JPH0547388B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0547388B2
JPH0547388B2 JP63137050A JP13705088A JPH0547388B2 JP H0547388 B2 JPH0547388 B2 JP H0547388B2 JP 63137050 A JP63137050 A JP 63137050A JP 13705088 A JP13705088 A JP 13705088A JP H0547388 B2 JPH0547388 B2 JP H0547388B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
thin film
substrate
roller
insulating substrate
film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP63137050A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH0284318A (en
Inventor
Shigeo Sumi
Fumio Hamamura
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Somar Corp
Original Assignee
Somar Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Somar Corp filed Critical Somar Corp
Priority to JP63137050A priority Critical patent/JPH0284318A/en
Priority to DE68925141T priority patent/DE68925141T2/en
Priority to US07/332,903 priority patent/US4961803A/en
Priority to EP89105866A priority patent/EP0336358B1/en
Priority to CA000595675A priority patent/CA1294200C/en
Priority to AT89105866T priority patent/ATE131777T1/en
Publication of JPH0284318A publication Critical patent/JPH0284318A/en
Publication of JPH0547388B2 publication Critical patent/JPH0547388B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Lining Or Joining Of Plastics Or The Like (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、薄膜の張付技術に関し、特に、基板
表面に薄膜を張り付ける薄膜の張付技術に適用し
て有効な技術に関するものである。
[Detailed Description of the Invention] [Field of Industrial Application] The present invention relates to a thin film attachment technique, and in particular, to a technique that is effective when applied to a thin film attachment technique for attaching a thin film to a substrate surface. .

〔従来技術〕[Prior art]

コンピユータ等の電子機器に使用されるプリン
ト配線板は、銅等の所定パターンの配線が絶縁性
基板の片面又は両面に形成されたものである。
2. Description of the Related Art Printed wiring boards used in electronic devices such as computers have a predetermined pattern of wiring made of copper or the like formed on one or both sides of an insulating substrate.

この種のプリント配線板は、次の製造工程によ
り製造することができる。
This type of printed wiring board can be manufactured by the following manufacturing process.

まず、絶縁性基板上に設けられた導電層(銅薄
膜)上に、感光性樹脂(フオトレジスト)層とそ
れを保護する透光性樹脂フイルム(保護膜)とか
らなる積層体フイルムを熱圧着ラミネートする。
この熱圧着ラミネートは、薄膜張付装置所謂ラミ
ネータより量産的に行われる。この後、前記積層
体フイルムに配線パターンフイルムを重ね、この
配線パターンフイルム及び透光性樹脂スイツチを
通して、感光性樹脂層を所定時間露光する。そし
て、透光性樹脂フイルムを剥離装置で剥離した
後、露光された感光性樹脂層を現像してエツチン
グマスクパターンを形成する。この後、前記導電
層の不要部分をエツチングにより除去し、さらに
残存する感光性樹脂層を除去し、所定の配線パタ
ーンを有するプリント配線板を形成する。
First, a laminate film consisting of a photosensitive resin (photoresist) layer and a transparent resin film (protective film) to protect it is thermocompression bonded onto a conductive layer (copper thin film) provided on an insulating substrate. Laminate.
This thermocompression bonding lamination is carried out in mass production using a thin film pasting device called a laminator. Thereafter, a wiring pattern film is placed on the laminate film, and the photosensitive resin layer is exposed to light for a predetermined period of time through the wiring pattern film and a translucent resin switch. After the transparent resin film is peeled off using a peeling device, the exposed photosensitive resin layer is developed to form an etching mask pattern. Thereafter, unnecessary portions of the conductive layer are removed by etching, and the remaining photosensitive resin layer is further removed to form a printed wiring board having a predetermined wiring pattern.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

しかしながら、従来の薄膜張付方法では、絶縁
性基板上に設けられた導電層上に、感光性樹脂
(フオトレジスト)層とそれを保護する透光性樹
脂フイルム(保護膜)とからなる積層体フイルム
を熱圧着ラミネートするが、前記導電層の表面に
微小の凹凸があり、導電体層表面と積層体フイル
ムをラミネートした際に前記導電層の表面の微小
凹凸部に空気が残るため、導電体層表面と積層体
フイルムとの接着面に空泡(ボイド)が発生し、
導電体層表面と積層体フイルムとの接着性が低下
するという問題があつた。
However, in the conventional thin film pasting method, a laminate consisting of a photosensitive resin (photoresist) layer and a transparent resin film (protective film) to protect it is placed on a conductive layer provided on an insulating substrate. Films are laminated by thermocompression bonding, but the surface of the conductive layer has minute irregularities, and when the conductor layer surface and the laminated film are laminated, air remains in the minute irregularities on the surface of the conductive layer. Voids occur on the adhesive surface between the layer surface and the laminate film,
There was a problem in that the adhesiveness between the surface of the conductor layer and the laminate film decreased.

また、このためプリント基板の配線の信頼性が
低下するという問題があつた。
Moreover, this also caused a problem in that the reliability of the wiring on the printed circuit board decreased.

本発明は、前記問題点を解決するためになされ
たものである。
The present invention has been made to solve the above problems.

本発明の目的は、薄膜の張付技術において、薄
膜の張り付けた基板の信頼性を向上することがで
きる技術を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a thin film pasting technique that can improve the reliability of a substrate to which a thin film is pasted.

本発明の他の目的は、プリント基板の信頼性を
向上することができる技術を提供することにあ
る。
Another object of the present invention is to provide a technique that can improve the reliability of printed circuit boards.

本発明の他の目的は、導電層が形成された基板
の導電層(銅層)表面と積層体フイルムとの接着
面に空泡が発生するのを防止することができる技
術を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a technique that can prevent air bubbles from forming on the adhesive surface between the conductive layer (copper layer) surface of the substrate on which the conductive layer is formed and the laminate film. be.

本発明の他の目的は、張付技術において、圧着
ローラの後段で薄膜が張り付けられた基板上の残
余の空泡防止剤を除去することができる技術を提
供することにある。
Another object of the present invention is to provide a technique that can remove residual anti-bubble agent on a substrate to which a thin film is attached after a pressure roller in a bonding technique.

本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特
徴は、本明細書の記述及び添付図面によつて明ら
かになるであろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

前記目的を達成するため、本発明の(1)の手
段は、基板搬送路の薄膜付着位置に基板が搬送さ
れる前の位置で薄膜に空泡防止剤を付着させ、基
板の搬送方向先端部の表面に、薄膜の供給方向先
端部を付着し、付着された位置の薄膜の先端部
に、圧着ローラを当接し、圧着ローラの回転によ
つて、前記基板を搬送すると共に、基板に薄膜を
張り付ける薄膜の張付方法であつて、前記薄膜付
着位置に基板が搬送される前の位置で当該基板に
空泡防止剤を付着させ、前記圧着ローラの後段で
薄膜が張り付けられた基板上の残余の空泡防止剤
を除去することを特徴とする。
In order to achieve the above object, the means (1) of the present invention is to apply a bubble preventive agent to the thin film at a position before the substrate is transported to the thin film attachment position of the substrate transport path, and The tip of the thin film in the supply direction is attached to the surface of the substrate, and a pressure roller is brought into contact with the tip of the thin film at the attached position, and the rotation of the pressure roller conveys the substrate and applies the thin film to the substrate. A method for attaching a thin film to be attached, in which a bubble preventive agent is attached to the substrate at a position before the substrate is transported to the thin film attachment position, and a bubble preventive agent is attached to the substrate to which the thin film is attached at a stage subsequent to the pressure roller. It is characterized by removing residual antifoaming agent.

本発明の(2)の手段は、基板搬送路の基板の
搬送方向先端部の表面に、薄膜の供給方向先端部
を付着し、この付着位置の薄膜の先端部に、圧着
ローラを当接し、圧着ローラの回転によつて、前
記基板を搬送すると共に、基板に薄膜を張り付け
る薄膜の張付装置であつて、前記薄膜付着位置に
基板が搬送される前の位置に配設された、当該基
板に空泡防止剤を付着させるウエツトローラと、
該ウエツトローラの内部から表面に向けて空泡防
止剤をほぼ均一に供給する手段と、前記圧着ロー
ラ後段で薄膜が張り付けられた基板上の残余の空
泡防止剤を除去する手段を設けたことを特徴とす
る。
The means (2) of the present invention is to attach the leading end in the feeding direction of the thin film to the surface of the leading end in the transporting direction of the substrate in the substrate transporting path, and to contact the leading end of the thin film at this adhesion position with a pressure roller, A thin film adhering device that conveys the substrate and applies a thin film to the substrate by rotation of a pressure roller, the thin film adhering device being disposed at a position before the substrate is conveyed to the thin film adhesion position. a wet roller that attaches the anti-bubble agent to the substrate;
A means for supplying the anti-foam agent almost uniformly from the inside of the wet roller toward the surface thereof, and a means for removing the anti-foam agent remaining on the substrate to which the thin film is attached after the pressure roller are provided. Features.

前記ウエツトローラの少なくともいずれか一方
の軸端の近傍に、その軸方向に摺動可能な短軸が
設けられ、該短軸を軸方向に移動させることによ
つて、前記ウエツトローラが装置本体から着脱自
在とされていることを特徴とする。
A short shaft slidable in the axial direction is provided near at least one shaft end of the wet roller, and by moving the short shaft in the axial direction, the wet roller can be freely attached to and removed from the main body of the apparatus. It is characterized by being said to be.

〔作用〕[Effect]

本発明は、前述のように基板搬送路装置の枠体
の前記付着位置以下、仮付位置というに基板が搬
送される前の位置に配設された、当該基板に空泡
防止剤を付着すうウエツトローラと、該ウエツト
ローラの内部から表面に向けて空泡防止剤をほぼ
均一に供給する手段を設けたことにより、ウエツ
トローラ全域にほぼ一様に空泡防止剤を供給し、
仮付位置に基板が搬送される前に、当該基板にほ
ぼ均一に空泡防止剤を付着させることができるの
で、導電体層表面と薄膜を密着させると共に、導
電体層表面と薄膜との接着面に空泡(ボイド)が
発生するのうを防止することができる。
As described above, the present invention provides a method for attaching a bubble preventive agent to a substrate, which is disposed below the attachment position of the frame of the substrate transport path device, at a position called a temporary attachment position, before the substrate is conveyed. By providing a wet roller and a means for supplying the anti-foam agent almost uniformly from the inside of the wet roller to the surface, the anti-foam agent can be supplied almost uniformly over the entire area of the wet roller,
Before the substrate is transported to the temporary bonding position, the anti-bubble agent can be applied almost uniformly to the substrate, so that the surface of the conductor layer and the thin film are brought into close contact, and the adhesion between the surface of the conductor layer and the thin film is improved. It is possible to prevent the formation of voids on the surface.

また、圧着ローラの後段で薄膜が張り付けられ
た基板上の残余の空泡防止剤を除去する手段を設
けたことにより、薄膜が張り付けられた基板上の
シミや汚れを除去することができるので、露光時
のパターン形成の信頼度及び歩留を向上すること
ができる。
In addition, by providing a means for removing the remaining anti-bubble agent on the substrate to which the thin film is attached after the pressure roller, it is possible to remove stains and dirt on the substrate to which the thin film is attached. The reliability and yield of pattern formation during exposure can be improved.

これにより、当該基板と薄膜との接着性を向上
すると共に、プリント基板の配線の信頼性を向上
することができる。
Thereby, it is possible to improve the adhesiveness between the substrate and the thin film, and to improve the reliability of the wiring of the printed circuit board.

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

以下、本発明をプリント配線用基板に感光性樹
脂層と透光性樹脂フイルムとからなる積層体フイ
ルムを熱圧着ラミネートする薄膜張付装置に適用
した本発明の一実施例について、図面に基づいて
詳細に説明する。
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described based on the drawings, in which the present invention is applied to a thin film pasting device for thermocompression laminating a laminate film consisting of a photosensitive resin layer and a translucent resin film to a printed wiring board. Explain in detail.

なお、実施例を説明するための全図において、
同一機能を有するものは同一符号を付け、その繰
り返しの説明は省略する。
In addition, in all the figures for explaining the examples,
Components having the same function are given the same reference numerals, and repeated explanations thereof will be omitted.

前記本発明の一実施例である薄膜張付装置を第
1図(概略構成図)で示す。
FIG. 1 (schematic configuration diagram) shows a thin film adhering device which is an embodiment of the present invention.

