JPH0541097A - Static type semiconductor storing device - Google Patents

Static type semiconductor storing device

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JPH0541097A
JPH0541097A JP3194140A JP19414091A JPH0541097A JP H0541097 A JPH0541097 A JP H0541097A JP 3194140 A JP3194140 A JP 3194140A JP 19414091 A JP19414091 A JP 19414091A JP H0541097 A JPH0541097 A JP H0541097A
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JP
Japan
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level
signal
control signal
gate
word line
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Application number
JP3194140A
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Japanese (ja)
Inventor
Yukio Iwasaki
幸男 岩崎
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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Publication of JPH0541097A publication Critical patent/JPH0541097A/en
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Abstract

PURPOSE:To perform a burn-in in a short time and to reduce a time for screening. CONSTITUTION:A pulse signal with a prescribed pulse width is generated by a pulse generating circuit 63 in accordance with the level change of a chip enable control signal/CE1 and a write enable control signal/WE and the output Q of a flip-flop 66 is set to a 'H' level in an interval when the chip enable control signal CE2 is activated. The above-mentioned pulse signal and the output Q of the flip-flop 66 are supplied to a row decoder through an OR gate 67.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明はデータの書き込み/読
み出し動作が行われるスタティック型半導体記憶装置に
係り、特に製造後のバーンイン時間の短縮が図られたス
タティック型半導体記憶装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a static type semiconductor memory device in which data write / read operations are performed, and more particularly to a static type semiconductor memory device in which burn-in time after manufacturing is shortened.

【0002】[0002]

【従来の技術】データの書き込み/読み出し動作が行わ
れる半導体メモリ、例えばスタティック型メモリセルを
有するスタティック型半導体メモリでは、データの書き
込み時もしくは読み出し時にアドレス信号に応じてワー
ド線が選択され、選択されたワード線に接続されている
メモリセルに対してデータの書き込みもしくはメモリセ
ルからデータの読み出しが行われる。
2. Description of the Related Art In a semiconductor memory in which data writing / reading operations are performed, for example, a static semiconductor memory having static memory cells, a word line is selected and selected according to an address signal when writing or reading data. Data is written to or read from the memory cell connected to the word line.

【0003】通常、スタティック型半導体メモリでは、
ワード線によって選択されている期間中、メモリセルで
電流が消費される。従って、最近のスタティック型半導
体メモリでは、消費電力を削減する目的で、ワード線を
パルス的に駆動し、データの書き込み/読み出し期間が
終了したならばワード線の駆動を停止するようにしたも
のが開発されている。
Generally, in a static semiconductor memory,
Current is consumed in the memory cell during the period selected by the word line. Therefore, in recent static semiconductor memories, in order to reduce power consumption, word lines are driven in a pulsed manner, and when the data writing / reading period ends, the driving of the word lines is stopped. Being developed.

【0004】一方、半導体装置を製造出荷する場合、そ
の信頼性を確保するために、良品を劣化させたり不良品
としないように半導体装置の潜在的な不良を露呈させ、
欠陥半導体装置を除去するスクリーニングが行われてい
る。このスクリーニングの方法として、電界加速と温度
加速を同時に実現できるバーンイン法が多用されてい
る。このバーンイン法は、電圧を実使用電圧より高く、
温度を実使用温度より高くして半導体装置を動作させる
ことにより、実使用条件での初期故障期間以上のストレ
スを短時間で半導体装置に経験させてしまい、初期動作
不良を起こす恐れのある半導体装置を出荷前に予め選別
してスクリーニングするものである。これにより、初期
動作不良を起こす恐れがある半導体装置が効果的に取り
除かれ、製品の信頼性を高くすることができる。
On the other hand, when manufacturing and shipping a semiconductor device, in order to ensure its reliability, a potential defect of the semiconductor device is exposed so that a good product is not deteriorated or a defective product is not provided.
Screening is performed to remove defective semiconductor devices. As a screening method, a burn-in method that can simultaneously realize electric field acceleration and temperature acceleration is widely used. In this burn-in method, the voltage is higher than the actual working voltage,
By operating the semiconductor device at a temperature higher than the actual use temperature, the semiconductor device may be subjected to stress more than the initial failure period under the actual use condition in a short time, which may cause initial operation failure. Are selected and screened before shipment. As a result, the semiconductor device that may cause the initial malfunction is effectively removed, and the reliability of the product can be improved.

