JPH05342854A - Semiconductor memory - Google Patents

Semiconductor memory

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JPH05342854A
JPH05342854A JP4151919A JP15191992A JPH05342854A JP H05342854 A JPH05342854 A JP H05342854A JP 4151919 A JP4151919 A JP 4151919A JP 15191992 A JP15191992 A JP 15191992A JP H05342854 A JPH05342854 A JP H05342854A
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JP
Japan
Prior art keywords
node
line
conductivity type
sense amplifier
type transistor
Prior art date
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Pending
Application number
JP4151919A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kiyohiro Furuya
清広 古谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
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Publication of JPH05342854A publication Critical patent/JPH05342854A/en
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Abstract

PURPOSE:To obtain a semiconductor storage device in which a high integration can be attained, and a reading error can not be generated. CONSTITUTION:This device is equipped with a sense amplifier 20lB which amplifies a potential difference between a first node SN2 of a sense amplifier 201B with which a first bit line BL21 is connected through a first switch 16, and a second node #SN2 of the sense amplifier 201B with which a second bit line BL12 is connected through a second switch 11. At the time of activating the sense amplifier 201B, the first and second bit lines BL21 and BL12 are separated from the first and second nodes SN2 and #SN2. At the time of transferring the amplified result, the second node #SN2 of the sense amplifier 201B is turned to a floating state at first the first node SN2 is connected with the bit line BL21, and the amplified result is transferred to the bit line BL21. Then, the second node #SN2 is connected with the second bit line BL12, and the amplified result is transferred to the bit line BL12.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は高集積化された半導体記
憶装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a highly integrated semiconductor memory device.

【0002】[0002]

【従来の技術】図1は例えばIEEE JOURNAL OF SOLID-ST
ATE CIRCUITS, VOL SC-15, NO.5, OCTOBER 1980 P846〜
P854に記載されている従来の半導体記憶装置の模式的構
成図である。ビット線BL1 (BL2 , BLm ) と反転ビット
線#BL1 (#BL2 ,#BLm )との間には、n型MOSFET
(以下nMOSという)65(67,69)と66(68,70) との直列回路
及びp型MOSFET(以下pMOSという)71(73,75)と72(74,7
6) との直列回路が夫々介装されている。nMOS65(67,69)
と66(68,70) との共通接続部はn型センスアンプ駆動
線SDn と接続されている。pMOS71(73,75) と72(74,76)
との共通接続部はp型センスアンプ駆動線SDp と接続さ
れている。n型センスアンプ駆動線SDn (p型センスア
ンプ駆動線SDp ) はnMOS89 (pMOS90) を介して接地部V
SS(電源VCC)と接続されている。
2. Description of the Related Art FIG. 1 shows, for example, IEEE JOURNAL OF SOLID-ST.
ATE CIRCUITS, VOL SC-15, NO.5, OCTOBER 1980 P846 ~
It is a typical block diagram of the conventional semiconductor memory device described in P854. An n-type MOSFET is provided between the bit line BL 1 (BL 2 , BL m ) and the inverted bit line # BL 1 (# BL 2 , # BL m ).
(Hereafter nMOS) 65 (67,69) and 66 (68,70) series circuit and p-type MOSFET (hereafter pMOS) 71 (73,75) and 72 (74,7)
Series circuits with 6) are inserted respectively. nMOS65 (67,69)
And 66 (68, 70) are commonly connected to the n-type sense amplifier drive line SD n . pMOS71 (73,75) and 72 (74,76)
The common connection part with is connected to the p-type sense amplifier drive line SD p . The n-type sense amplifier drive line SD n (p-type sense amplifier drive line SD p ) is connected to the ground portion V through the nMOS89 (pMOS90).
It is connected to SS (power supply V CC ).

【0003】ビット線BL1 (BL2 ,BLm )はnMOS53(55,
57) を介してメモリセルキャパシタ77(79,81) と接続さ
れており、nMOS53,55,57のゲートはワード線W11と接続
されている。またビット線BL1 (BL2 ,BLm )はnMOS54
(56,58) を介してメモリセルキャパシタ78(80,82) と接
続されており、nMOS54,56,58のゲートはワード線W1n
接続されている。
The bit line BL 1 (BL 2 , BL m ) is an nMOS 53 (55,
57) is connected to the memory cell capacitors 77 (79, 81), and the gates of the nMOSs 53, 55, 57 are connected to the word line W 11 . In addition, bit line BL 1 (BL 2 , BL m ) is nMOS54
The memory cell capacitors 78 (80, 82) are connected via (56, 58), and the gates of the nMOSs 54, 56, 58 are connected to the word line W 1n .

【0004】反転ビット線#BL1 (#BL2 ,#BLm )は
nMOS59(61,63) を介してメモリセルキャパシタ83(85,8
7) と接続され、メモリセルキャパシタ59,61,63のゲー
トはワード線W21と接続されている。また反転ビット線
#BL1 (#BL2 , #BLm ) はnMOS60(62,65) を介してメ
モリセルキャパシタ84(86,88) と接続されており、nMOS
60,62,64のゲートはワード線W2nと接続されている。nM
OS53(55,57,54,56,58)とメモリセルキャパシタ77(79,8
1,78,80,82)とによりメモリセルMC111 (MC112 ,M
C11m , MC1n1 , MC1n2 , MC1nm ) を構成している。ま
たnMOS59(61,63,60,62,64)とメモリセルキャパシタ83(8
5,87,84,86,88)とによりメモリセルMC211 (MC212 , MC
21m , MC2n1 , MC2n2 , MC2nm ) を構成している。ビッ
ト線BL1 , BL2 ,BLm と、ワード線W11 (W1n) との交
点付近には寄生容量Cs111, Cs112, Cs11m (Cs1n1,
s1n2, Cs1nm) が存在している。反転ビット線#B
L1 ,#BL2 ,#BLm とワード線W21 (W2n) との交点付
近は寄生容量Cs211, Cs212, Cs21m(Cs2n1
s2n2,Cs2nm)が存在している。このようにして、メ
モリセルアレイ89,90 には夫々n×m個のメモリセルが
行列状に配置されている。
The inverted bit line #BL 1 (#BL 2 , #BL m ) is
Memory cell capacitor 83 (85,8,8) via nMOS59 (61,63)
7), and the gates of the memory cell capacitors 59, 61, 63 are connected to the word line W 21 . The inverted bit line #BL 1 (#BL 2, #BL m ) is connected to the memory cell capacitor 84 (86, 88) via the NMOS 60 (62, 65), nMOS
The gates of 60, 62 and 64 are connected to the word line W 2n . nM
OS53 (55,57,54,56,58) and memory cell capacitor 77 (79,8
1,78,80,82) and memory cell MC 111 (MC 112 , M
C 11m , MC 1n1 , MC 1n2 , MC 1nm ). In addition, nMOS59 (61,63,60,62,64) and memory cell capacitor 83 (8
5,87,84,86,88) and memory cell MC 211 (MC 212 , MC
21m , MC 2n1 , MC 2n2 , MC 2nm ). Parasitic capacitance C s111 is in the vicinity of the intersection of the bit lines BL 1, BL 2, BL m , the word line W 11 and (W 1n), C s112, C s11m (C s1n1,
C s1n2 , C s1nm ) exist. Inverted bit line #B
L 1, # BL 2, # BL m is near the intersection between the word line W 21 (W 2n) parasitic capacitance C s211, C s212, C s21m (C s2n1,
C s2n2 , C s2nm ) exist. In this manner, n × m memory cells are arranged in rows and columns in the memory cell arrays 89 and 90, respectively.

【0005】次にこの半導体記憶装置のメモリセルMC
111 が「H」を、メモリセルMC112 ,MC11m が「L」を
記憶している場合に、ワード線W11が選択されたときの
メモリセルMC111 ,MC112 ,MC11m の読出し動作を図2
のタイミングチャートとともに説明する。
Next, the memory cell MC of this semiconductor memory device
When the word line W 11 is selected when 111 stores “H” and the memory cells MC 112 and MC 11m store “L”, the read operation of the memory cells MC 111 , MC 112 and MC 11m is performed. Figure 2
It will be described together with the timing chart.