第1図示すように、透光性樹脂フイルム、感光
性樹脂層及び透光性樹脂フイルムの3層構造から
なる積層体スイツチ1は、供給ローラ2に連続的
に巻回されている。供給ローラ2の積層体フイル
ム1は、薄膜分離ローラ3で、透光性樹脂フイル
ム(保護膜)1Aと、一面(接着面)が露出され
た感光性樹脂層及び透光性樹脂フイルムからなる
積層体フイルム1Bとに分離される。分離された
透光性樹脂フイルム1Aは、巻取ローラ4により
巻き取られるように構成されている。
As shown in FIG. 1, a laminate switch 1 having a three-layer structure of a translucent resin film, a photosensitive resin layer, and a translucent resin film is continuously wound around a supply roller 2. The laminate film 1 of the supply roller 2 is a laminate made of a transparent resin film (protective film) 1A, a photosensitive resin layer with one side (adhesive surface) exposed, and a transparent resin film by the thin film separation roller 3. It is separated into body film 1B. The separated translucent resin film 1A is configured to be wound up by a winding roller 4.

前記薄膜分離ローラ3で分離された積層体フイ
ルム1Bの供給方向の先端部は、第1図及び第2
図(第1図の部分拡大図)に示すように、テンシ
ヨンローラ9を通してメインバキユームプレート
10に吸着されるように構成されている。
The tip of the laminate film 1B separated by the thin film separation roller 3 in the feeding direction is shown in FIGS. 1 and 2.
As shown in the figure (partially enlarged view of FIG. 1), it is configured to be attracted to a main vacuum plate 10 through a tension roller 9.

テンシヨンローラ9は、供給ローラ2とメイン
バキユームプレート(薄膜供給部材)10との間
の積層体フイルム1Bに適度なテンシヨンを与え
るように構成されている。つまり、テンシヨンロ
ーラ9は、供給される積層体フイルム1Bにしわ
等を生じないように構成されている。
The tension roller 9 is configured to apply appropriate tension to the laminate film 1B between the supply roller 2 and the main vacuum plate (thin film supply member) 10. In other words, the tension roller 9 is configured so as not to cause wrinkles or the like on the supplied laminated film 1B.

メインバキユームプレート10は、積層体フイ
ルム1Bを供給ローラ2から絶縁性基板11の導
電層(例えば、銅薄膜層)上に供給するように構
成されている。メインバキユームプレート10
は、第1図及び第2図に示すように、絶縁性基板
11に近傍しかつ離反する(矢印B方向に移動す
る)支持部材12に設けられている。支持部材1
2は、ガイド部材7Aを矢印B方向に摺動可能な
ように、装置本体(薄膜張付装置の筐体)7に設
けられている。支持部材12は、絶縁性基板11
の搬送経路を中心に、上下、一対に設けられてい
る。上部の支持部材12と下部の支持部材12と
は、ラツクアンドピニオン機構により連動的に動
作する。(両者が同時に近接又は離反する)よう
に構成されている。つまり、上下、一対の支持部
材12は、夫々に設けられたラツク12Aとこの
ラツク12Aと嵌合するピニオン12Bとで連動
的に動作する。この支持部材12の動作は、下部
の支持部材12に設けられた駆動源12Cで行わ
れる。駆動源12Cは、例えば、エアーシリンダ
で構成する。また、駆動源12Cは、油圧シリン
ダ、電磁シリンダ、ステツプモータ及びその変位
を支持部材12に伝達する伝達機構等で構成する
ことができる。
The main vacuum plate 10 is configured to supply the laminate film 1B from the supply roller 2 onto the conductive layer (eg, copper thin film layer) of the insulating substrate 11. Main vacuum plate 10
As shown in FIGS. 1 and 2, is provided on a support member 12 that is close to the insulating substrate 11 and away from it (moves in the direction of arrow B). Support member 1
2 is provided in the device main body (casing of the thin film applicator) 7 so that the guide member 7A can be slid in the direction of arrow B. The support member 12 is an insulating substrate 11
They are provided in pairs above and below the transport path. The upper support member 12 and the lower support member 12 operate in conjunction with each other by a rack and pinion mechanism. (both of them approach or move away at the same time). In other words, the pair of upper and lower support members 12 are operated in conjunction with the racks 12A provided on the respective racks 12A and the pinions 12B fitted with the racks 12A. This operation of the support member 12 is performed by a drive source 12C provided in the lower support member 12. The drive source 12C is composed of, for example, an air cylinder. Further, the drive source 12C can be configured with a hydraulic cylinder, an electromagnetic cylinder, a step motor, a transmission mechanism that transmits the displacement to the support member 12, and the like.

前記メインバキユームプレート10は、支持部
材12の移動とは独立的に、絶縁性基板11に近
接しかつ離反する(矢印C方向に移動する)よう
に支持部材12に設けられている。メインバキユ
ームプレート10は、支持部材12に設けられた
駆動源12Dと、ラツクアンドピニオン機構とで
動作するように構成されている。このラツクアン
ドピニオン機構は、駆動源12Dに設けられたピ
ニオン12E、支持部材12に設けられたラツク
12F、メインバキユームプレート10に設けら
れたラツク10Aで構成されている。駆動源12
Dは、駆動源12Cと同様のもので構成する。
The main vacuum plate 10 is provided on the support member 12 so as to approach and move away from the insulating substrate 11 (moves in the direction of arrow C) independently of movement of the support member 12. The main vacuum plate 10 is configured to operate by a drive source 12D provided on the support member 12 and a rack and pinion mechanism. This rack and pinion mechanism includes a pinion 12E provided on the drive source 12D, a rack 12F provided on the support member 12, and a rack 10A provided on the main vacuum plate 10. Drive source 12
D is composed of the same drive source 12C.

駆動源12C及び駆動源12Dは、例えば、そ
れぞれエアーシリンダで構成され、電磁式バルブ
で制御される。
The drive source 12C and the drive source 12D are each configured with an air cylinder, for example, and are controlled by an electromagnetic valve.

メインバキユームプレート10には、図示して
いないが、積層体フイルム1Bを吸着しそれを保
持する吸着孔が複数設けられている。この吸着孔
は、排気管を通して真空ポンプ等の真空源に連続
されている。メインバキユームプレート10の吸
着動作、仮付部10Eの吸着動作の夫々は、独立
に制御されるように構成されている。
Although not shown, the main vacuum plate 10 is provided with a plurality of suction holes for sucking and holding the laminated film 1B. This suction hole is connected to a vacuum source such as a vacuum pump through an exhaust pipe. The suction operation of the main vacuum plate 10 and the suction operation of the temporary attachment part 10E are configured to be independently controlled.

積層体フイルム1Bの供給方向におけるメイン
バキユームプレート10の先端部には、積層体フ
イルム1Bを吸着する面が円弧形状に形成された
仮付部10Eが設けられている。仮付部10E
は、メインバキユームプレート10と一体に構成
されている。仮付部10Eの内部には、第1図及
び第2図に示すように、円弧形状部分を加熱する
ヒータ10Fが設けられている。仮付部10E
は、メインバキユームプレート10で供給される
積層体フイルム1Bの先端部を、絶縁性基板11
の導電層上に仮り付け(仮熱圧着)するように構
成されている。
At the tip of the main vacuum plate 10 in the feeding direction of the laminate film 1B, a temporary attaching part 10E is provided, the surface of which attracts the laminate film 1B is formed in an arc shape. Temporary attachment part 10E
is constructed integrally with the main vacuum plate 10. As shown in FIGS. 1 and 2, a heater 10F for heating the arc-shaped portion is provided inside the temporary attachment portion 10E. Temporary attachment part 10E
The tip of the laminate film 1B supplied by the main vacuum plate 10 is connected to the insulating substrate 11.
It is configured to be temporarily bonded (temporary thermocompression bonded) onto the conductive layer.

なお、本発明は、メインバキユームプレート1
0と仮付部10Eとを、夫々、別部材で構成し、
両者を支持部材12で支持してもよい。
In addition, the present invention provides main vacuum plate 1.
0 and the temporary attachment part 10E are each constructed from separate members,
Both may be supported by the support member 12.

前記仮付部10Eに近接した位置、つまり、仮
付部10Eと絶縁性基板11との間の積層体フイ
ルム1Bの供給経路の近傍には、サブバキユーム
プレート(薄膜保持部材)13が設けられてい
る。サブバキユームプレート13は、吸引孔を図
示していないが、第2図に示すように、上部吸着
部13aと下部吸着部13bとを有し、コの字形
状に構成されている(このコの字部分は積層体フ
イルム1Bの切断位置の相当する)。サブバキユ
ームプレート13の上部吸着部13aは、主に、
供給方向の積層体フイルム1Bの先端部を吸着
し、仮付部10Eに吸着(保持)させるように構
成されている。サブバキユームプレート13は、
積層体フイルム1Bの先端部を仮付部10Eに吸
着可能なように、積層体フイルム1Bの供給経路
に対して近接及び離反(矢印D方向に移動)する
例えばエアーシリンダからなる駆動源13Aを介
して、支持部材12に取り付けられている。
A sub-vacuum plate (thin film holding member) 13 is provided at a position close to the temporary attachment part 10E, that is, near the supply path of the laminate film 1B between the temporary attachment part 10E and the insulating substrate 11. ing. Although the suction holes are not shown, the subvacuum plate 13 has an upper suction part 13a and a lower suction part 13b, and is configured in a U-shape, as shown in FIG. The part marked with a square corresponds to the cutting position of the laminate film 1B). The upper suction part 13a of the subvacuum plate 13 mainly consists of
It is configured to attract the leading end of the laminate film 1B in the supply direction and to adsorb (hold) it on the tacking section 10E. Subbakyum plate 13 is
Via a drive source 13A made of, for example, an air cylinder, which moves toward and away from the supply path of the laminate film 1B (moves in the direction of arrow D) so that the leading end of the laminate film 1B can be adsorbed to the temporary attachment part 10E. and is attached to the support member 12.

また、サブバキユームプレート13の下部吸着
部13bは、連続した積層体フイルム1Bを切断
装置14で切断し、この切断された積層体フイル
ム1Bの後端部を吸着し、積層体フイルム1Bの
供給経路内に保持するように構成されている。下
部吸着部13bは、熱圧着ラミネート開始後、回
転バキユームプレート15との間において、第2
図に示すように、積層体フイルム1Bにたるみを
形成する(たるみを持たせた積層体フイルム1
B′を形成する)ように構成されている。このた
るみを持たせた積層体フイルム1B′は、熱圧着
ローラ16の周速度(熱圧着ラミネート速度)に
対して、メインバキユームプレート10の積層体
フイルム1Bの供給速度を速く制御することによ
り形成することができる。両者の制御は、図示し
ていないが、シーケンス制御回路により行われる
ようになつている。
Further, the lower adsorption section 13b of the sub-vacuum plate 13 cuts the continuous laminate film 1B with the cutting device 14, and adsorbs the rear end of the cut laminate film 1B, thereby supplying the laminate film 1B. configured to remain within the path. After the start of thermocompression lamination, the lower suction part 13b is connected to the second rotary vacuum plate 15.
As shown in the figure, a slack is formed in the laminated film 1B (the laminated film 1 with slack is formed).
B′). The laminated film 1B' having this slack is formed by controlling the supply speed of the laminated film 1B of the main vacuum plate 10 to be faster than the circumferential speed of the thermocompression roller 16 (thermocompression lamination speed). can do. Although not shown, both are controlled by a sequence control circuit.

なお、サブバキユームプレート13の駆動源1
3Aとしては、エアーシリンダの他に前記駆動源
12Cと同様に、油圧シリンダ等で構成すること
ができる。
In addition, the driving source 1 of the subvacuum plate 13
In addition to an air cylinder, the drive source 3A may be configured with a hydraulic cylinder or the like, similar to the drive source 12C.

前記仮付部10Eと絶縁性基板11との間(実
際には、仮付部10Eと回転バキユームプレート
15との間)の積層体フイルム1Bの供給経路の
近傍の装置本体7には、切断装置14が設けられ
ている(固定されている)。詳述すれば、切断装
置14は、積層体フイルム1Bの後端部を切断位
置まで供給した時のサブバキユームプレート13
に対向した位置に構成されている。切断装置14
は、絶縁性基板11を搬送する前段搬送装置17
側に構成されている(又はこの前段搬送装置17
に構成してもよい)。切断装置14は、メインバ
キユームプレート10で連続的に供給される積層
体フイルム1Bを絶縁性基板11の寸法に対応し
て所定の長さに切断するように構成されている。
There is a cut in the main body 7 of the apparatus near the supply path of the laminated film 1B between the temporary attachment part 10E and the insulating substrate 11 (actually, between the temporary attachment part 10E and the rotary vacuum plate 15). A device 14 is provided (fixed). Specifically, the cutting device 14 cuts the sub-vacuum plate 13 when the rear end of the laminate film 1B is fed to the cutting position.
It is configured in a position opposite to. Cutting device 14
is a front-stage transport device 17 that transports the insulating substrate 11.
(or this front-stage conveyance device 17
). The cutting device 14 is configured to cut the laminated film 1B continuously supplied by the main vacuum plate 10 into a predetermined length corresponding to the dimensions of the insulating substrate 11.

