JPH0536284A - Semiconductor memory - Google Patents

Semiconductor memory

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JPH0536284A
JPH0536284A JP3192952A JP19295291A JPH0536284A JP H0536284 A JPH0536284 A JP H0536284A JP 3192952 A JP3192952 A JP 3192952A JP 19295291 A JP19295291 A JP 19295291A JP H0536284 A JPH0536284 A JP H0536284A
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JP
Japan
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memory cell
transistor
column selection
selection signal
potential
Prior art date
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JP3192952A
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Japanese (ja)
Inventor
Masahiro Kanai
正博 金井
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Seiko Epson Corp
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Seiko Epson Corp
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Publication date
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Publication of JPH0536284A publication Critical patent/JPH0536284A/en
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Abstract

PURPOSE:To reduce the power consumption without flowing an extra selection bit current by turning ON only the transfer Tr in which the electric potential of a column selecting signal is H out of the 1 whole column of the memory cell circuit selected by a word line. CONSTITUTION:When an electric potential VWL of a word line WL is H and a column selecting signal VYO is H, a Tr 17 is ON, the VWL is impressed to gates G1 and G4 of transfer Tr13 and Tr14 and the Tr13 and 14 are ON. The signal VYO is H and gate Tr18 and Tr19 are also ON. Bit lines BL and BLB and data buses DB and DBB are also conducted, and the data of the memory cell are written and read from the BL and BLB through the DB and DBB. When the VWL is H and the VYO is L, the Tr17 becomes OFF, the Tr13 and 14 are OFF, the Tr18 and 19 are OFF, BL, BLB, DB and DBB are not conducted, and the Tr13 and 14 are discharged to a GND. When the VWL and VYO are L, the electric potential of the gates G1 and G4 of the Tr13 and 14 are also discharged to the GND.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体記憶装置に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の半導体記憶装置のメモリセル回路
としては、例えば第2図に示す高抵抗負荷型メモリセル
回路があり、行デコ−ダ−によって選択されたワ−ドラ
インWLの電位VWLをメモリセル回路のトランスファト
ランジスタTr23とTr24のゲ−ト端子G10とG
13に入力し、メモリセルとビット線BLとBLBの導
通をスイッチ制御する。ワ−ドラインWLの電位VWLが
Highでカラム選択信号Y0 の電位VY0がHighのとき、カ
ラム選択ゲ−トTr27とTr28はON状態となり、
メモリセルのデ−タは、ビット線BL、BLBからデ−
タバスDB、DBBを通じて書き込みもしくは読み出し
の動作を行う。また、ワ−ドラインWLの電位VWLがHi
ghもしくはLow でカラム選択信号Y0 の電位VY0がLow
のとき、列選択ゲ−トTr27とTr28はOFF状態
となり、ビット線BL、BLBとデ−タバスDB、DB
Bは非導通状態となる回路があった。
2. Description of the Related Art As a memory cell circuit of a conventional semiconductor memory device, for example, there is a high resistance load type memory cell circuit shown in FIG. 2, in which a potential VWL of a word line WL selected by a row decoder is set. Gate terminals G10 and G of the transfer transistors Tr23 and Tr24 of the memory cell circuit
13 and switches the conduction between the memory cell and the bit lines BL and BLB. The potential VWL of the word line WL is
When the potential VY0 of the column selection signal Y0 is High and the column selection gates Tr27 and Tr28 are in the ON state,
The data of the memory cell is the data from the bit lines BL and BLB.
A write or read operation is performed through the tabas DB and DBB. In addition, the potential VWL of the word line WL is Hi
The potential VY0 of the column selection signal Y0 is Low at gh or Low
At this time, the column selection gates Tr27 and Tr28 are turned off, and the bit lines BL, BLB and the data buses DB, DB.
B had a circuit that was in a non-conductive state.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記の
従来技術では行デコ−ダによって選択されたワ−ドライ
ンWLは全メモリセル郡もしくは分割されたメモリセル
ブロツク単位で全一列にわたりメモリセル回路のトラン
スファトランジスタをON状態にし、カラム選択信号Y
0 の電位VY0がHighのとき列選択ゲ−トTr27、Tr
28はON状態となりメモリセルを選択して、ビット線
BL、BLBからデ−タバスDB、DBBを通じて書き
込みもしくは読み出しの動作が行なわれる。従って、カ
ラム選択信号Y0 によって選択されていないメモリセル
回路のトランスファトランジスタもワ−ドラインWLが
全メモリセル郡もしくは分割されたメモリセルブロック
単位で全一列を選択することにより、ON状態となる。
このカラム選択信号Y0 で選択されていないメモリセル
回路のトランスファトランジスタがON状態となること
によって、前記図2に示す従来回路では、仮に交点Cの
電位がHighで交点Dの電位がLow とすると、交点Cの電
位がHighなのでメモリセルトランジスタTr26がON
状態となり、電源VDD、負荷トランジスタTr22、ト
ランスファトランジスタTr24、メモリセルトランジ
スタTr26、GND(グランド)という経路で選択ビ
ットライン電流が流れてしまう。
However, in the above-mentioned prior art, the word line WL selected by the row decoder is transferred over the entire memory cell circuit in all memory cell groups or divided memory cell blocks. Turn on the transistor and turn on the column selection signal Y
When the potential VY0 of 0 is High, the column selection gates Tr27, Tr
28 becomes an ON state, selects a memory cell, and a write or read operation is performed from the bit lines BL and BLB through the data buses DB and DBB. Therefore, the transfer transistors of the memory cell circuits which are not selected by the column selection signal Y0 are turned on when the word line WL selects all of the memory cells or one of the divided memory cell blocks.
When the transfer transistor of the memory cell circuit not selected by the column selection signal Y0 is turned on, the conventional circuit shown in FIG. 2 is assumed that the potential at the intersection C is High and the potential at the intersection D is Low. Since the potential at the intersection C is High, the memory cell transistor Tr26 is turned on.
Then, the selected bit line current flows through the path of the power supply VDD, the load transistor Tr22, the transfer transistor Tr24, the memory cell transistor Tr26 and the GND (ground).