【0006】ビット線BL1 ,BL2 ,BLm ,反転ビット線
#BL1 ,#BL2 ,#BLm が電源VCCの電圧の1/2 である
1/2 VCCにプリチャージされている状態で、時点t1
ワード線W11が図2(a) に示す如く立上ると、ビット線
BL1 , BL2 , BLm に夫々「H」及び「L」,「L」のデ
ータが読出される。次に時点t2 で図2(g),(h) に示す
如く活性化信号φn を「H」に活性化信号φp を「L」
にするとセンスアンプが活性化されてビット線BL2 , BL
m が「L」に、反転ビット線#BL2 , #BLm が「H」に
なる。
The bit lines BL 1 , BL 2 , BL m and the inverted bit lines #BL 1 , #BL 2 , #BL m are 1/2 of the voltage of the power supply V CC.
When the word line W 11 rises as shown in FIG. 2 (a) at the time t 1 while precharged to 1/2 V CC , the bit line
BL 1 respectively to, BL 2, BL m "H" and "L", data of "L" is read. Next, at time t 2 , the activation signal φ n is set to “H” and the activation signal φ p is set to “L” as shown in FIGS.
When set to, the sense amplifier is activated and bit lines BL 2 and BL
m to "L", the inverted bit line #BL 2, #BL m becomes "H".

【0007】この電位変化はビット線BL1 , BL2 , BLm
とワード線W11との間の寄生容量Cs111, Cs112, C
s2nmによる容量結合によって、ワード線W11, W12, W
1nには図2(e) に示すように負の雑音LNが、ワード線W
21, W22,W2nには図2(f) に示すように正の雑音PNが
誘起される。これらのワード線W11, W12, W1n及びW
21, W22, W2nの電位変化はビット線BL1 , BL2 , BLm
と反転ビット線#BL1 ,#BL2 #BLm とに容量結合して
与えられ、ビット線BL1 には図2(b) に示すように負の
雑音を、反転ビット線#BL1 には正の雑音を誘起する。
この雑音は本来の読出しデータと反対であるため図2
(b) に示す如くビット線BL1 、反転ビット線#BL1 の増
幅が失敗してビット線BL1 が「L」、反転ビット線#BL
1 が「H」になる。
This potential change is caused by the bit lines BL 1 , BL 2 , BL m
Parasitic capacitance C s111 , C s112 , C between the word line and the word line W 11
By capacitive coupling by s2nm , word lines W 11 , W 12 , W
As shown in Fig. 2 (e), 1n has negative noise LN and word line W
Positive noise PN is induced in 21 , W 22 , and W 2n as shown in FIG. 2 (f). These word lines W 11 , W 12 , W 1n and W
The potential changes of 21 , W 22 , W 2n depend on the bit lines BL 1 , BL 2 , BL m
And the inverted bit lines #BL 1 and #BL 2 #BL m are capacitively coupled to the bit line BL 1 and negative noise is applied to the inverted bit line #BL 1 as shown in FIG. 2B. Induces positive noise.
Since this noise is the opposite of the original read data,
As shown in (b), the amplification of the bit line BL 1 and the inverted bit line #BL 1 fails, the bit line BL 1 is “L”, and the inverted bit line #BL 1
1 becomes "H".

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】このように従来の半導
体記憶装置は、ビット線BL、反転ビット線とワード線と
の間の寄生容量による容量結合で、ワード線が介在した
ビット線間のカップリング雑音が誘起するために、高集
積化することによってメモリセルキャパシタの容量が小
さくなった場合には、より誤動作し易くなる。そこでこ
のような問題を解消するために、従来は例えばIEEE JOU
RNAL OF SOLID-STATE CIRCUITS VOL. SC-15, NO.5, OCT
OBER 1980 P846〜P854に折り返しビット線構成が提案さ
れているが、1ビットのメモリセル領域に2本のワード
線をを配置する必要があって、1 ビットのメモリセル領
域に1本のワード線を配置すればよい図1のオープンビ
ット構成に比べてメモリセルの面積が大きくなり、高集
積化できないという問題がある。
As described above, in the conventional semiconductor memory device, the capacitive coupling by the parasitic capacitance between the bit line BL and the inversion bit line and the word line causes the coupling between the bit lines with the word line interposed. Since ring noise is induced, if the capacity of the memory cell capacitor becomes small due to high integration, malfunction will occur more easily. Therefore, in order to solve such a problem, conventionally, for example, IEEE JOU
RNAL OF SOLID-STATE CIRCUITS VOL. SC-15, NO.5, OCT
A folded bit line configuration is proposed in OBER 1980 P846 to P854, but it is necessary to arrange two word lines in a 1-bit memory cell area and one word line in a 1-bit memory cell area. The area of the memory cell becomes larger than that of the open bit configuration of FIG.

【0009】本発明は斯かる問題に鑑み、高集積化でき
るとともに、カップリング雑音による読出しエラーが生
じることがない半導体記憶装置を提供することを目的と
する。
In view of the above problems, it is an object of the present invention to provide a semiconductor memory device which can be highly integrated and in which a read error due to coupling noise does not occur.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】第1発明に係る半導体記
憶装置は、第1のデータ線と第1のスイッチを介して接
続される第1のノードと、第2のデータ線と第2のスイ
ッチを介して接続される第2のノードとの間に、直列接
続された第1、第2、第3、第4の一導電型トランジス
タ群及び直列接続された第1、第2、第3、第4の他導
電型トランジスタ群を夫々介装させ、第1の一導電型ト
ランジスタ及び第1の他導電型トランジスタのゲートを
第2のノードと、第4の一導電型トランジスタ及び第4
の他導電型トランジスタのゲートを第1のノードと接続
し、第2、第3の一導電型トランジスタの共通接続部及
び第2、第3の他導電型トランジスタの共通接続部にセ
ンスアンプ活性化信号を、第2、第3の一導電型トラン
ジスタのゲート及び第2、第3の他導電型トランジスタ
のゲートに相補の信号を与えるようにしてあるセンスア
ンプを備える構成にする。
A semiconductor memory device according to a first aspect of the present invention includes a first node connected to a first data line via a first switch, a second data line and a second node. First, second, third, and fourth one-conductivity-type transistor groups connected in series and first, second, and third connected in series with a second node connected via a switch. , A fourth group of other conductivity type transistors are respectively interposed, and the gates of the first one conductivity type transistor and the first other conductivity type transistor are connected to the second node, and the fourth one conductivity type transistor and the fourth one conductivity type transistor.
The gate of the other conductivity type transistor is connected to the first node, and the sense amplifier is activated in the common connection part of the second and third one conductivity type transistors and the common connection part of the second and third other conductivity type transistors. A signal is provided with a sense amplifier configured to give a complementary signal to the gates of the second and third one conductivity type transistors and the gates of the second and third other conductivity type transistors.

【0011】第2発明に係る半導体記憶装置は、第1の
データ線と第1のスイッチを介して接続される第1のノ
ードと、第2のデータ線と第2のスイッチを介して接続
される第2のノードとの間に、直列接続された第1、第
2、第3、第4の一導電型トランジスタ群及び直列接続
された第1、第2、第3、第4の他導電型トランジスタ
群を夫々介装しており、第2の一導電型トランジスタ及
び第2の他導電型トランジスタのゲートを第2のノード
と接続し、第3の一導電型トランジスタ及び第3の他導
電型トランジスタのゲートを第1のノードと接続し、第
2、第3の一導電型トランジスタの共通接続部及び第
2、第3の他導電型トランジスタの共通接続部にセンス
アンプ活性化信号を、第1、第4の一導電型トランジス
タのゲート及び第1、第4の他導電型トランジスタのゲ
ートに相補の信号を与えるようにしてあるセンスアンプ
を備える構成にする。
A semiconductor memory device according to a second invention is connected to a first node connected to a first data line via a first switch, and to a second data line connected to a second switch. The first, second, third and fourth one conductivity type transistor groups connected in series and the first, second, third and fourth other conductivity connected in series with the second node. Type transistor groups are respectively interposed, the gates of the second one conductivity type transistor and the second other conductivity type transistor are connected to the second node, and the third one conductivity type transistor and the third other conductivity type transistor are connected. The gate of the type transistor is connected to the first node, and the sense amplifier activation signal is supplied to the common connection portion of the second and third one conductivity type transistors and the common connection portion of the second and third other conductivity type transistors, Gates of first and fourth one conductivity type transistors and first To configure comprising a sense amplifier that is to give a signal complementary to the gate of the fourth opposite conductivity type transistor.

