JPH05347448A - Excimer laser oscillator - Google Patents
Excimer laser oscillatorInfo
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- JPH05347448A JPH05347448A JP25752092A JP25752092A JPH05347448A JP H05347448 A JPH05347448 A JP H05347448A JP 25752092 A JP25752092 A JP 25752092A JP 25752092 A JP25752092 A JP 25752092A JP H05347448 A JPH05347448 A JP H05347448A
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- Lasers (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、エキマレーザ発振装置
に関わり、殊に発光素子と受光素子とを用いたハロゲン
ガス補給手段を備えたエキマレーザ発振装置において、
ハロゲンガス補給を高精度に行えるエキマレーザ発振装
置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an excimer laser oscillator, and more particularly to an excimer laser oscillator provided with a halogen gas replenishing means using a light emitting element and a light receiving element,
The present invention relates to an excimer laser oscillator that can replenish halogen gas with high accuracy.
【０００２】[0002]
【従来の技術】エキマレーザは、レーザ発振毎に、レー
ザガス中のハロゲンガス濃度が低下し、これに対応して
レーザ出力が低下するという不都合がある。それ故、ハ
ロゲンガス濃度を維持するため、ハロゲンガスを適宜補
給している。2. Description of the Related Art Excimer lasers have the disadvantage that the concentration of halogen gas in the laser gas decreases with each laser oscillation and the laser output correspondingly decreases. Therefore, in order to maintain the halogen gas concentration, the halogen gas is appropriately replenished.
【０００３】かかるハロゲンガス補給技術として、従
来、レーザ発振数又は／及びレーザ出力が所定値に至っ
たとき、予め定めた量のハロゲンガスを補給するという
技術がある。As such a halogen gas replenishing technique, there has been conventionally a technique of replenishing a predetermined amount of halogen gas when the laser oscillation frequency and / or the laser output reaches a predetermined value.
【０００４】また近時開示された技術として特公平３−
５７６３２号がある。これは、「ハロゲンガスの光吸収
帯域の波長光をガスレーザ管内に照射する発光素子と、
この発光素子で照射された光を受光して受光量に応じた
電気信号に変換する受光素子と、この受光素子からの電
気信号を受けて前記ガスレーザ管内におけるハロゲンガ
ス濃度が所定値となるようにハロゲンガスを補給する手
段とを具備した構成」と言える。In addition, Japanese Patent Publication No. 3-
There is No. 57632. This is a "light emitting element that irradiates the gas laser tube with wavelength light in the light absorption band of halogen gas,
A light receiving element that receives the light emitted by the light emitting element and converts it into an electric signal according to the amount of received light, and an electric signal from this light receiving element so that the halogen gas concentration in the gas laser tube becomes a predetermined value. It can be said that the structure is provided with means for replenishing halogen gas.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】ところで上記特公平３
−５７６３２号では、後段構成（補給手段）については
何ら具体的技術が開示されておらず、前段（発光素子、
受光素子）のみ詳細に記載されいる。By the way, the above Japanese Patent Publication No.
-57632 does not disclose any specific technique for the latter stage configuration (replenishing means), and the former stage (light emitting element,
Only the light receiving element) is described in detail.
【０００６】ところがこの前段構成は、例えばオイル汚
濁検出技術の分野では当然技術である（実開昭５７−１
１６８５２号参照）。これは「発光素子と受光素子とを
該オイルを挟んで対向配置させ、受光素子が受光してな
る発光素子からの光の透過率に基づき、オイル劣化を検
出する技術」であって、その中には「光がオイルの光吸
収帯域の波長光である技術」も当然に存在する（特開昭
６１−１３５９１３号参照）。ここで「オイル」を「ハ
ロゲンガス又はレーザガス」に置き換えるだけで、上記
特公平３−５７６３２号の前段ができ上がってしまう。However, this former-stage construction is naturally a technology in the field of oil pollution detection technology, for example (Kaikai 57-1).
16852). This is a "technology of arranging a light emitting element and a light receiving element opposite to each other with the oil sandwiched therebetween, and detecting oil deterioration based on the transmittance of light from the light emitting element received by the light receiving element". Of course, "technology in which light is wavelength light in the light absorption band of oil" also exists (see Japanese Patent Laid-Open No. 61-135913). Here, only by replacing "oil" with "halogen gas or laser gas", the preceding stage of Japanese Patent Publication No. 3-57632 is completed.
【０００７】ところでエキシマレーザでは、レーザ発振
と共に主放電電極や予備電離電極が消耗して多量の金属
ハロゲン化物が生成され、これが粉塵となってレーザガ
ス回路内を巡るようになる。それ故、発光素子と受光素
子とを用いたハロゲンガス補給技術の場合、前記粉塵が
これらのウインドに付着し、発光素子の発光光を散乱吸
収するようになるため、演算されるハロゲンガス濃度が
真値と異なるものとなてしまう。そこで、かかる異なる
値のハロゲンガス濃度Ｃが目標濃度Ｃｏとなるように、
レーザガス内にハロゲンガスを補給すると、レーザ出力
が安定しないようになってしまうというエキマレーザ発
振装置（広義にはガスレーザ装置）独自の不都合があ
る。In the excimer laser, the main discharge electrode and the preionization electrode are consumed with laser oscillation and a large amount of metal halide is produced, which becomes dust and circulates in the laser gas circuit. Therefore, in the case of the halogen gas replenishment technology using the light emitting element and the light receiving element, the dust adheres to these windows and scatters and absorbs the emitted light of the light emitting element. It will be different from the true value. Therefore, so that the halogen gas concentration C of such different values becomes the target concentration Co,
There is an inconvenience unique to the excimer laser oscillation device (a gas laser device in a broad sense) that the laser output becomes unstable when the halogen gas is replenished in the laser gas.
【０００８】即ち、エキマレーザ発振装置において、発
光素子と受光素子とを用いたハロゲンガス補給技術で
は、特公平３−５７６３２号の後段「ハロゲンガス濃度
が所定値となるようにハロゲンガスを補給する手段」こ
そが当業者とって最も知りたいところである。That is, in the halogen gas replenishment technique using the light emitting element and the light receiving element in the excimer laser oscillator, the means for replenishing the halogen gas so that the halogen gas concentration becomes a predetermined value is described in the latter part of Japanese Patent Publication No. 3-57632. Is the most important thing for a person skilled in the art to know.
【０００９】本発明は、上記実情に鑑み、発光素子と受
光素子とを用いたハロゲンガス補給手段を備えるエキマ
レーザ発振装置において、ハロゲンガス補給を高精度に
行えるエキマレーザ発振装置を提供することを目的とす
る。In view of the above situation, it is an object of the present invention to provide an excimer laser oscillating device including halogen gas replenishing means using a light emitting element and a light receiving element, which can replenish halogen gas with high accuracy. To do.
