JPH05500367A - 安定で水溶性の化学発光性１、２―ジオキセタンおよびそれらの中間体の合成法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 安定で水溶性の化学発光性１．２−ジオキセタンおよびそれらの中間体の合成法 本発明は、安定で水溶性の化学発光性１．２−ジオキセタンの新規な合成法およ びそのような１．２−ジオキセタンの合成の際に得られる新規な中間体に関する 。

関連技術の説明 中心構造が、対の共役炭素及び酸素原子を含有する（後者は過酸化物結合を形成 する）４員環の環状有機過酸化物である、１．２−ジオキセタンは公知の化合物 であるが、最近まではめったに用いられない種類の化合物であった。ある種の１ ．２−ジオキセタンは下記の同一譲受人の係属中の米国特許出願に記載のように 、例えば酵素の作用による、化学発行性の分解を示すように製造することができ る　ブロンスタイン、第８８９．８２３号、「ジオキセタンの酵素による分解を 利用した物質の検出方法（Ｉｌｅｔｈｏｄ　ｏｆ　Ｄｅｔｅｃｔｉｎｇ　５ｕｂ ｓｔａｎｃｅ　Ｕｓｉｎｇ　ＥｎｚｙｍａｔｉｃａＬｌｙ−Ｉｎｄｕｃｅｄ　Ｄ ｅｃｏｌｌｐｏｓｉｔｉｏｎ　ｏｆ　Ｄｉｏｘｅｔａｎｅｓ）Ｊ、１９８６年６ 月２４日出願、ブロンスタイン等、第１４０．０３５、「分析試験に用いるジオ キセタン（Ｄｉｏｘｅｔａｎｅｓ　ｆｏｒ　Ｕｓｅ　ｉｎ　Ａｓ５ｅｙｓ）Ｊ、 １９８７年１２月３１日出願、ニドワード、第１４０．１９７号、［１，２−ジ オキセタン及びその中間体の合成（Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ　ｏｆ　１．２−ｄｉｏ ｘｅｔｈａｎｅ　ａｎｄ　Ｉｎｔｅｒｍｅｄｉａｔｅｓ　Ｔｈｅｒｅｆｏｒ月、 １９８７年１２月３１日出願、ニドワード等、第、２１３．６７２号、［新規な 化学発行性縮合多環式環含有１．２−ジオキセタン及びこれらを用いる分析試験 法（Ｎｏｖｅｌ　ｃｈｅＩＩｌｉｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｔ　Ｆｕｓｅｄ　ｐｏｌ ｙｃｙｃｌｉｃ　Ｒｉｎｇ−ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ　１．２−ｄｉｏｘｅｔａｎ ｅｓ　ａｎｄ　Ａｓ５ａｙｓ）ｊ、１９８８年６月３０日、およびブロンスタイ ン、■、Ｙ等、［新規な酵素基質および免疫検定法におけるそれらの応用（Ｎｏ ｖｅｌ　Ｅｎｚｙｍｅ　５ｕｂｓｔｒａｔｅｓ　ａｎｄ　Ｔｈｅｉｒ　Ａｐｐｌ ｉｃａｔｉｏｎ　ｉｎ　ＩＩＩＩhｌ ｕｎｏａｓｓａｙ月、Ｊ、　Ｂｉｏｌｕｍ、　Ｃｂｅｍ、２　：１８６　（１９ ８８）。

そのような化学発光の際に放出される光の量は発光物質の濃度の程変を示し、こ れは換言すると、その先駆体である１、２−ジオキセタンの濃度の捏度を示す。

従って、発光の強麿を測定することによって、１．２−ジオキセタンの濃度、そ れ故試験物質（例えば、生物試験における特定の結合対の１．２−ジオキセタン 部分に結合した生物学的成分）の濃度を測定することができる。１．２−ジオキ セタン環上の置換基を適切に選択することにより、特に、分子の化学安定性の調 整が可能となり、これは換言すると、化学発光の開始を制御する手段となり、そ の結果そのような化学発光は実際の目的、例えば免疫検定法、核酸プローブ試験 、酵素試験等にますます有用なものとなってきた。

オレフィン性二重結合の光酸化にょる１、２−ジオキセタンの製造はマッール（ Ｍａｚｕｒ）　Ｓ、等、Ｊ、＾ｒｔｒ、　Ｃｈｅｗ、　Ｓｏｃ、、９２：３２２ ５　（１９７０）で公知である。しかしながら、容易に得られる出発物質から誘 導されるオレフィン性不飽和先駆体からの、置換１．２−ジオキセタンの簡単で かつ一般的な合成法がめられている。これに関連して、式 （式中、Ｔ、Ｒ３、ＹおよびＺは下記の通りである）の１．２−ジオキセタンを 、一般式・ のエノールエーテル型先駆体から製造する商業的に有用な方法がめられている。

マクマレ−等［１［ｃＭｕｒｒｙ、　Ｊ、　Ｅ、等、Ｊ、　Ｏｒｇ、　Ｃｈｅ＋ ＊、、４３：３２５５　（１９７８）］は、カルボニル基の、チタンで誘導され る還元カップリングで、オレフィンを形成することについて述べている。シャー プ（Ｓｃｈａａｐ）、　Ａ、Ｐ、　（７）１９８８年１月２７日付のヨーロッパ 公開特許第２５４．０５１号およびブロンスタイノ、１．Ｙ、１９８６年の上記 の文献には、この反応を用いて、以下の一般的な反応 によって式（ＩＩ）の化合物を製造することが記載されている。

メカニズムがイオン性のものである脂肪族ケトンとンアリールケトノとの間の同 様な混合力／ブリノブと較へた場合、上記の非対称マクマレー力／ブリノグに伴 ういくつかの問題点か、上記の式で作用するラジカルに基づくメカニズムの場合 、特に重要となる。混合カップリング生成物が好ましい場合、エステル共反応体 に較へてモル過剌量の高価な１’　＝　Ｏケトンを使用することがしばしば必要 であり、同時に最高収率か低いということは、この方法が小規模操作の場合にの み適するということになる。さらに、反応が周知のようにきまぐれであること、 カップリングを行うのに大量のＴｉＣ１ｓ／ＬｉＡＩＨｑか必要であること、そ して好ましいエノールエーテルからの分離が難しい副生成物か形成されることも 、この方法を商業的に有用な方法とする足かせとなる。さらに、のような特定の 有用なメタ万換出発物質は、置換基が還元されたり、加水分解されたり、あるい はＩ゛＝　Ｏとの還元力ノブリノグに加わるので、マクマレ−試薬と共に使用す ることはできない。すなわち、二重結合はどの場合も特定の領域に導入すること はできない。

エノールエーテルはまた、塩基性媒体中でのアルコキンメチレンシランまたはホ スホラノとアルデヒドまたはケトンとのビーダーリンまたはウィノチヒ反応」惧 １−１４１：３９９７　（１９７９）］。上Ｓ己のブロンスタイン、１９８６ｉ こは、ホスホニウムイリドとＴ＝Ｏケトンとのウィッチヒ反応を用いた上記の式 （ＩＩ）のオレフィンの合成についての記載がある。ウィッチヒ反応の主な利点 はイオン性の反応であることであり、はとんどの場合、二重結合を特定の領域に 導入することができる。

しかしながら、ウインチヒ反応の問題点の１つは、生成物であるアルケンを酸化 ホスフィン副生成物から分離することが、これらの化合物の溶解麿特性が似てい るため、難しいということである。別の問題点は、初めにに生成されるホスホニ ウムイリドが、比較的高価なホスフィン出発物實がらしが製造できないことであ る［ウォーカー、Ｂ、Ｊ、　、ｉｎ　Ｃａｄｏｇａｎ、　Ｊ、　１．　Ｇ、、　 ｅｄ、、「有機合成におけ不互機燐試薬（Ｏｒｇａｎｏｐｈｏｓｐｈｏｒｕｓ　 Ｒｅａｇｅｎｔｓ　ｉｎ　Ｏｒｇａｎｉｃ　５ｙｎｔｈｅｓｅｓ）、↓、アカデ ミツクプレス、ニューヨーク、　（１９７８）、第１５５−２０５頁］。また。

ホスホニウムイリドは比較的弱い核性のものであるので、これらは限られた範囲 のカルボニル化合物とのみ反応し、そしてこれを行うには比較的きびしい反応条 件を必要とする［ガシュルスト（Ｇｕｓｈｕｒｓｔ、＾、Ｊ１等、Ｊ、　Ｏｒｇ 、　Ｃｈｅｗ、、５３゜３３９７　（１９８８）］、最後に、ウィッチヒ反応で は副反応がしばしば生じ、これはまた収率が比較的低い一因となっている［ホー ナー、Ｌ９等、Ｃｈｅｔ　Ｂｅｒ、、９５：５８１　（１９６２）］。

マクマレ−およびウィｙチヒ反応の両者は、特に商業的規模での酵素による開裂 が可能な１．２−ジオキセタン用のオレフィン中間体の合成に用いる場合、多く の問題点か伴うので、安定で水溶性の、酵素で開裂しうる化学発光性１．２−ジ オキセタンの合成に有用なエノールエーテルへのより適したルートがめられ本発 明はこの要求を満たすものである。安定で水溶性の化学発光性１．２−シオキセ タス特に、酵素での開裂が可能であり、安定化および可溶化基で置換されかつ発 蛍光団を含むこれらの化合物の新規な合成法であり、しがもこれまで用いられて きた反応に特有の問題のない新規な合成法をこのたび見いだした。特に、本発明 は、まず初めに、目的の１．２−ジオキセタン最終生成物の基本エノールエーテ ル中間体を合成する際に、ジアルキル　１−アルコキシ−１−アリールメタンホ スホネート安定化カルボアニオン中間体を用いる上記のような１．２−ジオキセ タン合成ルートに関する。

上記式（１）のような安定で水溶性の化学発光性１．２−ジオキセタンの合成に 用いられるエノールエーテルを製造するために、ホーナー・エモンス反応［ホボ アニオンを使用すると、そのようなエノールエーテル中間体を合成するこれまで の方法に較べて、幾つかの利点があることを見いだした。これらの利点は：広範 囲の補助的官能基の存在下でオレフィン性二重結合を特定の領域へ導入できるこ と、ホスホニウムイリドに較べて核性が高くなっていること、これはホスホネー ト安定化カルボアニオンと反応しうるケトンの種類を多くするばかりでなく、こ の反応を穏やかな条件で行えるようにする：ウイッチヒ反応を用いて得られるも のより、アルケンおよび燐含有副生成物が品分離性であること（本発明の実施で 生成される燐酸ジエステル塩副生成物は非常に水溶性のものである）、ホスホニ ウムイリドに較べて、ホスホネートカルボアニオンの反応性および安定性が高く なっているため、ベタインの形成が容易であること、出発物質、すなわち、トリ アルキルホスファイトが、ウインチヒ反応に必要なより高価なホスフィンより、 安価にかつ都合よく製造されることである。

さらにまた、ルイス酸の存在下でのアリールアルデヒドジアルキルアセタールと トリアルキルホスファイトまたはトリアルキルシリルシアルキルホスファイファ アルコキシアリールメチルハロゲン化物とトリアルキルホスファイトとの間にア ルブゾフ反応［アルブゾフ、　Ａ、Ｅ、等、Ｃｈｅｗ、　Ｂｅｒ、、６０：２９ １　（１９２７）コを用いる公知のルートよりも、一般的で簡単な、Ｔ＝Ｏケト ンまたはジオン（０＝Ｔ＝Ｏ）を用いるホーナー・エモンス反応のためのホスホ ネート中間体へのルートを提供するばかりでなく、このように用いた、開鎖また は環状のもの（例えば、１．３−ジオキソランまたはジオキサン）でもよいアリ ールアルデヒドジアルキルアセクールのアリール部分は、電子供与または電子受 容メタ置換基で置換することができることを見いだした。得られるメタ置換ジア ルキル　１−アルコキシ−１−アリールメタンホスホネートは（１つを除いて本 発明では有用でない）　［クリーリー（Ｃｒｅａｒｙ）、　Ｘ、等、Ｊ、　Ｏｒ ｇ、　Ｃｈｅｗ、、５０：２１６５（１９８５）］、従来公知のものではない。

１．２−ジオキセタン基の付いている位置に対してメタ位置に電子供与部分を最 終的につくると、ジオキセタン環の４位に、発蛍光団形成基を含有する単環式ま たは多環式芳香族環が置換された上記式（Ｉ）のような１．２−ジオキセタンか ら一重項励起状態を作り出す効率が最大になることが分かったので、メタ置換ア リール基が好ましい。

係属中のニドワード等の米国特許出願第２１３．６７２号に記載かつ請求されて いるように、縮合多環式芳香族環含有置換ジアルキル　１−アルコキシ−１−ア リールメタンホスホネートを使用し、そしてその不安定な置換基またはその先駆 体が、メタンホスホネート基および上記の不安定な置換基の付いている位置の炭 素原子を含めて、環原子、例えば環の炭素原子、の合計が奇数の整数、好ましく は５以上となるような位置で環に付いていると、適当な環境下で分解したとき、 このように製造された１、２−ジオキセタンは、これとは異なる置換が行われて いる環の場合よりも、強廣が強くかつ持続時間が長い赤に変化する光を放出する 。

他の置換基がこれらのホスホネートの芳香族環上のどこにあってもよいが、化学 的なまたは酵素による開裂が可能な部分に合成することができる少なくとも１つ のｆｆ１ｔｆｉ基は、アルコキン、アルアルコキシまたはアリールオキシ基およ びホスホネートエステル基の燐原子によってさらに置換されている「ベンジル」 炭素原子に対して、メタまたは奇数位置に存在する。

合成可能な基の例は、ジエチル　１−メトキシ−１−（３−ブロモフェニル）メ タンホスホネート中の臭素原子であり、これはＴ＝Ｏケトンを用いてホーナー・ エモンス反応を行うとエノールエーテル、例えば。

となる。このエノールエーテルは元素硫黄、シメナルシスルフィトまたはメチル メチル千オメチルースルホキノトとの反応のためのグリニヤール試藁または有機 リチウム誘導体に変えて、相当するエノールエーテルチオフェノールまたはその メチルエーテルにすることかできる。同し有機金属成分をトリメチルシリルアン トまたはアットメチルフェニルスルフィトと反応させて［タナ力、Ｎｏ等、Ｊ、 　Ｃ。

Ｓ、　Ｃｈｅｍ、　Ｃｏｍ１．　１．３２２　（１９８３）　；　トロスト（Ｔ ｒｏｓｔ）、Ｂ、等、Ｊ、　Ａｍ、　ＳＩＸ：、　、ＬＯ：３　：　２４８３　 （１９８１）　Ｊ−メタアミノフェニルエノールまたはそのＮ−アノルまたはス ルホノアミド誘導体を得ることができる。

（式中、アルカリ金属陽イオンであるＡＭ’はリチウムナトリウムまたはカリウ ムであり、Ｔ、Ｒ３、ＸｌおよびＹは上記の通りである）のヒドロキノアリール エノールエーテルアルカリ金属塩を、この反応経路の行程６ａおよび６１）の生 成物である化合物」として示される相当するｉ１１！ＩＩＩ！ヒドロキシ化合物 の代わりに用いて、上記の反応経路の工程７のアンル化反応または工程８の燐酸 化反応または工程１１のグリコジル化反応を行なうと、しばしば有利であること か分かった。ある場合には、Ｊｌ１Ｍ＋ヒドロキシ化合ではなくエノールエーテ ルのアルカリ金属塩を用いると、反応材料の節約になる。例えば、上記工程７の 方法によるエノールエーテルのアルカリ金属のアシル化、あるいは工程８の方法 によるアルカリ金属塩の燐酸化反応は、いずれの場合もルイス塩基を使用しない で行うのが好ましい。また別の場合には、反応工程が実際に少なくなる。例えば 、反応後プロトン存在条件下での処理を行う外は、工程６ａおよび６ｂの上記の 反応条件を用いるだけで、エノールエーテルが遊離ヒドロキシ化合物としてでは なく、そのアルカリ金属塩として得られる。それ故、初めに遊離ヒドロキシ化合 物を単離し、次いで別の反応で塩を形成することによって、アルカリ金属塩を得 る必要はない。その代わりに、このようにして得たアルカリ金属塩は、沈殿によ って分離することも、あるいはその場でのアシル化、燐酸化またはグリコジル化 反応に使用することもできる。

本発明の目的は、上記の式（［）のような安定で、水溶性の、化学的、熱的かつ 酵素的に分解しうる化学発光性１．２−ジオキセタンの簡単で、安価な、高収率 で集中的な化学合成法を提供するものであり、これは、置換アリールアルデヒド アルキルおよびシクロアルキルアセクールおよびホスホネート安定化カルボアニ オンを形成しうる新規なホスホネート誘導体を、そのような１．２−ジオキセタ ン最終生成物のエノールエーテル先駆体を形成する際の中間体として用いるルー トによる方法である。

本発明の別の目的は、本発明の化学発光性１．２−ジオキセタンの合成に用いる 、個々の置換アリールアルデヒドアルキルおよびシクロアルキルアセクール、ホ スホネート誘導体およびエノールエーテル中間体を合成する方法を提供するもの である。

本発明のさらに別の目的は、新規な組成物として、１．２−ジオキセタンの合成 に有用な置換アリールアルデヒドアルキルおよびシクロアルキルアセクール、ホ スホネート誘導体およびエノールエーテル中間体を提供するものである。

本発明のさらに別の目的は、上記係属中の米国特許出願に記載かつ特許請求され ている、安定で、水溶性の化学発光性１．２−ジオキセタンの新しい合成法の変 形法を提供するものである。

本発明の別の目的は、上記係属中の米国特許出願に記載かつ特許請求されている 、アセチル化、燐酸化およびグリコジル化反応に有用なエノールエーテルアルカ リ金属塩中間体を得る方法を提供するものである。

本発明の別の目的は、反応材料か節約されるまたは反応工程が少なくなるあるい はこれらの両方の結果が得られる、エノールエーテルアルカリ金属塩中間体を得 る方法およびこれらを使用する方法を提供するものである。

以下の実施例および請求の範囲で、本発明のこれらの目的および別の目的そして それらの利点について詳しく説明する。

発明の詳細な説明 １．２−ジオキセタン、特に、上記のブロンスタイン、ブロンスタイン等、ニド ワードおよびエトワード等の係属中の出願に記載の、Ｔかスピロ結合置換基であ り、そのジェム炭素がジオキセタン環の３−炭素原子でもある、酵素で開裂しう るジオキセタン、およびそれらの熱的、化学的および電子化学的に開裂可能な類 似物は、本発明の方法で合成することかできる水溶性の化学発光性１．２−ジオ キセタン化合物の１種である。これらの１．２−ジオキセタンは上記式（１）で 表すことができる。Ｔは安定化基である。最も好ましい安定化基は、スピロ結合 によりジオキセタン環の３−炭素原子に結合し、そ］、てそれぞれが３−１２の 炭素原子を有する２つ以上の縮合環を有する縮合ポリシクロアルキリデン基であ り、それには例えば、アダマット−２−イリデンがあり、これはさらに不飽和結 合または１．２−縮合芳香族環、あるいは炭素原子数１−１２の置換または非置 換アルキル基、例えば第３ブチルまたは２−ノアノエチル、あるいはアリールま たは置換アリール基、例えばカルボキシフェニル、あるいはハロゲン基、例えば クロロ、あるいはヒドロキシル基または炭素原子数１−１２の置換または非置換 アルコキンまたはアリールオキソ基、例えばエトキシ、ヒドロキシエトキシ、メ トキシエトキシ、カルボキンメトキシまたはポリエチレンオキシ基を含んでぃて もよい。