【0005】半導体メモリの分野では、バーンイン時に
ワード線に所定の期間だけ電圧ストレスを印加する必要
がある。しかし、従来のスタティック型半導体メモリで
は、消費電力削減の目的でワード線がパルス駆動されて
いるため、1度のアクセスでは極くわずかな電圧ストレ
スしか印加することができず、長時間のスクリーニング
が必要になるという問題がある。
In the field of semiconductor memory, it is necessary to apply voltage stress to a word line for a predetermined period at the time of burn-in. However, in the conventional static semiconductor memory, since the word line is pulse-driven for the purpose of reducing power consumption, only a very small voltage stress can be applied with one access, and long-time screening is required. There is a problem that it becomes necessary.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】上記のように従来のス
タティック型半導体記憶装置では、ワード線が常にパル
ス駆動されるため、バーンインに要する時間が長くかか
るという問題がある。
As described above, the conventional static semiconductor memory device has a problem in that it takes a long time for burn-in because the word line is constantly pulse-driven.

【0007】この発明は上記のような事情を考慮してな
されたものであり、その目的は、短時間でバーンインを
行うことができ、スクリーニングに要する時間の短縮を
図ることができるスタティック型半導体記憶装置を提供
することである。
The present invention has been made in consideration of the above circumstances, and an object thereof is to carry out burn-in in a short time and to shorten the time required for screening. It is to provide a device.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】この発明のスタティック
型半導体記憶装置は、スタティック型メモリセルが接続
されたワード線と、外部制御信号に応じて規定される期
間中、上記ワード線の駆動を継続させるワード線駆動手
段とを具備したことを特徴とする。
In a static semiconductor memory device of the present invention, a word line to which a static memory cell is connected and the word line is continuously driven for a period defined by an external control signal. And a word line driving means for driving the same.

【0009】また、上記ワード線駆動手段は、第1のチ
ップイネーブル制御信号及びライトイネーブル制御信号
それぞれのレベル変化を検出して所定パルス幅の第1の
パルス信号を発生する第1のパルス信号発生手段と、第
2のチップイネーブル制御信号が活性化される際にその
活性期間に対応したパルス幅の第2のパルス信号を発生
する第2のパルス信号発生手段と、上記第1のパルス信
号及び第2のパルス信号が供給される論理和ゲートと、
アドレス信号及び上記論理ゲートの出力が供給され、ア
ドレス信号に応じたワード線に上記論理ゲートの出力を
供給制御するアドレスデコード手段とから構成されてい
ることを特徴とする。
Further, the word line drive means detects a level change of each of the first chip enable control signal and the write enable control signal and generates a first pulse signal having a predetermined pulse width. Means, second pulse signal generating means for generating a second pulse signal having a pulse width corresponding to the activation period when the second chip enable control signal is activated, the first pulse signal, and A logical sum gate supplied with a second pulse signal,
It is characterized by comprising an address decoding means for supplying the address signal and the output of the logic gate and controlling the supply of the output of the logic gate to the word line corresponding to the address signal.

【0010】[0010]

【作用】バーインインの際に、外部制御信号によってワ
ード線の駆動期間を設定することができ、これによりワ
ード線に接続された回路に対して1回のアクセスで電圧
ストレスを必要な期間印加することができる。
When the burn-in is performed, the driving period of the word line can be set by the external control signal, and thus the voltage stress can be applied to the circuit connected to the word line for a necessary period with one access. You can

【0011】[0011]

【実施例】以下、図面を参照してこの発明を実施例によ
り説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.

【0012】図4はこの発明のスタティック型半導体記
憶装置全体の概略的な構成を示すブロック図である。図
において、ロウアドレスバッファ11は外部ロウアドレス
を受け、この外部ロウアドレスから各ビット毎にそれぞ
れ相補なレベル持つ内部ロウアドレスを発生する。この
内部ロウアドレスはロウデコーダ12に供給される。ロウ
デコーダ12の出力はメモリセルアレイ13に供給される。
このメモリセルアレイ13では図示しないスタティック型
のメモリセルが行方向及び列方向に配列されており、各
行に配列されたメモリセルは図示しない複数の各ワード
線に接続され、各列に配列されたメモリセルは図示しな
い複数の各ビット線対に接続されている。そして、上記
ロウデコーダ12の出力に基づきメモリセルアレイ13の1
つのワード線が選択される。
FIG. 4 is a block diagram showing a schematic structure of the entire static type semiconductor memory device of the present invention. In the figure, a row address buffer 11 receives an external row address and generates an internal row address having a complementary level for each bit from the external row address. This internal row address is supplied to the row decoder 12. The output of the row decoder 12 is supplied to the memory cell array 13.
In this memory cell array 13, static type memory cells (not shown) are arranged in the row direction and the column direction, and the memory cells arranged in each row are connected to a plurality of word lines (not shown) and arranged in each column. The cells are connected to a plurality of bit line pairs (not shown). Then, based on the output of the row decoder 12, 1 of the memory cell array 13 is
Two word lines are selected.