【0012】[0012]

【作用】第1、第2のデータ線に読出したデータを第
1、第2のスイッチを介してセンスアンプの第1、第2
のノードに与える。第1、第2のノードと、第1、第2
のデータ線とを切り離してセンスアンプを活性化し、第
1のノードと第2のノードとの間の電位差を増幅する。
一導電型トランジスタ群及び他導電型トランジスタ群に
より第1及び第2のノードの電位を固定する。センスア
ンプの増幅データを、先ず第2のノードをフローティン
グ状態にして、第1のノードを第1のデータ線と接続し
て第1のデータ線に与えて第1のデータ線を充電する。
その後、第2のノードを第2のデータ線と接続して第2
のデータ線に与えて第2のデータ線を充電する。これに
より、センスアンプの活性化時及び増幅データの転送時
に、データ線がカップリング雑音の影響をうけない。
The data read out to the first and second data lines is transferred to the first and second sense amplifiers via the first and second switches.
To the node. First and second nodes and first and second nodes
The data line is separated from the data line to activate the sense amplifier to amplify the potential difference between the first node and the second node.
The potentials of the first and second nodes are fixed by the one conductivity type transistor group and the other conductivity type transistor group. The amplified data of the sense amplifier is supplied to the first data line by connecting the first node to the first data line by first floating the second node and charging the first data line.
Then, connect the second node to the second data line to
To charge the second data line. As a result, the data line is not affected by the coupling noise when the sense amplifier is activated and when the amplified data is transferred.

【0013】[0013]

【実施例】以下本発明をその実施例を示す図面により詳
述する。図3及び図4は本発明に係る半導体記憶装置の
構成を示し、シェアド・センスアンプを適用した場合の
模式的構成図である。
The present invention will be described in detail below with reference to the drawings showing the embodiments thereof. 3 and 4 show the configuration of a semiconductor memory device according to the present invention, and are schematic configuration diagrams in the case where a shared sense amplifier is applied.

【0014】センスアンプ201A(201B)のノードSN1 (SN
2 ) はnMOS6(nMOS16) を介してビット線BL11 (BL21)
と接続されている。センスアンプ201CのノードSN3 はnM
OS302 と接続されている。センスアンプ201Aの反転ノー
ド#SN1 はnMOS301 と接続されている。ビット線BL12
(BL22) はnMOS11(21)を介してセンスアンプ201B(201C)
の反転ノード#SN2 (#SN3 ) と接続されている。nMOS
301(6) のゲートはブロック選択信号線φ1R(φ1R)と
接続されている。ノードSN1 と反転ノード#SN1との間
にはnMOS1,2,3,4の直列回路及びpMOS28,29,30,3
1 の直列回路が夫々介装され、また読出し、書込み、イ
コライズ回路202Aが介装されている。nMOS1(4)のゲ
ートは反転ノード#SN1 (ノードSN1 )と接続されてい
る。nMOS2と3との共通接続部はn型センスアンプ駆動
線SDnAと接続されており、n型センスアンプ駆動線SDnA
はnMOS5を介して接地部VSSと接続されている。nMOS2
のゲートは電源線SLA と接続され、電源線SLA は電源V
CCと接続され、nMOS3のゲートはクロック信号線φ12
接続されている。pMOS28(31)のゲートは反転ノード#SN
1 (ノードSN1 ) と接続されている。pMOS29と30との共
通接続部はp型センスアンプ駆動線SDpAと接続されてお
り、p型センスアンプ駆動線SDpAはpMOS27を介して電源
CCと接続されている。pMOS30のゲートはクロック信号
線φ13と接続されており、pMOS29のゲートは接地線VEA
と接続され、接地部VSSと接続されている。そしてnMOS
1,2,3,4及びpMOS28,29,30,31 によりセンスアン
プ201Aが構成されている。
The node SN 1 (SN of the sense amplifier 201A (201B)
2 ) is bit line BL 11 (BL 21 ) via nMOS6 (nMOS16)
Connected with. The node SN 3 of the sense amplifier 201C is nM
It is connected to OS302. The inversion node #SN 1 of the sense amplifier 201A is connected to the nMOS 301. Bit line BL 12
(BL 22 ) is the sense amplifier 201B (201C) via nMOS11 (21)
Connected to the reverse node # SN 2 (# SN 3 ). nMOS
The gate of 301 (6) is connected to the block selection signal line φ 1R1R ). A series circuit of nMOSs 1 , 2, 3, 4 and pMOSs 28, 29, 30, 3 are provided between the node SN 1 and the inversion node #SN 1.
The serial circuits of 1 are provided respectively, and the read / write / equalize circuit 202A is also provided. The gate of nMOS1 (4) is connected to the inverting node #SN 1 (node SN 1 ). The common connection between the nMOSs 2 and 3 is connected to the n-type sense amplifier drive line SD nA , and the n-type sense amplifier drive line SD nA
Is connected to the ground portion V SS via the nMOS 5. nMOS2
The gate is connected to the power supply line SL A, the power supply line SL A power supply V
It is connected to CC and the gate of the nMOS 3 is connected to the clock signal line φ 12 . The gate of pMOS28 (31) is the inverting node #SN.
It is connected to 1 (node SN 1 ). The common connection between the pMOSs 29 and 30 is connected to the p-type sense amplifier drive line SD pA , and the p-type sense amplifier drive line SD pA is connected to the power supply V CC via the pMOS 27. The gate of pMOS 30 is connected to the clock signal line φ 13, and the gate of pMOS 29 is the ground line V EA.
Is connected to the ground portion V SS . And nMOS
A sense amplifier 201A is configured by 1, 2, 3, 4 and pMOSs 28, 29, 30, 31.

【0015】ビット線BL11は、nMOS7(8)を介してメ
モリセルキャパシタ44(45)と接続されており、ビット線
BL12はnMOS9(10)を介してメモリセルキャパシタ46(47)
と接続されている。nMOS7,9のゲートはワード線W11
と接続されており、pMOS8,10のゲートはダミーワード
線DW1 と接続されている。nMOS7(9)とメモリセルキ
ャパシタ44(46)とによりメモリセルMC111 (MC112 ) が
構成されており、nMOS8(10)とメモリセルキャパシタ45
(47)とによりダミーセル DMC11(DMC12) が構成されてい
る。これらのメモリセルMC111 , MC112 とダミーセル D
MC11,DMC12とによりメモリセルアレイ42が構成されてい
る。ブロック選択信号線φ2LはnMOS11のゲートと接続さ
れている。
The bit line BL 11 is connected to the memory cell capacitor 44 (45) through the nMOS 7 (8),
BL 12 is a memory cell capacitor 46 (47) via nMOS 9 (10)
Connected with. The gates of nMOS 7 and 9 are word lines W 11
The gates of the pMOSs 8 and 10 are connected to the dummy word line DW 1 . The nMOS 7 (9) and the memory cell capacitor 44 (46) form a memory cell MC 111 (MC 112 ), and the nMOS 8 (10) and the memory cell capacitor 45.
The dummy cell DMC 11 (DMC 12 ) is constituted by (47). These memory cells MC 111 , MC 112 and dummy cell D
A memory cell array 42 is constituted by the MC 11 and the DMC 12 . The block selection signal line φ 2L is connected to the gate of the nMOS 11.

【0016】センスアンプ201BのノードSN2 と反転ノー
ド#SN2 との間には、nMOS12,13,14,15 の直列回路及び
pMOS33,34,35,36 の直列回路が夫々介装され、また読出
し、書込み、イコライズ回路202Bが介装されている。nM
OS12(15)のゲートは反転ノード#SN2 (ノードSN2 ) と
接続されている。nMOS13と14との共通接続部はセンスア
ンプ駆動線SDnBと接続され、センスアンプ駆動線SDnB
nMOS52を介して接地部VSSと接続されている。nMOS13(1
4)のゲートはクロック信号線φ2122) と接続されて
いる。pMOS33(36)のゲートは反転ノード#SN2 (ノード
SN2 ) と接続されている。pMOS34と35との共通接続部は
p型センスアンプ駆動線SDpBと接続され、p型センスア
ンプ駆動線SDpBはpMOS32を介して電源VCCと接続されて
いる。
Between the node SN 2 of the sense amplifier 201B and the inverting node #SN 2 , a series circuit of nMOSs 12, 13, 14, 15 and
A series circuit of pMOSs 33, 34, 35, 36 is provided respectively, and a read / write / equalize circuit 202B is provided. nM
The gate of OS12 (15) is connected to the inverting node #SN 2 (node SN 2 ). the common connection portion of nMOS13 and 14 are connected to the sense amplifier drive line SD nB, sense amplifier drive line SD nB is
It is connected to the ground portion V SS via the nMOS 52. nMOS13 (1
The gate of 4) is connected to the clock signal line φ 2122 ). The gate of pMOS33 (36) is the inverting node #SN 2 (node
SN 2 ). The common connection between the pMOSs 34 and 35 is connected to the p-type sense amplifier drive line SD pB, and the p-type sense amplifier drive line SD pB is connected to the power supply V CC via the pMOS 32.

