JPH05508359A - 立体的に改良された弾性ラミネート - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 立体的に改良された弾性ラミネート 発明の属する分野 本発明はエラストマーフィルム、より詳しくは改良されたエラストマーラミネー トに関連する。

背景 エラストマーフィルムはおむつ製品、たとえば赤ん坊のおむつ及び成人の失禁用 備品におけるそれらの利用に関連して時折利用され且つ論文に詳細されている。

このようなエラストマーウェブ又はフィルムは、衣料品の体を締め付ける部分に おいて主に利用されている０例えばおむつにおいて、エラストマーバンドは典型 的には例えば米国特許第４，６８１．５８０号（Ｒｅｆｓｔｎｇら）、及び米国 特許第４．７１０．１８９号（Ｌａｓｈ）に記載の通り、ウェストバンド部分に 用いられる。これらの特許両方には、熱安定性形態及び熱不安定性形態を有する エラストマー材料の利用が記載されている。この熱不安定性形態は、材料をその 結晶化又は二次転移温度付近に温めて伸ばし、次いで急冷して熱不安定的に伸ば された形態において凍結させることによって作り上げられる。この熱分安定性エ ラストマーフィルムを次に例えばおむつに適用し、次いでこれを熱安定性エラス トマー形態へと加熱せしめることができる。このことはおむつのウェストバンド に所望のひだ又はギヤザーをもたらすであろう、経費以外でのこれらの材料の問 題は、熱不安定性形態を示すようこの材料を熱せなければならない温度が、利用 する材料の固有且つ実質的に変えることのできない性質にあることにある。この 極端なる不変性は大きな問題を引き起こしうる。第１に、このウェストバンドが 取付けられる他の材料を操作して、熱不安定形態を示すようにエラストマー成分 を熱する温度にこの他の材料を適応させるようにすることはかなり困難である。

しばしばこの温度は比較的高く、従って、エラストマーウェストバンド、又は例 えばおむつの保護用バックシートもしくはトップシートを取り付けるために用い る接着剤によって重大な問題が潜在的に生じうる。更に、このエラストマーは一 旦選ばれたら、ロフトの変化に対する不変性、市場性及び原材料（特にエラスト マー）の費用、消費者の要望等を提供する製造プロセスを拘束するであろう。

他の材料及び方法が提案されている。例えばＢｅｒｇｅｒらの米国特許第３，６ ９４．８１５号は、伸長せしめて緩めた弾性リボンを、常用の弾性リボンを伸ば し、次いで直ちにこのエラストマー材料を相対的にかなり低い温度（例えば周囲 よりも低い温度）で凍結させることによって衣料品に取り付けることを提示して いる。このプロセスは明らかに、このエラストマー・ストランドをそのバッキン グに取り付ける際に利用できるプロセス条件及び材料を強く限定するであろう。

英国特許出願第２１９０４０６Ａ号は、硬質性要素によって常用のエラストマー を伸ばした状態に維持したままでしわ付けする要素（例えばおむつ）にそれを取 り付け、この硬質性要素をこの取り付は工程の後に除去する又は破壊することを 提示している。記載されている通り、このエラストマーをまず伸ばし、次いでそ の伸ばされた状態においてこの硬質性要素に適用せしめる。最後にＭａｔｒａｙ ら、英国特許第２、１６０．４７３号は、高めの温度（例えば１７５°Ｆ又は７ ９．４℃以上）で収縮するであろうエラストマーを提示している。記載されてい るこの材料の新規なるｅｌｌは、上記した熱収縮性材料と比べ、伸長工程の際に 予備加熱を必要とせず、むしろ差別的なスピードロールプロセス又は「低温ロー リング」によって周囲条件にて伸ばされうることにある。提示されているポリマ ーは商標名Ｐｅｂａｘ　、特にＰｅｂａｘ押し出し成形縁２５３３及び３５３３ のもとて商業的入手できるボリアミドボリエーテルブロックポリマーの交互のセ グメントを有す゛るコポリマーである。これに代るものとして、この特許出願は 例えば同時押し出しによってエラストマーの上に薄いＥＶＡ（エチレンビニルア セテート）を置くことを提示している。スキン層はブロンキングを防ぐため、又 は後に適用する接着剤と調和するように選ぶ、この層は心地良い風合を提供する が、熱収縮性の妨げとならないであろうことも注目されている。

このようなエラストマーフィルムによる間層は、伸ばした弾性要素を柔軟な支持 体、例えば使い捨ておむつに取り付ける固有の難しさを含んでいる。提示されて いるいくつかのエラストマーは、熱伸長化不安定状態において周囲条件にて取り 付けることができる利点を有するが、その結果としてこの熱不安定状態を緩和せ しめて収縮した熱安定状態へとなるように通常は極端なる加熱を必要とする。

この熱緩和の温度は一般に不変性であり、それらはエラストマーの分子レベルに て決定される。従って、このエラストマーに適用する他の材料及びこのエラスト マーを用いるプロセス条件はこの加熱段階に適合するよう慎重に選択しなくては ならない。

エラストマーは、比較的不変の応力／歪特性も示し、これは活性化温度と独立し て選ぶことができない、高い弾性率を有する材料は着用者にとって不快である。

比較的こわばった、又は弾性率の高い材料の問題は、この材料が着用者に喰込む 又は掴むことを生じせしめるようなエラストマーの摩擦係数及びネッキングによ って大きくなりうる。

共通の譲受人を有する、１９８９年１１月１７日に出願された同時係属米国出願 第０７／４３８．５９３号において、少なくとも一層のエラストマー中核層及び 少なくとも一層の相対的に非弾性のスキン層を有するエラストマーラミネートで あって、上記に記載した当業界における一定の問題に向けられているものが開示 されている。更に、このラミネートは非常に有用な、且つ新規なる特性を有する 。注型した場合、又は形成の後、このエラストマーラミネートは実質的に非弾性 となる０弾性は、このラミネートを少なくとも最小活性化伸長率により引き伸ば すことによって授けることができ、ここでエラストマー材料は瞬時的に、時間を かけて、又は熱の適用に基づいて形成されるであろう。エラストマー材料が形成 されるこの方法は種々の手段によってコントロールできる。このラミネートがエ ラストマーへと変換された後、このエラストマーラミネートに有意なる利点を授 ける、（複数の）スキン層における新しいテキスチャー（模様）が形成される。

この同時係属出願の材料における真人なる利点にもかかわらず、い（つかの用途 に関して改良の要望がある。非エラストマーラミネートは、それが回復してエラ ストマーとなることを可能とする状態へと活性化せしめるため、相対的に非弾性 なスキン層及びエラストマー中核層に関して有用であると考えられている多数の 材料にとっての実質的な程度にこれを伸ばさなければならない。このことは、こ のラミネートに関して低い活性化伸長比が所望されているとき、又は特定の領域 において弾性を得ることが所望されているときのいくつかの用途に関して問題で ある。

リボン又はテープ状の支持体の特定の領域において弾性を得ることの所望は、お むつシステムにおいて利用するための特定された弾性領域を得るためにデザイン された複合材料の利用を開示する米国特許第３，８００，７６９号、第４，８３ ４，８２０号、第４，７７８，７０１号及び第４．２２７，９５２号に例示され である。しかしながら、これらの複合物は、この複合物の個々の要素を一緒にす るための複雑な組立てメカニズム並びに／又はその一般的な有用性を限定せしめ るそれらの製造及び利用に関する特別なる手法を必要とする。

発明の概要 本発明は改良された、不粘着性の、マイクロテキスチャー化された、多重層のエ ラストマーラミネートに関する０本発明のラミネートは、エラストマーポリマー 中核層であってこのラミネートにエラストマー化されることができるものの両方 を含んで成る。このマイクロテキスチャー化された領域は、非弾性から弾性状態 へと活性化されたラミネートの領域に相当する０本発明の好ましい態様において 、このスキン層は更に、伸ばされたエラストマーのコントロールされた回復、こ のエラストマーラミネートの弾性挙動の改質、及び／又はこのエラストマーラミ ネートの形態を安定化せしめる（例えば更なるネッキングをコントロールする） ことを可能とするように機能することができる。ラミネートは、選んだ複数のポ リマーの同時押し出しにより、又は既に形成せしめである１もしくは複数の層上 への１もしくは複数のエラストマーの適用によって作ることができる。同時押し 出しが好ましい、新規の、不粘着性のマイクロテキスチャー化されたラミネート は、スキン層の予め決められている領域の弾性限界を超えてこのラミネートを伸 ばすこ七によって得られる。これを選択的又は優先的活性化と呼ぶ０次いでこの ラミネートをこのような予め決められている領域において回復させ、これは瞬時 に、長い時間をかけて（これはスキン層調節性である）又は熱の適用によって（ これもスキン層調節性である）回復する。

この選択的又は優先的活性化は、このラミネートの選ばれた横断面領域の比弾性 率の値を、それに隣接する横断面領域の弾性率の値よりも低くコントロールする ことによって得られる。低い弾性率を有するようにコントロールされた領域は応 力がかかったときに優先的に歪むであろう、このことは、特定領域の優先的な弾 性化又は大いに歪んだ領域を存する完全に弾性化したラミネートのいづれかを、 低弾性率の領域の位置及び伸長の状態に依存してもたらすであろう。

他方、応力を選ばれた領域において高める又は集中させるようにこのラミネート を処理することができる。このことは、低弾性率領域を提供せしめるのと本質的 に同じ結果をもたらすであろう。いづれの構造によっても、このラミネートは選 んだ領域において、ラミネート全体を活性化せしめるのに通常必要とされるより も低めの伸長率にて活性化されうる。

弾性率はこのラミネートの１もしくは複数の層に相対的に低い及び高い弾性率領 域を付与せしめることによってコントロールできる。

このことは、１もしくは複数の層の領域の物理的もしくは化学的性質を選択的に 変えることにより、又は個々の化学組成の領域を層に施すことによって成し遂げ られうる。局所的に高められた応力は、（複数の）層の物理的又は化学的処理、 例えばアブレーション、スコアリング、コロナ処理等によって誘発されうる。

図面の簡単な説明 図１は微細構造形成前の本発明の押し出しラミネートの横断面図である。

図２は本発明のフィルムを一軸方向に伸ばすことによって生ずる微細構造化を伴 う図」のラミネートの横断面図である。

図３は本発明のラミネートを同時押し出しするために用いた代表的なプロセス及 び装置の図解である。

図４はラミネート及びその複合層の応力−歪特性を示す図である。

図５は同時二輪伸長せしめた、ポリエチレンスキンを有するラミネートサンプル の電子顕微鏡写真（１００ＯＸ）である。

図６は、インクで印を付けである、伸長せしめていないラミネートの写真である 。

図７は同じインクで印を付けた、伸長せしめた図６のラミネートの写真である。

図８　＃　（Ｔ　−Ｎ　）は一連のラミネートフィルムの応力／歪曲線である。

図９は逐次的に二輪方向に伸長せしめたラミネートの表面の走査電子顕微鏡写真 （１００Ｘ）である。

図１０はポリプロピレンスキンを有する、同時二軸方向伸長せしめた本発明のラ ミネートの走査電子顕微鏡写真（１００Ｘ）である。

図１１は第２方向−軸伸長せしめたフィルムに関する、収縮メカニズムと中核／ スキン比及び伸長率の関係を示す図である。

図１２は中核／スキン比、全回復のパーセント及び活性化温度の関係を示す図で ある。

図１３はそれぞれ０％、２５％、５０％、７５％及び１００％アニールした一連 のラミネートを示す図である。

図１４の（Ａ）−（Ｃ）はそれぞれ、図１３において図示した２５％、５０％及 び７５％のアニール化サンプルについての一連応力／歪曲線である。

図１５の（Ａ）−（Ｃ）はそれぞれ、注型し放し品、伸長せしめた及び緩和せし めた［ｆｆ１１３の２５％アニール化サンプルの光学顕微鏡写真である。

図１６は規則的に反復したダイヤモンド状のパターンを伴ってアニールした、緩 和せしめたサンプルの光学顕微鏡写真である。

図１７は本発明の優先的に活性化可能なラミネートより成るおむつテープタブで ある。

本発明の好ましい！！様の詳細な説明 本発明は広くは、少なくとも一枚のエラストマ一層及び少なくとも一枚の相対的 に非エラストマーのスキン層を含んで成る、新規の、不粘着性の、多重層エラス トマーラミネートに関する。このスキン層の選ばれた領域をその弾性限界を超え て伸ばし、そしてその中核と一緒に緩和させ、微細構造化スキン層を有する弾性 領域を形成せしめる。微細構造とは、微細構造化される前のこのラミネートの不 透明度よりも上昇した不透明度によって生ずる、肉眼によって感知されるのに十 分に大きい山と谷のでこぼこ又は折りたたみをこの層が含み、且つこのでこぼこ が人の皮膚にとって滑らかもしくは柔いものとして感知されるのに十分に小さい ことを意味する。この微細構造化テキスチャーの詳細を観察するためにこのでこ ぼこの拡大写真は必要である。

該エラストマーは、薄いフィルムへと形成されることができ、且つ周囲条件にて エラストマー特性を示すことができるあらゆるエラストマーを概して含む、エラ ストマーとは、伸長された後にその本来の形態へと実質的に戻りうる材料を意味 する。更に好ましくは、このエラストマーは変形と緩和の後にわずかな永久歪の みを保持し、この歪は好ましくは中程度の伸長率、例えば約４００−５００％に て、本来の長さの好ましくは２０％以下、そしてより好ましくは１０％以下であ る。一般に、相対的に弾性でないスキン層に比較的一定の永久変形を生じせしめ うるぐらいに迄伸長せしめることができるあらゆるエラストマーが有用である。

これは５０％ぐらいの低い伸長率でありうる。しかしながら、好ましくはこのエ ラストマーは室温にて３００〜１２００％の伸長率迄受けることができるもの、 そして最も好ましくは室温にて６００〜８００％の伸長率迄受けることのできる ものである。このエラストマーは純粋なエラストマー及び室温にて実質的にエラ ストマー特性を示すことができるエラストマー相又は含有物との配合物のいづれ であってもよい。

前記した通り、熱収縮性弾性体は製品を加工するその能力に起因して大いなる注 目をあびている。これは周囲条件にて不安定に伸長せしめたエラストマーを用い 、その後これに熱を通用せしめてこの製品にひだをつけることを用いることによ り製作する。このようなエラストマーの利用が本発明における利用に考えられて いるが、熱収縮性の利点を保ちながら、この熱収縮プロセスを実質的にコントロ ールする可能性の加えられた重要性を伴うその他の非熱収縮性エラストマーが利 用できる。非熱収縮性とは、このエラストマーが伸長されたとき、前記した通り わずかな永久歪のみを受けながら実質的に回復しうろことを意味する。従って、 このエラストマー中核は非熱収縮性ポリマー、例えばブロックコポリマーであっ てエラストマーであるもの、例えばＡ−Ｂ又はＡ−Ｂ−Ａブロックコポリマーと して当業者に知られるものから作られうる。これらのブロックコポリマーは例え ば米国特許第３，２６５．７６５号；３．５６２，３５６号；３，７００，６３ ３号；　４，１１６，９１７号及び４，１５６．６７３号において詳細されてい る。スチレン／イソプレン、ブタジェン又はエチレン−ブチレン／スチレン（Ｓ ＩＳ、ＳＢＳ又は５ＥＢＳ）ブロックコポリマーが特に有用である。その他の有 用なエラストマー組成物にはエラストマーポリウレタン、エチレンコポリマー、 例えばエチレンビニルアセテート、エチレン／プロピレンコポリマーエラストマ ー又はエチレン／プロピレン／ジエンのターポリマーエラストマーが含まれる。

これら互いとの、又は改質非エラストマーとのこれらのエラストマーの配合体も 考えられる。例えば５０重量％迄、しかしながら好ましくは３０重量％以下のポ リマーが開化剤として（例えばポリビニルスチレン、ポリスチレン例えばポリ（ アルファーメチル）スチレン、ポリエステル、エポキシ、ポリオレフィン例えば ポリエチレン、又は一定のエチレン／ビニルアセテート、好ましくは高分子量の もの、又はクマロン−インデン樹脂）加えられうる。上記のタイプのエラストマ ー及び配合体の利用の有用性は本発明のフィルム材料に有意なる柔軟性を提供す る。

粘度降下ポリマー及び可塑剤、例えば低分子量ポリエチレン及びポリプロピレン ポリマー並びにコポリマー、又は粘着付与樹脂、例えばＧｏｏｄｙｅａｒ　Ｃｈ ｅｍｉｃａｌ　Ｃｏ５１ｐａｎｙより入手できる脂肪族炭化水素粘着付与剤、Ｗ ｉｎｇｔａｃｋ　（商標）もこのエラストマーに配合することができる。粘着付 与剤はエラストマー中核層のスキン層への粘着性を高めるためにも利用できる。

粘着付与剤の例には、脂肪族もしくは芳香族炭化水素液状粘着付与剤、ポリター ペン樹脂粘着付与剤及び水素化粘着付与樹脂が含まれる。脂肪族炭化水素樹脂が 好ましい。

添加側、例えば染料、顔料、酸化防止剤、静電防止剤、接着剤、粘着防止剤、ス リップ剤、熱安定剤、光安定剤、発泡剤、ガラスバブル、スターチ及び崩壊のた めの金属塩、又はマイクロファイバーもこのエラストマー中核層において利用さ れうる。適切な静電防止剤にはエトキシル化アミン又は四級アミン、例えば米国 特許第４．３８６．１２５号Ｃ３ｈｒｒａｋ３）に詳細されているもの（これに は適切な粘着防止剤、スリップ剤及び潤滑剤も詳細されている）が含まれる。