【0013】一方、カラムアドレスバッファ14は外部カ
ラムアドレスを受け、この外部カラムアドレスから各ビ
ット毎にそれぞれ相補なレベルを持つ内部カラムアドレ
スを発生する。この内部カラムアドレスはカラムデコー
ダ15に供給される。カラムデコーダ15の出力はカラムセ
レクトゲート16に供給される。このカラムセレクトゲー
ト16は、上記カラムデコーダ15の出力に基づき、上記メ
モリセルアレイ13の複数のビット線対の中から1つを選
択する。
On the other hand, the column address buffer 14 receives an external column address and generates an internal column address having a complementary level for each bit from the external column address. This internal column address is supplied to the column decoder 15. The output of the column decoder 15 is supplied to the column select gate 16. The column select gate 16 selects one of a plurality of bit line pairs of the memory cell array 13 based on the output of the column decoder 15.

【0014】17はセンスアンプである。このセンスアン
プ17は、データ読み出し時は、上記カラムセレクトゲー
ト16によって選択される1つのビット線対に接続された
メモリセルからの読み出し電位を増幅して外部にデータ
として出力し、データ書き込み時は、上記カラムセレク
トゲート16によって選択される1つのビット線対に接続
されたメモリセルに対し書き込みデータに応じた電位を
供給する。
Reference numeral 17 is a sense amplifier. The sense amplifier 17 amplifies a read potential from a memory cell connected to one bit line pair selected by the column select gate 16 at the time of data reading and outputs it as data to the outside, and at the time of data writing. , A potential corresponding to write data is supplied to the memory cells connected to one bit line pair selected by the column select gate 16.

【0015】18は制御回路である。この制御回路18は、
外部から供給されるライト制御信号/WE及び2種類の
チップセレクト制御信号/CE1、CE2に基づいて各
種内部制御信号を発生する。そして、ここで発生される
1つの内部制御信号であるパルス信号WPは上記ロウデ
コーダ12に供給される。
Reference numeral 18 is a control circuit. This control circuit 18
Various internal control signals are generated based on a write control signal / WE and two types of chip select control signals / CE1 and CE2 supplied from the outside. The pulse signal WP which is one internal control signal generated here is supplied to the row decoder 12.

【0016】図5は上記実施例におけるメモリセルアレ
イ13付近の詳細な構成を示す回路図である。メモリセル
アレイ13内には前記のように多数のメモリセルが設けら
れており、図では1個のメモリセル20のみが図示されて
いる。このメモリセル20は、負荷素子21,22として抵抗
を、駆動素子23,24及びトランスファゲゲート25,26と
してNチャネルのMOSトランジスタをそれぞれ用い
た、いわゆるE/R型のメモリセルであり、このメモリ
セル20はワード線WLとビット線対BL,/BLに接続
されている。
FIG. 5 is a circuit diagram showing a detailed structure near the memory cell array 13 in the above embodiment. A large number of memory cells are provided in the memory cell array 13 as described above, and only one memory cell 20 is shown in the figure. The memory cell 20 is a so-called E / R type memory cell in which resistors are used as the load elements 21 and 22, and N-channel MOS transistors are used as the drive elements 23 and 24 and the transfer gates 25 and 26. The memory cell 20 is connected to the word line WL and the bit line pair BL, / BL.