【0004】仮に図3に示す様に256Kビットの容量
のRAM(ランダムアクセスメモリ)において全メモリ
セル郡のブロックが16に分割され構成されているとす
れば、ブロック1とブロック2の間に行デコ−ダ−回路
があり、カラム選択信号Y0によって選択されたブロッ
クのm番目の列が選択され、行デコ−ダ−回路によって
選択されたn番目の行が選択されることにより、一つの
メモリセルが選択される。しかし、行デコ−ダ−回路に
よって選択されたワ−ドラインWLは全一列のトランス
ファトランジスタをON状態にしてしまい、前記第2図
に示した従来回路の様に、負荷トランジスタTr22、
トランスファトランジスタTr24、メモリセルトラン
ジスタTr26という経路で128列のメモリセル回路
で選択ビットライン電流が流れる。この選択ビットライ
ン電流は一つのメモリセル当り100μAから150μ
Aの電流が流れ、仮に一つのメモリセルからデ−タを読
み出す場合、127列分の余分な選択ビットライン電流
が流れ、そのオ−ダ−は数十mAに達する。
Assuming that a block of all memory cells is divided into 16 blocks in a RAM (random access memory) having a capacity of 256 Kbits as shown in FIG. There is a decoder circuit, the m-th column of the block selected by the column selection signal Y0 is selected, and the n-th row selected by the row decoder circuit is selected, whereby one memory is formed. The cell is selected. However, the word line WL selected by the row decoder circuit turns on all the transfer transistors in one column, so that the load transistor Tr22, like the conventional circuit shown in FIG.
The selected bit line current flows through the memory cell circuits of 128 columns through the transfer transistor Tr24 and the memory cell transistor Tr26. The selected bit line current is 100 μA to 150 μ per memory cell.
If a current of A flows, and data is read from one memory cell, an extra selected bit line current of 127 columns flows, and the order reaches several tens of mA.

