JPH0556269U - Glazing device - Google Patents
Glazing deviceInfo
- Publication number
- JPH0556269U JPH0556269U JP114520U JP11452091U JPH0556269U JP H0556269 U JPH0556269 U JP H0556269U JP 114520 U JP114520 U JP 114520U JP 11452091 U JP11452091 U JP 11452091U JP H0556269 U JPH0556269 U JP H0556269U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glaze
- nozzle
- high tank
- tank
- discharge port
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000428 dust Substances 0.000 abstract description 4
- 238000007599 discharging Methods 0.000 abstract description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Details Or Accessories Of Spraying Plant Or Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 施釉すべきタイル素体の表面にポンプ等から
入り込んでくる異物やゴミ等が付着することがないよう
にする。また、施釉ノズルの目詰まりを防止する。
【構成】 ハイタンク13内の水頭圧を利用して施釉ノ
ズル18に釉薬を吐出するようにした装置において、ハ
イタンク13における釉薬の吐出口17を吸入口15よ
りも上部位置も設けたものである。
(57) [Summary] [Purpose] Prevent foreign substances and dust from entering from the pump etc. to adhere to the surface of the tile body to be glazed. Also, it prevents clogging of the glaze nozzle. [Configuration] In a device for discharging glaze to a glaze nozzle 18 by utilizing the head pressure in the high tank 13, a glaze discharge port 17 in the high tank 13 is provided above the suction port 15.
Description
【0001】[0001]
本考案は、タイル素体等に施釉を行う施釉装置に関する。 The present invention relates to a glazing apparatus for glazing a tile body or the like.
【0002】[0002]
従来、タイル素体1等に施釉を行う装置は、例えば図2に示すように、釉薬タ ンク2に溜めた調合釉薬をポンプ3の作用により、ハイタンク4の上部へ汲み上 げ、このハイタンク4内の釉薬の水頭圧を利用して、ハイタンク4の底部から施 釉ノズル5に釉薬を供給していた。そして、この施釉ノズル5からタイル素体1 の上面に釉薬を満遍なく霧状に噴射して塗布させるというものであった。 Conventionally, as shown in FIG. 2, for example, as shown in FIG. 2, a device for glazing the tile body 1 pumps the mixed glaze stored in the glaze tank 2 to the upper part of the high tank 4 by the action of the pump 3, and the high tank 4 The glaze was supplied from the bottom of the high tank 4 to the glaze nozzle 5 by utilizing the head pressure of the glaze inside. Then, the glaze was sprayed from the glaze nozzle 5 onto the upper surface of the tile body 1 in a uniform mist to apply the glaze.
【0003】[0003]
かかる従来の施釉装置において、前記ポンプ3としては異物の混入を抑える必 要があり、そのため一般にダイヤフラムポンプが使用されている。 In such a conventional glazing apparatus, it is necessary to prevent foreign matter from entering the pump 3, and therefore a diaphragm pump is generally used.
【0004】 しかし、それでも釉薬成分によっては、ポンプ材料の異物やゴミ等がハイタン ク4内に入り込む場合があって、それらがハイタンク4の底部に溜まり、釉薬の 水頭圧で前記施釉ノズル5へと供給され、タイル素体1の表面に噴出される場合 がある。このため、タイル素体1の表面に異物が付着して不良品となったり、施 釉ノズル5の目詰まりの原因になるという問題があった。However, depending on the glaze component, foreign matter, dust, and the like of the pump material may still enter the high tank 4, and these may accumulate at the bottom of the high tank 4 and reach the glaze nozzle 5 by the head pressure of the glaze. It may be supplied and spouted onto the surface of the tile body 1. For this reason, there is a problem that foreign matter adheres to the surface of the tile body 1 to cause a defective product or cause clogging of the glaze nozzle 5.
【0005】[0005]
本考案に係る施釉装置は、ハイタンクにおける釉薬の吐出口を吸入口よりも上 方位置に形成したものである。 The glazing device according to the present invention is one in which the discharge port of the glaze in the high tank is formed at a position higher than the suction port.