前記第1図及び第2図に示すメインバキユーム
プレート10の仮付部10Eで絶縁性基板11の
導電層上に先端部が仮り付け(仮熱圧着)される
積層体フイルム1Bは、熱圧着ローラ16でその
全体が熱圧着ラミネートされるように構成されて
いる。熱圧着ローラ16は、積層体フイルム1B
の先端部を仮付部10Eで仮り付けする仮付動作
時には、第1図に点線で示す待避位置に配置され
ている、待避位置に配置された熱圧着ローラ16
(1)は、仮付動作時に、仮付位置に近接動作した仮
付部10Eと接触しないように構成されている。
仮付動作後の熱圧着ローラ16は、符号16(1)を
付けた点線で示す待避位置から符号16(2)を付け
た実線で示す仮付位置まで移動するように構成さ
れている。仮付位置に移動した熱圧着ローラ16
(2)は、積層体フイルム1Bを介在して絶縁性基板
11を挟持するように構成されている。
The laminate film 1B whose tip end is temporarily bonded (temporarily thermocompression bonded) onto the conductive layer of the insulating substrate 11 at the temporary attachment portion 10E of the main vacuum plate 10 shown in FIGS. 1 and 2 is thermocompression bonded. The entire body is laminated by thermocompression using rollers 16. The thermocompression roller 16 presses the laminate film 1B.
During the tacking operation of tacking the tip of the tacking section 10E, the thermocompression roller 16, which is placed at the evacuated position shown by the dotted line in FIG.
(1) is configured so as not to come into contact with the tacking portion 10E that moves close to the tacking position during the tacking operation.
After the tacking operation, the thermocompression roller 16 is configured to move from a retracted position indicated by a dotted line labeled 16(1) to a tacked position indicated by a solid line labeled 16(2). The thermocompression roller 16 moved to the temporary attachment position
(2) is configured to sandwich the insulating substrate 11 with the laminate film 1B interposed therebetween.

前記切断装置14で切断された積層体フイルム
1Bの後端部は、三角形状の回転バキユームプレ
ート15でしわ等を生じないようにガイドされ、
熱圧着ローラ16で熱圧着ラミネートされるよう
に構成されている。回転バキユームプレート15
は、熱圧着ローラ16と同一軸に支持されかつそ
れを中心に回転するように構成されており、図示
していないが、積層体フイルム1Bと対向する吸
着面には、複数の吸引孔15Aが設けられてい
る。前記吸着孔15Aが配設された吸着面の構造
は、メインバキユームプレート10の吸着面と同
様の構造になつている。図示しないが、回転バキ
ユームプレート15の上面にも吸引孔を設けても
よく、このように構成することにより、第2図に
示すように、たるみを持たせた積層体フイルム1
B′をより形成し易くすることができる。
The rear end of the laminated film 1B cut by the cutting device 14 is guided by a triangular rotating vacuum plate 15 so as not to cause wrinkles, etc.
It is configured to be laminated by thermocompression using a thermocompression roller 16. Rotating vacuum plate 15
is configured to be supported on the same axis as the thermocompression roller 16 and rotate around it, and although not shown, a plurality of suction holes 15A are provided on the suction surface facing the laminated film 1B. It is provided. The structure of the suction surface on which the suction holes 15A are arranged is similar to the suction surface of the main vacuum plate 10. Although not shown, suction holes may also be provided on the upper surface of the rotary vacuum plate 15. With this configuration, as shown in FIG.
B′ can be formed more easily.

前記絶縁性基板11は、第1図及び第2図に示
すように、駆動搬送ローラ(下段)17Aと遊動
搬送ローラ(上段)17Bとで構成される前段搬
送装置17により、薄膜張付装置の積層体フイル
ム1Bの仮付位置まで搬送される。
As shown in FIGS. 1 and 2, the insulating substrate 11 is transferred to a thin film pasting device by a pre-stage conveyance device 17 composed of a driving conveyance roller (lower stage) 17A and an idle conveyance roller (upper stage) 17B. The laminated film 1B is transported to the temporary attachment position.

前段搬送装置17には、仮付位置に基板11が
搬送される前に、当該絶縁性基板11に水(空泡
防止剤)を付着させるための水付着用ウエツトロ
ーラ装置30が設けられている。
The pre-transfer device 17 is provided with a water adhesion roller device 30 for adhering water (bubble prevention agent) to the insulating substrate 11 before the substrate 11 is transferred to the temporary attachment position.

水付着用ウエツトローラ装置30は、第3図
(第1図に示す水付着用ウエツトローラ装置の下
側のウエツトローラ部分を上から見た平面図)、
第4図(第3図の矢印Pの方向から見た図)及び
第5図(第4図のA−A線で切つた断面図)に示
すように、熱圧着ローラ16(2)の前段に、一対の
下側ウエツトローラ31A、上側ウエツトローラ
31Bが前段搬送装置17の枠体17Cに回転自
在に取り付けられている。
The wet roller device 30 for water adhesion is shown in FIG. 3 (a top plan view of the lower wet roller portion of the wet roller device for water adhesion shown in FIG. 1),
As shown in FIG. 4 (a view seen from the direction of arrow P in FIG. 3) and FIG. 5 (a cross-sectional view taken along line A-A in FIG. 4), A pair of lower wet rollers 31A and upper wet rollers 31B are rotatably attached to the frame 17C of the first-stage conveyance device 17.

一対の下側ウエツトローラ31A、上側ウエツ
トローラ31Bは、第6図(斜視図)及び第7図
(第6図に示す水供給孔(排水孔)の配置と説明
するための断面図)に示すように、例えばステン
レス、防錆処理アルミニウム等の錆にくい金属あ
るいは硬質プラスチツクからなる円筒体に複数個
の水供給孔32A,32Bが設けられた給水パイ
プ32の表面上にスポンジ等の水を含みやすい多
孔性物質からなる被覆層33が設けられたもので
ある(第5図)。
The pair of lower wet rollers 31A and upper wet rollers 31B are arranged as shown in FIG. 6 (perspective view) and FIG. 7 (cross-sectional view for explaining the arrangement of water supply holes (drainage holes) shown in FIG. 6). For example, the water supply pipe 32 is made of a cylindrical body made of rust-resistant metal such as stainless steel, anti-corrosion treated aluminum, or hard plastic and has a plurality of water supply holes 32A, 32B.The surface of the water supply pipe 32 is made of a porous material such as a sponge that easily absorbs water. A covering layer 33 made of a substance is provided (FIG. 5).

そして、前記下側ウエツトローラ31Aの給水
パイプ32に設けられている複数個の水供給孔3
2A,32Bは、それぞれ当該給水パイプ32の
径方向に水供給孔32Aと32B、水供給孔32
Bと32Bというように対向して設けられ、一対
の水供給孔32Aと一対の水供給孔32Bとは所
定の間隔で位相を90度ずらして設けられている。
なお、前記水供給孔は、千鳥状に設けてもよい。
また、一対の水供給孔32Aと一対の水供給孔3
2Bとは、所定の間隔で位相を60度あるいは120
度にずらせてもよい。
A plurality of water supply holes 3 provided in the water supply pipe 32 of the lower wet roller 31A are provided.
2A and 32B are water supply holes 32A and 32B, and water supply holes 32 in the radial direction of the water supply pipe 32, respectively.
B and 32B are provided facing each other, and the pair of water supply holes 32A and the pair of water supply holes 32B are provided with a phase shift of 90 degrees at a predetermined interval.
Note that the water supply holes may be provided in a staggered manner.
Moreover, a pair of water supply holes 32A and a pair of water supply holes 3
2B means changing the phase by 60 degrees or 120 degrees at specified intervals.
It may be shifted by degrees.

また、前記下側ウエツトローラ31Aの給水パ
イプ32は、当該下側ウエツトローラ31Aの回
転軸31A1,31A2に設けられている連結装置
34、35により着脱自在に連結されるようにな
つている。
The water supply pipe 32 of the lower wet roller 31A is detachably connected to the connecting devices 34 and 35 provided on the rotating shafts 31A 1 and 31A 2 of the lower wet roller 31A.

また、下側ウエツトローラ31Aの回転軸31
A1は、駆動搬送ローラ17Aと同期して回転す
るように同一駆動源に軸受装置31ALを介して
回転自在に接続されている。この軸受装置31
ALは、前段搬送装置17の枠体17Cに固定ネ
ジにより取り付けられている。
In addition, the rotating shaft 31 of the lower wet roller 31A
A1 is rotatably connected to the same drive source via a bearing device 31AL so as to rotate in synchronization with the drive conveyance roller 17A. This bearing device 31
The AL is attached to the frame 17C of the front-stage transport device 17 with fixing screws.

また、下側ウエツトローラ31Aのもう一方の
回転軸31A2は、軸受装置31ARによつて回転
自在に支持されている。この回転軸31A2には、
歯車36が取り付けられている。37はベアリン
グである。
Further, the other rotating shaft 31A2 of the lower wet roller 31A is rotatably supported by a bearing device 31AR. This rotating shaft 31A 2 has
A gear 36 is attached. 37 is a bearing.

前記給水パイプ32の下側ウエツトローラ31
Aの左端部には給水装置38が設けられ、右端部
には排水装置39が設けられている。同様に前記
上側ウエツトローラ31Bの給水パイプ32のウ
エツトローラ左端部には、給水装置38が設けら
れ、右端部には排水装置39が設けられている。
前記給水装置38及び排水装置39は、それぞれ
前段搬送装置17の枠体17Cに取り付けフレー
ムによつて取り付けられている。
Lower wet roller 31 of the water supply pipe 32
A water supply device 38 is provided at the left end of A, and a drainage device 39 is provided at the right end. Similarly, a water supply device 38 is provided at the left end of the water supply pipe 32 of the upper wet roller 31B, and a drain device 39 is provided at the right end.
The water supply device 38 and the drainage device 39 are each attached to the frame 17C of the front-stage conveyance device 17 by an attachment frame.

そして、前記上側ウエツトローラ31Bは、遊
動ローラであり、その給水パイプ32の両端部に
は、回転軸311及び31B2が設けられており、
これらの回転軸31B1及び31B2には、それぞ
れ枠体17Cより軟い軸受材質からなる軸受(ブ
ツシユ)40が設けられている。この上側ウエツ
トローラ31Bの軸受40は、枠体17Cに設け
られているU字溝41にはめ込まれて、着脱自在
になつている。
The upper wet roller 31B is a floating roller, and rotation shafts 31 1 and 31B 2 are provided at both ends of the water supply pipe 32.
Each of these rotating shafts 31B 1 and 31B 2 is provided with a bearing (bush) 40 made of a softer bearing material than the frame 17C. The bearing 40 of the upper wet roller 31B is fitted into a U-shaped groove 41 provided in the frame 17C and is detachable.

また、第4図に示すように、上側ウエツトロー
ラ31Bの回転軸31B2の右端には、前記回転
軸31A2に取り付けられている歯車36と噛合
する歯車70が取り付け部材71を介して取り付
けられている。
Further, as shown in FIG. 4, a gear 70 that meshes with the gear 36 attached to the rotation shaft 31A 2 is attached to the right end of the rotation shaft 31B 2 of the upper wet roller 31B via an attachment member 71. There is.

これにより、下側ウエツトローラ31Aの回転
が上側ウエツトローラ31Bに伝達されるように
なつている。
Thereby, the rotation of the lower wet roller 31A is transmitted to the upper wet roller 31B.

次に、給水装置38の(排水装置39)の詳細
な構成について説明する。
Next, the detailed configuration of the water supply device 38 (drainage device 39) will be explained.

給水装置38(排水装置39)は、第8図(要部
断面図)及び第9図(第8図のB−B線で切つた
断面拡大図)に示すように、その支持部材42に
給水パイプ32を貫通させ、○リング43で回転
自在に密封されている。そして、支持部材42の
中央部にダム44が設けられており、このダム4
4には給水孔(排水孔)45が接続され、この給
水孔45の端部には、給水口(排水口)46が設
けられている。前記ダム44の中に給水パイプ3
2に設けられている水供給孔(排水孔)32A又
は32Bが位置するように、給水パイプ32と給
水装置38(排水装置39)の支持部材42が配
置されている。
The water supply device 38 (drainage device 39) supplies water to its support member 42, as shown in FIG. The pipe 32 is passed through it and rotatably sealed with a ring 43. A dam 44 is provided at the center of the support member 42.
4 is connected to a water supply hole (drain hole) 45, and a water supply port (drain port) 46 is provided at the end of this water supply hole 45. A water supply pipe 3 is installed in the dam 44.
The water supply pipe 32 and the supporting member 42 of the water supply device 38 (drainage device 39) are arranged so that the water supply hole (drainage hole) 32A or 32B provided in the water supply pipe 32 and the water supply device 38 (drainage device 39) are located.

