JPH0547095B2 - - Google Patents

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JPH0547095B2
JPH0547095B2 JP4402785A JP4402785A JPH0547095B2 JP H0547095 B2 JPH0547095 B2 JP H0547095B2 JP 4402785 A JP4402785 A JP 4402785A JP 4402785 A JP4402785 A JP 4402785A JP H0547095 B2 JPH0547095 B2 JP H0547095B2
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Koichi Kawamura
Norimasa Aotani
Akira Umehara
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    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D417/00Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00
    • C07D417/02Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings
    • C07D417/04Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings directly linked by a ring-member-to-ring-member bond
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/46Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F2/50Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • GPHYSICS
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    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

「産業上の利用分野」 本発明は光重合性組成物に関するものであり、
さらに詳しくは、エチレン性不飽和結合を有する
重合可能な化合物と光重合開始剤と、必要とする
ならば結合剤とからなる光重合性組成物に関し、
特に感光性印刷版の感光層、フオトレジスト等に
有用な光重合性組成物に関するものである。 「従来の技術」 エチレン性不飽和結合を有する重合可能な化合
物と光重合開始剤と更に必要に応じて適当な皮膜
形成能を有する結合剤、熱重合禁止剤を混和させ
た感光性組成物を用いて、写真的手法により画像
の複製を行なう方法は現在知られるところであ
る。すなわち、米国特許2927022号、同2902356号
あるいは同3870524号に記載されているように、
この種の感光性組成物は光照射により硬化し不溶
化することから、この感光性組成物を適当な皮膜
となし、所望の画像の陰画を通して光照射を行な
い、適当な溶媒により未露光部のみを除去するこ
とにより所望の光重合性組成物の硬化画像を形成
させることができる。このタイプの感光性組成物
は印刷版あるいはフオトレジスト等を作成するた
めに使用されるものとして極めて有用であること
は論をまたない。 従来、エチレン性不飽和結合を有する重合可能
な化合物のみでは充分な感光性がなく、感光性を
高めるために光重合開始剤を添加することが提唱
されており、かかる光重合開始剤としてはベンジ
ル、ベンゾイル、ベンゾインエチルエーテル、ミ
ヒラーケトン、アントラキノン、アクリジン、フ
エナジン、ベンゾフエノン、2−エチルアントラ
キノン等が用いられてきた。しかしながら、これ
らの光重合開始剤を用いた場合、光重合性組成物
の硬化の感応度が低いので画像形成における像露
光に長時間を要するため、細密な画像の場合には
操作にわずかな振動があると良好な画質の画像が
再現されず、また露光の光源のエネルギー放射量
を増大しなければならないためにそれに伴なう多
大な発熱の放散を考慮する必要があり、さらに熱
による組成物の皮膜の変形および変質も生じ易い
等の問題があつた。 「発明が解決しようとする問題点」 したがつて、本発明の目的は、高感度の光重合
性組成物を提供することである。 本発明の他の目的は広く一般にエチレン性不飽
和結合を有する重合可能な化合物を含む光重合性
組成物の光重合速度を増大させる光重合開始剤及
び光重合開始剤系を含んだ光重合性組成物を提供
することである。 「問題点を解決するための手段」 本発明者は、上記目的を達成すべく精意研究を
重ねていたが、ある特定の光重合開始剤がエチレ
ン性不飽和結合を有する重合可能な化合物の光重
合速度を著しく増大させることを見出し、本発明
に到達したものである。 本発明は、エチレン性不飽和結合を有する重合
可能な化合物と、必要とするならば結合剤と 一般式() (式中、R1、R2、R3、R4、R5はそれぞれ独立
に水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリ
ール基、置換アリール基、アリル基または置換ア
リル基を表わし、Yは−O−、−S−、−Se−、−
C(CH32−および−CH=CH−より選ばれる2
価原子または原子団であり、Xは酸素原子、また
は硫黄原子を表わす。またR1、R2は共にそれが
結合している炭素原子と共に環を形成していても
良い。) で表わされる光重合開始剤を含有する光重合性組
成物に関するものである。 以下本発明について詳細に説明する。 本発明の組成物におけるエチレン性不飽和結合
を有する重合可能な化合物とは、その化学構造中
に少なくとも1個のエチレン性不飽和結合を有す
る化合物であつて、モノマー、プレポリマー、す
なわち2量体、3量体および他のオリゴマーそれ
らの混合物ならびにそれらの共重合体などの化学
的形態をもつものである。それらの例しては不飽
和カルボン酸およびその塩、脂肪族多価アルコー
ル化合物とのエステル、脂肪族多価アミン化合物
とのアミド等があげられる。 不飽和カルボン酸の具体例としては、アクリル
酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イ
ソクロトン酸、マレイン酸などがある。 不飽和カルボン酸の塩としては、前述の酸のナ
トリウム塩およびカリウム塩などがある。 脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン
酸とのエステルの具体例としてはアクリル酸エス
テルとして、エチレングリコールジアクリレー
ト、トリエチレングリコールトリアクリレート、
1,3−ブタンジオールジアクリレート、テトラ
メチレングリコールジアクリレート、プロピレン
グリコールジアクリレート、トリメチロールプロ
パントリアクリレート、トリメチロールエタント
リアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオー
ルジアクリレート、テトラエチレングリコールジ
アクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレ
ート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、
ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペ
ンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエ
リスリトールトリアクリレート、ジペンタエリス
リトールテトラアクリレート、ソルビトールトリ
アクリレート、ソルビトールテトラアクリレー
ト、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビト
ールヘキサアクリレート、ポリエステルアクリレ
ートオリゴマー等がある。メタクリル酸エステル
としては、テトラメチレングリコールジメタクリ
レート、トリエチレングリコールジメタクリレー
ト、トリメチロールプロパントリメタクリレー
ト、トリメチロールエタントリメタクリレート、
エチレングリコールジメタクリレート、1,3−
ブタンジオールジメタクリレート、ペンタエリス
トールジメタクリレート、ペンタエリスリトール
トリメタクリレート、ジペンタエリスリトールジ
メタクリレート、ソルビトールトリメタクリレー
ト、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス−
〔p−3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプ
ロポキシ)フエニル〕ジメチルメタン、ビス−
〔p−アクリルオキシエトキシ)フエニル〕ジメ
チルメタン等がある。イタコン酸エステルとして
は、エチレングリコールジイタコネート、プロピ
レングリコールジイタコネート、1,3−ブタン
ジオールジイタコネート、1,4−ブタンジオー
ルジイタコネート、テトラメチレングリコールジ
イタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネ
ート、ソルビトールテトライタコネート等があ
る。クロトン酸エステルとしては、エチレングリ
コールジクロトネート、テトラメチレングリコー
ルジクロトネート、ペンタエリロリトールジクロ
トネート、ソルビトールテトラクロトネート等が
ある。イソクロトン酸エステルとしては、エチレ
ングリコールジイソクロトネート、ペンタエリス