【0005】そこで本発明はこの様な問題点を解決する
もので、その目的とするところは、ワ−ドラインWLと
カラム選択信号Y0 によって選択されたトランスファト
ランジスタだけをON状態にし、カラム選択信号Y0 に
よって選択されていないメモリセル回路のトランスファ
トランジスタをOFF状態にすることにより、余分な選
択ビットライン電流を流さず、消費電流の低減を提供す
るところにある。
Therefore, the present invention solves such a problem, and an object thereof is to turn on only the word line WL and the transfer transistor selected by the column selection signal Y0 and turn on the column selection signal Y0. By turning off the transfer transistor of the memory cell circuit which is not selected by, the extra selected bit line current is not passed and the current consumption is reduced.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】メモリセルデ−タ伝達用
のトランスファトランジスタを備えるメモリセルを有す
る半導体記憶装置において、ゲ−ト端子が列選択信号
に、第1導電電極が行選択信号に、第2導電電極が個別
のメモリセル回路、あるいは複数のメモリセル回路の前
記トランスファトランジスタのゲ−ト端子にそれぞれ接
続される第1のトランジスタと、前記トランスファトラ
ンジスタのゲ−ト端子電位を放電するための負荷トラン
ジスタもしくは負荷抵抗で構成されることを特徴とす
る。
In a semiconductor memory device having a memory cell having a transfer transistor for transmitting memory cell data, a gate terminal is a column selection signal, a first conductive electrode is a row selection signal, and a second selection electrode is a second selection signal. A first transistor whose conductive electrodes are respectively connected to the gate terminals of the transfer transistors of the individual memory cell circuits or a plurality of memory cell circuits, and a load for discharging the gate terminal potential of the transfer transistors. It is characterized by being composed of a transistor or a load resistor.

【0007】[0007]

【作用】本発明の上記の構成によれば、カラム選択信号
Y0 の電位VY0がHigh、ワ−ドラインWLの電位VWLが
Highのときは、第1のトランジスタはON状態となりト
ランスファトランジスタもON状態となる。また、カラ
ム選択信号Y0 の電位VY0がLow でワ−ドラインWLの
電位VWLがHighのとき第1のトランジスタはOFF状態
となり、トランスファトランジスタのゲ−ト端子電位は
負荷トランジスタもしくは負荷抵抗によってGND(グ
ランド)に放電される。
According to the above configuration of the present invention, the potential VY0 of the column selection signal Y0 is High and the potential VWL of the word line WL is
When High, the first transistor is turned on and the transfer transistor is also turned on. When the potential VY0 of the column selection signal Y0 is low and the potential VWL of the word line WL is high, the first transistor is turned off, and the gate terminal potential of the transfer transistor is GND (ground) by the load transistor or the load resistor. ) Is discharged.

【0008】[0008]

【実施例】図1は本発明の実施例におけるメモリセル回
路であり、第1のトランジスタTr17のゲ−ト端子G
7にカラム選択信号Y0 を接続し、ドレイン端子D9を
ワ−ドラインWLに接続して、ソ−ス端子S8をトラン
スファトランジスタTr13とTr14のゲ−ト端子G
1とG4に接続する。また、前記第1のトランジスタT
r17のソ−ス端子S8とGND(グランド)の間に負
荷トランジスタもしくは負荷抵抗を接続する。この回路
構成により、以下の動作となる。
1 is a memory cell circuit according to an embodiment of the present invention, in which a gate terminal G of a first transistor Tr17 is provided.
7 is connected to the column selection signal Y0, the drain terminal D9 is connected to the word line WL, and the source terminal S8 is connected to the gate terminals G of the transfer transistors Tr13 and Tr14.
1 and G4. In addition, the first transistor T
A load transistor or load resistor is connected between the source terminal S8 of r17 and GND (ground). With this circuit configuration, the following operation is performed.