【0017】上記ビット線対BL,/BLにはビット線
プリチャージ/イコライズ回路30が接続されている。こ
の回路30では、ビット線BL,/BLのそれぞれと電源
電圧Vccとの間に、ビット線プリチャージ制御用のPチ
ャネルのMOSトランジスタ31,32それぞれが挿入され
ている。また、ビット線BL,/BLの相互間にはビッ
ト線イコライズ制御用のPチャネルのMOSトランジス
タ33が挿入されている。そして、上記各トランジスタの
31,32,33のゲートにはプリチャージ制御信号φPが供
給される。
A bit line precharge / equalize circuit 30 is connected to the bit line pair BL, / BL. In this circuit 30, P-channel MOS transistors 31 and 32 for bit line precharge control are inserted between the bit lines BL and / BL and the power supply voltage Vcc. A P-channel MOS transistor 33 for controlling bit line equalization is inserted between the bit lines BL and / BL. And for each of the above transistors
The precharge control signal φP is supplied to the gates of 31, 32 and 33.

【0018】また、上記ビット線対BL,/BLにはP
チャネル側ライトセレクト回路40P及びNチャネル側ラ
イトセレクト回路40Nが接続されている。一方のPチャ
ネル側ライトセレクト回路40Pは、ビット線対BL,/
BLと電源電圧Vccとの間に挿入され、ゲートにライト
セレクト信号/SWEが供給されるPチャネルのMOS
トランジスタ41,42で構成されている。他方のNチャネ
ル側ライトセレクト回路40Nは、ビット線対BL,/B
Lとデータ線対DL,/DLとの間に挿入され、ゲート
にライトセレクト信号SWEが供給されるNチャネルの
MOSトランジスタ43,44で構成されている。
Further, P is connected to the bit line pair BL, / BL.
The channel side write select circuit 40P and the N channel side write select circuit 40N are connected. One P-channel side write select circuit 40P includes a bit line pair BL, /
P-channel MOS that is inserted between BL and the power supply voltage Vcc, and the gate is supplied with the write select signal / SWE
It is composed of transistors 41 and 42. The other N-channel side write select circuit 40N includes a bit line pair BL, / B
It is composed of N-channel MOS transistors 43 and 44 which are inserted between L and the data line pair DL and / DL and whose gate is supplied with the write select signal SWE.

【0019】前記カラムセレクトゲート16には、ソー
ス、ドレイン間が上記ビット線対BL,/BLそれぞれ
の途中に挿入され、前記カラムデコーダ15のデコード出
力CDLがゲートに供給されるNチャネルのMOSトラ
ンジスタ51,52が設けられている。なお、この図5の回
路で使用されているMOSトランジスタは全てエンハン
スメント型のものである。
In the column select gate 16, an N-channel MOS transistor is inserted between the source and drain in the middle of each of the bit line pair BL, / BL, and the decode output CDL of the column decoder 15 is supplied to the gate. 51 and 52 are provided. The MOS transistors used in the circuit of FIG. 5 are all enhancement type.

【0020】図1は前記制御回路18において前記パルス
信号WPを発生する回路部分の詳細な構成を示す。前記
ライトイネーブル制御信号/WEはインバータ61を介し
て2入力ANDゲート62の一方入力端に供給される。前
記一方のチップセレクト制御信号/CE1はインバータ
63を介して2入力ANDゲート64の一方入力端に供給さ
れる。また、他方のチップセレクト制御信号CE2は上
記2入力ANDゲート64の他方入力端に供給される。
FIG. 1 shows a detailed structure of a circuit portion for generating the pulse signal WP in the control circuit 18. The write enable control signal / WE is supplied to one input terminal of a 2-input AND gate 62 via an inverter 61. The one chip select control signal / CE1 is an inverter
It is supplied to one input terminal of a 2-input AND gate 64 via 63. The other chip select control signal CE2 is supplied to the other input end of the 2-input AND gate 64.

【0021】上記ANDゲート64の出力は上記ANDゲ
ート62の他方入力端に供給される。また、ANDゲート
62の出力はパルス発生回路65に供給されると共にD型フ
リップフロップ66のデータ入力端に供給される。上記パ
ルス発生回路65は上記ANDゲート62の出力の立上り時
に所定パルス幅のパルス信号を発生する。このパルス発
生回路65で発生されたパルス信号は2入力ORゲート67
の一方入力端に供給される。
The output of the AND gate 64 is supplied to the other input terminal of the AND gate 62. Also, AND gate
The output of 62 is supplied to the pulse generation circuit 65 and also to the data input terminal of the D-type flip-flop 66. The pulse generation circuit 65 generates a pulse signal having a predetermined pulse width when the output of the AND gate 62 rises. The pulse signal generated by the pulse generation circuit 65 is a 2-input OR gate 67.
Is supplied to one input terminal.