【００１０】[0010]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明に係わるエキマレーザ発振装置は、受光素子
２が受光してなる発光素子１からのレーザガス透過光の
光強度Ｉから該レーザガス中のハロゲンガス濃度Ｃを求
め、該ハロゲンガス濃度Ｃが目標濃度Ｃｏとなるよう
に、レーザガス内にハロゲンガスを補給するハロゲンガ
ス補給手段を備えてなるエキマレーザ発振装置におい
て、該ハロゲンガス補給手段は、ハロゲンガス濃度Ｃを
発光素子１と受光素子２とのウインド１１、２１の汚れ
等に基づく光強度の低下分で補正したのち、該補正済み
ハロゲンガス濃度Ｃが目標濃度Ｃｏとなるように、レー
ザガス内にハロゲンガスを補給する構成とした。In order to achieve the above object, an excimer laser oscillating device according to the present invention has a light intensity I of a laser gas transmitted light from a light emitting element 1 which is received by a light receiving element 2 from the light intensity I in the laser gas. In the excimer laser oscillation device including a halogen gas replenishing means for replenishing the halogen gas in the laser gas so that the halogen gas concentration C is obtained and the halogen gas concentration C becomes the target concentration Co, the halogen gas replenishing means is a halogen gas replenishing means. After the gas concentration C is corrected by the decrease in the light intensity due to the stains of the windows 11 and 21 of the light emitting element 1 and the light receiving element 2, the corrected halogen gas concentration C becomes the target concentration Co, The halogen gas is replenished to the.
【００１１】[0011]
【作用】上記構成によれば、演算されるハロゲンガス濃
度が予め発光素子１と受光素子２とのウインド１１、２
１の汚れに基づく光強度の低下分で補正されるため、少
なくとも発光素子１と受光素子２とのウインド１１、２
１の汚れに基づく光強度の低下分によるハロゲンガス濃
度が真値に近くなる。従ってレーザ出力の安定化に寄与
することができるようになる。According to the above structure, the calculated halogen gas concentrations are the windows 11 and 2 of the light emitting element 1 and the light receiving element 2 in advance.
Since it is corrected by the decrease in the light intensity due to the dirt of No. 1, the windows 11 and 2 of at least the light emitting element 1 and the light receiving element 2 are corrected.
The halogen gas concentration due to the decrease in light intensity due to the stain of 1 becomes close to the true value. Therefore, it becomes possible to contribute to stabilization of the laser output.
【００１２】[0012]
【実施例】本発明の実施例を図１〜図４を参照して説明
する。先ず図１を参照して、下記各実施例に適用したエ
キマレーザ発振装置本体構成例を予め説明しておく。Embodiments of the present invention will be described with reference to FIGS. First, with reference to FIG. 1, a configuration example of an excimer laser oscillator main body applied to each of the following embodiments will be described in advance.
【００１３】エキマレーザはハロゲンガスと希ガスとの
混合気体であるレーザガスを放電励起することにより、
発振するレーザであり、同図の例では、該レーザガスは
レーザチャンバ４及び外部循環回路内に密閉封入されて
いる。The excimer laser discharges and excites a laser gas, which is a mixed gas of a halogen gas and a rare gas,
The laser gas is an oscillating laser. In the example shown in the figure, the laser gas is hermetically sealed in the laser chamber 4 and the external circulation circuit.
【００１４】ここで共振器はウインド４１、４２を介し
て対向するリアミラー４３とフロントミラー４４とで構
成され、レーザＬはフロントミラー４４から出力され
る。Here, the resonator is composed of a rear mirror 43 and a front mirror 44 which are opposed to each other via windows 41 and 42, and the laser L is outputted from the front mirror 44.
【００１５】発光素子１と受光素子２とはガスセル５に
装着されている。ガスセルは、レーザガス外部循環回路
中に設けられ、ウインド５１、５２及び集光レンズ５
４、５５がそれぞれ対となって対向配置されて構成さ
れ、ウインド５１、５２の各背部に前記発光素子１と受
光素子２とがこれも対向するように装着された構成とな
っている。尚、発光素子１側のウインド５２と集光レン
ズ５５との間にハロゲンガスの光吸収帯域の波長を透過
するフィルタ５３が設けられている。The light emitting element 1 and the light receiving element 2 are mounted on the gas cell 5. The gas cell is provided in the laser gas external circulation circuit, and includes the windows 51 and 52 and the condenser lens 5.
4 and 55 are arranged in pairs so as to face each other, and the light emitting element 1 and the light receiving element 2 are attached to the back portions of the windows 51 and 52 so as to face each other. A filter 53 that transmits the wavelength of the halogen gas in the light absorption band is provided between the window 52 on the light emitting element 1 side and the condenser lens 55.
【００１６】制御器３は前記発光素子１、前記受光素子
２、排気ポンプ６、圧力センサ７、開閉弁Ｖ１、Ｖ２、
Ｖ３に接続されている。また別途レーザガスボンベ８
１、８２が前記開閉弁Ｖ２、Ｖ３を介してレーザチャン
バ４に配管されている。The controller 3 includes the light emitting element 1, the light receiving element 2, an exhaust pump 6, a pressure sensor 7, opening / closing valves V1, V2,
It is connected to V3. Separately, laser gas cylinder 8
Reference numerals 1 and 82 are connected to the laser chamber 4 via the opening / closing valves V2 and V3.
【００１７】以上の構成におけるハロゲンガス補給手段
はガスセル５、制御器３及び該制御器３に接続された発
光素子１、受光素子２、排気ポンプ６、圧力センサ７、
開閉弁Ｖ１、Ｖ２、Ｖ３で大略構成される。The halogen gas replenishing means having the above-mentioned structure is constituted by the gas cell 5, the controller 3, the light emitting element 1, the light receiving element 2, the exhaust pump 6, the pressure sensor 7, which are connected to the controller 3.
It is generally constituted by open / close valves V1, V2, and V3.