記号Ｒ３はＣＩ　Ｃ２０非分岐鎖または分岐鎖、置換または非置換、飽和または 不飽和アルキル基、例えば、メチル、アリルまたはイソブチル、ヘテロアラルキ ルまたはアラルキル（エチレン性不飽和アラルキルを含む）、例えばペンシルま たはビニルヘンツル２さらに置換されていてもよい多環式（縮合環）またはへテ ロ多環式アラルキル、例えばナフチル−メチルまたは２−ヘンゾチアヅールー２ −イル）エチル、飽和または不飽和シクロアルキル基、例えばシクロヘキシルま たはシクロへキセニル；Ｎ、０またはＳヘテロ原子含有基、例えば４−ヒドロキ シブチル、メトキシエチルまたはポリアルキレンオキソアルキル：発光フラグメ ントかラクトン環を含有するようにＹに縮合していてもよいアリール基、または 酵素で開裂するとジオキセタン環に結合した電子に富む部分となることができる 結合を含む酵素で開裂しうる基であり７好ましくは、Ｘはメトキシ基である。

記号Ｙは、エネルギーを吸収して励起エネルギー状態を形成し、光学的に検出可 能なエネルギーを放出して元のエネルギー状態に戻ることができる、光を放出す る発蛍光団を形成する基である。好ましいのは、フェニル、ビフェニル、９．１ ０−７ヒドロフエナントリル、ナフチル、アントリル、ピリジル、キノリニル、 イソキノリニル、フエナントリル、ピレニル、クマリニル、カルボスチリル、ア クリジニル、シベンゾスヘリル、フタリルまたはこれらの誘導体である。

記号Ｚは、水素（この場合、ジオキセタンは熱によって酸素−酸素結合を壊して 開裂することができる）、化学開裂が可能な基、例えばヒドロキシル基、アルカ ノイルオキシまたはアロイルオキシエステル基、シリルオキシ基、あるいは酵素 によって開裂されてジオキセタン環に結合した電子に富んだ部分となりうる結合 を含む酵素で開裂しうる基、例えば、開裂したとき、Ｙに付いた酸素アニオン、 硫黄アニオン、アミンまたは置換アミン基、あるいは窒素アニオン、特にスルホ ンアミドアニオンのようなアミドアニオンを生じる結合を表す。

置換基ＴＳＲ３およびＺの１つ以上に、１．２−ジオキセタンの水溶性を高める 置換基、例えばカルボン酸、例えばカルボキシメトキシ基、スルホン酸、例えば アリールスルホン酸基、またはこれらの塩、あるいはトリメチルアンモニウムの ような４級アミノ塩基、あるいは適当な対イオンが含まれていてもよい。

酵素で開裂しうる１、２−ジオキセタンを用いるときは、例えばホスフェートモ ノエステル基のような２置換基中の結合が開裂して、より低い酸化電位のＹオキ シ−アニオンを生しる、換言すると、ジオキセタンを不安定化し、そしてその酸 素−酸素結合を開裂する、アルカリ性ホスファターゼのような酵素を用いて開裂 を行うことができる。あるいは、触媒抗体を用いて、Ｚ置換基を開裂してもよい 。不安定化はまた、酸素−酸素結合を直接開裂する酸化還元酵素のような酵素を 用いて行うこともできる。前記ブロンスタインおよびブロンスタイン等の出願を 参照。

上記式ＩのＺは、ホスフェートエステル基の他に、酵素で開裂しうるアルカノイ ルオキシ基であってもよく、その例古して以下のものが挙げられる　アセテート エステル基、オキサカルボキシレート基、またはオキサアルコキンカルボニル基 、１−ホスホ−２，３−ジアシルグリセリド基、１−チオーＤ−グルコシド基、 アデノシンジホスフェート類似体基、アデノシンジホスフェート類似体基、アゾ ンシンモノホスフェート類似体基、アデノシン類似体基、ａ−Ｄ−ガラクトシド 基、β−Ｄ−ガラクトシド基、σ−Ｄ−グルコシド基、β−Ｄ−グルコシド基、 σ−Ｄ−マンノシド基、β−Ｄ−マンノシド基、β−Ｄ−フルクトフラノシド基 、β−Ｄ−グルコシジュロネート基、アミド基、ｐ−トルエンスルボニル−し− アルギニンエステル基またはｐ−トルエンスルホニル−■、−アルギニンアミド 基。

本発明の１．２−ジオキセタンの製法については、４位にアルコキン（またはア リールオキシ）およびアリール置換基［後者（ここてはアリールＹ置換基として 説明する）はそれ自体が１つ以上のＸ１基で置換されており、これらの置換基は 互いにオルト、メタまたはパラの位置にある］を有する１、２−ジオキセタンを 製造する以下の反応経路からある程度説明することができる。基Ｒ２またはＸｌ は反応の間、不変である必要はなく、各反応段階において構造的に互換性のある 条件の下で相互変換してもよい。

（ＩＩＩ） これらの式中、いづれのＱも個々に、塩素または臭素のようなハロゲン、または ＯＲ’であり、Ｒ１は個々に、トリアルキルシリル基または炭素原子数１２以下 の低級アルキル基、例えばエチル、プロピルまたはブチルであり、Ｒ２はヒドロ キシル基、エーテル（ＯＲ’）またはチオエーテル（ＳＲ’）基（Ｒ’は、炭素 原子数２０以下の置換または非置換アルケニル、低級アルキルまたはアラルキル 基、例えばメチル、アリル、ヘンシルまたは０−ニトロベンジルであり、Ｒ２は また、アセトキシ、ピバロイルオキシまたはメシトイルオキシのようなアシルオ キシ基、塩素または臭素のようなハロゲン原子、ニトロ基、アミノ基、モノまた はジ（低級）アルキルアミノ基またはその酸塩（各低級アルキル置換基は７以下 の炭素原子を含み、例えばメチル、エチルまたはブチルであり、これらの低級ア ルキル基のいづれかまたは全ては、１つ以上の縮合環を形成するＹと結合しても よい）、ＮＨ３０２Ｒ５基（Ｒ’はメチル、トリルまたはトリフルオロメチルで ある）であり、Ｒ２はまた、４−メトキシフェニルのような炭素原子数２０以下 の置換アリール、ヘテロアリール、β−スチレニル基、または６−メドキシベノ ゾチアゾールー２−イル基てあり、Ｒ３は、メチル、トリフルオロエチルまたは ペンシルのような炭素原子数２０以下の置換または非置換低級アルキル、アリー ル、アラルキルまたはヘテロアラルキル基、さらに置換されていてもよい炭素原 子数１４以下のアリールまたはへテロアリール基、例えば４−クロロフェニル基 、（低級）アルキル−０５ｉＸ３基（低級アルキル基は６以下の炭素原子を含み 、例えばエチル、プロピルまたはヘキシルであり、Ｘは個々にメチル、フェニル または１−ブチル、アルコキシ（低級）アルキル基、例えばエトキンエチルまた はエトキシプロピル、エチル、ブチルまたはヘキシルのような炭素原子数６以下 のヒドロキシ（低級）アルキル基、またはアミノ（低級）アルキルまたはモノま たはジ（低級）アルキルアミノアルキル基（各低級アルキル基は７以下の炭素原 子を含み、例えばメチル、エチルである）、またはペンシルであり、ＸＩは水素 あるいは置換または非置換アリール、アラルキル、ヘテロアリールまたは４．５ −ジフェニルオキサゾール−２−イルのような炭素原子数２０以下のヘテロアラ ルキル基、または３．６−シメトキシー９−ヒドロキシキサンチン−９−イル基 、アリル基、ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチルまたはヒドロキシプロピルの ような炭素原子数６以下のヒドロキシ（低級）アルキル基、（低級）アルキル− ０５ｉＸ３基（アルキルおよびＸ基は上記の通りである）、エーテル（ＯＲ’） またはチオエーテル（ＳＲ４）（Ｒ’は上記の通りである）　、５ＯｚＲ’基（ Ｒ’はメチル、フェニルまたはＮ　ＨＣｓ　Ｈｓ、メチル、トリフルオロメチル またはｔ−ブチルのような炭素原子数７以下の置換または非置換アルキル基、ニ トロ基、シアノ基、アルデヒド官能基またはそのオキシムまたはジメチルヒドラ ゾン、炭素原子数が６以下で、ハライド基が塩素または臭素であるアルキルハラ イド基、ハロゲン基、ヒドロキシル基、カルボキシル基またはその塩、エステル またはヒドラジド誘導体、トリメチルシリル基のようなトリー置換ケイ素がベー スになっている基、またはホスホリルオキシ（ホスフエートモノエステノり基で ある。

前記反応経路の工程１は、トリエチルアミンのような塩基の存在下で、燐トリハ ロゲン化物、例えば三塩化燐またはシアルクルクロロホスファイト、とアルコー ル、例えば短鎖アルキルアルコール、好ましくはメタノール、エタノールまたは ブタノールのような炭素原子数７以下のもの、とから第３亜燐酸アルキルエステ ルを形成するものである。アルカリ金属アルコレートまたはトリアルキルシラル −トはまた、クロロホスファイトとの直接反応に使用することもできる。

工程２は、アリルアルデヒドまたはへテロアリールアルデヒドをアルコール、Ｒ ３０Ｈ，と反応させて相当するアリールアルデヒドアセタールを得るものであり 、アリールアルデヒドはベンズアルデヒド、ナフトアルデヒド、アントラアルデ ヒド等、またはｍ−またはｐ−フタルアルデヒドのようなアリールジアルデヒド 等である。アリールアルデヒド上のＲ２は、上記のベンズアルデヒド中のアルデ ヒド基が付いている位置に対して、１９の位置にあるのが好ましく、これは酸素 結合官能基、例えばピバロイルオキシ、アセトキシ等のようなエステル基、メト キシ、ヘンジイルオキシ等のようなエーテル基、ニトロ基、７１０ケン原子ある いは水素である（以下の表２−６を参照）。アリールアルデヒド上の官能基Ｘ１ は、アルデヒド基がアリール環に付いている位置に対してオルト、メタまたはバ ラの位置にあり、これはメトキシ、エトキシ等の低級アルコキン基、水素あるい はアリール基である（以下の表２を参照）。アルコール反応体Ｒ’　ＯＨにおい て、Ｒ３は、例えばメチル、エチル等の低級アルキル基、低級アラルキル基、低 級アルコキシアルキル基、置換アミノアルキル基あるいは置換シロキシアルキル 基である（表２−６参照）。エチレングリコールまたはプロピレングリコールの ようなジオール、例えばＨＯ−（ＣＨ２）−−ＯＨ１は本発明の範囲に入る環状 アセタールを生成する。アリールアルデヒドとアルコールまたはジオールとの間 のアセタール化反応は従来通りに行い、好ましくはルイス酸、ＨＣＩ　（ｇ）　 、ｐ−トルエンスルホン酸またはそのポリビニルピリジン塩あるいはアンバーリ ストＸＮｌ０ＩＯ樹脂のような触媒の存在下で、例えばトリアルキルオルトホル メート、２．２−ジアルコキシプロパン、無水硫酸銅または分子ふるいを用いで あるいは例えば、ディーンースターク装置で共沸蒸留することによって水を除去 することにより行う。アセタール化の転換率または収率が不十分な場合、ノヨリ （Ｎｏｙｏｒｉ　）反応を用いることができる。この反応では、塩素化炭化水素 溶剤中、触媒としてのトリメチルシリルトリフレートを用いて、上記のいづれか のアルコール（Ｒ”ＯＨ）またはジオールをモノまたはヒストリアルキルシリル エーテルと反応させる。

工程３ては、工程１で生成された第３亜燐酸アルキルエステル（トリアルキルホ スファイト）と、工程２て生成されたアリールアルデヒドジアルキルまたは環状 アセタールとを、好ましくは少なく古も１当量のＢＦ３エーテレート等のような ルイス酸の存在下で反応させて、相当するホスホネートを得るものであり、これ は基本的にはプルツクハウス、Ｄ　等の合Ｆｉ’；、　（Ｓｙｎｔｈｅｓｅｓ） 、３３０　（１９８４）によるものである。アリールアルデヒドジアルキルアセ タールは１−１．５当量のトリアルキルホスファイトと、ルイス酸の存在下、塩 化メチレンのような有機溶剤中、アルゴンのような不活性雰囲気下、０℃未満の 温度で反応して、はぼ定量的収量で、相当する１−アルコキン−１−アリールメ タンホスホネートエステルきなる（表２参照）。ホスホネートは一般に、直接使 用することができる油であるかあるいはシリカゲルでのクロマトグラフィーによ って精製することができる油である。’ＨＮＭＲスペクトルは、ベンジルプロト ンによる４、７ｐｐｍＤ−１５，５Ｈｚ）付近の二重線、隣接燐アニオンによる スプリットを示し１時々は、強度か等しくない２つの二重線が観察される。

工程４では、ホスホネート安定化カルボアニオンを用いて、ホーナー・エモンス 反応によってオレフィンを合成する。詳しく述べると、工程４．１では、塩基、 例えば水素化ナトリウム、ナトリウムアミド、リチウムジイソプロピルアミド（ ＬＤＡ）のようなリチウムジアルキルアミド、金属アルコキシド、あるいは好ま しくはｎ−ブチルリチウムの存在下、好ましくは少し過剰の塩基、例えば存在す る各イオン化可能な基に対して約１．０５当量の塩基を存在させて、ホスホネー ト安定化カルボアニオンをジアルキル　１−アルコキシ−１−アリールメタンホ スホネートから製造する。反応に適した溶剤は多少の極性を有していてもよく、 これらには例えばヘキサンのような脂肪族炭化水素、ベンゼン、トルエンおよび キシレンのような芳香族炭化水素、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）またはグリム のようなエーテル、エタノールおよびプロパツールのようなアルカノール、ジメ チルホルムアミド（ＤＭＦ）　、ジメチルーアセトアミドおよびジメチルスルホ キシド等、あるいはこれらの溶剤の混合物である。リシオホスホネートはジエチ ルエーテルに不溶性であるが、ＴＨＦのようなエーテルに可溶性であるので、Ｌ ＤＡまたはｎ−ブチルリチウムを用いる反応は乾燥ＴＨＦ／ヘキサン混合物中で 行うのか好ましい。また、アルゴンガスのような不活性雰囲気で反応を行うのも 好ましい。０℃未満の温度では、特定のホスホネートおよび濃度を用いることに よって、ｎ−ブチルリチウムとホスホネートとの反応が急速に進行し、これは暗 黄色ないし赤ブドウ酒色の溶液が瞬時に形成されることで示される。

工程４２では、ホスホネート安定化カルボアニオンは、好ましくはモル過剰量で 、カルボニル化合物Ｔ＝Ｏまたはジカルボニル化合物０＝Ｔ＝Ｏと反応させる。

Ｔ＝Ｏが置換または非置換アダマンタノン、例えばアダマンタノン自体であると き、ケトン、好ましくは約０．８−約０．９５当量のケトンを安定化力ルボアニ オンに添加すると反応は直ちに開始され、還流条件下、約２−約２４時間で完了 する。各場合のＴ＝Ｏ当量を最適にすると、この高価な成分を完全に転化するこ とができる。

工程５では、エノールエーテルを酸化する。酸化は、二ノールエーテルを１重項 酸素（’Ｏｚ）で処理することによって光化学的に行うのが好ましく、ここで酸 素は二重結合を隔てて付加して１．２〜ジオキセタン環を形成する。光化学酸化 は塩化メチレン等のようなハロゲン化溶剤中で行うのが好ましい。’０２は光増 感剤、例えば重合体結合ローズヘンガル（ハイトロン・ラボラトリーズ、ニュー シャーシー州、ユニ一ブランズウィック）およびメチレンブルーまたは５．１ｏ １１５．２０−テトラフェニル−２ＬＨ，２３Ｈ−ポルフィン（ＴＰＰ）、を用 いて発生させることができる。ｌ・リエチルシリルヒドロトリオキシド、ボスフ ァイトオシニドまたはトリアリールアミンラジカル、’０２の存在下での一電子 酸化を仲介するラジカルカチオンを使用してジオキセタンを形成する化学的方法 を用いることもできる。

エタノールエーテルのアリール環上の酸素結合官能基Ｒ２が、アルコキシ基また はピバロイルオキシ基であるとき、これは以下に示すように、工程５の酸化反応 を行う前に、前記反応経路の工程４で生成されたエノールエーテルに関して次の ような追加の工程を行うことによって、ホスフェート、アセトキシまたは〇−ヘ キソピラノシド基のような酵素で開裂しつる基に変えることができる。

Ｔｉ６ａは−Ｒ”ｆｉ撞基（Ｒ’はメチル、アリルまたはペンシルが好ましい） の（工Ｖ） ？’ノＪ−−ｍｒ′７１．＋ｋＩｆｈ／−−４−ｋＩＩピｙ１．Ｈ’；１．．２ ”ＡＬ（ＴＥＥｌｎｌ）＼ご’ｉＪ−；’−ＴｕＶフェノールエーテル開裂を、 好ましくはナトリウムチオエトキシトを用いて、ＤＭＦ、ＮＭＰなどの中性溶剤 中、約１２０＝約１５０℃で行うものである。開裂はまた、還流ピリジン中のヨ ウ化リチウム、還流ＤＭＳＯ中のシアン化ナトリウムまたはＮ−メチル−２−ピ ロリドン中のＮａｚＳのような穏やかな核化合物を用いて行うことができる。Ｒ ７がピバロイルのとき、エステル開妄はＭｅＯＨのようなアルコール溶剤中のＮ ａＯＭｅ、ＫＯＨまたはに２ＣＯ！を用いて、約２５°Ｃから還流温Ｉで行うこ とができる（工程６ｂ）。

このようにして得たヒドロキシ化合物のフェノール性ヒドロキシル基のアシル化 は、工程７で、少し過剰当量の酸ハロゲン化物または無水物、例えば無水酢酸、 または塩化オキサリルを、中性溶剤中のトリエチルアミンのようなルイス塩基と 共に加えることによって行われる。

工程８で用いられる環状ホスホロハリデート上の置換基Ｑはハロゲンのような陰 性脱離基である。工程９で用いるシアン化物の一価のカチオンＭ゛は、Ｎａ’ま たはに４のような金属またはアルカリ金属カチオン、あるいは４級アンモニウム カチオンである。工程１０のアンモニウム塩基のカチオンＢ１はアンモニウムカ チオンである。しかしながら、ＮａＯＭｅは塩基としても使用することができる 。