【0022】一方、上記チップセレクト制御信号CE2
は立下り検出回路68に供給される。この立下り検出回路
68は、信号CE2の出力レベルが“H”レベルから
“L”レベルに変化する毎に、すなわち信号CE2の立
下り時に所定パルス幅のパルス信号を発生する。この立
下り検出回路68で発生されたパルス信号は上記フリップ
フロップ66のリセット入力端に供給される。
On the other hand, the chip select control signal CE2
Is supplied to the fall detection circuit 68. This fall detection circuit
68 generates a pulse signal having a predetermined pulse width each time the output level of the signal CE2 changes from the "H" level to the "L" level, that is, at the falling edge of the signal CE2. The pulse signal generated by the fall detection circuit 68 is supplied to the reset input terminal of the flip-flop 66.

【0023】上記チップセレクト制御信号CE2はさら
に遅延回路69を介して上記フリップフロップ66のクロッ
ク信号入力端に供給される。このフリップフロップ66の
Q出力は上記ORゲート67の他方入力端に供給され、こ
のORゲート67の出力が前記パルス信号WPとして前記
ロウデコーダ12に供給される。
The chip select control signal CE2 is further supplied to the clock signal input terminal of the flip-flop 66 via the delay circuit 69. The Q output of the flip-flop 66 is supplied to the other input terminal of the OR gate 67, and the output of the OR gate 67 is supplied to the row decoder 12 as the pulse signal WP.

【0024】ここで上記3種類の制御信号について説明
すると、ライトイネーブル制御信号/WEはこのメモリ
が書き込みモードであるときに“L”レベルに設定され
る信号であり、2種類のチップセレクト制御信号/CE
1及びCE2はリード/ライト動作の選択とチップセレ
クト機能もしくはデータのバックアップ機能の選択を行
うための信号である。そして、この実施例のメモリで
は、一方のチップセレクト制御信号CE2を用いてバー
ンインを行う期間の設定を行うようにしている。
The three types of control signals will be described below. The write enable control signal / WE is a signal which is set to the "L" level when the memory is in the write mode, and the two types of chip select control signals. / CE
1 and CE2 are signals for selecting a read / write operation and a chip select function or a data backup function. In the memory of this embodiment, the burn-in period is set using one of the chip select control signals CE2.

【0025】図2は前記ロウデコーダ12の詳細な構成を
示す回路図である。このロウデコーダ12には複数入力の
ANDゲート70,70,…が設けられている。これらAN
Dゲート70,70,…の各1つの入力端には前記図1に示
す回路から出力されるパルス信号WPが並列に供給され
ており、残りの入力端には前記ロウアドレスバッファ11
から出力されるロウアドレスRA0,RA1,…RA
n、/RA0,RA1,…RAn、…RA0,RA1,
…/RAnが供給される。そして、これらANDゲート
70,70,…の出力によって複数のワード線WLのうちの
いずれか1つが選択駆動される。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a detailed structure of the row decoder 12. The row decoder 12 is provided with AND gates 70, 70, ... With a plurality of inputs. These AN
The pulse signal WP output from the circuit shown in FIG. 1 is supplied in parallel to one input terminal of each of the D gates 70, 70, ..., And the row address buffer 11 is supplied to the remaining input terminals.
Row addresses RA0, RA1, ... RA output from
n, / RA0, RA1, ... RAn, ... RA0, RA1,
... / RAn is supplied. And these AND gates
Any one of the plurality of word lines WL is selectively driven by the outputs of 70, 70, ....

【0026】次に上記構成でなるメモリのデータ書き込
み(ライト)動作を図3のタイミングチャートを用いて
説明する。この実施例のメモリの書き込み動作は制御信
号/WEによる書き込み動作、チップイネーブル制御信
号/CE1による書き込み動作及びチップイネーブル制
御信号CE2による書き込み動作の3種類がある。
Next, the data write (write) operation of the memory configured as described above will be described with reference to the timing chart of FIG. There are three types of write operation of the memory of this embodiment: a write operation by the control signal / WE, a write operation by the chip enable control signal / CE1 and a write operation by the chip enable control signal CE2.