【0006】[0006]
釉薬はポンプの作動により、例えばハイタンクの底部に形成した吸入口からタ ンク内部に溜められる。そして、釉薬が、前記吸入口よりも上方位置に形成した 吐出口から、施釉ノズルの方へ供給される。このため、仮にハイタンク内に異物 等が入っても、ハイタンクの底部に残るだけで、施釉ノズルの方へ排出されるこ とはない。 The glaze is accumulated inside the tank by the operation of the pump, for example, from an inlet formed at the bottom of the high tank. Then, the glaze is supplied to the glaze nozzle from the discharge port formed above the suction port. Therefore, even if foreign matter enters the high tank, it only remains at the bottom of the high tank and is not discharged to the glazed nozzle.
【0007】[0007]
以下、本考案に係る施釉装置の実施例について、図面を参照して説明する。 図1は、本考案に係る施釉装置の概略を示す縦断面図である。 図1において、搬送コンベア7はタイル素地8を、例えば乾式のプレス成型装 置(図示省略)から施釉すべき空間である施釉ブースへ搬送させる手段である。 施釉ブースの底壁9は、受皿状に形成されており、その中央部分10には、排 出管11が接続され、施釉作業によって周囲に散逸した釉薬成分を釉薬タンク1 2へ回収するようにしている。 Embodiments of a glazing apparatus according to the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a vertical sectional view showing an outline of a glazing apparatus according to the present invention. In FIG. 1, the conveyor 7 is a means for conveying the tile base 8 from, for example, a dry press molding device (not shown) to a glazed booth which is a space to be glazed. The bottom wall 9 of the glazed booth is formed in a saucer shape, and a discharge pipe 11 is connected to a central portion 10 of the bottom wall 9 so that glaze components scattered around the glazed work can be collected in a glaze tank 12. ing.
【0008】 ハイタンク13の外観形状は、図2に示す従来のものと同じであり、釉薬の吸 入口及び吐出口の配置が従来と相違している。すなわち、図1に示す本例では、 ハイタンク13の底部が、釉薬タンク12からポンプ14の作動によって釉薬を 汲み上げる吸入口15となされ、この吸入口はホース16を介してポンプ14に 接続されている。この吸入口15の上方位置であって、ハイタンク13の略中央 位置には、釉薬を吐出する吐出口17になされている。この吐出口17は、ホー ス18を介して施釉ノズル19に接続されている。The external shape of the high tank 13 is the same as the conventional one shown in FIG. 2, and the arrangement of the suction port and the discharge port of the glaze is different from the conventional one. That is, in the present example shown in FIG. 1, the bottom of the high tank 13 serves as an inlet 15 for pumping glaze from the glaze tank 12 by the operation of the pump 14, and this inlet is connected to the pump 14 via the hose 16. . A discharge port 17 for discharging the glaze is provided at a position above the suction port 15 and substantially in the center of the high tank 13. The discharge port 17 is connected to a glaze nozzle 19 via a hose 18.
【0009】 なお、符号20は、ハイタンク13内の釉薬量を調整するための戻し口であり 、ホース21を介して前記釉薬タンク12へ開口されている。Reference numeral 20 is a return port for adjusting the amount of glaze in the high tank 13, and is opened to the glaze tank 12 via a hose 21.
【0010】 しかして、施釉作業を行う際には、ポンプ14は、吐出口17よりも上方位置 まで釉薬の水位が維持されるように駆動される。そして、吐出口17の位置より も上方に存在する釉薬の水頭圧によって、釉薬はホース18を介して施釉ノズル 19へと吐出される。このため、ポンプ14から異物やゴミ等が吸入口15から ハイタンク13内に入り込んでも、ハイタンク13の底部に溜まることはあって も、吐出口17から施釉ノズル19の方へ流れ出ることはない。Therefore, when performing the glaze operation, the pump 14 is driven so that the water level of the glaze is maintained up to a position above the discharge port 17. Then, the glaze is discharged to the glaze nozzle 19 via the hose 18 by the head pressure of the glaze existing above the position of the discharge port 17. For this reason, even if foreign matter, dust, etc. enter from the pump 14 into the high tank 13 through the suction port 15 and may collect at the bottom of the high tank 13, they will not flow out from the discharge port 17 toward the glaze nozzle 19.
【0011】 なお、本例では、吐出口17はハイタンク13の略中央位置に形成されている が、吸入口15よりも上方位置で、施釉ノズル19に対して十分な圧力で吐出で きるだけの水頭圧が確保できればよく、この位置に限るものでないのは勿論であ る。In this example, the discharge port 17 is formed at a substantially central position of the high tank 13, but at a position above the suction port 15, it can only discharge the glaze nozzle 19 with sufficient pressure. Of course, it is only necessary to secure the head pressure, and it is not limited to this position.