【００１８】尚、下記各実施例を適用できるエキマレー
ザ発振装置本体は、上記図１の例に限る必要はなく、項
目列挙すれば、例えば次のようなもの等も含まれる。 （１）レーザガス外部循環回路のないエキマレーザ発振
装置にあっては、発光素子１と受光素子２とをレーザチ
ャンバ４に直接装着してもよい。 （２）フィルタ５３は受光素子２側のウインド５１と集
光レンズ５４との間に設置してもよい。 （３）フィルタ５３がなくても、発光素子１自体がハロ
ゲンガスの光吸収帯域の波長の光又はその波長を含む光
を発光するものであればよい。 （４）フィルタ５３がなくても、受光素子２自体がハロ
ゲンガスの光吸収帯域の波長の光又はその波長を含む光
を受光するものであればよい。 （５）発光素子がハロゲンガスの光吸収帯域の波長光を
含む光を発光するならば、検出効率は悪いが、フィルタ
５３はなくてもよい。 （６）ガスボンベは混合ガスを予め充填したもの、個別
に充填したものでもよい。但し、個別に充填した場合
は、それぞれに開閉弁が必要となる。The body of the excimer laser oscillating device to which each of the following embodiments can be applied is not limited to the example shown in FIG. 1, and the following items are included if the items are listed. (1) In an excimer laser oscillator without a laser gas external circulation circuit, the light emitting element 1 and the light receiving element 2 may be directly mounted in the laser chamber 4. (2) The filter 53 may be installed between the window 51 on the light receiving element 2 side and the condenser lens 54. (3) It is sufficient that the light emitting element 1 itself emits light having a wavelength in the light absorption band of the halogen gas or light including the wavelength without the filter 53. (4) Even if the filter 53 is not provided, the light receiving element 2 itself may receive light having a wavelength in the light absorption band of the halogen gas or light containing the wavelength. (5) If the light emitting element emits light including light having a wavelength in the light absorption band of halogen gas, the detection efficiency is poor, but the filter 53 may be omitted. (6) The gas cylinder may be prefilled with the mixed gas or may be individually filled. However, when they are individually filled, an on-off valve is required for each.
【００１９】次に、下記各実施例の演算は上記制御器３
によってなされるが、その基礎となるハロゲンガス濃度
の算出式についても説明しておく。下記各実施例では、
ランベルトベアの式〔ｌｏｇ（Ｉ／Ｉｏ）＝ｋＣ〕を用
いている。ここでＩは光吸収物質が含まれている時の透
過光強度、Ｉｏは光吸収物質が含まれていない時の透過
光強度、ｋモル吸光係数（定数）、Ｃは光吸収物質濃度
である。光吸収物質とはここではハロゲンガスを指す。Next, the calculation of each of the following embodiments is performed by the controller 3 described above.
The calculation formula for the halogen gas concentration, which is the basis for this, will be described. In each of the following examples,
The Lambert-Beer equation [log (I / Io) = kC] is used. Here, I is the transmitted light intensity when the light absorbing substance is contained, Io is the transmitted light intensity when the light absorbing substance is not contained, kmole extinction coefficient (constant), and C is the light absorbing substance concentration. .. Here, the light absorbing material means a halogen gas.
【００２０】尚、算出式は上記に限る必要はなく、各種
実験式、又は、該制御器３が予め作成された透過光強度
Ｉとハロゲンガス濃度Ｃとの関係を示したデータテーブ
ルを記憶し、透過光強度Ｉの検出都度、該データテーブ
ルから対応するハロゲンガス濃度Ｃを読み出す構成等で
あってもよい。The calculation formula is not limited to the above, and various empirical formulas or a data table showing the relationship between the transmitted light intensity I and the halogen gas concentration C created by the controller 3 in advance are stored. The corresponding halogen gas concentration C may be read from the data table each time the transmitted light intensity I is detected.
【００２１】即ち、第１実施例は、図２に示すように、
レーザを発振させる前にレーザガスをレーザチャンッバ
４及び外部循環回路内に充填するために、バルブＶ１を
開け、ポンプ６を作動させ、レーザチャンバ４内のガス
を排気する。そして圧力センサ７からレーザチャンバ４
内の圧力信号を受け取り、レーザチャンバ４内の圧力が
零（＝０）となったとき（即ち、真空引き）、受光素子
２により、ガスセル５内を透過した光強度Ｉを検出す
る。この光強度Ｉは、上式〔ｌｏｇ（Ｉ／Ｉｏ）＝ｋ
Ｃ〕のＩｏに相当し、発光素子１及び受光素子２のウイ
ンド１１、２１に付着した粉塵等による透過光強度の低
下誤差を含んだ参照値として記憶される。そこではバル
ブＶ２にレーザガス供給信号を送り、レーザチャンバ内
にレーザガスが充填させる。そしてレーザ発停時、定期
的に又は連続的に、ガスセルの透過光の光強度Ｉを測定
し、上記参照値Ｉｏと共に、上式に基づき計算すると、
得られたハロゲンガス濃度Ｃは前述誤差を含まない値と
なる。そこでこのハロゲンガス濃度Ｃを別途記憶した目
標濃度となるように、ハロゲンガスを補給すると、正確
なハロゲンガス補給を行なうことができるようになる。
そしてもしガス交換する場合は、再び真空引きしてガス
セル５の透過光の光強度Ｉｏを測定し、これを再び参照
値として書き換えて記憶する。That is, in the first embodiment, as shown in FIG.
In order to fill the laser chamber 4 and the external circulation circuit with the laser gas before oscillating the laser, the valve V1 is opened, the pump 6 is operated, and the gas in the laser chamber 4 is exhausted. And from the pressure sensor 7 to the laser chamber 4
When the pressure inside the laser chamber 4 becomes zero (= 0) (that is, a vacuum is drawn), the light receiving element 2 detects the light intensity I transmitted through the gas cell 5. This light intensity I is calculated by the above equation [log (I / Io) = k
C] corresponding to Io, and is stored as a reference value including an error in reduction of transmitted light intensity due to dust or the like adhering to the windows 11 and 21 of the light emitting element 1 and the light receiving element 2. There, a laser gas supply signal is sent to the valve V2 to fill the laser chamber with laser gas. Then, when the laser is turned on and off, the light intensity I of the transmitted light of the gas cell is measured periodically or continuously, and the calculation is performed based on the above equation together with the reference value Io,
The obtained halogen gas concentration C is a value that does not include the above error. Therefore, if the halogen gas is replenished so that the halogen gas concentration C becomes the target concentration that is stored separately, it becomes possible to perform the accurate halogen gas replenishment.
If the gas is to be replaced, the gas is again evacuated to measure the light intensity Io of the transmitted light of the gas cell 5, and this is rewritten as a reference value and stored.
【００２２】また上記では真空引きしたときの値Ｉを参
照値Ｉｏとしているが、レーザガスを充填するときにハ
ロゲンガス及び希ガスを順番に充填する場合はハロゲン
ガスが充填されていないときに透過光の光強度Ｉを測定
し、参照値Ｉｏとしてもよい。In the above description, the value I when the vacuum is drawn is used as the reference value Io. However, when the halogen gas and the rare gas are sequentially filled when the laser gas is filled, the transmitted light is obtained when the halogen gas is not filled. It is also possible to measure the light intensity I of and use it as the reference value Io.