リトールジイソクロトネート、ソルビトールテト
ライソクロトネート等がある。マレイン酸エステ
ルとしては、エチレングリコールジマレート、ト
リエチレングリコールジマレート、ペンタエリス
リトールジマレート、ソルビトールテトラマレー
ト等がある。さらに、前述のエステルの混合物も
あげることができる。 脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸と
のアミドの具体例としては、メチレンビス−アク
リルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、
1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、
1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミ
ド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミ
ド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレン
ビスメタクリルアミド等がある。 その他の例としては、特公昭48−41708号公報
中に記載されている1分子に2個以上のイソシア
ネート基を有するポリイソシアネート化合物に、
下記の一般式()で示される水酸基を含有する
ビニルモノマーを付加せしめた1分子中に2個以
上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化
合物等があげられる。 CH2=C(R)COOCH2CH(R′)OH ……() (ただし、RおよびR′はHあるいはCH3を示
す。) 次に本発明の光重合性組成物において著しい特
徴をなす光重合開始剤について説明する。 本発明で用いられる一般式() で表わされる光重合開始剤においてR1、R2、R3
R4、R5は同一でも異なつていても良く、メチル、
エチル、n−プロピル、i−プロピル、n−ブチ
ル、t−ブチル等の炭素数1〜12個のアルキル
基、フエニル基、ナフチル基等の炭素数6〜10個
のアリール基、炭素数3〜10個のアリル基を表わ
す。これらのアルキル基、アリール基、アリル基
は置換基を有していても良く、置換基としては、
メチル基、エチル基等の炭素数1〜6個のアルキ
ル基、メトキシ基、エトキシ基等の炭素数1〜6
個のアルコキシ基、塩素、臭素等のハロゲン原
子、シアノ基、アミノ基、ジメチルアミノ基等の
炭素数1〜4個のアルキル基で置換されたアミノ
基、カルボメトキシ基等の炭素数1〜4個のアル
キル基を有するカルボアルコキシ基、フエニル
基、p−メトキシフエニル基、p−クロロフエニ
ル基等の炭素数6〜10個の置換もしくは非置換の
アリール基、カルボン酸基、スルホン酸基、また
はそれらの塩等を挙げることができる。 またR1、R2は共にそれと結合している炭素原
子と共に環を形成していても良い。環としてはシ
クロヘキセン環などの脂肪族炭化水素環、ベンゼ
ン環、ナフタリン環などの芳香族環、キノリン環
などのヘテロ芳香族環等を挙げることができる。
またこれらの環は置換基を有していても良く、置
換基としてはR1、R2、R3、R4、R5の置換基とし
て挙げたものを同様に用いることができる。 本発明で用いられる前記一般式()で表わさ
れる光重合開始剤は公知の方法を用いて合成する
ことができる。代表的な合成法は例えばテイー・
エツチ・ジエームズ著「ザ・セオリー・オブ・フ
オトグラフイツク・プロセス」〔T.H.James編
“The Theory of Photographic Process”第4
版、Macmillan Co.,New York(1977)〕及び
エフ・エム・ハマー著「ザ シアニン ダイズ
アンド リレイ テイド コムパウンズ」〔F.M.
Hamer 著“The Cyanine Dyes and Related
Compounds”John Wiley&Sons Co.,New
York(1964)〕に記載されているがごとく、一般
式()及び一般式()で表わされる化合物か
ら合成することができる。 本発明で用いられる一般式()で表わされる
光重合開始剤の具体例を下記に示す。 本発明の一般式()で表わされる化合物はそ
のもの単独でも高い光重合開始能をを示すが、あ
る種の活性剤と組み合せて2種以上の光重合開始
剤の組合せとして用いることにより、更に高い光
重合開始能を発現することが可能となる。 本発明の化合物と組み合せて高い光重合開始能
を示す活性剤として以下の様なものがある。 (1) カルボニル化合物 ベンジル、ベンゾイル、ベンジルケタール類、
ベンゾインエーテル類等。ベンジルケタールの例
としてはジメトキシ−2−フエニルアセトフエノ
ンを挙げることができその他の例は、特開昭49−
42653号、特開昭49−99147号及び特公昭50−
29930号公報に記載されている。ベンゾインエー
テルとしてはO−メチルベンゾイン、O−エチル
ベンゾイン等がありその他の例はジヤーナル オ
ブ アメリカン ケミカル ソサイアテイー
〔Journal of American Chemical Society〕97
巻1519頁(1975年)に記載がある。 その他カルボニル化合物としては、ジエトキシ
アセトフエノン等のアセトフエノン誘導体、ベン
ゾイル−1−シクロヘキサノール等のヨーロツパ
特許第0125206A1号公報記載の化合物、米国特許
第4318791号明細書記載の2−モルホリノ−2−
メチル−p−メチルチオプロピオフエノン等の芳
香族脂肪ケトンおよび2−ヒドロキシ−2−メチ
ル−p−クロロプロピオフエノン等の2ヒドロキ
シアセトフエノン誘導体などがある。 (2) スルホニルオキシム化合物 例として特開昭57−53747号公報、西独特許
(OLS)3410387A1号公報および米国特許第
4258121号明細書記載のスルホニルオキシム化合
物が挙げられる。具体例として2−フエニル−3
−フエニルスルホニルオキシ−4(3H)キナゾリ
ノン、2−スチリル−3−フエニルスルホニルオ
キシ−4(3H)キナゾリノン、N−ヒドロキシ−
1,8−ナフタルイミドベンゼンスルホン酸エス
テル等がある。 (3) アシルオキシム化合物 例として1−フエニル−1,2−プロパンジオ
ン−2−(o−エトキシカルボオキシム)等、プ
ログレス イン オルガニツク コーテイングズ
〔Progress in Organic Coatings〕3巻 115頁
(1975年)記載の化合物がある。 (4) ヘキサアリールビイミダゾール化合物 好ましいヘキサアリールビイミダゾールの具体
例として2,2′−ビス(o−クロロフエニル)−
4,4′,5,5′−テトラフエニルビイミダゾー
ル、2,2′−ビス(o,p−ジクロロフエニル)
−4,4′,5,5′−テトラフエニルビイミダゾー
ル等があり、その他の例は特公昭45−37377号公
報に記載されている。 (5) ハロゲン化合物 英国特許1234648号、英国特許2039073B号、米
国特許3827596号、米国特許3905813号、特開昭55
−24113号、特開昭58−15503号公報中に記載のハ
ロゲン化合物。この代表例としては2,6−ジ
(トリクロロロメチル)−4−(p−メトキシフエ
ニル)−1,3,5−トリアジン、2−トリクロ
ロメチル−5−(p−メトキシスチリル)−1,
3,4−オキサジアゾール、アントラキノン−1
−スルホニルクロリドおよび2,2,2−トリク
ロロアセトフエノン等を挙げることができる。 (6) アミノ化合物 エム・アール・サンダー等著「ジヤーナル オ
ブ ポリマー ソサイアテイ」〔M.R.Sanderら
著「Journal of Polymer Society」〕第10巻、
3173頁(1972年)、特開昭51−82102号、特開昭52
−134692号公報中に記載のアミノ化合物。 この代表例としてはトリメチルアミン、トリエ
タノールアミン、p−ジメチルアミノ安息香酸エ
チルエステル、p−シアノジメチルアニリン及び
p−ホルミルジメチルアニリン等を挙げることが
できる。 その他のアミノ化合物としてp−アミノ置換ベ
ンゾフエノン誘導体及びp−アミノ置換カルコン
誘導体があり、その代表例としてはミヒラーズケ
トン、p−ジメチルアミノベンジリデンアセトフ
エノン、4,4′−ジメチルアミノカルコン等を挙
げることができる。 (7) アミノ酸 特に好ましいアミノ酸の具体例してはN−フエ
ニルグリシンが挙げられる。 (8) イオウ化合物 米国特許2460105号、米国特許2773822号明細書
に記載のイオウ化合物が挙げられる。この代表例
としてジベンゾチアゾイルジスルフイド、ジエチ
ルキサントゲンジスルフイド、2−メルカプトベ
ンズチアゾール、2−メルカプトベンズイミダゾ
ール、5−メチルチオ−2−メルカプトチアジア
ゾール等を挙げることができる。 (9) 過酸化物 代表的な過酸化物としてジベンゾイルパーオキ
サイド、3,3′,4,4′−テトラ(t−ブチルパ
ーオキシカルボニル)ベンゾフエノン等がある。 これらの活性剤のうち特に有効なものはカルボ
ニル化合物、スルホニルオキシム化合物、アシル
オキシム化合物、ハロゲン化合物、ヘキサアリー
ルビイミダゾール化合物である。 本発明の重合性組成物には必要により結合剤を
用いるが、結合剤としては、重合可能な化合エチ
レン性不飽和結合化合物および光重合開始剤に対
する相溶性が組成物の塗布液の調製、塗布および
乾燥に至る感光材料の製造工程の全てにおいて脱
混合を起さない程度に良好であること、感光層あ
るいはレジスト層として例えば溶液現像にせよ剥
離現像にせよ像露光後の現像処理が可能であるこ
と、感光層あるいはレジスト層として強靭な皮膜
を形成し得ることなどの特性を有することが要求
され、通常線状有機高分子重合体より適宜、選択
される。結合剤の具体的な例としては、塩素化ポ