【0027】まず制御信号/WEによる書き込み動作
は、チップイネーブル制御信号CE2が“H”レベル、
チップイネーブル制御信号/CE1が“L”レベルにそ
れぞれ固定されている状態で行われる。この状態で/W
Eが“H”レベルから“L”レベルに変化すると、図1
に示す回路においてインバータ61の出力が“L”レベル
から“H”レベルに立上る。このときCE2は“H”レ
ベル、/CE1が入力されるインバータ63の出力は
“H”レベルになっており、両信号が入力されるAND
ゲート64の出力は“H”レベルになっている。従って、
/WEが“H”レベルから“L”レベルに変化すると、
ANDゲート62の出力は“L”レベルから“H”レベル
に変化する。そして、このANDゲート62の出力のレベ
ル変化がパルス発生回路65で検出され、このパルス発生
回路65で所定パルス幅のパルス信号WPが発生する。こ
のパルス信号WPのパルス幅は、前記各メモリセルでデ
ータの書き込みが十分に行われるに足る短い期間に設定
されている。このパルス信号WPはORゲート67を介し
て前記ロウデコーダ12に供給される。ロウデコーダ12で
は複数のANDゲート70,70,…のうち、外部ロウアド
レスに応じた1つから上記パルス信号WPが出力され
る。この結果、このパルス信号WPが供給される1つの
ワード線WLが信号WPの期間だけ駆動され、このワー
ド線WLに接続されているメモリセルが選択される。な
お、このとき、前記センスアンプ17から書き込み電位が
カラムセレクトゲート16を介してメモリセル13に供給さ
れており、上記ワード線WLによって選択されたメモリ
セルに対するデータの書き込みが行われる。
First, in the write operation by the control signal / WE, the chip enable control signal CE2 is at "H" level,
This is performed in a state where the chip enable control signal / CE1 is fixed at the "L" level. In this state / W
When E changes from "H" level to "L" level,
In the circuit shown in, the output of the inverter 61 rises from the "L" level to the "H" level. At this time, CE2 is at "H" level, the output of the inverter 63 to which / CE1 is input is at "H" level, and both signals are input to AND
The output of the gate 64 is at "H" level. Therefore,
When / WE changes from "H" level to "L" level,
The output of the AND gate 62 changes from "L" level to "H" level. Then, the level change of the output of the AND gate 62 is detected by the pulse generating circuit 65, and the pulse generating circuit 65 generates the pulse signal WP having a predetermined pulse width. The pulse width of the pulse signal WP is set to a short period sufficient to write data in each memory cell. The pulse signal WP is supplied to the row decoder 12 via the OR gate 67. The row decoder 12 outputs the pulse signal WP from one of the AND gates 70, 70, ... Which corresponds to the external row address. As a result, one word line WL to which this pulse signal WP is supplied is driven only for the period of the signal WP, and the memory cell connected to this word line WL is selected. At this time, the write potential is supplied from the sense amplifier 17 to the memory cell 13 via the column select gate 16, and data is written to the memory cell selected by the word line WL.

【0028】制御信号/CE1による書き込み動作は、
チップイネーブル制御信号CE2が“H”レベル、ライ
トイネーブル制御信号/WEが“L”レベルにそれぞれ
固定されている状態で行われる。この状態で/CE1が
“H”レベルから“L”レベルに変化すると、図1に示
す回路においてインバータ63の出力が“L”レベルから
“H”レベルに立上る。このときCE2は“H”レベル
なので、/CE1が“H”レベルから“L”レベルに変
化すると、ANDゲート64の出力は“L”レベルから
“H”レベルに変化する。一方、/WEが入力されるイ
ンバータ61の出力は“H”レベルになっているので、/
CE1が“H”レベルから“L”レベルに変化すると、
ANDゲート62の出力は“L”レベルから“H”レベル
に変化する。そして、このANDゲート62の出力のレベ
ル変化がパルス発生回路65で検出され、このパルス発生
回路65で/WEのレベル変化の場合と同様のパルス幅の
パルス信号WPが発生し、前記の場合と同様にデータの
書き込みが行われる。
The write operation by the control signal / CE1 is
The operation is performed in a state where the chip enable control signal CE2 is fixed at "H" level and the write enable control signal / WE is fixed at "L" level. When / CE1 changes from "H" level to "L" level in this state, the output of the inverter 63 rises from "L" level to "H" level in the circuit shown in FIG. At this time, since CE2 is at "H" level, when / CE1 changes from "H" level to "L" level, the output of the AND gate 64 changes from "L" level to "H" level. On the other hand, since the output of the inverter 61 to which / WE is input is at the “H” level,
When CE1 changes from "H" level to "L" level,
The output of the AND gate 62 changes from "L" level to "H" level. Then, the level change of the output of the AND gate 62 is detected by the pulse generation circuit 65, and the pulse generation circuit 65 generates the pulse signal WP having the same pulse width as the case of the level change of / WE. Similarly, data writing is performed.