【００２３】第２実施例は、図３に示すように、レーザ
を発振させる前にレーザガスをレーザチャンバ４及び外
部循環回路内に充填するために、バルブＶ１を開け、ポ
ンプ６を作動させ、レーザチャンバ４内のガスを排気す
る。そして圧力センサ７からレーザチャンバ４内の圧力
信号を受け取り、レーザチャンバ４内の圧力信号を受け
取り、レーザチャンバ４内の圧力が零（＝０）とし、次
に所定のハロゲン濃度のレーザガスを充填する。レーザ
ガスを充填した直後に、受光素子２により、ガスセル５
内を透過した光強度Ｉを検出する。この光強度は、上式
〔ｌｏｇ（Ｉｃ／Ｉｏ）＝ｋＣｃ，ただしＣｃは所定の
ハロゲンガス濃度〕のＩｃに相当し、この式から逆にＩ
ｏを求めて、発光素子１及び受光強度の低下誤差を含ん
だ参照値Ｉｏとして記憶される。以下の実行は第１実施
例と同様である。また、別の方法として、レーザガス充
填直後の透過強度Ｉｃを検出し、透過強度Ｉｃとなるよ
うにハロゲンガスを供給してもよい。In the second embodiment, as shown in FIG. 3, in order to fill the laser gas into the laser chamber 4 and the external circulation circuit before oscillating the laser, the valve V1 is opened, the pump 6 is operated, and the laser is turned on. The gas in the chamber 4 is exhausted. Then, the pressure signal in the laser chamber 4 is received from the pressure sensor 7, the pressure signal in the laser chamber 4 is received, the pressure in the laser chamber 4 is set to zero (= 0), and then the laser gas having a predetermined halogen concentration is filled. .. Immediately after being filled with the laser gas, the light receiving element 2 causes the gas cell 5
The light intensity I transmitted through the inside is detected. This light intensity corresponds to Ic in the above equation [log (Ic / Io) = kCc, where Cc is a predetermined halogen gas concentration].
The value o is calculated and stored as the reference value Io including the light emitting element 1 and the received light intensity decrease error. The subsequent execution is the same as in the first embodiment. As another method, the transmission intensity Ic immediately after filling the laser gas may be detected and the halogen gas may be supplied so as to have the transmission intensity Ic.
【００２４】第３実施例は、第１及び第２の実施例を組
み合わせた実施例である。図４に示すように、まずレー
ザチャンバ４及び外部循環回路内を真空引きし、レーザ
ガスの圧力が零（＝０）となった時に透過光の光強度Ｉ
を検出し、このハロゲンガスが０の時の透過光の光強度
Ｉｏが参照値として記憶される。次に所定のハロゲンガ
ス濃度のレーザガスを充填し、この時の透過光の光強度
Ｉｃを第２の参照値として記憶する。ランベルトベアの
式から〔ｌｏｇ（Ｉｃ／Ｉｏ）＝ｋＣｃ，ただしＣｃは
所定のハロゲンガス濃度〕モル吸光係数ｋを計算しこの
値を記憶する。そしてレーザの発振中または、停止状態
の時に透過光の光強度Ｉを検出して、第１の参照値Ｉｏ
及び第２の参照値Ｃｃに基づくハロゲンガス濃度を計算
して所定のハロゲンガス濃度となるようハロゲンガスを
供給する。The third embodiment is an embodiment in which the first and second embodiments are combined. As shown in FIG. 4, first, the laser chamber 4 and the external circulation circuit are evacuated, and the light intensity I of the transmitted light is I when the pressure of the laser gas becomes zero (= 0).
Is detected, and the light intensity Io of the transmitted light when the halogen gas is 0 is stored as a reference value. Next, a laser gas having a predetermined halogen gas concentration is filled, and the light intensity Ic of the transmitted light at this time is stored as a second reference value. The molar extinction coefficient k is calculated from the Lambert-Beer equation [log (Ic / Io) = kCc, where Cc is a predetermined halogen gas concentration], and this value is stored. Then, the light intensity I of the transmitted light is detected when the laser is oscillating or in the stopped state, and the first reference value Io is detected.
Then, the halogen gas concentration is calculated based on the second reference value Cc, and the halogen gas is supplied so as to have a predetermined halogen gas concentration.
【００２５】[0025]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
演算されるハロゲンガス濃度が予め発光素子と受光素子
とのウインドの汚れに基づく光強度の低下分で補正され
るため、少なくとも発光素子と受光素子とのウインドの
汚れに基づく光強度の低下分によるハロゲンガス濃度が
真値に近くなる。該ハロゲンガス濃度が目標濃度となる
ように、ハロゲンガスを補給することにより、レーザ出
力を安定化することができるようになる。As described above, according to the present invention,
Since the calculated halogen gas concentration is corrected in advance by the decrease in the light intensity due to the dirt on the window between the light emitting element and the light receiving element, at least due to the decrease in the light intensity due to the dirt on the window between the light emitting element and the light receiving element. The halogen gas concentration approaches the true value. By supplying the halogen gas so that the halogen gas concentration becomes the target concentration, the laser output can be stabilized.
【図１】実施例成るエキマレーザ発振装置の本体構成図
である。FIG. 1 is a configuration diagram of a main body of an excimer laser oscillator according to an embodiment.
【図２】第１実施例を説明するフローチャートである。FIG. 2 is a flowchart illustrating a first embodiment.
【図３】第２実施例を説明するフローチャートである。FIG. 3 is a flowchart illustrating a second embodiment.
【図４】第３実施例を説明するフローチャートである。FIG. 4 is a flowchart illustrating a third embodiment.
１ 発光素子 １１ 受光素子のウインド ２ 受光素子 ２１ 発光素子のウインド Ｃ ハロゲンガス濃度 Ｃｏ 目標濃度 Ｉ 光強度 1 Light emitting element 11 Light receiving element window 2 Light receiving element 21 Light emitting element window C Halogen gas concentration Co Target concentration I Light intensity
【手続補正書】[Procedure amendment]
【提出日】平成５年３月１０日[Submission date] March 10, 1993
【手続補正１】[Procedure Amendment 1]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】全文[Name of item to be corrected] Full text
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【書類名】 明細書[Document name] Statement
【発明の名称】 エキシマレーザ発振装置[Title of the Invention] solution was Mareza oscillation device
【特許請求の範囲】[Claims]
【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、エキシマレーザ発振装
置に関わり、殊に発光素子と受光素子とを用いたハロゲ
ンガス補給手段を備えたエキシマレーザ発振装置におい
て、ハロゲンガス補給を高精度に行えるエキシマレーザ
発振装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a solution was Mareza oscillator, in particular in the solution was Mareza oscillating apparatus equipped with a halogen gas supply means using a light emitting element and a light receiving element, high precision halogen gas replenishment relates solution was Mareza oscillating device capable to.
【０００２】[0002]
【従来の技術】エキシマレーザは、レーザ発振毎に、レ
ーザガス中のハロゲンガス濃度が低下し、これに対応し
てレーザ出力が低下するという不都合がある。それ故、
ハロゲンガス濃度を維持するため、ハロゲンガスを適宜
補給している。BACKGROUND OF THE INVENTION solution was Mareza, for each laser oscillation, reduces the halogen gas concentration in the laser gas, the corresponding laser output which is disadvantageously lowered. Therefore,
To maintain the halogen gas concentration, halogen gas is replenished as appropriate.