【0017】pMOS34(35)のゲートはクロック信号線φ24
(φ23)と接続されている。nMOS11(16)のゲートはブロ
ック選択信号線φ2L2R) と接続されている。そして
nMOS12,13,14,15 及びpMOS33,34,35,36 によりセンスア
ンプ201Bが構成されている。ビット線BL21はnMOS17(19)
を介してメモリセルキャパシタ48(49)と接続されてお
り、ビット線BL22はnMOS18(20)を介してメモリセルキャ
パシタ50(51)と接続されている。nMOS17,18 のゲートは
ワード線W21と接続され、nMOS19,20 のゲートはダミー
ワード線DW2 と接続されている。nMOS17(18)とメモリセ
ルキャパシタ48(50)とによりメモリセルMC211 (M
C212 ) が、nMOS19(20)とメモリセルキャパシタ49(51)
とによりダミーセル DMC21(DMC22) が構成されている。
メモリセルMC211, MC212 とダミーセル DMC21,DMC22
によりメモリセルアレイ43が構成されている。
The gate of the pMOS 34 (35) is a clock signal line φ 24.
23 ). The gate of the nMOS 11 (16) is connected to the block selection signal line φ 2L2R ). And
The nMOS 12, 13, 14, 15 and the pMOS 33, 34, 35, 36 form a sense amplifier 201B. Bit line BL 21 is nMOS 17 (19)
The bit line BL 22 is connected to the memory cell capacitor 50 (51) through the nMOS 18 (20). The gates of the nMOSs 17 and 18 are connected to the word line W 21, and the gates of the nMOSs 19 and 20 are connected to the dummy word line DW 2 . With the nMOS 17 (18) and the memory cell capacitor 48 (50), the memory cell MC 211 (M
C 212) is, NMOS 19 (20) and the memory cell capacitor 49 (51)
And form a dummy cell DMC 21 (DMC 22 ).
A memory cell array 43 is configured by the memory cells MC 211 and MC 212 and the dummy cells DMC 21 and DMC 22 .

【0018】センスアンプ201CのノードSN3 と反転ノー
ド#SN3 との間には、読出し、書込み、イコライズ回路
202Cが介装され、nMOS22,23,24,25 の直列回路及びpMOS
37,38,39,40 の直列回路が夫々介装されている。nMOS22
(25)のゲートは反転ノード#SN3 (ノードSN3 ) と接続
されている。nMOS23と24との共通接続部はn型センスア
ンプ駆動線SDnCと接続され、n型センスアンプ駆動線SD
nCはnMOS26を介して接地部VSSと接続されている。nMOS
23(24)のゲートはクロック信号線φ31(電源線SLC )と
接続されている。電源線SLC は電源VCCと接続されてい
る。pMOS38と39との共通接続部はp型センスアンプ駆動
線SDpCと接続されており、p型センスアンプ駆動線SDpC
はpMOS41を介して電源VCCと接続される。pMOS38(39)の
ゲートはクロック信号線φ34(接地線VEC) と接続され
ている。接地線VECは接地部VSSと接続されている。そ
してnMOS22,23,24,25 及びpMOS37,38,39,40 によりセン
スアンプ201Cが構成されている。なお、メモリセルアレ
イ42,43 はn×m個のメモリセルとm個のダミーセルと
が行列状に配置されるが、図3及び図4には便宜上、1
行のメモリセルとダミーセルとを2列のみで図示してい
る。
A read / write / equalize circuit is provided between the node SN 3 of the sense amplifier 201C and the inversion node #SN 3.
202C is inserted, nMOS22,23,24,25 series circuit and pMOS
37,38,39,40 series circuits are inserted respectively. nMOS22
The gate of (25) is connected to the inverting node #SN 3 (node SN 3 ). The common connection between the nMOSs 23 and 24 is connected to the n-type sense amplifier drive line SD nC, and the n-type sense amplifier drive line SD
nC is connected to the ground portion V SS via the nMOS 26. nMOS
The gate of 23 (24) is connected to the clock signal line φ 31 (power supply line SL C ). The power supply line SL C is connected to the power supply V CC . The common connection between pMOS 38 and 39 is connected to the p-type sense amplifier drive line SD pC , and the p-type sense amplifier drive line SD pC
Is connected to the power supply V CC through pMOS41. The gate of the pMOS 38 (39) is connected to the clock signal line φ 34 (ground line V EC ). The ground line V EC is connected to the ground portion V SS . The nMOSs 22,23,24,25 and the pMOSs 37,38,39,40 constitute a sense amplifier 201C. In the memory cell arrays 42 and 43, n × m memory cells and m dummy cells are arranged in a matrix, but in FIG. 3 and FIG.
The memory cells in the rows and the dummy cells are shown in only two columns.

【0019】次にこの半導体記憶装置のメモリセルMC
111 が「H」、MC112 が「L」を記憶している場合に、
ワード線W11を選択したときの動作を図5(実線側)及
び図6に示す各部信号のタイミングチャートとともに説
明する。
Next, the memory cell MC of this semiconductor memory device
When 111 stores "H" and MC 112 stores "L",
The operation when the word line W 11 is selected will be described with reference to the timing charts of the signals of the respective parts shown in FIG. 5 (solid line side) and FIG.

【0020】ビット線BL11,BL12,BL21,BL22及びセン
スアンプ201AのノードSN1 , 反転ノード#SN1 、センス
アンプ201BのノードSN2 , 反転ノード#SN2 、センスア
ンプ201CのノードSN3 , 反転ノード#SN3 が予め、電源
CCの電圧の1/2 である1/2VCCにプリチャージされて
いる。
Bit lines BL 11 , BL 12 , BL 21 , BL 22 and node SN 1 of sense amplifier 201A, inverted node #SN 1 , node SN 2 of sense amplifier 201B, inverted node #SN 2 , node of sense amplifier 201C The SN 3 and the inversion node #SN 3 are precharged in advance to 1 / 2V CC which is 1/2 of the voltage of the power supply V CC .

【0021】さて、時点t1 でワード線W11が図5(D)
に示す如く「H」に立上るとメモリセルMC111 , MC112
が選択されて、ビット線BL11に「H」のデータが、ビッ
ト線BL12に「L」のデータが読出されてビット線BL11
電位が上昇し、ビット線BL12の電位が下降するが、
クロック信号φ1R, φ2Lは図5(E),(F) に示す如く
「H」であるからnMOS6,11がともにオンしていてノー
ドSN1 の電位が上昇し、反転ノード#SN2 の電位が下降
する。ワード線W11の電位上昇と同時にダミーワード線
DW1 の電位が図5(B) に示す如く下降していて、ワード
線W11とビット線BL11,BL12とのカップリング雑音を相
殺する効果がある。
Now, at time t 1 , the word line W 11 is changed to the one shown in FIG. 5 (D).
As shown in, the memory cells MC 111 and MC 112 rise to “H”.
There is selected, the data of "H" to the bit line BL 11 can be data read "L" to the bit line BL 12 increases the potential of the bit line BL 11, the potential of the bit line BL 12 is lowered But,
Since the clock signals φ 1R and φ 2L are “H” as shown in FIGS. 5E and 5F, the nMOSs 6 and 11 are both turned on, the potential of the node SN 1 rises, and the inversion node #SN 2 The potential drops. Dummy word line at the same time as the potential of word line W 11 rises
The potential of DW 1 drops as shown in FIG. 5 (B), which has the effect of canceling the coupling noise between the word line W 11 and the bit lines BL 11 and BL 12 .

【0022】次に時点t2 でクロック信号φ1R2L ,
φ2R3Lを図5(E),(F),(Q),(R)に示す如く「L」に
してビット線BL11をセンスアンプ201Aから切離す。右端
のセンスアンプ201C側に設けているnMOS302 はワード線
とビット線との間に存在する寄生容量のバランスをとる
ためのダミーのトランジスタである。
Next, at time t 2 , the clock signals φ 1R , φ 2L ,
φ 2R and φ 3L are set to “L” as shown in FIGS. 5E, 5F, 5Q and 5R to disconnect the bit line BL 11 from the sense amplifier 201A. The nMOS 302 provided on the sense amplifier 201C side at the right end is a dummy transistor for balancing the parasitic capacitance existing between the word line and the bit line.

