部 テトラメチルチウラムモノスルフィド ０．２重量部 硫黄 １．２重量部 無水ケイ酸 ５０重量部 含水ケイ酸 ５０重量部
らに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例によ
って限定されるものではない。 実施例１ ａ）下記の配合により印材用のゴム板（厚さ５ｍｍ）を
加工した。 ＳＢＲ １００重量部 亜鉛華 ５重量部 ステアリン酸 １重量部 ジベンゾチアジルジスルフィド １重量部 テトラメチルチウラムモノスルフィド ０．２重量部 硫黄 １．２重量部 無水ケイ酸 ５０重量部 含水ケイ酸 ５０重量部
【００１５】ｂ）あらかじめ作製された印字パターン
と、コンピーター操作によりイメージスキャナーにより
データー処理し、このデーターに基づいて上記のゴム板
にレーザー照射してパターンを彫刻した。レーザーの条
件は、炭酸ガスレーザーを使用し、強さ３００Ｗ、スポ
ットの大きさ８０μで行った。レーザー加工によりゴム
印材に印字パターンが彫刻され、削除部分の大半は飛散
したが、一部は刻印面に残存し、ブタジエン臭が残っ
た。
と、コンピーター操作によりイメージスキャナーにより
データー処理し、このデーターに基づいて上記のゴム板
にレーザー照射してパターンを彫刻した。レーザーの条
件は、炭酸ガスレーザーを使用し、強さ３００Ｗ、スポ
ットの大きさ８０μで行った。レーザー加工によりゴム
印材に印字パターンが彫刻され、削除部分の大半は飛散
したが、一部は刻印面に残存し、ブタジエン臭が残っ
た。
【００１６】ｃ）ｂ）で得られた印字が彫刻されたゴム
印材を２５％の水酸化ナトリウム水溶液に６０℃で２分
間侵漬した。その後、水洗し、５％塩酸水溶液で１分間
中和処理を行い、つづいて自動洗浄機で５分間洗浄し、
ゴム印を製作した。ブタジエン臭はなく、刻印面の残存
物は完全に除かれた。
印材を２５％の水酸化ナトリウム水溶液に６０℃で２分
間侵漬した。その後、水洗し、５％塩酸水溶液で１分間
中和処理を行い、つづいて自動洗浄機で５分間洗浄し、
ゴム印を製作した。ブタジエン臭はなく、刻印面の残存
物は完全に除かれた。
【００１７】比較例１ 無水ケイ酸１００重量部、含水ケイ酸０重量部とする以
外は実施例１と同様にしてゴム印を製作した。レーザー
加工後刻印面に粘着性の粉末が残存しべたつきが多かっ
た。アルカリ溶液処理後もべたつきは残り、刻印面に残
存物が認められた。
外は実施例１と同様にしてゴム印を製作した。レーザー
加工後刻印面に粘着性の粉末が残存しべたつきが多かっ
た。アルカリ溶液処理後もべたつきは残り、刻印面に残
存物が認められた。
【００１８】比較例２ 無水ケイ酸０重量部、含水ケイ酸１００重量部とする以
外は、実施例１と同様にしてゴム印を製作した。レーザ
ー加工後刻印面に乾いた粉状物質が多く残存した。アル
カリ溶液処理後、刻印面の残存物は完全に除かれるが、
ゴムの補強性が劣り、印材としては不適なものであっ
た。
外は、実施例１と同様にしてゴム印を製作した。レーザ
ー加工後刻印面に乾いた粉状物質が多く残存した。アル
カリ溶液処理後、刻印面の残存物は完全に除かれるが、
ゴムの補強性が劣り、印材としては不適なものであっ
た。
【００１９】
【発明の効果】本発明のゴム印の製作法は、レーザー加
工により印字面を彫刻するのもので従来なかったゴム印
の加工方法である。本発明の製作法はコンピーターの制
御が可能であり、従来のような手間のかかる作業はなく
なり、生産性は大幅に向上する。
工により印字面を彫刻するのもので従来なかったゴム印
の加工方法である。本発明の製作法はコンピーターの制
御が可能であり、従来のような手間のかかる作業はなく
なり、生産性は大幅に向上する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 // Ｂ２９Ｋ 21:00
Claims (2)
- 【請求項１】 含水ケイ酸および無水ケイ酸を含有する
ゴム印材の表面にレーザー加工により彫刻部を形成して
後アルカリ溶液で処理することを特徴とするコム印の製
作法。 - 【請求項２】 ゴム印材に原料ゴム１００重量部に対し
て含水ケイ酸、および無水ケイ酸が１０〜１５０重量部
が含有する請求項１記載のゴム印の製作法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24845991A JPH0558015A (ja) | 1991-09-03 | 1991-09-03 | レーザー加工によるゴム印の製作法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24845991A JPH0558015A (ja) | 1991-09-03 | 1991-09-03 | レーザー加工によるゴム印の製作法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0558015A true JPH0558015A (ja) | 1993-03-09 |
Family
ID=17178455
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24845991A Withdrawn JPH0558015A (ja) | 1991-09-03 | 1991-09-03 | レーザー加工によるゴム印の製作法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0558015A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0798114A2 (en) * | 1996-03-26 | 1997-10-01 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | A stamp producing device |
| EP0807532A1 (en) * | 1996-05-14 | 1997-11-19 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Stamp device |
| EP0807531A1 (en) * | 1996-05-14 | 1997-11-19 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Stamp unit capable of detachably holding stamp plate formed with stamp image |
| EP0838344A1 (en) * | 1996-10-16 | 1998-04-29 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Stamp device |
| US6112662A (en) * | 1996-10-16 | 2000-09-05 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Stamp unit |
| EP1179559A1 (en) * | 2000-08-11 | 2002-02-13 | Hsiang-Hua Wang | A method of treating rubber surface |
-
1991
- 1991-09-03 JP JP24845991A patent/JPH0558015A/ja not_active Withdrawn
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0798114A2 (en) * | 1996-03-26 | 1997-10-01 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | A stamp producing device |
| EP0798114A3 (en) * | 1996-03-26 | 1997-10-08 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | A stamp producing device |
| EP0807532A1 (en) * | 1996-05-14 | 1997-11-19 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Stamp device |
| EP0807531A1 (en) * | 1996-05-14 | 1997-11-19 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Stamp unit capable of detachably holding stamp plate formed with stamp image |
| US5816160A (en) * | 1996-05-14 | 1998-10-06 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Stamp unit capable of detachably holding stamp plate formed with stamp image |
| EP0838344A1 (en) * | 1996-10-16 | 1998-04-29 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Stamp device |
| US6047638A (en) * | 1996-10-16 | 2000-04-11 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Stamp device with a porous base plate and its method of manufacture |
| US6112662A (en) * | 1996-10-16 | 2000-09-05 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Stamp unit |
| US6311618B1 (en) | 1996-10-16 | 2001-11-06 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Stamp unit with a circumference portion covered by a sealant |
| EP1179559A1 (en) * | 2000-08-11 | 2002-02-13 | Hsiang-Hua Wang | A method of treating rubber surface |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19981203 |