【０００３】かかるハロゲンガス補給技術として、従
来、レーザ発振数又は／及びレーザ出力が所定値に至っ
たとき、予め定めた量のハロゲンガスを補給するという
技術がある。As such a halogen gas replenishing technique, there has been conventionally a technique of replenishing a predetermined amount of halogen gas when the laser oscillation frequency and / or the laser output reaches a predetermined value.
【０００４】また近時開示された技術として特公平３−
５７６３２号がある。これは、「ハロゲンガスの光吸収
帯域の波長光をガスレーザ管内に照射する発光素子と、
この発光素子で照射された光を受光して受光量に応じた
電気信号に変換する受光素子と、この受光素子からの電
気信号を受けて前記ガスレーザ管内におけるハロゲンガ
ス濃度が所定値となるようにハロゲンガスを補給する手
段とを具備した構成」と言える。In addition, Japanese Patent Publication No. 3-
There is No. 57632. This is a "light emitting element that irradiates the gas laser tube with light of a wavelength in the light absorption band of halogen gas,
A light receiving element that receives the light emitted by the light emitting element and converts it into an electric signal corresponding to the amount of received light, and an electric signal from this light receiving element so that the halogen gas concentration in the gas laser tube becomes a predetermined value. It can be said that the structure is provided with means for replenishing halogen gas.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】ところで上記特公平３
−５７６３２号では、後段構成（補給手段）については
何ら具体的技術が開示されておらず、前段（発光素子、
受光素子）のみ詳細に記載されいる。By the way, the above Japanese Patent Publication No.
-57632 does not disclose any specific technique for the latter stage configuration (replenishing means), and the former stage (light emitting element,
Only the light receiving element) is described in detail.
【０００６】ところがこの前段構成は、例えばオイル汚
濁検出技術の分野では当然技術である（実開昭５７−１
１６８５２号参照）。これは「発光素子と受光素子とを
該オイルを挟んで対向配置させ、受光素子が受光してな
る発光素子からの光の透過率に基づき、オイル劣化を検
出する技術」であって、その中には「光がオイルの光吸
収帯域の波長光である技術」も当然に存在する（特開昭
６１−１３５９１３号参照）。ここで「オイル」を「ハ
ロゲンガス又はレーザガス」に置き換えるだけで、上記
特公平３−５７６３２号の前段ができ上がってしまう。However, this former-stage construction is naturally a technology in the field of oil pollution detection technology, for example (Kaikai 57-1).
16852). This is a "technology of arranging a light emitting element and a light receiving element opposite to each other with the oil sandwiched therebetween, and detecting oil deterioration based on the transmittance of light from the light emitting element received by the light receiving element". Of course, "technology in which light is wavelength light in the light absorption band of oil" also exists (see Japanese Patent Laid-Open No. 61-135913). Here, only by replacing "oil" with "halogen gas or laser gas", the preceding stage of Japanese Patent Publication No. 3-57632 is completed.
【０００７】ところでエキシマレーザでは、レーザ発振
と共に主放電電極や予備電離電極が消耗して多量の金属
ハロゲン化物が生成され、これが粉塵となってレーザガ
ス回路内を巡るようになる。それ故、発光素子と受光素
子とを用いたハロゲンガス補給技術の場合、前記粉塵が
これらのウインドに付着し、発光素子の発光光を散乱吸
収するようになるため、演算されるハロゲンガス濃度が
真値と異なるものとなてしまう。そこで、かかる異なる
値のハロゲンガス濃度Ｃが目標濃度Ｃｏとなるように、
レーザガス内にハロゲンガスを補給すると、レーザ出力
が安定しないようになってしまうというエキシマレーザ
発振装置（広義にはガスレーザ装置）独自の不都合があ
る。In the excimer laser, the main discharge electrode and the preionization electrode are consumed with laser oscillation and a large amount of metal halide is produced, which becomes dust and circulates in the laser gas circuit. Therefore, in the case of the halogen gas replenishment technology using the light emitting element and the light receiving element, the dust adheres to these windows and scatters and absorbs the emitted light of the light emitting element. It will be different from the true value. Therefore, so that the halogen gas concentration C of such different values becomes the target concentration Co,
When supplying the halogen gas into the laser gas, solution was Mareza oscillator that the laser output becomes so unstable (in a broad sense gas laser apparatus) has its own disadvantages.
【０００８】即ち、エキシマレーザ発振装置において、
発光素子と受光素子とを用いたハロゲンガス補給技術で
は、特公平３−５７６３２号の後段「ハロゲンガス濃度
が所定値となるようにハロゲンガスを補給する手段」こ
そが当業者とって最も知りたいところである。[0008] In other words, in the solution was Mareza oscillation device,
Regarding the halogen gas replenishment technology using the light emitting element and the light receiving element, the person skilled in the art most wants to know that "the means for replenishing the halogen gas so that the halogen gas concentration becomes a predetermined value" is the latter stage of Japanese Patent Publication No. 3-57632. By the way.
【０００９】本発明は、上記実情に鑑み、発光素子と受
光素子とを用いたハロゲンガス補給手段を備えるエキシ
マレーザ発振装置において、ハロゲンガス補給を高精度
に行えるエキシマレーザ発振装置を提供することを目的
とする。[0009] The present invention has been made in view of the above circumstances, the solution was <br/> Mareza oscillating device comprising a halogen gas supply means using a light emitting element and a light receiving element, solution was Mareza oscillation that allows the halogen gas replenishment with high precision The purpose is to provide a device.
【００１０】[0010]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明に係わるエキシマレーザ発振装置は、受光素
子２が受光してなる発光素子１からのレーザガス透過光
の光強度Ｉから該レーザガス中のハロゲンガス濃度Ｃを
求め、該ハロゲンガス濃度Ｃが目標濃度Ｃｏとなるよう
に、レーザガス内にハロゲンガスを補給するハロゲンガ
ス補給手段を備えてなるエキシマレーザ発振装置におい
て、該ハロゲンガス補給手段は、ハロゲンガス濃度Ｃを
発光素子１と受光素子２とのウインド１１、２１の汚れ
等に基づく光強度の低下分で補正したのち、該補正済み
ハロゲンガス濃度Ｃが目標濃度Ｃｏとなるように、レー
ザガス内にハロゲンガスを補給する構成とした。To achieve the above object, according to an aspect of, solution was Mareza oscillating apparatus according to the present invention, the laser gas from the light intensity I of the laser gas transmitted light from the light emitting element 1 in which the light receiving element 2 is formed by the light-receiving seeking a halogen gas concentration C in, as the halogen gas concentration C becomes the target concentration Co, in solution was Mareza oscillating device including a halogen gas supply means for supplying a halogen gas into the laser gas, the halogen gas replenishment The means corrects the halogen gas concentration C by the amount of decrease in light intensity due to stains on the windows 11 and 21 of the light emitting element 1 and the light receiving element 2, and then the corrected halogen gas concentration C becomes the target concentration Co. In addition, the halogen gas is replenished into the laser gas.