【0023】時点t3 でクロック信号φ1p2pを図5
(G),(I) に示す如く「L」に、クロック信号φ1n, φ2n
を図5(H),(J) に示す如く「H」にしてnMOS5,52をオ
ンさせてセンスアンプ201A,201B を活性化して、ノード
SN1 、反転ノード#SN1 との電位差及びノードSN2 と反
転ノード#SN2 との電位差を増幅する。
At the time point t 3 , the clock signals φ 1p and φ 2p are output as shown in FIG.
Clock signals φ 1n and φ 2n are set to “L” as shown in (G) and (I).
Is set to “H” as shown in FIGS. 5 (H) and (J) to turn on the nMOSs 5 and 52 to activate the sense amplifiers 201A and 201B, and
The potential difference between SN 1 and the inversion node #SN 1 and the potential difference between the node SN 2 and the inversion node #SN 2 are amplified.

【0024】このとき、ノードSN1 , 反転ノード#SN1
及びノードSN2 , 反転ノード#SN2はビット線BL11及び
ビット線BL12から切離されているので、オープン・ビッ
ト線の場合の如き、ワード線を介したビット線間のカッ
プリング雑音の影響をうけずにセンスアンプ201A,201B
は安定に増幅し、図6(A),(B) に示す如くノードSN1
反転ノード#SN1 との間、及びノードSN2 と反転ノード
#SN2 との間の電位差が大きくなる。
At this time, the node SN 1 and the inverted node #SN 1
Since the node SN 2 and the inversion node #SN 2 are separated from the bit line BL 11 and the bit line BL 12 , the coupling noise between the bit lines via the word line, such as in the case of the open bit line, is eliminated. Sense amplifiers 201A and 201B without being affected
Is stably amplified, and the potential differences between the node SN 1 and the inverting node #SN 1 and between the node SN 2 and the inverting node #SN 2 become large as shown in FIGS. 6 (A) and 6 (B).

【0025】次に増幅したデータをビット線BL11, BL12
に転送してメモリセルに再書込みをする場合、先ず、時
点t4 で図5(L),(K) に示す如くクロック信号φ13
「H」に、クロック信号φ12を「L」に、図5(M),(P)
に示す如くクロック信号φ21を「L」にクロック信号φ
24を「H」にして、反転ノード#SN1 及びノードSN1
電位を保持する。
Next, the amplified data is transferred to the bit lines BL 11 and BL 12
When the data is transferred to the memory cell and rewritten to the memory cell, first, at time t 4 , the clock signal φ 13 is changed to “H” and the clock signal φ 12 is changed to “L” as shown in FIGS. 5 (L) and 5 (K). , Fig.5 (M), (P)
Clock signal φ 21 is set to “L” as shown in
24 is set to “H” to hold the potentials of the inversion node #SN 1 and the node SN 1 .

【0026】次に時点t5 で図5(E),(F) に示す如くク
ロック信号φ1R2Lをともに「H」にして、ノードSN
1 とビット線BL11とを、また反転ノード#SN2 とビット
線BL12とを接続する。ビット線BL11は、反転ノード#SN
1 が「L」であるから、pMOS29,28 の経路で「H」に充
電される。またビット線BL12はノードSN2 が「H」であ
るから、nMOS15,14 の経路で「L」に放電される。この
ときオープンビット線構成のように、ワード線が介在し
たビット線間の容量結合による雑音LN,PN が図6(A),
(B) に示す如く生じるが、反転ノード#SN1 及びノード
SN2 の電位はnMOS3,pMOS30及びnMOS13, pMOS34, nMOS
16がオフであるから雑音LN,PN が生じても反転ノード#
SN1 , ノードSN2 の電位が変動せず、ビット線BL11, BL
12には安定にデータの再書込みが行われて、図6(C),
(D) に示す如くビット線BL11が「H」に、ビット線BL12
が「L」になり、メモリセルMC111 が「H」に、メモリ
セルMC112 が「L」にデータが再書込みされる。
Next, at time t 5 , both the clock signals φ 1R and φ 2L are set to “H” as shown in FIGS.
1 is connected to the bit line BL 11 , and the inversion node #SN 2 is connected to the bit line BL 12 . Bit line BL 11 has inverted node #SN
Since 1 is "L", it is charged to "H" through the path of pMOS29,28. Further, since the node SN 2 is “H”, the bit line BL 12 is discharged to “L” in the path of the nMOSs 15 and 14. At this time, as in the open bit line configuration, noise LN, PN due to capacitive coupling between the bit lines with the word lines interposed is shown in FIG.
It occurs as shown in (B), but the reverse node #SN 1 and the node
The potential of SN 2 is nMOS3, pMOS30 and nMOS13, pMOS34, nMOS
Since 16 is off, the inversion node #
The potential of SN 1 and node SN 2 does not change, and bit lines BL 11 and BL
Data is rewritten to 12 in a stable manner, as shown in FIG.
As shown in (D), the bit line BL 11 becomes “H”, and the bit line BL 12
There becomes "L", the memory cell MC 111 is "H", the memory cell MC 112 is data in the "L" is rewritten.

【0027】時点t6 に図5(K),(L) に示す如くクロッ
ク信号φ12が「H」、クロック信号φ13が「L」となっ
た後、クロック信号φ2Rを図5(Q) に示す如く「H」に
なるとビット線BL21が「H」に充電される。ビット線BL
21を充電するときに、オープンビット線構成の場合と同
様にワード線を介したビット線間のカップリング雑音が
生じるが、反転ノード#SN2 の電位が完全に「L」にな
っており、またそれに接続されているビット線BL12の容
量が大きいので、発生した雑音によってビット線BL12
びBL21の電位が反転する誤動作をすることがない。
At time t 6, after the clock signal φ 12 becomes “H” and the clock signal φ 13 becomes “L” as shown in FIGS. 5 (K) and 5 (L), the clock signal φ 2R is changed to FIG. 5 (Q). as shown in) becomes the "H" bit line BL 21 is charged to "H". Bit line BL
When charging 21 , the coupling noise between the bit lines via the word line is generated as in the case of the open bit line configuration, but the potential of the inversion node #SN 2 is completely “L”, Further, since the capacitance of the bit line BL 12 connected to it is large, there is no erroneous operation in which the potentials of the bit lines BL 12 and BL 21 are inverted due to the generated noise.

【0028】時点t8 で図5(D) に示す如くワード線W
11を立下げ、時点t9 でクロック信号φ1p2pを図5
(G),(I) に示す如くともに「H」にし、クロック信号φ
1n2nを図5(H),(J) に示す如くともに「L」にして
センスアンプ201A,201B を非活性化する。そして時点t
10でビット線BL11, BL12,BL21, BL22及びノードSN1, S
N2 , 反転ノード#SN1 , #SN2 を図6(C),(D),(E),(F)
及び(A),(B) に示す如く電源VCCの電圧の1/2 である1
/2 VCCにする。
At time t 8 , the word line W as shown in FIG.
11 fall point, at time t 9 the clock signal phi 1p, figure phi 2p 5
Set both to "H" as shown in (G) and (I), and clock signal φ
1n and φ 2n are both set to “L” as shown in FIGS. 5 (H) and 5 (J) to deactivate the sense amplifiers 201A and 201B. And time t
Bit lines 10 BL 11, BL 12, BL 21, BL 22 and node SN 1, S
N 2 and inverted nodes #SN 1 and #SN 2 are shown in FIG. 6 (C), (D), (E), (F).
And as shown in (A) and (B), it is 1/2 of the voltage of the power source V CC.
Set to / 2 V CC .

【0029】なお、メモリセルMC211 が「H」、メモリ
セルMC212 が「L」を記憶している場合に、ワード線W
21を選択したときは図5に示す破線側及び図7に示す各
部信号のタイミングチャートの如く動作し、この場合の
動作はワード線W11が選択された場合と同様である。
When the memory cell MC 211 stores "H" and the memory cell MC 212 stores "L", the word line W
When 21 is selected, the operation is as shown in the timing chart of the signals on the broken line side in FIG. 5 and each part shown in FIG. 7, and the operation in this case is the same as when the word line W 11 is selected.

