JPH0546039U - Interlock mechanism - Google Patents
Interlock mechanismInfo
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- JPH0546039U JPH0546039U JP9741891U JP9741891U JPH0546039U JP H0546039 U JPH0546039 U JP H0546039U JP 9741891 U JP9741891 U JP 9741891U JP 9741891 U JP9741891 U JP 9741891U JP H0546039 U JPH0546039 U JP H0546039U
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Abstract
(57)【要約】
【目的】本考案は、ウェハを一枚ごとに処理して半導体
を製造する枚葉処理において、ウェハを締め付け固定す
る際に、曲げたり,破損しないようにする。
【構成】ウェハ1が所定の位置に搬送されて来ると、モ
ータ11,21,31が動作して、ウェハ1を締め付け
る方向に、グリップ部13,23,33が動く。ウェハ
を締め付け始めるとグリップ圧力の上昇がグリップ圧力
センサ12,22,32によって検出される。この圧力
値は電圧変換されて、14,24,34のコンパレータ
に入力される。コンパレータでは、15,25,35の
圧力上限値レジスタの値と比較され、上限値を超えたと
きにはモータに対して停止信号を出力し、モータが止ま
る。
(57) [Summary] [Object] The present invention, in single-wafer processing for processing semiconductor wafers one by one to manufacture semiconductors, prevents the wafer from being bent or damaged when clamped and fixed. [Structure] When a wafer 1 is conveyed to a predetermined position, motors 11, 21, 31 operate to move grip portions 13, 23, 33 in a direction in which the wafer 1 is tightened. When the tightening of the wafer is started, an increase in grip pressure is detected by the grip pressure sensors 12, 22, 32. This pressure value is converted into a voltage and input to 14, 24 and 34 comparators. In the comparator, the value of the pressure upper limit register of 15, 25, 35 is compared, and when it exceeds the upper limit value, a stop signal is output to the motor and the motor stops.
Description
【0001】[0001]
本考案は、ウェハを一枚ごとに処理して半導体を製造する枚葉処理において、 ウェハを保持する装置に関する。 The present invention relates to an apparatus for holding wafers in a single-wafer processing for manufacturing semiconductors by processing each wafer.
【0002】[0002]
近年、超クリーンな環境でウェハを処理するプロセスラインが脚光を浴びてい る。(NIKKEI MICRODEVICES 別冊no.2 1988年10月 p182−p 190)このラインにおいてウエハを一枚ごとに処理する(枚葉処理)ことは、 超クリーンな空間の大きさが限られることからも、必須となっている。 In recent years, process lines that process wafers in an ultra-clean environment have been in the spotlight. (NIKKEI MICRODEVICES separate volume No.2 October 1988 p182-p190) It is indispensable to process each wafer in this line (single wafer processing) because the size of ultra-clean space is limited. Has become.
【0003】[0003]
上記従来技術は、例えばウェハを洗浄処理する際のウェハの固定方法について 詳しく言及していない。本考案は、ウェハを固定して処理する際の固定を提供す ることを目的とする。 The above-mentioned prior art does not refer in detail to a method of fixing a wafer when cleaning the wafer. The present invention aims to provide a fixture when the wafer is secured and processed.
【0004】[0004]
上記目的を達成するための簡便な機構はウェハをつかむグリップ機構であろう 。例えば、搬送されてきたウェハを平面に平行方向に3点でつかんで、洗浄など の外力に対して、ウェハがぶれることのないように保持することができる。しか し、グリップ時にあまりに圧力を掛け過ぎるとウェハが曲がって、ウェハを破損 してしまう。 A simple mechanism for achieving the above purpose would be a grip mechanism that holds the wafer. For example, the transferred wafer can be held at three points in the direction parallel to the plane and held so that the wafer does not shake due to external force such as cleaning. However, if too much pressure is applied during gripping, the wafer will bend and it will be damaged.
【0005】 そこで、ウェハを破損しないように、ウェハをグリップする際の圧力を測定し て、ある上限値を超えた場合に、グリップ操作を停止させるようにした。Therefore, the pressure at the time of gripping the wafer is measured so as not to damage the wafer, and the grip operation is stopped when a certain upper limit value is exceeded.
【0006】[0006]
設定する上限値を適当な値にすることによって一定圧力ですべてのウェハをグ リップすることができ、グリップ圧力による無用で不均一なウェハの歪をなくす ことができる。さらに、グリップ圧力のオーバーによるウェハの曲がり/破損を 防ぐことができる。 By setting the upper limit value to an appropriate value, all wafers can be gripped with a constant pressure, and unnecessary and non-uniform wafer distortion due to grip pressure can be eliminated. Further, it is possible to prevent the wafer from being bent / damaged due to an excessive grip pressure.
【0007】[0007]
以下、本考案の一実施例を図1により説明する。1は搬送されてきて、これか らプロセスを行うところのウェハである。13,23,33はこのウェハ1をつ かむグリップ部である。11,21,31はグリップ部をウェハ平面に水平に動 作させるための駆動モータである。12,22,32は、グリップ部がウェハを どのくらいの圧力で締め付けているかを測定する圧力センサである。 An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG. Reference numeral 1 is a wafer that has been transferred and is in the process of being processed. Reference numerals 13, 23 and 33 are grip portions for holding the wafer 1. Reference numerals 11, 21, 31 are drive motors for moving the grip portion horizontally on the wafer plane. Reference numerals 12, 22, and 32 are pressure sensors that measure how much pressure the grip portion clamps the wafer.