Ｔ、Ｒ３およびＸｌは上で定義した通りである。

工程８．９および１０は別々の操作であるいはワンポットまたはツーボット操作 で実施することができる。環状ホスホロハリデート、例えば環状ホスホロクロリ デートは１官能価、化学選択性およびエノールエーテルに適した脱保護作用の点 からばかりでなく、相当する非環式化合物の１０８倍もの反応性を示すので、工 程８で用いるのに適している。３工程、ツーポット操作では、工程６て生成され た遊離ヒドロキシル生成物のフェノール性ヒドロキシル基を、２−ハロー２−オ キソ−１，３，２−ジオキサホスホランと反応させて環状ホスフェートトリエス テルを得る（工程８）。このトリエステルをＭＣＮ　（例えば、ＮａＣＮ）で開 環して相当する２−シアノエチルジエステルを得る（工程９）。水酸化アンモニ ウムまたはＮａＯＭｅのような塩基で簡単なβ−離脱反応を行って、濾過可能な ジエチルエーテルまたはＤＭＦ中で、ルイス塩基（例えば、トリエチルアミンの ような第３アミン）によって、あるいは以前に形成されたアルカリ金属塩または フェノール性エノールエーテルと共に、誘導されるホスフェートトリエステルの 形成は、約−３０℃ないし約６０℃の温度範囲でホスホロハリデートを用いて行 うことかできる。その後、純粋なモノナトリウムシアノエチルホスフェートエス テルがこのましいならば、ＤＭＦまたはＤＭＳＯ中のアルカリシアニド（ＭＣＮ ）での環の開裂を、約１５−約３０℃の狭い温度範囲で行うことができる。しが しながら、ワンポットまたはその場で行う場合、これは重要なことではなく、温 度範囲は最高が約６０°Ｃまでの温度範囲に広がる。

アリールホスフェ−１・二環はまた、一般式（式中、Ｑは上で定義した通りであ り、Ｒ８およびＲ９はそれぞれ個々に−ＣＮ。

−Ｎｏ□、アリールスルホニルまたはアルキルスルホニルである）の活性化ホス フェートトリエステルを用いて、工程６のアリールアルコールエノールエーテル 生成物（式■）からも製造することができる。あるいは、ホスフェートトリエス テルは上記の式に示すように、燐に結合した２つのトリメチルシリルエステル基 を含んでいてもよい。この反応では、ルイス塩基の存在下、中性溶剤中で行って 、アリールホスフェートトリエステルを得ることができる。次に、トリエステル を塩基、Ｍ”ＯＨまたはＭ’ＯＣＨ３［式中、カチオンＭ゛はアルカリ金属、Ｎ Ｒ１０４−（ＲＩＧは水素またはＣ＋　ＣＩアルキル、アラルキル、アリールま たは複素環式基である）である］で加水分解すると、β−説離により相当するア リールホスフェートトリエステルニ塩が得られる。−重項酸素（’Ｏｚ）をこれ らのエノールエーテルホスフェートトリエステルと反応させ、次にシオキセクン ホスフエートモジエステルへ同様な塩基で脱保護することによって、／オキセタ ンを形成することもできる。

エノールエーテルのアリール環上のアルコキシ基は、中性有機溶剤中、不活性雰 囲気の下、ＮａＮのような塩基の存在下で、フェノール先駆体をテトラ−０−ア セチル−Ｄ−ヘキソピラノシルハロゲン化物と反応させてアリール−〇−ヘキソ ピラノシドテトラアセテートを得ることにより、酵素で開裂しうるグルコシド結 合によって環に結合されたＤ−糖質分子に！えることができる（工程１１）。

次に、７′リール環１．のヘキソ／グーセで開裂しうるＤ−ヘキソピラノンジル 部分はそのままで、Ｎａ０ＣＨｘ、Ｋ　２　ＣＯｓまたはＮＨｓガスのような塩 基を使用して、メタノールのようなアルコール中で、初めは０℃で次いで２５℃ で１−１０時間、加水分解して保護アセチル基を取ることができる（工程１２） 。

エノールエーテルアリールホスフェートをビスー第４アンモニウムまたは相当す るｌ、２−ジオキセタンに酸化するとき（上記工程５）、ビスー第４アンモニウ ムまたはモノピリンニウム塩へのイオン交換を行うことにより、好ましくはメチ レンブルーまたはＴＰＩ’の存在下、低温、例えば約５℃での１０６Ｍクロロホ ルム溶液の光酸素添加が容易となる。重合体結合ローズベンガルＥセンシトック ス（Ｓｅｎｓｉｔｏｘ　Ｉ）またはシリカゲル上のメチレンブルーのような固体 相場感剤を使用すると、反応連間はより遅くなり、生成物の光分解が増大する。

例えば式− Ｃ）ｔ。

以外のモノアルデヒドまたはへテロアリールモノアルデヒドを、上記の一連の反 応を実施する際に出発物質として用いることもできる。そのようなアリールモノ アルデヒドには、式 （式中、ｆ＜１は、上で定義した通りであり、そしてこれは、これが付いている 環炭素原子およびアルデヒド基が付いている環炭素原子を別にして、Ｒ２の付い ている環の炭素原子の総数が奇数の１ｉ数、好ましくは５以上となるように位！ するのが好ましい）が含まれる。エトワード、等の米国特許出願第２１３．６７ ２号参照。

縮含慢素環式アセタールまたはヘミアセタールもまた、上記反応経路の出発物質 として用いることができる。そのような縮合襟素環式アセクールには、式１式中 、Ｒ′は上で定義した通りであり、ＷはＯＲ’　（Ｒ１は上記の通りである）ま たはＯＨであり、ｎはセロより大きい整数であるＪ等の化合物が含まれる。

たとえば式 （式中、Ｒ２は、上で定義した通りである）のアリールまたはへテロアリールン アルデヒドもまた、アルデヒド出発物質として用いることができる。

このようにして得た水溶性ジオキセタンの精製は、ニドワード等の米国特許出［ １Ｗ２４／ｌ、００６号に従って、アセトニトリル−水グラシェツトでの逆ｔｌ ＨＰＬＣを、続いて生成物の凍結乾燥を用いて、アルカリ性ｐＨ１例えば約７． ５−約９，０で行うのが最もよい。

本発明の方法で製造しうる、生物試験法に用いるための一般的な酵素で開裂可能 な水溶性化学発光性１．２−ジオキセタンは式１式中、Ｍｏはアルカリ金属、例 えばナトリウムまたはカリウムのようなカチオン、あるいはＣ１−Ｃ１ｇアルキ ル、アラルキルまたは芳香族第４アンモニウムカチオン、Ｎ　（Ｒ”）４°（Ｒ ＋ｏはそれぞれアルキル、例えばメチルまたはエチル、アラルキル、例えばベン ノル、あるいは罐素環式環系の一部、例えばＮ−メチルピリジニウム、蛍光性オ ニウムカチオン、特に二ナトリウム塩を形成する］で表される３−（２’−スピ ロアダマンクン）−４−メトキシ−４−（３″−ホスホリルオキシ）フェニル− １，２−ノオキセタノ塩である。後者のさらに体系的な名称は３−（４−メトキ ノスピロ［１，２−ジオキセタン−３，２′−トリシクロ［３，３，１，１”　 ］デカン］−４−イル）フェニルホスフエート二ナトリウム塩である。

ここに記載のホーナー・エモンスの方法および特に上記の種類のモノおよびビス −ホスホネートエステル並びにＴ−０ケトンまたは０−Ｔ＝０ジオン、例えば２ ．６−ジアダマンタンジオンを含む反応体を用いることによって、３種の異なる タイプのエノールエーテル生成物の合成が可能となる。

（式■） （式中、Ｔ、Ｒ’、ＹおよびＺは上で定義した通りである）。

次に、これらを上記の１重項酸素で式（■）に示す相当する１、２−ジオキセタ ンに変えることができる。

式（■）の１．２−ジオキセタンＢの場合、１つのＴ基が２つのジオキセタン環 を安定化する働きをする。しｈ化ながら、各環はＺ基において化学的または酵素 的手段で個々に不安定化されなければならない二　１．２−ジオキセタンＣでは 、特に、芳香族環Ｙに付いた全ての基を上記のように互いにメタまたは奇数パタ ーン関係に配置すると、１つのＺ基は２つのジオキセタン環の分解を活性化する ことができる。

以下の式（■）のビス−エノールエーテルフェノールは、下釉の実施例６２およ び１０５に５ｚｒａされた化合物の芳香族メトキノ基のナトリウムエタンチオレ ート開裂（ｌｊ！すれ図（ＩＩＩ）のＩ’Ｊ’１Ｉ（ｉ　）によって合成される 。生成物は、上記の酵素で、開裂しうる基、例えばホスフェートモノエステル、 のいづれか１つに変えることができる。それ故、これは上に示した式（■９のＣ 型の１．２−ジオキセタンを合成するための中心的な中間体である。

本発明のエノールエーテルアルカリ金属塩を得る変形法は、上記の反応工程を変 更し、そしてその後のエステル開裂１．程、工程６ｂ、を変更するものである。

許しく述へると、上記のように、この変形法の初めの部分で、ノアルキル　１− アルコキノ−［、アリールメタンホスホネート好ましくはＹかアリール部分、例 えばフェニル環であり、Ｒ２が、好ましくはアリール部分上のメタ位置にある、 アシルオキシ置換基、例えばピバロイルオキシ基であり、モしてＸｌか水素また は上記の置換基の別のものである上記の化合物、を相当するホスホネ−１・安定 化ａ−カルボアニオンに変える。こ、れは、好ましくは溶液中、−２０℃未満の 低い塩度で、不活性雰囲気の下、アルカリ金属含有塩基、例えば約１−約１２当 量のアルカリ金属含有塩基、および好ましくは１当゛量を少し越えるリヂーウム ンイソプロビルアミ！・のようなアルカリ金属アルキルアミドまたはｎ−ブ壬ル リチ・リムのようなアルカリ金属アルキル化合物を用いて行う。

ａ−カルボアニオンか形昨されたら、多環式ケトンＴ＝Ｏを、好ま、シ＜は竺ル 過剰より少し少ない量で、低塩の反応混合物に加え、そして還流条件下で約２− 約２４時間反応させて反応混合物を得る。この反応混合物には、特にジアルキル １−アルコキシ−１−アリールメタンホスホネ−１・出発物質がそのアニオン、 そのＲ２税エステル化シアニオンまたはその分解生成物、ヒドロキノアリールエ ノールエーテルアルカリ金属塩およびＲ２エステル化アリールエノールエーテル として含まれており、後者は特に、ホスホネート出発物愉にアリールオキシ置換 アリール部分（Ｙ’−Ｒ２）か含まれ、そのアシルオキシ置換基（Ｒりが、この 反応中、実質的に手がつけられずにそのままであるずくれたヒドロキソ保護基で あるアシル基、例えばピバロイル基（Ｒ２−ビバロイルオキシ）、を有するとき に存在する。実際に、ホスホネート出発物質のＹ−Ｒ２置換基がピバロイルオキ ソフェニル基をｍ１ｆｆｌするとき、得られる全エノールエーテル生成物の約１ ０−２０％のみか脱エステル化エノールエーテルアルカリ金属塩として存在する ことが分かった。

この反応混合物に緩和なプロ）・ン存在条件下での処理を行って、好ましいＲ２ エステル化アリールエノールエーテルを分離する際（例えば、本出願人の係属中 の米国特許出願第４０２．８４７号の実施例７に記載のような）、いくつかの他 の有用な成分が存在すると複雑になる。可能ならば、これらの成分は全てなにか の方法で回収してコストを下げなければならない。例えば、Ｒ２がピバロイルオ キシ基であるＲ２エステル化アリールエノールエーテルは、カラムクロマトグラ フィーを行った際の高Ｒ１の初期溶離生成物であり、一方、ヒドロキシアリール エノールエーテルリチウム塩からプロトン存在条件下での処理中に生成される相 当するヒドロキシアリール（脱エステル化）化合物、およびホスホネート出発物 質そしてその分解生成物はＲ７がそれよりやや低い物質であるため、混合物の分 離が難しくなり、大規模な合成の際にはいくらか不純なフラクションが生しる。

しかしながら、好ましくは、酸塩化物または酸無水物、例えば塩化ピバロイルを 、存在するアリールオキシドアルカリ金属塩の総量に対して少なくとも１モル当 量用いて、粗製の後還流ホーナー・エモンス反応混合物を再エステル化してヒド ロキソアリールエノールエーテルアルカリ金属塩に実質的にエステル化すると、 プロトン存在条件下での処理後にヒドロキシアリールエノールエーテルが存在し ないので、クロマトグラフィーの際、上記のような複雑なことはなく、エステル 化アリールエノールエーテルをほぼ定量的収率で容易に分離することができる。

ヒドロキシアリールアルカリ金属塩を消費する酸塩化物または無水物の最少量を 何回かに分けて、約０−５０°Ｃの温度て約２＝約２４時間かけて粗反応混合物 に加え、薄層クロマトグラフィーを用いて反応の終了をモニターする。Ｒ２がピ バロイルオキシ基である場合、かなり純粋な生成物が得られ、ヘキサンからの再 結晶化のような標準的な方法を用いて再エステル化混合物から結晶質固体として 単離される。遊離ヒドロキシアリールエノールエーテルで汚染されていない母液 は、やはりヒドロキシアリールエノールエーテル副生成物が存在しないので、大 規模ナプラグクロマトグラフィーを行うのが容易である。

エノールエーテルアルカリ金属塩を得る好ましい方法における最後の反応は、エ ステル開裂を行って、上記の反応経路の工程６ｂで得られる遊離ヒドロキシアリ ールエノールエーテルの代わりに、相当するアルカリ金属塩を得るものである。

塩形成反応は、約１モル当量のアルカリ金属アルコキシド、例えばナトリウムメ トキシドを用い、メタノールまたはエタノールのような低級アルカノール中、無 水条件下、ρｊえば水分はできるだけ少量にして、約１−約４時間、室温（約２ ５０Ｃ）で行うのが好ましく、その後約３５°Ｃ−約６５°Ｃで約２４時間加熱 しながら真空下（１＋園ｆｉｇ）で反応混合物から揮発物質を除去すると、ヒド ロキシアリールエノールエーテルアルカリ金属塩か乾燥固体として得られ、これ はアシル化反応、燐酸化反応またはグリコジル化反応に直接用いることができる 。例えば、無水ジメチルホルムアミドまたはツメチルスルホキシド中の約１−１ ２当量の２−クロロ−２−オキソ−１，３，２−７オキサホスホランとのワンボ ・ノド反応で、本出願人の係属米国特許出願第４０２．８４７号の実施例１０６ の遊離ヒドロキシエノールエーテル出発物質−−−３−（メトキシトリシクロ［ ３，３，１，１３７］デク−２−イリデン−メチル）フェノールーーーをそのナ トリウム塩−一−ナトリウム　３−（メトキントリシクロ［３，３，１，］、、 　］３７］デクー２−イリデンメチルフェノキシトー−−で置き換えると、相当 する環状トリエステルを得ることかできる。このトリエステルはナトリウムメト キシドでの開環および水酸化ナトリウムまたは水酸化アンモニウムでのβ−説離 を行って、ホスフェートモノエステル塩を容易に得ることができる。

あるいは、同し反応を塩化メチレンのような７１０ケン化溶剤、アセトニトリル のような極性溶剤、あるいはテトラヒドロフランまたはジグリムのようなエーテ ルまたはポリエーテル溶剤中、必要に応して、ヘキサメチルホスホロアミドまた はテトラブチルアンモニウム重亜硫酸塩のようＩＪ相転移触媒の存在下で行うこ とかでき、残りの開環およびβ−離脱工程はジメチルホルムアミトまたはジメチ ルスルホキシド中で行う。これらの同し手順は、β−離脱または加水分解反応を トリエステル形成直後に行うことかできること以外は、エノールエーテルアルカ リ金属塩を、上に挙げた他の燐酸化剤と反応させるときにも用いることができる 。

本発明のエノールエーテルアルカリ金属塩は、上記反応経路のさらに別の変形法 で得ることができる（今回は工程４のみ）。アシル基が、反応中に実質的に開裂 するような不十分なヒドロキシ保護基、例えばアセチル基等、である、アシルオ キシ置換基（Ｒ２）をアリール部分（Ｙ）が有する、上記の式ｄのジアルキル１ −アルコキシ−１−アリールメタンホスホネートを、溶液中、不活性雰囲気の下 、−２０°Ｃ未満の低温で３当量のりチウムアルキル化合物、例えばｎ−ブチル リチウムと反応させると、相当するホスホネート安定化　ａ−カルボアニオンを そのリシオ塩として得ることができる。多環式ケトンＴ＝Ｏを好ましくはモル当 量未満の量で反応混合物へ加え、その後約２＝約２４時間還流すると、ヒドロキ ジアリールエノールエーテルのリシオ塩が直接得られる。

同様に、アルカリ金属含有試薬を用いる、上記反応経路の工程６ａに記載のＲ７ 百換基のフェノールエーテルまたはチオエーテル開裂では、切めに相当するヒド ロキシアリールまたはメルカプトアリールアルカリ金属塩が生しる。このように して得た反応混合物をプロトン存在条件下で処理する代わりに、このようにして 得た塩を０℃で、好ましくはエーテル、例えばジエチルエーテル、のような非溶 剤の存在下、沈殿させることによって分離してもよく、あるいはこれを用いて、 上記反応経路の工程７．８および１１に記載の方法で直接アシル化、燐酸化また はグリコジル化をその場で行ってもよい。

本発明のヒドロキシアリールエノールエーテルアルカリ金属塩をアシル化、燐酸 化またはグリコジル化する条件は、上記のどのような溶剤、例えばジメチルホル ムアミドまたはテトラヒドロフラン、あるいはこれらの溶剤の混合物も、約り℃ −約６０℃、好ましくはルイス塩基の不在下でのアシル化、燐酸化またはグリコ ジル化試薬との反応に使用される以外は、本出願人の係属中の米国特許出願第４ ０２．８４７号に記載の通りであり、他の処理工程は本出願人の係属中の出願と 同じである。