【0009】(1)ワードラインWLの電位VWLがHigh
でカラム選択信号Y0 の電位VY0がHighのとき、第1の
トランジスタTr17はON状態となり、ワ−ドライン
WLの電位VWLがトランスファトランジスタTr13と
Tr14のゲ−ト端子G1とG4に印加されトランスフ
ァトランジスタTr13とTr14はON状態であり、
カラム選択信号Y0 の電位VY0がHighなのでカラム選択
ゲ−トトランジスタTr18、Tr19もON状態とな
り、メモリセルとビット線BL、BLBとデ−タバスD
B、DBBの各々は導通状態となり、メモリセルのデ−
タは、ビット線BL、BLBからデ−タバスDB、DB
Bを通じてデ−タの書き込み、読み出し動作が行なわれ
る。
(1) The potential VWL of the word line WL is High
When the potential VY0 of the column selection signal Y0 is High, the first transistor Tr17 is turned on, and the potential VWL of the word line WL is applied to the gate terminals G1 and G4 of the transfer transistors Tr13 and Tr14. And Tr14 are in the ON state,
Since the potential VY0 of the column selection signal Y0 is High, the column selection gate transistors Tr18 and Tr19 are also turned on, and the memory cells, the bit lines BL, BLB and the data bus D
Each of B and DBB becomes conductive, and the data of the memory cell is deselected.
The data is from the bit lines BL, BLB to the data bus DB, DB.
Through B, data write and read operations are performed.

【0010】(2)ワ−ドラインWLの電位VWLがHigh
でカラム選択信号Y0 の電位VY0がLow のとき、第1の
トランジスタTr17はOFF状態となり、 ワ−ドラ
インWLの電位VWLはトランスファトランジスタTr1
3とTr14のゲ−ト端子G1とG4に印加されず、ト
ランスファトランジスタTr13とTr14はOFF状
態であり、カラム選択信号Y0 の電位VY0がLow なので
カラム選択ゲ−トトランジスタTr18、Tr19もO
FF状態となり、メモリセルとビツト線BL、BLBと
デ−タバスDB、DBBの各々は非導通状態となる。そ
してトランスファトランジスタTr13とTr14のゲ
−ト端子G1とG4の電位は、負荷トランジスタもしく
は負荷抵抗によってGND(グランド)に放電される。
(2) The potential VWL of the word line WL is High
When the potential VY0 of the column selection signal Y0 is Low, the first transistor Tr17 is turned off, and the potential VWL of the word line WL is changed to the transfer transistor Tr1.
3 and Tr14 are not applied to the gate terminals G1 and G4, the transfer transistors Tr13 and Tr14 are in the OFF state, and the potential VY0 of the column selection signal Y0 is Low, so the column selection gate transistors Tr18 and Tr19 are also O.
In the FF state, the memory cell, the bit lines BL, BLB and the data buses DB, DBB are turned off. The potentials at the gate terminals G1 and G4 of the transfer transistors Tr13 and Tr14 are discharged to GND (ground) by the load transistor or load resistance.

【0011】(3)ワ−ドラインWLの電位VWLがLow
でカラム選択信号Y0 の電位VY0がLow のとき、(2)
と同様に第1のトランジスタTr17はOFF状態、ト
ランスファトランジスタTr13とTr14もOFF状
態、更にカラム選択ゲ−トトランジスタTr18、Tr
19もOFF状態となり、メモリセルとビット線BL、
BLBとデ−タバスDB、DBBの各々は非導通状態と
なり、トランスファトランジスタTr13とTr14の
ゲ−ト端子G1とG4の電位は、負荷トランジスタもし
くは負荷抵抗によってGND(グランド)に放電され
る。
(3) The potential VWL of the word line WL is low
When the potential VY0 of the column selection signal Y0 is Low at (2)
Similarly, the first transistor Tr17 is in the OFF state, the transfer transistors Tr13 and Tr14 are also in the OFF state, and the column selection gate transistors Tr18 and Tr14 are also in the OFF state.
19 is also turned off, the memory cell and the bit line BL,
BLB and the data buses DB and DBB are turned off, and the potentials at the gate terminals G1 and G4 of the transfer transistors Tr13 and Tr14 are discharged to GND (ground) by the load transistors or load resistors.