【0029】制御信号CE2による書き込み動作は、チ
ップイネーブル制御信号/CE1が“L”レベル、ライ
トイネーブル制御信号/WEが“L”レベルにそれぞれ
固定されている状態で行われる。この状態でCE2が
“L”レベルから“H”レベルに変化すると、図1に示
す回路においてANDゲート62の出力が“L”レベルか
ら“H”レベルに立上る。また、CE2は遅延回路69を
介してフリップフロップ66にクロック信号として供給さ
れているので、CE2が“H”レベルに変わることによ
り、フリップフロップ66のQ出力は“H”レベルに立上
る。従って、ORゲート67から出力されるパルス信号W
PはCE2が“H”レベルに変わった後に“H”レベル
に立上る。次にCE2が“H”レベルから“L”レベル
に変化すると、ANDゲート64及びANDゲート62の出
力も順次“H”レベルから“L”レベルに立下る。ま
た、CE2が“L”レベルに立下ることによって立下り
検出回路68によってこの立下りが検出され、立下り検出
回路68から所定パルス幅の信号が出力される。そして、
この信号がフリップフロップ66のリセット入力端に入力
した後、このフリップフロップ66がリセットされ、その
Q出力は“L”レベルに立下る。
The write operation by the control signal CE2 is performed with the chip enable control signal / CE1 fixed at the "L" level and the write enable control signal / WE fixed at the "L" level. When CE2 changes from the "L" level to the "H" level in this state, the output of the AND gate 62 in the circuit shown in FIG. 1 rises from the "L" level to the "H" level. Further, since CE2 is supplied as a clock signal to the flip-flop 66 via the delay circuit 69, the Q output of the flip-flop 66 rises to "H" level when CE2 changes to "H" level. Therefore, the pulse signal W output from the OR gate 67
P rises to "H" level after CE2 changes to "H" level. Next, when CE2 changes from the "H" level to the "L" level, the outputs of the AND gate 64 and the AND gate 62 also sequentially fall from the "H" level to the "L" level. Further, when CE2 falls to the “L” level, the fall detection circuit 68 detects this fall, and the fall detection circuit 68 outputs a signal having a predetermined pulse width. And
After this signal is input to the reset input terminal of the flip-flop 66, the flip-flop 66 is reset and its Q output falls to "L" level.

【0030】すなわち、CE2による書き込み動作の場
合には、図3に示すようにパルス信号WPのパルス幅は
CE2のパルス幅に応じて設定され、このパルス信号W
Pのパルス幅の期間だけワード線WLが選択駆動される
ことになる。このため、バーンイン時にワード線に任意
の期間だけ電圧ストレスを印加することができ、スクリ
ーニングに要する時間の短縮を図ることができる。しか
も、通常のデータ書き込み動作(/WE及び/CE1に
よる書き込み動作)では、ワード線をパルス的に駆動す
るため、消費電力が増大する恐れは生じない。なお、上
記実施例ではデータの書き込み動作のみを説明したが、
データの読み出しが行えることはもちろんである。
That is, in the case of the write operation by CE2, the pulse width of the pulse signal WP is set according to the pulse width of CE2 as shown in FIG.
The word line WL is selectively driven only during the pulse width of P. Therefore, voltage stress can be applied to the word line for an arbitrary period during burn-in, and the time required for screening can be shortened. Moreover, in the normal data write operation (write operation by / WE and / CE1), since the word line is driven in a pulsed manner, there is no fear that power consumption will increase. Although only the data write operation is described in the above embodiment,
Of course, the data can be read.

【0031】また、上記実施例では、チップイネーブル
制御信号CE2を用いてバーンイン時にワード線の駆動
期間を設定する場合について説明したが、これは他の外
部制御信号を用いてワード線の駆動期間を設定するよう
にしてもよいことはもちろんである。
In the above embodiment, the case where the chip enable control signal CE2 is used to set the drive period of the word line at the time of burn-in has been described. However, the drive period of the word line is set using another external control signal. Of course, it may be set.