次に、前記連結装置34,35の詳細構成につ
いて第10図乃至第14図を用いて説明する。
Next, the detailed structure of the connecting devices 34 and 35 will be explained using FIGS. 10 to 14.

前記第10図は、連結装置34、回転軸31
A1及び軸受装置31ALの部分の要部断面図であ
る。
FIG. 10 shows the connecting device 34 and the rotating shaft 31.
FIG. 3 is a cross-sectional view of the main parts of A 1 and the bearing device 31AL.

前記回転軸31A1側の連結装置34は、第1
0図に示すように、回転軸31A1のプーリ51
が取り付けられている部分と反対側の端部中央部
にガイド溝52が回転軸31A1と一体に設けら
れている。この回転軸31A1には、ガイド溝5
2の内部からプーリ51方向に回転軸31A1
同心円のガイド穴53が設けられている。このガ
イド穴53には例えばコイル等からなるスプリン
グ54を介して連結ガイドバー55が嵌め込めれ
ている。また、前記回転軸31A1のガイド溝5
2の部分の所定位置に長形の貫通孔56が設けら
れている。この貫通孔56に摺動自在に嵌め込ま
れたストツパーピン57が連結ガイドバー55の
所定位置に設けられている(第11図)。また、
第11図に示すように、前記連結ガイドバー55
の前記給水パイプ32側の先端部には、連結突出
部材58が連結ガイドバー55と一体に設けられ
ている。
The coupling device 34 on the rotating shaft 31A 1 side is connected to the first
As shown in Figure 0, the pulley 51 of the rotating shaft 31A1
A guide groove 52 is provided integrally with the rotating shaft 31A 1 at the center of the end opposite to the portion where the rotation shaft 31A 1 is attached. This rotating shaft 31A 1 has a guide groove 5.
A guide hole 53 concentric with the rotating shaft 31A 1 is provided from the inside of the pulley 51 toward the pulley 51 . A connecting guide bar 55 is fitted into the guide hole 53 via a spring 54 made of, for example, a coil. Further, the guide groove 5 of the rotating shaft 31A1
A long through hole 56 is provided at a predetermined position in the portion 2. A stopper pin 57 that is slidably fitted into the through hole 56 is provided at a predetermined position of the connecting guide bar 55 (FIG. 11). Also,
As shown in FIG. 11, the connecting guide bar 55
A connecting protruding member 58 is provided integrally with the connecting guide bar 55 at the tip end on the water supply pipe 32 side.

また、連結装置34の給水パイプ32側は、第
12図に示すように、給水パイプ32の端部に設
けられている連結部材59の中央部に連結突起部
材60が連結部材59と一体に構成され、その連
結突起部材60の中央部に、回転軸31A1側の
連結突出部材58と係合する連結溝61が設けら
れている。
Further, on the water supply pipe 32 side of the coupling device 34, as shown in FIG. A connecting groove 61 is provided in the center of the connecting protrusion member 60 to engage with the connecting protruding member 58 on the rotating shaft 31A1 side.

また、回転軸31A2の連結装置35は、第1
3図及び第14図に示すように、回転軸31A2
の歯車36が取り付けられている部分と反対側の
先端部に連結ガイド溝62が設けられている。そ
して、連結ガイド溝62を横切るように回転軸3
1A2の径方向に連結部材63が設けられている。
Further, the coupling device 35 of the rotating shaft 31A 2 is connected to the first
As shown in Fig. 3 and Fig. 14, the rotating shaft 31A 2
A connecting guide groove 62 is provided at the tip portion opposite to the portion where the gear 36 is attached. Then, the rotating shaft 3
A connecting member 63 is provided in the radial direction of 1A2 .

また、連結装置35の給水パイプ32側は、連
結装置34と同様に、第12図に示すように、給
水パイプ32の端部に設けられている連結部材5
9の中央部に連結突起部材60が連結部材59と
一体に構成され、その連結突起部材60の中央部
に、回転軸31A2側の連結部材63と係合する
連結溝61が設けられている。
Further, the water supply pipe 32 side of the connection device 35 has a connection member 5 provided at the end of the water supply pipe 32, as shown in FIG. 12, similar to the connection device 34.
A connecting protrusion member 60 is integrally formed with the connecting member 59 at the center of the connecting protrusion 60, and a connecting groove 61 that engages with the connecting member 63 on the rotating shaft 31A2 side is provided at the center of the connecting protruding member 60. .

次に、前記連結装置34及び35の動作につい
て簡単に説明する。
Next, the operation of the coupling devices 34 and 35 will be briefly explained.

まず最初に、連結装置35の給水パイプ32側
の連結溝61と、回転軸31A2側の連結部材6
3とを係合し、前記回転軸31A1側の連結装置
34の連結突起部材60をスプリング54に抗し
て手で押し込み、回転軸31A1側の連結突出部
材58と、給水パイプ32側の連結溝61とを係
合させて手を離す。これにより、給水パイプ32
が回転軸31A1及び回転軸31A2に確実に連結
され、下側ウエツトローラ31Aが装着される。
First of all, the connecting groove 61 on the water supply pipe 32 side of the connecting device 35 and the connecting member 6 on the rotating shaft 31A2 side.
3, and push the connecting protrusion member 60 of the connecting device 34 on the rotating shaft 31A 1 side by hand against the spring 54 to connect the connecting protruding member 58 on the rotating shaft 31 A 1 side and the water supply pipe 32 side. Engage with the connecting groove 61 and release the hand. As a result, the water supply pipe 32
are securely connected to the rotating shafts 31A 1 and 31A 2 , and the lower wet roller 31A is attached.

前記下側ウエツトローラ31Aを回転軸31
A1及び回転軸31A2から外す時は、前記回転軸
31A1側の連結装置34のストツパーピン57
をスプリング54に抗して手でプーリ51側に移
動させて、連結突起部材60を押し込み、回転軸
31A1側の連結突出部材58と、給水パイプ3
2側の連結溝61との係合を外し、連結装置35
の給水パイプ32側の連結溝61と、回転軸31
A2側の連結部材63との係合を外す。
The lower wet roller 31A is connected to the rotating shaft 31.
When removing it from A 1 and the rotating shaft 31A 2 , use the stopper pin 57 of the coupling device 34 on the rotating shaft 31A 1 side.
is moved to the pulley 51 side by hand against the spring 54, and the connecting protrusion member 60 is pushed in, thereby connecting the connecting protruding member 58 on the rotating shaft 31A1 side and the water supply pipe 3.
Disengage the connection groove 61 on the 2nd side and remove the connection device 35.
The connecting groove 61 on the water supply pipe 32 side and the rotating shaft 31
Disengage the connection member 63 on the A2 side.

また、上側ウエツトローラ31Bの装着は、前
述したように、給水パイプ32の両者部に設けら
れている軸受40は、前段搬送装置17の枠体1
7Cに設けられているU字溝41にはめ込まれ
て、着脱自在になつているので、上側ウエツトロ
ーラ31Bを手で持上げて装着し、外す時も手で
持上げて取り外す。
Furthermore, when mounting the upper wet roller 31B, as described above, the bearings 40 provided on both parts of the water supply pipe 32
The upper wet roller 31B is fitted into the U-shaped groove 41 provided in the U-shaped groove 7C and is detachable, so that the upper wet roller 31B can be attached by lifting it by hand, and when it needs to be removed, it can also be removed by lifting it by hand.

また、第15図(正面図)、第16図(第15
図のC−C線で切つた断面図)及び第17図(側
面図)に示すように、前記熱圧着ローラ16(2)の
後段に、薄膜が張付けられた基板上の水を除去す
るための吸水装置80が回転自在に設けられてい
る。
Also, Fig. 15 (front view), Fig. 16 (Fig. 15
As shown in FIG. 17 (cross-sectional view taken along line C-C in the figure) and FIG. A water absorption device 80 is rotatably provided.

この吸水装置80は、第15図乃至第17図に
示すように、下吸水ローラ81Aと上吸水ローラ
81Bの一対の水吸引ローラを備えている。この
下吸水ローラ81Aと上吸水ローラ81Bは、ぞ
れぞれ、排水孔82Aを有する排水パイプ82の
表面上にスポンジ等の多孔性物質からなる吸水層
83が被覆されたものである。その吸水層83の
両端には、排水装置84が設けられている。この
排水装置84は、第8図及び第9図に示す給水装
置と同様の構成になつている。そして、この排水
装置84は、支持部材85に取り付けピン(回転
軸となる)86により回転軸自在に取り付けられ
ている。この支持部材85は、エアーシリンダ8
7により移動制御される支持フレーム88に取り
付けられている。この支持フレーム88は、スラ
イドガイド部材88Aを介して支持フレーム88
Bに摺動自在に支持されている。支持フレーム8
8Bは装置本体の枠体に取り付けられている。
As shown in FIGS. 15 to 17, this water absorption device 80 includes a pair of water suction rollers, a lower water absorption roller 81A and an upper water absorption roller 81B. The lower water-absorbing roller 81A and the upper water-absorbing roller 81B each have a water-absorbing layer 83 made of a porous material such as sponge coated on the surface of a drainage pipe 82 having a drainage hole 82A. A drainage device 84 is provided at both ends of the water absorption layer 83. This drainage device 84 has a similar structure to the water supply device shown in FIGS. 8 and 9. The drainage device 84 is attached to a support member 85 with a mounting pin 86 (which serves as a rotation axis) such that it can rotate freely. This support member 85 is connected to the air cylinder 8
It is attached to a support frame 88 whose movement is controlled by 7. This support frame 88 is connected to the support frame 88 via a slide guide member 88A.
It is slidably supported by B. Support frame 8
8B is attached to the frame of the main body of the device.

また、排水パイプ82の排水装置84の両端部
の位置にカラー89を介在してフリーローラ90
が設けられている。このフリーローラ90は、前
記下吸水ローラ81Aと上吸水ローラ81Bを熱
圧着ローラ16(2)の回転に追従して回転させるた
めのものであり、熱圧着ローラ16(2)の回転に追
従して引き込まれると共に回転させられるように
なつている。すなわち、フリーローラ90は、使
用されるときには前記エアシリンダ87により熱
圧着ローラ16(2)に接触するまで近接される。ま
た、下吸水ローラ81Aのフリーローラ90と上
吸水ローラ81Bのフリーローラ90は、それぞ
れ取り付けられているが位置がずれており、回転
時に互いにぶつかり合わないようになつている。
In addition, collars 89 are interposed at both ends of the drainage device 84 of the drainage pipe 82, and a free roller 90
is provided. This free roller 90 is for rotating the lower water absorption roller 81A and the upper water absorption roller 81B following the rotation of the thermocompression bonding roller 16(2). It is designed so that it can be pulled in and rotated. That is, when the free roller 90 is used, it is brought close to the thermocompression roller 16(2) by the air cylinder 87 until it comes into contact with the thermocompression roller 16(2). Moreover, the free roller 90 of the lower water absorption roller 81A and the free roller 90 of the upper water absorption roller 81B are respectively attached, but their positions are shifted so that they do not collide with each other during rotation.

また、下吸水ローラ81A、上吸水ローラ81
B及びフリーローラ90とが一体となつて熱圧着
ローラ16(2)の回転に追従して回転させられる回
転力に抗して、これらをもとの位置にもどすた
め、それぞれの支持部材85間に、支持部材85
を引き付ける引張りバネ91が設けられている。
In addition, the lower water absorption roller 81A, the upper water absorption roller 81
B and the free roller 90 are integrally rotated following the rotation of the thermocompression roller 16(2), and in order to resist the rotational force and return them to their original positions, the support members 85 are , the support member 85
A tension spring 91 is provided that attracts.

前記排水装置84は、吸引装置により吸引され
るようになつている。
The drainage device 84 is adapted to be suctioned by a suction device.

このように、前記熱圧着ローラ16(2)の後段
に、薄膜が張付られた基板上の水を除去するため
の吸水装置80が回転自在に設けられていること
によつり、絶縁性基板11に張付けられた積層フ
イルム1B上に水球跡等のシミや汚れが発生しな
いので、露光によるパターン形成の信頼性及び歩
留を向上することができる。
In this way, the water absorbing device 80 for removing water on the substrate to which the thin film is attached is rotatably provided downstream of the thermocompression roller 16(2). Since stains and stains such as water drop marks do not occur on the laminated film 1B attached to the film 11, the reliability and yield of pattern formation by exposure can be improved.