リエチレン、塩素化ポリプロピレン、ポリアクリ
ル酸アルキルエステル(アルキル基としては、メ
チル基、エチル基、n−ブチル基、iso−ブチル
基、n−ヘキシル基、2−エチルヘキシル基な
ど)、アクリル酸アルキルエステル(アルキル基
は同上)とアクリロニトリル、塩化ビニル、塩化
ビニリデン、スチレン、ブタジエンなどのモノマ
ーの少なくとも一種との共重合体、ポリ塩化ビニ
ル、塩化ビニルとアクリロニトリルとの共重合
体、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデンとアク
リロニトリルとの共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポ
リビニルアルコール、ポリアクリロニトリル、ア
クリロニトリルとスチレンとの共重合体、アクリ
ロニトリルとブタジエンおよびスチレンとの共重
合体、ポリメタアクリル酸アルキルエステル(ア
ルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プ
ロピル基、n−ブチル基、iso−ブチル基、n−
ヘキシル基、シクロヘキシル基、2−エチルヘキ
シル基など)、メタアクリル酸アルキルエステル
(アルキル基は同上)とアクリロニトリル、塩化
ビニル、塩化ビニリデン、スチレン、ブタジエン
などのモノマーの少なくとも一種との共重合体、
ポリスチレン、ポリーα−メチルスチレン、ポリ
アミド(6−ナイロン、6,6−ナイロンなど)、
メチルセルロース、エチルセルロース、アセチル
セルロース、ポリビニルフオルマール、ポリビニ
ルブチラールなどが挙げられる。さらに、水ある
いはアルカリ水可溶性有機高分子重合体を用いる
と水あるいはアルカリ水現像が可能となる。この
ような高分子重合体としては側鎖にカルボン酸を
有する付加重合体、たとえばメタクリル酸共重合
体(たとえば、メタクリル酸メチルとメタクリル
酸との共重合体、メタクリル酸エチルとメタクリ
ル酸との共重合体、メタクリル酸ブチルとメタク
リル酸との共重合体、メタクリル酸ベンジルとメ
タクリル酸との共重合体、メタクリル酸とスチレ
ンおよびメタクリル酸との共重合体など)、アク
リル酸共重合体(アクリル酸エチルとアクリル酸
との共重合体、アクリル酸ブチルとアクリル酸と
の共重合体、アクリル酸エチルとスチレンおよび
アクリル酸との共重合体など)、さらにはイタコ
ン酸共重合体、クロトン酸共重合体、部分エステ
ル化マレイン酸共重合体などがあり、また同様に
側鎖にカルボン酸を有する酸性セルロース誘導体
がある。 これらの高分子重合体は、単独で結合剤として
用いてもよいが、二種以上の互いに相溶性が、塗
布液の調製から塗布、乾燥に至る製造工程中に脱
混合を起さない程度に良い高分子重合体を適合な
比で混合して結合剤として用いることができる。 結合剤として用いられる高分子重合体の分子量
は、重合体の種類により広範な値をとりうるが、
一般には5千〜200万、より好ましくは1万〜100
万の範囲のものが好適である。 さらに、本発明の組成物の製造中あるいは保存
中においてエチレン性不飽和結合を有する重合可
能な化合物の不要な熱重合を阻止するために熱重
合防止剤を添加することが望ましい。適当な熱重
合防止剤してはヒドロキノン、p−メトキシフエ
ノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロ
ガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノ
ン、塩化第一銅、フエノチアジン、クロラニル、
ナフチルアミン、β−ナフトール、ニトロベンゼ
ン、ジニトロベンゼンなどがある。 また場合によつては着色を目的として染料もし
くは顔料、例えばメチレンブルー、クリスタルバ
イオレツト、ローダミンB、フクシン、オーラミ
ン、アゾ系染料、アントラキノン系染料、酸化チ
タン、カーボンブラツク、酸化鉄、フタロシアニ
ン系顔料、アゾ系顔料などを加えてもよい。 さらに、本発明の光重合性組成物には必要に応
じて可塑性を添加することができる。可塑性の例
としては、ジメチルフタレート、ジエチルフタレ
ート、ジブチルフタレート、ジヘキシルフタレー
ト、ジシクロヘキシルフタレート、ジトリデシル
フタレートなどのフタル酸エステル類、ジメチル
グリコールフタレート、エチルフタリルエチルグ
リコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート
などのグリコールエステル類、トリクレジルホス
フエート、トリフエニルホスフエートなどのリン
酸エステル類、ジイソブチルアジペート、ジオク
チルアジペート、ジブチルセバケート、ジブチル
マレートなどの脂肪族二塩基酸エステル類などが
ある。 本発明の光重合性組成物は前述の各種構成成分
を溶媒中に溶解せしめ、適当な支持体状に公知の
方法により塗布して用いられる。次に、この場合
の各種構成成分の好ましい比率をエチレン性不飽
和結合を有する重合可能な化合物100重量部に対
する重量部で表わす。
"Industrial Application Field" The present invention relates to a photopolymerizable composition,
More specifically, it relates to a photopolymerizable composition comprising a polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond, a photopolymerization initiator, and a binder if necessary,
In particular, it relates to a photopolymerizable composition useful for photosensitive layers of photosensitive printing plates, photoresists, and the like. ``Prior art'' A photosensitive composition is prepared by mixing a polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond, a photopolymerization initiator, and, if necessary, a binder having an appropriate film-forming ability and a thermal polymerization inhibitor. Methods of copying images by photographic methods using the above methods are currently known. That is, as described in U.S. Pat. No. 2,927,022, U.S. Pat. No. 2,902,356 or U.S. Pat.
Since this type of photosensitive composition is cured and insolubilized by light irradiation, this photosensitive composition is formed into a suitable film, light is irradiated through the negative of the desired image, and only the unexposed areas are removed using an appropriate solvent. By removing it, a desired cured image of the photopolymerizable composition can be formed. It goes without saying that this type of photosensitive composition is extremely useful for making printing plates, photoresists, and the like. Conventionally, polymerizable compounds having ethylenically unsaturated bonds alone do not have sufficient photosensitivity, and it has been proposed to add a photopolymerization initiator to increase photosensitivity. , benzoyl, benzoin ethyl ether, Michler's ketone, anthraquinone, acridine, phenazine, benzophenone, 2-ethylanthraquinone, and the like have been used. However, when these photopolymerization initiators are used, the curing sensitivity of the photopolymerizable composition is low, so it takes a long time for image exposure during image formation. If there is, it will not be possible to reproduce images of good quality, and the amount of energy radiated