このような化学発光性水溶性ジオキセタンおよびこれらの誘導体は、各種の検出 法、例えば配位子結合分析試験および酵素分析試験に用いることができる。免疫 検定法および核酸プローブ検定法は、配位子結合分析法の例であり、特定の結合 対部分は、例えば抗原抗体対、あるいは核酸の全体および／または一部に対する かつこれらに結合しうるプローブ補体と対になった核酸ターゲットである。配位 子　抗体および核酸プローブは酵素および基質として用いる化学発光性水溶性ジ オキセタンてＦｍ付けしてもよく、あるいは化学発光性ジオキセタンを標識とし て直接用い、配位子に結合し、活性化して熱、適当な薬剤および酵素で発光させ てもよい。そのような分析試験には、β−ヒト絨絨毛性性腺刺激ポルシンβ−Ｈ ＣＧ）、甲状腺刺激ホルモン（ＴＳＨ）、卵胞刺激ホルモン（ＦＳＨ）、黄体形 成ホルモン（ＬＨ）等のようなホルモン、アルファ胎児タンパク’Ｉｔ（ＡＦＰ ）、癌胎児性抗原、膵臓癌の場合の癌抗原ＣＡ　１９−９、卵巣癌の場合の癌抗 原ＣＡ１２５のような癌抗原、ハプテン、例えばジゴキシン、チロキシン、プロ スタグランジン、およびホスファターゼ、エステラーゼ、キナーゼ、ガラクトシ ダーゼ等のような酵素、および細胞表面受容体を検出する免疫検定法がある。こ れらの分析試験は、様々な形で行うことができる。例えば、二抗体（サンドイッ チ）分析試験または競合分析試験として溶液中で、メンプランのような固体支持 体（ウェスターン法を含めた）中で、およびラテックスビーズ、磁気ビーズ、誘 導体化ポリスチレン管、マイクロタイターウェル等の表面上で行うことができる 。核酸分析試験はウィルス、例えば単純ヘルペスウィルス、ＨＩＭまたはＨＴＬ ＶＩおよび■、サイトメガロウィルス（ＣＮＶ）　、ヒトのウィルス（ＨＰＶ） 　、肝炎Ｃコアウィルス抗原（ＨＢＣＶ）、肝炎８表面抗原（ＨＢ、Ｖ）、ロタ ウィルス、またはバクテリア、例えばカンピロバクタ−ｊｅｊｕｎｉ／ｃｏｌｉ 、Ｅ、　ｃｏｌｉ、ＥＴＥＣ易熱性および熱安定性熱帯熱マラリア原虫またはは オンコジーンの検出に、あるいはヒトの指紋を調査する法医学に用いられる。核 酸の検出は、ＤＮＡおよびＲＮＡの両方について、様々な形、例えば溶液、誘導 体化管またはマイクロタイタープレート、メンブレン（ドツト、スロット、サザ ンおよびノザンプロット）で、およびその場でのハイブリッド形成により組織お よび細胞で直接行うことができる。ＤＮＡおよびＲＮＡはまた、化学発光性ジオ キセタンを用いる塩基配列決定法および組織適合性試験で検出することもできる 。そのような化学発光性水溶性ジオキセタンはまた、配位子結合反応が、化学発 光を光流として検知する半導体層表面上で生じる、バイオセンサーに使用するこ ともできる。

さらに、これらのジオキセタンは、診断（例えば、腫瘍部位−特定のモノクロナ ールおよび他の配位子に組み込まれたときの腫瘍部位の像を造る）にあるいは治 療（例えば、細胞障害剤である１重項酸素を生じる感光性へマドポルフィリンに 対する光力学療法）として生体内に使用することができる。さらに、１．２−ジ オキセタンの先駆体であるエノールエーテルは、１重項酸素スカベンジャーとし て生体内および試験管内で用いて、この非常に反応性の成分をモニターおよび／ または不活性化することかできる。

当技術分野に詳しい人々に本発明をさらに詳しく説明するために、以下に実施例 を示す。これらの実施例は単に説明のためのものであり、添付の請求項に示すも の以外は限定を意味するものではない。

３．５−ビスヒドロキシメチルアニソールをヴイ・ボエケルハイデ（Ｖ、Ｂｏｅ ｋｅ−１ｈｅｉｄｅ）とアール・ダブリエ・グリフイン・ジュニア（ＲＪ、Ｇｒ ｉｆｆｉｎ、Ｊｒ）のｉ王イ・オルグ・　ム　、ｉ、Ｑｒ、Ｃｈｅ＋ｍ）　３４ ．１９６０（１９６９）の方法によって合成した。このジオール（３６６ｓ＋ｇ 、　２．１７關ｏ１）を固体として、ジクロロメタン２ｏＩｄ中粉砕３Ａモレキ エラーシーブ３ｇとピリジニウムジクロメー）　２．５ｇ（６，６５ｓｎｏｌ） の攪拌スラリーに加えた。室温での３時間後に、混合物をエーテル４０ｄで希釈 し、セライト（ｃｅｌｉｔｅ）を通して濾過し、２：１エーテル−ジクロロメタ ンによって洗浄した。

橙色濾液を固体になるまで濃縮し、固体をヘキサン３Ｘ３０ｄと共に沸とうさせ 、上澄みを各回ガム状残渣からデカントした。−緒にしたヘキサン画分を室温に 冷却すると、無色母液中で微細な白色針状結晶が生じた。濾液と乾燥によってジ アルデヒド１５０■（４２％）が得られ、これは１１０〜１１２°Ｃの融点を有 した。

ＮＭＲとＩＲデータは第３表と第７表にリストする。ＴＬＣは１スポツトを示し た（Ｋ５Ｆ、１０％酢酸エチル：ジクロロメタン；Ｒｆ＝０．７５）、これらの データは構造： を支持する。

ＪＭ−又一 ４−エトキシ−３−メトキンベン氏て火元見上アセトニトリル（１００ｍ）中の バニリン（１０ｇ、６６８■ｏｌ）を微粉状無水炭酸カリウム（１２ｇ、８７ｓ ｎｏｌ）によって激しく攪拌しながら処理して可動な懸濁液を得る。ジエチルス ルフェート（Ｉ　Ｌｄ、８４ｓｎｏｌ）を室温において加えた。この懸濁液を還 流させると、１０分後に非常に濃厚になったが、２０分後に再び希薄になった。

還流を４８時間続け、この時点において水（５ｄ）を加えた。

さらに２時間還流させた後、混合物を冷却し、氷水５００ｄによって処理した。

０°Ｃにおいて７時間攪拌すると、粒状沈殿が生じ、これを濾別して、水で洗浄 した。風乾によって、生成物１１．５ｇ（９７％）が融点６１〜６２．５°Ｃの 乳白色固体として得られた。ＮＭＲと［Ｒデータは第３表と第７表にリストする 。

この化合物をケンデ、エイ、ニス、（Ｋｅｎｄｅ、Ａ、Ｓ、）等のジエイ、アム 、ム又ＪＪ、ｌｌｓ、Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ、）、１０１　：　１８６０（１９７９ ）の方法によって合成した８表３と表７に見られるように、ＮＭＲとＩＲデータ は報告データと同じである。ＴＬＣは標題化合物が物質であることを示した（Ｋ ５Ｆ、２０％ＣＩ１．Ｃ１，：ヘキサン；Ｒｆ＝０．１７）、この反応の主要な 副生成物は２−メトキシベンジルフェニルスルフィドであった（Ｒｆ＝０．３８ 、同条件下）。

ｍ−アニスアルデヒド（２０４，３ｇ、　１．５ｗｏｌ）をアルゴン雰囲気下で １２フラスコに入れた。トリメチルオルトホルメート（１９１ｇ、　１．８ｍｏ ｌ）を迅速に加え、次に無水メタノール１５（ｌｄを加えた。予めメタノールと 共に沸とうさせたアンバーリスト（Ａｓｂｅｒｌｙｓｔ）　Ｘ　Ｎ　−１０ｉ　 ０樹脂（２，Ｉｇ、アルドリッヒケミカル社（Ａｌｄｒｉｃｈ　Ｃｈｅｍｉｃａ ｌ　Ｃｏ、）　）を加えた。混合物を室温において、水分を遮断して、２２時間 撹拌した。炭酸水素ナトリウム（１，５ｇ）を攪拌しながら加えた。２０分後に 、混合物を真空下で２１フラスコ中に濾過し、このフラスコを水浴温度４０°Ｃ の回転蒸発器上に１いた。３０分間にわたって浴を８０°Ｃに加熱し、無色透明 油を得た。を磁攪拌しながら、この油を真空下（２■Ｈｇ）６５’ｃにおいて３ ０分間ポンピングした（ｐｕｍｐｅｄ）　＊生成物は２７２．５ｇ（９９，８％ ）であった、　１．Ｒ。

に−ト、ｃｍ−’）　：　２９３５．２８２４，１５９８．１５８４，１３５０ ．１２５Ｂ、１１００，１０５０．９８４゜７７２、　１８　ＮＭＲ（４００Ｍ Ｈｚ、　ＣＤＣｈ）　：δ３．３３（６Ｈ，Ｓ、０Ｃ１（３）；　３．８１（３ ８，ｓ、Ａｒ０ＣＪＩｓj；　５．３５ （ＩＨ４，ＡｒＣＨ（ＯＣＲｓ）ｇ；　６．８７（１）１．ｂｒ　ｄ、　８．１ Ｈｚ）；　７．００−７．０３（２Ｈｖ）；　７．２７（１W，ｔ。

８、１Ｈｚ）。

これらのデータは、生成物が次の工程での使用のために充分に純粋であり、次の 構造式に一致することを示した。

例４からのｍ−メトキシベンズアルデヒドジメチルアセタール（２７１，４ｇ。

１．４９ｍｍｏｌ）　、）リエチルホスファイト（２５０，３ｇ、１．５１ｗｏ ｌ）および塩化メチレン（６００Ｉｌｆｆｉ）を、滴下ロート、アルゴン入口お よびアルゴン出口を備えた３１三つロフラスコに装入した。フラスコをアルゴン でフラノシエし、ロートにセプタム（ｓｅｐｔｕｍ）で栓をした。混合物を攪拌 し、液体窒素−アセトン浴中で一４０°Ｃに冷却した。ソロントリフルオリドエ ーテレート（１９Ｂ、１ｄ、１．６１ｍｏｌ）を次にロートから２５分間にわた って滴下した。混合物を５時間にわたって５°にまで徐々に温めた。次に、攪拌 を室温においてさらに１５時間続けた。この淡黄色溶液を迅速に攪拌しながら、 飽和炭酸水素ナトリウム溶液５００ｄを加えた。１時間後に混合物を分離ロート に移し入れた。有機層を準則し、水５００ｉ、飽和亜硫酸水素ナトリウム３００ ｄＸ２および飽和炭酸水素塩溶液３００ｄによって洗浄した。溶液に脱色炭（３ ｇ）を加える直前に無水硫酸ナトリウム３０８上で乾燥を実施し、全体を真空下 でセライトに通して濾過した０回転蒸発器上での４縮と１００°Ｃ１０，１５ｍ Ｈｇの最終圧力までのボンピングによって淡黄色油３８０ｇ　（９０％）が得ら れた。１．１＋、　（−一ト、　ｃｒ’）　：２９１４．１５９６．１５８２゜ １４８０．１２５５　ＣＰ　＝　Ｏ）　、　１０９Ｂ、　１０５０，１０２０， ９６５．　’ＨＮＭＲ（４００ＭＩＩｚ、ＣＤＣｌ５）　：■ １．２１および１．２５（６１（、ｔｗｏ　ｔ、　７Ｈｚ、　０ＣＨｚＣ）Ｉａ ）　；３．３７（３ｈ、　Ｓ、静ＣＨＯ（Ｊｌｓ）；　３．W０（３１１゜ ｓ、Ａｒ０ＣＨ＝）；　３．９０−４．１０（４Ｎ、ｗｒ、ＯＣＨ，ＣＨ３）； 　４．４６（ｌｔｌ、ｄ、１５．６Ｈｚ、静ＣＨＰＯ）；　U．８５ （ＩＨ，ｗ）；　７．００（２Ｈ，ｍ）、７．２６（１８，ｍ）。

この生成物はホーナーーエモンス（Ｈｏｒｎｅｒ−Ｅ＋ｎｏｎｓ）反応に用いる ために充分に純粋であった。しかし、痕跡量の非極性蛍光性不純物を除去するた めにさらに精製を不純物の溶離にジクロロメタン、ホスホネートを溶離するため の次の溶離にジクロロメタン中２０％酢酸エチルを用いたシリカゲルクロマトグ ラフィーによって実施した。

例５からのホスホネートエステル１００ｇ（０，３４７鋼ｏ１）をＨＰＬＣ等級 ＴＨＦ６５０ｄ中に溶解した（この溶媒の乾燥は特に注意されなかった）。この 溶液をアルゴン出口、アルゴン人口およびセプタムに接続した添加ロートを備え た、乾燥した２２−三つロフラスコに入れた。

アルゴンでパージした後、フラスコを一７８″のドライアイス／アセトン浴中に 下げ、電磁攪拌を開始した。１０分間攪拌した後にヘキサン中ｎ−ブチルリチウ ムの溶液（１，６Ｍ溶液２１７ｍ、０．３４７　ｍｏｌ）を数回に分けて注射器 によって１０分間にわたって加えた。生成した深紅色溶液を一７８°においてさ らに４５分間攪拌した。ＴＨＦ２００ｄ中２−アダマンタノン（４９，４７ｇ、 ０．３３ｍｏｌ）の溶液をロートから細い流れとして５分間にわたって加えた。

冷却浴を除き、攪拌した混合物を１．５時間にわたって約０°Ｃに徐々に温めた 。

この時点で、やや濁った赤色溶液を４時間還流加熱したが、ガス発生が停止した 後に透明な淡赤色溶液が得られた。

室温への冷却中に、大気への暴露後、淡黄褐色に変化した。混合物を細心に回転 蒸発させ（発泡）、溶媒７５０−を除去した。ヘキサン（５００ａｄ）を加え、 生成したスラリーを水５００ｍによって抽出した。水層をヘキサン（２０（ｌｄ ）によって逆抽出し、−緒にした有機層を飽和プライン（ｂｒｉｎｅ）　（２Ｘ 　２５０　ｄ）によって抽出した。ヘキサン溶液を無水炭酸カリウム上で乾燥さ せ、脱色炭１ｇによって処理した。セライトによる濾過および次の蒸発によって 、淡黄色粘稠な油が得られ、これを高真空下で攪拌しながらポンピングし、少量 の残留アダマンチルンを除去した。

粗生成物の最終重量は９４ｇであった。赤外線スペクトルはアダマンタノンによ るカルボニル吸収（１７０５ＣＩＩ−’）または対応アダマンチルメトキシフェ ニルケトンの吸収（１６７０ｃｒ’）を示さなかった。この生成物は次の反応に 用いるために充分に純粋であったが、２−アダマンタノン４６．８ｇ（０，ｇ当 引を用いた同じ方法は油状物を形成することが判明し、この油状物をシリカゲル カラム（１５ｃｍＸ３．５ｃｍ）に通してヘキサン中２％酢酸エチルによってＲ Ｈすると、冷所で凝固する油状物が得られた。少量のヘキサンからの再結晶は融 点３４〜３７゛Ｃのワックス状白色固体が得られた。分析：Ｃ＋ＪｔａＯｇ！： しての計算値：Ｃ＋８０−２４；Ｈ，８，５１，実測イ直：　Ｃ，８１，２３， Ｈ，８，４９゜粗油状物とワックス状固体の両方は同し１．Ｒ，とＮＭＲスペク トルを生した：１、Ｒ，に−ト、ｃｒ’）　；　２９００，２Ｂ３８，２６５５ ，２６４０，２６２０，１６５５，１６００．１５９２゜１５８０、１５７４． １４４４．１２８２．１２４０．１２０２．１０９５．１０７Ｂ。

’ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ５）　；δ１．７５−２．０５（１２ＨＩ １１．アダマンチル）；　２．６６（ＩＬｂｒ　ｓ。

Ｈα＋）；　３．２７（ＩＨ，ｂｒ　ｓ、Ｈαｚ）；　３．３１（３Ｈ，ｓ、０ ＣＨｆｆ）；　３．８３（３８，ｓ、＾ｒＯｃＨｓ）；　６D８２−６．９４ （３Ｈ９蒙）；　７．２３−７．３０（Ｉｌ＋、蒙）。

アルゴン雰囲気下ジクロロメタン２５Ｗｉ中３−ヒドロキシヘンズアルデヒド（ ２，０４ｇ＋　１６．７＋ｕｏｌ）をトリエチルアミン（３，５ｄ、２５．１１ ＃ｌ１ｏｌ）によって処理した。溶液を水浴中で０°に冷却した。トリメチルア セチルクロリド（２，３ｄ、１８．４　＋ｍ＋＊ｏｌ）を電磁攪拌しながら注射 器によって滴下した。１０分間後に、水浴を除去し、混合物を室温において一晩 攪拌した０反応を飽和炭酸水素ナトリウム１００−によって停止させた。有機層 を分離し、水層をジクロロメタン（２Ｘ３０ｍ）によって再抽出した。−緒にし た有機層を無水硫酸ナトリウム上で乾燥させ、減圧濃縮して、橙色残渣を得、こ れを短いシリカゲルプラグに通し、溶離としてジクロロメタンを用いた。

シリカゲル溶出液から溶媒を蒸発させ、淡黄色油状物として標題化合物３．４０ ｇ（定量的）を得た、これはＴＬＣ（Ｋ５Ｆ、２０％酢酸エチル：へキサン）に よって均質であった。ＮＭＲとＩＲデータについては第３表と第７表を参照のこ と。

ピバロイルエステル基は例４と５で３−メトキシ誘導体について述べたアセター ルおよびホスホネート合成のために必要な酸性条件下で脱アシル化されないが、 これらも−船方法として役立つ。生成するジエチル１−メトキシ−１−（３−ピ バロイルオキシフェニル）メタンホスホネートを次のように用いて、メトキシ（ ３−ヒドロキシフェニル）メチレンアダマンクンヲ得る。

リチウムジイソプロピルアミド（ＬＤＡ）溶液を次のように新たに製造した。

乾燥した２２−三つ口丸底フラスコに１磁攪拌バー、還流冷却管、ガス入口およ び５００ｊｄ−滴下ロートを備えた。フラスコと滴下ロートをアルゴン流中で火 炎処理した（ｆｌａｍｅｄ）　ｅフラスコにジイソプロピルアミン７８ｄ　（０ ，５６ｍｏｌｅ）を加え、次に乾燥ＴＨＦＣベーカベ−Ｂａｋｅｒ）、試薬等級 ）５００ｍを加えた。溶液を攪拌し、アセトン−ドライアイス浴中で−７８０に 冷却し、ヘキサン（アルドリッヒ）中２．５Ｍｎブチルリチウム２０２ｍ　（０ ，５１ｍｏｌｅ）をボトルから滴下ロートへ、二先端ニードル（ｄｏｕｂｌｅ− ｔｉｐｐｅｄ　ｎｅｅｄｌｅ）　（３ｆ　ｃ、１６ゲージ、アルドリッヒ）を介 して移し入れ、次に溶液に２０分間にわたって滴下した。−７８１においてさら に２０分間攪拌した後に、５００ｍ滴下ロートを迅速に、ＴＨＦ１２０ｄ中ホス ホ享−ト１５１．４　ｇ　（０，４２ｍｏｌｅ）の溶液を含む２５０ｉｄ−滴下 ロートと交換した。−７８°のＬＤＡｉ液にホスホネートを滴下すると、直ちに 変色が生じた。添加が終了した後に（１５分間かけて）、生成した深紅色混合物 を一７８＠でさらに１時間攪拌した。２−アダマンタノン４９．１　ｇ　（０， ３，３＋ｏｌｅ）を次に加えた。混合物を一７８°において１０分間撹拌し、室 温に約１．５時間温め、最後に１．５時間還流させた。還流中に激しいガス発生 が認められた。冷却した反応混合物を飽和ＮａＨＣＯ３？ｇ液０．５１によって １０分間処理し、水２Ｎを含む４１−分液ロートに注入した。水相をヘキサン中 １０％ＥｔＯＡｃ　（３Ｘ２５０ｍ）によって３回抽出した。−緒にした有機相 を水１．５１、次にプライン１．５１で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ２上で乾燥させた。