【0030】図8は、図3及び図4に示した読出し、書
込み、イコライズ回路202A (202B,202C)の一例を示す模
式的構成図である。ノードSN1 (SN2 , SN3 ) と反転ノ
ード#SN1 (#SN2 , #SN3 ) との間に、nMOS101 及び
nMOS99と100 との直列回路が夫々介装されている。nMOS
99,100,101の各ゲートはイコライズ信号線BLEQと接続さ
れている。nMOS99と100 との共通接続部はプリチャージ
電位線PCV と接続されている。読出し信号線OはnMOS91
と93との直列回路を介して接地部VSSと接続されてお
り、nMOS93のゲートはノードSN1 (SN2 , SN3 ) と接続
されている。
FIG. 8 is a schematic diagram showing an example of the read / write / equalize circuit 202A (202B, 202C) shown in FIGS. 3 and 4. Node SN 1 (SN 2, SN 3 ) and inverting node #SN 1 (#SN 2, #SN 3 ) between the, NMOS 101 and
A series circuit of nMOS99 and 100 is provided respectively. nMOS
Each gate of 99, 100, 101 is connected to the equalize signal line BLEQ. The common connection between nMOS99 and 100 is connected to the precharge potential line PCV. The read signal line O is nMOS91
When through the series circuit is connected to the ground portion V SS and 93, the gate of nMOS93 is connected to the node SN 1 (SN 2, SN 3 ).

【0031】反転読出し信号線#OはnMOS92と94との直
列回路を介して接地部VSSと接続されており、nMOS94の
ゲートは反転ノード#SN1 (#SN2 , #SN3 ) と接続さ
れている。書込み信号線IはnMOS95と97との直列回路を
介してノードSN1 (SN2 , SN3 ) と接続されている。反
転書込み信号#IはnMOS96と98との直列回路を介して反
転ノード#SN1 (#SN2 , #SN3 ) と接続されている。
nMOS97,98 の各ゲートはワード線Wと接続されている。
nMOS91,92,95,96 の各ゲートは列選択信号線Yと接続さ
れている。
The inverted read signal line #O is connected to the ground portion V SS via a series circuit of nMOS 92 and 94, and the gate of the nMOS 94 is connected to the inverted node #SN 1 (#SN 2 , #SN 3 ). Has been done. The write signal line I is connected to the node SN 1 (SN 2 , SN 3 ) via a series circuit of nMOS 95 and 97. The inverted write signal #I is connected to the inverted node #SN 1 (#SN 2 , #SN 3 ) via the series circuit of the nMOSs 96 and 98.
The gates of the nMOSs 97 and 98 are connected to the word line W.
The gates of the nMOSs 91, 92, 95, 96 are connected to the column selection signal line Y.

【0032】この読出し、書込み、イコライズ回路202A
(202B,202C) のイコライズ動作は、図5に示す時点t10
でイコライズ信号BLEQを「H」にすると、読出し、書込
み、イコライズ回路202Bの場合は、「H」に充電された
ビット線BL21及び「L」に充電されたビット線BL12がnM
OS101 で短絡されて、ビット線BL21及びBL12が略1/2V
CCに充電される。ビット線BL21及びBL12の電源VCCの電
圧の1/2 である1/2 VCCからのずれは、nMOS99,100及び
プリチャージ電位線PCV を介してビット線BL21, BL12
電圧1/2 VCCの図示しないプリチャージ電源に接続され
ることにより補正される。
This read / write / equalize circuit 202A
The equalizing operation of (202B, 202C) is performed at time t 10 shown in FIG.
In when the equalize signal BLEQ to "H", reading, programming, if the equalizing circuit 202B, the bit line BL 12, which is charged to the bit line is charged to the "H" BL 21 and "L" nM
Shorted by OS101, bit lines BL 21 and BL 12 are about 1 / 2V
Charged to CC . The deviation of 1/2 of the voltage of the power supply V CC of the bit lines BL 21 and BL 12 from 1/2 V CC causes the voltage of the bit lines BL 21 and BL 12 to pass through the nMOS 99, 100 and the precharge potential line PCV. It is corrected by connecting to a precharge power source (not shown) of 1/2 V CC .

【0033】読出し、書込み、イコライズ回路202Aの場
合はビット線BL11、センスアンプ201AのノードSN1 、反
転ノード#SN1 はnMOS99,100を介して電圧1/2 VCCのプ
リチャージ電源により充電される。またnMOS101 がオン
するのでノードSN1 , 反転ノード#SN1 は同電位にな
る。読出し、書込み、イコライズ回路202Bは、ビット線
BL21とBL12とを短絡することによって略1/2 VCCを発生
することができたが、読出し、書込み、イコライズ回路
202Aは、nMOS99,100により電圧1/2 VCCに充電すること
になる。したがって、読出し、書込み、イコライズ回路
202AのnMOS99,100のチャネル幅は、読出し、書込み、イ
コライズ回路202Bのチャネル幅より大きくしておけば、
イコライズ動作が高速になる。なお、読出し、書込み、
イコライズ回路202Cの動作は、読出し、書込み、イコラ
イズ回路202Aの動作と同様である。
In the case of the read / write / equalize circuit 202A, the bit line BL 11 , the node SN 1 of the sense amplifier 201A, and the inversion node #SN 1 are charged by the precharge power source of voltage 1/2 V CC through the nMOS 99,100. To be done. Since the nMOS 101 is turned on, the node SN 1 and the inversion node #SN 1 have the same potential. Read / write / equalize circuit 202B is a bit line
About 1/2 V CC could be generated by short-circuiting BL 21 and BL 12 , but read, write and equalize circuits
202A will be charged to a voltage of 1/2 V CC by the nMOS 99,100. Therefore, read, write, equalize circuit
If the channel width of nMOS99,100 of 202A is larger than the channel width of read / write / equalize circuit 202B,
Equalize operation becomes faster. Note that reading, writing,
The operation of the equalize circuit 202C is similar to that of the read, write, and equalize circuit 202A.

【0034】次にデータの読出し動作は、図5に示す時
点t1 でワード線Wが選択されれば列選択信号線Yを
「H」にすることにより行われる。センスアンプ201Aの
ノードSN1 が反転ノード#SN1 よりも高い (低い) とき
は、読出し信号線Oに、反転読出し信号線#Oより大き
い(小さい)電流が流れるので、この電流差を検知して
読出しを行う。
[0034] Then the data read operation is performed by once in the time t 1 shown in FIG. 5 the word line W is selected a column selection signal line Y to "H". When the node SN 1 of the sense amplifier 201A is higher (lower) than the inversion node #SN 1 , a larger (smaller) current than the inverted read signal line #O flows through the read signal line O, so this current difference is detected. To read.

【0035】書込み動作は、例えば図5に示す時点t7
でワード線Wを「H」にし、列選択信号線Yを「H」に
することにより、書込み信号線I、反転書込み信号線#
Iのデータを、センスアンプのノードSN1 (SN2 , S
N3 ),反転ノード#SN1 (#SN2, #SN3 ) 及びビット線
に伝達することにより行う。
The write operation is performed, for example, at time t 7 shown in FIG.
By setting the word line W to "H" and the column selection signal line Y to "H", the write signal line I and the inverted write signal line #
I data is transferred to the node SN 1 (SN 2 , S of the sense amplifier).
N 3 ), the inversion node #SN 1 (#SN 2 , #SN 3 ) and the bit line.

【0036】なお、図3, 図4に示す半導体記憶装置は
図9に示した各部信号のタイミングチャートにより制御
することができる。この図9に示したタイミングチャー
トを説明する。なお、メモリセルアレイ42が選択された
ときは実線で示す如く、メモリセルアレイ43が選択され
たときは破線で示す如く変化する。
The semiconductor memory device shown in FIGS. 3 and 4 can be controlled by the timing chart of the signals of the respective parts shown in FIG. The timing chart shown in FIG. 9 will be described. When the memory cell array 42 is selected, it changes as shown by a solid line, and when the memory cell array 43 is selected, it changes as shown by a broken line.

【0037】時点t1 で図9(D) に示す如くワード線W
21が「H」になると、図9(B) に示す如くダミーワード
線DW1 が「L」となって、ワード線とビット線のカップ
リング雑音を相殺する。
At time t 1 , as shown in FIG. 9D, the word line W
When 21 becomes "H", the dummy word line DW 1, as shown in FIG. 9 (B) is "L", to cancel the coupling noise of the word lines and bit lines.