by the light source for exposure must be increased, so it is necessary to consider the accompanying large amount of heat dissipation. There were problems such as deformation and deterioration of the film. "Problems to be Solved by the Invention" Therefore, an object of the present invention is to provide a highly sensitive photopolymerizable composition. Another object of the invention is generally to increase the rate of photopolymerization of photopolymerizable compositions containing polymerizable compounds having ethylenically unsaturated bonds. An object of the present invention is to provide a composition. "Means for Solving the Problems" The present inventor has made extensive research to achieve the above object, and found that a certain photopolymerization initiator is a polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond. The present invention was achieved by discovering that the photopolymerization rate can be significantly increased. The present invention comprises a polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond, an optional binder and the general formula () (In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , and R 5 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group, an allyl group, or a substituted allyl group, and Y is -O-, -S-, -Se-, -
2 selected from C(CH 3 ) 2 − and −CH=CH−
It is a valence atom or an atomic group, and X represents an oxygen atom or a sulfur atom. Further, R 1 and R 2 may both form a ring together with the carbon atom to which they are bonded. ) It relates to a photopolymerizable composition containing a photopolymerization initiator represented by: The present invention will be explained in detail below. The polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond in the composition of the present invention is a compound having at least one ethylenically unsaturated bond in its chemical structure, and is a monomer, prepolymer, or dimer. , trimers and other oligomers, mixtures thereof, and copolymers thereof. Examples thereof include unsaturated carboxylic acids and their salts, esters with aliphatic polyhydric alcohol compounds, amides with aliphatic polyhydric amine compounds, and the like. Specific examples of unsaturated carboxylic acids include acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, and maleic acid. Salts of unsaturated carboxylic acids include sodium and potassium salts of the aforementioned acids. Specific examples of esters of aliphatic polyhydric alcohol compounds and unsaturated carboxylic acids include acrylic esters such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol triacrylate,
1,3-butanediol diacrylate, tetramethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolethane triacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate acrylate, pentaerythritol triacrylate,
Examples include pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, and polyester acrylate oligomer. Examples of methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate,
Ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-
Butanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis-
[p-3-methacryloxy-2-hydroxypropoxy)phenyl]dimethylmethane, bis-
Examples include [p-acryloxyethoxy)phenyl]dimethylmethane. Examples of itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate, 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, and pentaerythritol diitaconate. , sorbitol tetrataconate, etc. Examples of crotonic acid esters include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaeryloritol dicrotonate, and sorbitol tetracrotonate. Isocrotonic acid esters include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, sorbitol tetraisocrotonate, and the like. Examples of maleic esters include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, and sorbitol tetramaleate. Furthermore, mixtures of the aforementioned esters may also be mentioned. Specific examples of amides of aliphatic polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide,
1,6-hexamethylenebis-acrylamide,
Examples include 1,6-hexamethylenebis-methacrylamide, diethylenetriamine trisacrylamide, xylylenebisacrylamide, xylylenebismethacrylamide, and the like. Other examples include polyisocyanate compounds having two or more isocyanate groups in one molecule described in Japanese Patent Publication No. 48-41708,