溶媒を除去すると、粘稠な褐色油状物１３５．５ｇが得られた。粗生成物をヘキ サン中１０％ＥｔＯＡｃｌＯＯｄによって希釈して、シリカゲル（６０〜２００ メツシユ、ヘーカー）８０ｇを充てんしたカラム（０，Ｄ、−４，５（Ｊ、長さ ４０ｃ＋ｃ）に負荷した。ｌＯ〜２０％ＥｔＯＡｃ−ヘキサンによる溶離は５両 分を生した；濃縮後に橙色油状物１１８ｇが回収された、これはピバロイルオキ シエノールエーテル それぞれ、１０％ＥｔＯＡｃーヘキサン中０．６２と０．２２である）と不純物 との混合物である。油状ピバロイルオキシエノールエーテルをさらにクロマトグ ラフィーによって単離し、分析サンプルを得、ＩＲと’ＨＮＭＲによって特性化 した（表６と表１０を参照のこと）。

混合物の脱アシル化は粗生成物、Ｋ．Ｃ０．　１　６．　５　ｇおよびＭｅＯＨ ３００ｍの混合物を還流させることによって、２．５時間で完成したや回転蒸発 器（ｒｏｔｏｖａｐ）で溶媒を除去した後に、橙色の濁った固体が得られた．固 体をｌｔｏ２００ｍで処理し、次にスパチュラで激しく引っかいて、濾過可能な 物質を得た。固体を濾過し、１、０ｔ．５ｐで完全に洗浄した。真空下で水分の 大部分を除去した後に淡黄色固体をＣＨ．Ｃｌ□６００ｄ中に再溶解しく必要な 場合にはおだやかに加熱しながら）、ＮａアＳＯ４上で乾燥した．溶液をシリカ ゲル４０ｇを充てんしたブフナーロートで濾過した．Ａ量に濃縮すると、白色固 体が溶液から析出し始めた．ｔ：１ｃｏオＣ１．とヘキサンの混合物中での再結 晶は白色フェノールエノールエーテル（ｓｐ：１３１〜１３３）５８．７９ｇ　 （６７％）を生じた。母液からクロマトグラフィー後に生成物２０〜２２ｇをさ らに回収することができた。

３−ヒドロキシベンズアルデヒド（ｌｏｇ、８１．８８−ｍｏｌ）をアＪレゴン 下でジクロロメタン１５０ｄ中に溶解した。トリエチルアミン（１７．１２ｄ、 ０．　ｌ　２　３ｍｏｌ）とジメチルアミノピリジン（５ｗｇ）とを加え、生成 した攪拌溶液を無水酢酸（８．５１１１、９０ｗｍｏｌ）によって処理した。１ ５時間攪拌した後に、反応混合物をジクロロメタン５０−をさらに用いて分液ロ ートに移した。有機層を水（２×１００ｄ）によって洗浄し、濃縮して、１４． ８５ｇの淡褐色油状物を得た。ジクロロメタンを用いたシリカゲルによるプラグ 濾過は淡黄色油状物１３．３ｇ（定量的）を生した、これは次の反応に用いるた めに充分に純粋であることが、ＮＭＲとＩＲによって判明した（表３と表７を参 照）。

このアルデヒドを例４の一般方法によって対応ジメチルアセタールに転化した。

ＴＬＣによって均質であった油状生成物が良い収量で得られた。構造はプロトン ＮＭＲとＩＲスペクトル（表４と表８）によって確認した。アセクールのジエチ ルｌ−メトキシ−１−（３−アセトキシフェニル）メタンホスホネートへの転化 は例５におｉＪるように実施した。ＮＭＲとＩＲスペクトルデータは構造を確認 しく表５と表９を参照）、粗生成物（油状物）が次の使用のために充分純粋であ るジエチル−１−メ　キシ−１−　３−ヒドロキシフＬ二匹１ノノユ」起り１も 二上例８からのジエチル−１−メトキシ−１−（３−ヒドロキシフェニル）メタ ンホスホネート（１０．２９ｇ、３　２．　５　６　ｍ＋＋ｏｌ）をエタノール （３５ｍ）中に溶解した。次に、水（５ＩＩｌ）と炭酸水素ナトリウム（５ｇ、 ６０ｓ＋ｍｏｌ）を攪拌しながら加えた。室温での４８時間後に、反応混合物を 真空ｉｌｌ縮して、メタノールを除去した．残渣をジクロロメタン１５０ｍによ って処理し、水（２Ｘ５０ｍ）で洗浄した．ｗ線層を回転蒸発させ、高真空下で ボンピングして、淡黄色粘稠な油状物として生成物８．２１ｇ（９３％）が得ら れた．スペクトルデータ（表５と表９）は次の構造に一致したニ ー桝ー土立へ一 ６−メトキシナツタし＝１−カルボキシアルデヒドジメチルアセ　ール６ーメト キシナフタレンーｌーカルボニトリルをハーベイ、アール、ジー。

（Ｈａｒｖｅｙ，　Ｒ．Ｇ．　）等、ジェイ．オルグ　ム　Ｊ．Ｏｒ．Ｃｂｃ端 ．４８　：　５１３４（１９８３）の方法によって、６−メドキシー１−テトラ ロンから合成した。ニトリル（３５４。

６■、１．　９　４　ｍｍｏｌ．）をアルゴン下で乾燥トルエン１０ｄ中に溶解 した．溶液をドライアイス／アセトン浴中で一７８″に冷却した。ＤＩＢＡＬの トルエン溶液（１．５Ｍ溶液　１．　３　ｄ、１．　９　５　關ｏ１）を攪拌し ながら注射器によって滴加した。

１０分間後に、混合物を徐々に室温にまでしくｗａｒｎｅｄ）　、３　Ｎ　ＨＣ Ｉとジクロロメタン（各２５ｄ）との間で分配した。有機層を３ＮｌｌＣＩのさ らに２回量で洗浄し７た。−緒にした水層をジクロロメタン１０ｄ量で数回逆抽 出した．−緒にした有機層をＮａｔＳＯａ上で乾燥させ、濃縮して、アルデヒド の黄色結晶を得、これを直ちにメタノール（１０１１１）とトリメチ！レオルト ホルネート（ｔｒｔｗｅＬｈｙｌ　ｏｒｔｈｏｆｏｒｎ−ａｔｅ）　（　０．　 ２　５　ｍ，　２．　２　９　ａｕ＋ｏｌ）中に溶解した．ｐ−トルエンスルホ ン酸の数個の結晶を加え、溶液を冷蔵庫中で３日間保存した。少量のＮａ）ｌｃ Ｏ＝を加え、溶媒をストリップした。残渣を少量のジクロロメタン中に入れ、？ ８１ＮＩｌ剤としてヘキサンを用いて、シリカゲルカラム上でクロマトグラフィ ーした。適当な画分を蒸発させて、標題化合物３９５■（収率、２段階で８８％ ）を淡黄色油状物として得た、これはＴＬＣで均質であり、赤外線スペクトルに おいてカルボニル９収を示さなかった，ＮＭＲとＩＲスペクトルデータは構造式 （ｓｔｒｕｃ−ｔｕｒａｌ　ａｓｓｉｇｒｕｗｅｎｔ）に一致する。

ＩＲ（ＣＮＣｈ，　Ｃｌｌ−’）　：２９９５，　２８２２，１６２２，１５９ Ｂ，　１５０９，１４６５，　１４３０，　１３７０，　１Q５０。

１１０９、　１０５０，　８４１。

ＮＭＲ（ＣＤＣＩｓ，　ｐｐ蒙）　：　３．３６（６Ｎ，ｓ）；　３．９２（３ Ｎ，ｓ）；　５．８５（ＩＮ，ｓ）；　７．１６（ＩＮ，ｄj；　７．１Ｂ （ＩＮ，ｄｄ）；　７．４２（ＩＮ，ｔ）；　７．５６（ＩＮ，ｄ，Ｊ＝７．０ ８Ｎｚ）；　７．７２（ＩＩ，ｄ，Ｊ＝８．１１Ｈｚ）；　W．１９（ＩＨ。

ｄ，Ｊ＝９．０９）。

標題ホスホレート（ｐｈｏｓｐｈｏｒａＬｅ）を例５に述べた方法によって合成 した。スペクトルデータは生成物構造を確認する。

ＩＲ（ＣＮＣＩｓ、　Ｃ１１−’）　：　２９９４．１６１９，１５９４．１５ ０４．１４５Ｂ、　１４２９．１３７２．１２４２（ｐ＝ｏj。

１０５０（ｂｒ）、　９６８．８４５．８１０゜ＮＭＲ（ＣＤＣＩｓ、ｐｐｍ） 　：　３．３８（３Ｈ，ｓ）；　３．９２（３Ｈ，ｓ）；　３．９−４．０６（ ４８４）；　５．２５（ＩＨCｄ、Ｊ− １６，４Ｈｚ）；　７．１５（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝２．２Ｈｚ）；　７．１Ｂ（ＩＨ ，ｄｄ、Ｊ＝９．３．２．８５Ｈｚ）；　７．７２（１８，пAＪ＝８．０５ Ｈｚ）；　８．１２（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝９．２８Ｈｚ）。

−桝−１１八− ６−メトキシ−２−フトアルー゛ヒト ６−メドキシー２−ナフトアルデヒドを、ブーボー反応（Ｂｏｕｖｅａｕｌｔ　 ｒｅａｃｔｉｏｎ）〔イー、エイ、エバンス（Ｅ　、　Ａ　、　Ｅｖａｎｓ）、 ’；ｘ４　）７Ｊａ二ｖ９．４６９Ｈ１９５６）　；ビー、ティ、スジ（Ｂ、Ｔ 、５ｚｚｏ）等、ジェイ　オルダ　ム、　２４ニア０１（１９５９）　；ディ。

シー、オウスレイ（［１，Ｃ９Ｃ９０ｕｓｌｅ等、ジエイ、オルグ　ツム、３８ 　：　９０１（１９７３）　）を用いて、６−メドキンー２−ブロモナフタレン （乾燥ＴＨＦ５０ｄ中に溶解）５．０８　ｇ　（２１，４ｍｍｏｌ）を−７８″ においてｎ−フ゛チルリチウム（１３，７ｍ、２１．８ｍｍｏｌ、１．６Ｍ）に よってリチウム化（ｌｉｔｈｉａｔｉｎｇ）　Ｌ、シーブ乾燥ジメチルホルミド （１，８ｄ、２３．２　ｍ５ｏｌ）を滴加して、アリールリチウムの活性を抑制 する０反応を徐々に０°に温めた後に、中間体のアリールヒドロキシドアミン（ ｈｙｄｒｏｘｔａ劃ｎ　ｅ、）を側ＮＨＣ１でＯ′Ｃにおいて酸性化し、目的ア ルデヒドへのアミン脱離を促進する。溶液をＥｔＯＡｃと３ＮＨＣ１とに分配し 、水層を［！ｔＯＡｃで３回洗浄して、全てのアルデヒドを回収し、次に一緒に したＥｔＯ＾Ｃ溶液を飽和ＮａＨＣＯｓで洗浄し、ＮａｚＳＯ，上で乾燥させる 。溶液をデカントし、薫発させた後、生成した油状物を少量のＣＨｚＣｈ中に溶 解し、その後に溶液が濁るまでヘキサンを添加した。

４８時間冷蔵すると、濾過によって白色結晶２．２９２ｇ　（７３％）が得られ 、これの融点は４７〜４８″であった。

ＩＲ（ＣＤＣｈ、ＣＩ−’）　：　１６８５（Ｃ＝Ｏ）、１６１８，１４７５， １３８９．１２６３．１１９０．１１６Ｂ、　１０２７゜８９５、８５６．８３ ９゜ ’ＨＮＭＲ（ＣＤＣ１ａ、１１ｐｍ）　：　３．９４（３Ｈ，ｓ）；　７．１６ （ＩＩ（、ｄ、Ｊ＝２．４４Ｈｚ）；　７．２１（ＩＨ，ｄпAＪ＝８．．８８ ゜ ２．４４Ｈｚ）；　７．７９（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８．５５Ｈｚ）；　７．８７（Ｉ Ｈ，ｄ、Ｊ＝８．８５Ｈｚ）；　７．９０（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝W．５５Ｈｚ）； ７．８７（１８，ｄ、Ｊ＝８．８５Ｈｚ）；　７．９０（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝８． ５４，１．５２Ｈｚ）；　８．２３（ＩＨ，ｓ）；　１０．O７（ＩＨ，ｓ）。

例４に述べた方法に従って、６−メドキシー２−ナフチルジメチルアセタールを ６１％収量（ｔｐ、２７°）で合成した。

ＩＲ（ＣＮＣＩｓ９ｃｍ−’）　：２９３０，２Ｂ２５．１６２９，１６０４， １４Ｂ０．１２６０．１１９０，１１６７．１０９８゜１０４６、８９０．８５ ０゜ ’ＨＮＭＲ（ＣＤＣ１３，９ｐ１１）：３．３８（６Ｈ，ｓ）；　３．９３（３ Ｈ，ｓ）；　５．５４（ＩＨ，ｓ）；　７．１５−７．１８i２Ｂ、ｓ）； ７．５２（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝８．５５．１．５１Ｈｚ）；　７．７５＜ＩＨ，ｄ 、Ｊ＝８．５５Ｈｚ）；　７．７６（１）１．ｄ、Ｊ＝８．T５Ｈｚ）； 例５に述べたように、対応ホスフェートを６０％収量（油状物）を合成した。

ＩＲ（ＣＮＣＩｓ、ｅｌｌ−’）　：　２９９８．１６１９．１６０３．１４８ ０．１３９０．１２５８（Ｐ＝０）、　１１６１．１０９４K １０５０（ｂｒ）、　９７０．８５２゜’ＨＮＭＲ（ＣＤＣＩｓ、ｐｐｍ）：　 １．２１（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７．１６Ｈｚ）；　１．２６（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７．１ ６Ｈｚ）；　３．４g３Ｌ ｓ）；　３．９２（３Ｂ、ｓ）；　４．０４−４．１１（４Ｈ，＋ｗ）；　４． ６４（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１５．４１Ｈｚ）；　７．１４−７．P７（２Ｈ，ｍ）； ７．５４（ＩＩ（、ｄ、Ｊ＝８．６８Ｈｚ）；　７．７５（１）１．ｄ、Ｊ−８ ／８６Ｈｚ）；　７．７６（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝８．４７Ｈｚ）G　７．８２（ＩＨ 。

ｓ）。

上述したようにブーポー反応を用いて、７−メドキシー２−ナフトアルデヒドを ４８％収量（油状物）を合成した。

ＩＲ（ＣＮＣＩｓｌＣｌｌ−’）　：　１６８７（Ｃ＝Ｏ）、１６０１，１４６ ０．１３８９．１３３１，１２６６、１１？５，１１１５゜１０３０、８４２゜ ’ＨＮＭＲ（ＣＤＣ１ｔ＋Ｐｐｍ）　：　３．９７（３８，ｓ）；　７．２８− ７．３３（２Ｌｎ）；　７．８０−７．８９（３Ｈｖ）；　W．２５ （１Ｂ、ｓ）；　１０．１５（ＩＨ，ｓ）、−例−土上旦− ７−メトキシ−２−フトアルデヒドジメチルアセタール例４に述べた条件に従っ て、対応ジメチルアセタールを８６％収量（油状物）を合成した。

’ＨＮＭＲ（ＣＤＣ１３，ｐｐｌＳ）　：　３．３８（６）１．ｓ）；　３．９ ３（３Ｈ，ｓ）；　５．５５（ＩＮ、ｓ）；　７．１５−７D１８ （２Ｎ、ｍ）；　７．４２（ＩＮ、ｄｄ、Ｊ＝８．０３．１．９５Ｈｚ）；　７ ．７５（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝９．７７１（ｚ）；　７．７Ｂ（Ｉg，ｄ、Ｊ＝ ８．３６Ｈ２）；　７．８５（ＩＨ，Ｓ）。

−斑−１土五− ジエチル１−メトキシ−１−７−メドキシナフトー２−イル　メ　ンホスホネ二 上 例５に述べた一般方法に従って、ジエチルｌ−メトキシ−１−（７−メドキシナ フトー２−イル）メタンホスホネートを６５％収量（油状物）で合成した。

ＩＲ（ＣＮＣＩｓ、　ｃｌ−’）　：２２９５．１６３０．１６０３，１４６０ ．１３９０．１２５０（Ｐ＝Ｏ）＋１０９２．１０５０（ｂｒ）、　１０２７（ ｂｒ）、　９７０．９０８．８４０゜’ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ２．　ｐｐｍ）　： 　１．２２（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）；　１．２７（３ＮＨｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）； 　３．４３（３ＨCｓ）； ３．９３（３Ｈ，ｓ）；　４．０４−４．１１（４Ｈ，ｍ）；　４．６６（ＩＨ ，ｄ、Ｊ＝１５．６Ｈｚ）；　７．１５−７．１７（２Ｈ４j；　７．４３ （ＩＨ，ｄ、Ｊ＝７．９３Ｈｚ）；　７．７３（ＩＨ，ｄ）；　７．７８（ＩＨ ，ｄ、Ｊ＝８．４６Ｎｚ）；　７．８２（ＩＨ，ｓ）。

−表−ｌ− アセタール（Ａ）　ホスホネート（Ｂ）　エノールエーテル（Ｃ）−表一−ニー アルー゛ヒ′のＩＲスペクトル （全てのＩＲスペクトル（表７〜１０）は他に指定しないかぎりニート（Ｎｅａ ｔ）である、Ｃ１ｍ−１） 一表一一旦一 アセ　−ルのＩＲスペクトル 一表一旦Ａ続主Ｙ アセ　−ルのＩＲスペクトルー −表−一度一 −支二Ｌｌｌａ上− ホスホネートのＩＲスペクトル 一表−−上立一 エノールエー−ルのＩＲスペクトル −支−１０化叡直上 エノールエーテルのＩＲスペクトル 二例−土立旦一 ツオング　エヌ、ティ、（Ｔｈｕｏｎｇ　Ｎ、Ｔ、）等のブ四ニツｊ互」し弘二 １ｉＺ丞Ｂｕ１１．Ｓｏｃ、Ｃｈｉｍ、Ｆｒａｎｃｅ　２０８３（１９７５）に 従って、エノールエーテルフェノールａ　（Ｒ”＝メチル、Ｔ＝アダマント−２ −イリデン、例７から）を２−オキソ−１゜３．２−ジオキサホスホランと反応 させて、環状ホスフェートトリエステルを得、これをＮａＣＮによって開環して 、２−シアノエチルジエステル塩を得た０次に水酸化アンモニウムによって容易 なβ−説離反応を誘発させて、互の濾過可能なナトリウムアンモニウム塩を得（ 互から７５％収量）、これを互の二ナトリウムにイオン交換した。