軟化剤、粘着付与剤又は潤滑剤は例えば米国特許第４．８１３，９４７号（Ｋｏ ｒｐ−ａｎ）に詳細され、これにはクマロン−インデン樹脂、クーベン樹脂、炭 化水素樹脂等が含まれている。これらの試薬は粘度降下剤としても働きうる。常 用の熱安定剤には有機ホスフェート、トリヒドロキシブチロフェノン又はアルキ ルジチオカルボネートの亜鉛の塩が含まれる。適切な酸化防止剤には立体障害さ れたフェノールの化合物及びアミン、可能としてはチオジプロピオン酸又は芳香 族ホスフェート又は第三ブチルクレゾールが含まれる（適切な添加側及びパーセ ンテージについては米国特許第４，４７６、１８０号（Ｗｎｕｋ）も参照のこと ）。

短いファイバー又はマイクロファイバーは一定の用途に関して該エラストマ一層 の補強のために用いられうる。これらのファイバーはよく知られ、そしてポリマ ーファイバー、ミネラルウール、ガラスファイバー、カーボンファイバー、シリ ケートファイバー等が含まれる。更に、カーボン及び顔料を含む一定の粒子が利 用されうる。

ガラスバブル又は発泡剤はこのエラストマ一層の密度を下げるために利用され、 そしてこれは該エラストマー含有量を必要なだけ下げることによって価格を下げ るのに利用できる。これらの試薬は該エラストマーのバルクを増大させるために も利用できる。適切なガラスバブルは米国特許第４．７６７、、７２６号及び第 ３，３６５．３１５号に記載されている。該エラストマーにおいて泡を発生させ るために用いられる発泡剤にはアゾカルボナミドが含まれる。充填剤も価格をあ る程度下げるのに利用されうる。粘着防止剤としても機能しうる充填剤には二酸 化チタン及び炭酸カルシウムが含まれる。

このスキン層は任意の半結晶又はアモルファスポリマーであって、該エラストマ ー中核層よりも弾性でなく、且つ該エラストマーラミネートが受ける伸長パーセ ンテージにて永久変形を受けうるちのより形成されうる。従って、わずかに弾性 である化合物、例えばいくつかのオレフィン系エラストマー、例えばエチレンー プロピレンエラストマーもしくはエチレンープロピレンージエンターポリマーエ ラストマー、又はエチレン系コポリマー、例えばエチレンビニルアセテートが単 独又は配合体のいづれかにてスキン層として利用されうる。ところで、該マトリ ックスは一般にポリオレフィン、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブ チレン又はポリエチレンーポリプロピレンコポリマーであるが、しかしながら完 全もしくは部分的にポリアミド、例えばナイロン、ポリエステル例えばポリエチ レンテレフタレート、ポリビニリデンフルオリド、ポリアクリレート例えばポリ （メチルメタクリレート）（配合体においてのみ）等、及びその配合体であって もよい。このスキン層材料は、選ぶエラストマー材料の種類に影響される。もし このエラストマー中核層が該スキン層と直接的に接触しているとき、該スキン層 は容易に離層しないよう該エラストマー中核の層に対する十分なる接着性を有す べきである。受は入れることのできるスキンと中核の接触は三通りの状態にある ものと見い出されている；第１に、中核とマイクロテキスチャー化スキンとの完 全なる接触；第２に、微細構造状の折りたたみのもとての中核の粘着破損（ｃｏ ｈｅｓｉｖｅ　ｆａｉｌｕｒｅ）　；及び第３に、折りたたみの谷での断続的な スキン／中核接触を伴った微細構造状の折りたたみのもとでのスキンと中核の接 着破損である。しかしながら、柔軟なポリマースキン層と一緒に高弾性率の中核 を用いるとき、マイクロテキスチャー化された表面が形成されていなくてもその 接合が許容されることがある。

このスキン層はエラストマー中核層と一緒に利用され、そして外層又は内層（例 えば２枚のエラストマ一層の間にはさまれる）のいづれでありうる。外又は内層 のいづれかとして利用することで、このスキン層はエラストマーラミネートの弾 性特性を変えるであろう。

該スキン層において有用な添加剤には、鉱物油増量剤、静電防止剤、顔料、染料 、粘着防止剤、そして約１５％以下の量を条件として劣化のためのスターチ及び 金属塩、並びに安定剤であって例えば前記エラストマー中核で詳細のものが含ま れるがこれらに限定されない。

その他の層、例えば接着性を高めるための結束層を該中核層と該スキン層の間に 加えることができる。結束層は、無水マレイン酸改質エラストマー、エチルビニ ルアセテート及びオレフィン、ポリアクリル系イミド、ブチルアクリレート、過 酸化物、例えば過酸化ポリマー、例えば過酸化オレフィン、シラン、例えばエポ キシシラン、反応性ポリスチレン、塩素化ポリエチレン、アクリル酸改質ポリオ レフィン並びにエチルビニルアセテートであって酢酸及び無水物官能基等を有す る、１もしくは複数のスキン又は中核層において配合体又は混和剤としても利用 できるものを含む、このような利用のための典型的な化合物より作られるか、又 はこれらが配合されている。

結束層は該スキンと中核の間の結合力が低い場合に特に有用である。

これはしばしばポリエチレンスキンのケースであり、それはその低表面張力が接 着を妨げるからである。しかしながら、いづれの付加された層もこのスキン層の マイクロテキスチャー化に有意なる影響を及ぼしてはならない。

本発明の一つの独特な特徴は、フィルム形成の条件、該エラストマー中核層の性 質、該ラミネートフィルムを伸ばした方法、及び該エラストマー中核層と該スキ ン層の相対的な厚みに依存する該ラミネートの収縮−回復メカニズムのコントロ ール能力にある。これらの多様性を本発明の教示に従ってコントロールすること により、該ラミネートフィルムは瞬時に回復するもの、時間をがけて回復するも の、熱活性化に基づいて回復するものへとデザインすることができる。

瞬時に収縮回復できるラミネートは、伸ばされたエラストマーラミネートが１秒 間に１５％以上回復しうるちのである。時間をかけて回復するラミネートは伸ば した後に１５％の回復点が１秒以上、好ましくは５秒以上、最も好ましくは２０ 秒以上かかるものであり、そして熱収縮できるラミネートは伸ばした後の最初の ２０秒において、このラミネートに対して１５％以下の収縮回復が生ずるもので ある。％回復は、活性化領域の伸ばした長さからもとの長さを差し引いた収縮値 のパーセンテージである。熱収縮にとって、有意な熱−活性化回復を開始せしめ うる活性化温度が存在する。熱収縮回復のために利用される活性化温度は一般に 、全可能回復の５０％（Ｔ　−−ｓつ）をもたらす温度であり、そして好ましく はこの温度は全可能回復の９０％（Ｔ１−ｑ。）をもたらしうる温度である。全 可能回復は予備活性化収縮の値を含む。

一般に、優先的な活性化領域における該ラミネートのスキン層が比較的薄い場合 、このラミネートは伸長後に瞬時に縮む又は回復する傾向にあるであろう。該ス キンの厚みを十分に大きくしたら、このラミネートは活性化領域において熱収縮 性となりうる。この現象は該エラストマー中核層を非熱収縮性材料から作ったと きでさえも起こりうる。該エラストマー中核層及び該スキン層の厚みの慎重なる 選択により、設定値付近で該ラミネートが回復する温度が一定の範囲内にコント ロールされるようになる。これをスキンコントロール化回復といい、ここで該ス キンの厚み及び組成を変えることにより、エラストマー中核の弾性回復活性化温 度を有意な程度に、一般には少なくとも１０°Ｆ（５，６℃）そして好ましくは １５°Ｆ（８，３℃）以上上昇させることができる。有効なるいかなるスキン厚 みを利用してよいが、厚過ぎることは、このスキンが伸ばされたときにこのラミ ネートが永久歪を残すようにすることがある。一般に、一枚のスキンがこのラミ ネートの３０％以下である場合にはこのことは生じない。はとんどの熱−又は時 間−収縮材料に関して、このエラストマーラミネートの伸長せしめた且つ活性化 せしめた領域は冷却すべきであり、これによって伸長中に放出されるエネルギー が瞬時的な熱−活性化弾性回復を生じせしめないようにする。収縮−回復メカニ ズムの細かな調節は、活性化領域を伸長せしめる程度を調整することによって成 し遂げられうる。しかしながら、優先的に活性化される領域を有意に伸ばすこと を所望するとき、隣接する優先的に活性化されない領域はこの所望する程度の伸 長にてこの活性化領域の瞬間弾性率より大きいヤング率を有すべきである。

該ラミネートの領域の活性化に必要とされる伸長の値をコントロールするための 能力と組合せた、上記のエラストマーラミネートの活性化８Ｎ域の収縮−回復メ カニズムを制御する全体的なコントロールは非常に重要な利点である。このコン トロールは製造プロセスの要件に合うよう該エラストマーラミネートの活性化及 び回復メカニズムの調整を可能とし、これによってエラストマーの収縮−回復メ カニズムに合うように製法プロセスを調整する必要性がなくなる。

スキンによりコントロールされた回復を熱収縮メカニズムと同様に遅い−、即ち 、時間−収縮回復メカニズムのコントロールのためにも利用できる。この収縮− 回復メカニズムは瞬時−と熱−収縮回復の中間として起きる。スキン層及び伸長 比のコントロールは、熱−収縮メカニズムにおけるように、該収縮メカニズムを いづれかの方向、即ち、熱−又は瞬時−収縮エラストマーラミネートへと変える 更なる能力によって可能である。

時間−収縮回復ラミネート材料はある程度の熱−収縮特性及びその反対の特性を も示すであろう０例えば、時間−収縮ラミネートは例えば伸長せしめた後２０秒 以内に熱にかけることによって早急に回復することができうる。

はとんどの時間−収縮及びいくつかの低活性化温度熱収縮回復ラミネートに関し て、回復は機械的変形又は活性化によって開始させることもできる。このケース において、該ラミネートは筋が付けられる、折りたたまれる、しわがつけられる 等がされ、該スキンの局在した早急的な折りたたみを生じせしめる局在した応力 破断が生じ、このことは回復マイクロテキスチャー化ラミネートの形成を促進せ しめる。機械的活性化は任意の適切な方法、例えばテキスチャーの付いたロール 、スコアリングホイール、機械的変形等を用いることによって行うことができる 。

図１１は例２７に従って調製したポリプロピレン／スチレン−イソプレン−スチ レン（Ｓ　Ｉ　Ｓ）　／ポリプロピレン（ＰＰ）ラミネートに関する収縮メカニ ズムの図を示す、この図はスキン／中核比及びスキン比による、収縮回復メカニ ズムをコントロールする能力を実証する。

図１１は特定の出発材料のセット及び厚みの例示であるが、これは層比及び伸長 率と該ラミネートの収縮メカニズムとの一般的な関係を代表する。その他の変更 、例えばラミネート全体の厚み、結束層の存在並びに任意の接着層の厚み及び種 類は上記の関係に影響を及ぼすであろう。しかしながら、中核／スキン比及び伸 長率と緩和方法との一般的な関係は存在し続ける。

上記のエラストマー中核層に対する添加剤はこの収縮回復メカニズムに大いに影 響を及ぼすことがある０例えば剛化剤、例えばポリスチレンは熱収縮性ラミネー トを時間−又は瞬時−収縮ラミネートへとシフトさせることができる。しかしな がら、ポリプロピレン又は線状低密度ポリエチレン（１５％以下）のスチレン／ イソプレン／スチレンブロックコポリマー中核への添加はまさに反対の効果、即 ち、時間−又は瞬時−収縮ラミネートを熱〜収縮又は非−収縮ラミ７−トへと変 換せしめることをもたらす、しかしながら該エラストマー中核層におけるポリオ レフィン利用の可能性はオフパッチの限定された再利用を可能とするプロセスの 見地にとって重要であり、従ってポリオレフィンの添加は押し出し機のトルクを 低めることができる。このような添加剤は本発明の低弾性領域を提供することに おいて、この添加剤の弾性効果に依存してこのような領域又はそれに隣接する高 弾性領域に選択的に含ませるときに有用でもある。

本発明の更なる独特な特徴は、エラストマーラミネートの活性化領域の摩擦係数 （Ｃ，Ｏ，Ｆ、）を有意に下げる能力にある。マイクロテキスチャー化はこのＣ ，Ｏ，Ｆ、低下に役立つ主要なる要因であり、これは前記した通り、該ラミネー トを伸長せしめる方法のみによってでなく、伸長の程度、ラミネート全体の厚み 、ラミネート層の組成及び中核一対一スキンの比によっても調整可能である。

微細なテキスチャーは低Ｃ，ＯｏＦ、値をもたらす、好ましくは、注型ラミネー トと比較して本発明に従って微細構造化表面を形成せしめた場合、伸長方向にお いて、このＣ，０，Ｆ、はマイクロテキスチャー化されたラミネートのそれ自体 に対して０．５の係数、最も好ましくは少なくとも０．１の係数下がるであろう 、　Ｃ，Ｏ，Ｆ、を下げるこの能力はフィルムに関するよりソフトなテキスチャ ー及び感触に役立ち、これは医療及び衣料産業における利用のために所望される 。

該ラミネートの活性化領域における書き込み性は、伸長せしめたラミネートが回 復したときに得られる微細構造化表面によっても向上する。有機溶剤又は水をベ ースとするインクのいづれもがこの微細構造化表面の孔の中へと流れ込み、そし てそこで乾く傾向にある。

図６は伸長せしめていない、テキスチャー化していないラミネートの表面を示し 、ここではインクはビーズ状となる。図７はマイクロテキスチャー化した表面を 作り上げるために伸長及び回復せしめた後の図６のラミ名−トについての書き込 み性の向上を示す（例２４を参照のこと）。インクがより粘性なほど、この表面 の微細孔に吸われ、従ってにじみ出る傾向は低い。同様に、スキン層とインクと の間の表面引力がより高いほど、この微細構造化表面の書き込み特性はより優れ るであろう。フィルムのこのような書き込み表面特性は、マイクロテキスチャー 化を邪魔しない限り、今日迄の常用の添加剤又は表面処理技術によって変えられ うる。

同時係属出願Ｓ、Ｎ、０７／４３８．５９３号のラミネート構造に対する本発明 のそれにおける改善は、このラミネート横断面の選ばれた領域又はゾーンでの弾 性率又は応力のコントロールにある。第１に、全体的に低めの弾性を有するよう にコントロールされたゾーン又は領域は、配向している応力の方向においてそれ に隣接する、高弾性領域の前に優先的に歪むであろう、この弾性率のコントロー ルは、ラミネート形成段階の前、形成段階又は特定のラミネートもしくはラミネ ート中間体の形成後での処理を含むことができる種々の方法によって成し遂げら れる。

同様に、ラミネート全体に適用する応力の局在化は、このような局在化応力領域 を含む領域における優先的伸長をもたらしうる。この応力のコントロールはこの ラミネートの形成における任意の複数の段階における種々の段階によって影響さ れることもある。

ラミネート形成後の弾性又は応力処理は、ベース材料を製造する装置を改造する ことなくラミネートの改質を可能にする利点を有する。同一のラインで、横断面 にわたって相対的に一定の弾性率を有するラミネート、又は改質された弾性率も しくは応力の値の領域をもたらすようにその後処理するべきラミネートを製造す ることができる。このラミネート形成後の弾性率処理は、形成後のアニール化、 選択的な架橋又は選択的な可塑化を含むことができる。形成後の応力の局在化は 、局在化コロナ処理、機械的アブレーション、スコアリング、ラミネート材料の 切断、押し込み、コントロールされた局在化伸長等の処理によって行なわれうる 。

コロナ処理において、この処理はパワー密度及び／又は暴露時間を変更しながら 、飽和時点まで行う、飽和時点にて、この表面の酸化の程度はそれ以上上昇せず 、そして更なる処理は表面のアブレージジンをもたらす。コロナ処理はマスクの 利用によって選択的に適用されうる。飽和時点は処理するラミネートの温度を高 めることによってより早く到達しうる。このラミネートの温度は全てのアニーリ ング効果が優先的とならない限り１もしくは複数の層のガラス転移点より高く高 めることさえもできる。このことは最終製品における利点を有し、なぜならアニ ーリングは層の接触面にて局在した応力を緩和せしめるからである。このことは 製品の安定性を高めることができ、なぜなら応力は一定のエラストマーの崩壊及 び離層を促進することがあるからである。

アブレージジンを伴わない低パワーコロナ処理も可能である。このケースにおい て、このラミネートは飽和時点以下に処理されうる。

優先的応力領域は、例えばコロナ処理の巻取ロール又はその表面からの引取角度 を変えることによって形成されるであろう、鋭利な巻取角度は、コロナ処理され たこの表面材料に微小亀裂を作り上げる。