また、第1図及び第2図に示すように、メイン
バキユームプレート10の上に、積層体フイルム
1Bを仮圧着した後、積層体フイルム1Bをメイ
ンバキユームプレート10から離すためのエア吹
き付けノズル100が配置されている。
Further, as shown in FIGS. 1 and 2, after the laminate film 1B is temporarily pressed onto the main vacuum plate 10, an air blowing nozzle is used to separate the laminate film 1B from the main vacuum plate 10. 100 are arranged.

エア吹き付けノズル100は、第18図に示す
ように、エア吹き付け速度調整器を101を介し
て圧縮空気発生器102に接続され、必要に応じ
てエア吹き付け速度を調整するようになつてい
る。
As shown in FIG. 18, the air blowing nozzle 100 is connected to a compressed air generator 102 via an air blowing speed regulator 101 to adjust the air blowing speed as necessary.

前記エア吹き付けノズル100を設ける理由
は、絶縁性基板11に水を塗布して積層体フイル
ム1Bをメインバキユームプレート10の先端部
に設けられている仮付部10Eの先端が水にぬ
れ、かつ水蒸気が仮付部10E及びメインバキユ
ームプレート10により冷やされて露結すること
により、仮付部10E及びメインバキユームプレ
ート10に積層体フイルム1Bが付着し、メイン
バキユームプレート10の移動に追従して、せつ
かく仮付した絶縁性基板11から積層体フイルム
1Bが剥離してしまうからである。この剥離を防
止するために設けてある。
The reason why the air blowing nozzle 100 is provided is that the insulating substrate 11 is coated with water and the laminate film 1B is attached so that the tip of the temporary attaching part 10E provided at the tip of the main vacuum plate 10 gets wet with water, and As the water vapor is cooled and condensed by the temporary attachment part 10E and the main vacuum plate 10, the laminate film 1B adheres to the temporary attachment part 10E and the main vacuum plate 10, and follows the movement of the main vacuum plate 10. This is because the laminate film 1B will peel off from the insulating substrate 11 to which it has been temporarily attached. This is provided to prevent this peeling.

前記第18図において、103はポンプユニツ
ト、105は下側ウエツトローラ31A及び上側
ウエツトローラ31Bに供給する水の流量を調整
する流量調整バルブ、106は吸引流から水を除
去するためのトラツプ、107は水受皿である。
In FIG. 18, 103 is a pump unit, 105 is a flow rate adjustment valve that adjusts the flow rate of water supplied to the lower wet roller 31A and upper wet roller 31B, 106 is a trap for removing water from the suction flow, and 107 is a water valve. It is a saucer.

また、第18図に示すように、下側ウエツトロ
ーラ31Aが搬送ローラ駆動用ベルトによつて回
転され、これにより上側ウエツトローラ31Bが
回転し、絶縁性基板11が搬送されることにより
回転して絶縁性基板11の表面に水が塗布され
る。その際に余つた水は、水受皿107に受け取
られ、排水ホースを通してポンプユニツト103
に送られるようになつている。また、熱圧着ロー
ラ16(2)によつて絶縁性基板11と積層体フイル
ム1B′が接着される際に除去される水及び積層
体フイルム1B′っが接着された絶縁性基板11
に付着している水も水受皿107に受け取られ、
排水ホースを通してポンプユニツト103に送ら
れるようになつている。
Further, as shown in FIG. 18, the lower wet roller 31A is rotated by the transport roller driving belt, which causes the upper wet roller 31B to rotate, and as the insulating substrate 11 is transported, it rotates and becomes insulating. Water is applied to the surface of the substrate 11. The remaining water at that time is received in the water tray 107 and passed through the drainage hose to the pump unit 103.
It is now being sent to In addition, water removed when the insulating substrate 11 and the laminate film 1B' are bonded together by the thermocompression roller 16(2) and the insulating substrate 11 to which the laminate film 1B' is bonded are removed.
The water adhering to the water is also received by the water tray 107,
The water is sent to the pump unit 103 through a drainage hose.

また、下側ウエツトローラ31A及び上側ウエ
ツトローラ31Bへの流量の制御は、第18図に
示すように、ポンプユニツト103からの水の流
量を流量調整用バルブ105で調整してから、下
側ウエツトローラ31A及び上側ウエツトローラ
31Bに水を供給する。
Further, the flow rate to the lower wet roller 31A and the upper wet roller 31B is controlled by adjusting the flow rate of water from the pump unit 103 with the flow rate adjustment valve 105, as shown in FIG. Water is supplied to the upper wet roller 31B.

このように、仮付位置に絶縁性基板11及び積
層体フイルム1B′が搬送される前に、水付着用
ウエツトローラ装置30の下側ウエツトローラ3
1A、上側ウエツトローラ31Bにより、当該絶
縁性基板11に水等の空泡防止剤を付着させ、絶
縁性基板11の搬送方向先端部の表面に、仮付部
10Eに当接させて積層体フイルム1B′の供給
方向先端部を仮り付けし、前記仮付部10Eを絶
縁性基板11の表面から離反した後に、仮り付け
された仮付位置の積層体フイルム1B′の先端部
に熱圧着ローラ16(2)を当接し、熱圧着ローラ1
6(2)を回転させて、前記絶縁性基板11を搬送す
ると共に、絶縁性基板11に積層体フイルム1
B′を張り付けることによつり、絶縁性基板11
の導電体層表面と積層体フイルム1B′をラミネ
ートした際に前記導電層の表面に微小の凹部に溜
つた水が空泡を除去すると共に、積層体フイルム
1B′のフオトレジスト(水溶性の感光性樹脂の
場合)を溶かして接着剤の役目をするので、導電
体層表面と積層体フイルム1B′を密着させると
共に、導電体層表面と積層体フイルム1B′との
接着面に空泡(ボイド)が発生するのを防止する
ことができる。
In this way, before the insulating substrate 11 and the laminate film 1B' are conveyed to the temporary attachment position, the lower wet roller 3 of the water adhesion wet roller device 30 is
1A, an anti-bubble agent such as water is applied to the insulating substrate 11 using the upper wet roller 31B, and the laminated film 1B is brought into contact with the temporary attaching portion 10E on the surface of the tip of the insulating substrate 11 in the conveyance direction. After tacking the tip of the laminate film 1B' in the feeding direction and separating the tacking portion 10E from the surface of the insulating substrate 11, a thermocompression roller 16( 2) and press the thermocompression roller 1.
6(2) to convey the insulating substrate 11 and to place the laminate film 1 on the insulating substrate 11.
By pasting B', the insulating substrate 11
When the surface of the conductive layer and the laminate film 1B' are laminated, the water accumulated in the minute recesses on the surface of the conductive layer removes air bubbles and removes the photoresist (water-soluble photosensitive material) of the laminate film 1B'. In the case of a conductor layer surface and the laminated film 1B', it melts the resin and acts as an adhesive, so it not only makes the surface of the conductor layer and the laminated film 1B' stick together, but also creates voids in the adhesive surface between the surface of the conductor layer and the laminated film 1B'. ) can be prevented from occurring.

これにより、当該絶縁性基板11と積層体フイ
ルム1B′との接着性を向上すると共に、プリン
ト基板の配線の信頼性を向上することができる。
Thereby, it is possible to improve the adhesiveness between the insulating substrate 11 and the laminate film 1B', and to improve the reliability of the wiring on the printed circuit board.

また、積層体フイルム1Bのフオトレジスト
(感光性樹脂)としては水溶液のものが好適であ
る。
Further, as the photoresist (photosensitive resin) of the laminate film 1B, an aqueous solution is suitable.

また、空泡防止剤付着剤としては、水に表面張
力調整剤、銅表面接着剤等を添加して行う場合も
ある。
Further, as the anti-bubble agent adhesive, a surface tension adjusting agent, a copper surface adhesive, etc. may be added to water in some cases.

第1図に示すように、前段搬送装置17には仮
付位置よりも前の基板搬送経路の近傍(基板先端
部検出位置)に、絶縁性基板11の搬送方向先端
部の位置を検出する検出センサS1が配置されて
いる。この検出センサS1は、絶縁性基板11の
搬送方向先端部を検出すると、マイクロコンピユ
ータ(CPU)のプリセツトカウンタの動作を開
始させる検出信号を出力するように構成されてい
る。プリセツトカウンタは、予じめ人為的に設定
された所要寸法を計数すると、絶縁性基板11の
搬送方向先端部を仮付位置に停止させる制御信号
を出力するように構成されている。検出センサS
1は、例えば光電スイツチで構成する。
As shown in FIG. 1, the front-stage transport device 17 has a sensor that detects the position of the leading end of the insulating substrate 11 in the transport direction near the substrate transport path (substrate leading edge detection position) before the temporary attachment position. A sensor S1 is arranged. This detection sensor S1 is configured to output a detection signal that starts the operation of a preset counter of a microcomputer (CPU) when detecting the leading end of the insulating substrate 11 in the transport direction. The preset counter is configured to output a control signal to stop the leading end of the insulating substrate 11 in the conveyance direction at the temporary attachment position when the preset required dimension is artificially set in advance. Detection sensor S
1 is composed of, for example, a photoelectric switch.

また、前段搬送装置17には、前記検出センサ
S1よりも前の基板搬送経路の近傍(基板後端部
検出位置)に、絶縁性基板11の搬送方向後端部
の位置を検出する検出センサS2が配置されてい
る。この検出センサS2は、検出センサS1と同
様に、絶縁性基板11の搬送方向後端部を検出す
ると、CPUのプリセツトカウンタの動作を開始
させる検出信号を出力するように構成されてい
る。プリセツトカウンタは予じめ人為的に設定さ
れた所要時間を経過すると、供給方向後端部の積
層体フイルム1Bにたるみ部1B′を形成し、積
層体フイルム1Bの切断位置を切断位置を切断装
置14で切断し、この切断された積層体フイルム
1Bの供給方向後端部を絶縁性基板11に熱圧着
ラミネートする制御信号を出力するように構成さ
れている。さらに、プリセツトカウンタは、積層
体フイルム1Bの供給方向後端部を絶縁性基板1
1に熱圧着ラミネートすると共に、熱圧着ローラ
16を仮付位置から待避位置の近傍まで移動させ
る制御信号を出力するように構成されている。検
出センサS2は、検出センサS1と同様に、例え
ば光電スイツチで構成する。
The front-stage transport device 17 also includes a detection sensor S2 that detects the position of the rear end of the insulating substrate 11 in the transport direction near the substrate transport path (substrate rear end detection position) before the detection sensor S1. is located. Similar to the detection sensor S1, the detection sensor S2 is configured to output a detection signal that starts the operation of the preset counter of the CPU when the rear end of the insulating substrate 11 in the conveying direction is detected. When the required time set artificially in advance has elapsed, the preset counter forms a slack portion 1B' in the rear end of the laminated film 1B in the feeding direction, and cuts the laminated film 1B at the cutting position. It is configured to output a control signal for cutting the laminated film 1B by the device 14 and laminating the cut laminate film 1B on the insulating substrate 11 by thermocompression bonding the rear end portion in the feeding direction. Furthermore, the preset counter sets the rear end of the laminate film 1B in the feeding direction to the insulating substrate 1.
1 and outputs a control signal to move the thermocompression roller 16 from the temporary attachment position to the vicinity of the retreat position. The detection sensor S2 is configured, for example, by a photoelectric switch, similarly to the detection sensor S1.

また、搬送ローラ(下段)18Aと搬送ローラ
(上段)18Bとで構成される後段搬送装置18
は、薄膜張付装置の熱圧着ローラ16で積層体フ
イルム1Bが熱圧着ラミネートされた絶縁性基板
11を配線パターンを形成する露光装置まで搬送
するように構成されている。
In addition, a rear conveyance device 18 composed of a conveyance roller (lower stage) 18A and a conveyance roller (upper stage) 18B.
The insulating substrate 11, on which the laminate film 1B is laminated by thermocompression bonding, is conveyed to an exposure device for forming a wiring pattern using a thermocompression roller 16 of a thin film pasting device.