Examples include vinyl urethane compounds containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule to which a vinyl monomer containing a hydroxyl group represented by the following general formula () is added. CH 2 =C(R)COOCH 2 CH(R')OH ... () (However, R and R' represent H or CH 3. ) Next, the photopolymerizable composition of the present invention has remarkable characteristics. The photopolymerization initiator will be explained. General formula () used in the present invention In the photopolymerization initiator represented by R 1 , R 2 , R 3 ,
R 4 and R 5 may be the same or different, and methyl,
Alkyl groups with 1 to 12 carbon atoms such as ethyl, n-propyl, i-propyl, n-butyl, and t-butyl; aryl groups with 6 to 10 carbon atoms such as phenyl and naphthyl; 3 to 10 carbon atoms; Represents 10 allyl groups. These alkyl groups, aryl groups, and allyl groups may have substituents, and the substituents include:
Alkyl groups with 1 to 6 carbon atoms such as methyl group and ethyl group, 1 to 6 carbon atoms such as methoxy group and ethoxy group
an alkoxy group, a halogen atom such as chlorine or bromine, an amino group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as a cyano group, an amino group, or a dimethylamino group, or a carbomethoxy group having 1 to 4 carbon atoms. a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 10 carbon atoms, such as a carboalkoxy group, phenyl group, p-methoxyphenyl group, p-chlorophenyl group, carboxylic acid group, sulfonic acid group, or Salts thereof, etc. can be mentioned. Further, both R 1 and R 2 may form a ring together with the carbon atom bonded thereto. Examples of the ring include aliphatic hydrocarbon rings such as cyclohexene rings, aromatic rings such as benzene rings and naphthalene rings, and heteroaromatic rings such as quinoline rings.
Further, these rings may have a substituent, and as the substituent, those listed as the substituents for R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , and R 5 can be similarly used. The photopolymerization initiator represented by the general formula () used in the present invention can be synthesized using a known method. Typical synthesis methods include T.I.
“The Theory of Photographic Process” by Etsuchi James [ed. “The Theory of Photographic Process” No. 4]
Edition, Macmillan Co., New York (1977)] and F.M. Hamer, The Cyanine Soybean.
And Relay Tide Compounds” [FM
Hamer, “The Cyanine Dyes and Related
Compounds”John Wiley & Sons Co., New
York (1964)], it can be synthesized from the general formula () and the compound represented by the general formula (). Specific examples of the photopolymerization initiator represented by the general formula () used in the present invention are shown below. The compound represented by the general formula () of the present invention shows a high photopolymerization initiating ability even when it is used alone, but when used in combination with a certain type of activator to form a combination of two or more types of photopolymerization initiators, the compound has an even higher ability to initiate photopolymerization. It becomes possible to express photopolymerization initiation ability. Examples of activators that exhibit high photopolymerization initiation ability in combination with the compound of the present invention include the following. (1) Carbonyl compounds benzyl, benzoyl, benzyl ketals,
Benzoin ethers, etc. An example of benzyl ketal is dimethoxy-2-phenylacetophenone.
No. 42653, JP-A No. 49-99147 and JP-A No. 50-
It is described in Publication No. 29930. Examples of benzoin ethers include O-methylbenzoin and O-ethylbenzoin, and other examples can be found in the Journal of American Chemical Society 97.
It is described in Volume 1519 (1975). Other carbonyl compounds include acetophenone derivatives such as diethoxyacetophenone, compounds described in European Patent No. 0125206A1 such as benzoyl-1-cyclohexanol, and 2-morpholino-2-described in U.S. Pat. No. 4,318,791.
These include aromatic aliphatic ketones such as methyl-p-methylthiopropiophenone and 2-hydroxyacetophenone derivatives such as 2-hydroxy-2-methyl-p-chloropropiophenone. (2) Sulfonyloxime compounds Examples include JP-A No. 57-53747, West German Patent (OLS) No. 3410387A1, and U.S. Patent No.