【００１１】[0011]
【作用】上記構成によれば、演算されるハロゲンガス濃
度が予め発光素子１と受光素子２とのウインド１１、２
１の汚れに基づく光強度の低下分で補正されるため、少
なくとも発光素子１と受光素子２とのウインド１１、２
１の汚れに基づく光強度の低下分によるハロゲンガス濃
度が真値に近くなる。従ってレーザ出力の安定化に寄与
することができるようになる。According to the above structure, the calculated halogen gas concentrations are the windows 11 and 2 of the light emitting element 1 and the light receiving element 2 in advance.
Since it is corrected by the decrease in the light intensity due to the dirt of No. 1, the windows 11 and 2 of at least the light emitting element 1 and the light receiving element 2 are corrected.
The halogen gas concentration due to the decrease in light intensity due to the stain of 1 becomes close to the true value. Therefore, it becomes possible to contribute to stabilization of the laser output.
【００１２】[0012]
【実施例】本発明の実施例を図１〜図４を参照して説明
する。先ず図１を参照して、下記各実施例に適用したエ
キシマレーザ発振装置本体構成例を予め説明しておく。Embodiments of the present invention will be described with reference to FIGS. Referring first to FIG. 1, in advance explaining et <br/> key sheet Mareza oscillator body configuration example applied to the following embodiments.
【００１３】エキシマレーザはハロゲンガスと希ガスと
の混合気体であるレーザガスを放電励起することによ
り、発振するレーザであり、同図の例では、該レーザガ
スはレーザチャンバ４及び外部循環回路内に密閉封入さ
れている。[0013] solution was Mareza is by discharge excitation laser gas is a mixed gas of a halogen gas and a rare gas, a laser that oscillates, in the example of the figure, the laser gas in the laser chamber 4 and the external circulation circuit It is hermetically sealed.
【００１４】ここで共振器はウインド４１、４２を介し
て対向するリアミラー４３とフロントミラー４４とで構
成され、レーザＬはフロントミラー４４から出力され
る。Here, the resonator is composed of a rear mirror 43 and a front mirror 44 which are opposed to each other via windows 41 and 42, and the laser L is outputted from the front mirror 44.
【００１５】発光素子１と受光素子２とはガスセル５に
装着されている。ガスセルは、レーザガス外部循環回路
中に設けられ、ウインド５１、５２及び集光レンズ５
４、５５がそれぞれ対となって対向配置されて構成さ
れ、ウインド５１、５２の各背部に前記発光素子１と受
光素子２とがこれも対向するように装着された構成とな
っている。尚、発光素子１側のウインド５２と集光レン
ズ５５との間にハロゲンガスの光吸収帯域の波長を透過
するフィルタ５３が設けられている。The light emitting element 1 and the light receiving element 2 are mounted on the gas cell 5. The gas cell is provided in the laser gas external circulation circuit, and includes the windows 51 and 52 and the condenser lens 5.
4 and 55 are arranged in pairs so as to face each other, and the light emitting element 1 and the light receiving element 2 are attached to the back portions of the windows 51 and 52 so as to face each other. A filter 53 that transmits the wavelength of the halogen gas in the light absorption band is provided between the window 52 on the light emitting element 1 side and the condenser lens 55.
【００１６】制御器３は前記発光素子１、前記受光素子
２、排気ポンプ６、圧力センサ７、開閉弁Ｖ１、Ｖ２、
Ｖ３に接続されている。また別途レーザガスボンベ８
１、８２が前記開閉弁Ｖ２、Ｖ３を介してレーザチャン
バ４に配管されている。The controller 3 includes the light emitting element 1, the light receiving element 2, an exhaust pump 6, a pressure sensor 7, opening / closing valves V1, V2,
It is connected to V3. Separately, laser gas cylinder 8
Reference numerals 1 and 82 are connected to the laser chamber 4 via the opening / closing valves V2 and V3.
【００１７】以上の構成におけるハロゲンガス補給手段
はガスセル５、制御器３及び該制御器３に接続された発
光素子１、受光素子２、排気ポンプ６、圧力センサ７、
開閉弁Ｖ１、Ｖ２、Ｖ３で大略構成される。The halogen gas replenishing means having the above-mentioned structure is constituted by the gas cell 5, the controller 3, the light emitting element 1, the light receiving element 2, the exhaust pump 6, the pressure sensor 7, which are connected to the controller 3.
It is generally constituted by open / close valves V1, V2, and V3.
【００１８】尚、下記各実施例を適用できるエキシマレ
ーザ発振装置本体は、上記図１の例に限る必要はなく、
項目列挙すれば、例えば次のようなもの等も含まれる。 （１）レーザガス外部循環回路のないエキシマレーザ発
振装置にあっては、発光素子１と受光素子２とをレーザ
チャンバ４に直接装着してもよい。 （２）フィルタ５３は受光素子２側のウインド５１と集
光レンズ５４との間に設置してもよい。 （３）フィルタ５３がなくても、発光素子１自体がハロ
ゲンガスの光吸収帯域の波長の光又はその波長を含む光
を発光するものであればよい。 （４）フィルタ５３がなくても、受光素子２自体がハロ
ゲンガスの光吸収帯域の波長の光又はその波長を含む光
を受光するものであればよい。 （５）発光素子がハロゲンガスの光吸収帯域の波長光を
含む光を発光するならば、検出効率は悪いが、フィルタ
５３はなくてもよい。 （６）ガスボンベは混合ガスを予め充填したもの、個別
に充填したものでもよい。但し、個別に充填した場合
は、それぞれに開閉弁が必要となる。[0018] Incidentally, solution was Mareza oscillating apparatus body can be applied to each embodiment described below is not necessarily limited to the example of FIG 1,
If the items are listed, the following items are included, for example. (1) laser gas In the external circulation circuit without solution was Mareza oscillator may be mounted directly to the light emitting element 1 and the light receiving element 2 in the laser chamber 4. (2) The filter 53 may be installed between the window 51 on the light receiving element 2 side and the condenser lens 54. (3) It is sufficient that the light emitting element 1 itself emits light having a wavelength in the light absorption band of the halogen gas or light including the wavelength without the filter 53. (4) Even if the filter 53 is not provided, the light receiving element 2 itself may receive light having a wavelength in the light absorption band of the halogen gas or light containing the wavelength. (5) If the light emitting element emits light including light having a wavelength in the light absorption band of halogen gas, the detection efficiency is poor, but the filter 53 may be omitted. (6) The gas cylinder may be prefilled with the mixed gas or may be individually filled. However, when they are individually filled, an on-off valve is required for each.