【0032】[0032]

【発明の効果】以上説明したようにこの発明によれば、
短時間でバーンインを行うことができ、スクリーニング
に要する時間の短縮を図ることができるスタティック型
半導体記憶装置を提供することができる。
As described above, according to the present invention,
It is possible to provide a static semiconductor memory device capable of performing burn-in in a short time and shortening the time required for screening.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明の一実施例装置の一部回路の詳細な構
成を示す回路図。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a detailed configuration of a partial circuit of a device according to an embodiment of the present invention.

【図2】この発明の一実施例装置の一部回路の詳細な構
成を示す回路図。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a detailed configuration of a partial circuit of a device according to an embodiment of the present invention.

【図3】この発明の一実施例装置の動作を説明するため
のタイミングチャート。
FIG. 3 is a timing chart for explaining the operation of the apparatus according to the embodiment of the present invention.

【図4】この発明の一実施例装置全体の概略的な構成を
示すブロック図。
FIG. 4 is a block diagram showing a schematic configuration of an entire apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図5】この発明の一実施例装置の一部回路の詳細な構
成を示す回路図。
FIG. 5 is a circuit diagram showing a detailed configuration of a partial circuit of a device according to an embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11…ロウアドレスバッファ、12…ロウデコーダ、13…メ
モリセルアレイ、14…カラムアドレスバッファ、15…カ
ラムデコーダ、16…カラムセレクトゲート、17…センス
アンプ、18…制御回路、20…メモリセル、30…ビット線
プリチャージ/イコライズ回路、40P…Pチャネル側ラ
イトセレクト回路、40N…Nチャネル側ライトセレクト
回路、61,63…インバータ、62,64…ANDゲート、65
…パルス発生回路、66…D型フリップフロップ、67…O
Rゲート、68…立下り検出回路、69…遅延回路。
11 ... Row address buffer, 12 ... Row decoder, 13 ... Memory cell array, 14 ... Column address buffer, 15 ... Column decoder, 16 ... Column select gate, 17 ... Sense amplifier, 18 ... Control circuit, 20 ... Memory cell, 30 ... Bit line precharge / equalize circuit, 40P ... P channel side write select circuit, 40N ... N channel side write select circuit, 61, 63 ... Inverter, 62, 64 ... AND gate, 65
… Pulse generator, 66… D-type flip-flop, 67… O
R gate, 68 ... Fall detection circuit, 69 ... Delay circuit.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 スタティック型メモリセルが接続された
ワード線と、 外部制御信号に応じて規定される期間中、上記ワード線
の駆動を継続させるワード線駆動手段とを具備したこと
を特徴とするスタティック型半導体記憶装置。
1. A word line connected to a static memory cell, and a word line driving means for continuing the driving of the word line during a period defined according to an external control signal. Static semiconductor memory device.
【請求項2】 前記ワード線駆動手段が、 第1のチップイネーブル制御信号及びライトイネーブル
制御信号それぞれのレベル変化を検出して所定パルス幅
の第1のパルス信号を発生する第1のパルス信号発生手
段と、 第2のチップイネーブル制御信号が活性化される際にそ
の活性期間に対応したパルス幅の第2のパルス信号を発
生する第2のパルス信号発生手段と、 上記第1のパルス信号及び第2のパルス信号が供給され
る論理和ゲートと、 アドレス信号及び上記論理ゲートの出力が供給され、ア
ドレス信号に応じたワード線に上記論理ゲートの出力を
供給制御するアドレスデコード手段とから構成されてい
ることを特徴とする請求項1に記載のスタティック型半
導体記憶装置。
2. A first pulse signal generating circuit for generating a first pulse signal having a predetermined pulse width by detecting a level change of each of a first chip enable control signal and a write enable control signal by the word line driving means. Means, second pulse signal generating means for generating a second pulse signal having a pulse width corresponding to the activation period when the second chip enable control signal is activated, the first pulse signal, and It comprises an OR gate to which a second pulse signal is supplied, and an address decoding means to which an address signal and the output of the logic gate are supplied and which controls the supply of the output of the logic gate to a word line according to the address signal. The static semiconductor memory device according to claim 1, wherein
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