一般に法線から１１０°以上の角度で十分である。これは優先的応力領域を作り 上げる。これはコロナ処理縦断ゾーン（装置進行方向において）によって成し遂 げられるのが好ましく、鋭利な巻取角度にかけたとき、微小亀裂を伴うのと伴わ ない交互のゾーンが作り出されるであろう。

アニーリングは、改質する材料に依存して、任意の適切なる温度及び任意の適切 な時間にわたって行うことができる。一般に、この温度はスキン層材料のガラス 転移温度より高い、このスキン層の融点以上に熱したとき、優先的又は非優先的 のいづれかの活性化領域を作り出すため、隣接する領域よりも多く又は少なく結 晶化を誘発せしめる速度で冷却することができる。特定の好ましいアニーリング 温度はその材料において既に存在している結晶度の値及びその材料自体に依存し うる。

弾性又は応力改質を行うには、処理方法は例えば図１４（Ａ）において示す二重 歪点を伸長応力のもとで示すであろうラミネートを形成することができるべきで ある。この図において、第１の歪点ＤＤは低弾性（複数の）領域又は（複数の） ゾーンにおける伸長配向の開始に相当し、そして第２の歪点ＥＥは高弾性（複数 の）領域又は（複数の）ゾーンにおける伸長配向の開始に相当する。この二重歪 点は優れ局在化した、弾性率コントロールされたラミネートの弾性活性化にとっ て本質的である。この２つの点が離れているほど、局在化配向及び弾性活性化の コントロールの能力がより正確となりうる。歪点がより離れていることは、高弾 性率領域における２次伸長の開始に先んじて、低弾性率領域におけるより長い伸 長率をも可能にする。この二重歪点は、複雑な複合表面構造を作り上げるために 低弾性率又は応力のパターン配列を利用したときは本質的でない。

このケースにおいて、多数、でなければ真人な数の歪点が存在することがありう り、なぜなら弾性率は伸長の方向に対して横方向に大いに変動しろるからである 。

形成後のアニーリングに伴い、温度コントロールされたアニーリングによって活 性化されうる特定のポリマーの異なる結晶化状態の利点を利用して異なる弾性率 領域が得られる。一般に、有意に異なる弾性率の値を有する領域及びもしこの領 域が伸長方向に対して遺品の大きさ及び配置、構造形態並びに／又は結晶間の結 束鎖における変化をもたらすことができ、これらの変化はポリマーの弾性率に影 響する。形成後のアニーリングに関し、この有効なアニーリング温度は一般にガ ラス転移温度よりも有意に高い、押し出しされ、そして低温ロール上で注型され た材料は、低温ロールの温度、配向、引落しくｄｒａｗｄｏｗｎ）　、押し出し 温度等に依存して一定の程度の結晶度を有するであろう。更なるアニーリングを 誘発するため、この温度は一般にはＴｇより少なくとも５℃以上、そして一定の ポリマー、例えばポリプロピレンに関してはＴｇよりも少なくとも５０℃以上で あろう。より高いアニーリング温度が一般に好ましく、なぜならこのことはアニ ーリング時間を短く保ち、且つ結晶度におけるより有意なる変化を一般的に促進 せしめうるからである。

アニーリング又は結晶化改質はラミネートの形成中に行うこともできる。例えば 、キャスティングホイール上での押し出しがラミネートの形成に利用されるとき 、このキャスティングホイールは複数の結晶化状態を有するラミネートを形成せ しめるための異なった温度のゾーンを有することができる。１ｉ［のアニーリン グ工程がその他の押し出し又はラミネート形成プロセスにおいて利用できる。

アニーリングは特定の層において行うこともできる０例えば、アニーリングロー ルとの接触の温度及び時間等を、アニーリングを特定の層に限定するためにコン トロールすることができる。更にアニーリングは特定の層又は複数の層であって 、その復信の層と一緒にされる層に対して行うことができる（例えば連続押し出 し又はラミネーションプロセスにおいて）。

本発明のエラストマーラミネートの関連のスキン及び／中核層の形成において利 用する適切なポリマーは一般に前記のアニーリング処理に通し、これにはポリオ レフィン、例えばポリプロピレンもしくはポリブチレン、ナイロン、半結晶ポリ エステル、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートも しくはポリエチレンナフタレート又はポリビニルイデンフルオリドが含まれる。

図１３は変化するアニール化表面パーセンテージを存する本発明に従って形成せ しめた一連のアニール化構造を示す。図１４の（Ａ）＝（Ｃ）は図１３において 示すアニール化構造（濃い影の付いた領域はアニール化領域を示す）に関する張 カ一対−歪のプロットである０図１４（Ａ、）において、このラミネートの５つ の異なる弾性挙動ゾーンが存在している。このラミネートはアニール化ストライ プに対して横方向に伸ばしである。ゾーンＪは非アニール化領域における弾性変 形に相当する。ゾーンには、非アニール化領域における塑性変形の開始に相当す る。ゾーンＬは連続する、非アニール化領域における配向及びアニール化領域に おける弾性変形に相当する。

ゾーンＭはアニール化Ｗ！域における塑性変形の開始に相当し、そしてゾーンＱ ばラミネート全体の配向に相当する０点ＤＤ及びＥＥは前記した通り、非アニー ル化及びアニール化領域それぞれについての弾性と塑性変形の転位点である。同 様のプロット、図１４（Ｂ）及び（Ｃ）は図１３の５０％及び７５％アニール化 構造に関して作成され、ここでＤＤ及びＥＥを同じ転移点を示した。このような 点は明確ではないが、アニール化から非アニール化領域への熱転移が若干の転移 性をもたらすことに基づき、わずかにアニール化したゾーンである信じられてい る。このような転移ゾーンはプロットせしめた転移点の鋭さを引き下げる。

形成せしめたラミネート又は中間層構造は、特定のスキン又は中核層の一定の領 域を選択的に軟化させるために適切な可塑剤によって処理することもできる。こ れは一般に、このように処理された領域における弾性率を低め、再び二重歪点ラ ミネートの生成を可能にしうる。一般に特定の層を軟化せしめうる任意の可塑剤 は、あるレベルにてわずかに機能するであろう、特定のポリマーに適する可塑剤 は一般によく知られ、そして本発明における利用のために考慮される。この可塑 剤は、グラビア、押し出しコーティング、スプレーコーティング、マイヤーバー （Ｍｅｙｅｒ　ｂａｒ）コーティング又は他の常法を含む任意の適切なコーティ ング技術によって特定の領域に適用されうる。ところで、この可塑剤はこのコー ティング領域から有意に移行（＠ｉｇｒａｔｅ）するべきでなく、さもなければ ゾーン分解は失われるであろう。

形成せしめたラミネート又は中間層もしくは複数の中間層は、ラミネートの選ば れた領域の開化を可能にするために適切な架橋処理にかけることもできる。架橋 は任意の適切な方法、例えば化学的、熱的又は輻射によって開始されうる。光開 始剤には、例えばベンゾインエーテル、ベンジルジアルキルケタール、例えば２ ，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、ベンゾフェノン及びアセトフ ェノン誘導体、例えば２，２−ジェトキシアセトフェノンが含まれる。一般に架 橋すべき層の中に、この架橋の前後にて硬化剤を導入することが必要とされる０ 例えば、照射架橋に間して、架橋剤を例えば押し出しの前にこの層に導入し、次 いでこの層を例えばこのラミネートのある特定の領域を適当なタイプ及び量の輻 射によって選択的に照射せしめることによって選択的輻射にかけることができる 。この照射プロセスは可塑化に関して前記したラミネートの形成中に同様に行う ことができる。架橋剤を、層が形成された後に例えば局所適用（例えば溶媒キャ リヤーと一緒に）によって、又は任意の適切な方法（例えば本明細書に記載の同 時押し出し方法）によってこのラミネートの選択的な領域に導入することもでき る。

形成されたフィルムはオンライン局所加熱、その直後でのラミネートが冷える前 の伸長活性化によっても改質されうる。このケースにおいて、このラミネートは 熱せられた領域、即ち高温がこの材料を軟化せしめた、それ故この材料の弾性率 が低められた領域にてまず歪むであろう、これはアニーリングを起こした（即ち 、熱した領域を冷却する）ときに一般に得られるのと反対の効果である。アニー リングにより、熱は応力を開放し、そして配向を誘発せしめる。

これは一般により結晶状且つ剛性のポリマーの形成を可能にする。

このようなアニール化領域は応力のもとに置いたとき、優先的に歪み形成に耐え うるであろう。

局所的な弾性率改質を、（複数の）層のストリップ同時押し出しによってこのラ ミネートに組入れることもできる。ストリップ同時押し出しとは、一枚の層が、 種々の弾性率の値を有する複数の領域を形成するように押し出しされた複数のポ リマー流から形成できることを意味する。この領域の弾性率の値をその後調整す るために添加剤を加えることができる（例えば架橋剤）、この多重複合体又は複 合層を次に、同様にストリップ同時押し出しされたかもしくはされていないその 他の（複数の）層と一緒にさせることができる。ストリップ同時押し出しに関す る好ましいメカニズムを図３において示し、ここでり、Ｄ’及びＤ′は例えば米 国特許第３．５５７．２６５号（Ｃｈｉｓｈｏ１ｇ＋）に開示されている多重層 フィードブロック又はマニホールドである。この多重層フィードブロックはスト リップ押し出し層を形成せしめ、そしてストリップ押し出し層又はフィルムの高 さ及び幅を変えるためにトランジションピース（ｔｒａｎｓｉ　ｔｉｏｎ’　ｐ ｉｅｃｅｓ）と−緒に利用できる。Ｅは常用の多重層用ダイ又は貼り合わせアダ プターであり、そしてこのダイは例えば米国特許第４，１５２，３８７号又は第 ４，１９７，０６９号（Ｃ１ｏｅｒｅｎ）に開示されてイル、示Ｌ　タ通す、多 重層フィードブロック又はマニホールドが、多重層ダイＥの層通路それぞれ、又 はこのようなダイの一本の通路のみへの供給のために利用できる。マニホールド Ｄの配置に依存して、各層において、異なる組成の２種以上のストリップが存在 しうる。一般に、交互に２種のストリップを多重層フィードブロックによって供 給する。しかしながら、例えば−ｅｉｓｎｅｒら、米国特許第４，４３５．１４ １号において開示のフィードブロックを用いることにより（３種交互のストリッ プ）、２種より多くのストリップが形成できる。ＡＡ、ＢＢ及びＣＣは押し出し 機である。ＡＡ’　、ＢＢ’及びＣＣ′はフィードブロック又はマニホールドダ イに流れ込む可塑性材料の流れである。

Ｅは３層以上（例えば５層）のフィードブロック及びダイであり、Ｆは加熱キャ スティングロールであり、そしてＧ及びＨはラミネートの引取及び巻取を促進せ しめるロールである。

利用されるこのダイ及びフィードブロックは一般にポリマー流及び層接着を促進 するために加熱する。ダイの温度は利用するポリマー及び任意のその後の処理に 依存する。一般に、ダイの温度は本質的ではないが、しかし例示したポリマーに とって３５０−５５０＠Ｆ　（１７６，７−２８７，８°Ｃ）の温度の範囲が一 般的である。

Ｗｅｉｓｎｅｒらの装備を利用することにより、最大３種の独立した弾性率領域 を有するラミネート層を得ることが可能である。多重層ラミネートに関して、各 層は異なる潜在的な弾性率の値を有する材料のストリップによって同様に形成さ れうる。これを図１において、３層ラミネートに関して示す。

図１において、１０〜１８の各番号は同−又は同一でなくてもよく、そして重っ ていても又はしていな（でもよい個々のストリップを表わす、３層の態様に関し て、ストリップ１０〜１２及び１６〜１８を有する外層２及び３は好ましくはス キン層である。各ストリップは、ラミネート全体の選ばれた領域において異なる 弾性率の値を付与するように選ばれた任意の潜在的なスキン材料より成る。他方 、供給マニホールドにおいてｌＮ１１１のストリップとして供給されるポリマー の弾性率を調整するために添加剤を加えることができ、ここでこのポリマーは隣 接するストリップのポリマーと同一であってもなくてもよい、これには添加剤、 例えば開化補助剤、例えばポリスチレン；軟化補助剤、例えば可塑剤；充填剤； 又は成形加工後の改質剤、例えば架橋剤が含まれる。これらの添加剤は、この層 のポリマーマトリックスが全体として同一のものとして保持されることを可能と しながら、スキン又は中核層の選ばれたストリップを改質するために利用されう る。この手法は、隣接のストリップに供給される材料が非相容性ポリマーである ときに比べて、考えられるストリップ分離又は相客剤の必要性を最小にするのに 役立つ。

中核層（ストリップ１３−１５）は、種々の弾性率の値の領域を有するラミネー トをもたらすよう、異なる弾性率を有する弾性材料のストリップより成ることが できる。他方、この中核は弾性材料と高い弾性率の非弾性材料の交互のストリッ プより成りうる。このことは価格の点において好ましい、しかしながら、もしこ の弾性及び非弾性材料が明らかに非相容性のとき、このストリップは伸ばしたと きに分離しうる。

ラミネートにおける局所領域での応力の集中は既に説明されている多数の方法の いずれかにおいて成し遂げられうる。応力を集中させるために処理された領域は 、歪伸長に関する開始点として働くであろう０例えば、応力をかけたラミネート は筋を付けられた点にて優先的に歪むであろう、このラミネートの全体領域にわ たっての優先的な伸長を得るため、この領域は多数の筋を有する領域を優先的に 含むであろう。一般に、ある領域において筋の集中度が高いほど、その領域にお ける優先的な伸長はより正確となるであろう。同様に、他の方法、例えばアブレ ーション又はコロナ放電によるより集中的且つ限定した処理は、優先的伸長をよ り正確にするであろう。

本発明のラミネート又は予備ラミネート構造はあらゆる常用の形成プロセス、例 えば材料を一緒に圧搾せしめること、層を同時押し出しせしめること又は層の逐 次的押し出しによって形成せしめることができるが、考えられるほとんどの弾性 率改質処理方法によるラミネートの形成に関しては同時押し出しが現状好ましい プロセスである。しかしながら、中央のラミネート層を直接的に処理する弾性率 改質処理方法は、直接的な同時押し出し方法によって利用することはできない。

同時押し出し自体は周知であり、そして例えば米国特許第３，５５７，２６５号 （Ｃｈｆｓｈｏ１ｍ＋ら）、第３．４７９．４２５号（Ｌｅｆｅｒｒｅら）に詳 細されている。チューブ式同時押し出し又は二重バブル押し出しも可能である。

該層は典型的には、ラミネートを形成しながら種々の材料を接触させるようにす る特別のダイ及び／又はフィードブロックを介して同時押し出しされる。

該ラミネートがコーティング、ラミネーシヨン、逐次的押し出し、同時押し出し 又はそれらの組合せによって作られようと、形成されるこのラミネート及びその 層はこのラミネートにわたって実質的に一様な厚みを有することが好ましい、こ の状態において作られるラミネートは、例えばカールする、弾性率が変化する、 はつれる等の最小の縁効果を伴う一般的に一様な特性を有する。

本発明のラミネートは限定されない有用な幅の範囲を有し、この幅は組立て装置 の幅の制限によってのみ限定される。こ、のことは、広範囲にわたる種々の有用 な利用のためのゾーン活性可能なマイクロチキスチャー化ラミネートの成形加工 を可能とする。

ゾーン活性化可能なラミネートを形成せしめた後、このスキン層の、変形する、 独占的もしくは好適に低弾性率領域又は好ましい応力領域における弾性限界を超 えてこのラミネートを伸ばす、このゾーン活性化ラミネートは前記した通り、瞬 時に、時間をかけて、又は熱の適用によって回復する。熱で活性化する回復に関 して、熱活性化の固有温度はまず第１に該ラミネートの弾性層を形成するのに用 いた材料によって決定される。しかしながら、任意の特定のラミネートに関して 、その活性化温度、例えばＴ、−３゜又はＴ、−９゜のいづれかは、該ラミネー トの中核／スキンの比を変えること、伸長率又はラミネート全体の厚みを調整す ることによって調整されうる。熱収縮ラミネートのために利用する活性化温度は 一般に少なくとも８０°Ｆ（２６，７°ＣＬ好ましくは少なくとも９０°Ｆ　（ ３２，２℃）、そして最も好ましくは１００’Ｆ（３７，８℃）以上である。熱 活性化せしめた場合、この伸ばしたラミネートを冷却ローラー上で急冷し、伸長 中での活性化領域における早急的活性化ラミネート回復を防ぐ。この冷却ロール の温度はこの活性化温度より低く維持する。

図２は一般的なデイメンシヨンの図であり、これは活性化領域において一軸伸長 し且つ回復したラミネートのために様々となる。主たるテキスチャーは一連の規 則的な反復折りたたみである。これらの可変部はＡ−Ａ’の総高、Ｂ−Ｂ’の山 から山への距離及びＣ−Ｃ′の山から谷への距離である。これらの可変部は、一 連のポリオレフィン／スチレン−イソプレン−スチレン／ポリオレフィンラミネ ートに関して測定した。Ａ−Ａ’　、Ｂ−Ｂ’及びｃ−ｃ’についての一般的な 範囲を記録した。総高（Ａ−Ａ’　）に関して測定された範囲は０．７９〜３２ ミル（０，０２−０，８１■）であった。山から山の距離（Ｂ−Ｂ’　）又は折 りたたみ周期に関して測定された範囲は０．７９−１１．８ミル（０，０２−０ ，３０１）であった、山から谷の距離（ｃ−ｃ’　）に関して測定された範囲は ０．０４〜１９．７ミル（０，００１−０，５ｍ）であった、これらの範囲は本 発明の実施によって得られた表面特性の単なる例示にすぎない、その他の組成の ラミネートは異なる微細構造及び微細構造寸法を示すであろう、適切なるコア／ スキン比、厚み、伸長率及び層組成の選択によって上記の範囲以外の寸法を得る ことも可能であろう。