【００１９】次に、下記各実施例の演算は上記制御器３
によってなされるが、その基礎となるハロゲンガス濃度
の算出式についても説明しておく。下記各実施例では、
ランベルトベアの式〔ｌｏｇ（Ｉ／Ｉｏ）＝ｋＣ〕を用
いている。ここでＩは光吸収物質が含まれている時の透
過光強度、Ｉｏは光吸収物質が含まれていない時の透過
光強度、ｋモル吸光係数（定数）、Ｃは光吸収物質濃度
である。光吸収物質とはここではハロゲンガスを指す。Next, the calculation of each of the following embodiments is performed by the controller 3 described above.
The calculation formula for the halogen gas concentration, which is the basis for this, will be described. In each of the following examples,
The Lambert-Beer equation [log (I / Io) = kC] is used. Here, I is the transmitted light intensity when the light absorbing substance is contained, Io is the transmitted light intensity when the light absorbing substance is not contained, k mol extinction coefficient (constant), and C is the light absorbing substance concentration. .. Here, the light absorbing material means a halogen gas.
【００２０】尚、算出式は上記に限る必要はなく、各種
実験式、又は、該制御器３が予め作成された透過光強度
Ｉとハロゲンガス濃度Ｃとの関係を示したデータテーブ
ルを記憶し、透過光強度Ｉの検出都度、該データテーブ
ルから対応するハロゲンガス濃度Ｃを読み出す構成等で
あってもよい。The calculation formula is not limited to the above, and various empirical formulas or a data table showing the relationship between the transmitted light intensity I and the halogen gas concentration C created by the controller 3 in advance are stored. The corresponding halogen gas concentration C may be read from the data table each time the transmitted light intensity I is detected.
【００２１】即ち、第１実施例は、図２に示すように、
レーザを発振させる前にレーザガスをレーザチャンッバ
４及び外部循環回路内に充填するために、バルブＶ１を
開け、ポンプ６を作動させ、レーザチャンバ４内のガス
を排気する。そして圧力センサ７からレーザチャンバ４
内の圧力信号を受け取り、レーザチャンバ４内の圧力が
零（＝０）となったとき（即ち、真空引き）、受光素子
２により、ガスセル５内を透過した光強度Ｉを検出す
る。この光強度Ｉは、上式〔ｌｏｇ（Ｉ／Ｉｏ）＝ｋ
Ｃ〕のＩｏに相当し、発光素子１及び受光素子２のウイ
ンド１１、２１に付着した粉塵等による透過光強度の低
下誤差を含んだ参照値として記憶される。そこではバル
ブＶ２にレーザガス供給信号を送り、レーザチャンバ内
にレーザガスが充填させる。そしてレーザ発停時、定期
的に又は連続的に、ガスセルの透過光の光強度Ｉを測定
し、上記参照値Ｉｏと共に、上式に基づき計算すると、
得られたハロゲンガス濃度Ｃは前述誤差を含まない値と
なる。そこでこのハロゲンガス濃度Ｃを別途記憶した目
標濃度となるように、ハロゲンガスを補給すると、正確
なハロゲンガス補給を行なうことができるようになる。
そしてもしガス交換する場合は、再び真空引きしてガス
セル５の透過光の光強度Ｉｏを測定し、これを再び参照
値として書き換えて記憶する。That is, in the first embodiment, as shown in FIG.
In order to fill the laser chamber 4 and the external circulation circuit with the laser gas before oscillating the laser, the valve V1 is opened, the pump 6 is operated, and the gas in the laser chamber 4 is exhausted. And from the pressure sensor 7 to the laser chamber 4
When the pressure inside the laser chamber 4 becomes zero (= 0) (that is, a vacuum is drawn), the light receiving element 2 detects the light intensity I transmitted through the gas cell 5. This light intensity I is calculated by the above equation [log (I / Io) = k
C] corresponding to Io, and is stored as a reference value including an error in reduction of transmitted light intensity due to dust or the like adhering to the windows 11 and 21 of the light emitting element 1 and the light receiving element 2. There, a laser gas supply signal is sent to the valve V2 to fill the laser chamber with laser gas. Then, when the laser is turned on and off, the light intensity I of the transmitted light of the gas cell is measured periodically or continuously, and the calculation is performed based on the above equation together with the reference value Io,
The obtained halogen gas concentration C is a value that does not include the above error. Therefore, if the halogen gas is replenished so that the halogen gas concentration C becomes a target concentration that is stored separately, accurate halogen gas replenishment can be performed.
If the gas is to be replaced, the gas is again evacuated to measure the light intensity Io of the transmitted light of the gas cell 5, and this is rewritten as a reference value and stored.
【００２２】また上記では真空引きしたときの値Ｉを参
照値Ｉｏとしているが、レーザガスを充填するときにハ
ロゲンガス及び希ガスを順番に充填する場合はハロゲン
ガスが充填されていないときに透過光の光強度Ｉを測定
し、参照値Ｉｏとしてもよい。In the above description, the value I when the vacuum is drawn is used as the reference value Io, but when the halogen gas and the rare gas are sequentially filled when the laser gas is filled, the transmitted light is obtained when the halogen gas is not filled. It is also possible to measure the light intensity I of and use it as the reference value Io.
【００２３】第２実施例は、図３に示すように、レーザ
を発振させる前にレーザガスをレーザチャンバ４及び外
部循環回路内に充填するために、バルブＶ１を開け、ポ
ンプ６を作動させ、レーザチャンバ４内のガスを排気す
る。そして圧力センサ７からレーザチャンバ４内の圧力
信号を受け取り、レーザチャンバ４内の圧力信号を受け
取り、レーザチャンバ４内の圧力が零（＝０）とし、次
に所定のハロゲン濃度のレーザガスを充填する。レーザ
ガスを充填した直後に、受光素子２により、ガスセル５
内を透過した光強度Ｉを検出する。この光強度は、上式
〔ｌｏｇ（Ｉｃ／Ｉｏ）＝ｋＣｃ，ただしＣｃは所定の
ハロゲンガス濃度〕のＩｃに相当し、この式から逆にＩ
ｏを求めて、発光素子１及び受光強度の低下誤差を含ん
だ参照値Ｉｏとして記憶される。以下の実行は第１実施
例と同様である。また、別の方法として、レーザガス充
填直後の透過強度Ｉｃを検出し、透過強度Ｉｃとなるよ
うにハロゲンガスを供給してもよい。In the second embodiment, as shown in FIG. 3, in order to fill the laser gas into the laser chamber 4 and the external circulation circuit before oscillating the laser, the valve V1 is opened, the pump 6 is operated, and the laser is turned on. The gas in the chamber 4 is exhausted. Then, the pressure signal in the laser chamber 4 is received from the pressure sensor 7, the pressure signal in the laser chamber 4 is received, the pressure in the laser chamber 4 is set to zero (= 0), and then the laser gas having a predetermined halogen concentration is filled. .. Immediately after being filled with the laser gas, the light receiving element 2 causes the gas cell 5
The light intensity I transmitted through the inside is detected. This light intensity corresponds to Ic in the above equation [log (Ic / Io) = kCc, where Cc is a predetermined halogen gas concentration].