Examples include sulfonyloxime compounds described in No. 4258121. A specific example is 2-phenyl-3
-Phenylsulfonyloxy-4(3H) quinazolinone, 2-styryl-3-phenylsulfonyloxy-4(3H) quinazolinone, N-hydroxy-
Examples include 1,8-naphthalimidobenzenesulfonic acid ester. (3) Acyloxime compounds Examples include 1-phenyl-1,2-propanedione-2-(o-ethoxycarboxime), as described in Progress in Organic Coatings, Volume 3, Page 115 (1975) There are compounds of (4) Hexaarylbiimidazole compound A specific example of a preferred hexaarylbiimidazole is 2,2'-bis(o-chlorophenyl)-
4,4',5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis(o,p-dichlorophenyl)
-4,4',5,5'-tetraphenylbiimidazole, and other examples are described in Japanese Patent Publication No. 45-37377. (5) Halogen compounds British Patent No. 1234648, British Patent No. 2039073B, US Patent No. 3827596, US Patent No. 3905813, JP-A-55
-24113 and halogen compounds described in JP-A-58-15503. Representative examples include 2,6-di(trichloromethyl)-4-(p-methoxyphenyl)-1,3,5-triazine, 2-trichloromethyl-5-(p-methoxystyryl)-1,
3,4-oxadiazole, anthraquinone-1
-sulfonyl chloride and 2,2,2-trichloroacetophenone. (6) Amino compounds “Journal of Polymer Society” by M. R. Sander et al. [Journal of Polymer Society” by MRSander et al.] Volume 10,
3173 pages (1972), JP-A-51-82102, JP-A-52
- Amino compounds described in Publication No. 134692. Typical examples include trimethylamine, triethanolamine, p-dimethylaminobenzoic acid ethyl ester, p-cyanodimethylaniline, and p-formyldimethylaniline. Other amino compounds include p-amino-substituted benzophenone derivatives and p-amino-substituted chalcone derivatives, representative examples of which include Michler's ketone, p-dimethylaminobenzylideneacetophenone, and 4,4'-dimethylaminochalcone. can. (7) Amino acids A specific example of a particularly preferred amino acid is N-phenylglycine. (8) Sulfur Compounds Examples include sulfur compounds described in US Pat. No. 2,460,105 and US Pat. No. 2,773,822. Typical examples include dibenzothiazoyl disulfide, diethylxanthogen disulfide, 2-mercaptobenzthiazole, 2-mercaptobenzimidazole, 5-methylthio-2-mercaptothiadiazole, and the like. (9) Peroxide Typical peroxides include dibenzoyl peroxide and 3,3',4,4'-tetra(t-butylperoxycarbonyl)benzophenone. Particularly effective among these activators are carbonyl compounds, sulfonyloxime compounds, acyloxime compounds, halogen compounds, and hexaarylbiimidazole compounds. A binder may be used in the polymerizable composition of the present invention if necessary. Also, the material must be so good that demixing does not occur in all of the manufacturing steps of the photosensitive material, including drying, and it is possible to develop the photosensitive layer or resist layer after image exposure, whether by solution development or peel development. In particular, it is required to have characteristics such as being able to form a tough film as a photosensitive layer or a resist layer, and is usually appropriately selected from linear organic polymers. Specific examples of binders include chlorinated polyethylene, chlorinated polypropylene, polyacrylic acid alkyl esters (alkyl groups include methyl group, ethyl group, n-butyl group, iso-butyl group, n-hexyl group, (2-ethylhexyl group, etc.), copolymers of acrylic acid alkyl esters (alkyl groups are the same as above) and at least one of monomers such as acrylonitrile, vinyl chloride, vinylidene chloride, styrene, butadiene, polyvinyl chloride, vinyl chloride and acrylonitrile. copolymers of polyvinylidene chloride, copolymers of vinylidene chloride and acrylonitrile, polyvinyl acetate, polyvinyl alcohol, polyacrylonitrile, copolymers of acrylonitrile and styrene, copolymers of acrylonitrile with butadiene and styrene, Methacrylic acid alkyl ester (alkyl groups include methyl group, ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, iso-butyl group, n-
hexyl group, cyclohexyl group, 2-ethylhexyl group, etc.), a copolymer of a methacrylic acid alkyl ester (the alkyl group is the same as above) and at least one monomer such as acrylonitrile, vinyl chloride, vinylidene chloride, styrene, butadiene,
Polystyrene, poly α-methylstyrene, polyamide (6-nylon, 6,6-nylon, etc.),
Examples include methyl cellulose, ethyl cellulose, acetyl cellulose, polyvinyl formal, and polyvinyl butyral. Furthermore, if a water or alkaline water soluble organic polymer is used, water or alkaline water development becomes possible. Examples of such polymers include addition polymers having carboxylic acid in the side chain, such as methacrylic acid copolymers (for example, copolymers of methyl methacrylate and methacrylic acid, and copolymers of ethyl methacrylate and methacrylic acid). polymers, copolymers of butyl methacrylate and methacrylic acid, copolymers of benzyl methacrylate and methacrylic acid, copolymers of methacrylic acid with styrene and methacrylic acid, etc.), acrylic acid copolymers (acrylic acid Copolymers of ethyl and acrylic acid, copolymers of butyl acrylate and acrylic acid, copolymers of ethyl acrylate and styrene and acrylic acid, etc.), as well as itaconic acid copolymers and crotonic acid copolymers. There are polymerized and partially esterified maleic acid copolymers, as well as acidic cellulose derivatives having carboxylic acid in their side chains. These high molecular weight polymers may be used alone as a binder, but two or more types must be compatible with each other to the extent that demixing does not occur during the manufacturing process from preparation of the coating solution to application and drying. Good high molecular weight polymers can be mixed in suitable ratios and used as binders. The molecular weight of the high molecular weight polymer used as a binder can take a wide range of values depending on the type of polymer, but
Generally 5,000 to 2 million, more preferably 10,000 to 100
A range of 10,000 is preferred. Furthermore, during the production or storage of the composition of the present invention, it is desirable to add a thermal polymerization inhibitor to prevent unnecessary thermal polymerization of the polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond. Suitable thermal polymerization inhibitors include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, cuprous chloride, phenothiazine, chloranil,
Examples include naphthylamine, β-naphthol, nitrobenzene, and dinitrobenzene. In some cases, dyes or pigments may also be used for coloring purposes, such as methylene blue, crystal violet, rhodamine B, fuchsin, auramine, azo dyes, anthraquinone dyes, titanium oxide, carbon black, iron oxide, phthalocyanine pigments, azo Pigments and the like may also be added. Furthermore, plasticity can be added to the photopolymerizable composition of the present invention, if necessary. Examples of plasticity include phthalate esters such as dimethyl phthalate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dicyclohexyl phthalate, ditridecyl phthalate, dimethyl glycol phthalate, ethyl phthalyl ethyl glycolate, butyl phthalyl butyl glycolate, etc. Examples include glycol esters, phosphoric acid esters such as tricresyl phosphate and triphenyl phosphate, and aliphatic dibasic acid esters such as diisobutyl adipate, dioctyl adipate, dibutyl sebacate and dibutyl maleate. The photopolymerizable composition of the present invention is used by dissolving the above-mentioned various components in a solvent and applying the solution onto a suitable support by a known method. Next, preferred ratios of the various constituent components in this case are expressed in parts by weight based on 100 parts by weight of the polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond.