【0012】前記図2に示した従来回路では、(2)の
状態でトランスファトランジスタTr23とTr24が
ON状態となり、カラム選択信号Y0 で選択されていな
いメモリセル回路でも、電源VDD、負荷トランジスタT
r22、トランスファトランジスタTr24、メモリセ
ルトランジスタTr26、GND(グランド)という経
路で選択ビットライン電流が流れたが、図1の本発明の
回路では、ワ−ドラインWLの電位がHighでカラム選択
信号Y0 の電位がHighのときのみトランスファトランジ
スタTr13とTr14ON状態となるので、仮に一つ
のデ−タを読み出す場合、127列分の余分な選択ビッ
トライン電流が低減できる。
In the conventional circuit shown in FIG. 2, the transfer transistors Tr23 and Tr24 are turned on in the state of (2), and even in the memory cell circuit not selected by the column selection signal Y0, the power supply VDD and the load transistor T
Although the selection bit line current flows through the route of r22, transfer transistor Tr24, memory cell transistor Tr26, and GND (ground), in the circuit of the present invention in FIG. 1, the potential of the word line WL is High and the column selection signal Y0 Since the transfer transistors Tr13 and Tr14 are turned on only when the potential is High, if one data is read, the extra selected bit line current for 127 columns can be reduced.

【0013】図1の実施例に示す様に各々のメモリセル
回路のトランスファトランジスタをカラム選択信号Y0
で制御することによって、仮に分割されたメモリセルブ
ロックの一列を128列に統一したとすると、4Mビッ
トでは64分割し1ブロックは512行*128列、1
6Mビットでは128分割し1ブロックは1024行*
128列となり、メモリセルを沢山のブロックに分割し
なければならず、その分行デコ−ダ−回路や列デコ−ダ
回路のチップ面積が増えてしまう。逆にブロックの分割
を減らせば列の数は増え消費電流は増加する。しかし、
図1の実施例では、第1トランジスタTr17をN型ト
ランジスタで構成することにより、メモリセルのトラン
ジスタと同じWELL内に構成でき、負荷抵抗R13を
ポリシリコン等で二層目に構成することによって面積を
小さくすることができるので、チップ面積を抑えかつ消
費電力の低減が実現できる。また、1ビット、4ビット
構成のRAM(ランダムアクセスメモリ)には、特に有
利である。
As shown in the embodiment of FIG. 1, the transfer transistor of each memory cell circuit is connected to the column selection signal Y0.
Assuming that one column of the temporarily divided memory cell block is unified into 128 columns by controlling with, the 4 Mbits are divided into 64, and one block is 512 rows * 128 columns, 1
6M bits are divided into 128, and 1 block is 1024 rows *
Since there are 128 columns, the memory cell must be divided into many blocks, which increases the chip area of the row decoder circuit and the column decoder circuit. On the contrary, if the number of blocks is reduced, the number of columns increases and the current consumption increases. But,
In the embodiment of FIG. 1, by configuring the first transistor Tr17 as an N-type transistor, it can be configured in the same WELL as the transistor of the memory cell, and the load resistor R13 is configured as a second layer with polysilicon or the like to reduce the area. Can be reduced, so that the chip area can be suppressed and the power consumption can be reduced. Further, it is particularly advantageous for a 1-bit or 4-bit RAM (random access memory).

【0014】よって、ワ−ドラインWLとカラム選択信
号Y0 がHighのときのみ第1のトランジスタTr17が
ON状態となることによってトランスファトランジスタ
Tr13、Tr14がON状態になり、選択されている
メモリセル回路以外には選択ビットライン電流は流れな
いので、消費電流の低減がなされる。
Therefore, the transfer transistors Tr13 and Tr14 are turned on only when the word line WL and the column selection signal Y0 are High, so that the transfer transistors Tr13 and Tr14 are turned on, except for the selected memory cell circuit. Since the selected bit line current does not flow into the device, the current consumption is reduced.

【0015】[0015]

【発明の効果】以上述べた発明によれば、全メモリセル
郡もしくは分割されたメモリセルブロックごとに配線さ
れたワ−ドラインWLで、トランスファトランジスタは
行デコ−ダ−によって選択されたワ−ドラインWLによ
って全一列がON状態となるのではなく、ワ−ドライン
WLとカラム選択信号Y0 の二つの信号によって選択さ
れたトランスファトランジスタのみがON状態となる。
従って、ワ−ドラインWLによって全一列のトランスフ
ァトランジスタがON状態となることに起因する余分な
選択ビットライン電流は流れず、消費電流を低減すると
いう効果を有する。
According to the invention described above, the transfer transistors are word lines selected by the row decoder in the word lines WL wired for all memory cell groups or divided memory cell blocks. Not all columns are turned on by WL, but only the transfer transistors selected by the two signals of word line WL and column selection signal Y0 are turned on.
Therefore, the extra selected bit line current due to the transfer transistors in all the columns being turned on by the word line WL does not flow, and the current consumption is reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施例を示すメモリセル回路図であ
る。
FIG. 1 is a memory cell circuit diagram showing an embodiment of the present invention.