前記メインバキユームプレート10の仮付部1
0Eの移動経路(薄膜供給経路)近傍の装置本体
7(又は前段搬送装置17、或いは支持部材1
2)には、第1図及び第2図に示すように、薄膜
矯正装置19が設けられている。薄膜矯正装置1
9は、仮付部10Eに密着させる方向(矢印G方
向)に積層体フイルム1B′の供給方向の先端部
を矯正するように構成されている。薄膜矯正装置
19は、積層体フイルム1Bの幅方向に延在して
設けられた流体搬送管19Aと、この流体搬送管
19Aに複数設けられた流体吹付孔19Bとで構
成されている。
Temporary attachment part 1 of the main vacuum plate 10
The apparatus main body 7 (or the front-stage conveyance device 17, or the support member 1) near the movement path (thin film supply path) of 0E
2) is provided with a thin film correction device 19, as shown in FIGS. 1 and 2. Thin film correction device 1
9 is configured to straighten the leading end of the laminate film 1B' in the feeding direction in the direction of bringing it into close contact with the temporary attachment part 10E (in the direction of arrow G). The thin film straightening device 19 includes a fluid transport pipe 19A extending in the width direction of the laminated film 1B, and a plurality of fluid spray holes 19B provided in the fluid transport pipe 19A.

流体搬送管19Aは、内部が中空に構成されて
おり、常圧より高圧力の流体を流すように構成さ
れている。流体搬送管19Aの断面形状は、本実
施例では略円形状に構成されているが、これに限
定されず、方形状又は楕円形状に構成してもよ
い。
The fluid transport pipe 19A has a hollow interior and is configured to flow fluid at a pressure higher than normal pressure. Although the fluid transport pipe 19A has a substantially circular cross-sectional shape in this embodiment, the cross-sectional shape is not limited to this, and may be rectangular or elliptical.

流体吹付孔19Bは、積層体フイルム1Bを矯
正する方向に流体を吹付けるように設けられてい
る。
The fluid spray holes 19B are provided so as to spray fluid in a direction to straighten the laminated film 1B.

薄膜矯正装置19で使用する流体としては、空
気を使用する。また、流体としては、不活性ガス
等の気体、水、油等の液体を用いてもよい。
As the fluid used in the thin film correction device 19, air is used. Further, as the fluid, a gas such as an inert gas, or a liquid such as water or oil may be used.

さらに、サブバキユームプレート13の下部吸
着部13bと回転バキユームプレート15との間
に供給される積層体フイルム1B′に近接した装
置本体7(又は前段搬送装置17、或いは支持部
材12)には、第1図及び第2図に示すように、
薄膜突出装置20が設けられている。つまり、薄
膜突出装置20は、熱圧着ローラ16に密着させ
る方向(矢印H方向)に前記たるみを持たせた積
層体フイルム1B′を形成するように構成されて
いる。薄膜突出装置20は、積層体フイルム1B
の供給幅方向に延在して設けられた液体搬送管2
0Aと、この流体搬送管20Aに複数設けられた
流体吹付孔20Bとで構成されている。
Furthermore, the apparatus main body 7 (or the front-stage conveyance device 17, or the support member 12) near the laminated film 1B' supplied between the lower suction part 13b of the sub-vacuum plate 13 and the rotating vacuum plate 15 is , as shown in Figures 1 and 2,
A thin film ejection device 20 is provided. That is, the thin film ejecting device 20 is configured to form the laminated film 1B' with the slack in the direction of bringing it into close contact with the thermocompression roller 16 (in the direction of arrow H). The thin film protrusion device 20 is a laminate film 1B.
A liquid conveying pipe 2 provided extending in the supply width direction of
0A, and a plurality of fluid spray holes 20B provided in this fluid transport pipe 20A.

流体搬送管20Aは、内部が中空に構成されて
おり、常圧よりも高圧力の流体を流すように構成
されている。流体搬送管20Aの断面形状は、本
実施例では略円形状に構成されているが、流体は
搬送管19Aと同様に、これに限定されず、方形
状又は楕円形状に構成してもよい。
The fluid transport pipe 20A has a hollow interior and is configured to flow fluid at a pressure higher than normal pressure. Although the cross-sectional shape of the fluid transport pipe 20A is configured to be approximately circular in this embodiment, the fluid is not limited to this like the transport pipe 19A, and may be configured to have a rectangular or elliptical shape.

流体吹付孔20Bは、積層体フイルム1B′の
前記たるみを前述のように突出させる方向に流体
を吹き付けるように設けられている。
The fluid spray holes 20B are provided so as to spray fluid in a direction that causes the slack of the laminated film 1B' to protrude as described above.

薄膜突出装置20で使用する流体としては、薄
膜矯正装置19と同様に、空気を使用する。ま
た、流体としては、不活性ガス等の気体、水、油
等の液体を用いてもよい。
As the fluid used in the thin film ejection device 20, air is used as in the thin film correction device 19. Further, as the fluid, a gas such as an inert gas, or a liquid such as water or oil may be used.

なお、本発明は、薄膜矯正装置19又は薄膜突
出装置20を、積層体フイルム1Bの幅方向に複
数設けられた積層体フイルム1Bを前述の如く適
正な方向に矯正又は突出させるように、流体を吹
き付ける流体吹付ノズルで構成してもよい。
In addition, in the present invention, the thin film straightening device 19 or the thin film protruding device 20 is configured to apply a fluid so as to straighten or protrude a plurality of laminate films 1B provided in the width direction of the laminate film 1B in an appropriate direction as described above. It may be configured with a fluid spray nozzle.

また、本発明は、薄膜矯正装置19又は薄膜突
出装置20を、積層体フイルム1Bの幅方向に複
数設けられた積層体フイルム1Bを前述の如く適
正な方向に矯正又は突出させるように、流体を吹
き付ける流体吹付ノズルで構成してもよい。
Further, the present invention uses the thin film straightening device 19 or the thin film protruding device 20 to apply fluid so as to straighten or protrude a plurality of laminate films 1B provided in the width direction of the laminate film 1B in an appropriate direction as described above. It may be configured with a fluid spray nozzle.

また、本発明、薄膜矯正装置19又は薄膜突出
装置20を、積層体フイルム1Bの幅方向に延在
して設けられた吸引管と、この吸引管に複数設け
られた積層体フイルム1Bを前述の如く適正な方
向に矯正又は突出させる方向に吸引する吸引孔と
で構成してもよい。
In addition, according to the present invention, the thin film correction device 19 or the thin film protrusion device 20 is provided by a suction tube extending in the width direction of the laminate film 1B and a plurality of laminate films 1B provided in this suction tube. It may also be configured with a suction hole that sucks in a direction that corrects or protrudes in an appropriate direction.

また、本発明は、薄膜矯正装置19又は薄膜突
出装置20を、積層体フイルム1Bを前述の如く
適正な方向に矯正又は突出させる突状部材で構成
してもよい。
Further, in the present invention, the thin film straightening device 19 or the thin film protruding device 20 may be constituted by a protruding member that straightens or protrudes the laminated film 1B in an appropriate direction as described above.

また、本発明は、薄膜矯正装置19を薄膜突出
装置20で、若しくは薄膜突出装置20を薄膜矯
正装置19で兼用することも可能である。
Further, in the present invention, the thin film straightening device 19 can also be used as the thin film protruding device 20, or the thin film protruding device 20 can also be used as the thin film straightening device 19.

前記仮付位置に配置される熱圧着ローラ16(2)
と後段搬送装置18の駆動搬送ローラ18Aとの
間の装置本体7(又は後段搬送装置18)には、
第1図及び第2図に示すように、基板ガイド部材
21が設けられている。基板ガイド部材21は、
積層体フイルム1Bが熱圧着ラミネートされた絶
縁性基板11を、熱圧着ラミネート位置(仮付位
置)から搬送ローラ18A及び18Bの位置まで
ガイドするように構成されている。基板ガイド部
材21は、例えば、絶縁性基板11の搬送方向に
延在する棒状部をその搬送幅方向に複数配置した
クシ型形状で構成する。クシ型形状に構成された
基板ガイド部材21は、絶縁性基板11の搬送に
際して、絶縁性基板11との接触面積を小さくし
摩擦抵抗を小さくできるので、スムーズに絶縁性
基板11をガイドすることができる。
The thermocompression roller 16(2) placed at the temporary attachment position
In the device main body 7 (or the subsequent conveyance device 18) between the drive conveyance roller 18A of the second conveyance device 18,
As shown in FIGS. 1 and 2, a substrate guide member 21 is provided. The board guide member 21 is
It is configured to guide the insulating substrate 11 on which the laminate film 1B is thermocompression laminated from the thermocompression lamination position (temporary attachment position) to the positions of the transport rollers 18A and 18B. The substrate guide member 21 has, for example, a comb-like shape in which a plurality of rod-shaped portions extending in the transport direction of the insulating substrate 11 are arranged in the transport width direction. The comb-shaped substrate guide member 21 can reduce the contact area with the insulating substrate 11 and reduce frictional resistance when transporting the insulating substrate 11, so that it can guide the insulating substrate 11 smoothly. can.

なお、本発明は、基板ガイド部材21を網状構
造或いは板状構造で構成してもよい。
Note that in the present invention, the substrate guide member 21 may have a net-like structure or a plate-like structure.

次に、本実施例の薄膜張付装置による積層体フ
イルム1Bの熱圧着ラミネート方法について、第
1図及び第2図を用いて簡単に説明する。
Next, a method of thermocompression laminating the laminate film 1B using the thin film pasting apparatus of this embodiment will be briefly described with reference to FIGS. 1 and 2.

まず、最初に、第1図及び第2図に示すよう
に、手作業により、薄膜分離ローラ3で分離され
た積層体フイルム1Bの供給方向の先端部を、サ
ブバキユームプレート13と切断装置14との間
に配置する。
First, as shown in FIGS. 1 and 2, the leading end in the feeding direction of the laminate film 1B separated by the thin film separation roller 3 is manually cut between the sub-vacuum plate 13 and the cutting device 14. Place it between.

次に、サブバキユームプレート13で積層体フ
イルム1Bの先端部を吸着する。積層体フイルム
1Bの吸着後、駆動源13Aで積層体フイルム1
Bの供給経路から離反する位置にサブバキユーム
プレート13を移動させ、仮付部10Eに積層体
フイルム1Bの先端部を吸着させる。この時、メ
インバキユームプレート10及び仮付部10Eの
吸着動作が行われると共に、薄膜矯正装置19で
積層体フイルム1Bを矯正できるので、仮付部1
0Eに積層体フイルム1B′の先端部を確実に吸
着させることができる。なお、連続動作が行われ
ている時は、切断装置14で切断された積層体フ
イルム1Bの先端部が仮付部10Eに吸着され
る。
Next, the tip of the laminate film 1B is sucked by the sub-vacuum plate 13. After adsorption of the laminate film 1B, the laminate film 1 is moved by the driving source 13A.
The sub-vacuum plate 13 is moved to a position away from the supply path of B, and the tip of the laminate film 1B is attracted to the temporary attachment part 10E. At this time, the suction operation of the main vacuum plate 10 and the temporary attachment part 10E is performed, and the thin film straightening device 19 can straighten the laminate film 1B.
The leading end of the laminate film 1B' can be reliably attracted to 0E. Incidentally, when the continuous operation is performed, the leading end of the laminated film 1B cut by the cutting device 14 is attracted to the temporary attachment part 10E.

次に、前段搬送装置17の駆動搬送ローラ17
A及び遊動搬送ローラ17Bで絶縁性基板11が
搬送される。
Next, the drive conveyance roller 17 of the front conveyance device 17
The insulating substrate 11 is transported by the floating transport rollers 17A and 17B.

そして、絶縁性基板11が仮付位置に搬送され
る前に、下側ウエツトローラ31A、上側ウエツ
トローラ31Bにより、絶縁性基板11の表面に
水を塗布する。
Then, before the insulating substrate 11 is transported to the temporary attachment position, water is applied to the surface of the insulating substrate 11 by the lower wet roller 31A and the upper wet roller 31B.

次に、絶縁性基板11の搬送方向の先端部が、
基板先端部検出位置を通過した時に、検出センサ
S1が作動し、その位置が検出される。この検出
センサS1の検出信号は、CPUに入力され、プ
リセツトカウンタを作動させる。このプリセツト
カウンタは、絶縁性基板11の搬送方向先端部を
仮付位置に停止させる。予じめ設定された所定時
間をカウントする。
Next, the tip of the insulating substrate 11 in the transport direction is
When passing the substrate tip detection position, the detection sensor S1 is activated and the position is detected. The detection signal of this detection sensor S1 is input to the CPU and operates a preset counter. This preset counter stops the leading end of the insulating substrate 11 in the transport direction at the temporary attachment position. A predetermined time set in advance is counted.