The value o is calculated and stored as the reference value Io including the light emitting element 1 and the received light intensity decrease error. The subsequent execution is the same as in the first embodiment. As another method, the transmission intensity Ic immediately after filling the laser gas may be detected and the halogen gas may be supplied so as to have the transmission intensity Ic.
【００２４】第３実施例は、第１及び第２の実施例を組
み合わせた実施例である。図４に示すように、まずレー
ザチャンバ４及び外部循環回路内を真空引きし、レーザ
ガスの圧力が零（＝０）となった時に透過光の光強度Ｉ
を検出し、このハロゲンガスが０の時の透過光の光強度
Ｉｏが参照値として記憶される。次に所定のハロゲンガ
ス濃度のレーザガスを充填し、この時の透過光の光強度
Ｉｃを第２の参照値として記憶する。ランベルトベアの
式から〔ｌｏｇ（Ｉｃ／Ｉｏ）＝ｋＣｃ，ただしＣｃは
所定のハロゲンガス濃度〕モル吸光係数ｋを計算しこの
値を記憶する。そしてレーザの発振中または、停止状態
の時に透過光の光強度Ｉを検出して、第１の参照値Ｉｏ
及び第２の参照値Ｃｃに基づくハロゲンガス濃度を計算
して所定のハロゲンガス濃度となるようハロゲンガスを
供給する。The third embodiment is an embodiment in which the first and second embodiments are combined. As shown in FIG. 4, first, the laser chamber 4 and the external circulation circuit are evacuated, and the light intensity I of the transmitted light is I when the pressure of the laser gas becomes zero (= 0).
Is detected, and the light intensity Io of the transmitted light when the halogen gas is 0 is stored as a reference value. Next, a laser gas having a predetermined halogen gas concentration is filled, and the light intensity Ic of the transmitted light at this time is stored as a second reference value. The molar extinction coefficient k is calculated from the Lambert-Beer equation [log (Ic / Io) = kCc, where Cc is a predetermined halogen gas concentration], and this value is stored. Then, the light intensity I of the transmitted light is detected when the laser is oscillating or in the stopped state, and the first reference value Io is detected.
Then, the halogen gas concentration is calculated based on the second reference value Cc, and the halogen gas is supplied so as to have a predetermined halogen gas concentration.
【００２５】[0025]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
演算されるハロゲンガス濃度が予め発光素子と受光素子
とのウインドの汚れに基づく光強度の低下分で補正され
るため、少なくとも発光素子と受光素子とのウインドの
汚れに基づく光強度の低下分によるハロゲンガス濃度が
真値に近くなる。該ハロゲンガス濃度が目標濃度となる
ように、ハロゲンガスを補給することにより、レーザ出
力を安定化することができるようになる。As described above, according to the present invention,
Since the calculated halogen gas concentration is corrected in advance by the decrease in the light intensity due to the dirt on the window between the light emitting element and the light receiving element, at least due to the decrease in the light intensity due to the dirt on the window between the light emitting element and the light receiving element. The halogen gas concentration approaches the true value. By supplying the halogen gas so that the halogen gas concentration becomes the target concentration, the laser output can be stabilized.
【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]
【図１】実施例成るエキシマレーザ発振装置の本体構成
図である。1 is a main structural diagram of solution was Mareza oscillator consisting embodiment.
【図２】第１実施例を説明するフローチャートである。FIG. 2 is a flowchart illustrating a first embodiment.
【図３】第２実施例を説明するフローチャートである。FIG. 3 is a flowchart illustrating a second embodiment.
【図４】第３実施例を説明するフローチャートである。FIG. 4 is a flowchart illustrating a third embodiment.
【符号の説明】 １ 発光素子 １１ 受光素子のウインド ２ 受光素子 ２１ 発光素子のウインド Ｃ ハロゲンガス濃度 Ｃｏ 目標濃度 Ｉ 光強度[Explanation of symbols] 1 light emitting element 11 window of light receiving element 2 light receiving element 21 window of light emitting element C halogen gas concentration Co target concentration I light intensity
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 溝口 計 神奈川県平塚市万田1200 株式会社小松製 作所研究所内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Kei Mizoguchi 1200 Manda, Hiratsuka-shi, Kanagawa Komatsu Seisakusho Research Laboratory
Claims (1)
らのレーザガス透過光の光強度Ｉから該レーザガス中の
ハロゲンガス濃度Ｃを求め、該ハロゲンガス濃度Ｃが目
標濃度Ｃｏとなるように、レーザガス内にハロゲンガス
を補給するハロゲンガス補給手段を備えてなるエキマレ
ーザ発振装置において、該ハロゲンガス補給手段は、ハ
ロゲンガス濃度Ｃを発光素子１と受光素子２とのウイン
ド１１、２１の汚れ等に基づく光強度の低下分で補正し
たのち、該補正済みハロゲンガス濃度Ｃが目標濃度Ｃｏ
となるように、レーザガス内にハロゲンガスを補給する
構成を特徴とするエキマレーザ発振装置。1. The halogen gas concentration C in the laser gas is obtained from the light intensity I of the laser gas transmitted light from the light emitting element 1 which is received by the light receiving element 2 so that the halogen gas concentration C becomes the target concentration Co. In an excimer laser oscillating device including a halogen gas replenishing means for replenishing the halogen gas in the laser gas, the halogen gas replenishing means uses the halogen gas concentration C to stain the windows 11 and 21 of the light emitting element 1 and the light receiving element 2 and the like. After the correction based on the decrease in the light intensity based on the above, the corrected halogen gas concentration C is changed to the target concentration Co.
An excimer laser oscillation device characterized in that a halogen gas is replenished in the laser gas so that
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25752092A JPH05347448A (en) | 1992-06-12 | 1992-06-12 | Excimer laser oscillator |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25752092A JPH05347448A (en) | 1992-06-12 | 1992-06-12 | Excimer laser oscillator |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05347448A true JPH05347448A (en) | 1993-12-27 |
Family
ID=17307444
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25752092A Pending JPH05347448A (en) | 1992-06-12 | 1992-06-12 | Excimer laser oscillator |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05347448A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6028880A (en) * | 1998-01-30 | 2000-02-22 | Cymer, Inc. | Automatic fluorine control system |
| US6240117B1 (en) | 1998-01-30 | 2001-05-29 | Cymer, Inc. | Fluorine control system with fluorine monitor |
-
1992
- 1992-06-12 JP JP25752092A patent/JPH05347448A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6028880A (en) * | 1998-01-30 | 2000-02-22 | Cymer, Inc. | Automatic fluorine control system |
| US6240117B1 (en) | 1998-01-30 | 2001-05-29 | Cymer, Inc. | Fluorine control system with fluorine monitor |
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