【表】 本発明の光重合性組成物を塗布するときに用い
られる溶媒としては、エチレンジクロリド、シク
ロヘキサノン、メチルエチルケトン、メチルセロ
ソルブ、エチルセロソルブ、酢酸メチルセロソル
ブ、モノクロルベンゼン、トルエン、キシレン、
酢酸エチル、酢酸ブチルなどである。これらの溶
媒は単独または混合して使用される。 感光性平版印刷版を製造する場合の塗布量は、
一般に固形分して0.1〜10.0g/m2が適当であり、
特に好ましくは0.5〜5.0g/m2である。 本発明の光重合性組成物は感光性平版印刷版の
感光層として好適である。感光性平版印刷版に適
した支持体としては、親水化処理したアルミニウ
ム板、たとえばシリケート処理アルミニウム板、
陽極酸化アルミニウム板、シリケート電着したア
ルミニウム板があり、その他亜鉛板、ステンレス
板、クローム処理銅板、親水化処理したプラスチ
ツクフイルムや紙を挙げることができる。 また本発明の組成物をフオトレジストとして使
用する場合には銅板または銅メツキ板、ステンレ
ス板、ガラス板等の種々のものを支持体として用
いることができる。 「実施例」 以下、本発明に使用される光重合開始剤の合成
例と本発明の実施例を記すが、本発明はこれに限
定されるものではない。 合成例 化合物例17の製造方法 N−メチル−2−メチルメルカプト−ベンゾ
〔4,5〕ベンゾチアゾリウムトシレート35.4g
および1,3−ジ−n−ブチルチオバルビツル酸
21.7gをアセトントリル500mlに溶解した後、ト
リエチルアミン40mlを加えた。混合物を2時間加
熱還流した後放冷し、析出した結晶を取した。
酢酸エチルから2回再結晶し、融点180〜182℃の
結晶31.0gを得た。 電子スペクトル(テトラヒドロフラン〔THF〕
中)λmax399nm (log〓=4.72) 元素分析値 C24H27O2N3S2として 計算値 C;63.55% H;6.00% N;9.26% 実測値 C;63.46% H;6.14% N;8.89% 実施例1〜3、比較例1〜9 ナイロンブラシで砂目立て後シリケート処理し
たアルミニウム板に回転塗布機を用いて回転速度
200r.p.m.にて第1表に示す光重合開始剤を用い
た下記感光液を塗布し100℃5分間乾燥し、乾燥
膜厚約2μの感光層を形成させ感光板を作成した。 ベンジルメタクリレート−メタアクリル酸(モ
ル比73/27)共重合体 ……5.0g ペンタエリスリトールテトラアクリレート
……3.6g 光重合開始剤(モノマーに対して1モル%)メ
チルエチルケトン ……20g メチルセルソルブアセテート 20g 露光は真空焼枠装置を用いて、作製した感光板
上にステツプ・ウエツジ(濃度段差0.15、濃度段
数15段)を置き、2KWの超高圧水銀灯を7秒間
照射し、露光後下記処方の現像液を用いて現像し
た。 (現像液) リン酸三ナトリウム ……25g リン酸一ナトリウム ……5g ブチルセルソルブ ……70g 界面活性剤 ……2ml 水 ……1 現出した画像の対応するステツプ・ウエツジの
最高段数を試料の感度として第1表に示した。段
数が高いほど感度も高いことを意味する。 また比較のために光重合開始剤として本発明の
化合物に替えて比較例に示す化合物を各々モノマ
ーに対し1モル%添加した時の感度を第2表に示
した。
[Table] Solvents used when applying the photopolymerizable composition of the present invention include ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, methyl cellosolve acetate, monochlorobenzene, toluene, xylene,
These include ethyl acetate and butyl acetate. These solvents may be used alone or in combination. The coating amount when manufacturing a photosensitive lithographic printing plate is:
Generally, a solid content of 0.1 to 10.0g/ m2 is appropriate;
Particularly preferred is 0.5 to 5.0 g/ m2 . The photopolymerizable composition of the present invention is suitable as a photosensitive layer of a photosensitive lithographic printing plate. Supports suitable for photosensitive lithographic printing plates include hydrophilic aluminum plates, such as silicate-treated aluminum plates,
Examples include anodized aluminum plates and silicate electrodeposited aluminum plates, as well as zinc plates, stainless steel plates, chromium-treated copper plates, and hydrophilized plastic films and papers. Further, when the composition of the present invention is used as a photoresist, various materials such as a copper plate, a copper plated plate, a stainless steel plate, a glass plate, etc. can be used as a support. "Examples" Hereinafter, synthesis examples of the photopolymerization initiator used in the present invention and examples of the present invention will be described, but the present invention is not limited thereto. Synthesis example Method for producing compound example 17 N-methyl-2-methylmercapto-benzo[4,5]benzothiazolium tosylate 35.4g
and 1,3-di-n-butylthiobarbituric acid
After dissolving 21.7 g in 500 ml of acetonetrile, 40 ml of triethylamine was added. The mixture was heated under reflux for 2 hours, then allowed to cool, and the precipitated crystals were collected.
It was recrystallized twice from ethyl acetate to obtain 31.0 g of crystals with a melting point of 180-182°C. Electronic spectrum (tetrahydrofuran [THF]
Medium) λmax399nm (log = 4.72) Elemental analysis value C 24 H 27 O 2 N 3 S 2 Calculated value C; 63.55% H; 6.00% N; 9.26% Actual value C; 63.46% H; 6.14% N; 8.89 % Examples 1 to 3, Comparative Examples 1 to 9 After graining with a nylon brush, a silicate-treated aluminum plate was coated with a rotational speed using a rotary coating machine.