さらに、検出センサS1の検出信号は、CPU
の他のプリセツトカウンタを作動させる。この他
のプリセツトカウンタは、絶縁性基板11の搬送
方向先端部が基板先端部検出位置から仮付位置ま
で搬送される最中に、仮付部10Eを搬送経路に
近接いづさせるその開始時間をカウントするよう
に構成されている。
Furthermore, the detection signal of the detection sensor S1 is
Activate other preset counters. Another preset counter is used to set the start time for bringing the tacking section 10E close to the conveying path while the leading edge of the insulating substrate 11 in the conveying direction is being conveyed from the substrate tip detection position to the tacking position. configured to count.

この状態においては、仮付部10E(メインバ
キユームプレート10)は仮付動作の開始位置に
位置し、熱圧着ローラ16は待避位置に配置れる
ようになつている。仮付動作の開始位置は、上
下、夫々の支持部材12が基板搬送経路に最も近
接し停止している状態において、メインバキユー
ムプレート10を移動させる駆動源12Dが作動
している位置である。
In this state, the temporary attachment part 10E (main vacuum plate 10) is located at the start position of the temporary attachment operation, and the thermocompression roller 16 is arranged at the retracted position. The start position of the tacking operation is a position where the drive source 12D for moving the main vacuum plate 10 is activated while the upper and lower support members 12 are stopped closest to the substrate transport path.

次に、基板先端部検出位置から仮付位置まで絶
縁性基板11の搬送方向先端部を搬送中に、仮付
部10Eの近接動作が開始する。この仮付部10
Eの近接動作は、前述他のプリセツトカウンタの
出力信号に基づき、CPUで駆動源12Dを制御
することにより開始される。
Next, while the leading end portion of the insulating substrate 11 in the transport direction is being transported from the substrate leading end detection position to the tacking position, the tacking unit 10E starts approaching. This temporary attachment part 10
The proximity operation of E is started by controlling the drive source 12D by the CPU based on the output signal of the other preset counter mentioned above.

次に、前記プリセツトカウンタの出力信号に基
づき、絶縁性基板11の搬送方向先端部が仮付位
置に達すると、絶縁性基板11の搬送が停止され
る。この絶縁性基板11の停止と実質的に同時、
或いはそれよりも若干遅れて、絶縁性基板11の
導電層上の搬送方向先端部に、近接移動する仮付
部10Eが当接し、仮付部10Eに吸着された積
層体フイルム1Bの先端部を仮り付け(仮熱圧
着)する。
Next, based on the output signal of the preset counter, when the leading end of the insulating substrate 11 in the conveyance direction reaches the temporary attachment position, the conveyance of the insulating substrate 11 is stopped. Substantially at the same time as this insulating substrate 11 stops,
Or, a little later than that, the tacking part 10E that moves close comes into contact with the leading end in the conveying direction on the conductive layer of the insulating substrate 11, and the leading end of the laminate film 1B adsorbed by the tacking part 10E is pulled. Temporary bonding (temporary thermocompression bonding).

このように、積層体フイルム1Bの張付方法に
おいて、前記仮付位置に搬送される前の基板先端
部検出位置で絶縁性基板11の搬送方向先端部を
検出し、この検出信号によつて、絶縁性基板11
の搬送方向先端部を基板先端部検出位置から仮付
位置まで搬送した後に停止させると共に、絶縁性
基板11の搬送方向先端部を検出位置から仮付位
置まで搬送中に、前記仮付部10Eを基板搬送経
路に近接させ、前記絶縁性基板11の搬送方向先
端部を仮付位置に停止させた後に、前記仮付部1
0Eで絶縁性基板11の導電層上に積層体フイル
ム1B供給方向先端部を仮り付したことにより、
絶縁性基板11の搬送方向先端部を基板先端部検
出位置から仮付位置まで搬送する時間内に、仮付
部10Eを搬送経路に近接動作させる時間の一部
を組込ませ、仮付部10Eの近接移動する実質的
な時間(仮付位置において、絶縁性基板11の搬
送方向先端部の停止から仮付動作が終了するまで
の時間)を短縮したので、積層体フイルム1Bの
張付時間を短縮することができる。
In this way, in the method of pasting the laminate film 1B, the leading end of the insulating substrate 11 in the transport direction is detected at the board leading end detection position before being transported to the temporary mounting position, and based on this detection signal, Insulating substrate 11
The leading end of the insulating substrate 11 in the transporting direction is stopped after being transported from the substrate leading edge detection position to the tacking position, and while the leading end of the insulating substrate 11 in the transporting direction is being transported from the detection position to the tacking position, the tacking part 10E is After bringing the insulating substrate 11 close to the substrate transport path and stopping the leading end in the transport direction of the insulating substrate 11 at the tacking position, the tacking part 1
By temporarily attaching the leading end of the laminate film 1B in the supply direction onto the conductive layer of the insulating substrate 11 at 0E,
During the time for transporting the leading edge of the insulating substrate 11 in the transport direction from the substrate leading edge detection position to the temporary attachment position, a part of the time for moving the temporary attachment part 10E close to the conveyance path is incorporated, so that the temporary attachment part 10E is Since the substantial time for close movement (the time from the stop of the leading end of the insulating substrate 11 in the transport direction to the end of the tacking operation at the tacking position) is shortened, the time for attaching the laminate film 1B is shortened. can do.

この結果、単位時間当りの積層体フイルム1B
の張付回数を増加することができるので、薄膜の
張り付けの生産能力を向上することができる。
As a result, 1B of laminate film per unit time
Since the number of times of pasting can be increased, the production capacity for thin film pasting can be improved.

前記仮付部10Eが絶縁性基板11の導電層上
の搬送方向先端部に当接すると、駆動源12Dが
作動する。この動作はCPUに入力され、CPUで
仮付動作を所定時間保持した後に、メインバキユ
ームプレート10及び仮付部10Eの吸着動作を
停止し、駆動源12C及び12Dでメインバキユ
ームプレート10及び仮付部10Eを搬送経路か
ら離反させる。この離反は、第1図及び第2図に
示す位置に比べてさらに離反する位置に、駆動源
12C及び12Dでメインバキユームプレート1
0、仮付部10E及びサブバキユームプレート1
3を移動させる。この移動量は、積層体フイルム
1B′に持たせるたるみ量に比例する。
When the temporary attachment part 10E comes into contact with the leading end in the conveyance direction on the conductive layer of the insulating substrate 11, the drive source 12D is activated. This operation is input to the CPU, and after the CPU holds the tacking operation for a predetermined period of time, the adsorption operation of the main vacuum plate 10 and the tacking section 10E is stopped, and the drive sources 12C and 12D are used to The attaching portion 10E is moved away from the conveyance path. This separation causes the drive sources 12C and 12D to move the main vacuum plate 1 to a position further away from the position shown in FIGS. 1 and 2.
0. Temporary attachment part 10E and sub-vacuum plate 1
Move 3. This amount of movement is proportional to the amount of slack that the laminate film 1B' has.

ここで、前記駆動源12C及び12Dでメイン
バキユームプレート10及び仮付部10Eを搬送
経路から離反させる前に、メインバキユームプレ
ート10、仮付部10E及びサブバキユームプレ
ート13と積層体フイルム1Bとの間にエア吹き
付けノズル100により空気(エア)を吹き付け
てメインバキユームプレート10及び仮付部10
Eと積層体フイルム1Bと分離する。
Here, before the drive sources 12C and 12D move the main vacuum plate 10 and the temporary attachment part 10E away from the conveyance path, the main vacuum plate 10, the temporary attachment part 10E, the sub-vacuum plate 13, and the laminate film 1B are Air is blown between the main vacuum plate 10 and the temporary attachment part 10 by using an air blowing nozzle 100.
E and the laminate film 1B are separated.

次に、点線で示す待避位置から実線で示す仮付
位置に熱圧着ローラ16を移動させ、熱圧着ロー
ラ16を供給方向先端部が仮り付けされた積層体
フイルム1Bに当接させる。
Next, the thermocompression roller 16 is moved from the retracted position shown by the dotted line to the tacking position shown by the solid line, and the leading end in the feeding direction of the thermocompression roller 16 is brought into contact with the tacking laminated film 1B.

次に、熱圧着ローラ16で絶縁性基板11を挟
持した状態でそれを回転させることにより、絶縁
性基板11の導電層上に積層体フイルム1Bを熱
圧着ラミネートする。この時、メインバキユーム
プレート10、仮付部10E、サブバキユームプ
レート13の夫々の吸着動作は停止しているの
で、熱圧着ローラ16には、その回転力と、絶縁
性基板11との挟持力とで、積層体フイルム1B
が供給ローラ2から自動的に供給されるようにな
つている。
Next, by rotating the insulating substrate 11 while holding it between the thermocompression rollers 16, the laminate film 1B is thermocompression laminated onto the conductive layer of the insulating substrate 11. At this time, the suction operation of the main vacuum plate 10, the temporary attachment part 10E, and the sub vacuum plate 13 is stopped, so the thermocompression roller 16 has its rotational force and the clamping force of the insulating substrate 11. With force, laminate film 1B
is automatically supplied from the supply roller 2.

そして、前記熱圧着ローラ16の後段で吸水装
置80により、積層体フイルム1Bが張り付けら
れた絶縁性基板11上の残余の空泡防止剤が除去
される。
Then, the remaining bubble preventing agent on the insulating substrate 11 to which the laminated film 1B is attached is removed by a water absorbing device 80 at the downstream stage of the thermocompression roller 16.

次に、積層体フイルム1Bが、一定量、熱圧着
ラミネートされ、第1図に示す基板後端部検出位
置において、検出センサS2で絶縁性基板11の
搬送方向後端部が検出れる。基板後端部検出セン
サS2の検出信号は、CPUに入力され、メイン
バキユームプレート10、サブバキユームプレー
ト13、回転バキユームプレート15の夫々の吸
着動作が実質的に同時に開始される。そして、基
板搬送経路から最も離反した位置から駆動源12
Cで支持部材12を移動させ、メインバキユーム
プレート10で積層体フイルム1Bを絶縁性基板
11側に過剰供給すると共に、前記第2図に示す
ように、サブバキユームプレート13の下部吸着
部13bで積層体フイルム1Bの供給方向後端部
(切断位置)を切断装置14の切断位置に一致さ
せる。積層体フイルム1Bの供給速度(支持部材
12の移動速度)は、熱圧着ローラ16(2)による
熱圧着ラミネート速度(熱圧着ローラ16の周速
度)よりも速く設定されている。
Next, a certain amount of the laminate film 1B is thermocompression laminated, and the rear end of the insulating substrate 11 in the transport direction is detected by the detection sensor S2 at the substrate rear end detection position shown in FIG. The detection signal of the substrate rear end detection sensor S2 is input to the CPU, and the suction operations of the main vacuum plate 10, the sub vacuum plate 13, and the rotating vacuum plate 15 are started substantially simultaneously. Then, the drive source 12 is
C, the support member 12 is moved, and the main vacuum plate 10 is used to excessively supply the laminate film 1B to the insulating substrate 11 side, and as shown in FIG. Then, the rear end (cutting position) of the laminate film 1B in the feeding direction is aligned with the cutting position of the cutting device 14. The supply speed of the laminate film 1B (the moving speed of the support member 12) is set faster than the thermocompression laminating speed (the circumferential speed of the thermocompression roller 16) by the thermocompression roller 16(2).

この状態において、前記積層体フイルム1B
は、サブバキユームプレート13と回転バキユー
ムプレート15との間にたるみを持たせた積層体
フイルム1B′を形成することができる。このた
るみを持たせた積層体フイルム1B′の供給方向
の両端部は、薄膜矯正装置19の矯正により、サ
ブバキユームプレート13の下部吸着部13b、
回転バキユームプレート15の夫々に確実に吸着
させることができる。
In this state, the laminate film 1B
The laminated film 1B' can be formed in which a slack is provided between the sub-vacuum plate 13 and the rotating vacuum plate 15. Both ends of the laminated film 1B' with the slack in the supply direction are corrected by the thin film correction device 19, so that the lower suction portion 13b of the sub-vacuum plate 13,
It can be reliably attracted to each of the rotary vacuum plates 15.

次に、切断装置14の切断位置に一致された積
層体フイルム1Bの供給方向後端部は、切断装置
14により、絶縁性基板11の寸法に対応した所
定寸法に切断させる。そして、積層体フイルム1
Bの供給方向後端部を熱圧着ラミネートしなが
ら、基板搬送方向と同一の方向に、熱圧着ローラ
16を移動させる。
Next, the rear end of the laminate film 1B in the feeding direction, which is aligned with the cutting position of the cutting device 14, is cut by the cutting device 14 into a predetermined size corresponding to the size of the insulating substrate 11. Then, the laminate film 1
The thermocompression roller 16 is moved in the same direction as the substrate conveyance direction while thermocompression laminating the rear end in the feeding direction of B.