活性化は一般に、異なる弾性率又は応力特性のかたよったゾーン又は領域を少な （とも有するこのフィルムの主要範囲に対して実質的に横方向においてこのラミ ネートを伸ばすことによって達成されうる。このようなゾーンは例えば、単独の 一様な弾性率領域又は全体的ゾーン複合弾性率値をもたらす複数の異なる弾性率 値の領域を含んで成りうる。この複合値は、それが含んで成る低及び高弾性率領 域の配列及び位置に依存するであろう、一定のフィルムに関して、高弾性率領域 は、低弾性率領域であると見い出される連続的なマトリックスを（伸長の方向に おいて）占めるか、又は低弾性率マトリックスにおける興った領域に分散されて いることができる。高弾性り、そしてσ目は瞬間低弾性率領域応力である）に従 って一定の応力を示すであろう、更なる瞬間総ヤング率（ａＴ＝）は一般に以下 の式（２）に記載の通りでありうる。

（３）　ｆｂ　＋ｆＬ＝１であり、そして（４）　π１＝πｋ　ｆｈ±πＬ　ｆ Ｌであり、ｆは特定の弾性率領域の容積分率であり、πは応力を表わし、そして ρはこの範囲に関する複合弾性率である。最も低い弾性率を有する範囲が第１に 優先的に歪み、その応力が隣接する最も高弾性率を有する範囲の歪点に勝るまで 歪み続けるであろう。

該ラミネートが応力の方向において連続的な低弾性率領域を有するとき、その伸 長はこのような低弾性率領域において優先的に広がるであろう。しかしながら応 力は以下の式（５）に従って一定に保たれるであろう。

（５）　π、−π、−πア ここで（６）　σアーσｈ　ｆｋ＋σＬ　ｆＬである。

ら、この断面において、その弾性率がこの断面内の材料に伴って変化するに従い （ｇｍ）、高又は低弾性率ゾーンのいづれかを形成せしめる材料によって怒じ取 られるこの断面を横切る応力（σ、）は、式（７〕に従ってこの材料の弾性率（ ｅ、）に反比例して変化するであろう。

以上の説明は、低及び高弾性率領域を変えることによる材料挙動の簡単なバージ ョンを表わす。しかしながら、これは全体的又は局所的なフィルム挙動の優れた 近似を示す。

予め決められた領域のみを伸長方向に対して横方向に活性化することを所望する 簡単な基本的１！様、例えば図１７のおむつ用タブに関して、その説明は簡潔に できる。非優先的に活性化される領域は全部でないにしても主として高弾性率材 料又は非優先的応力材料であることが理解されている（図工を参照）。優先的に 活性化される領域において、伸長に対して横方向の範囲は、その長さの少な（と も２０％以上、そしてより好ましくは５０％以上が、低弾性率又は優先的応力材 料の領域と交差していることが好ましいであろう。このことば、このラミネート が少なくとも１つの９１Ｍ又はゾーンにて優先的に活性化されることを引き起こ すであろう。一般に、非優先的に活性化される領域又はゾーンにおいて、この範 囲は優先的に活性化される領域又はゾーンにおける対応の範囲よりも平均して少 なくとも２０％少なく、そしてより好ましくは少なくとも５０％少なく低弾性率 又は優先的応力材料と公差するであろう。優先的活性化を確実とするため、この 非優先的に活性化されるゾーンにおける範囲はそれらの広がりにわたって低弾性 率又は優先的応力材料を有さないことが最も好ましいであろう。同様に、低弾性 率材料領域はこのフィルムの優先的に活性化された領域又はゾーンの全長にわた って連続的に広がることが好ましい、製造上及び実用上の理由のために好ましく ないが、前記した通り複数の低弾性率材料領域が単独の優先的活性化ゾーンを規 定できる。

フィルムの特定の材料領域、部分又はゾーンを優先的に弾性化することが所望さ れるため、ラミネート全体を弾性化するほど多軸伸長は所望されていない。多軸 伸長は、少なくとも一枚の連続エラストマ一層が用いられているとき、ラミネー ト全体を活性化せしめる傾向を有する。しかしながら、多軸伸長は、少なくとも その一次伸長方向が低弾性率又は優先的応力材料を含む領域又はゾーンを優先的 活性化できる長さまで可能であり、従ってこのラミネートをこのようなゾーンを 優先的に活性化せしめるのに十分な程度にまで伸長する。残りの伸長方向はほと んどの場合において、この−次方向に対して直交し、これは一般に低弾性率又は 優先的応力材料を含むゾ−ンを優先的に活性化することのできない方向である。

このような二次方向における伸長の程度は、もし上記の活性化が所望されている とき、その横方向の相対的に高い弾性率又は非優先的応力の領域又はゾーンを活 性化するために必要とされるそれよりも小さくなくてはならない。

ところでより複雑な微細構造が所望される場合に多軸伸長が所望されることがあ る。例えば二輪伸長はラミネートを作り出しながら固有の表面を作り出し、この ラミネートは多方向において伸び、そして柔軟な感触性を保つであろう。

この微細構造化表面の折りたたみ周期はコア／スキン比に依存することも見い出 される。この周期性は表１に記載の表面のテキスチャーの指標でもある。これは 更に、本発明のパラメーターの慎重なる選択によって可能なコントロールの他の 指標である。

ラミネートをまず１つの方向に伸ばし、次いでその交差方向に伸ばした場合、第 １の伸長に基づいて形成された折りたたみはねじれた折りたたみとなり、そして 図９に示すような交差折りたたみを交えたみみず様の特徴となって現れることが ある。図９は１８のコア／スキン比を有するＰＰ／スチレン−イソプレン−スチ レン（ＳＩＳ）／ＰＰのラミネートである。その他のテキスチャーも、いろいろ に折りたたまれた又は基本的な規則性折りたたみにしわのついたバリエーション を提供することが可能である。このフィルムを同時に両方向に伸ばしたとき、図 ５（それぞれ５／１１５１５ミクロンの厚みを有するスキン／中核／スキンを存 する例１９Ａに通りに作ったラミネート）又は図１０（例２３）に示す通り、こ のテキスチャーはランダムな長さ方向を有する折りたたみとして現れる。任意の 上記の伸長方向を利用しながら、この表面構造は前記した通り利用した材料、層 の厚み、層の厚みの比及び伸長率に依存する。例えば押し出しした多重層フィル ムを一軸に、逐次的に二輪に、又は同時に二輪に伸長せしめることができ、そし て各方法は固有の表面テキスチャー及び独特のエラストマー特性を提供する。

本発明の固有の連続マイクロテキスチャー化表面は材料及び処理パラメーターの 適切な選択によって変える及びコントロールすることができる。この層の材料特 性における相違は得られるマイクロテキスチャー化スキンを変えることができる が、層の比、ラミネートフィルムの全体的な厚み、層の枚数、伸長の程度及び伸 長方向の慎重なる選択は、このラミネート表面の微細構造にわたる優れた有意な るコントロールを可能とする。

本発明に従って製造されるエラストマーラミネートのマイクロテキスチャー化の 程度はスキン表面積の増大としても説明できる。このラミネートが多量のテキス チャーを示すとき、この表面積は有意に増大するであろう。これは表■、例１６ における線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）／Ｓ　Ｉｓ／ＬＬＤＰＥラミネ ートに関して実証されている。この例において、伸長率を大きくするに従い、伸 長せしめていないものから伸長且つ回復せしめたラミネートへの、その表面にお けるパーセンテージ増加も大きくなる（伸長率５にて２８０から、伸長率１２に て５３０まで）、一般にこのマイクロテキスチャー化は表面積を少なくとも５０ ％、好ましくは少なくとも１００％、そして最も好ましくは少なくとも２５０％ 増大させるであろう０表面積の増大はこのラミネート表面の全体的なテキスチャ ー及び感触に貢献する。

スキン、それ故ラミネートの不透明度の増大もマイクロテキスチャー化に由来す る。一般に、マイクロテキスチャー化は透明なフィルムの不透明度を少なくとも ２０％、好ましくは３０％上昇させる。

不透明度の上昇はラミネートのテキスチャー化に依存し、粗いテキスチャーの方 が細かいテキスチャーよりも不透明度を上昇させる。

不透明度の上昇はまたある程度可逆性であり、即ち再び伸長せしめたとき、この フィルムは再び透明となる。

適切なスキン及び／又は結束層を間に存する１もしくは複数のエラストマー中核 要素を有することも可能である。このような多重層１！＋６１はこのラミネート のエラストマー及び表面特性を変えるのに用いることができる。

一定の構造により、このマイクロテキスチャー化スキン層は離層する傾向にあり 、そして／又はその下にあるエラストマーは時間をかけて劣化する傾向にありう る。この傾向は特にＡＢＡブロックコポリマーで起こりうる。エラストマー形態 へのこの材料の活性化のための伸長及び回復段階の最中に生ずる残留応力はこの 進行を大いに促進せしめうる。このような劣化又は離層を受け易い構造のため、 活性化させた後に箇潔な緩和又はアニーリングが所望されうる。このアニーリン グは一般に該エラストマーのガラス転移温度（Ｔｇ）より高く、ＡＢＡブロック コポリマーに関するＢブロックのＴｇより高いが、スキンポリマーの融点よりは 低い、低アニーリング温度で一般に十分である。このアニーリングはアニーリン グ温度に依存して一般に０．１秒より長い、市販されているＡＢＡブロックコポ リマー（例えばＫｒａｔｏｎ　（商標）　１１０７）では、約７５°Ｃのアニー リング又は緩和温度で十分であると見い出されている。

伸長且つ活性化せしめたフィルムにおけるスキン層と中核層との接触はこのスキ ン及び中核組成に依存して変わることが観察された。

一定の好ましい構造により、この中核及びスキンは、図２において示す通り、こ のスキン層において形成されている折りたたみを占めている中核材料と完全に接 触し続けている。この構造は特に活性化の後にアニールを行ったとき非常に丈夫 であり、そして離層しにくい。この連続接触構造のバリエーションはエラストマ ーがこのスキンの折りたたみを占めるときに可能でもあるが、しかしながらの折 りたたみのもとて結合が損われることが観察された。これはより厚みのある且つ ／又はより硬質なスキンにおいて生ずるものと考えられ、なぜなら下地の弾性体 は緩和の際により集中的に応力を受けるからである。全体的に異なったスキン／ 中核接着方法も可能である。

即ち、あるケースにおいて中核は、折りたたみのもとでこのスキンから完全に収 縮するが、このスキンが離層しないよう十分に結合し続けることができる（例３ ４、接着性破損を参照のこと）、この構造はそれほど所望されていなく、なぜな らその利用の最中、これはより容易に離層しやすく、従って弾性中核が外気に暴 露されやすく、このことはこのエラストマーの劣化を促進せしめうるからである 。

本発明の以上め詳細に従って形成されるラミネートから大いに所望されている特 性が得られるため、これには真人な数の利用性が見い出されている０例えばこの マイクロテキスチャーはこのエラストマーラミネートに柔い且つ絹状の感触を授 ける。このラミネートの弾性活性化部分は更にノンネンキングとなりうる（即ち 、再伸長せしめたときに薄くならないであろう）、このことはこのエラストマー ラミネートが種々の商業的に重要な利用性、特に弾性体が単独又は衣料の一部と して身体部分に取り付けられる又は取り巻く衣料産業に特によく適するようにす る。このような衣料の例には、使い捨ておむつ、成人の失禁用衣料、シャワーキ ャップ、手術用ガウン、帽子及びブーティ、使い捨てパジャマ、アスレチックラ ップ、クリーンルーム用衣料、キャンプ又は面頬等のためヘッドバンド、くるぶ しバンド（例えばズボンの折り返しプロテクター）、リストバンド等が含まれる 。

このフィルムは、使い捨ておむつにおいて、例えば、ウェストの位置にておむつ の前もしくは横領域のいづれかに位置するウェストバンドとして、脚部ゴムとし て、又はｇ＊可能なスリップオンおむつにおけるこのエラストマーフィルムが利 用できる箇所において、又はタイトフィッティング衣料を作り出すために弾性領 域を有する腰の廻りのサイドパネルにおいて等、広く利用されうる。このフィル ムは常用の方法によって連続的又は断続的な長さとして取り付けることができる 。取り付ける場合、このフィルムの特別なる利点は、高い伸長率を有する薄いエ ラストマーストランド（即ち中核）が利用される能力にあり、ここでこのエラス トマーフィルムの活性化はこのエラストマー領域のサイズ、その活性化伸長率及 び弾性挙動に依存して、コントロールされた伸長率で起こりうる（特に、エラス トマーバンドの縦方向に対して横方向に伸ばしたとき）。

衣料品にはしばしば良い着ごこちを付与せしめるためにひだが付けられる。この ひだ付けは、不安定的に伸ばされた状態にある熱収縮性フィルム材料を取り付け 、次いで熱の適用によってひだ付けを行うことによって容易に得られる。

該エラストマーラミネートは、超音波溶融、熱シーリング及び常用の方法による 取り付けによって衣料品に取り付けることができる。

本発明のラミネートにおいて、接着は活性化されていない高い弾性率又は非優先 的応力領域におけることが好ましい。

接着剤の適用は注型ラミネートの一定の領域を優先的にアニールするために用い ることもできる。ホットメルト塗布せしめた接着剤は柔いスポントを作り出し、 これは冷やしたときに硬くなる。接着剤のコートされた不活性化領域を得るため 、次にこのラミネートを例えば低弾性率領域が連続相となるように優先的に活性 化せしめることができる。このことは、支持体への弾性体の結合を、この支持体 の動きによって生ずる過剰な剪断力に接着剤がさらされることなく、可能にする 。

接着剤は活性化前にスキン層面に適用することもできる。活性化部分又は領域に おけるこのスキン上に形成されたマイクロテキスチャーは、もしこの接着層がほ ぼ形成されるマイクロテキスチャーのサイズ（一般には３０ミクロン以下）であ るとき、この活性化領域における接着剤の粘着性を引き下げることができる。こ のことは、この活性化弾性領域が図１７において示すおむつファスニングタブに おけるような支持体に永久的に固定されないことが好ましいときに有利である。

複数のタイプのテキスチャーを有するラミネートを作り上げる能力は本発明のラ ミネートに多いなる多角性を授ける。異なる活性化（即ち、伸長の程度、スキン の厚み、スキンタイプ他）領域を伴う一般的なフィルム活性化を可能にする優先 的及び非優先的活性化領域のパターンを用いることにより、このフィルムに織物 様又はバルク触感を付与せしめることができる。このことは本質的に真人なる種 々の表面テキスチャーの作製を可能にする。織物様又は類似のテキスチャー化表 面がポリマー及び／又は弾性フィルムの特性を所望する種々の状況において有用 である。

層の比、伸長率及び方向、並びに層の組成を調整することによって得られるコン トロールされた緩和は、本発明のエラストマーラミネートが、高速生産プロセス であって熱活性化回復が高温流体、例えば熱風、マイクロウェーブ、ＵＶ照射、 ガンマ−線、摩擦的に発生せしめた熱及び赤外線照射によって容易にコントロー ルされるプロセスによく適するようにすることができる。マイクロウェーブでは 、添加剤例えば鉄ひげ結晶、アルミニウム粉又はニッケル粉末が、スキンのコン トロールされた回復を及ぼすためにこのスキンの軟化を確実とするのに必要とさ れうる。

該エラストマ一層の弾性率と該スキン層の耐変形性を釣合せることは、このラミ ネートの活性化領域の応力歪特性も改質する。従ってこのラミネートを衣料品に 用いたとき、より良い着ごこちを提供するよう改質させることができる。例えば 、比較的定常の応力−歪曲線が得られうる。この比較的定常な応力−歪曲線は、 予め決定せしめた伸長パーセント、即ち、図４のラインＹに示す、スキンが活性 化されたときに永久変形する点にて鋭い弾性率の上昇を示させるようデザインす ることもできる。

活性化の前、このラミネートは比較的硬質である（図４のラインＺ）。即ち、こ のスキン層に基づいて高い弾性率が授けられている。

このような活性化せしめていない又は伸長せしめていないラミネートは常用の弾 性体よりも操作し易く、且つ高速生産プロセスにより適する。このような利点を 得るため、このスキンは内層、外層又はその両方でありうる０図４において、ラ インＺＺは単独のスキン層であり、そしてラインＸは単独のエラストマー中核層 である。

本発明のラミネートに関するその他の利用は、例えば図１７において示す、米国 特許第３．８００，７９６号に関する弾性化おむつファスニングタブとしての利 用であろう、非弾性末端領域７を提供しながら、優先的活性化領域ゾーン６を所 望の位置に配置させることができる。

このタブは１もしくは複数の優先的活性化部分、ゾーン又は領域を含むストック から切り出すことができる。接着剤８を前記した通り、このラミネート全体を覆 う非弾性末端領域の１もしくは複数の面に適用することができる。