The following photosensitive solution using the photopolymerization initiator shown in Table 1 was applied at 200 rpm and dried at 100°C for 5 minutes to form a photosensitive layer with a dry film thickness of about 2 μm to prepare a photosensitive plate. Benzyl methacrylate-methacrylic acid (molar ratio 73/27) copolymer...5.0g Pentaerythritol tetraacrylate
……3.6g Photopolymerization initiator (1 mol% based on monomer) Methyl ethyl ketone ……20g Methyl cell solve acetate 20g For exposure, a vacuum printing frame device was used, and a step wedge (density step 0.15, A 2KW ultra-high-pressure mercury lamp was used to irradiate the film for 7 seconds, and after exposure, it was developed using a developer with the following formulation. (Developer) Trisodium phosphate...25g Monosodium phosphate...5g Butyl cellosolve...70g Surfactant...2ml Water...1. The sensitivity is shown in Table 1. The higher the number of stages, the higher the sensitivity. For comparison, Table 2 shows the sensitivity when 1 mol% of each of the compounds shown in Comparative Examples was added to the monomer in place of the compound of the present invention as a photopolymerization initiator.

【表】【table】

【表】【table】

【表】 第1表および第2表に示したように、本発明の
光重合開始剤を用いた場合、比較例1〜9に比較
してより高い感度を示し、本発明の所期の効果が
十分に認められた。 実施例4〜6 比較例10 実施例1〜3の方法において本発明の光重合開
始剤として化合物例17の化合物をモノマーに対し
て5モル%、また更に活性剤として下記第3表に
示した化合物を5モル%添加し、露光時間を4秒
にした以外実施例1〜3と同様の方法で塗布液を
調液し、同じ方法を用いて感光板を作成し、露
光、現像を行なつた。現出した画像の対応するス
テツプウエツジの最高段数を試料の感度として第
3表に示した。また比較として活性剤を加えない
とき比較例10の感度を第3表に示した。
[Table] As shown in Tables 1 and 2, when the photopolymerization initiator of the present invention was used, higher sensitivity was exhibited compared to Comparative Examples 1 to 9, and the desired effect of the present invention was achieved. was fully recognized. Examples 4 to 6 Comparative Example 10 In the methods of Examples 1 to 3, the compound of Compound Example 17 was used as a photopolymerization initiator of the present invention at 5 mol% based on the monomer, and further as an activator shown in Table 3 below. A coating solution was prepared in the same manner as in Examples 1 to 3 except that 5 mol% of the compound was added and the exposure time was 4 seconds, and a photosensitive plate was prepared using the same method, followed by exposure and development. Ta. The highest number of step wedges corresponding to the developed image is shown in Table 3 as the sensitivity of the sample. For comparison, Table 3 shows the sensitivity of Comparative Example 10 when no activator was added.

【表】 第3表から、本願発明の光重合開始剤は更に活
性剤を加えることによつて、感度が増加すること
が明らかであろう。 実施例7〜10 比較例11〜17 実施例1〜3の方法において本発明の光重合開
始剤として化合物例3,4,7,13の化合物をモ
ノマーに対して1モル%、また更に活性剤として
2−スチリル−3−フエニルスルホニルオキシ−
4(3H)キナゾリノンをモノマーに対して5モル
%加えた以外は実施例1〜3と同様の方法で感光
板を作成し、露光現像を行なつた。現出したステ
ツプウエツジ段数を第4表に示した。また比較例
として化合物例3,4,7,13に代えて第4表に
示した化合物を用いた外は実施例7〜10と同様な
方法を行い得られた感度を第4表に示す。
[Table] It is clear from Table 3 that the sensitivity of the photopolymerization initiator of the present invention increases by further adding an activator. Examples 7 to 10 Comparative Examples 11 to 17 In the method of Examples 1 to 3, the compounds of Compound Examples 3, 4, 7, and 13 were added as the photopolymerization initiator of the present invention in an amount of 1 mol % based on the monomer, and also as an activator. as 2-styryl-3-phenylsulfonyloxy-
A photosensitive plate was prepared in the same manner as in Examples 1 to 3, except that 5 mol % of 4(3H) quinazolinone was added to the monomer, and then exposed and developed. Table 4 shows the number of step wedges that appeared. Table 4 shows the sensitivity obtained by carrying out the same method as in Examples 7 to 10, except that the compounds shown in Table 4 were used as comparative examples in place of Compound Examples 3, 4, 7, and 13.

【表】【table】

【表】【table】

【表】 第4表から本発明の光重合開始剤を用いた実施
例7〜10は公知の化合物を用いた比較例11〜20よ
り感度が優れることが明らかであろう。
[Table] It is clear from Table 4 that Examples 7 to 10 using the photopolymerization initiator of the present invention have better sensitivity than Comparative Examples 11 to 20 using known compounds.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 エチレン性不飽和二重結合を少なくとも1個
有する付加重合可能な化合物および光重合開始剤
を含む光重合性組成物において、該光重合開始剤
として、少なくとも下記一般式()で表わされ
る化合物を1種含有することを特徴とする光重合
性組成物。 式中、R1、R2、R3、R4、R5はそれぞれ独立に
水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリー
ル基、置換アリール基、アリル基または置換アリ
ル基を表わし、Yは−O−、−S−、−Se−、−C
(CH32−および−CH=CH−より選ばれる2価
原子または原子団であり、Xは酸素原子、または
硫黄原子を表わす。またR1、R2は共にそれが結
合している炭素原子と共に環を形成していても良
い。
[Scope of Claims] 1. In a photopolymerizable composition containing an addition polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond and a photopolymerization initiator, at least the following general formula ( ) A photopolymerizable composition containing one type of compound represented by: In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , and R 5 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group, an allyl group, or a substituted allyl group, and Y is - O-, -S-, -Se-, -C
It is a divalent atom or atomic group selected from ( CH3 ) 2- and -CH=CH-, and X represents an oxygen atom or a sulfur atom. Further, R 1 and R 2 may both form a ring together with the carbon atom to which they are bonded.
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