【0038】次に時点t2 で図9(E),(F),(Q),(R) で示
す如くクロック信号φ1R2L2R3Lが「L」と
なってビット線とセンスアンプとを切離す。時点t3
図9(H),(J) に示す如くクロック信号φ1n, φ2n
「H」とし、図9(G),(I) に示す如くクロック信号φ1p
2pを「L」としてセンスアンプ201A,201B を活性化
してノードSN1 と反転ノード#SN1 との電位差及びノー
ドSN2 と反転ノード#SN2との電位差を増幅する。時点
4 で図9(K) に示す如くクロック信号φ12を「L」
に、図9(L) に示す如くクロック信号φ13を「H」に、
クロック信号φ21を図9(M) に示す如く「L」に、図9
(P) に示す如くクロック信号φ24を「H」として、nMOS
3,pMOS30及びnMOS13, pMOS34をオフさせて反転ノード
#SN1 及びノードSN2 の電位を固定する。
Next, at time t 2 , the clock signals φ 1R , φ 2L , φ 2R and φ 3L become “L” as shown in FIGS. 9 (E), (F), (Q), and (R), and the bits are changed. Separate the line from the sense amplifier. Figure 9 (H) at time t 3, the clock signal as shown in (J) φ 1n, φ the 2n to "H", Fig. 9 (G), the clock signal phi 1p as shown in (I)
, φ 2p is set to “L” to activate the sense amplifiers 201A and 201B to amplify the potential difference between the node SN 1 and the inversion node #SN 1 and the potential difference between the node SN 2 and the inversion node #SN 2 . At time t 4 , the clock signal φ 12 is set to “L” as shown in FIG. 9 (K).
Then, as shown in FIG. 9 (L), set the clock signal φ 13 to “H”,
Set the clock signal φ 21 to “L” as shown in FIG.
As shown in (P), the clock signal φ 24 is set to “H” and the nMOS
3, pMOS 30 and NMOS 13, PMOS 34 turns off the by fixing the potential of the inverting node #SN 1 and node SN 2.

【0039】時点t5 でクロック信号φ1R2Lを図9
(E),(F) に示す如く、ともに「H」としてnMOS6,11を
オンさせてビット線BL11, BL12を、反転ノード#SN1 ,
ノードSN2 の電位にしたがって充放電する。これにより
メモリアルセルには、当初記憶していたデータが再書込
みされる。時点t6 でクロック信号φ12を図9(K) に示
す如く「H」に、クロック信号φ13を図9(L) に示す如
く「L」に、クロック信号φ21を図9(M) に示す如く
「H」に、クロック信号φ24を図9(P) に示す如く
「L」とすることにより、センスアンプ201A,201B をオ
ン状態に復帰させる。
At the time point t 5 , the clock signals φ 1R and φ 2L are shown in FIG.
As shown in (E) and (F), the nMOSs 6 and 11 are both turned to "H" to turn on the bit lines BL 11 and BL 12 , and the inversion nodes #SN 1 and
Charges and discharges according to the potential of node SN 2 . As a result, the initially stored data is rewritten in the memorial cell. At time t 6 , the clock signal φ 12 is changed to “H” as shown in FIG. 9 (K), the clock signal φ 13 is changed to “L” as shown in FIG. 9 (L), and the clock signal φ 21 is changed to FIG. 9 (M). By setting the clock signal φ 24 to “H” and the clock signal φ 24 to “L” as shown in FIG. 9 (P), the sense amplifiers 201A and 201B are returned to the ON state.

【0040】時点t11でクロック信号φ1pを図9(G) に
示す如く「H」、φ1nを図9(H) に示す如く「L」、φ
2pを図9(I) に示す如く「H」、φ2nを図9(J) に示す
如く「L」としてセンスアンプ201A,201B を非活性化す
る。時点t12にクロック信号φ2R3Lを図9(Q),(R)
に示す如く「H」とするとともに、読出し、書込み、イ
コライズ回路202Bを活性化させることにより、ビット線
BL21, BL22及びセンスアンプ201BのノードSN2 、反転ノ
ード#SN2 の電位を1/2 VCCにイコライズする。
At time t 11 , the clock signal φ 1p is “H” as shown in FIG. 9 (G), and φ 1n is “L” as shown in FIG. 9 (H), φ
2p is set to “H” as shown in FIG. 9 (I) and φ 2n is set to “L” as shown in FIG. 9 (J) to deactivate the sense amplifiers 201A and 201B. At time t 12 , the clock signals φ 2R and φ 3L are supplied to FIGS. 9 (Q) and (R).
The bit line is set to "H" as shown in, and the read / write / equalize circuit 202B is activated.
The potentials of BL 21 , BL 22 and the node SN 2 of the sense amplifier 201B and the inversion node #SN 2 are equalized to 1/2 V CC .

【0041】時点t1 でワード線W21が「H」になった
場合の動作は図9に破線で示したようになり、その動作
については前述したと同様である。図10はセンスアンプ
201A (201B,201C)の他の実施例を示す構成図である。ノ
ードSN1 (SN2 , SN3 ) と反転ノード#SN1 (#SN2 ,
#SN3 ) との間に、nMOS191,192,193,194 の直列回路及
びpMOS197,198,199,200 の直列回路が夫々介装されてい
る。nMOS192 のゲートは反転ノード#SN1 (#SN2 , #
SN3 ) と接続され、nMOS193 のゲートはノードSN1 (SN
2 , SN3 ) と接続されている。nMOS192 と193 との共通
接続部はn型センスアンプ駆動線SDn と接続されてお
り、n型センスアンプ駆動線SDn nMOS195 を介して接地
部VSSと接続される。nMOS191 のゲートはクロック信号
線φi1と接続され、nMOS194 のゲートはクロック信号線
φi2と接続されている。
The operation when the word line W 21 becomes "H" at time t 1 is as shown by the broken line in FIG. 9, and the operation is the same as that described above. Figure 10 shows a sense amplifier
It is a block diagram which shows the other Example of 201A (201B, 201C). Node SN 1 (SN 2 , SN 3 ) and inverted node #SN 1 (# SN 2 ,
#SN 3 ), a series circuit of nMOS 191, 192, 193, 194 and a series circuit of pMOS 197, 198, 199, 200 are respectively interposed. The gate of nMOS192 is the inverting node # SN 1 (# SN 2 , #
SN 3 ) and the gate of nMOS193 is connected to node SN 1 (SN
2 , SN 3 ). the common connection portion between the nMOS192 and 193 is connected to the n-type sense amplifier drive line SD n, it is connected to a ground portion V SS via the n-type sense amplifier drive line SD n nMOS195. The gate of the nMOS 191 is connected to the clock signal line φ i1 and the gate of the nMOS 194 is connected to the clock signal line φ i2 .

【0042】pMOS198 のゲートは反転ノード#SN1 (#
SN2 , #SN3 ) と接続され、pMOS199 のゲートはノード
SN1 (SN2 , SN3 ) と接続されている。pMOS198 と199
との共通接続部はp型センスアンプ駆動線SDp と接続さ
れ、p型センスアンプ駆動線SDp はpMOS196 を介して電
源VCCと接続される。pMOS197 はクロック信号線φ
i4と、pMOS200 はクロック信号線φi3と接続されてい
る。nMOS195 のゲートにはクロック信号線φinが、pMOS
196 のゲートはクロック信号線φipが接続される。
The gate of pMOS198 is the inverting node #SN 1 (#
SN 2 , # SN 3 ) and the gate of pMOS199 is a node
It is connected to SN 1 (SN 2 , SN 3 ). pMOS198 and 199
The common connection portion with and is connected to the p-type sense amplifier drive line SD p, and the p-type sense amplifier drive line SD p is connected to the power supply V CC via the pMOS 196. pMOS197 is clock signal line φ
i4 and pMOS200 are connected to the clock signal line φ i3 . The clock signal line φ in is connected to the pMOS
The clock signal line φ ip is connected to the gate of 196.

【0043】このセンスアンプに接続するクロック信号
線φin,φipi1i2,φi3i4の代わりに、図
3, 図4に示すセンスアンプに接続されるクロック信号
線φ1n, φ1p ,電源線VCC, クロック信号線φ12,
φ13, 接地線VEA又はクロック信号線φ2n, φ2p ,
φ21, φ22, φ23,φ24又はクロック信号線φ3n
φ3p,電源線VCC,接地線VEC,クロック信号線φ34
接続しても、図3, 図4に示したセンスアンプと同様の
動作をし、同様の効果が得られる。
Instead of the clock signal lines φ in , φ ip , φ i1 , φ i2 , φ i3 , and φ i4 connected to this sense amplifier, the clock signal lines φ connected to the sense amplifier shown in FIGS. 1n , φ 1p , power supply line V CC , clock signal line φ 12 ,
φ 13 , ground line V EA or clock signal line φ 2n , φ 2p ,
φ 21 , φ 22 , φ 23 , φ 24 or clock signal line φ 3n ,
Even if φ 3p , the power supply line V CC , the ground line V EC , and the clock signal line φ 34 are connected, the same operation as that of the sense amplifier shown in FIGS. 3 and 4 is obtained, and the same effect is obtained.