’ＨＮＭＲ（Ｄｚｏ、４００ＭＨｚ）　；δ１．６−７．９（１２Ｈ，ｍ）；　 ２．４４（ＩＩ（、ｓ）；　２．９７（ＩＨ，ｓ）；　３．Q２ （３ｔｌ、ｓ）；　６．９８（ＩＨ４，７，５２Ｈｚ）；　６．９６（ＩＨ，ｓ ）；　７．０５（１）！、ｓ）；　７．１８（ＩＨ，ｄｄ、V．６２．　８．０ ６ Ｈｚ） これと同じ塩はβ−説離を誘発するナトリウムメトキシドを用いて直接得られた 。

ナトリウムアンモニウム塩且をモノピリジニウム塩へイオン交換した。後者の塩 の０．０６Ｍ？８液をＯｚ＆ＴＰＰの存在下、５’Ｃにおいて光酸素化した。〔 例えばセンシトンクス（Ｓｅｎｓｉｔｏｘ）　Ｓまたはシリカゲル上のメチレン ブルーのような固相感光剤を用いると、反応速度が緩慢になり、生成物への光分 解損傷（ｐｈｏｔｏｌｙ−ｔｉｃ　ｄａｍｅｇｅ）が増加した。アセトニトリル −水勾配を用いた、逆相ＨＰ　Ｌ　Ｃカラム（ｐＨ８，６）での精製と、これに 続く凍結乾燥によって、３−　（２’−スピロアダマンタン）−４−メトキシ− ４〜（３＃−ホスホロイルオキシ）フェニル−１゜２−ジオキセタン（ｂ）が淡 黄色固体として、８０％収量で得られた。

’ＨＮＭＲ（Ｄ！０．　４００ＭＨ２）：　０．８５（ＩＨ，ｄ）；　１．１３ （ＬＨ，ｄ）；　１．４０−１．６７（１０１１４）；　２D１３ （ｌＨ，ｓ）；　２．７５（ＩＨ，ｓ）；　３．１０（３Ｈ，ｓ）；　７．１５ （２８，ｂｒｏａｄ、ｆｅａｔｕｒｅｌｅｓｓ）；　７．２O（ＩＨ，ｄ。

７．８１Ｈｚ）；　７．２８（ＩＨ，ｄｄ、７．８１．８．０９Ｈｚ）。

アノプフィールド二重項（ｕｐｆｉｅｌｄ　ｄｏｕｂｌｅｔ、）は、エノールエ ーテルにおけるよりも、近くの芳香環によって遮へいされる、ジオキモクン中の β−アダマンタン環プロトンの特徴である。７．１５　ｐｐｍにおける幅広いピ ークへの２芳香族ピーク共鳴の合体は＋３０スペクトル（ＤｚＯ／ＣＤ３０Ｄ） における同様な挙動を反映する；１２０．９５ｐｐ−と１２２．１０ｐｐ−にお ける２芳香族炭素共鳴は０゛ｃでは幅広い、低強度ピークであるが、４０°Ｃで は強いピークになる。これは芳香族置換基の回転が制限されることを意味し、陰 イオンの励起状態エステルへの電子転移分解速度に配座要素が導入されることに なる。

−炎−１■且− 我々の同時係属出願第４０２．８４７号に述べたよ・うに製造し７たジエチル１ −メトキシ−１−（３−ピバロイルオキシフェニル）メタンホスホネート（６５ ，８ｇｔ　ｏ、　１８４ｍｏｌ）を、乾燥したｌｌ−フラスコにアルゴン下で入 れた。乾燥テトラヒドロフラン（１６５ｄ）を加え、次に２−アダマンタノン（ ２４，８ｇ、０、１６５ｍｏｌ）を加えた。溶液を均質になるまで攪拌し、放置 し、た。別の５００ｄ−フラスコにおいて、ｎ−ブチルリチウム（ヘキサン中２ ．５Ｍ溶液８１−）を滴下ロートから、テトラヒドロフラン２００ｄ中ジイソプ ロピルアミンの溶液（０，２１４ｗｏｌ、　３０〆）（これはアルゴン雰囲気下 で、ドライアイス／アセトン浴中で一７８゛Ｃに冷却したもの）に加えた。生成 したリチウムジイソプロピルアミドの溶液を低温でさらに２５分間攪拌し、予め 一７８°Ｃに冷却したホスホネートと２−アダマンタノンの溶液中に二先端ニー ドルによってカニュレートした（ｃａｎｎｕ　Ｉａ　ｔｅｄ）。次に、リチウム ジイソプロピルアミドを、激しく攪拌しながら、１．５時間にわたって滴加した 。透明な、淡褐色反応混合物を低温においてさらに３０分間攪拌し、室温に温め 、アルゴン下で２．５時間還流させ、室温に冷却した。

粗反応混合物の薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）（ホヮットマン鵠ｈａ　ｔｉ ｃａｎ）Ｋ５Ｆ；１０％酢酸エチル−ヘキサン〕は３　Ｕ、Ｖ、ｌ１１収スポツ トを示した；起点（ｏｒｉｇｉｎ）に１スボント、Ｒｆ、２８に１スポツト、Ｒ ｆ、７０に主要スポット。

このようにして得られた反応混合物を一ロイルクロリドの数アリコートによって 処理し、添加の間室温において数時間攪拌した。酸塩化物を全体で４７５Ｂｇ（ ３８，５ｍｗｏｌ）加えた後、ＴＬＣはＲｆ、２Ｂのスポットが完全に消失した ことを示した。従って、反応混合物中に存在したメトキシ（３−ヒドロキシフェ ニル）メチレンアダマンクンのリチウム塩はＲｆ、７０の対応ビバロエートエス テルに転化された０次に大気圧における蒸留によってテトラヒドロフランを一部 除去し、濃厚なスラリーを得、これを水と１０％酢酸エチル−ヘキサンに分配し た。水層を分離し、同溶媒によって再び３回洗浄した。−緒にした有機層を炭酸 水素ナトリウムの飽和水溶液によって数回洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、 濾過して粒状物を除去した。この溶液を回転蒸発器上で濃縮すると、結晶質生成 物の濃厚なスラリーが得られた。スラリーをヘキサンで希釈し、−２０°に冷却 し、濾過した。フィルターケーキをアルゴン下で、予めドライアイス／アセトン 浴中で冷却したヘキサンによって洗浄した。橙褐色濾液を油状物になるまで濃縮 し、この油状物を少量のヘキサンに溶解し、回収物（ｃｒｏｐ）　１を接種し、 冷却して、生成物の第２回収物を得た０次に、この操作からの母液をシリカゲル ７４ｇ上でプラグクロマトグラフィーして、ヘキサンによって溶離して、出発物 １ｉ　（ｏｒｉｇｉｎ　ｍａ−ｔｅｒｉａｌ）　（残留ホスホネートエステルと その分解生成物）を残した。溶出物を濃縮して生成物の第３回収物を得た。メト キシ（３−ピバロイルオキシフェニル）メチレンアダマンタンの総収量は５４゜ ６７ｇ（７９％）、ｍ、ｐ、ｌ〜８５°であった。スペクトルデータ（ＩＲと’ ＨＮＭＲ）は我々の同時係属出願第４０２，８４７号以前に報告したものと同し であった；例５９を参照のこと。

−例−」」」− 火炎乾燥したフラスコにメトキシ（３−ピバロイルオキシフェニル）メタンホス ホネート（５，０１ｇ、１４．１ｍ＋ｎｏりを装入した。無水メタノール（４０ ｄ）をアルゴン下で加えた。生成した懸濁液をメタノール中４．３７Ｍナトリウ ムメトキシド（３，２５ｄ、１４．２　ｍｏ＋ｏｌ）の滴加中激しく攪拌した。

懸濁固体はこの操作中に溶解した。混合物を室温において１時間撹拌した後に、 ＴＬＣ（ホヮントマンに５Ｆ；１０％酢酸エチル−ヘキサン）は出発物質のごく 僅かな痕跡が残留することを示した（Ｒｆ、７０）。ナトリウムメトキシド溶液 の１滴を透明な溶液に滴加し、次に回転蒸発器（浴温度３５）上で濃縮し、４０ °において減圧下（１，０ＩＨｇ）で２４時間ボンピングした。生成した乾燥白 色固体、ナトリウム３−（メトキシトリシクロ［３，３，１，１’°７〕デク− ２−イリデンメチル）フェノキシトは４．１ｇであった（定量的収量）。これは ジクロロメタンに不溶に不溶であり、上澄みのＴＬＣはフェノール系不純物（ｐ ｈｅｎｏｌｉｃ　ｉｍｐｕｒｉｔｙ）の存在の証拠を示さなかった。生成物のヌ ジョールマル（ｎｕｊｏｌ　ＩＩＩＩ＋ＩＩ）は３５００〜３３００ｃｍ−’の 間にＯＨストレッチ吸収の全くない赤外線吸収スペクトルを示した。フェノラー ト塩は２８０°未渦の融点を示さなかったが、１７０°から幾らか暗色化した。

これは以後の全ての操作の間中、乾燥状態に保持し、ドライニーライト（Ｄｒｉ ｅｒ−ｉ　ｔｅ）上のデシケータに貯蔵した。

■（ヌジョールマル）　：　１５７２．１４０５．１３１０．１２８５．１１９ Ｂ、　１１７５．１１５０．１０９０゜９８８、８７０．８００．７７７ｃｉ＋ −’。

−斑−土１１− ナトリウム３−〔メトキシドリンクロ（３，３，１，１’・７〕デク−２−イリ デンメチル）フェノキシト（１，７４ｇ、　６．０ｍｍｏｌ）をアルゴン化で、 トリエチルアミン数滴を含む、完全に乾燥したジメチルホルムアミド１（ｌｄに 加えた。生成したスラリーを２−クロロ−２−オキソ−１，３，２−ジオキサホ スホラン（０，５８０ｄ、６．３ｗ−ｏｌ）の２５分間にわたる添加中、激しく 攪拌した。混合物はこの添加中と、次のさらに３．５時間の室温での激しい攪拌 中に希薄化した。次に、乾燥ンアン化ナトリウム（０，３２５ｇ、　６．６ｇｍ ｏｌ）　）を、水分を遮断して、加え、攪拌を室温において一晩続けると、橙色 の濁った溶液が得られた。溶媒を減圧下（］、　Ｏｍｔｌｇ）、５０°Ｃにおい て除去し、残渣を０−キシレンによって２回洗浄して、ＤＭＦをさらに除去した 。

生成した褐色泡状物を、メタノール中４．３７Ｍナトリウムメトキシド（１，３ ０ｉ、５．７　＊禦ｏ１）の滴加の前に、メタノール１０ｄに溶解した。３０分 間後に、溶媒を回転蒸発器上で除去し、残渣を５％水／アセトン（Ｖ／Ｖ＞中に スラリー化し、濾過した。固体フィルターケーキを水に溶解し、これに対して逆 相クロマトグラフィー（ＰＬＲＰポリスチレン分取ＨＰＬＣカラム、水−アセト ニトリル勾配を用いる）を実施して、適当な両分の凍結乾燥後に二ナトリウム３ −（メトキシトリシクロｌ：３；３．１．１’ｚ　’）デク−２−イリデンメチ ル）フェニルホスフェートを白色のふわふわした固体として良好な収量で便利に 単離した。生成物の’ＨＮＭＲスペクトルデータは同時係属出願第４０２，８４ ７号に報告したデータと同じであった。

本発明の上記考察は主として、好ましい実施態様とその実施に関するものである 。ここに述べた概念の実際の意味することの多少の変化と変更は下記請求の範囲 に定義された本発明の要旨と範囲から逸脱すまことなく容易になされうることは 、当業者に容易に明らかであろう。