【図2】従来回路のメモリセル回路図である。FIG. 2 is a memory cell circuit diagram of a conventional circuit.

【図3】256Kビットの容量をもつ、RAM(ランダ
ムアクセスメモリ)のメモリセルブロック図である。
FIG. 3 is a memory cell block diagram of a RAM (random access memory) having a capacity of 256 Kbits.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

Tr11、Tr12、Tr21、Tr22:負荷トラン
ジスタ Tr13、Tr14、Tr23、Tr24:トランスフ
ァトランジスタ Tr15、Tr16、Tr25、Tr26:メモリセル
トランジスタ Tr17:スイッチトランジスタ Tr18、Tr19、Tr27、Tr28:カラム選択
ゲ−トトランジスタ R11、R12、R21、R22:高負荷抵抗 R13:トランスファTrのゲ−ト電位放電負荷抵抗 G1、G4、G7、G10、G13:ゲ−ト端子 S2、S5、S8、S11、S14:ソ−ス端子 D3、D6、D9、D13、D15:ドレイン端子 A、B、C、D:各交点における電位 WL:ワ−ドライン Y0 :カラム選択信号 BL、BLB:ビットライン、ビットライン(バ−) DB、DBB:デ−タバス、デ−タバス(バ−) VDD:電源電圧 ブロック1−16:メモリセルブロック E:行デコ−ダ−回路
Tr11, Tr12, Tr21, Tr22: Load transistors Tr13, Tr14, Tr23, Tr24: Transfer transistors Tr15, Tr16, Tr25, Tr26: Memory cell transistors Tr17: Switch transistors Tr18, Tr19, Tr27, Tr28: Column selection gate transistors R11 , R12, R21, R22: High load resistance R13: Gate potential discharge load resistance of transfer Tr G1, G4, G7, G10, G13: Gate terminal S2, S5, S8, S11, S14: Source terminal D3, D6, D9, D13, D15: Drain terminals A, B, C, D: Potential at each intersection WL: Word line Y0: Column selection signal BL, BLB: Bit line, bit line (bar) DB, DBB : Data bus, data bus Space (bar) VDD: power supply voltage block 1-16: memory cell block E: row decoder circuit

Claims (1)

【特許請求の範囲】 【請求項1】メモリセルデ−タ伝達用のトランスファト
ランジスタを備えるメモリセルを有する半導体記憶装置
において、 ゲ−ト端子が列選択信号に、第1導電電極が行選択信号
に、第2導電電極が個別のメモリセル回路、あるいは複
数のメモリセル回路の前記トランスファトランジスタの
ゲ−ト端子にそれぞれ接続される第1のトランジスタ
と、前記トランスファトランジスタのゲ−ト端子電位を
放電するための負荷トランジスタもしくは負荷抵抗で構
成されることを特徴とする半導体記憶装置。
1. A semiconductor memory device having a memory cell having a transfer transistor for transmitting memory cell data, wherein a gate terminal is a column selection signal and a first conductive electrode is a row selection signal. To discharge the gate terminal potential of the transfer transistor and the first transistor whose second conductive electrode is connected to the gate terminal of the transfer transistor of the individual memory cell circuit or the plurality of memory cell circuits, respectively. A semiconductor memory device comprising the load transistor or the load resistor of.
JP3192952A 1991-08-01 1991-08-01 Semiconductor memory Pending JPH0536284A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6049035A (en) * 1997-09-18 2000-04-11 Sanyo Electric Co., Ltd. Photovoltaic device

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6049035A (en) * 1997-09-18 2000-04-11 Sanyo Electric Co., Ltd. Photovoltaic device

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