本発明の弾性体のファスニングタブの形成に伴う更なる利点はその多角的な用途 にある。このタブは伸ばしていない状態で販売でき、そして買手によって容易に 活性化されるか、その代りとしてこのタブは伸ばされ、且つ活性化されて利用さ れることができ、いづれの場合においても粘着性ゴムがむき出しになることはな いであろう。

伸ばされ且つ活性化されたタブに伴う更なる利点は、この活性化領域が、低めの 通用圧力にて接着テープを解放せしめる傾向にある表面微細構造を有すであろう ことにある。この特徴は、所望の中心に配置された、低力学的接着性バックサイ ズ領域を形成せしめるのに用いることができ、これは例えば米国特許第４．１７ ７、’８１２号（Ｂｒｏｗｎら）に開示されているファスニングタブに所望され ている。

以下の実施例は現状考えられる好ましい態様及び本発明の実施のための最良の方 法を例示するが、その範囲を限定する意図はない。

例１及び４〜２９は本発明の教示に従う形成後処理に適するラミネートの例であ る。

と 二枚のポリプロピレンの外層及びスチレン−イソプレン−スチレンブロックコポ リマーの中核エラストマ一層を有する三層ラミネートを作るために連続同時押し 出しを行った。２インチ（５，１ＣＩ）のスクリュー径のＢｅｒｌｙｎ　（商標 ）押し出し機（Ｂｅｒｌｙｎ　Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ。

Ｗｏｒｃｈｅｓｔｅｒ、ＭＡＳＳ）を利用してエラストマ一層（Ｋｒａｔｏｎ（ 商標）１１０７゜５ｈｅｌｌ　Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｃｏｉ＋ｐａｎｙ、Ｂｅａｕ ｐｒｅ、ＯＨ）を供給するために用い、そして２枚のポリプロピレン（Ｅｓｃｏ ｒｅｎｅ（商標）３０８５．Ｅｘｘｏｎ　Ｃｈｅｍ、Ｃｏｒｐｏ−ｒａｔｉｏｎ 、　Ｈｏｕｓｔｏｎ、ＴＸより入手可）をＣ１ｏｅｒｅｎ（商標）フィードブロ ックに供給するためにＢｒａｂｅｎｄｅｒ　（商標）１．２５インチ（３，１８ Ｃ１１）スクリュー径押し出し機（ＣＪ、Ｂｒａｂｅｎｄｅｒ　Ｉｎ５ｔｒｕ＠ ｅｎｔｓ、Ｉｎｃ、、ＮＪより入手可）を用い、車軸マニホールドの幅１８イン チ（４６Ｃ１１）のフィルムダイを介して押し出しした。このフィルムを表Ｉに おいて記載の通り総厚みを変えながら、１４．７ｆｔ／分（５０９Ｃ１１／分） にて６０″Ｆ（１６℃）のキャストロール上で注型せしめた０種々の外層の厚み のフィルムが作られた。

このフィルムを、まず各サンプルを手でその破断点よりゎずかに短く一軸方向に 伸ばしくこれは一般に約６５０％である）、サンプルを離し、そして任意の回復 を観察することによって緩和について試験した。初期引っ張り後の回復を瞬間回 復（■）、時間をかけてのゆっくりの回復（Ｔ）、回復のために熱を必要とする （Ｈ）及び永久変形（Ｐ）、即ち有意なる回復がないものとして分類した。結果 を以下の表に示す。

Ａ　５　９０　１．８　１　Ｆ ８　８　１．４５　１８　１　Ｆ Ｃ１２１？５　１４．６　１　Ｍ Ｄ　７　５４　７．７　ｒ　Ｆ Ｅ１４１００　７．Ｉ　ＴＣ Ｆ　８　４８　６　Ｔ−ＨＦ Ｇ　２０　４５　２．２５　Ｐ　滑らが８　２．８　０．５９　１０μ Ｇ　回復せず 該ラミネートのテキスチャーを、この回復の後に視覚的及び触れることによって 評価し、そして微細（Ｉ）、中（Ｍ）、粗い（Ｃ）又は滑らか（テキスチャーが 認識されず）と分類した。このテキスチャーをサンプルＢ、Ｃ及びＥにおいて、 サンプルの周期（折りたたみ間の距離）によって客観的にも調べた。規則的な折 りたたみが粗くなるに従い、それらはより大きく且つより広い間隔のものとして 現れることに注目した。大きい折りたたみはよりランダムな山と山の距離を有し やすいが、それらは比較的規則的な間隔に置かれているままであった。

このサンプルを、サンプルの再伸長に基づく幅の％変化として表わすネッキング 特性についても試験した。これらのサンプルのいづれに関してネッキングは顕著 でなかったが、一般にスキンの厚みは小さくなり、そしてコア対スキンの厚みの 比は上がり、ネッキングは増大した。

周期及びＣ，０，Ｆ、　もサンプルＢ、Ｃ及びＤに関して示し、それらは両方と もコア／スキンの厚みの比に対して反比例した。このサンプルのもとのＣ，Ｏ， Ｆ、は３．８以上であり、従ってマイクロテキスチャー化はＣ，Ｏ，Ｆ、の有意 なる全体的な低下をもたらした。

倒」− モジュールスリーゾーンダイを用いてストリップ同時押し出しサンプルを調製し た。２つの外部ゾーンを１．７５ｉｎ　（４，４４５Ｃ１１）のＰｒｏｄｅｘ　 （商標）（Ｐｒｏｄｅｘ　Ｃｏｒｐ、、Ｆｏｒｄｓ、Ｎに現在Ｈ，Ｐ、Ｍ、Ｃｏ ｒｐ、＋Ｍｔ、Ｇ１１ｅａｄ＋ＯＨ）押し出し機によって供給し、そして中央の ゾーンは１．２５ｉｎ（３，１７５ＣＩ＋１）のＫ１１ｌｉｏｎ（商標）（Ｍｉ ｌｌｉｏｎ　Ｅｘｔｒｕｄｅｒｓ　Ｉｎｃ、、ＣｅｄａｒＧｒｏｖｅ、ＮＪ）押 し出し機によって供給した。この２枚のスキン及び中核の組成並びに押し出し機 のスピードは以下に記載の通りである。

９７７”／Ｌｚ　＃　Ｆｉｎａ３５７６／９８％のＥｌｖａｘ　２６０／Ｆｉｎ ａ　３５７６２％のＣＢ［ｉ　４１０５５Ｅ 中央ゾーン押し出し機　外部ゾーン押し出し機ゾーン　１　：　１４９℃　ゾー ン　１　：　２１０℃ゾーン　２８１７７°Ｃゾーン　２　：　２２１°Ｃゾー ン　３：１９３°Ｃゾーン　３　：　２３２°Ｃ２８％のｌ（ｔｍｏｎｔ　６７ ２３ ２１％の鉱物油 ２％のＣＢＥ　４１０５５Ｂ 中央ゾーン押し出し機　外部ゾーン押し出し機ゾーン　ｌ：８０°Ｃゾーン　１ 　：　２１０°Ｃゾーン　２　：　１３５”Ｃゾーン　２　：　２２１°Ｃゾー ン　３　：　２０５℃　ゾーン　３　：　２３２”Ｃゾーン　４　：　２３２℃ サンプル　１３　Ｆｉｎａ　３５７６／９８％の）［ｒａｔｏｎ　Ｇ−１６５７ ／Ｆｉｎａ　３５７６２％のＣＢＥ　２４８１１５ 中央ゾーン押し出し機　外部ゾーン押し出し機ゾーン　１　：　１４９℃　ゾー ン　１　：　２１０℃ゾーン　１１９０℃　ゾーン　２　：　２２１”Ｃゾーン 　３　：　２０５℃　ゾーン　３　：　２３２℃サンプル　＄４　Ｅｌｖａｘ　 ２６０／９８％のＥｌｖａｘ　２４０／Ｅｌｖａｘ　２６０２％のＣＢＥ　４１ ０５５Ｅ 中央ゾーン押し出し機　外部ゾーン押し出し機ゾーン　１　：　１３２°Ｃゾー ン　１　：　１．３８℃ゾーン　２：１６０℃　ゾーン　２：１６５℃ゾーン　 ３：１９３℃　ゾーン　３：１８８℃２％のＣＢＥ　４１０５５Ｅ 中央ゾーン押し出し機　外部ゾーン押し出し機ゾーン　１　：　１３２℃　ゾー ン　１：１１５°Ｃゾーン　２：１６０°Ｃゾーン　２：１６５°Ｃゾーン　３ ：１９３℃　ゾーン　３：１８８℃サンプル　８６　Ｅｌｖａｘ　７５０／９８ ％のＫｒａｔｏｎ　Ｇ−１６５７／Ｅｌｖａｘ　７５０２％のＣＢＥ　２４８１ １５ 中央ゾーン押し出し機　外部ゾーン押し出し機ゾーン　１　：　１４９°Ｃゾー ン　１：１１５℃ゾーン　２：１９０℃　ゾーン　２　：　１６５’Ｃゾーン　 ３　：　２０５°Ｃゾーン　３８１８８℃ゾーン　４＝１９９℃ Ｆｔｎａ　（商標）　３５７６は、Ｆｉｎａ　Ｏｉｌ　ａｎｄ　Ｃｈｅｍ、Ｃｏ 、、Ｄｅｅｒ　Ｐａｒｋ、ＴＸ、より入手できる９メルトインデクス（＊、ｉ、 ）のポリプロピレンホモポリマーである。　Ｈｉｍｏｏｔ　（商標）　６７２３ （Ｈｉｍｏｏｔ　Ｕ、Ｓ、Ａ、、Ｉｎｃ、、Ｗｉｌａｉｎｇｔｏｎ。

ＤＨより入手可）は０．８ｍ、ｔ、のポリプロピレンホモポリマーである。

それぞれ、２８％の酢酸ビニル（ＶＡ）　（４３ｍ、ｉ、）　、２８％のＶＡ　 （６ｍ、ｉ、）　、１８％ノＶＡ　（８ｍ、ｉ、）及び９％（７）ＶＡ　（７ｍ 、ｉ、）である［！Ｉｖａｘ（商標）２４０，２６０，４５０及び７５０は、Ｄ ｕｐｏｎｔＣｏｒｐ、浦ｉ１ｍｉｎｇｔｏｎ、Ｉ）Ｅより入手できる酢酸エチル ビニルである。

ＣＢＥ　（商標）　４１０５５Ｅ及び２４８１１Ｓはそれぞれポリエチレン（５ ５％）及びポリスチレン（５２％）担体中の黄色及び青色染料であり、Ｃ，Ｂ。

Ｅｄｌｌａｒｄｓ　ａｎｄ　Ｃｏ、Ｉｎｃ、、Ｍｉｎｎｅａｐｏｌｔｓ、ＭＮ、 より入手できる。鉱物油は、Ａｍｏｃｏ　Ｏｔｌ　Ｃｏ、Ｃｈｉｃａｇｏ、ＩＬ より入手できるＡｍｏｃｏ（商標）ＷｈＨｅ　ＯｉｌＲＭ　０００９−８である 。

炭主 この三層ラミネートに関する構造は以下の表■において記載し、層についてのサ ンプル番号は例２のサンプルに対応する。

１−■ ラミネート 黒　スキン　スキン ｉ　Ｓ−Ｉ　Ｋｒａｔｏｏ”　１６５７　Ｓ−１ｉｉ　Ｓ−４Ｋｒａｔｏｎ”　 １６５７　Ｓ−４ｉｊ　Ｓ−２Ｋｒａｔｏｎ”　１６５７　Ｓ−２ｉｖ　Ｓ　− ５にｒａｔｏｎ”　１６５７　５−５ｖ　Ｆｉｎａ　３５７６　Ｓ−３Ｆｉｎａ 　３５７６ｖｉ　Ｆｉｎａ　３５７６　Ｓ−６Ｆｉｎａ　３５７６ｖｆｉ　Ｅｌ ｖａｘ　７５０　Ｓ−６Ｅｌｖａｘ　７５０二のラミネート構造及び性能を以下 に図解する。全てのサンプルは１１＠２５ＩＩｌｌであり、それらの自然延伸比 （ＮＤＲ）まで伸長せしめた。各ゾーンにおける個々の層の厚みは光学顕微鏡に よる２５０Ｘで測定した平均値である。ラミネートの全体的な厚みは表示の位置 にてカリバーゲージによって測定した０種々のゾーンの長さを初期及び伸長（天 然延伸比）Ｍで示す。

以下に示すこのラミネートの構造的表示（枠内）は、この枠内において、光学顕 微鏡によって２５０Ｘで測定した各ゾーンにおける層の厚みを含ませている。

このラミネートの構造的表示の下に示した値は表示の位置にてカリバーゲージに よって測定した全体的な厚みである。

（０，３０７１＋０．２６９１（０，２５４）　（［１，５２１１（０，２４４ １（０，２６９＋（０，２６９１ｍｍ　ｍｍ　ｍｍ　ｍｍ　ｍｍ　ｍｍ　ｍｍ＠ 　ＮＤＲ４５ｍｍ　５８　ｍｒｒ＋　５０　ｍｍ＋０．２８２）（０，２５４１ （０，２ＥＩＳ）　（０，３１８）　（０，２５７１（０，２４１１（０，２５ ９１ｍｍ　ｒｎｍ　ｍｍ　ｍｍ　ｍｍ　ｍｍ　ｒｎｒｎ＠　ＮＤＲ３０ｍｍ　４ ５　ｍｍ　２９　ｍｍ（Ｏｊ３Ｓ）［０，３３３１（０，３１８１＋０．２９２ ）＋０．２９５）［０，３０７１＋０．３０５１ｍｍ　ｍｍ　ｍｍ　ｒｎｒｎ　 ｍｍ　ｍｎｔ　ｍｍ（０，１５５１（０，１５２１（０，１４５ン（０，１８０ ）　（０，１４５）（０，２１６＞ｔｏ、１９１）ｍｍ　ｍｍ　ｍｍ　ｍｍ　ｍ ｍ　ｍｍ　ｍｍ（０，２１６１（０，２０１３４（０，１５５１！０．２４９） 　（０，１４５１（０，２１６）（０，２４９）（０，２１６＋（０，１９８） ＋０．１５８１　＋０．２５９＋　ｔｏ、１８５）（０，２４４１（０，２４９ ）ｍｍ　ｍｍ　ｍｍ　ｍｍ　ｍｍ　ｍｍ　ｍｍサンプルｉにおいて、このスキン 層はこのラミネートの両面上のゾーン間の転移領域において分離した。ゾーン１ 及びゾーン２において伸長をさせたほとんどの場合において、このことはゾーン ２に直接隣接するこのようなゾーンの領域においてほとんど独占的に生じた。こ のことはこれらの領域において認められる薄めの全体的な厚みによるものと考え られる。

■土 多重層ラミネートを、ポリプロピレン／Ｋｒａｔｏｎ　（商４１１）　１１０７ ／ポリプロピレンの注型ラミネートを積層することによって作った。各注型ラミ ネートの総厚みは２．８ｓｉｌ（０，０６２１）であった、この中核／スキンの 比は１２：１であった。この積層したラミネートは、６枚の注型ラミネートから 、ホットプレスにおいて２００℃にて、１ＣＩｉ当り１４０ｋｇの圧力にて５分 間かけて形成せしめた。形成したフィルムを次に２１°Ｃの水浴中で冷やした。

ここで得られるラミネートは厚さ６　ｍ１ｌ（０，１５■）であり、そして注型 フィルムのようであるがやや厚かった。約３００％まで伸ばし、そして瞬間的に 回復させた後、このフィルムは粗いマイクロテキスチャー化されたスキン及びマ イクロテキスチャー化された内部スキン層を示した。

五ｌ 連続同時押し出しを、７０／３０の重量配合のポリ（ビニリデンフルオリド）　 （Ｓｏｌｅｆ　（商標）　１０１２，５ｏｌｖａｙ　Ｃｏ、、Ｆｒａｎｃｅ）　 とポリ（メチルチタクリレート）　（ＶＯ４４，Ｒｏｈｍ　ａｎｄ　ｌ１ａｓｓ 　Ｃｏｒｐ、、Ｂｒ１ｓｔｄ、ＰＡ）の２枚の外層及びＫｒａｔｏｎ　（商標） 　１１０７の中核層を有する三層ラミネートを作るために実施した。　Ｃ１ｏｅ ｒｅｎ（商標）フィードブロックにこの中核層ポリマーを供給するために径２イ ンチ（５，ＩＣ１１）のＢｅｒｌｙｎ（商標）スクリュー押し出し機をＩＯＲＰ Ｍのスクリュースピードにて、そしてスキン層ポリマー配合体を供給するために 径２インチ（５，ｌｃ＋ｍ）のスクリューのＲｈｅｏｔｅｃ（商標）押し出し機 を２５ＲＰＭにて用い、次いでこの溶融ラミネートを幅１８インチ（４６Ｃ１） の車軸マニホールドダイ（Ｅｘｔｒｕｓｔｏｎ　Ｄｉｅｓ、Ｉｎｃ、＋Ｃｈｉｐ ｐａｗａ　Ｆａｌｌｓ、Ｗｌ）を介して４２０から４５０ａＦ（２１５から２３ ２℃）ニテ、それぞれ１７−０又は１５．３の１分間当リノ回転にて７８’　Ｆ 　（２６℃）のキャストロールへと押し出しした。得られたこのフィルムラミネ ートの厚みはそれぞれ５．５及び６．　Ｏａｉｌ（０，１４及び０．１５ｍ）で あり、中核／スキン（一枚）の比は６：１及び７．５：１であった。

両方のラミネートを４００％に伸ばし、そして瞬時に回復させた。

それぞれのケースにおいて、微細な光沢のあるマイクロテキスチャー化表面を有 するラミネートが得られた。

■旦 ５０１５０の配合比の２種類のポリブチレン樹脂５ｈｅｌｌ（商標）０２００及 び５ｈｅｌｌ　０４００の２枚の外層及びＫｒａｔｏｎ　１１０７の中核エラス トマ一層を有する、２種類の異なる三層ラミネートを作るために連続同時押し出 しを行った。　Ｋｒａｔｏｎ　１１０７を供給するために径２インチ（９５，２ ＣＩ）のスラリ５−Ｆ３ｅｒｌｙｎ押し出し機をＩＯＲＰＭのスクリュースピー ドにて用いた。２枚のポリブチレン配合層をＣ１ｏｅｒｅｎフイードブロツクに 供給するために径１．２５　（３，１８３）のＢｒａｂｅｒｄｅｒスクリュー押 し出し機をｌＯ及び１２ＲＰＭにて用いた。このラミネートを幅１８インチ（４ ６Ｃ１１）の単軸マニホールドを介して４３０”Ｆ（２２１″Ｃ）にて、８．８ 又は７．６ｆｔ／分（２，７又は２．３ｍ／分）のいづれかにてキャストロール に、それぞれのサンプルについて総厚みを０．００３インチ（０，０７６ｍ）に 維持しながら押し出しした。

このことは同じラミネートの総厚みを有しながら外スキン厚みが異なる２種のフ ィルムを提供する。中核／スキン比はそれぞれ１３：１及び５：１であった。

更に、同じ装備を、Ｂｌａｂｅｎｄｅｒ押し出し機は３５ＲＰＭにて、そしてキ ャストロールスピードは８．６ｆｔ／分（２，６ｍ／分）にて、その他の全ての 条件は上記と同じに作動させ、全体的に厚みのあるスキン層を有し且つ中核／ス キン比が２６：１の、厚さｏ、　ｏ　ｏ　ｓインチ（０，１２７Ｍ）のラミ享− ト（比較）を得た。

各ラミネートをその破断点よりやや短（、約４：１へと手によって伸ばし、次い で最初の２種類は瞬間的に、そして３番目（比較）は熱により回復させた後に各 サンプルに関するテキスチャーを記録した。このデーターを以下に示す。

１０　２６８　０．００８１　非常に微細１２　２３２　０．００８１　微細 ３５　２６２　０．０１３　な　し 五層 線状低密度ポリエチレンの２枚の外層、酢酸エチレンビニルＥｌｖａｘ（商標） 　２６０（ＥＶＡ）（Ｄｕｐｏｎｔ　ＣｏｒｐｏｒａｔｉｏｎＪｉｌｍｉｎｇｔ ｏｎ、ＤＥより入手可）の結束層及びスチレン−イソプレン−スチレンブロック コポリマーの中核エラストマ一層を有する五層ラミネートを作るために連続同時 押し出しを行った。このエラストマ一層（Ｋｒａｔｏｎ　１１０７）を供給する ために径２インチ（５，１ＣＩ）のスクリューの４Ｄ比のＢｅｒｌｙｎ押し出し 機を用いた。Ｒｈｅｏｔｅａ径２インチ（３，１８ｃｍ）スクリュー押し出し機 を２枚のポリエチレン層を供給するために用い、そして径１インチ（２，５４Ｃ １１）スクリュ　３Ｍ製押し出し機を２枚のＥｌｖａｘ層をＣ１ｏｅｒｅｒ＋フ イードブロツクに供給するために用いた。

このラミネートを幅１８インチ（４６ａａ）の車軸マニホールドを介して、３７ ５°Ｆ（１９０″Ｃ）にて、表■に記載の通りの種々の総厚みにて６０°Ｆ（１ ６°Ｃ）のキャストロールに押し出しした。

これにより種々の厚みの層が得られた０本例はキャスティングロールスピードが どのようにフィルムの厚みに影響を及ぼすかも示す。

このＥＶＡ結束層は、ＬＬＤＰＥ外層とＳＩＳ中核層との間に結合力を与え、Ｅ ＶＡを有さないようなフィルムよりも丈夫なラミネートをもたらし、しかもこれ は表面テキスチャーに関連するこのラミネートの挙動の妨げとならない。このよ うな結束層はむろん他の層と比べて非常に薄い。

７Ａ　３０　８　１５　１５　１３２．ＯＦ　２４７Ｂ　３０　８　１５　１５ 　１３２．０　Ｆ　２４７Ｃ３０８７７２７２，０肝　２０ ７０３０　８　４　４　５０Ｂ、ＯＣ２０７Ｅ　３０　８　１４　１４　１２４ ．ＯＦ　２０７Ｆ　３０　８　２５　２５　？１．ＯＶＦ　２０７Ｇ　３０　８ 　４８　４８　２５．４　ＳＦ　２０十　Ｂｅｒｌｙｎ押し出し機温度は全ての サンプルに関して同じ：ゾー７１＝１４９°Ｃ，Ｚ２＝　１７７、Ｚ３＝１９３ 　、Ｚ４＝２０４　、Ｚ５＝２０４、Ｚ６＝２０４ ＋＋　Ｒｈｅｏｔｅｃ押し出し機温度は全てのサンプルに関して同じ：ゾーン１ ＝ｉｉｏ℃、Ｚ２＝　１４９、Ｚ３＝１４９　、Ｚ４＝１６０”　１　’　（２ ，５４ＣＩ）押し出し機温度は全てに関して同じ：ゾー７１＝１４３℃、Ｚ２＝ １９１　、Ｚ３＝１９１＊　Ｆ＝微細なマイクロテキスチャー、阿Ｆ＝中程度の 微細さ、ＶＦ＝非常に微細、ＳＦ＝超微細、Ｃ＝粗い押し出し機の条件は上記の 実施全てに関してほとんど一定であるため、中核の厚みのスキンの厚みに対する 比は上記の全ての実施に関して同じであって約１３：１であり、中核／結束層比 は３０：１であった。従って、表■の総フィルム厚みの欄は表面テキスチャーの 欄にまさに関連する。値の範囲は超微細なテキスチャーの１．０ｓｉｌ（２５ミ クロン）の総フィルム厚みから粗いテキスチャーの２０、０ｓｉｌ（５０８ミク ロン）であり、全ては５：１の伸長及び瞬間回復に由来する。それ故、より厚み のある材料はより粗いテキスチャーを提供し、従って物理的なパラメーターをコ ントロールすることにより、このテキスチャーをコントロールすることができる ことがわかる。

以上の例の通り、三層ＬＬＤＰＥ／Ｓ　Ｉ　Ｓ／ＬＬＤＰＥフィルムを、Ｂｅｒ ｌｙｎ押し出し機を利用して２ＯＲＰＭのスクリュースピードにてＫｒａｔｏｎ 　１１０７を、そしてＢｔａｂｅｎｄｅｒ押し出し機を利用して１７１２Ｐ？１ のスクリュースピードにてＤｏｗ　Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｇｏ、（Ｒｏｌｌｉｎｇ 　Ｍｅａｄｏｉ＊ｓ、ＩＬ）６１８００線状低密度ポリエチレンをＣ１ｏｅｒｅ ｒｉフイードブロックに供給することによって作った。このラミネートを幅１８ インチ（４６ｃｍ）のフィルムダイを介してキャスティングロールに、８５’　 Ｆ　（２９℃）及び１３．７ｆｔ／分（４，１８ｍ／分）のスピードで押し出し し、中核／スキン比がｉｓ、ｓ：ｔであり、総厚みが１２５ミクロンのラミネー トを得た。このフィルムを一軸に４＝１で伸ばし、そして瞬間的に回復させ１． このフィルムのそれ自身に対する摩擦係数をこの伸ばして且つ回復せしめたフィ ルムから測定し、そして伸長していないフィルムと比べた。そのデーターを表Ｖ に示す、ＭＤは装置方向を示し、そしてＴＤはその横方向を示す。

−ｙ サンプル　−ｍ−−１以立旦□」Ｉン墾凡−伸長させてないＭ　Ｄ　４．５　４ ．２伸長させてないＴＤ　Ａ、６　３．７ 伸長させたＭ　Ｄ　Ｏ，４０，３ 伸長させたＴ　Ｄ　Ｏ，５０，５ このデーターは、伸長したフィルムのその伸長していない先駆体に対する摩擦係 数の大いなる低下の指標であり、更に本発明の固有のマイクロテキスチャー化さ れたラミネートの表面の指標でもある。

■工 例日の装備を利用して本発明の三層ラミネートを作った。ポリウレタン（Ｐｅｌ ｌｅｔｈａｎｓ（商標）　２１０２−５Ａ；Ｄｏ＠Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｃｏ、、 Ｍｉｄｌａｎｄ、Ｍｌより入手可）中核材料を供給するために、ＩＯＲＰＭのス クリュースピードで作動させたＢｅｒｌｙｎ押し出し機を利用した。　Ｃ１ｏｅ ｒｅｎフイードブロツクにＡ＋ｗｏｃｏ　（商標）（Ａｍｏｃｏ　Ｏｉｌ　Ｃｏ 、、Ｃｈｉｃａｇｏ、１ＬＬ）３１５０Ｂ高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）とＫ ｒａｔｏｎ　１１０７の９５：５の比における配合物を供給するために、７　Ｒ ＰＨのスクリュースピードで作動させたＢｔａｂｅｎｄｅｒ押し出し機を用いた 。スキン層の中核層に対する接着性を高めるために少量のＫｒａｔｏｎ　１１０ ７をスキン層に加えた。このラミネートを幅１８インチ（４６Ｃ１１）の単軸マ ニホールドフィルムダイを介して、７０°Ｆ（２１°Ｃ）の温度及び２１ｆｔ／ 分（６，４ｍ／分）のスピードにてキャスティングロールに押し出しし、１３． ７：１の中核／スキン比を有する６９ミクロンのラミネートを得た。このラミネ ートは６００％の伸長及び瞬間回復の後にマイクロテキスチャー化された表面を 示した。

班上皇 本発明の三層ラミネートを例８の装備を用いて作った。中核材料としてのスチレ ン−ブタジェン−スチレン（ＳＢＳ）（ｌ［ｒａｔｏｎ　１１０１）のトリブロ ックコポリマーエラストマーを供給するために６ＯＲＰＭのスクリュースピード で作動させたＢｅｒｌｙｎ押し出し機を用い、そしてＣ１，ｏｅｒｅｎ三層ダイ にＤｏｗ　（商標）３０１０　ＬＬＤＰＲ材料を供給するためにＫ１１ｌｉｏｎ （商標）押し出し機を用いた。この押し出し品をキャスティングロール上で、ｓ ｓ”　Ｆ　（２９℃）の温度及び４１ｆｔ／分（１２，５ｍ／分）のスピードで 注型した。ここで得られた８、９＝１の中核／スキン比を有する厚さ５■１ｆ（ ０，１２７■）のフィルムは７．５：１の比に容易に伸長し、そして瞬間回復に 基づいて微細なテキスチャー化ラミネートが形成された。

■土工 例４の装備を利用して本発明の三層ラミネートを作り、ここでＢｅｒｌｙｒ＋押 し出し機は２０ＲＰ門のスクリュースピードにてＫｒａｔｏｎ　Ｇ２７０３スチ レン−エチレンブチレン−スチレン（ＳＥＢＳ）ブロックコポリマーを供給し、 そしてＢａｒｂｓｎｄｅｒ押し出し機はＣ１ｏｅｒｅｎフイードブロツクにｔ！ ｘｘｏｎ　（商標）　ＰＰ−３０１４ポリプロピレンを５　ＲＰＭのスクリュー スピードにて供給した。この材料を次に幅１８インチ（４６ｃｍ）のフィルムダ イを介して３４’Ｆ（１，１℃）の温度でのキャスティングロールに押し出しし た０作られたフィルムは容易に６００％に伸び、そして瞬間回復させた後に微細 なテキスチャー化表面を形成した。光学顕微鏡のもとで測定した層の厚みは、ス キン／中核／スキンのそれぞれが１５／１６２／１２ミクロンであった。

土工１ 本例はスキン及び中核材料を変えることの利用を示す。全ての実施において、ラ イン条件は同一であり、そしてＣ１ｏｅｒｅｎフイードブロツクは４００″’　 Ｆ　（２０４°Ｃ）で用いた。中核押し出し機は上記のＢｔａｂｅｎｄｅｒであ り、ゾーン１〜４の温度はそれぞれ１７８，２１０゜２１０及び２１６℃とした 。ダイは４００＠Ｆ　（２０４℃）とし、そしてキャスティングホイールは５１ °Ｆ（１１”Ｃ）とした。

１２ＡＫｒａｔｏｎｌ１０７　ＥＬＶＡＸ３６０　９．６　７００　Ｉ　Ｆ表■ における１２Ａは、１１５ミクロンのフィルムに関して、より弾性な中核が用い られ且つ適切な伸長が伴うとき、このスキンにエラストマーが利用できることを 示す、１２Ｂは１２０ミクロンのフィルムにおけるポリエステルスキンの利用を 示す、１２Ｂで示すこのラミネートは比較的大きい中核対スキンの比にもかかわ らず、このスキンは比較的微細なテキスチャーであり且つ瞬間収縮回復性であっ た。これは主としてポリエステルの低弾性率に基づ＜、ＦＡ−３００はＥａｓｔ ｓａｎ　Ｃｈｅｓ、Ｃｏ、、Ｋｉｎｇｓｐｏｒｔ、ＴＮより入手可能である。

■１主 アジピン酸とへキサメチレンジアミンの縮合生成物であるナイロン６６　（Ｍｏ ｎｓａｎｔｏ　Ｃｏ、、Ｓｔ、Ｌｏｕｉｓ、ＭＯのＶｙｄｙｎｅ　（商標）２１ ）を例８に説明した工程に従ってスキンとして用いた。中核はＳ　Ｉ　Ｓ　（Ｋ ｒａｔｏｎ１１０７）ブロックコポリマーとした。このナイロン及びＫｒａ　ｔ ｏｎを５２５”Ｆ（２７４℃）及び４５０°Ｆ（２３２℃）にてそれぞれ５００ ＠Ｆ（２６０℃）のダイヘト押し出しした。厚す４ｍ１ｌ（０，１ｍ）　（７） フィルムを１８：１の中核対スキンの比によって形成せしめた。

４：工の伸長及び瞬間回復の後にマイクロテキスチャー化表面が形成された。

■１土 中核の粘着性を高めるため及び中核層弾性率を低めるため、そしてその粘度を下 げるため、固形粘着付与ロージン−ｉｎｇｔａｃｋ　（商標）（Ｇｏｏｄｙｅａ ｒ　Ｃｈｅａ＋　Ｃｏ、、Ａｋｒｏｒ＋＋ＯＨ）をＫｒａｔｏｎ　１１０７　と 、１０／９０゜２０／８０及び３０／７０の比において配合し、それぞれ９１゜ １１４及び１６５ミクロンのフィルムに、先の例の装置を用いて利用した。グイ 温度は３８０°Ｆ（１９３°Ｃ）であり、にｒａｔｏｎ配合物を１８．５ボンド ／時間（例１４ｋｇ／分）の速度にて供給し、そしてポリエチレンスキン（ＬＬ ＤＰ［ｉ；Ｄｏｗｌｅｘ　（商標）　２５００．Ｄｏｗ　Ｃｈｅｍｉｃａｌ）を ６ボンド／時間（２，７２ｋｇ／ｈｒ）の速度にて供給した。中核対スキンの比 は６．２：１であった。３種全てのＫｒａｔｏｎ配合物に関して、６：１の伸長 を利用し瞬間収縮回復を与えたときにこのラミネートに微細なマイクロテキスチ ャー化表面が得られた。

■１盈 スキンの厚みと伸長パーセントの表面テキスチャー（周期により測定）との関係 を、５ＥＢＳ中核（Ｋｒａｔｏｎ　Ｇ１６５７）及びポリプロピレンスキン（Ｅ ｘｘｏｎ　３０８５）を用いて表わした。中核のためにはＢｅｒｌｙｎ押し出し 機を用い、そしてスキンためにはＲｈｅｏｔｅｃ押し出し機を用４２０″Ｆ（２ １６”Ｃ）で用い、キャスティングロールは３８．９ｆｔＺ分（１１，９ｒｎ／ 分）及び５０°Ｆ（１０℃）にて作動させた。その結果を以下の表■に示す。

各サンプルについて伸長％が増大するに従い、周期は小さくなり、より微細なマ イクロテキスチャー化が得られたことを示す、このことは、伸長％がこのラミネ ートの表面構造を変えるのに利用できることを示す。

更に、スキンの厚みが小さくなるに従っても、周期は小さくなる。

全てのサンプルにおいて、この中核の厚みはほぼ８５μで一定であった。定常な 中核に基づくスキンの厚みは従って得られうる表面テキスチャーに直接関係する 。上記の表■において示した通り、相対的に一定の伸長％に間して、スキンの厚 みが大きくなるに従い周期も大きくなった。従って厚みのあるスキンのサンプル は粗いテキスチャーを提供する。これはむろんスキン、それ故ラミネート特性を 操作するために用いられうる。

タロー１ 試験したサンプルは例８において作ったものであり、伸長率を２＝１から１３： １へと変化させた。

−・　−Ｙ ２　（ランダムなしわ） ８　６．５　３９０ 表■かられかる通り、例１５において実証した伸長率と周期との関係はこのＬＬ ＤＰＥ／Ｓ　Ｉｓ／ＬＬＤＰＥラミネートにあてはまる。伸長率を大きくするに 従い、この周期は実質的に指数関数的にまず急速に、次いでゆっくりと小さくな る。更に、面積における増大は伸長率の増大に伴う。

■上１ 伸長、中核／スキン比及び収縮メカニズムの関係を、ポリプロピレン／にｒａｔ ｏｎ　１６５７（ＳＥＢＳ）　／ポリプロピレンラミネートに関して、例４及び 例１５の工程を利用して実証した。この材料を５Ｃ１１／秒の速度にて伸長し、 そして１５秒間保持した。このフィルムを２０秒間収縮させ、その後１６０°Ｆ （７１，１°Ｃ）の湯浴中で５秒間にわたり熱収縮させた。

次に収縮後のこのフィルムの長さを、２０秒の保持時間後のフィルムの長さ及び 伸長後の長さと比較し、操作における収縮メカニズムを調べた。この比較の結果 を以下の表■に示す。

６．０　３．８１５．３／６．２　１ ５．３　４．６１５．３　３ ６．５１ ５．１　４．３１５．ＯＨ ４，８４，２／４．ＯＨ ４，０４，０１５，２／６．ＯＨ ３，７４，２−６，８Ｈ ３，４４，ＯＮ ４．７−６、ＯＨ Ｎ＝なし、Ｈ＝熱、Ｓ＝ゆっくり、Ｔ＝待時間Ｆ＝迅速、■＝瞬時。

迅速は１５％以上の回復が５秒で起こるときである。中程度の時間は１５％以上 の回復が２０秒にて起こるときである。ゆっくりとは１５％以上の回復が伸長し て６０秒後まで記録されなかったときポリプロピレン（Ｅｘｘｏｎ　３１４５） を中核材料のための改質剤としてＭｒａｔｏｎ　１１０７（ＳＩＳ＞エラストマ ーに加えた。利用したスキンはＥｘｘｏｎ３０１４ポリプロピレン（ＰＰ）とし た。調製した中核は５及び１０重量％のＥｘｘｏｎ　３１４５ポリプロピレンを 含んだ、伸長、収縮メカニズム及びテキスチャーとの関係を試験した。その結果 を以下の表に示す。

−Ｘ １スまヱ且二６．９　ｕ２ミクロン　においてＰＰ１ｏ９／％伸長　３２０　４ １０　５１０　５９０収縮メカニズム　なし　なし　熱　熱 テキスチャー　−−粗い　粗い 土星／λま２上ｒ８．０、　み１２５ミクロン、においてＰＰｌ０％％伸長　２ ８０　３８０　４８０　５７０収縮メカニズム　なし　なし　熱　熱 テキスチャー　−−粗い　粗い スキン　−８，８８４ミクロン、生抜ζ夫ｂｚｚ理５！％％伸長　２７０　３２ ０　４００　５００　５９０収縮メカニズム　熱　熱　熱　ゆっくり　迅速テキ スチャー　粗い　粗い　粗い　中　微細以上かられかる通り、中核へのＰＰの添 加はこのラミネートの収縮性を減少させる。ポリプロピレンは中核の弾性を下げ るようであり、従ってこのスキンの拘束力が変形した弾性中核より受ける弾性応 力をより容易に支配することができることを可能とする。

■上ｌ 剛化剤、ポリスチレンをエラストマー中核材料に加えた効果を試験した。このス キンは線状低密度ポリエチレン（Ｄｏｗｌｅｘ　６８０６）を含んで成る。この 中核は５ＩＳ（にｒａｔｏｎ　１１０７）とポリスチレン（５００ＰＩ又は６８ ５Ｗ　；共にＤｏｗ　Ｃｂｅａ＋１ｃａｌ　Ｃｏ、由来）の配合物である。全て のサンプルは三層構造（スキン／中核／スキン）であり、４．５ｍ１ｌ（０，１ １ｍｍ）の総厚み及び８：１の中核／スキン比を伴った。全てのサンプルを次に ４００％伸長し、そして瞬間回復させた０次いで張力曲線を作成し、これはポリ スチレンの含有量を高めることによってこのラミネートが剛性となることを実証 した（図８　（Ｔ−Ｎ）において示す；以下の表ＸＩにおいても示す）。

Ｕ サンプ／ｌ／＃　’　Ｐ、Ｓ、（イブ）５１１１ヤングｄ１９Ａ（Ｔ）　０　１ １．５ １９１１１（Ｓ）　１０（５００ＰＩ）　２０．７１９Ｃ（Ｒ）　３０（５００ ＰＩ）　２９．４１９Ｄ（Ｐ）４０（６８５Ｎ）　６８．６１９Ｅ　（Ｎ）　５ ０　（６８５縁）　１８８．４±１立 本例において、Ｗｉｎｇｔａｃｋ　（商標）粘着付与剤の中核エラストマーへの 添加の効果を調べた０例１４のラミネート・材料を、ＬＬＤＰＥ／Ｋｒａｔｏｎ 　１．１０７／ＬＬＤＰＥを含んで成る三層ラミネート（２ｏ）と比べた。両サ ンプルとも総厚みにおいて４　ａｉｌ（０，］　Ｏｍ）であり、中核／スキン比 は約８：１であった。これらの材料は４：１−１３１に伸ばしたときに瞬時収縮 型であった。

１］工 ２０　５ｏヤング ２０（比較）　１０９ｂ／ｃｄ １４　４７．９− 表ｘｎかられかる通り、粘性低下助剤／粘着付与剤の利用は、ポリスチレン剛化 剤の添加のように、反対の効果を有していた。

班１土 中核及び一枚のスキン層の二層ラミネートをにｒａｔｏｎ　１１０７（５１５） ／Ｅｘｘｏｎポリプロピレン３０１４より作った。６　ＲＰＭで作動させたＢｅ ｒｌｙｎ押し出し機をポリプロピレン関して、そして１２５ＲＰＭで作動させた Ｋ１１ｌｉｏｎ押し出し機をＫｒａｔｏｎに関して用いた。このポリマーを一軸 マニホールドシャットダウンを有する、１８インチ（４５，７Ｃ１１）、４４０ °Ｆ（２２７°Ｃ）のＣ１ｏｅｒｅｎダイに供給した。ここで得られるフィルム をロール上で６０°Ｃにて、３５．２ＰＰＭで回転させながら注型した。形成さ れたラミネートは厚み２■１ｆ（０，０５１■）であり、中核／スキン比が２． ５：１であり、そして５：１に伸ばし且つ瞬間回復させたときに粗いマイクロテ キスチャーを示した。その後の再伸長に基づくネッキングはわずか２．５％であ った。

■１主 異なる組成のスキンを有するラミネートを作った。この弾性中核はＫｒａｔｏｎ 　１１０７であり、一枚のポリエチレン（Ｄｏｗ　ＬＬＤＰＥ　６１８００）及 び一枚のポリプロピレン（Ｅｘｘｏｎ　３０８５）スキンを有する。中核をＢｅ ｒｌｙｎ押し出し機によって押し出しし、そしてスキンはそれぞれＲｈｅｏｔｅ ｃ及びＢｒａｂｅｎｄｅｒ押し出し機によって押し出しした。　Ｃ１ｏｅｒｅｎ ダイは３５０°Ｆ（１７７’Ｃ）とし、そしてキャスティングロールは６０°Ｆ （１６°Ｃ）にした。２種類のフィルムが作れた。第１のフィルムに関しては、 押し出し機をそれぞれ２０．８及び２６ＰＰＭにて作動させ、そしてキャストロ ールは１７．３ＲＰＭで作動させ、１８：１の中核／スキン比を有するラミネー トを作った。形成されたサンプルは５：１の伸長で瞬時に収縮し、微細なマイク ロテキスチャーを有していた。第２のフィルムに関しては、押し出し機をそれぞ れ１０．１６及び２６ＰＰＭにて作動させ、キャストロールを１４．２１？ＰＭ で作動させ、１８：１の中核／スキン比を有するラミネートを作った。この第２ のラミネートも５：１の伸長で瞬時回復したが、粗い表面テキスチャーを示した ０両方のラミネートの厚みは４、０＋１ｌ（０，１ｍ）であった。

ｌ主 例ＩＡのラミネートを第１方向において４：１、次いでその横方向において４： １に伸ばすのと、４：１対４：１で同時二輪方向に伸ばした。このラミネートは 瞬時収縮型であった。形成されたテキチャーをそれぞれ図９及び１０に示した。

■１工 例１７に用いたポリプロピレン／５ＥＢＳ（ｌ［ｒａｔｏｎ　１６５７）　／ポ リプロピレンの三層ラミネートをその書き込み性について試験した。中核／スキ ン比は５：１であり、全ラミネート厚みは５■１ｌ（０，１３閤）であった、こ のフィルムを５＝１に伸ばし、回復させた。伸長する前後の書き込み性をそれぞ れ図６及び７に示す。

１＝ 一連（７）ＬＬＤＰＥ／ＳＩＳ／ＬＬＤＰＥ　ラミネートを、ソノノンネッキン グについて試験した（以下の表ｘｍ示す）。

表」ｌ Ａ　８．７５　５：１　２１５　２．８Ｂ　６．０　５：１　１２０　３．２ Ｃ６，７ｓｋｉ　７８　５．２ Ｄ　Ｉ５．３　７　ｒｉ　１００　１０．ＯＥ　２１．２　ｓｋｉ　１３２　３ ３．３Ｆ　純粋な５１５　５：１　５０．Ｏ Ｇ　＃７：１　６２．５ ＨｊＰａ：ｉ　７０．８ 比較目的のためにＳＩＳを試験した。　Ｃ／Ｓ　（中核／スキン）比及び伸長率 が上昇するに従い、ネッキングに関する問題が大きくなった。

■ｌ■ 接着性中核の利用を示す、最初の２例においてはイソオクチルアクリレート（Ｉ ＯＡ、）及びアクリル酸（ＡＡ）の９０／１０のモノマー比におけるコポリマー をまず中核として用い、ポリプロピレン（Ｅｘｘｏｎ　３０１４）及びＰＥＴ　 （固有粘度０．６２）をスキンとして用いた。ＩＯＡ／Ａ、Ａコポリマーは米国 特許第４．１８１，７５２号に従って製造した。ＰＰおよびＰＢｒ３例それぞれ に関する積層前の中核／スキン比は２０及び１０そして全厚みは２２ｍ１ｌ（０ ，５６ｍ）及び０＋ｔｌ（０，１５ｍｍ）であった。このラミネートは中核を硬 化させるため、１５ワツトのＵＶ光を用いて５分間硬化させた。このＰＰスキン 態様は５００％の伸長にて瞬時収縮性であり、そしてＰＥＴスキン態様は４００ ％の伸長にて熱収縮ラミネートであった。

ＰＥＴを、Ｋｒａｔｏｎ　１１０７（５６部）　、Ｗｉｎｇｔａｃｋ　Ｐｌｕｓ （商標）（３５部）及び−ｉｎｇｔａｃｋ　１０（９部）中核のためのスキン層 としても用い、中核／スキン比は８３．１であり、そして積層化前の総厚みは２ ５．６■１ｌ（０，６５ｍ）であった、このラミネートは４００％の伸長で瞬間 収縮型であった。

劃２７一 本例は熱収縮性領域におけるスキンコントロールされた緩和並びに％伸長率及び 中核／スキン比による熱収縮メカニズムのコントロールを示す、一連の５ｓｉｌ （０，１２ｍ）のラミネートは、Ｋｒａｔｏｎ　１１０７（８９部）、ポリ（ア ルファーメチル）スチレン（ＰＡＭＳ）（１０部）及びＩｒｇａｎｏｘ（商標） （Ｃｉｂａ−Ｇｅｉｇｙ　Ｃｏｒｐ、、Ｈａｗｔｈｏｒｎｅ、ＮＹ）（１部−酸 化防止剤）の中核より成る。このスキンはポリプロピレン（Ｅｘｘｏｎ　３０８ ５）とした。中核のためにはＢｅｒｌｙｎ押し出し機を用い、そしてＲｈｅｏｔ ｅｃ押し出し機はスキンのために用い、Ｃ１ｏｅｒｅｎ三層フィードブロック及 び１８インチ（４５，７ＣＩ）のフィルムダイを用いた。キャストホイール温度 は８０”　Ｆ　（２７℃）とし、そのスピードは中核／スキン（Ｃ／Ｓ）比及び スキン押し出し機のスピードより決定した。Ｃ／Ｓの比及び％伸長の関数として の収縮メカニズムを図１１に示す、迅速は１５％以上の回復が５秒で起きたとき である。中程度の時間は１５％以上の回復が２０秒で起きたときである。

ゆっくりは１５％以上の回復が伸長の後６０秒迄記録されなかったときである。

熱収縮性材料に関する活性化温度のスキンコントロールを図１２に示す。活性化 の温度は得られうる回復の５０％又は９０％が達せられるのに必要とする温度と して定義する。ラインＶ及びＷはそれぞれ４．７１及び４．１１の中核／スキン 比を有するサンプルを示す。

ここでわかる通り、中核／スキン比が下がるに従い、活性化の温度（Ｔ　−−ｑ 　ｏ及びＴ’５−ｓｏの両方）は上がり、スキンコントロールされた緩和が示唆 される。この図において、１００％の値は１６０°Ｆ（７１°Ｃ）での％収縮と して定義し、これはほとんどの実用的な目的に関して得られる回復の上限値であ る。８０°Ｆ（２７℃）より下の点は各サンプルについての活性化前の収縮の値 である。

以下の表ＸＩＶにおいて示す通り、伸長せしめてない透明なフィルムからの不透 明度における上昇に間して３種類のサンプルをも試験した。

表」ヱ ４．７１　３００　ＣＨ２，４２％　３０．４％４．９７　７００　Ｆ　Ｉ　２ ．０８　３７．５５．０　３００　ＣＨ３，４０３５，８＊　中核は１／２％の ブルー顔料を有した。

！Ｉ！Ｌ２ｉ 発泡した中核三層フィルムを作った。このスキンはＤｏｗ　ＬＬＤＰＥ６８０６ であり、この中核は９９．５％のＫｒａｔｏｎ　１１０７と０．５％のＡＺＮＰ １３０発泡剤（Ｕｎｉｒｏｙａｌ　Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｃｏ、、Ｎａｕｇａｔｕ ｃｋ＋Ｃｏｎｎ）であった。総フィルム厚みは２０５ａｉｌ　（０，５■）であ った。このスキンはそれぞれ厚み２．０踏ｉ１　（０，０５ｒｍ　）であった。

発泡中核の比重は０．６５であり、それに対して発泡させてないＫｒａ　ｔｏｙ ｌの比重は０．９２である。三層同時押し出しダイを用いた。これは約３００％ の伸長にて、粗いテキスチャーを示す瞬時収縮シートであった。

貫Ｉ工 ６：１の中核／スキン比を有するフィルムを、その伸ばしていない及び伸ばした 弾性率に関してｖＦ＠付けし、その結果を図４に示す。

Ｘはにｒａｔｏｎ　１１０７エラストマー単独であり、ＺＺはポリエチレンスキ ン単独であり、Ｚは注型し放し品としてのラミネートであり、そしてＹは５００ ％伸長且つ回復後のラミネートである。

貫主立 例２７に類似の、８．２８のスキン／中核比を有し、瞬時収縮型であるラミネー トサンプルをアニール化した。サンプルを白と黒の交互のゾーンを有する白紙の シート上に載せた。このように載せたサンプルをオーバーヘッド透明マーカー３ Ｍ型４５５０　ＡＧＡ（３Ｍ　Ｃｏ、、Ｓｔ。

Ｐａｕｌ、ＭＮより入手可）に、設定値２（サンプルがこの装置を通過するスピ ードに関連する）で置き、そして暴露せしめた。このサンプルを１３５０ワツト の電球に暴露し、この設定値（Ｔ＞１８５℃）にてスキン層は溶けた。透明マー カーは暗い線の隣りのラミネート表面を熱し、これによってこのサンプルをアニ ーリングさせた。このサンプルを図１３に示す通り、２５％、５０％、７５％及 び１００％の全体的アニーリングを付与するようアニールさせた。幅１インチ（ ２，５４ｃｍ）のストライブをＡＳＴＭ　０８８２に従って張力試験した。ジョ ーギャップ（ｊａｗ　ｇａｐ）は４インチ（１０，１５ＣＩ）とし、クロスヘッ ドスピードを２０インチ（５０，８ＣＩ）／分とした。張力曲線を図１４の（Ａ 、）−（Ｃ）に示す、このデーターのまとめを以下の表ＸＶに記載した。

注型　４２．５　１６．３　１．１２　２．０９　−−−　−ｍ−２５％　４６ ．２　１１．０　１．４３　２．０５　４９．６　１７４５０％　４８．０　９ ．９　１．３９　２．１４　５１．３　１１５７５％　５０．５　９．０　１． ５８　２．００　５３．１　９３１００％　５６．３　１３．５　１．５９　２ ．０４　−−−　−−−定価にて１８０℃を示した。このサンプルを伸長且つ緩 和せしめ、そして図１６に示す複雑な繰返しマクロテキスチャー化表面を形成し た（この図の下部に示すマークはミリメーターを表わす）。

図１５の（Ａ、）−（Ｃ）は注型し放し品の２５％アニール化させたサンプルで あってその自然延伸比まで伸ばして緩和せしめたものの走査電子顕微鏡写真であ る。このサンプルは前記の４．５の設定値にて調製した。この一連の図面はアニ ールしていないゾーンにおける優先的な伸長を示す、この優先応力も以下の表Ｘ ＶＩにまとめた。

ｌ」豆 サンプル　±避Ｊ工Ｃ幻−非呈五１１ＬＣ０−詰五濃」しＣＯ−結晶２５％　１ ００　１２０　２５ 結晶５０％　７０　１６２　２３ 結晶７５％　７７　２００　２２ 上記のサンプルを、この結晶材料がまさに伸長する点にまで伸ばした。このパー センテージは各領域及び全体構造物がこの点で伸長した値を示す。

１較■よ りｏｗ　ＬＬＤＰＥ　２５１７　（ポリエチレン）　／Ｐｅｂａｘ（商標）　（ Ａｕｔｏｃｈｅｍ　Ｃｏ、　。

Ｆｒａｎｃｅより入手）　３５３３／Ｄｏｗ　ＬＬＤＰｔｔ　２４１７の三層フ ィルムを作った。

このフィルムは三枚の先駆体フィルムを４００’　Ｆ　（２０４℃）及び約２０ ００ボンドの圧力（１４０ｋｇ／ｄ）にて互いに５分間圧搾せしめることにより 形成せしめた。形成したフィルムは１２．７の中核／スキン比を有し、厚さ５ｍ １ｌ（０，１３ｏｎ）であった、このラミネートを４００％伸ばした（１から５ ＣＩへと）、この伸長したラミネートを次に室温にて３．２　ａｍ　（伸長した 長さの３６％）まで収縮させた。緩和したラミネートを次に１８０°Ｆ（８０℃ ）の空気によって熱収縮させ、そしてこれは１．５　ＣＩ　（緩和された長さの ５３％）まで収縮した。次にこのサンプルの縁を切り取り、そしてマイクロテキ スチャー化について観察した。１００ＯＸの拡大にて折りたたみは観察されなか った。おそらくカバ一層の再圧搾によって形成された微細な突起及びスキン離層 が観察された。キャストラミネートについてのＣＯＦ及び不透明度は０．９０１ 及び２．７７％であり、そして緩和活性化したラミネートのそれはそれぞれ０． ８３１及び１２．４例１５由来の材料を鈍い刃のローラーを用いて手によって数 回筋を付けた。このことはこのラミネートに刻み目を付与する。このラミネート を１００％伸長して瞬間的に回復させたとき、この筋のまわりの領域において弾 性活性化が生じた。このことは有効であり、なぜなら通常この材料は均一な延伸 及び活性化されるには３００％以上に伸長しなくてはならないからである。

勇ユＩ ＰＰ（ＥＸＸＯＮ　３０８５）／５ＩＳｆｆｒａｔｏｎ　２１０７）／ＰＰのフ ィルムラミネートをコロナ放電によって処理した。このＳＩＳ中核は１％の顔料 、１％のＩｒｇａｎｏｘ　１０７６（Ｃｆｂａ　Ｇｅｉｇｙ　Ｉｎｃ、、Ｈａｗ ｔｈｏｒｎｅ、ＮＹ）及び１０％の（エラストマー及びＰＡＭＳに基づいて）　 Ｅｘｘｏｎ　ＰＡＭＳ　１Ｂ−２１０を含んだ。

このラミネートの全体的な厚みは３．６ｍ１ｌ（０，０９１４■）であり、中核 ／スキン比は５．１：１であった。このラミネートをｉｏｏ’Ｆ（３７，８℃） 及び５３％の相対湿度にてコロナ処理した。−面当り１．８６に−で作動させた コロナを、１分間当り１０フイート（３，０５コロナ処理された領域が優先的に 活性化された。

角（約１１０℃）にて引取った。このラミネートは伸ばしたとき、微小亀裂が生 じた領域において優先的に活性化された。

７　ＰＥ／ＢＶＡ／ＳＩＳ／ＥＶＡ／ＰＨ３接着性破損１２Ａ　ＢＶＡ／ＳＩＳ ／ＥＶＡ　４　接着性破損１２Ｂ　ＦＡ３００ＳＩＳ／ＦＡ３００　７　接着性 破損１９Ｅ　ＰＥ／ＳＩＳ＋ＰＳ／ＰＥ　３　すき間あり８　ＬＬＤＰＥ／ＳＩ Ｓ／ＬＬＤＰＥ　３　すき間なし５　すき間なし ７　すき間なし １５Ａ　ＰＰ／５ＥＢＳ／ＰＰ　４　すき間なし１５ＣＰＰ／５ＥＢＳ／ＰＰ　 ５．３　弾性体の結合破損Ａ　ＰＰ／ＳＩＳ／ＰＰ　すき間なし ラミネートであった。

種のマイクロテキスチャー化フィルム（異なる伸長率による）に関して以下の表 ＸＶＭにおいてその結果を示す。

ｌ」■ 注型し放し品　クロム側　８．６　８．８ゴム側　３．４　３．３ ３００％　クロム側　２．１　３．５ ゴム側　１．５　１．９ ４００％　クロム側　２．０　６．６ ゴム側　１．６　２．４ ５００％　クロム側　２．２　３．０ ゴム側　１．６　１．８ 本発明の種々の改良は本発明の範囲を逸脱することなくなされることができ、そ して本発明を例示の目的で記載したものに拘束するべきでない。

一漫　んり　８３の　イの　ｊすθ −→−−一／ｂρ　ＯＩ、／ ′　中核／スキン比 歪 歪 歪 要約書 少なくとも一枚のエラストマ一層及び少なくとも一枚の薄いスキン層を含んで成 るマイクロテキスチャー化エラストマーラミネートが、これらの署を同時押し出 しし、次いでこのラミネートの予め決められた領域におけるスキン層の弾性限界 を超えてこのラミネートを伸長させ、その後これらの領域においてこのラミネー トを回復させることによって好適に作られる。

補正書の翻訳文提出書 （特許法第１８４条の８） 平成４年り月？υ日

Claims (43)

【特許請求の範囲】
1. １．エラストマーラミネートであって、少なくとも一枚の非エラストマースキン 層及び少なくとも一枚の部分的エラストマー中核層を含んで成り、ここでこのラ ミネートは少なくとも１つの優先的活性化ゾーンを含んで成り、ここで前記の少 なくとも一枚の中核層は実質的にエラストマーであり、そしてここで前記ラミネ ートは形成されたときは非弾性であり、そして伸ばされたときは優先的に伸び且 つ前記優先的活性化ゾーンにおいて回復して弾性体となることができることを特 徴とするエラストマーラミネート。
2. ２．エラストマーラミネートであって、少なくとも一枚の非エラストマースキン 層及び少なくとも一枚の部分的エラストマー中核を含んで成り、このラミネート が優先的活性化領域及び非優先的活性化領域を含んで成ることを特徴とするエラ ストマーラミネート。
3. ３．ゾーン活性化可能な非弾性ラミネートを形成せしめる方法であって、エラス トマー中核と熱可塑性スキン層の多重層ラミネートを提供し、次いで前記ラミネ ートをーもしくは複数の層における一定の領域にて処理せしめて優先的活性化ゾ ーンを提供する（ここで前記優先的悟性化ゾーンは優先的に伸び且つ回復して弾 性ゾーンを形成する）段階を含んで成る方法。
4. ４．前記優先的活性化領域がこのラミネート上の優先的活性化ゾーンを規定する 、請求項２に記載のエラストマーラミネート。
5. ５．前記の少なくとも１つの優先的活性化ゾーンが、その伸長方向に対して横方 向において、平均して、その範囲の少なくとも２０％以上相対的に低い弾性率の 領域を有する、請求項１，２又は４に記載のエラストマーラミネート。
6. ６．前記の少なくとも１つの優先的活性化ゾーンが、その伸長方向に対して横方 向において、平均して、その範囲の少なくとも５０％以上低弾性率の領域を有す る、請求項５に記載のエラストマーラミネート。
7. ７．非優先的に活性化されるゾーンが、前記の少なくとも１つの優先的活性化ゾ ーンに対応する範囲に比べて、その伸長方向に対して横方向において、平均して その範囲にわたって少なくとも２０％以下の低弾性率領域を有する第２のゾーン を含んで成る、請求項６に記載のエラストマーラミネート。
8. ８．前記ラミネートが伸ばされたとき、少なくとも一枚のスキン層の非弾性変形 限界を超えて前記優先的活性化ゾーンにおける低弾性率領域を優先的に伸ばし、 この層がこのラミネートの回復に基づいてマイクロテキスチャー化された表面を 形成せしめる、請求項７に記載のエラストマーラミネート。
9. ９．前記優先的活性化ゾーンにおいてこのラミネートが、少なくとも１秒後にそ の伸ばされた長さから１５％以上回復する、請求項１，３又は４のいずれか１項 に記載のエラストマーラミネート。
10. １０．ラミネートが少なくとも５秒後にその伸ばされた長さから１５％回復する 、請求項１，３又は４のいづれか１項に記載のエラストマーラミネート。
11. １１．ラミネートが少なくとも２０秒後にその伸ばされた長さから１５％回復す る、請求項１，３又は４のいづれか１項に記載のエラストマーラミネート。
12. １２．ラミネートがその伸ばされた長さから２０秒後に１５％より少なく回復し 、そして２６．７℃以上の活性化温度にかけたときに全回復の少なくとも５０％ 回復する、請求項１，３又は４のいづれか１項に記載のエラストマーラミネート 。
13. １３．回復が機械的に開始される、請求項１，３又は４のいづれか１項に記載の エラストマーラミネート。
14. １４．ラミネートが１秒後に少なくとも１５％回復する、請求項１，３又は４の いづれか１項に記載のエラストマーラミネート。
15. １５．非優先的活性化ゾーンが、アニーリングプロセスにかけられた少なくとも １つの相対的に高い弾性率領域を含む、請求項１，３又は４のいづれか１項に記 載のエラストマーラミネート。
16. １６．前記相対的に低弾性率の領域が可塑化処理にかけられた、請求項１，３又 は４のいづれか１項に記載のエラストマーラミネート。
17. １７．非優先的活性化ゾーンが、架橋処理にかけられた少なくとも１つの相対的 に高い弾性率領域を含む、請求項１，３又は４のいづれか１項に記載のエラスト マーラミネート。
18. １８．少なくとも一層において、少なくとも１つの低弾性率領域における前記の 層のポリマー組成よりも高い弾性率のポリマー組成を前記第２のゾーンにおいて 利用している、請求項７に記載のエラストマーラミネート。
19. １９．前記の高い弾性率のポリマー組成物が前記の低弾性率ポリマー組成物にお けるポリマーより高い弾性率のポリマーを含んで成る請求項１８に記載のエラス トマーラミネート。
20. ２０．前記の高い弾性率のポリマー組成物及び前記低弾性率のポリマー組成物が 、主として実質的に同一のポリマーを含んで成り、そのいづれか又はその両者が 弾性率改質剤を含んで成る請求項１８に記載のエラストマーラミネート。
21. ２１．前記高弾性率ポリマー組成物が非エラストマーであり、そして前記低弾性 率ポリマー組成物がエラストマー組成物であり、ここで少なくとも一方の層が中 核層を占めている、請求項１８に記載のエラストマーラミネート。
22. ２２．前記中核層の少なくとも一枚が内層であり、そして少なくとも一枚のスキ ン層が外層である、請求項１，３又は４に記載のエラストマーラミネート。
23. ２３．少なくとも２枚のスキン層を含んで成る請求項２２に記載のエラストマー ラミネート。
24. ２４．請求項１又は４のいづれかに記載のエラストマーラミネートを含んで成り 、少なくとも１つの優先的活性化ゾーンの外側の領域が接着層を更に含んで成る 、弾性体接着性テープ。
25. ２５．２つの相対的に非優先的活性化ゾーンが優先的活性化ゾーンの両側に隣接 し、ここで前記非優先的活性化ゾーン上の接着層はこのラミネートの同一の面上 にあり、ここで弾性テープは接着性閉鎖タブとしての利用に適するサイズである 、請求項２４に記載の弾性接着性テープ。
26. ２６．おむつ閉鎖タブに含まれ、そしてここで前記優先的活性化ゾーンがその少 なくとも一方の面に低接着性バックサイズを更に含んで成る、請求項２５に記載 の弾性テープ。
27. ２７．前記の少なくとも１つの優先的活性化ゾーンが少なくとも１つの優先的応 力領域を含んで成り、そしてここで前記の少なくとも１つの優先的活性化ゾーン がその伸長方向に対して横方向において、平均して、このラミネートの範囲の少 なくとも２０％以上優先的応力領域を有する、請求項１，３又は４のいづれか１ 項に記載のエラストマーラミネート。
28. ２８．少なくとも１つの非優先的活性化ゾーンが、前記の少なくとも１つの優先 的活性化ゾーンの対応の範囲と比べ、その伸長方向に対して横方向に、平均して その範囲にわたって少なくとも２０％以下の優先的応力領域を有する第２のゾー ンを含んで成る、請求項２７に記載のエラストマーラミネート。
29. ２９．前記の優先的応力領域がスコアリング、アブレーション、コロナ処理又は 前記領域の少なくとも一層からの材料の除去によって形成される、請求項１７に 記載のエラストマーラミネート。
30. ３０．少なくともいくつかの前記優先的及び非優先的活性化領域がパターンを形 成し、これは伸長し且つ回復させたときに前記優先的活性化領域において実質的 に活性化されてパターン化表面マクロテキスチャー及び前記優先的活性化領域に おける少なくとも一枚のマイクロテキスチャー化スキン層を形成する、請求項２ に記載のエラストマーラミネート。
31. ３１．前記パターンにおける前記優先的及び非優先的活性化領域の両方が伸長さ れ且つ回復された、請求項３０に記載のエラストマーラミネート。
32. ３２．前記パターンにおける前記優先的及び非優先的活性化領域の両方が微細構 造化スキン層領域を形成する、請求項３１に記載のエラストマーラミネート。
33. ３３．コロナ放電処理によって作られる優先的応力領域を有するように前記ラミ ネートを処理し、ここで前記コロナ放電処理はこのラミネートの領域をそのコロ ナ飽和点よりも低く処理し、そして前記のラミネートの一様な変形によって前記 領域において微小亀裂を作り上げることを含んで成る、請求項３０に記載の方法 。
34. ３４．前記一様な変形が表面からの前記ラミネートの鋭利な巻取角度によって提 供される請求項３３に記載の方法。
35. ３５．弾性化された優先的活性化ゾーン及び弾性化されていない非優先的活性化 ゾーンを有するエラストマーラミネートを含んで成る弾性領域を有するラミネー トを有する製品であって、このラミネートが少なくとも一枚の非エラストマース キン層及び少なくとも一枚の部分的エラストマー中核層を含んで成る製品。
36. ３６．前記製品が、エラストマーラミネートが取り付けられている締め付け表面 を更に含んで成る衣料である、請求項３５に記載の製品。
37. ３７．前記ラミネートが前記非弾性化ゾーンにて前記締め付け表面に取り付けら れている請求項３６に記載の製品。
38. ３８．おむつに含まれる請求項３６に記載の製品（ここで前記ラミネートは、中 央弾性化ゾーン及び２つの非弾性化外部ゾーンを含んで成る任意のおむつ閉鎖タ ブを占めるか〔少なくともこの一方はその少なくとも一方の面上にて接着剤がコ ートされている〕、脚部又は腰部の締め付け領域での弾性化要素を占めそして前 記非弾性化ゾーンにて前記締め付け表面に取り付けられている）。
39. ３９．前記のラミネートが、このラミネートの幅に浴って相対的に一定の平均厚 みを有する、実質的に同時伸長層より成るフィルムである、請求項１〜４のいづ れか１項に記載のエラストマーラミネート。
40. ４０．前記の中核及びスキン層が、伸長及び回復の後にその活性化ゾーンにおい て実質的に連続的に接触し続けている、請求項１〜４のいづれか１項に記載のエ ラストマーラミネート。
41. ４１．前記の中核及びスキン層が、伸長及び回復の後にその活性化ゾーンにおい て実質的に断続的に接触し続けている、請求項１〜４のいづれか１項に記載のエ ラストマーラミネート。
42. ４２．少なくとも部分的エラストマー中核がＡ−Ｂ−Ａブロックコポリマーを含 んで成る請求項１〜４のいづれか１項に記載のエラストマーラミネート。
43. ４３．ＡＢＡブロックコポリマーがスチレン−イソプレン−スチレン、スチレン −ブタジエン−スチレン又はスチレン−エチレンブチレン−スチレンブロックコ ポリマーを含んで成る、請求項４２に記載のエラストマーラミネート。