【0012】[0012]
以上述べたように、本考案によれば、ハイタンク内にポンプを介して異物やゴ ミ等が入り込んでも施釉ノズル側には吐出されることはない。よって、施釉ノズ ルから釉薬とともに異物等が噴出されることがない。また、これら異物等が原因 となる施釉ノズルの目詰まりもすることがない。 As described above, according to the present invention, even if foreign matter, dust, or the like enters the high tank via the pump, it is not discharged to the glaze nozzle side. Therefore, no foreign matter is ejected from the glazed nozzle together with the glaze. In addition, the glaze nozzle is not clogged due to these foreign matters.
【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]
【図1】本考案に係る施釉装置の概略を示す縦断面図で
ある。FIG. 1 is a vertical sectional view showing an outline of a glazing apparatus according to the present invention.
【図2】従来の施釉装置を示す縦断面図である。FIG. 2 is a vertical sectional view showing a conventional glazing apparatus.
13…ハイタンク 14…ポンプ 15…吸入口 17
…吐出口 19…施釉ノズル13 ... High tank 14 ... Pump 15 ... Suction port 17
… Discharge port 19… Glazed nozzle
Claims (1)
するようにした装置において、前記ハイタンクにおける
釉薬の吐出口を吸入口よりも上方位置に形成したことを
特徴とする施釉装置。1. An apparatus for supplying glaze from a high tank to a glaze nozzle, wherein a glaze discharge port in the high tank is formed above a suction port.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP114520U JPH0556269U (en) | 1991-12-28 | 1991-12-28 | Glazing device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP114520U JPH0556269U (en) | 1991-12-28 | 1991-12-28 | Glazing device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0556269U true JPH0556269U (en) | 1993-07-27 |
Family
ID=14639810
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP114520U Pending JPH0556269U (en) | 1991-12-28 | 1991-12-28 | Glazing device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0556269U (en) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS50110134A (en) * | 1974-02-12 | 1975-08-29 | ||
JPS55126585A (en) * | 1979-03-22 | 1980-09-30 | Takayama Seitou Kk | Tile glazing device |
-
1991
- 1991-12-28 JP JP114520U patent/JPH0556269U/en active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS50110134A (en) * | 1974-02-12 | 1975-08-29 | ||
JPS55126585A (en) * | 1979-03-22 | 1980-09-30 | Takayama Seitou Kk | Tile glazing device |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN107214067A (en) | A kind of novel tea screening plant | |
CN108772337A (en) | A kind of soft capsule cleaning device that cleaning performance is good | |
JPH0556269U (en) | Glazing device | |
CN209565187U (en) | A kind of flow coater of the foundry with recycling filtering function | |
JP2834669B2 (en) | Powder kneading equipment | |
CN211362904U (en) | Dust-proof cement tank for processing premixed concrete | |
JPS6313203U (en) | ||
CN209453811U (en) | A kind of tubular pile upper mould cleaning plant | |
JPS6032027Y2 (en) | Slurry suction device | |
JPH0221232Y2 (en) | ||
CN209405922U (en) | A kind of exhaust gas filtering tank | |
JP2670731B2 (en) | Nozzle cleaning method and cleaning device therefor | |
CN209138220U (en) | A kind of dust exhaust apparatus in graphite cutting process | |
JPS6032028Y2 (en) | Slurry suction device | |
CN208729546U (en) | A kind of sanding device with dust reduction capability | |
JP2580280Y2 (en) | Spray refueling device | |
JP3012139B2 (en) | Painting waste liquid recovery device | |
JPH0123382Y2 (en) | ||
KR100555347B1 (en) | Apparatus for Air-Transporting Resin Powder from Vent Hopper and Method thereof | |
JP2003001148A (en) | Thinner recovery device for bell-cleaning | |
JPH04125883U (en) | cleaning equipment | |
CN207121441U (en) | A kind of feeding station apparatus system | |
JPH0733858Y2 (en) | Element cleaner dust collector | |
JPH07185420A (en) | Coating booth | |
JPS62183874A (en) | Coating control apparatus |