【0044】[0044]

【発明の効果】以上詳述したように本発明によれば、ワ
ード線とビット線との間に存在する寄生容量に起因する
カップリング雑音の影響を、ビット線がうけることがな
いから、メモリセルの領域に1本のワード線のみを配置
して集積度を高めることによりメモリセルの容量が小さ
くなっても、データの読出し、再書込みの動作が安定し
て、読出し、書込みエラーが発生しない。それにより本
発明は読出し、書込みエラーが発生せず、高集積化が図
れる半導体記憶装置を提供できる優れた効果を奏する。
As described above in detail, according to the present invention, since the bit line is not affected by the coupling noise due to the parasitic capacitance existing between the word line and the bit line, the memory is not affected. Even if the capacity of the memory cell is reduced by arranging only one word line in the cell area to increase the degree of integration, the data read / write operation is stable and no read / write error occurs. .. As a result, the present invention has an excellent effect that a read / write error does not occur and a semiconductor memory device that can be highly integrated can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】従来の半導体記憶装置の模式的構成図である。FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a conventional semiconductor memory device.

【図2】従来の半導体記憶装置の各部信号のタイミング
チャートである。
FIG. 2 is a timing chart of signals of respective parts of the conventional semiconductor memory device.

【図3】本発明に係る半導体記憶装置の模式的構成図の
半部である。
FIG. 3 is a half of a schematic configuration diagram of a semiconductor memory device according to the present invention.

【図4】本発明に係る半導体記憶装置の模式的構成図の
半部である。
FIG. 4 is a half part of a schematic configuration diagram of a semiconductor memory device according to the present invention.

【図5】本発明に係る半導体記憶装置の各部信号のタイ
ミングチャートである。
FIG. 5 is a timing chart of signals of respective parts of the semiconductor memory device according to the present invention.

【図6】ワード線W11を選択した場合のビット線及びノ
ードの電位変化を示すタイミングチャートである。
FIG. 6 is a timing chart showing potential changes of bit lines and nodes when a word line W 11 is selected.

【図7】ワード線W21を選択した場合のビット線及びノ
ードの電位変化を示すタイミングチャートである。
FIG. 7 is a timing chart showing potential changes of bit lines and nodes when the word line W 21 is selected.

【図8】読出し、書込み、イコライズ回路の模式的構成
図である。
FIG. 8 is a schematic configuration diagram of a read / write / equalize circuit.

【図9】本発明に係る半導体記憶装置の各部信号の他の
タイミングチャートである。
FIG. 9 is another timing chart of signals of respective parts of the semiconductor memory device according to the present invention.

【図10】センスアンプの他の実施例を示す模式的構成
図である。
FIG. 10 is a schematic configuration diagram showing another embodiment of the sense amplifier.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,2,3〜26,301,302 nMOSFET 27,28,29〜41 pMOSFET 44,45 〜51 メモリセルキャパシタ 201A,201B,201C センスアンプ 202A,202B,202C 読出し、書込み、イコライズ回路 BL11, BL12, BL21, BL22 ビット線 W11, W21 ワード線 DW1 , DW2 ダミーワード線 SN1 , SN2 , SN3 ノード #SN1 , #SN2 , #SN3 反転ノード MC111 , MC112 , MC211 , MC212 メモリセル DMC11,DMC12,DMC21,DMC22 ダミーセル SDnA, SDnB, SDnC n型センスアンプ駆動線 SDpA, SDpB, SDpC p型センスアンプ駆動線 SLA , SLC 電源線 φ12, φ13, φ21, φ22, φ23,φ24,φ31 クロック
信号線 φ1R2L2R3L3R クロック信号線
1,2,3 to 26,301,302 nMOSFET 27,28,29 to 41 pMOSFET 44,45 to 51 Memory cell capacitor 201A, 201B, 201C Sense amplifier 202A, 202B, 202C Read, write, equalize circuit BL 11 , BL 12 , BL 21 , BL 22 bit line W 11, W 21 word lines DW 1, DW 2 dummy word line SN 1, SN 2, SN 3 node #SN 1, #SN 2, #SN 3 inverting node MC 111, MC 112, MC 211 , MC 212 Memory cell DMC 11 , DMC 12 , DMC 21 , DMC 22 Dummy cell SD nA , SD nB , SD nC n type sense amplifier drive line SD pA , SD pB , SD pC p type sense amplifier drive line SL A , SL C power line φ 12, φ 13, φ 21 , φ 22, φ 23, φ 24, φ 31 clock signal line φ 1R, φ 2L, φ 2R , φ 3L, φ 3R clock signal line

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 第1のデータ線と第2のデータ線との間
の電位差を増幅するセンスアンプを備えている半導体記
憶装置において、前記センスアンプは、第1のスイッチ
を介して前記第1のデータ線と接続された第1のノード
と、第2のスイッチを介して前記第2のデータ線と接続
された第2のノードとの間に、直列接続された第1、第
2、第3、第4の一導電型トランジスタ群及び直列接続
された第1、第2、第3、第4の他導電型トランジスタ
群を夫々介装しており、第1の一導電型トランジスタ及
び第1の他導電型トランジスタのゲートを第2のノード
と接続し、第4の一導電型トランジスタ及び第4の他導
電型トランジスタのゲートを第1のノードと接続し、第
2、第3の一導電型トランジスタの共通接続部及び第
2、第3の他導電型トランジスタの共通接続部にセンス
アンプ活性化信号を、第2、第3の一導電型トランジス
タのゲート及び第2、第3の他導電型トランジスタのゲ
ートに相補の信号を与える構成にしてあることを特徴と
する半導体記憶装置。
1. A semiconductor memory device comprising a sense amplifier for amplifying a potential difference between a first data line and a second data line, wherein the sense amplifier includes the first switch via the first switch. Connected in series between the first node connected to the second data line and the second node connected to the second data line via the second switch. The third and fourth one conductivity type transistor groups and the first, second, third and fourth other conductivity type transistor groups connected in series are respectively interposed, and the first one conductivity type transistor and the first one conductivity type transistor group are provided. The gate of the other conductivity type transistor is connected to the second node, the gates of the fourth one conductivity type transistor and the fourth other conductivity type transistor are connected to the first node, and the second and third one conductivity type transistors are connected. Type transistor common connection and second and third other conductivity type transistors The sense amplifier activation signal is supplied to the common connection portion of the transistors, and the complementary signals are supplied to the gates of the second and third one conductivity type transistors and the gates of the second and third other conductivity type transistors. A characteristic semiconductor memory device.
【請求項2】 第1のデータ線と第2のデータ線との間
の電位差を増幅するセンスアンプを備えている半導体記
憶装置において、前記センスアンプは、第1のスイッチ
を介して前記第1のデータ線と接続された第1のノード
と、第2のスイッチを介して前記第2のデータ線と接続
された第2のノードとの間に、直列接続された第1、第
2、第3、第4の一導電型トランジスタ群及び直列接続
された第1、第2、第3、第4の他導電型トランジスタ
群を夫々介装しており、第2の一導電型トランジスタ及
び第2の他導電型トランジスタのゲートを第2のノード
と接続し、第3の一導電型トランジスタ及び第3の他導
電型トランジスタのゲートを第1のノードと接続し、第
2、第3の一導電型トランジスタの共通接続部及び第
2、第3の他導電型トランジスタの共通接続部にセンス
アンプ活性化信号を、第1、第4の一導電型トランジス
タのゲート及び第1、第4の他導電型トランジスタのゲ
ートに相補の信号を与える構成にしてあることを特徴と
する半導体記憶装置。
2. A semiconductor memory device comprising a sense amplifier for amplifying a potential difference between a first data line and a second data line, wherein the sense amplifier is the first switch via a first switch. Connected in series between the first node connected to the second data line and the second node connected to the second data line via the second switch. The third and fourth one conductivity type transistor groups and the first, second, third and fourth other conductivity type transistor groups connected in series are respectively interposed, and the second one conductivity type transistor and the second one conductivity type transistor group are provided. The gate of the other conductivity type transistor is connected to the second node, the gates of the third one conductivity type transistor and the third other conductivity type transistor are connected to the first node, and the second and third one conductivity type transistors are connected. Type transistor common connection and second and third other conductivity type transistors The configuration is such that a sense amplifier activation signal is applied to the common connection part of the transistors and a complementary signal is applied to the gates of the first and fourth one conductivity type transistors and the gates of the first and fourth other conductivity type transistors. A characteristic semiconductor memory device.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005503663A (en) * 2001-06-08 2005-02-03 マイクロン テクノロジー インコーポレイテッド Sense amplifier and architecture for open digit arrays
US7471112B2 (en) 2005-11-16 2008-12-30 Elpida Memory, Inc. Differential amplifier circuit

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