国際調査報告 入ｔｔａｃｈｍｅｎｔ　ｔｏ　ＦｏｒＰ　ＰＣＴ／ｌｓＡ／２１０．　Ｐａｒｔ 　ＶＩ。

Ｔｅ１ｅｐｈｏｎｅ　Ａｐｐｒｏｖａｌ：ＴＩｒ、ｆｃｌａｉｎ＋ｅ　４０−４ ５．５４−６１．６３−６７．７２−７６１．ｃｌａｓｓ　５６８　ｑｕｂｃｔ ａｓｓ２２＋　ｐｈｏｓｐｈａｔ、ｅ　ｅｓｔｅｒ賀ｈｅｎ　Ｒ１−ａｌｋｙｌ 　ａｎｄ　ｐｒｏｃｅｓｓ　ｏｆ　ｍａｋｉｎｇＩＶ、ｆｃｌａｉ＋＋＋ｓ　４ ０−４５．　５４，５５１．ｃｌａｎｓ　５５６　ｑｕｂｃｌａｓｓ　４０４゜ ｐｈｏｓｐｈａｔｅ　ｅｓｔｅｒｓ　ｗｈｅｎ　Ｒｌｇ　ｔｒｊａｌｋｙｌｓｉ ｌｙｌ　ａｎｄ　ｐｒｏｃｅｓｓ　ｏｆ　ｍａｋｉｎｇｖ、（ｃｌａｉｕｓ　６ Ｂ−７１１，ｃｌａｓｓ　５４９５ｕｂｃｌａｓｓ　２１６．　ｐｏｌｙｃｙｃ ｌｉｃｈｅｔ、ｐｒｏ　ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ Ｖｌ、（ｃｌａｉｍｓ　７７−７８１．ｃｌａｓｓ　５５８５ｕｂｃｌａｓｓ　 １６２、ｐｏｘｙｐｈｏｓｐｈａｔｅｅｓｔｅｒ　ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ＋ ＶＩＬ　ｆｃｌａｉｍｓ　６２，７９，８０１．ｃｌａｓｓ　５６８　ｓｕｔ＋ ｃｌａｓｓ　６３３．ｐｏｌｙｏ％ｙ−＠ｔｈｅｒｓ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．式： ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学式、表等があります▼〔 式中、Ｔは、ＹとＺとの間の不安定な結合を意図的に開裂させる前にジオキセタ ン化合物の分解を阻止するスピロ結合置換または非置換ポリシクロアルキリデン 安定化基であり；Ｙはエネルギーを吸収して励起エネルギー状態を形成し、この 状態から光学的に検出可能なエネルギーを放出してその基底状態に戻ることので きる、−置換または多置換芳香族発光性の発蛍光団形成基であり；Ｚは水素、化 学的開裂性または酵素開裂性基であり；Ｒ３はＣ１〜Ｃ２０分枝または非分枝、 置換または非置換、飽和または不飽和アルキル、ヘテロアルキル、シクロアルキ ル、シクロアルケニル、アリール、アラルキルまたはアラルケニル基、あるいは 放出フラグメントがラクトン環を含むようにＹに融合したシクロアルケニル、シ クロアルキル、アリール、アラルキルもしくはアラルケニル、またはＮ、Ｏもし くはＳヘテロ原子含有基、または酵素開裂性基であり；Ｔ，Ｙ，ＺもしくはＲ３ の一つ以上が１，２−ジオキセタンの水溶性を強化する基によって置換されてい ないかまたは置換されている〕 によって表される１，２−ジオキセタンの製造方法であって、式： ＰＱ３ 〔式中、Ｑはハロゲンまたは、Ｒ１が下記で定義される通りであるＯＲ１である 〕によって表されるハロゲン化第一燐を式：Ｒ１ＯＨ または Ｒ１Ｏ−Ｍ＋ 〔式中、Ｒ１は低級アルキル基またはトリアルキルシリル基であり、Ｍ＋はアル カリ金属陽イオンである〕 によって表される低級アルカノールまたはそのアルカリ金属塩と反応させて、式 ：（Ｒ１Ｏ）３Ｐ によって表される第三亜リン酸アルキルエステルを製造し；この亜リン酸エステ ルとヒス酸（ｈｉｓ ａｃｉｄ）を、対応アリールアルデヒドと式：Ｒ３ＯＨ ま たは ＨＯ−（ＣＨ２）ｎ−ＯＨで表される低級アルカノールまたはジオールと の反応によって製造される式：▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式 、化学式、表等があります▼〔式中、ｎは２以上の整数である〕 によって表されるアリールジアルキルまたは環状アセタールと反応させて、式： ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学式、表等があります▼に よって表される１−アルコキシ−１−アリールメタン−ホスホネートエステルを 製造し； この１−アルコキシ−１−アリールメタン−ホスホネートエステルを塩基と反応 させて、式： ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学式、表等があります▼に よって表されるホスホネート安定化カルバニオンを製造し；このホスホネート安 定化カルバニオンを式： Ｔ＝＝Ｏ　または　Ｏ＝＝Ｔ＝＝Ｏ によって表されるカルボニル化合物と反応させて、式：▲数式、化学式、表等が あります▼または▲数式、化学式、表等があります▼で表されるモノ−またはジ −エノールエーテルを製造し、エノールエーテルの二重結合を酸化して、対応１ ，２−ジオキセタン化合物を得ることから成る方法。 ２．ハロゲン化第一燐を塩基の存在下でＲ１ＯＨと反応させる請求項１記載の方 法。 ３．塩基がトリエチルアミン、ピリジン、ジメチルアニリンまたは酸化マグネシ ウムである請求項２記載の方法。 ４．アリールジアルキルまたはシクロアルキルアセタールを触媒存在下での対応 アリールアルデヒドと低級アルカノールまたはジオールとの反応および水の除去 によって製造する請求項１記載の方法。 ５．ルイス酸触媒または無機酸触媒がｐ−トルエンスルホン酸、アンバーリスト （Ａｍｂｅｒｌｙｓｔ）ＸＮ１０１０樹脂、ＨＣｌ（ｇ）、無水硫酸銅、メタン スルホン酸、またはＢＦ３エーテレートである請求項４記載の方法。 ６．水をトリアルキルオルトホルメート、２，２−ジメトキシプロパン、トリア ルキルオルトアセテート、またはジアルキルスルファイトまたはモレキュラーシ ープから成る群から選択される水スキャベンジャーによって除去する請求項４記 載の方法。 ７．水を共沸蒸留によって除去する請求項４記載の方法。 ８．アリールアルデヒドアルキルまたはシクロアルキルアセタールを第三亜リン 酸アルキルエステルと極性中性有機溶媒（ａｐｒｏｔｉｃ　ｏｒｇａｎｉｃ　ｓ ｏｌｖｅｎｔ）中、不活性雰囲気下、約０℃以下の温度において反応させる請求 項１記載の方法。 ９．ルイス酸がＢＦ３，エーテレート，ＳＮＣｌ４，ＴｉＣｌ４またはトリメチ ルシリルトリフレート（ｔｒｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌｙｌ　ｔｒｉｆｌａｔｅ）で ある請求項１記載の方法。 １０．極性中性有機溶媒が塩化メチレン、クロロホルム、ベンゼンまたはトルエ ンである請求項１記載の方法。 １１．１−アルコキシ−１−アリールメタンホスホネートエステルを極性中性有 機溶媒中、不活性雰囲気下で、約０℃以下の温度において反応させる請求項１記 載の方法。 １２．塩基が水素化ナトリウム、ナトリウムアミド、金属アルコキシド、または ｎ−アルキルリチウム、またはリチウムアミドである請求項１記載の方法。 １３．極性中性有機溶媒が脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素、ジグリム、環状エ ーテル、アルカノール、アルキル化ホルムアミドもしくはアセトアミド、アルキ ル化スルホキシド、またはこれらの溶媒の混合物である請求項１１記載の方法。 １４．ホスホネート安定化カルバニオンをモノ−またはジ−カルボニル化合物と 還流温度を含めた還流温度までの温度において反応させる請求項１記載の方法。 １５．モノ−またはジ−カルボニル化合物が炭素数６から３０まで（３０を含む ）の置換または非置換多環状アルキルケトンである請求項１４記載の方法。 １６．酸素化をハロゲン化有機溶媒中、約５℃以下の温度において実施する請求 項１記載の方法。 １７．アリールアルデヒドが単環状、多環状、複素環状または多複素環状芳香族 モノ−またはポリーアルデヒドである請求項１記載の方法。 １８．アリールまたはヘテロアリール誘導体がフェニル、ビフェニル、９，１０ −ジヒドロフェナントリル、ナフチル、アントリル、ピリジル、キノリニル、イ ンキノリニル、フェナントリル、ピレニル、クマリニル、カルボスチリル、アク リジニル、ジベンゾスベリル、またはフタリル、またはこれらの誘導体を含む請 求項１７記載の方法。 １９．アリールまたはヘテロアリールアルデヒドがアリール基へのアルデヒド側 鎖の結合位置に対してメタの位置において、官能性Ｒ２基によって置換され、Ｒ ２基がアルキルエーテル、ハロゲン、ヒドロキシル基、アミノ基、ジ（低級アル キル）アミノ基もしくはその塩、スルホンアミド基、またはアシルオキシ基であ る請求項１７記載の方法。 ２０．Ｒ２基がアルコキシ基またはピバロイルオキシ基である請求項１９記載の 方法。 ２１．アリールアルデヒド基が、アリール基へのアルデヒド側鎖の結合位置に対 してオルト、メタまたはパラの位置に配置された官能性基Ｘ１によってさらに置 換され、Ｘ１が水素、ヘテロアリール、アリール、アリル、ヒドロキシアルキル 、アルキルチオエーテル、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルキル、アル コキシ、アルデヒド、ハロ、ニトロ、シアノ、スルホン、アルキルハロ、トリフ ルオロメチル、カルボン酸塩またはエステル基、アミドスルホニル基またはＳＯ ２Ｒ６基（Ｒ６はメチル、フェニルまたはＮＨＣ６Ｈ５である）である請求項１ ９記載の方法。 ２２．Ｒ３がアルキル、アリール、アルコキシ、アルキルシロキシアルキル、ア ミノアルキルまたはジアルキルアミノアルキル基である請求項１記載の方法。 ２３．エノールエーテルのアリール環のＲ２基を次の工程：（ａ）アルコキシ基 を極性中性溶媒中のナトリウムチオエトキシドによって、ピリジン中のヨウ化メ チルによって、還流ジメチルスルホキシド中のシアン化ナトリウムによって、ま たは還流Ｎ−メチル−２−ピロリドン中の硫化ナトリウムによってヒドロキシル 基に開裂する工程；または（ｂ）ピバロイルオキシ基をアルカノール溶媒中の炭 酸カリウムまたはナトリウムメトキシドによって開裂する工程； によって遊離ヒドロキシ基に転化する請求項１９記載の方法。 ２４．アルコキシまたはピバロイルオキシ基の開裂によって得られる遊離アリー ルヒドロキシ基を、ヒドロキシ基を塩基の存在下でカルボン酸無水物または塩化 物と反応させることをさらに含む方法によって酵素開裂性カルボン酸エステル基 に転化する請求項２３記載の方法。 ２５．アルコキシまたはピバロイルオキシ基の開裂によって得られる遊離アリー ルヒドロキシ基を次の工程： （ａ）アリールヒドロキシル基を式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｑは電気陰性放出基（ｅｌｅｃｔｒｏｎｅｇａｔｉｖｅ　ｌｅａｖｉｎ ｇ　ｇｒｏｕｐ）である〕によって表される環状ホスフェートエステルと、極性 中性有機溶媒中でルイス塩基または無機塩基と反応させて対応環状ホスフェート トリエステルを得る工程； （ｂ）このようにして得られた環状ホスフェートトリエステルをシアン化物塩と 反応させて、環状ホスフェートトリエステル環を開裂して、対応２−シアノエチ ルジエステル一塩を得る工程；および（ｃ）一塩（ｍｏｎｏｓａｌｔ）に対して 塩基によるＰ脱離を実施して、対応モノホスフェートエステル塩を得る工程 から成る方法によって、酵素開裂性ホスフェート基に転化する請求項２３記載の 方法。 ２６．Ｑがハロゲンである請求項２５記載の方法。 ２７．塩基が第三アミン、酸化マグネシウム、またはモレキュラーシーブである 請求項２５記載の方法。 ２８．極性中性有機溶媒が芳香族炭化水素、環状エーテル、アルキル置換ホルム アミドまたはアセトアミド、ジアルキルスルホキシド、ジアルキルエーテル、ヘ キサン、またはこれらの溶媒の混合物である請求項２５記載の方法。 ２９．シアン化物塩がアルカリ金属塩、第四アンモニウム塩またはポリマーの第 四アンモニウム塩である請求項２５記載の方法。 ３０．２−シアノエチルジエステル一塩のβ脱離を誘発する塩基が水酸化アンモ ニウム、ナトリウムメトキシド、または水酸化テトラメチルアンモニウムである 請求項２５記載の方法。 ３１．アルコキシまたはピバロイルオキシ基の開裂によって得られる遊離アリー ルヒドロキシル基を、次の工程： （ａ）アリールヒドロキシル基を式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｑは電気陰性放出基であり、Ｒ４とＲ５はそれぞれ独立的にシアノ、ニ トロフェニル、ジニトロフェニル、アリールスルホニル、アルキルスルホニル、 またはトリメチルシリルである〕 で表される化合物を、極性中性有機溶媒中でルイス塩基と反応させて、式：▲数 式、化学式、表等があります▼ で表される対応ホスフェートトリエステルを得る工程；および （ｂ）このホスフェートトリエステルを塩基ＭＦ，ＭＯＨまたはＭＯＣＮ３〔陽 イオンＭ＋はアルカリ金属、アンモニウム、またはＣ１〜Ｃ７アルキル、アラル キル、または芳香族第四アンモニウム陽イオン（ＮＲ１０４）＋（Ｒ１０はアル キルもしくはアラルキル基であるかまたは複素環系の一部を形放する）である〕 と反応させて、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ によって表される対応ホスフェートモノエステル塩を得る工程を含む方法によっ て、酵素開裂性ホスフェート基に転化する請求項２３記載の方法。 ３２．エノールエーテルホスフェートエステル二塩中のＭ＋のモノ−、ジ−また はトリアルキルアンモニウム陽イオンまたはピリジニウム（Ｈ＋）陽イオンヘの イオン交換による交換をさらに含む請求項３１記載の方法。 ３３．Ｑがハロゲンである請求項３１記載の方法。 ３４．アルコキシ基の開裂によって得られる遊離アリールヒドロキシル基を、次 の工程： （ａ）アリールヒドロキシル基をテトラ−Ｏ−アセチル−Ｄ−ヘキソピラノシル ハライドと、不活性雰囲気下、極性中性有機溶媒中で塩基と共に反応させて、ア リール−Ｏ−Ｄ−ヘキソピラノシドテトラアセテートを得る工程；および（ｂ） ヘキサピラノシドテトラアセテートの保護アセチル基を加水分解して、ヘキソピ ラノシジル部分を得る工程 をさらに含む方法によって、酵素開裂性グリコシドに転化する請求項２３記載の 方法。 ３５．Ｄ−ヘキソピラノシドがＤ−グルコース、Ｄ−ガラクトース、Ｄ−フルク トースまたはＤ−マンノースである請求項３４記載の方法。 ３６．Ｔがポリシクロアルキリデン基であり、Ｙがフェニル、ナフチル、フェナ ントリル、ビフェニル、ピリジル、アントリル、フタリルまたは一つ以上のアリ ール環に融合した不飽和複素環であり、Ｒ３がメチルまたはエチルであり、Ｚが アセトキシ、ホスフェートモノエステル塩、またはＯ−Ｄ−ヘキソピラノシドで ある請求項１記載の方法。 ３７．Ｔがアダマント−２−イリデンである請求項３６記載の方法。 ３８．アリールアルデヒドのアリール基が、アルキルエーテル、アルキルチオエ ーテル、ヒドロキシル、アシルオキシ、スルホンアミド、または置換または非置 換アミノ基である官能基Ｒ２によって置換され、アリール基への官能基Ｒ２の結 合位置が、Ｒ２基が結合する環炭素原子とアリールアルデヒドのアルデヒド基が 結合する環炭素原子とを分離する環炭素原子の総数が、結合位置の環炭素子をも 含めて、奇数の整数であるような位置である請求項１７記載の方法。 ３９．奇数の整数が５以上である請求項３８記載の方法。 ４０．式： ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学式、表等があります▼〔 式中、Ｒ１は低級アルキル基であり；Ｒ３はＣ１〜Ｃ２０非分枝または分枝、置 換または非置換、飽和または不飽和アルキル、ヘテロアルキル、シクロアルキル 、シクロアルケニル、アリールまたはアラルキル基、放出フラグメントがラクト ン環を含むようにＹに縮合しうる縮合環シクロアルケニル、シクロアルキル、ア リール、アラルキルもしくはアラルケニル基、またはＮ，ＯもしくはＳヘテロ原 子含有基、または酵素開裂性基であり；Ｙが芳香族環またはヘテロ芳香族環であ り；Ｚが水素、化学的開裂性基または酵素開裂性基であり；ｎが２以上の整数で あり；Ｔ，Ｙ，ＺまたはＲ３の一つ以上は１，２−ジオキセタンの水溶性を強化 する基によって置換されているかまたはこのような基によって置換されていない 〕によって表される１−アルコキシ−１−アリールメタン−ホスホネートエステ ルの製造方法において、 式： ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学式、表等があります▼に よって表されるアリールジアルキルまたは環状アセタールを式：（Ｒ１Ｏ）３Ｐ によって表される第三亜リン酸アルキルエステルと、不活性雰囲気下、中性溶媒 中、０℃以下の温度においてルイス酸と共に反応させることを含む方法。 ４１．アセタールが式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中ｎは２以上の整数である〕 のＲ３基の一つが芳香族Ｙ環に結合し、他のＲ３がＹ環への縮合Ｒ３とは異なる 基であることによって製造される非対称アリールまたはヘテロアルデヒド環状ア セタールであり、製造されるホスホネートエステルが５−もしくは７−Ｒ２−置 換イソクロマン−１−イル、４もしくは６−Ｒ２−置換１，３−ジヒドロイソベ ンゾフラン−１−イル、５もしくは８−Ｒ２−置換１Ｈ，３Ｈ−２−オキサフェ ナレン−１−イル、７もしくは１０−Ｒ２−置換３−オキサ−１，２，３，４− テトラヒドロフェナントリ−４−イル、６，８もしくは９−Ｒ２−置換２−オキ サ−１，２，３，４−テトラヒドロフェナントル−１−イル、またはＲ２置換ジ ヒドロイソナフトフラン−１もしくは３−イルホスホネートエステルであり、Ｒ ２がアルキルエーテル、ハロゲン、ヒドロキシル基、アミノ基、ジ（低級アルキ ル）アミノ基もしくはその塩、スルホンアミド基、またはアシルオキシ基である 請求項４０記載の方法。 ４２．ルイス酸がＢＦ３，エーテレート，ＳｎＣｌ４，ＴｉＣｌ４，およびトリ メチルシリルトリフレートである請求項４０または４１記載の方法。 ４３．極性中性有機溶媒が塩化メチレン、クロロホルム、ベンゼンまたはトルエ ンである請求項４０または４１記載の方法。 ４４．Ｙがフェニル、ビフェニル、９，１０−ジヒドロフェナントリル、ナフチ ル、アントリル、ピリジル、キノリニル、インキノリニル、フェナソトリル、ピ レニル、クマリニル、カルボスチリル、アクリジニル、ジベンゾスベリル、フタ リルもしくはその誘導体であり、Ｒ３がメチルまたはエチルであり、Ｚがアセト キシ、ホスフェートモノエステル塩またはグリコシドである請求項４０または４ １記載の方法。 ４５．アリール基ＹがＺ基に対してオルト、メタまたはパラの位置に存在するＸ １基によってさらに置換され、Ｘ１が水素、またはアリール、アリル、ヒドロキ シアルキル、アルキルチオエーテル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミ ノ、アルキル、アルコキシ、Ｂ−９アルデヒド、ハロ、ニトロ、シアノ、トリア ルキルシリル、アルキルハロ、トリフルオロメトリル、ヘテロアリール、ヘテロ アラルキル、アルコキシカルボニル、またはＳＯ２Ｒ６（Ｒ６はメチル、フェニ ル、またはＮＨＣ６Ｈ５基である）である請求項４４記載の方法。 ４６．式： ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学式、表等があります▼〔 式中、Ｔは置換または非置換ポリシクロアルキル基であり；Ｒ３はＣ１〜Ｃ２０ 非分枝または分枝、置換または非置換、飽和または不飽和アルキル、ヘテロアル キル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アリールまたはアラルキル基、放出 フラグメントがラクトン環を含むようにＹに縮合しうる縮合環シクロアルケニル 、シクロアルキル、アリール、アラルキルもしくはアラルケニル基、Ｎ，Ｏもし くはＳヘテロ原子含有基または酵素開裂性基であり；Ｙは芳香環またはヘテロ芳 香環であり、二重結合へのシングレット酵素（ｓｉｎｇｌ−ｅｔ　ｏｘｙｇｅｎ ）の添加によって形成されるジオキセタンが活性化可能であり、エネルギーを吸 収して励起エネルギー状態を形成し、この状態から光学的に検出可能なエネルギ ーを放出してその基底状態に戻ることのできる発光性蛍光発色団を形成する；Ｚ は水素、化学的開裂性基または酵素開裂性基であり、Ｔ，Ｙ，ＺもしくはＲ３の 一つ以上を化合物の水溶性を強化する基によって置換されるまたは置換されない 〕 で表されるエノールエーテルの製造方法であって、対応１−アルコキシ−１−ア リールメタンホスホネートエステルを不活性雰囲気下、極性中性溶媒中、約０℃ 以下の温度において金属含有塩基によって処理することによって製造された、式 ：▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ３、ＹおよびＺは上記で定義した通りであり、Ｒ１は低級アルキル基 であり、ｎは２以上の整数である〕 によって表されるホスホネート安定化カルバニオンを式：Ｔ＝０　または　０＝ Ｔ＝０ 〔式中Ｔは上記で定義した通りである〕によって表されるケトンと、還流条件ま で（還流条件を含む）の温度において反応させることを含む方法。 ４７．塩基がナトリウムアミド、金属アルコキシド、ｎ−アルキルリチウムまた はリチウムジアルキルアミドである請求項４６記載の方法。 ４８．極性中性有機溶媒が脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素、ジグリム、環状エ ーテル、アルカノール、アルキル化ホルムアミドもしくはアセトアミド、アルキ ル化スルホキシド、またはこれらの溶媒の混合物である請求項４６記載の方法。 ４９．カルボニル化合物が、炭素数６〜３０の置換または非置換多環状アルキル ケトンである請求項４６記載の方法。 ５０．Ｙ基がフェニル、ビフェニル、９，１０−ジヒドロフェナントリル、ナフ チル、アントリル、ピリジル、キノリニル、インキノリニル、フェナントリル、 ピレニル、クマリニル、カルボスチリル、アクリジニル、ジベンゾスベリル、フ タリルまたはこれらの誘導体である請求項４６記載の方法。 ５１．Ｔがポリシクロアルキリデン基であって、Ｙがフェニル、ナフチル、クマ リニルまたはフェナントリルであり、Ｒ３がメチルまたはエチルであり、Ｚが水 素またはカルボン酸エステル、ホスフェートモノエステル塩またはグリコシドで ある請求項４６から５０までのいずれかに記載の方法。 ５２．Ｒ３とＹが複素環を形成する請求項４６記載の方法。 ５３．複素環が５もしくは７−Ｒ３−置換イソクロマン−１−イル、４もしくは ６−Ｒ２−置換１，３−ジヒドロイソベンゾフラン−１−イル、５もしくは８− Ｒ２−直換１Ｈ，３Ｎ−２−オキサフェナレン−１−イル、７もしくは１０−Ｒ ２−置換３−オキサ−１，２，３，４−テトラヒドロフェナントリ−４−イル、 ６，８−もしくは９−Ｒ２−置換２−オキサ−１，２，３，４−テトラヒドロフ ェン−アントル−１−イルまたはＲ２−置換ジヒドロイソナフトフラン−１もし くは３−イルホスホネートエステルであり、Ｒ２がアルキルエーテル、ハロゲン 、ヒドロキシル基、アミノ基、ジ（低級アルキル）アミノ基もしくはその塩、ス ルホンアミド基、またはアシルオキシ基である請求項５２記載の方法。 ５４．式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ１はトリアルキルシリル基または炭素数１２までの低級アルキル基で あり；Ｒ２はヒドロキシル基、エーテル（ＯＲ４）基またはチオエーテル（ＳＲ ４）基（Ｒ４は炭素数２０までの置換もしくは非置換アルケニル、低級アルキル またはアラルキル基である）、アシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミ ノ基、モノもしくはジ（低級）アルキル基またはその酸塩（各低級アルキル基は 炭素数７までであり、各低級アルキル基はＹ基に結合して、一つ以上の縮合環を 形成する）、ＮＨＳＯ２Ｒ５基（Ｒ５はメチル、トリル、またはトリフルオロメ チル基である）、炭素数２０までの置換アリール、アラルキルまたはβ−スチレ ニル基であり；Ｒ３は炭素数２０までの置換または非置換低級アルキル、アラル キルまたはヘテロアラルキル基、さらに置換されうる炭素数１４までのアリール またはヘテロアリール基、（低級）アルキル−ＯＳｉＸ３基（低級アルキル基は 炭素数６までであり、Ｘは独立的にメチル、フェニルまたはｔ−ブチルである） 、炭素数６までのアルコキシ（低級）アルキル基、またはアミノ（低級）アルキ ルまたはモノもしくはジ（低級）アルキルアミノ基（各低級アルキル基は炭素数 ７までである）であり；Ｘ１は水素または炭素数２０までの置換もしくは非置換 アリール、アラルキル、ヘテロアルキルまたはヘテロアルキル基、アリル基、炭 素数６までのヒドロキシ（低級）アルキル基、（低級）アルキル−ＯＳｉＸ３基 （アルキルとＸラジカルは上記で定義した通りである）、エーテル（ＯＲ４）ま たはチオエーテル（ＳＲ４）（Ｒ４は上記で定義した通りである）、ＳＯ２Ｒ６ 基（Ｒ６はメチル、フェニルまたはＮＨＣ６Ｈ５である）、炭素数７までの置換 もしくは非置換アルキル基、ニトロ基、ＣＮ基、アルデヒドまたはそのオキシム またはジメチルヒドラゾン、炭素数６までのアルキルハリド基、ハロゲン基、カ ルボン酸塩、エステルまたはヒドラジド、トリアルキルケイ素に基づく基または ホスホリルオキシ基であり；Ｙはフェニル、ビフェニル、９，１０−ジヒドロフ ェナントリル、ナフチル、アントリル、ピリジル、キノリニル、インキノリニル 、フェナントリル、ピレニル、クマリニル、カルボスチリル、アクリジニル、ジ ベンゾスベリル、フタリルまたはこれらの誘導体である〕によって表される化合 物。 ５５．Ｒ２がホスホネートエステル含有側鎖のＹ基への結合位置に対してメタで あり、Ｘ１がＲ２環に対してオルト、メタまたはパラである請求項５４記載の化 合物。 ５６．式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、ホスホネート含有側鎖のＹへの結合位置に対してメタであるＲ２がエー テル（ＯＲ４）またはチオエーテル（ＳＲ４）（Ｒ４は炭素数２０までの置換も しくは非置換、飽和または不飽和低級アルキルまたはアラルキルである）、ハロ ゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシル基、アセトキシ基、ピバロイルオキシ基、ア ミノ基、ジ（低級アルキル）アミノ基（各低級アルキル置換基は炭素数７までで ある）、またはＮＨＳＯ２Ｒ５基（Ｒ５はトリフルオロメチルまたはトリルであ る）であり；Ｘ１は水素、または２−Ｍｅ、４−ＯＥｔ、４−ＯＭｅ、５−ＣＨ Ｏ、５−ＣＨ（ＯＭｅ）２、５−Ｂｒ、５−ヒドロキシル、５−ＯＭｅ、または ６−ＯＭｅである〕で表される化合物。 ５７．Ｒ２が３−Ｏ−Ｍｅまたは３−ピバロイルオキシである請求項５６記載の 化合物。 ５８．Ｒ２が３−Ｏ−Ｍｅまたは３−ピバロイルオキシであり、Ｘ１が５−ＣＨ Ｏである請求項５６記載の化合物。 ５９．式： ▲数式、化学式、表等があります▼ で表される化合物。 ６０．式： ▲数式、化学式、表等があります▼ によって表される化合物。 ６１．式： ▲数式、化学式、表等があります▼ によって表される化合物。 ６２．式： ▲数式、化学式、表等があります▼ によって表される化合物。 ６３．式： ▲数式、化学式、表等があります▼ によって表される化合物。 ６４．式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、側鎖のＹへの結合位置に対してメタであるＲ２はエーテル（ＯＲ４）ま たはチオエーテル（ＳＲ４）（Ｒ４は炭素数２０までの低級アルキル基である） であり；Ｘ１は水素、２−Ｍｅ、４−ＯＥｔ、４−ＯＭｅ、５−ＣＨＯ、５−Ｃ Ｈ（ＯＭｅ）２、５−Ｂｒ、５Ｃｌ、５−ＯＭｅまたは６−ＯＭｅである〕 によって表される化合物。 ６５．式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、側鎖のＹへの結合位置に対してメタであるＲ２はエーテル（ＯＲ４）ま たはチオエーテル（ＳＲ４）（Ｒ４は炭素数２０までの低級アルキル基である） 、ハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシル基、アミノ基、ジ（低級アルキル）ア ミノ基（各低級アルキル置換基は炭素数７までである）、またＮＨＳＯ２Ｒ５基 （Ｒ５はメチルまたはエチルである）であり；Ｘ１は水素、２−Ｍｅ、４−ＯＥ ｔ、４−ＯＭｅ、５−ＣＨＯ、５−ＣＨ（ＯＭｅ）２、５−Ｂｒ、５Ｃｌ、５− ＯＭｅまたは６−ＯＭｅである〕によって表される化合物。 ６６．式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、ホスホネートエステル含有側鎖のＹへの結合位置に対するメタであるＲ ２がエーテル（ＯＲ４）またはチオエーテル（ＳＲ４）（Ｒ４は炭素数２０まで の低級アルキルまたはアラルキル置換基である）、アセトキシまたはピバロイル オキシ、ハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシル基、アミノ基、ジ（低級アルキ ル）アミノ基（各低級アルキル置換基は炭素数７までである）、またはＮＨＳＯ ２Ｒ５基（Ｒ５はトリルまたはトリフルオロメチルである）であり、Ｘ１は水素 、２−Ｍｅ、４−ＯＥｔ、４−ＯＭｅ、５−ＣＨＯ、５−ＣＨ（ＯＭｅ）２、５ −Ｂｒ、５−Ｃｌ、５−ＯＭｅまたは６−ＯＭｅである〕 によって表される化合物。 ６７．式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ２はエーテル（ＯＲ４）またはチオエーテル（ＳＲ４）（Ｒ４は炭素 数２０までの低級アルキルまたはアラルキル基である）、アセトキシまたはピバ ロイルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシル基、アミノ基、ジ（低 級アルキル）アミノ基（各低級アルキル置換基は炭素数７までである）、または ＮＨＳＯ２Ｒ５（Ｒ５はメチルまたはトリルである）であり、Ｒ２が結合する環 炭素とアルデヒド基が結合する環炭素原子とを分離する環炭素原子の総数が、結 合位置の環炭素原子を含めて、奇数の整数である〕 によって表される化合物。 ６８．式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ２はエーテル（ＯＲ４）またはチオエーテル（ＳＲ４）（Ｒ４は炭素 数２０までの低級アルキルまたはアラルキル置換基である）、アセトキシまたは ピバロイルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシル基、アミノ基、ジ （低級アルキル）アミノ基（各低級アルキル置換基は炭素数７までである）、ま たはＮＨＳＯ２Ｒ５（Ｒ５はトリルまたはトリフルオロメチルである）である〕 によって表される化合物。 ６９．式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ２はエーテル（ＯＲ４）またはチオエーテル（ＳＲ４）（Ｒ４は炭素 数２０までの低級アルキルまたはアルキルである）、アセトキシまたはピバロイ ルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシル基、アミノ基、ジ（低級ア ルキル）アミノ基（各低級アルキル置換基は炭素数７までである）、またはＮＨ ＳＯ２Ｒ５基（Ｒ５はトリルまたはメチル基である）である〕によって表される 化合物。 ７０．式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ２はエーテル（ＯＲ４）またはチオエーテル（ＳＲ４）（Ｒ４は炭素 数２０までの低級アルキルまたはアラルキル基である）、アセトキシまたはピバ ロイルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシル基、アミノ基、ジ（低 級アルキル）アミノ基（各低級アルキル置換基は炭素数７までである）、または ＮＨＳＯ２Ｒ５基（Ｒ５はトリルである）である〕 によって表される化合物。 ７１．式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ２はエーテル（ＯＲ４）またはチオエーテル（ＳＲ４）（Ｒ４は炭素 数２０までの低級アルキルまたはアラルキル基である）、ハロゲン原子、ニトロ 基、ヒドロキシル基、アミノ基、ジ（低級アルキル）アミノ基（各低級アルキル 置換基は炭素数７７までである）、またはＮＨＳＯ２Ｒ５基（Ｒ５はトリルまた はメチルである）である〕 によって表される化合物。 ７２．式： ▲数式、化学式、表等があります▼によって表される化合物。 ７３．式： ▲数式、化学式、表等があります▼ によって表される化合物。 ７４．式： ▲数式、化学式、表等があります▼ によって表される化合物。 ７５．式： ▲数式、化学式、表等があります▼ によって表される化合物。 ７６．式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｘ１は水素、２−Ｍｅ、４−ＯＥｔ、４−ＯＭｅ、５−ＣＨＯ、５−Ｃ ＨＯ、５−ＣＨ（ＯＭＥ）２、５−Ｂｒ、５−Ｃｌ、５−ＯＭｅまたは６−ＯＭ ｅである〕によって表される化合物。 ７７．式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ１は炭素数１２までの低級アルキル基であり；Ｒ２はエーテル（ＯＲ ４）またはチオエーテル（ＳＲ４）（Ｒ４は炭素数２０までの低級アルキルまた はアラルキルである）、アセトキシまたはピバロイルオキシ基、ハロゲン原子、 ニトロ基、ヒドロキシル基、アミノ基、ジ（低級アルキル）アミノ基（各低級ア ルキル置換基が炭素数７までである）、またはＮＨＳＯ２Ｒ５（Ｒ５はトリルま たはトリフルオロメチルである）であり；Ａ３は炭素数２０までの低級アルキル 、アラルキル、アリールまたはヘテロアラルキル基、（低級アルキル）−Ｏ−Ｓ ｉＸ３基（低級アルキル部分は炭素数７までであり、Ｘはメチル、ベンジルまた はｔ−ブチルである）、炭素数６までのヒドロキシ（低級）アルキル基、または アミノ（低級）アルキルまたはジ（低級）アルキルアミノ基（各低級アルキル基 が炭素数７までである）である〕によって表される化合物。 ７８．式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、各ホスホネートエステル含有側鎖のアリール環への結合位置に対してメ タであるＲ２は、エーテル（ＯＲ４）またはチオエーテル（ＳＲ４）（Ｒ４は炭 素数２０までの低級アルキルまたはアラルキル置換基である）、アセトキシまた はピバロイルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシル基、アミノ基、 ジ（低級アルキル）アミノ基（各低級アルキル置換基は炭素数６までである）、 またはＮＨＳＯ２Ｒ５基（Ｒ５はトリルまたはトリフルオロメチルである）であ る〕によって表される化合物。 ７９．式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ２はエーテル（ＯＲ４）またはチオーテル（ＳＲ４）（Ｒ４は炭素数 ２０までの低級アルキルまたはアラルキル置換基である）、アセトキシまたはピ バロイルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシル基、アミノ基、ジ（ 低級アルキル）アミノ基（各低級アルキル置換基が炭素数７までである）、また はＮＨＳＯ２Ｒ５（Ｒ５はトリルまたはトリフルオロメチルである）である〕に よって表される化合物。 ８０．式： ▲数式、化学式、表等があります▼ によって表される化合物。 ８１．式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｔは総合、置換または非置換ポリシクロアルキリデン基であり；ＯＲ３ はエーテル基であり；Ｙはヒドロキシアリールエノールエーテルアルカリ金属塩 から形成される１，２−ジオキセタンの分解によって形成される発光性物質の一 部であり、エネルギーを吸収して励起状態を形成し、この状態から光学的に検出 可能なエネルギーを放出してその基底状態に戻ることができる発光性発蛍光団形 成基であり；ＡＭ＋はアルカリ金属陽イオンである〕によって表されるヒドロキ シアリールエノールエーテルアルカリ金属塩。 ８２．式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｔは総合、置換または非置換ポリシクロアルキリデン基であり；ＯＲ３ はメチル、エチル、ベンジルまたはエトキシエチルであり；Ｙはヒドロキシアリ ールエノールエーテルアルカリ金属塩から形成される１，２−ジオキセタンの分 解によって形成される発光性物質の一部であり、エネルギーを吸収して励起状態 を形成し、この状態から光学的に検出可能なエネルギーを放出してその基底状態 に戻ることができる発光性発蛍光団形成基であり；Ｘ１は水素、アルキル、ヒド ロキシアルキル、ハロ、アルコキシ、シアノ、メタンスルホニルまたはトリフル オロメチルであり；ＡＭ＋は金属陽イオンである〕によって表されるヒドロキシ アリールエノールエーテルアルカリ金属塩。 ８３．Ｔがアダマント−２−イリデン基である請求項８１または請求項２記載の ヒドロキシアリールエノールエーテルアルカリ金属塩。 ８４．ナトリウム３−（メトキシトリシクロ〔３，３，１，１３，７〕デク−２ −イリデンメチル〕フェノキシド。 ８５．リチウム３−（メトキシトリシクロ〔３，３，１，１３，７〕デク−２− イリデンメチル〕フェノキシド。 ８６．式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｔは融合、置換または非置換ポリシクロアルキリデン基であり；ＯＲ３ がエーテルであり；Ｙがヒドロキシアリールエノールエーテルアルカリ金属塩か ら形成される１，２−ジオキセタンの分解によって形成される発光性物質の一部 であり、エネルギーを吸収して励起状態を形成し、この状態から光学的に検出可 能なエネルギーを放出してその基底状態に戻ることができる、発光性発蛍光団形 成基であり；ＡＭ＋はアルカリ金属陽イオンである〕によって表されるヒドロキ シアリールエノールエーテルアルカリ金属塩の製造方法であって、次の工程： （１）式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ１はアルキル基であり、Ｒ２は反応中に実質的に変化なく留まるヒド ロキシ保護アシル基である〕 によって表される対応ジアルキル１−アルコキシ−１−アリールメタンホスホネ ートを不活性雰囲気下、低温の溶液中でアルカリ金属含有塩基と反応させる工程 ；（２）生成するホスホネート安定化α−カルバニオンを式：Ｔ＝０で表される ケトンと反応させて、その陰イオンとしてのジアルキル１−アルコキシ−１−ア リールメタンホスホネート出発物質、対応Ｒ２脱エステル化ジアニオンまたはそ の分解生成物、対応ヒドロキシアリールエノールエーテルアルカリ金属塩、およ びＲ２エステル化アリールエノールエーテルから成る混合物を形成する工程；（ ３）前記混合物を再エステル化して、再エステル化混合物からのヒドロキシアリ ールエノールエーテルアルカリ金属塩を実質的にエステル化する工程；（４）Ｒ ２再エステル化アリールエノールエーテルを分離する工程；および（５）無水条 件下で分離Ｒ２再エステル化アリールエノールエーテルに対して、エステル開裂 を実施してヒドロキシアリールエノールエーテルアルカリ金属塩を得る工程 から成る方法。 ８７．工程（１）を−２０℃以下の温度において約１〜約１．２当量のアルカリ 金属含有塩基を用いて実施し、工程（２）を低温から還流まで、１モル弱過剰な ケトンＴ＝Ｏを用いて実施し、工程（３）を約０℃〜約５０℃の温度において、 存在する全てのアリールオキシドアルカリ金属塩の総量に少なくとも等しいモル 当量である量の酸塩化物を用いて実施し、工程（４）を再結晶によって実施し、 工程（５）を室温において約１当量のアルカリ金属アルコキシドを用いて低級ア ルカノール中で実施する請求項８６記載の方法。 ８８．Ｒ２がピバロイル基であり、工程（１）で用いるアルカリ金属含有塩基が リチウムジイソプロピルアミドまたはｎ−ブチルリチウムであり、工程（３）で 用いる酸塩化物がピバロイルクロリドであり、工程（５）で用いるアルカリ金属 アルコキシドと低級アルカノールがそれぞれナトリウムメトキシドとメタノール である請求項８７記載の方法。 ８９．ジアルキル１−アルコキシ−１−アリールメタンホスホネートがジエチル １−メトキシ−１−（３−ピバロイルオキシフェニル）メタンホスホネートであ る請求項８８記載の方法。 ９０．ケトンＴ＝０が２−アダマンタノンである請求項８８または８９記載の方 法。 ９１．式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｔは縮合、置換または非置換ポリシクロアルキリデン基であり、ＯＲ３ がエーテル基であり、Ｙがヒドロキシアリールエノールエーテルアルカリ金属塩 から形成される１，２−ジオキセタンの分解によって形成される発光性物質の一 部であり、エネルギーを吸収して励起状態を形成し、この状態から光学的に検出 可能なエネルギーを放出してその基底状態に戻ることのできる発光性発蛍光団形 成基である〕 によって表されるヒドロキシアリールエノールエーテルリチオ（ｌｉｔｈｉｏ） 塩の製造方法であって、 （１）式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ１はアルキル基であり、Ｒ２は反応中に実質的に開裂されるヒドロキ シ保護アシル基である〕 によって表される対応ジアルキル１−アルコキシ−１−アリールメタンホスホネ ートを３当量のリチウムアルキル化合物と、不活性雰囲気下、低温の溶液状態で 反応させる工程；および （２）対応ホスホネート安定化α−カルバニオンを含む生成混合物に式Ｔ＝０で 表されるケトンを加えて、反応させて、ヒドロキシアリールエノールエーテルリ チオ塩を得る工程 を含む方法。 ９２．工程（１）を−２０℃以下の温度において実施し、工程（２）を低温から 還流まで１モル弱過剰なケトンＴ＝０を用いて実施する請求項９１記載の方法。 ９３．Ｒ２がアセチル基であり、工程（１）で用いるリチウムアルキル化合物が ｎ−ブチルリチウムである請求項９２記載の方法。 ９４．ジアルキル１−アルコキシ−１−アリールメタンホスホネートがジエチル １−メトキシ−１−（３−アセトキシフェニル）メタンホスホネートである請求 項９２記載の方法。 ９５．ケトンＴ＝０が２−アダマンタノンである請求項９３または９４記載の方 法。 ９６．式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｔは縮合、置換または非置換ポリシクロアルキリデン基であり、ＯＲ３ はエーテル基であり、Ｙはヒドロキシアリールエノールエーテルアルカリ金属塩 から次に形成される１，２−ジオキセタンの分解によって形成される発光性物質 の一部であり、エネルギーを吸収して励起状態を形成し、この状態から光学的に 検出可能なエネルギーを放出してその基底状態に戻ることのできる発光性発蛍光 団形成基であり、Ｅは酸素または硫黄であり、ＡＭ＋はアルカリ金属陽イオンで ある〕 によって表されるヒドロキシアリールエノールエーテルアルカリ金属塩の製造方 法であって、 式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ７は置換もしくは非置換アルキル、アルケニルまたはアラルキル基で ある〕 によって表される対応エステル化またはチオエステル化ヒドロキシアリールエノ ールエーテルに対して、アルカリ金属含有試薬による開裂を実施して、ヒドロキ シアリールエノールエーテルアルカリ金属塩またはメルカプトアリールエノール エーテルアルカリ金属塩を得ることを含む方法。 ９７．アルカリ金属含有試薬がナトリウムチオエトキシド、ヨウ化リチウム、シ アン化ナトリウムまたは一硫化ナトリウムである請求項９６記載の方法。 ９８．Ｒ７がメチルであり、Ｅが酸素であり、ヒドロキシアリールエノールエー テルアルカリ金属塩をエーテル非溶媒を用いて０℃における沈殿によって回収す る請求項９７記載の方法。 ９９．Ｒ３がピバロイルであり、Ｙがフェニルである請求項９８記載の方法。 １００．Ｔがアダマント−２−イリデンである請求項９８または９９記載の方法 。