【0008】 ウェハが所定の位置に搬送されて来ると、モータ11,21,31が動作して 、ウェハ1を締め付ける方向に、グリップ部13,23,33が動く。ウェハを 締め付け始めるとグリップ圧力の上昇がグリップ圧力センサ12,22,32に よって検出される。この圧力値は電圧変換されて、14,24,34のコンパレ ータに入力される。コンパレータでは、15,25,35の圧力上限値レジスタ の値と比較され、上限値を超えたときにはモータに対して停止信号を出力し、モ ータが止まる。When the wafer is transferred to a predetermined position, the motors 11, 21, 31 operate to move the grip portions 13, 23, 33 in the direction in which the wafer 1 is tightened. When the wafer is tightened, the grip pressure sensor 12, 22, 32 detects an increase in grip pressure. This pressure value is converted into a voltage and input to the comparators 14, 24 and 34. The comparator compares the values of the pressure upper limit value registers of 15, 25, and 35, and when the value exceeds the upper limit value, outputs a stop signal to the motor and stops the motor.
【0009】 以上の機構によって、ウェハを常に適当な圧力によって締め付けることができ 、ウェハの曲がりや破損を防止することができる。With the above mechanism, the wafer can be always clamped with an appropriate pressure, and the wafer can be prevented from being bent or damaged.
【0010】 また、ウェハ自身の検出装置としても使うことができる。通常、物体の有無の 検出には、フォトセンサが用いられるが、ウェハは表面に光沢があるためにフォ トセンサの使用は適当ではない。また、超クリーンな空間の大きさが限られてい るために、フォトセンサを取り付けるスペースを取りにくい場合が多い。また、 フォトセンサは通常耐酸性になっていないため、ウェハを薬液処理する場合にも 不適である。図1の装置においては、13,23,33のみを筐体内に封じて超 クリーンな環境を作ることができるので(12,22,32のセンサはダイアフ ラムによって実現する)超クリーンな環境のスペースを極力小さくすることがで きる。It can also be used as a detection device for the wafer itself. Usually, a photo sensor is used to detect the presence or absence of an object, but the use of a photo sensor is not appropriate due to the glossy surface of the wafer. In addition, because the size of the ultraclean space is limited, it is often difficult to secure space for installing the photosensor. Further, since the photo sensor is not normally acid-resistant, it is not suitable for treating a wafer with a chemical solution. In the device shown in Fig. 1, only 13, 23, 33 can be enclosed in the housing to create an ultra-clean environment (the sensor for 12, 22, 32 is realized by a diaphragm). Can be made as small as possible.
【0011】[0011]
本考案によれば、ウェハを規定圧力によって締め付けることができるので、ウ ェハの曲がり、破損を防ぐことができる。また、ウェハを締め付けて固定するた びに発生する不均一な歪を軽減することができる。 According to the present invention, since the wafer can be clamped by the specified pressure, it is possible to prevent the wafer from being bent or damaged. In addition, it is possible to reduce non-uniform strain that occurs each time the wafer is clamped and fixed.
【図1】本考案の一実施例の、ウェハ締め付け装置を示
す図である。FIG. 1 is a view showing a wafer tightening device according to an embodiment of the present invention.
1…ウェハ、11,21,31…グリップ駆動モータ、
12,22,32…グリップ圧力センサ、13,23,
33…ウェハグリップ部、14,24,34…コンパレ
ータ、15,25,35…圧力上限値レジスタ。1 ... Wafer, 11, 21, 31 ... Grip drive motor,
12, 22, 32 ... Grip pressure sensor, 13, 23,
33 ... Wafer grip part, 14, 24, 34 ... Comparator, 15, 25, 35 ... Pressure upper limit register.
Claims (1)
と、ウェハを締め付け圧力を検出する検出器と、圧力の
上限値を格納する圧力値記憶装置と、前記圧力上限値を
検出器からの出力値と比較する比較機と、から成るウェ
ハ枚葉処理装置において、上限値を超える圧力を検出し
たらグリップ機構の締め付け動作を停止させることを特
徴とするインタロック機構。1. A grip mechanism for tightening a wafer, a detector for detecting a pressure for tightening a wafer, a pressure value storage device for storing an upper limit value of the pressure, and an output value of the pressure upper limit value from the detector. An interlock mechanism characterized by stopping the tightening operation of the grip mechanism when a pressure exceeding an upper limit value is detected in a wafer single-wafer processing apparatus comprising:
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9741891U JPH0546039U (en) | 1991-11-27 | 1991-11-27 | Interlock mechanism |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9741891U JPH0546039U (en) | 1991-11-27 | 1991-11-27 | Interlock mechanism |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0546039U true JPH0546039U (en) | 1993-06-18 |
Family
ID=14191909
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9741891U Pending JPH0546039U (en) | 1991-11-27 | 1991-11-27 | Interlock mechanism |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0546039U (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017204569A (en) * | 2016-05-11 | 2017-11-16 | 三益半導体工業株式会社 | Wafer holding mechanism and method for turntable and wafer rotation retainer |
-
1991
- 1991-11-27 JP JP9741891U patent/JPH0546039U/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017204569A (en) * | 2016-05-11 | 2017-11-16 | 三益半導体工業株式会社 | Wafer holding mechanism and method for turntable and wafer rotation retainer |
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