次に、実質的に、積層体フイルム1Bの供給方
向後端部を絶縁性基板11の導電層上に回転バキ
ユームプレート15で熱圧着ラミネートさせる状
態まで、熱圧着ローラ16を絶縁性基板11の搬
送と共に移動させる。この熱圧着ローラ16は、
待避位置の近傍まで移動することができる。前記
回転バキユームプレート15は、熱圧着ローラ1
6の回転速度より若干遅い速度で回転し、絶縁性
基板11の導電層上に積層体フイルム1Bの後端
部を熱圧着ラミネートする。つまり、回転バキユ
ームプレート15は、熱圧着ローラ16の回転速
度より若干遅い速度で回転すると、熱圧着ローラ
16との間の積層体フイルム1Bに適度なテンシ
ヨンを与えることができるので、積層体フイルム
1Bにしわ等を生じることがなく熱圧着ラミネー
トを行うことができる。
Next, the thermocompression roller 16 is moved onto the insulating substrate 11 until the rear end of the laminate film 1B in the feeding direction is substantially laminated onto the conductive layer of the insulating substrate 11 by thermocompression bonding using the rotary vacuum plate 15. Move with transportation. This thermocompression roller 16 is
It is possible to move close to the evacuation position. The rotary vacuum plate 15 has a thermocompression bonding roller 1
The rear end of the laminate film 1B is laminated onto the conductive layer of the insulating substrate 11 by thermocompression bonding. In other words, when the rotary vacuum plate 15 rotates at a speed slightly slower than the rotation speed of the thermocompression roller 16, it is possible to apply an appropriate tension to the laminate film 1B between it and the thermocompression roller 16. 1B can be laminated by thermocompression bonding without causing wrinkles or the like.

次に、熱圧着ラミネートが終了すると、熱圧着
ローラ16は、基板搬送経路から離反する方向に
待避位置の近傍から待避位置まで移動する。
Next, when the thermocompression bonding lamination is completed, the thermocompression bonding roller 16 moves from the vicinity of the retracted position to the retracted position in a direction away from the substrate conveyance path.

また、本発明は、前記実施例の絶縁性基板11
を予熱した後、この絶縁性基板11に積層体フイ
ルム1Bを非加熱圧着ローラで熱圧着ラミネート
する薄膜張付装置に適用することができる。
Further, the present invention provides the insulating substrate 11 of the above embodiment.
After preheating the insulating substrate 11, the present invention can be applied to a thin film pasting device that heat-presses and laminates the laminate film 1B onto the insulating substrate 11 using a non-heated pressure roller.

また、本発明は、建築材として使用される化粧
板に保護膜を張り付ける薄膜張付装置に適用する
ことができる。
Further, the present invention can be applied to a thin film pasting device for pasting a protective film on a decorative board used as a construction material.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように、本発明によれば、基板と
薄膜との接着面に空泡が発生するのを防止するこ
とができるので、基板と薄膜との接着性を向上す
ることができる。
As described above, according to the present invention, it is possible to prevent the generation of air bubbles on the adhesive surface between the substrate and the thin film, thereby improving the adhesiveness between the substrate and the thin film.

また、薄膜が張り付けられた基板上のシミや汚
れを除去することができるので、露光時のパター
ン形成の信頼度及び歩留を向上することができ
る。
Furthermore, since stains and dirt on the substrate to which the thin film is attached can be removed, reliability and yield of pattern formation during exposure can be improved.

これらにより、当該基板と薄膜との接着性を向
上すると共に、プリント基板の配線の信頼性を向
上することができる。
As a result, it is possible to improve the adhesiveness between the substrate and the thin film, and to improve the reliability of the wiring of the printed circuit board.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は、本発明の一実施例である薄膜張付装
置の概略構成を説明するための説明図、第2図
は、前記第1図の部分拡大構成図、第3図は、前
記第1図に示す水付着用ウエツトローラ装置の下
側のウエツトローラ部分を上から見た平面図、第
4図は、第3図の矢印方向Pから見た平面図、第
5図は、第4図のA−A線で切つた断面図、第6
図は、第5図の給水パイプの概略構成を示す斜視
図、第7図は、第6図に示す水供給孔の配置を説
明するための断面図、第8図は、第4図の給水装
置の要部断面図、第9図は、第8図のB−B線で
切つた断面拡大図、第10図乃至第14は、連結
部材の詳細構成を説明するための図、第15図
は、給水装置の概略構成を説明するための図、第
16図は、第15図のC−C線で切つた断面図、
第17図は、第15図の側面図、第18図は、本
実施例の薄膜張付装置の給水部・吸水部の概略シ
ステム構成を説明するための図である。 図中、1B……積層体フイルム(薄膜)、7…
…装置本体、10……メインバキユームプレート
(薄膜供給部材)、10E……仮付部、11……絶
縁性基板、13……サブバキユームプレート(薄
膜保持部材)、14……切断装置、15……回転
バキユームプレート、16……熱圧着ローラ、3
0……空泡防止ウエツトローラ装置、31A.3
1B……ウエツトローラ、32……給水パイプ、
34,35……連結装置、80……吸水装置、1
00……エア吹き付けノズル。
FIG. 1 is an explanatory diagram for explaining the schematic configuration of a thin film sticking device that is an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a partially enlarged configuration diagram of FIG. 1, and FIG. 1 is a top plan view of the lower wet roller portion of the water adhesion roller device shown in FIG. Cross-sectional view taken along line A-A, No. 6
The figure is a perspective view showing the schematic structure of the water supply pipe shown in Fig. 5, Fig. 7 is a cross-sectional view for explaining the arrangement of the water supply holes shown in Fig. 6, and Fig. 8 is the water supply pipe shown in Fig. 4. 9 is an enlarged cross-sectional view taken along line BB in FIG. 8; FIGS. 10 to 14 are diagrams for explaining the detailed structure of the connecting member; FIG. 15 is a sectional view of the main parts of the device; is a diagram for explaining the schematic configuration of the water supply device, FIG. 16 is a sectional view taken along line C-C in FIG. 15,
FIG. 17 is a side view of FIG. 15, and FIG. 18 is a diagram for explaining the schematic system configuration of the water supply section and water absorption section of the thin film pasting device of this embodiment. In the figure, 1B... laminate film (thin film), 7...
...Device body, 10...Main vacuum plate (thin film supply member), 10E...Temporary attaching part, 11...Insulating substrate, 13...Sub vacuum plate (thin film holding member), 14...Cutting device, 15...Rotating vacuum plate, 16...Thermocompression bonding roller, 3
0...Bubble prevention wet roller device, 31A.3
1B...Water roller, 32...Water supply pipe,
34, 35... Connection device, 80... Water absorption device, 1
00...Air blow nozzle.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 基板搬送路の薄膜付着位置に基板が搬送され
る前の位置で薄膜に空泡防止剤を付着させ、基板
の搬送方向先端部の表面に、薄膜の供給方向先端
部を付着し、付着された位置の薄膜の先端部に、
圧着ローラを当接し、圧着ローラの回転によつ
て、前記基板を搬送すると共に、基板に薄膜を張
り付ける薄膜の張付方法であつて、前記薄膜付着
位置に基板が搬送される前の位置で当該基板に空
泡防止剤を付着させ、前記圧着ローラの後段で薄
膜が張り付けられた基板上の残余の空泡防止剤を
除去することを特徴とする薄膜の張付方法。 2 基板搬送路の基板の搬送方向先端部の表面
に、薄膜の供給方向先端部を付着し、この付着位
置の薄膜の先端部に、圧着ローラを当接し、圧着
ローラの回転によつて、前記基板を搬送すると共
に、基板に薄膜を張り付ける薄膜の張付装置であ
つて、前記薄膜付着位置に基板が搬送される前の
位置に配設された、当該基板に空泡防止剤を付着
させるウエツトローラと、該ウエツトローラの内
部から表面に向けて空泡防止剤をほぼ均一に供給
する手段と、前記圧着ローラの後段で薄膜が張り
付けられら基板上の残余の空泡防止剤を除去する
手段を設けたことを特徴とする薄膜の張付装置。 3 前記ウエツトローラの少なくともいずれか一
方の軸端の近傍に、その軸方向に摺動可能な短軸
が設けられ、該短軸を軸方向に移動させることに
よつて、前記ウエツトローラが装着本体から着脱
自在とされていることを特徴とする特許請求の範
囲第2項に記載の薄膜の張付装置。
[Claims] 1. A bubble preventive agent is attached to the thin film at a position before the substrate is transported to the thin film attachment position in the substrate transport path, and a bubble preventive agent is applied to the surface of the leading end in the transport direction of the substrate at the leading end in the supply direction of the thin film. Attach it to the tip of the thin film at the attached position,
A thin film pasting method in which a pressure roller is brought into contact with the substrate and the thin film is pasted on the substrate while the substrate is conveyed by rotation of the pressure roller, wherein the thin film is attached at a position before the substrate is conveyed to the thin film attachment position. A method for attaching a thin film, which comprises: adhering an anti-bubble agent to the substrate, and removing the remaining anti-bubble agent on the substrate to which the thin film is attached after the pressure roller. 2. The tip of the thin film in the supply direction is attached to the surface of the tip of the substrate in the conveyance direction of the substrate conveyance path, and a pressure roller is brought into contact with the tip of the thin film at this attachment position, and by rotation of the pressure roller, the A thin film pasting device for transporting a substrate and pasting a thin film on the substrate, the thin film pasting device being disposed at a position before the substrate is transported to the thin film attachment position, for depositing a bubble preventive agent on the substrate. a wet roller, a means for supplying the anti-bubble agent almost uniformly from the inside of the wet roller toward the surface, and a means for removing the anti-bubble agent remaining on the substrate after the thin film is applied after the pressure roller. A thin film pasting device characterized by being provided with. 3. A short shaft slidable in the axial direction is provided near at least one shaft end of the wet roller, and by moving the short shaft in the axial direction, the wet roller can be attached to and removed from the mounting main body. 3. The thin film application device according to claim 2, wherein the thin film application device is flexible.
JP63137050A 1988-04-04 1988-06-03 Method and apparatus for bonding membrane Granted JPH0284318A (en)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63137050A JPH0284318A (en) 1988-04-04 1988-06-03 Method and apparatus for bonding membrane
DE68925141T DE68925141T2 (en) 1988-04-04 1989-04-04 Device for joining thin films
US07/332,903 US4961803A (en) 1988-04-04 1989-04-04 Thin film laminating method and apparatus
EP89105866A EP0336358B1 (en) 1988-04-04 1989-04-04 Thin film laminating apparatus
CA000595675A CA1294200C (en) 1988-04-04 1989-04-04 Thin film laminating method and apparatus
AT89105866T ATE131777T1 (en) 1988-04-04 1989-04-04 DEVICE FOR JOINING THIN FILM

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63-82553 1988-04-04
JP8255388 1988-04-04
JP63137050A JPH0284318A (en) 1988-04-04 1988-06-03 Method and apparatus for bonding membrane

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0284318A JPH0284318A (en) 1990-03-26
JPH0547388B2 true JPH0547388B2 (en) 1993-07-16

Family

ID=13777688

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63137050A Granted JPH0284318A (en) 1988-04-04 1988-06-03 Method and apparatus for bonding membrane

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0284318A (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2803579B2 (en) * 1994-10-31 1998-09-24 松下電器産業株式会社 Circuit board manufacturing method and manufacturing apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0284318A (en) 1990-03-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4844772A (en) Laminator
JPH0651360B2 (en) Method and device for attaching thin film
JPH0798362B2 (en) How to attach thin film
JPH0577356B2 (en)
JPH0659965B2 (en) Thin film sticking device
JPH01160084A (en) Method and device for applying thin film
JPH08258237A (en) Continuously feeding method of stock film in film stretchingly sticking apparatus and device thereof
JPH0547388B2 (en)
JP3195123B2 (en) Photosensitive layer laminating method and apparatus
JPH0587196B2 (en)
EP0220661B1 (en) Apparatus for conveying a base as of a printed circuit board
JPH05185517A (en) Device for sticking film
JPH068031B2 (en) Thin film sticking device
JPH05162212A (en) Film sticking method and device
JPH05162205A (en) Film pasting device
JP3546876B2 (en) Laminator
JPH0528658B2 (en)
JPH049657B2 (en)
JPS62264164A (en) Carrier device for thin film coating device
JP2558037B2 (en) Film sticking device
JPS62139554A (en) Method for stripping thin film and device for executing said method
JPH0422425B2 (en)
JPH0387241A (en) Method and apparatus for bonding thin film
JPH0422424B2 (en)
JP2001350254A (en) Photographic sensitive film, method for curing its edge part and laminator

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees