JPH05333467A - Silver halide photographic sensitive material - Google Patents

Silver halide photographic sensitive material

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JPH05333467A
JPH05333467A JP3128212A JP12821291A JPH05333467A JP H05333467 A JPH05333467 A JP H05333467A JP 3128212 A JP3128212 A JP 3128212A JP 12821291 A JP12821291 A JP 12821291A JP H05333467 A JPH05333467 A JP H05333467A
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JP
Japan
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group
general formula
formula
silver halide
compound
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Pending
Application number
JP3128212A
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Japanese (ja)
Inventor
Minoru Sakai
稔 酒井
Kazunobu Kato
和信 加藤
Hisashi Okamura
寿 岡村
Kazumi Arai
一巳 新居
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/005Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
    • G03C1/06Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein with non-macromolecular additives
    • G03C1/061Hydrazine compounds
    • GPHYSICS
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    • G03C7/00Multicolour photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents; Photosensitive materials for multicolour processes
    • G03C7/30Colour processes using colour-coupling substances; Materials therefor; Preparing or processing such materials
    • G03C7/305Substances liberating photographically active agents, e.g. development-inhibiting releasing couplers
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Abstract

PURPOSE:To obtain an image high in contrast and superior in quality by using a developing solution high in stability and to reduce black spots by incorporating a specified nucleator in a silver halide emulsion layer and a specified compound in an emulsion layer and/or a hydrophilic colloidal layer. CONSTITUTION:The silver halide emulsion layer contains the nucleator represented by formula I and the emulsion layer and/or the adjacent hydrophilic colloidal layer containing no silver halide emulsion layer contains the compound represented by formula II or III. In formulae I-III, R1 is an aliphatic or aromatic group; R2 is H or alkyl or the like; G1 is -CO-, -SO2-, etc., each of A1 and A2 is H, or one of them is H and the other is optionally substituted alkylsulfonyl or the like; R in formula II is an aliphatic or aromatic group, etc.; Z is an atomic group necessary to form an N-containing hetero-cyclic group; R in formula III is an aromatic group; and B is phenyl or naphthyl.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、ハロゲン化銀写真感光
材料及びそれを用いた超硬調ネガ画像形成方法に関する
ものであり、特に現像処理工程で写真性有用基を利用可
能にすることができる化合物と、該化合物の特性を十分
に生かす為の化合物を含有するハロゲン化銀写真感光材
料に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a silver halide photographic light-sensitive material and a super-high contrast negative image forming method using the same, and in particular, a useful photographic group can be made available in a development processing step. The present invention relates to a silver halide photographic light-sensitive material containing a compound and a compound for fully utilizing the characteristics of the compound.

【0002】[0002]

【従来の技術】写真製版用ハロゲン化銀写真材料の分野
においては、印刷物の多様性、複雑性に対処するため
に、オリジナル再現性の良好な写真感光材料、安定な処
理液あるいは、補充の簡易化などの要望がある。特に線
画撮影工程における、原稿は写植文字、手書きの文字、
イラスト、網点化された写真などが貼り込まれて作られ
る。したがって原稿には、濃度や、線巾の異なる画像が
混在し、これらの原稿を再現よく仕上げる製版カメラ、
写真感光材料あるいは、画像形成方法が強く望まれてい
る。一方、カタログや、大型ポスターの製版には、網写
真の拡大(目伸し)あるいは縮小(目縮め)が広く行な
われ、網点を拡大して用いる製版では、線数が粗くなり
ボケた点の撮影となる。縮小では原稿よりさらに線数/
インチが大きく細い点の撮影になる。従って網階調の再
現性を維持するためより一層広いラチチュードを有する
画像形成方法が要求されている。
2. Description of the Related Art In the field of silver halide photographic materials for photolithography, in order to cope with the variety and complexity of printed matter, a photographic light-sensitive material having good original reproducibility, a stable processing solution, or a simple replenisher There is a request for conversion. Especially in the line drawing process, manuscripts are typeset characters, handwritten characters,
It is made by pasting illustrations and half-tone dots. Therefore, the originals contain images with different densities and line widths, and the plate-making camera that reproduces these originals well
A photographic light-sensitive material or an image forming method is strongly desired. On the other hand, halftone pictures are enlarged (expanded) or reduced (closed) widely in the production of catalogs and large posters, and in the production of enlarging halftone dots, the number of lines becomes rough and blurred. Will be taken. For reduction, the number of lines /
Inch is large and thin. Therefore, an image forming method having a wider latitude is required to maintain the reproducibility of halftone.

【0003】製版用カメラの光源としては、ハロゲンラ
ンプあるいは、キセノンランプが用いられている。これ
らの光源に対して撮影感度を得るために、写真感光材料
は通常オルソ増感が施される。ところがオルソ増感した
写真感光材料はレンズの色収差の影響をより強く受け、
そのために画質が劣化しやすいことが判明した。またこ
の劣化はキセノンランプ光源に対してより顕著となる。
広いラチチュードの要望に応えるシステムとして塩臭化
銀(すくなくとも塩化銀含有率が50%以上)から成る
リス型ハロゲン化銀感光材料を、亜硫酸イオンの有効濃
度をきわめて低くした(通常0.1モル/リットル以
下)ハイドロキノン現像液で処理することにより、画像
部と非画像部が明瞭に区別された、高いコントラストと
高い黒化濃度をもつ線画あるいは網点画像を得る方法が
知られている。しかしこの方法では現像液中の亜硫酸濃
度が低いため、現像は空気酸化に対して極めて不安定で
あり、液活性を安定に保つためにさまざまな努力と工夫
がなされて使用されていたり、処理スピードが著しく遅
く、作業効率を低下させているのが現状であった。
A halogen lamp or a xenon lamp is used as a light source for a plate making camera. In order to obtain photographing sensitivity with respect to these light sources, the photographic light-sensitive material is usually ortho-sensitized. However, ortho-sensitized photographic materials are more strongly affected by the chromatic aberration of the lens,
Therefore, it has been found that the image quality is likely to deteriorate. Further, this deterioration becomes more remarkable for the xenon lamp light source.
As a system that meets the demand for a wide latitude, a lithographic silver halide light-sensitive material made of silver chlorobromide (at least a silver chloride content of at least 50%) has an extremely low effective concentration of sulfite ion (usually 0.1 mol / mol). There is known a method of obtaining a line image or a halftone dot image having a high contrast and a high blackening density in which an image portion and a non-image portion are clearly distinguished by processing with a hydroquinone developer. However, with this method, the concentration of sulfurous acid in the developer is low, so development is extremely unstable against air oxidation, and various efforts and efforts have been made to maintain stable solution activity. The current situation is that the work efficiency is lowered due to the extremely slow speed.

【0004】このため、上記のような現像方法(リス現
像システム)による画像形成の不安定さを解消し、良好
な保存安定性を有する処理液で現像し、超硬調な写真特
性が得られる画像形成システムが要望され、その1つと
して米国特許4,166,742号、同4,168,9
77号、同4,221,857号、同4,224,40
1号、同4,243,739号、同4,272,606
号、同4,311,781号にみられるように、特定の
アシルヒドラジン化合物を添加した表面潜像型ハロゲン
化銀写真感光材料を、pH11.0〜12.3で亜硫酸
保恒剤を0.15モル/リットル以上含み、良好な保存
安定性を有する現像液で処理して、γが10を越える超
硬調のネガ画像を形成するシステムが提案された。この
新しい画像形成システムには、従来の超硬調画像形成で
は塩化銀含有率の高い塩臭化銀しか使用できなかったの
に対して、沃臭化銀や塩沃臭化銀でも使用できるという
特徴がある。上記画像システムはシャープな網点品質、
処理安定性迅速性およびオリジナルの再現性という点で
すぐれた性能を示すが、近年の印刷物の多様性に対処す
るためにさらにオリジナル再現性の改良されたシステム
が望まれている。
For this reason, the instability of image formation due to the above-mentioned developing method (lith development system) is eliminated, and the image is developed with a processing solution having good storage stability to obtain an image having super-high contrast photographic characteristics. A forming system is desired, one of which is US Pat. Nos. 4,166,742 and 4,168,9.
77, 4,221,857, 4,224,40
1, No. 4,243,739, No. 4,272,606
No. 4,311,781, a surface latent image type silver halide photographic light-sensitive material containing a specific acylhydrazine compound is added at a pH of 11.0 to 12.3 with a sulfite preservative. A system has been proposed which forms a super-high contrast negative image having a γ of more than 10 by processing with a developer containing 15 mol / liter or more and having good storage stability. This new image forming system can only use silver chlorobromide, which has a high silver chloride content in conventional super-high contrast image formation, whereas silver iodobromide and silver chloroiodobromide can also be used. There is. The above image system has sharp dot quality,
Although it exhibits excellent performance in terms of process stability, rapidity, and original reproducibility, a system with improved original reproducibility is desired in order to cope with the recent variety of printed materials.

【0005】画質を改良する試みとしては、例えば特開
昭61−213847号などに開示されているカルボニ
ル基を有するレドックス化合物から銀画像様に現像抑制
剤を放出させる方法が知られている。しかしながらこれ
らの化合物を用いた場合でも網階調の伸びは不十分であ
る。従って、安定な現像液を用いて硬調な網点画像を形
成し、かつ画像の調子コントロールが広い感光材料の開
発が望まれていた。一方集版、かえし工程の作業におい
ては、より明るい環境下で作業を行なうことで作業能率
の向上がはかられてきており、このために実質的に明室
と呼びうる環境下で取りあつかうことのできる製版用感
光材料の開発および露光プリンターの開発がすすめられ
てきた。本特許で述べる明室用感光材料とは、紫外光成
分を含まない実質的に400nm以上の波長をもつ光を
セーフライト光として長時間安全に用いることのできる
感光材料のことである。
As an attempt to improve the image quality, for example, a method of releasing a development inhibitor like a silver image from a redox compound having a carbonyl group disclosed in JP-A-61-213847 is known. However, even when these compounds are used, the halftone expansion is insufficient. Therefore, there has been a demand for the development of a light-sensitive material capable of forming a high-density halftone dot image using a stable developing solution and having a wide image tone control. On the other hand, in the work of the plate collection and reversion process, it has been attempted to improve the work efficiency by performing the work in a brighter environment. Therefore, it is necessary to deal with it in an environment that can be called a bright room. The development of photosensitive materials for plate making and the development of exposure printers have been promoted. The bright room light-sensitive material described in this patent is a light-sensitive material that can be safely used for a long time as light having a wavelength of 400 nm or more that does not contain an ultraviolet light component and is safelight.

【0006】集版、かえし工程に用いられる明室用感光
材料は、文字あるいは網点画像の形成された現像処理ず
みフィルムを原稿として、これらの原稿とかえし用感光
材料とを密着露光して、ネガ像/ポジ像変換あるいはポ
ジ層/ポジ像変換を行なうのに利用される感光材料であ
るが、 網点画像および線画、文字画像が、おのおのその網
点面積および線巾、文字画像巾に従ってネガ像/ポジ像
変換される性能を有すること 網点画像のトーン調節性、文字線画像の線巾調節性
が可能である性能を有すること が要望され、それに答える明室かえし用感光材料が提供
されてきた。しかるに、重ね返しによる抜文字画像形成
という高度な画像変換作業においては、明室用感光材料
を用いた明室かえし工程による従来の方法では、従来の
暗室用かえし感光材料を用いた暗室かえし工程による方
法にくらべて、抜文字画像の品質が劣化してしまうとい
う欠点をもっていた。
The light-sensitive material for the bright room used in the plate collecting and reversing process is a developed film having characters or halftone images formed thereon as an original, and these originals and the reversible photosensitive material are contact-exposed and exposed. It is a light-sensitive material used for negative image / positive image conversion or positive layer / positive image conversion. A halftone dot image, a line image and a character image are negative according to their halftone dot area, line width and character image width. It is required to have the ability to convert images / positive images. It is required to have the ability to adjust the tone of halftone images and the line width of character / line images. Came. However, in the advanced image conversion work of forming a blank character image by overlapping, the conventional method by the bright room return process using the light room photosensitive material is performed by the conventional dark room return process using the dark room return light photosensitive material. Compared with the method, there was a drawback that the quality of the extracted character image deteriorates.

【0007】重ね返しによる抜文字画像形成の方法につ
いて、もうすこし詳しく述べるならば、特開平2−29
3736号公報の第1図に示すごとく、透明もしくは半
透明の貼りこみベース(イ)および(ハ)(通常100
μm程度の厚みを有するポリエチレンテレフタレートフ
ィルムが使用される)のそれぞれに、文字あるいは線画
像の形成されたフィルム(線画原稿)(ロ)および網点
画像の形成されたフィルム(網点原稿)(ニ)を貼り込
んだものとを重ね合せて原稿とし、(ニ)の網点原稿に
返し用感光材料(ホ)の乳剤面を密着させて露光を行な
う。露光後現像処理をほどこし、網点画像中に線画の白
ヌケ部分を形成させる。このような抜文字画像の形成方
法において重要な点は、網点原稿および線画原稿おのお
のの網点面積および画線巾に従ってネガ像/ポジ像変換
が行なわれることが理想である。しかし、第一図にてあ
きらかなごとく、網点原稿は返し用感光材料の乳剤面に
直接密着させて露光されるのに対して、線画原稿は貼り
こみベース(ハ)および網点原稿(ニ)を中間に介して
返し用感光材料に露光されることになる。このため網点
画像を忠実にネガ像/ポジ像変換をする露光量を与える
と、線画原稿は貼りこみベース(ハ)および網点原稿
(ニ)によるスペーサーを介したピンボケ露光となるた
め、線画の白ヌケ部分の画線巾が狭くなってしまう。こ
れが抜文字画像の品質が劣化してしまう原因である。上
記問題点を解決するためにヒドラジンを用いたシステム
が特開昭62−80640号、同62−235938
号、同62−235939号、同63−104046
号、同63−103235号、同63−296031
号、同63−314541号、同64−13545号、
に開示されているが、充分とはいえずさらに改良が望ま
れている。
A more detailed description of the method of forming a blank character image by overlapping and reversing is given in JP-A-2-29.
As shown in FIG. 1 of Japanese Patent No. 3736, transparent or translucent sticking bases (a) and (c) (usually 100
A polyethylene terephthalate film having a thickness of about μm is used) and a film (line drawing original) (b) on which a character or line image is formed and a halftone dot original film (b) on which a halftone image is formed. ) Is attached to form an original, and the emulsion surface of the light-sensitive material for return (e) is brought into close contact with the halftone original of (d) to perform exposure. Post-exposure development processing is performed to form a white blank portion of the line drawing in the halftone dot image. An important point in such a method of forming a blank character image is ideally that the negative image / positive image conversion is performed according to the halftone dot area and the line width of each halftone original and line drawing original. However, as is apparent in FIG. 1, halftone dot originals are exposed by directly contacting them with the emulsion surface of the light-sensitive material for return, whereas line drawing originals are embedded base (c) and halftone originals (ni. ) Will be exposed to the return light-sensitive material through the middle. For this reason, if an exposure amount that faithfully converts a halftone image to a negative image / positive image is given, the line drawing original becomes out-of-focus exposure through the spacer by the embedding base (C) and the halftone original (D). The line width of the white part of the line becomes narrow. This is the reason that the quality of the extracted character image deteriorates. Systems using hydrazine to solve the above problems are disclosed in JP-A-62-80640 and JP-A-62-235938.
No. 62-235939, No. 63-104046.
No. 63-103235, No. 63-296031.
No. 63-314541, No. 64-13545,
However, it is not sufficient and further improvement is desired.

【0008】ヒドラジンを用いた系で、酸化されること
により現像抑制剤を放出するレドックス化合物を含有す
る例は特開昭61−213847号、同64−7214
0号、特願平1−108216号、同1−144721
号、同1−113094号、同1−130981号、同
1−250004号等に開示されている。この様にし
て、造核剤と酸化されることにより現像抑制剤を放出す
るレドックス化合物を用いることにより、撮影感材で
は、目伸し、目縮めの網点再現性向上や、細線あるいは
細線のヌケ等の画質が向上した。又、返し感材において
は、前述、等の画質向上がはかられてきた。しか
し、一方で造核剤を用いた感材では、特に、空気酸化さ
れた疲労現像液などで、黒ポツが発生するという弊害が
あり、その特性を十分に活かせていない。そこで、黒ポ
ツの発生を減らす為の手段としては、種々検討されてい
る。例えば、トリヒドロキシベンゼン誘導体を感材中に
含有することで改良する方法は、特開平2−31055
5に開示されている。また、ハイドロキノン誘導体を感
材中に含有することで改良することは、特願平02−1
27480に開示されている。これらの手段では、感材
の経時等により、効力が低下してきたり、逆に黒ポツを
増加させてしまう等の弊害があり、まだ十分とは言え
ず、更に、改良が望まれている。
An example of a system using hydrazine containing a redox compound which releases a development inhibitor upon being oxidized is disclosed in JP-A-61-213847 and 64-7214.
No. 0, Japanese Patent Application Nos. 1-108216, 1-144721
Nos. 1-113094, 1-130981, 1-250004, etc. In this way, by using a redox compound that releases a development inhibitor by being oxidized with a nucleating agent, in a photographic light-sensitive material, the reproducibility of halftone dots such as stretch and shrinkage, and fine line or fine line The image quality such as missing is improved. Further, in the reversing sensitive material, the image quality improvement as described above has been attempted. On the other hand, on the other hand, a sensitive material using a nucleating agent has an adverse effect that black spots are generated particularly in an air-oxidized fatigue developing solution, and its characteristics are not fully utilized. Therefore, various means have been studied as means for reducing the occurrence of black spots. For example, JP-A-2-31055 discloses a method for improving the content by containing a trihydroxybenzene derivative in a light-sensitive material.
5 are disclosed. Further, the improvement by incorporating a hydroquinone derivative into a light-sensitive material is disclosed in Japanese Patent Application No. 02-1
27480. These means have the drawbacks of decreasing the efficacy and increasing the number of black spots due to the passage of time of the light-sensitive material, etc., and are not sufficient yet, and further improvements are desired.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、第1に安定性の高い現像液を用いて硬調な画像が得
られる製版用感光材料を提供する事にあり、第2に目伸
し、目縮め、コピードット、細線再現性等の画質が優
れ、黒ポツの少ない製版用感光材料を提供する事であ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, the first object of the present invention is to provide a photosensitive material for plate making which can obtain a high contrast image by using a highly stable developing solution. An object of the present invention is to provide a photographic material for plate making which has excellent image quality such as stretching, contraction, copy dots, and fine line reproducibility and has few black spots.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、下記の
ハロゲン化銀写真感光材料により達成されたすなわち、
支持体上に少なくとも一つの下記一般式(N−1)で表
わされる造核剤を含むハロゲン化銀乳剤層を有し、該層
及び/又は、それに隣接するハロゲン化銀乳剤を含有し
ない親水性コロイド層に、下記一般式(Q−1)又は
(Q−2)で表わされる化合物を含有することを特徴と
するハロゲン化銀写真感光材料によって達成された。 一般式(N−1)
The objects of the present invention have been achieved by the following silver halide photographic light-sensitive materials:
A hydrophilic layer having a silver halide emulsion layer containing at least one nucleating agent represented by the following general formula (N-1) on a support and not containing the layer and / or a silver halide emulsion adjacent thereto. This is achieved by a silver halide photographic light-sensitive material characterized in that the colloidal layer contains a compound represented by the following general formula (Q-1) or (Q-2). General formula (N-1)

【0011】[0011]

【化8】 [Chemical 8]

【0012】[0012]

【化9】 [Chemical 9]

【0013】まず一般式(N−1)について詳細に説明
する。式中、R1 は脂肪族基または芳香族基を表わし、
2 は水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ
基、アリールオキシ基、アミノ基、ヒドラジノ基、カル
バモイル基又はオキシカルボニル基を表わし、G1 は−
CO−基、−SO2 −基、−SO−基、−P(O)(R
2)−基、−COCO−基、チオカルボニル基又はイミノ
メチレン基を表わし、A1 、A2 はともに水素原子ある
いは一方が水素原子で他方が置換もしくは無置換のアル
キルスルホニル基、又は置換もしくは無置換のアリール
スルホニル基、又は置換もしくは無置換のアシル基を表
わす。
First, the general formula (N-1) will be described in detail. In the formula, R 1 represents an aliphatic group or an aromatic group,
R 2 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group, a hydrazino group, a carbamoyl group or an oxycarbonyl group, and G 1 represents-.
CO- group, -SO 2 - group, -SO- group, -P (O) (R
2 ) -group, -COCO- group, thiocarbonyl group or iminomethylene group, both A 1 and A 2 are hydrogen atoms or one is a hydrogen atom and the other is a substituted or unsubstituted alkylsulfonyl group, or a substituted or unsubstituted group. It represents a substituted arylsulfonyl group or a substituted or unsubstituted acyl group.

【0014】一般式(N−1)において、R1 で表され
る脂肪族基は好ましくは炭素数1〜30のものであっ
て、特に炭素数1〜20の直鎖、分岐または環状のアル
キル基である、ここで分岐アルキル基はその中に1つま
たはそれ以上のヘテロ原子を含んだ飽和のヘテロ環を形
成するように環化されていてもよい。またこのアルキル
基は、アリール基、アルコキシ基、スルホキシ基、スル
ホンアミド基、カルボンアミド基等の置換基を有してい
てもよい。一般式(N−1)においてR1 で表される芳
香族基は単環または2環のアリール基または不飽和ヘテ
ロ環基である。ここで不飽和ヘテロ環基は単環または2
環のアリール基と縮環してヘテロアリール基を形成して
もよい。例えばベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン
環、ピリミジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、キ
ノリン環、イソキノリン環、ベンズイミダゾール環、チ
アゾール環、ベンゾチアゾール環等があるがなかでもベ
ンゼン環を含むものが好ましい。R1 として特に好まし
いものはアリール基である。R1 のアリール基または不
飽和ヘテロ環基は置換されていてもよく、代表的な置換
基としては例えばアルキル基、アラルキル基、アルケニ
ル基、アルキニル基、アルコキシ基、アリール基、置換
アミノ基、ウレイド基、ウレタン基、アリールオキシ
基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキルまた
はアリールチオ基、アルキルまたはアリールスルホニル
基、アルキルまたはアリールスルフィニル基、ヒドロキ
シ基、ハロゲン原子、シアノ基、スルホ基、アリールオ
キシカルボニル基、アシル基、アルコキシカルボニル
基、アシルオキシ基、カルボンアミド基、スルホンアミ
ド基、カルボキシル基、リン酸アミド基、ジアシルアミ
ノ基、イミド基、
In the general formula (N-1), the aliphatic group represented by R 1 is preferably an aliphatic group having 1 to 30 carbon atoms, particularly a straight chain, branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. The group, here a branched alkyl group, may be cyclized to form a saturated heterocycle containing one or more heteroatoms therein. Further, this alkyl group may have a substituent such as an aryl group, an alkoxy group, a sulfoxy group, a sulfonamide group, a carbonamide group or the like. The aromatic group represented by R 1 in formula (N-1) is a monocyclic or bicyclic aryl group or an unsaturated heterocyclic group. Here, the unsaturated heterocyclic group is monocyclic or 2
It may be condensed with a ring aryl group to form a heteroaryl group. For example, there are a benzene ring, a naphthalene ring, a pyridine ring, a pyrimidine ring, an imidazole ring, a pyrazole ring, a quinoline ring, an isoquinoline ring, a benzimidazole ring, a thiazole ring, a benzothiazole ring, and among others, a ring containing a benzene ring is preferable. Particularly preferred as R 1 is an aryl group. The aryl group or unsaturated heterocyclic group of R 1 may be substituted, and typical examples of the substituent include, for example, an alkyl group, an aralkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an alkoxy group, an aryl group, a substituted amino group, and a ureido group. Group, urethane group, aryloxy group, sulfamoyl group, carbamoyl group, alkyl or arylthio group, alkyl or arylsulfonyl group, alkyl or arylsulfinyl group, hydroxy group, halogen atom, cyano group, sulfo group, aryloxycarbonyl group, acyl Group, alkoxycarbonyl group, acyloxy group, carbonamide group, sulfonamide group, carboxyl group, phosphoric acid amide group, diacylamino group, imide group,

【0015】[0015]

【化10】 [Chemical 10]

【0016】などが挙げられ、好ましい置換基としては
直鎖、分岐または環状のアルキル基(好ましくは炭素数
1〜20のもの)、アラルキル基(好ましくはアルキル
部分の炭素数が1〜3の単環または2環のもの)、アル
コキシ基(好ましくは炭素数1〜20のもの)、置換ア
ミノ基(好ましくは炭素数1〜20のアルキル基で置換
されたアミノ基)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数
2〜30を持つもの)、スルホンアミド基(好ましくは
炭素数1〜30を持つもの)、ウレイド基(好ましくは
炭素数1〜30を持つもの)、リン酸アミド基(好まし
くは炭素数1〜30のもの)などである。
Examples of preferred substituents include linear, branched or cyclic alkyl groups (preferably having 1 to 20 carbon atoms) and aralkyl groups (preferably having 1 to 3 carbon atoms in the alkyl moiety). Ring or bicyclic), alkoxy group (preferably having 1 to 20 carbon atoms), substituted amino group (preferably amino group substituted with alkyl group having 1 to 20 carbon atoms), acylamino group (preferably carbon) Having 2 to 30 carbon atoms, sulfonamide group (preferably having 1 to 30 carbon atoms), ureido group (preferably having 1 to 30 carbon atoms), phosphoric acid amide group (preferably having 1 carbon atoms) ~ 30) and the like.

【0017】一般式(N−1)においてR2 で表わされ
るアルキル基としては、好ましくは炭素数1〜4のアル
キル基であって、例えばハロゲン原子、水酸基、シアノ
基、カルボキシ基、スルホ基、アルコキシ基、フェニル
基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキ
シカルボニル基、カルバモイル基、アルキルまたはアリ
ールスルホニル基、スルファモイル基、ニトロ基、複素
芳香環基、
The alkyl group represented by R 2 in the general formula (N-1) is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, for example, a halogen atom, a hydroxyl group, a cyano group, a carboxy group, a sulfo group, Alkoxy group, phenyl group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, alkyl or arylsulfonyl group, sulfamoyl group, nitro group, heteroaromatic ring group,

【0018】[0018]

【化11】 [Chemical 11]

【0019】などの置換基を有していてもよく、更にこ
れらの基が置換されていてもよい。アリール基としては
単環または2環のアリール基が好ましく、例えばベンゼ
ン環を含むものである。このアリール基は置換されてい
てもよく、置換基の例としてはアルキル基の場合と同様
である。アルコキシ基としては炭素数1〜8のアルコキ
シ基のものが好ましく、ハロゲン原子、アリール基など
で置換されていてもよい。アリールオキシ基としては単
環のものが好ましく、また置換基としてはハロゲン原子
などがある。アミノ基としてハム置換アミノ基及び、炭
素数1〜10のアルキルアミノ基、アリールアミノ基が
好ましく、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニト
ロ基、カルボキシ基などで置換されていてもよい。カル
バモイル基としては、無置換カルバモイル基及び炭素数
1〜10のアルキルカルバモイル基、アリールカルバモ
イル基が好ましく、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ
基、カルボキシ基などで置換されていてもよい。オキシ
カルボニル基としては、炭素数1〜10のアルコキシカ
ルボニル基、アリールオキシカルボニル基が好ましく、
アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基などで
置換されていてもよい。
It may have a substituent such as, and these groups may be further substituted. The aryl group is preferably a monocyclic or bicyclic aryl group, and includes, for example, a benzene ring. This aryl group may be substituted, and examples of the substituent are the same as in the case of the alkyl group. The alkoxy group is preferably an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, which may be substituted with a halogen atom, an aryl group or the like. The aryloxy group is preferably a monocyclic one, and the substituent includes a halogen atom and the like. As the amino group, a ham-substituted amino group, an alkylamino group having 1 to 10 carbon atoms and an arylamino group are preferable, and the amino group may be substituted with an alkyl group, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a carboxy group or the like. The carbamoyl group is preferably an unsubstituted carbamoyl group, an alkylcarbamoyl group having 1 to 10 carbon atoms or an arylcarbamoyl group, and may be substituted with an alkyl group, a halogen atom, a cyano group, a carboxy group or the like. The oxycarbonyl group is preferably an alkoxycarbonyl group having 1 to 10 carbon atoms or an aryloxycarbonyl group,
It may be substituted with an alkyl group, a halogen atom, a cyano group, a nitro group or the like.

【0020】R2 で表わされる基のうち好ましいもの
は、G1 がカルボニル基の場合には、水素原子、アルキ
ル基(例えば、メチル基、トリフルオロメチル基、3−
ヒドロキシプロピル基、3−メタンスルホンアミドプロ
ピル基、フェニルスルホニルメチル基など)、アラルキ
ル基(例えば、o−ヒドロキシベンジル基など)、アリ
ール基(例えば、フェニル基、3,5−ジクロロフェニ
ル基、o−メタンスルホンアミドフェニル基、4−メタ
ンスルホニルフェニル基、2−ヒドロキシメチルフェニ
ル基など)などであり、特に水素原子が好ましい。
Among the groups represented by R 2 , when G 1 is a carbonyl group, preferred is a hydrogen atom, an alkyl group (eg, methyl group, trifluoromethyl group, 3-
Hydroxypropyl group, 3-methanesulfonamidopropyl group, phenylsulfonylmethyl group, etc.), aralkyl group (eg, o-hydroxybenzyl group, etc.), aryl group (eg, phenyl group, 3,5-dichlorophenyl group, o-methane) Sulfonamidophenyl group, 4-methanesulfonylphenyl group, 2-hydroxymethylphenyl group and the like), and a hydrogen atom is particularly preferable.

【0021】またG1 が−SO2 −基の場合には、R2
はアルキル基(例えば、メチル基など)、アラルキル基
(例えば、o−ヒドロキシベンジル基など)、アリール
基(例えば、フェニル基など)、または置換アミノ基
(例えば、ジメチルアミノ基など)などが好ましい。G
1 が−SO−基の場合、好ましいR2 はシアノベンジル
基、メチルチオベンジル基などがあり、G1
When G 1 is a —SO 2 — group, R 2
Are preferably an alkyl group (eg, methyl group), an aralkyl group (eg, o-hydroxybenzyl group), an aryl group (eg, phenyl group), or a substituted amino group (eg, dimethylamino group). G
When 1 is a —SO— group, preferred R 2 includes cyanobenzyl group, methylthiobenzyl group, etc., and G 1 is

【0022】[0022]

【化12】 [Chemical formula 12]

【0023】の場合には、R2 としてはメトキシ基、エ
トキシ基、ブトキシ基、フェノキシ基、フェニル基が好
ましく、特に、フェノキシ基が好適である。G1 がN−
置換または無置換イミノメチレン基の場合、好ましいR
2 はメチル基、エチル基、置換または無置換のフェニル
基である。R2 の置換基としては、R1 に関して列挙し
た置換基も適用できる。一般式(I)のGとしては−C
O−基が最も好ましい。又、R2 はG1 −R2 の部分を
残余分子から分裂させ、−G1 −R2 部分の原子を含む
環式構造を生成させる環化反応を生起するようなもので
あってもよく、具体的には一般式(a)で表わすことが
できるようなものである。
In the case of, R 2 is preferably a methoxy group, an ethoxy group, a butoxy group, a phenoxy group or a phenyl group, and particularly preferably a phenoxy group. G 1 is N-
In the case of a substituted or unsubstituted iminomethylene group, preferred R
2 is a methyl group, an ethyl group, or a substituted or unsubstituted phenyl group. As the substituent of R 2, the substituents listed for R 1 can also be applied. As G in the general formula (I), -C
Most preferred is the O-group. Further, R 2 disrupts the portion of the G 1 -R 2 from the remainder molecule may be such as to rise to cyclization reaction to form a cyclic structure containing a -G 1 -R 2 moiety of atoms Specifically, it can be represented by the general formula (a).

【0024】一般式(a) −R3 −Z1 式中、Z1 はG1 に対し求核的に攻撃し、G1 −R3
1 部分を残余分子から分裂させ得る基であり、R3
2 から水素原子1個除いたもので、Z1 がG1 に対し
求核攻撃し、G1 、R3 、Z1 で環式構造が生成可能な
ものである。さらに詳細には、Z1 は一般式(N−1)
のヒドラジン化合物が酸化等により次の反応中間体を生
成したときに容易にG1 と求核反応し R1 −N=N−G1 −R3 −Z11 −N=N基をG1 から分裂させうる基であり、具体
的にはOH、SHまたはNHR4 (R4 は水素原子、ア
ルキル基、アリール基、−COR5 、または−SO2
5 であり、R5 は水素原子、アルキル基、アリール基、
ヘテロ環基などを表す)、COOHなどのようにG1
直接反応する官能基であってもよく(ここで、OH、S
H、NHR4 、−COOHはアルカリ等の加水分解によ
りこれらの基を生成するように一時的に保護されていて
もよい)、あるいは、
[0024] In the general formula (a) -R 3 -Z 1 formula, Z 1 is nucleophilically attacked to G 1, G 1 -R 3 -
A group capable of Z 1 portion was split from the remaining molecule, R 3 is one obtained by removing one hydrogen atom from R 2, Z 1 is a nucleophilic attack to G 1, in G 1, R 3, Z 1 A cyclic structure can be generated. More specifically, Z 1 is represented by the general formula (N-1).
When the hydrazine compound of 1 produces a next reaction intermediate due to oxidation or the like, it easily undergoes a nucleophilic reaction with G 1 to convert R 1 -N = N-G 1 -R 3 -Z 1 R 1 -N = N group to G 1 A group capable of being cleaved from 1 , specifically, OH, SH or NHR 4 (R 4 is a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, —COR 5 or —SO 2 R
5 , R 5 is a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group,
It may be a heterocyclic group or the like, or a functional group which directly reacts with G 1 such as COOH (here, OH, S
H, NHR 4 , and -COOH may be temporarily protected so as to generate these groups by hydrolysis of alkali etc.), or

【0025】[0025]

【化13】 [Chemical 13]

【0026】(R6 、R7 は水素原子、アルキル基、ア
ルケニル基、アリール基またはヘテロ環基を表す)のよ
うに水酸イオンや亜硫酸イオン等のような求核剤を反応
することでG1 と反応することが可能になる官能基であ
ってもよい。また、G1 、R3 、Z1 で形成される環と
しては5員または6員のものが好ましい。一般式(a)
で表されるもののうち、好ましいものとしては一般式
(b)及び(c)で表されるものを挙げることができ
る。 一般式(b)
(Wherein R 6 and R 7 represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group or a heterocyclic group), a nucleophile such as a hydroxide ion or a sulfite ion is reacted to produce G It may be a functional group capable of reacting with 1 . The ring formed by G 1 , R 3 and Z 1 is preferably a 5-membered or 6-membered ring. General formula (a)
Among the compounds represented by, preferred examples include those represented by the general formulas (b) and (c). General formula (b)

【0027】[0027]

【化14】 [Chemical 14]

【0028】式中、R1 b 〜R4 b は水素原子、アルキ
ル基(好ましくは炭素数1〜12のもの)、アルケニル
基(好ましくは炭素数2〜12のもの)、アリール基
(好ましくは炭素数6〜12のもの)などを表し、同じ
でも異なってもよい。Bは置換基を有してもよい5員環
または6員環を完成するのに必要な原子であり、m、n
は0または1であり、(n+m)は1または2である。
Bで形成される5員または6員環としては、例えば、シ
クロヘキセン環、シクロペンテン環、ベンゼン環、ナフ
タレン環、ピリジン環、キノリン環などである。Z1
一般式(a)と同義である。 一般式(c)
In the formula, R 1 b to R 4 b are hydrogen atoms, alkyl groups (preferably having 1 to 12 carbon atoms), alkenyl groups (preferably having 2 to 12 carbon atoms), aryl groups (preferably C6 to C12) and the like, and may be the same or different. B is an atom necessary to complete a 5- or 6-membered ring which may have a substituent, and m, n
Is 0 or 1 and (n + m) is 1 or 2.
The 5- or 6-membered ring formed by B is, for example, a cyclohexene ring, a cyclopentene ring, a benzene ring, a naphthalene ring, a pyridine ring or a quinoline ring. Z 1 has the same meaning as in formula (a). General formula (c)

【0029】[0029]

【化15】 [Chemical 15]

【0030】式中、Rc 1 〜Rc 2 は水素原子、アルキ
ル基、アルケニル基、アリール基またはハロゲン原子な
どを表し、同じでも異なってもよい。Rc 3 は水素原
子、アルキル基、アルケニル基、またはアリール基を表
す。pは0から2の整数値を表し、qは1〜4を表す。
c 1 、Rc 2 およびRc 3 はZ1 がC1 へ分子内求核
攻撃し得る構造の限りにおいて互いに結合して環を形成
してもよい。Rc 1 、Rc 2 は好ましくは水素原子、ハ
ロゲン原子、またはアルキル基であり、Rc 3 は好まし
くはアルキル基またはアリール基である。qは好ましく
は1〜3を表し、qが1のときpは1または2を、qが
2のときpは0または1を、qが3のときpは0または
1を表し、qが2または3のとき、複数存在する(CR
c 1 c 2 )は同一でも異なってもよい。Z1 は一般式
(a)と同義である。
In the formula, R c 1 and R c 2 represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a halogen atom or the like, and may be the same or different. R c 3 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, or an aryl group. p represents an integer value of 0 to 2, and q represents 1 to 4.
R c 1 , R c 2 and R c 3 may combine with each other to form a ring as long as Z 1 has a structure capable of intramolecular nucleophilic attack on C 1 . R c 1 and R c 2 are preferably a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, and R c 3 is preferably an alkyl group or an aryl group. q is preferably 1 to 3, when q is 1, p is 1 or 2; when q is 2, p is 0 or 1; when q is 3, p is 0 or 1; Or when 3, there are multiple (CR
c 1 R c 2 ) may be the same or different. Z 1 has the same meaning as in formula (a).

【0031】A1 、A2 は水素原子、炭素数20以下の
アルキルまたはアリールスルホニル基(好ましくはフェ
ニルスルホニル基又はハメットの置換基定数の和が−
0.5以上となるように置換されたフェニルスルホニル
基)、炭素数20以下のアシル基(好ましくはベンゾイ
ル基、又はハメットの置換基定数の和が−0.5以上と
なるように置換されたベンゾイル基、あるいは直鎖又は
分岐状又は環状の無置換及び置換脂肪族アシル基(置換
基としては例えばハロゲン原子、エーテル基、スルホン
アミド基、カルボンアミド基、水酸基、カルボキシ基、
スルホン酸基が挙げられる。)A1 、A2 としては水素
原子が最も好ましい。
A 1 and A 2 are a hydrogen atom, an alkyl or aryl sulfonyl group having 20 or less carbon atoms (preferably a phenyl sulfonyl group or the sum of Hammett's substituent constants is-).
Phenylsulfonyl group substituted to be 0.5 or more), acyl group having 20 or less carbon atoms (preferably benzoyl group, or substituted so that the sum of Hammett's substituent constants is -0.5 or more) A benzoyl group, or a linear or branched or cyclic unsubstituted and substituted aliphatic acyl group (as a substituent, for example, a halogen atom, an ether group, a sulfonamide group, a carbonamide group, a hydroxyl group, a carboxy group,
Examples thereof include sulfonic acid groups. ) A hydrogen atom is most preferable as A 1 and A 2 .

【0032】一般式(N−1)のR1 またはR2 はその
中にカプラー等の不動性写真用添加剤において常用され
ているバラスト基またはポリマーが組み込まれているも
のでもよい。バラスト基は8以上の炭素数を有する写真
性に対して比較的不活性な基であり、例えばアルキル
基、アルコキシ基、フェニル基、アルキルフェニル基、
フェノキシ基、アルキルフェノキシ基などの中から選ぶ
ことができる。またポリマーとしては例えば特開平1−
100530号に記載のものが挙げられる。
R 1 or R 2 of the general formula (N-1) may have a ballast group or a polymer incorporated therein which is commonly used in a non-moving photographic additive such as a coupler. The ballast group is a group having a carbon number of 8 or more and relatively inert to photographic properties.
It can be selected from phenoxy group, alkylphenoxy group and the like. Further, as the polymer, for example, JP-A-1-
The thing described in 100530 is mentioned.

【0033】一般式(N−1)のR1 またはR2 はその
中にハロゲン化銀粒子表面に対する吸着を強める基が組
み込まれているものでもよい。かかる吸着基としては、
チオ尿素基、複素環チオアミド基、メルカプト複素環
基、トリアゾール基などの米国特許第4,385,10
8号、同4,459,347号、特開昭59−195,
233号、同59−200,231号、同59−20
1,045号、同59−201,046号、同59−2
01,047号、同59−201,048号、同59−
201,049号、特開昭61−170,733号、同
61−270,744号、同62−948号、特願昭6
2−67,508号、同62−67,509号、同62
−67,510号に記載された基があげられる。一般式
(N−1)で示される化合物の具体例を以下に示す。但
し本発明は以下の化合物に限定されるものではない。
R 1 or R 2 in the general formula (N-1) may be one in which a group for enhancing adsorption to the surface of the silver halide grain is incorporated. As such an adsorption group,
US Pat. No. 4,385,10 such as thiourea group, heterocyclic thioamide group, mercaptoheterocyclic group and triazole group.
8, No. 4,459,347, JP-A-59-195,
No. 233, No. 59-200, No. 231, 59-20
1,045, 59-201, 046, 59-2
01,047, 59-2, 201,048, 59-
No. 201,049, JP-A Nos. 61-170,733, 61-270,744, 62-948, and Japanese Patent Application No.
2-67,508, 62-67,509, 62
The groups described in -67,510 are mentioned. Specific examples of the compound represented by formula (N-1) are shown below. However, the present invention is not limited to the following compounds.

【0034】[0034]

【化16】 [Chemical 16]

【0035】[0035]

【化17】 [Chemical 17]

【0036】[0036]

【化18】 [Chemical 18]

【0037】[0037]

【化19】 [Chemical 19]

【0038】[0038]

【化20】 [Chemical 20]

【0039】[0039]

【化21】 [Chemical 21]

【0040】[0040]

【化22】 [Chemical formula 22]

【0041】[0041]

【化23】 [Chemical formula 23]

【0042】[0042]

【化24】 [Chemical formula 24]

【0043】[0043]

【化25】 [Chemical 25]

【0044】[0044]

【化26】 [Chemical formula 26]

【0045】[0045]

【化27】 [Chemical 27]

【0046】[0046]

【化28】 [Chemical 28]

【0047】[0047]

【化29】 [Chemical 29]

【0048】本発明に用いられるヒドラジン誘導体とし
ては、上記のものの他に、RESEARCHDISCLOSURE Item2
3516(1983年11月号、P.346)およびそ
こに引用された文献の他、米国特許4,080,207
号、同4,269,929号、同4,276,364
号、同4,278,748号、同4,385,108
号、同4,459,347号、同4,560,638
号、同4,478,928号、英国特許2,011,3
91B、特開昭60−179734号、同62−27
0,948号、同63−29,751号、同61−17
0,733号、同61−270,744号、同62−9
48号、EP217,310号、またはUS4,68
6,167号、特開昭62−178,246号、同63
−32,538号、同63−104,047号、同63
−121,838号、同63−129,337号、同6
3−223,744号、同63−234,244号、同
63−234,245号、同63−234,246号、
同63−294,552号、同63−306,438
号、特開平1−100,530号、同1,105,94
1号、同1,105,943号、特開昭64−10,2
33号、特開平1−90,439号、特願昭63−10
5,682号、同63−114,118号、同63−1
10,051号、同63−114,119号、同63−
116,239号、同63−147,339号、同63
−179,760号、同63−229,163号、特願
平1−18,377号、同1−18,378号、同1−
18,379号、同1−15,755号、同1−16,
814号、同1−40,792号、同1−42,615
号、同1−42,616号、同1−123,693号、
同1−126,284号、米国特許4,988,604
号に記載されたものを用いることができる。
As the hydrazine derivative used in the present invention, in addition to the above, RESEARCH DISCLOSURE Item 2
3516 (November 1983, p. 346) and references cited therein, as well as U.S. Pat. No. 4,080,207.
Issue 4, Issue 4,269,929, Issue 4,276,364
No. 4, ibid. 4,278,748, ibid. 4,385,108
Nos. 4,459,347 and 4,560,638.
No. 4,478,928, British Patent No. 2,011,3
91B, JP-A Nos. 60-179734 and 62-27.
0,948, 63-29,751, 61-17
0,733, 61-270,744, 62-9.
48, EP 217,310, or US 4,68
6,167, JP-A-62-178,246, 63.
-32,538, 63-104,047, 63
-121,838, 63-129,337, 6
3-223,744, 63-234,244, 63-234,245, 63-234,246,
63-294,552, 63-306,438.
No. 1,100,530, 1,105,94.
No. 1, 1,105,943, JP-A-64-10,2
No. 33, JP-A-1-90,439, Japanese Patent Application No. 63-10
No. 5,682, No. 63-114, No. 118, No. 63-1
No. 10,051, No. 63-114, 119, No. 63-
116, 239, 63-147, 339, 63
-179,760, 63-229,163, Japanese Patent Application Nos. 1-18,377, 1-18,378, 1-
18,379, 1-15,755, 1-16,
No. 814, No. 1-40, 792, No. 1-42, 615
No. 1-42,616, No. 1-123,693,
No. 1-126,284, U.S. Pat. No. 4,988,604.
It is possible to use those described in No.

【0049】本発明の造核剤は、ハロゲン化銀1モルあ
たり1×10-6〜5×10-1、より好ましくは1×10
-5〜1×10-1モルの範囲内で用いられる。本発明の造
核剤は、適当な水混和性有機溶媒、例えばアルコール類
(メタノール、エタノール、プロパノール、フッ素化ア
ルコール)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケト
ン)、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、
メチルセルソルブなどに溶解して用いることができる。
また、既に良く知られている乳化分散方によって、ジブ
チルフタレート、トリクレジルフォスフェート、グリセ
リルトリアセテートあるいはジエチルフタレートなどの
オイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンなどの補助溶媒
を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作成して用いる
こともできる。また、ポリtertブチルアクリルアミド、
ポリメチルメタクリレート、ポリ酢酸ビニルなどのポリ
マー、上記の補助溶媒、必要に応じて上記オイル等と共
に溶解して、機械的に乳化分散物を作成して用いること
もできる。あるいは固体分散法として知られている方法
によって、レドックス化合物の粉末を水の中にボールミ
ル、コロイドミル、あるいは超音波によって分散して用
いることもできる。乳化分散物として用いる場合におい
ては、必要に応じて補助溶媒を除去(加熱減圧蒸溜、限
外濾過、ヌーデル水洗などによる。)して用いた方が好
ましい場合もある。
The nucleating agent of the present invention is 1 × 10 −6 to 5 × 10 −1 , more preferably 1 × 10 6 per mol of silver halide.
It is used within the range of -5 to 1 x 10 -1 mol. The nucleating agent of the present invention is a suitable water-miscible organic solvent, for example, alcohols (methanol, ethanol, propanol, fluorinated alcohol), ketones (acetone, methyl ethyl ketone), dimethylformamide, dimethyl sulfoxide,
It can be used by dissolving it in methyl cellosolve or the like.
In addition, by well-known emulsification dispersion method, dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, oil such as glyceryl triacetate or diethyl phthalate, and an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone are dissolved and mechanically emulsified and dispersed. It is also possible to create and use things. Also, poly tert butyl acrylamide,
It is also possible to dissolve it together with a polymer such as polymethylmethacrylate or polyvinyl acetate, the above-mentioned auxiliary solvent, and optionally the above-mentioned oil or the like to mechanically prepare an emulsified dispersion for use. Alternatively, the redox compound powder may be dispersed in water by a ball mill, a colloid mill, or ultrasonic waves according to a method known as a solid dispersion method. In the case of using it as an emulsified dispersion, it may be preferable to remove the auxiliary solvent (by heating under reduced pressure distillation, ultrafiltration, Nudel water washing, etc.), if necessary.

【0050】本発明の、一般式(Q−1)で表わされる
化合物について説明する。式中、Rは脂肪族基、芳香族
基または複素環基を表わし、Zは含窒素複素芳香環を形
成するのに必要な原子群を表わす。
The compound represented by formula (Q-1) of the present invention will be described. In the formula, R represents an aliphatic group, an aromatic group or a heterocyclic group, and Z represents an atomic group necessary for forming a nitrogen-containing heteroaromatic ring.

【0051】以下一般式(Q−1)で表わされる化合物
についてさらに詳細に説明する。一般式(Q−1)にお
いて、Rで表わされる脂肪族基は直鎖、分岐または環状
のアルキル基、アルケニル基またはアルキニル基であ
る。Rで表わされる芳香族基としては、単環又は2環の
アリール基であり、例えばフェニル基、ナフチル基があ
げられる。Rの複素環基(ヘテロ環)としては、N、
O、又はS原子のうち少なくともひとつを含む3〜10
員の飽和もしくは不飽和のヘテロ環であり、これらは単
環であってもよいし、さらに他の芳香族もしくはヘテロ
環と縮合環を形成してもよい。ヘテロ環として好ましく
は、5ないし6員の芳香族ヘテロ環基であり、例えば、
ピリジン基、イミダゾリル基、キノリニル基、ベンズイ
ミダゾリル基、ピリミジル基、ピラゾリル基、イソキノ
リニル基、チアゾリン基、ベンズチアゾリル基を含むも
のが好ましい。Rとして好ましいのは、芳香族基であ
る。
The compound represented by formula (Q-1) will be described in more detail below. In the general formula (Q-1), the aliphatic group represented by R is a linear, branched or cyclic alkyl group, alkenyl group or alkynyl group. The aromatic group represented by R is a monocyclic or bicyclic aryl group, and examples thereof include a phenyl group and a naphthyl group. As the heterocyclic group (heterocycle) of R, N,
3 to 10 containing at least one of O and S atoms
Membered saturated or unsaturated heterocycle, which may be a monocycle or may form a condensed ring with another aromatic or heterocycle. The heterocycle is preferably a 5- to 6-membered aromatic heterocyclic group, for example,
Those containing a pyridine group, an imidazolyl group, a quinolinyl group, a benzimidazolyl group, a pyrimidyl group, a pyrazolyl group, an isoquinolinyl group, a thiazoline group and a benzthiazolyl group are preferable. Preferred as R is an aromatic group.

【0052】Rは置換基で置換されていてもよい。置換
基の例としては、例えばアルキル基、アラルキル基、ア
ルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アリール
基、置換アミノ基、アリールオキシ基、スルファモイル
基、カルバモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ
基、スルホニル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハ
ロゲン原子、シアノ基、スルホ基やカルボキシル基、ア
ルキルおよびアリールオキシカルボニル基、アシル基、
アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、カルボンア
ミド基、スルホンアミド基、ニトロ基、アルキルチオ
基、アリールチオ基などの他、以下の一般式(R)で表
わされる基が挙げられる。 一般式(R)
R may be substituted with a substituent. Examples of the substituent include, for example, alkyl group, aralkyl group, alkenyl group, alkynyl group, alkoxy group, aryl group, substituted amino group, aryloxy group, sulfamoyl group, carbamoyl group, alkylthio group, arylthio group, sulfonyl group, sulfinyl group. Groups, hydroxy groups, halogen atoms, cyano groups, sulfo groups and carboxyl groups, alkyl and aryloxycarbonyl groups, acyl groups,
In addition to an alkoxycarbonyl group, an acyloxy group, a carbonamido group, a sulfonamide group, a nitro group, an alkylthio group, an arylthio group and the like, groups represented by the following general formula (R) can be mentioned. General formula (R)

【0053】[0053]

【化30】 [Chemical 30]

【0054】一般式(R)中、Yは−CO−、−SO2
−、−P(O)(R3)−(式中R3はアルコキシ基、ま
たはアリールオキシ基を表わす。)を表わし、Lは単結
合、−O−、−S−、または−NR4 −(式中R4 は水
素原子、脂肪族基、芳香族基を表わす。)を表わす。R
1 およびR2 は水素原子、芳香族基、脂肪族基または複
素環基を表わし、同じであっても異なっても良く、また
互いに結合して環形成しても良い。またRは一般式
(R)で表わされる基を1つまたは複数個含むことがで
きる。
In the general formula (R), Y is --CO-- or --SO 2
-, - P (O) ( R 3) - ( wherein R 3 represents an alkoxy group or an aryloxy group.) Represent, L is a single bond, -O -, - S-, or -NR 4 - (In the formula, R 4 represents a hydrogen atom, an aliphatic group or an aromatic group). R
1 and R 2 represent a hydrogen atom, an aromatic group, an aliphatic group or a heterocyclic group, and may be the same or different, or may be bonded to each other to form a ring. R may contain one or more groups represented by the general formula (R).

【0055】一般式(R)において、R1 で表わされる
脂肪族基は直鎖、分岐または環状のアルキル基、アルケ
ニル基またはアルキニル基である。R1 で表わされる芳
香族基としては、単環又は2環のアリール基であり、例
えばフェニル基、ナフチル基があげられる。R1 のヘテ
ロ環としては、N、O、又はS原子のうち少なくともひ
とつを含む3〜10員の飽和もしくは不飽和のヘテロ環
であり、これらは単環であってもよいし、さらに他の芳
香族もしくはヘテロ環と縮合環を形成してもよい。ヘテ
ロ環として好ましくは、5ないし6員の芳香族ヘテロ環
基であり、例えば、ピリジン基、イミダゾリル基、キノ
リニル基、ベンズイミダゾリル基、ピリミジル基、ピラ
ゾリル基、イソキノリニル基、チアゾリル基、ベンズチ
アゾリル基を含むものが好ましい。
In the general formula (R), the aliphatic group represented by R 1 is a linear, branched or cyclic alkyl group, alkenyl group or alkynyl group. The aromatic group represented by R 1 is a monocyclic or bicyclic aryl group, and examples thereof include a phenyl group and a naphthyl group. The hetero ring of R 1 is a 3- to 10-membered saturated or unsaturated hetero ring containing at least one of N, O, and S atoms, which may be a single ring, or other hetero ring. A condensed ring may be formed with an aromatic or hetero ring. The heterocycle is preferably a 5- to 6-membered aromatic heterocyclic group, and includes, for example, a pyridine group, an imidazolyl group, a quinolinyl group, a benzimidazolyl group, a pyrimidyl group, a pyrazolyl group, an isoquinolinyl group, a thiazolyl group, a benzthiazolyl group. Those are preferable.

【0056】R1 は置換基で置換されていてもよい。置
換基としては、例えば以下のものがあげられる。これら
の基は更に置換されていてもよい。例えばアルキル基、
アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキ
シ基、アリール基、置換アミノ基、アシルアミノ基、ス
ルホニルアミノ基、ウレイド基、ウレタン基、アリール
オキシ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキ
ルチオ基、アリールチオ基、スルホニル基、スルフィニ
ル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、スルホ
基やカルボキシル基、アルキルおよびアリールオキシカ
ルボニル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アシ
ルオキシ基、カルボンアミド基、スルホンアミド基、ニ
トロ基、アルキルチオ基、アリールチオ基などである。
これらの基は可能なときは互いに連結して環を形成して
もよい。
R 1 may be substituted with a substituent. Examples of the substituent include the followings. These groups may be further substituted. For example an alkyl group,
Aralkyl group, alkenyl group, alkynyl group, alkoxy group, aryl group, substituted amino group, acylamino group, sulfonylamino group, ureido group, urethane group, aryloxy group, sulfamoyl group, carbamoyl group, alkylthio group, arylthio group, sulfonyl group , Sulfinyl groups, hydroxy groups, halogen atoms, cyano groups, sulfo groups and carboxyl groups, alkyl and aryloxycarbonyl groups, acyl groups, alkoxycarbonyl groups, acyloxy groups, carbonamide groups, sulfonamide groups, nitro groups, alkylthio groups, And an arylthio group.
When possible, these groups may be linked to each other to form a ring.

【0057】一般式(R)におけるR2 で表わされる脂
肪族基は、直鎖、分岐または環状のアルキル基、アルケ
ニル基またはアルキニル基である。R2 で表わされる芳
香族基としては、単環又は2環のアリール基であり、例
えばフェニル基が挙げられる。R2 は置換基で置換され
ていてもよい。置換基としては例えば一般式(R)にお
けるR1 の置換基として列挙したものが挙げられる。ま
た、R1 とR2 は可能な場合には互いに連結して環を形
成してもよい。R2 としては水素原子がより好ましい。
The aliphatic group represented by R 2 in the general formula (R) is a linear, branched or cyclic alkyl group, alkenyl group or alkynyl group. The aromatic group represented by R 2 is a monocyclic or bicyclic aryl group, and examples thereof include a phenyl group. R 2 may be substituted with a substituent. Examples of the substituent include those enumerated as the substituents of R 1 in the general formula (R). If possible, R 1 and R 2 may be connected to each other to form a ring. R 2 is more preferably a hydrogen atom.

【0058】一般式(R)におけるYとしては−CO
−、−SO2 −が特に好ましく、Lは単結合および−N
4 −が好ましい。一般式(R)におけるR4 で表わさ
れる脂肪族基は、直鎖、分岐または環状のアルキル基、
アルケニル基またはアルキニル基である。R4 で表わさ
れる芳香族基としては、単環又は2環のアリール基であ
り、例えばフェニル基が挙げられる。R4 は置換基で置
換されていてもよい。置換基としては例えば一般式
(R)におけるR1 の置換基として列挙したものがあげ
られる。R4 としては水素原子がより好ましい。
Y in the general formula (R) is -CO.
-, - SO 2 - is particularly preferred, L is a single bond and -N
R 4 − is preferred. The aliphatic group represented by R 4 in the general formula (R) is a linear, branched or cyclic alkyl group,
It is an alkenyl group or an alkynyl group. The aromatic group represented by R 4 is a monocyclic or bicyclic aryl group, and examples thereof include a phenyl group. R 4 may be substituted with a substituent. Examples of the substituent include those enumerated as the substituents of R 1 in the general formula (R). R 4 is more preferably a hydrogen atom.

【0059】またRは置換基としてハロゲン化銀への吸
着促進基を含む基を有しても良い。Rは置換可能なハロ
ゲン化銀への吸着促進基はX−(L′)t −で表わすこ
とができ、Xはハロゲン化銀への吸着促進基であり、
L′は2価の連結基である。tは0または1である。X
で表わされるハロゲン化銀への吸着促進基の好ましい例
としては、チオアミド基、メルカプト基、ジスルフィド
結合を有する基または5ないし6員の含窒素ヘテロ環基
があげられる。Xであらわされるチオアミド吸着促進基
は、−CS−アミノ−で表わされる二価の基であり、環
構造の一部であってもよし、また非環式チオアミド基で
あってもよい。有用なチオアミド吸着促進基は、例えば
米国特許4,030,925号、同4,031,127
号、同4,080,207号、同4,245,037
号、同4,255,511号、同4,266,013
号、及び同4,276,364号、ならびに「リサーチ
・ディスクロージャー」(Research Disclosure)誌第1
51巻No.15162(1976年11月)、及び同第
176巻No.17626(1978年12月)に開示さ
れているものから選ぶことができる。非環式チオアミド
基の具体例としては、例えばチオウレイド基、チオウレ
タン基、ジチオカルバミン酸エステル基など、また環状
のチオアミド基の具体例としては、例えば4−チアゾリ
ン−2−チオン、4−イミダゾリン−2−チオン、2−
チオヒダントイン、ローダニン、チオバルビツール酸、
テトラゾリン−5−チオン、1,2,4−トリアゾリン
−3−チオン、1,3,4−チアジアゾリン−2−チオ
ン、1,3,4−オキサジアゾリン−2−チオン、ベン
ズイミダゾリン−2−チオン、ベンズオキサゾリン−2
−チオン及びベンゾチアゾリン−2−チオンなどが挙げ
られ、これらは更に置換されていてもよい。Xのメルカ
プト基は脂肪族メルカプト基、芳香族メルカプト基やヘ
テロ環メルカプト基(−SH基が結合した炭素原子の隣
りが窒素原子の場合は、これと互変異性体の関係にある
環状チオアミド基と同様であり、この基の具体例は上に
列挙したものと同じである)が挙げられる。
Further, R may have a group containing an adsorption promoting group for silver halide as a substituent. R is a substitutable adsorption-promoting group on silver halide, which can be represented by X- (L ') t- , where X is an adsorption-promoting group on silver halide,
L'is a divalent linking group. t is 0 or 1. X
Preferred examples of the adsorption promoting group for silver halide represented by are a thioamide group, a mercapto group, a group having a disulfide bond and a 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic group. The thioamide adsorption promoting group represented by X is a divalent group represented by -CS-amino-, which may be a part of the ring structure or an acyclic thioamide group. Useful thioamide adsorption-promoting groups include, for example, U.S. Pat. Nos. 4,030,925 and 4,031,127.
No. 4,048,207, No. 4,245,037
Issue 4, Issue 4,255,511, Issue 4,266,013
And 4,276,364, and Research Disclosure No. 1
Volume 51 No. 15162 (November 1976), and Vol. 176, No. It can be selected from those disclosed in 17626 (December 1978). Specific examples of the acyclic thioamide group include, for example, thioureido group, thiourethane group, dithiocarbamic acid ester group and the like, and specific examples of the cyclic thioamide group include, for example, 4-thiazoline-2-thione and 4-imidazoline-2. -Thion, 2-
Thiohydantoin, rhodanine, thiobarbituric acid,
Tetrazoline-5-thione, 1,2,4-triazoline-3-thione, 1,3,4-thiadiazoline-2-thione, 1,3,4-oxadiazoline-2-thione, benzimidazoline-2-thione , Benzoxazoline-2
-Thione and benzothiazoline-2-thione, etc., which may be further substituted. The mercapto group of X is an aliphatic mercapto group, an aromatic mercapto group, or a heterocyclic mercapto group (when the carbon atom to which the —SH group is bonded is a nitrogen atom next to it, a cyclic thioamide group having a tautomer relationship with this) And specific examples of this group are the same as those listed above).

【0060】Xで表わされる5員なしい6員の含窒素ヘ
テロ環基としては、窒素、酸素、硫黄及び炭素の組合せ
からなる5員ないし6員の含窒素ヘテロ環があげられ
る。これらのうち、好ましいものとしては、ベンゾトリ
アゾール、トリアゾール、テトラゾール、インダゾー
ル、ベンズイミダゾール、イミダゾール、ベンゾチアゾ
ール、チアゾール、ベンゾオキサゾール、オキサゾー
ル、チアジアゾール、オキサジアゾール、トリアジンな
どがあげられる。これらはさらに適当な置換基で置換さ
れていてもよい。置換基としては、Rの置換基として述
べたものがあげられる。
Examples of the 5-membered or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic group represented by X include 5-membered to 6-membered nitrogen-containing heterocycles consisting of a combination of nitrogen, oxygen, sulfur and carbon. Among these, preferred are benzotriazole, triazole, tetrazole, indazole, benzimidazole, imidazole, benzothiazole, thiazole, benzoxazole, oxazole, thiadiazole, oxadiazole, triazine and the like. These may be further substituted with appropriate substituents. Examples of the substituent include those described as the substituent of R.

【0061】Xで表わされるもののうち、好ましいもの
は環状のチオアミド基(すなわちメルカプト置換含窒素
ヘテロ環で、例えば2−メルカプトチアジアゾール基、
3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール基、5−メ
ルカプトテトラゾール基、2−メルカプト−1,3,4
−オキサジアゾール基、2−メルカプトベンズオキサゾ
ール基など)、又は含窒素ヘテロ環基(例えば、ベンゾ
トリアゾール基、ベンズイミダゾール基、インダゾール
基など)の場合である。又、X−(L′)t −基は2個
以上置換していてもよく、同じでも異ってもよい。
Among those represented by X, preferred are cyclic thioamide groups (ie, mercapto-substituted nitrogen-containing heterocycles such as 2-mercaptothiadiazole group,
3-mercapto-1,2,4-triazole group, 5-mercaptotetrazole group, 2-mercapto-1,3,4
-Oxadiazole group, 2-mercaptobenzoxazole group, etc.) or a nitrogen-containing heterocyclic group (for example, benzotriazole group, benzimidazole group, indazole group, etc.). Two or more X- (L ') t -groups may be substituted and may be the same or different.

【0062】L′で表わされる二価の連結基としては、
C、N、S、Oのうち少なくとも1種を含む原子又は原
子団である。具体的には、例えばアルキレン基、アルケ
ニレン基、アルキニレン基、アリーレン基、−O−、−
S−、−NH−、−N=、−CO−、−SO2 −、(こ
れらの基は置換基をもっていてもよい)等の単独または
これらの組合せからなるものである。具体例としては、
例えば−CONH−、−NHCONH−、−SO2 NH
−、−COO−、−NHCOO−、−CH2 CH2 SO
2 NH−、−CH2 CH2 CONH−、−NHCONHCH2 CH
2 CONH−、−CH2 −、−(CH2 2 −、−(CH2)3
As the divalent linking group represented by L ',
It is an atom or atomic group containing at least one of C, N, S, and O. Specifically, for example, an alkylene group, an alkenylene group, an alkynylene group, an arylene group, -O-,-
S -, - NH -, - N =, - CO -, - SO 2 -, is made of a single or combination of such (may have these groups the substituent). As a specific example,
For example -CONH -, - NHCONH -, - SO 2 NH
-, - COO -, - NHCOO -, - CH 2 CH 2 SO
2 NH -, - CH 2 CH 2 CONH -, - NHCONHCH 2 CH
2 CONH -, - CH 2 - , - (CH 2) 2 -, - (CH 2) 3 -

【0063】[0063]

【化31】 [Chemical 31]

【0064】などが挙げられる。これらはさらに適当な
置換基で置換されていてもよい。置換基としてはRの置
換基として述べたものが挙げられる。
And the like. These may be further substituted with appropriate substituents. As the substituent, those mentioned as the substituent of R can be mentioned.

【0065】またRは、その中にカプラー等の不動性写
真用添加剤において常用されているバラスト基を含んで
いても良い。バラスト基は一般式(Q−1)で表わされ
る化合物が実質的に他層または処理液中へ拡散できない
ようにするのに十分な分子量を与える有機基であり、ア
ルキル基、アリール基、ヘテロ環基、エーテル基、チオ
エーテル基、アミド基、ウレイド基、ウレタン基、スル
ホンアミド基、などの一つ以上の組合せからなるもので
ある。バラスト基としてさらに好ましくは置換ベンゼン
環を有するバラスト基であり、特に分岐状アルキル基で
置換されたベンゼン環を有するバラスト基が好ましい。
Further, R may contain therein a ballast group which is commonly used in a non-moving photographic additive such as a coupler. The ballast group is an organic group giving a molecular weight sufficient to prevent the compound represented by the general formula (Q-1) from substantially diffusing into another layer or the treatment liquid, and is an alkyl group, an aryl group or a heterocycle. And a combination of one or more groups, ether groups, thioether groups, amide groups, ureido groups, urethane groups, sulfonamide groups, and the like. The ballast group is more preferably a ballast group having a substituted benzene ring, and particularly preferably a ballast group having a benzene ring substituted with a branched alkyl group.

【0066】一般式(Q−1)において窒素原子とZで
形成される複素芳香環基は5ないし6員環が好ましく、
単環であっても他の環と縮環していても良く、また置換
されていても良い。好ましい複素芳香環の代表的な例と
しては、例えばピロール、イミダゾール、ピラゾール、
1,2,3−トリアゾール、1,2,4−トリアゾー
ル、テトラゾール、2−チオキサチアゾリン、2−オキ
サチアゾリン、2−チオキサオキサゾリン、2−オキサ
オキサゾリン、2−チオキサイミダゾリン、2−オキサ
イミダゾリン、3−チオキサ−1,2,4−トリアゾリ
ン、3−オキサ−1,2,4−トリアゾリン、1,2−
オキサゾリン−5−チオン、1,2−チアゾリン−5−
チオン、1,2−オキサゾリン−5−オン、1,2−チ
アゾリン−5−オン、2−チオキサ−1,3,4−チア
ジアゾリン、2−オキサ−1,3,4−チアジアゾリ
ン、2−チオキサ−1,3,4−オキサジアゾリン、2
−オキサ−1,3,4−オキサジアゾリン、2−チオキ
サジヒドロピリジン、2−オキサジヒドロピリジン、4
−チオキサジヒドロピリジン、4−オキサジヒドロピリ
ジン、イソインドール、インドール、インダゾール、ベ
ンゾトリアゾール、ベンズイミダゾール、2−チオキサ
ベンズイミダゾール、2−オキサベンズイミダゾール、
ベンズオキサゾリン−2−チオン、アザインデン類、ベ
ンズオキサゾリン−2−オン、ベンゾチアゾリン−2−
チオン、ベンゾチアゾリン−2−オン、カルバゾール、
プリン、カルボリン、フェノキサジン、フェノチアジ
ン、種々の縮環位置のピラゾロピリジン類、ピラゾロピ
リミジン類、ピラゾロピロール類、ピラゾロピラゾール
類、ピラゾロイミダゾール類、ピラゾロオキサゾール
類、ピラゾロチアゾール類、ピラゾロトリアゾール類、
イミダゾロピリジン類、イミダゾロピリジン類、イミダ
ゾロピロール類、イミダゾロイミダゾール類、イミダゾ
ロオキサゾール類、イミダゾロチアゾール類、イミダゾ
ロトリアゾール類、などを挙げることができる。
In the general formula (Q-1), the heteroaromatic ring group formed by the nitrogen atom and Z is preferably a 5- or 6-membered ring,
It may be a monocycle, may be condensed with another ring, and may be substituted. Representative examples of preferred heteroaromatic rings include, for example, pyrrole, imidazole, pyrazole,
1,2,3-triazole, 1,2,4-triazole, tetrazole, 2-thioxathiazoline, 2-oxathiazoline, 2-thioxaxazoline, 2-oxoxazoline, 2-thioxaimidazoline, 2-oxaimidazoline , 3-thioxa-1,2,4-triazoline, 3-oxa-1,2,4-triazoline, 1,2-
Oxazoline-5-thione, 1,2-thiazoline-5-
Thione, 1,2-oxazoline-5-one, 1,2-thiazolin-5-one, 2-thioxa-1,3,4-thiadiazoline, 2-oxa-1,3,4-thiadiazoline, 2-thioxa- 1,3,4-oxadiazoline, 2
-Oxa-1,3,4-oxadiazoline, 2-thioxadihydropyridine, 2-oxadihydropyridine, 4
-Thioxadihydropyridine, 4-oxadihydropyridine, isoindole, indole, indazole, benzotriazole, benzimidazole, 2-thioxabenzimidazole, 2-oxabenzimidazole,
Benzoxazoline-2-thione, azaindenes, benzoxazoline-2-one, benzothiazoline-2-
Thione, benzothiazolin-2-one, carbazole,
Purines, carbolines, phenoxazines, phenothiazines, pyrazolopyridines at various condensed ring positions, pyrazolopyrimidines, pyrazolopyrroles, pyrazolopyrazoles, pyrazoloimidazoles, pyrazolooxazoles, pyrazolothiazoles, Pyrazolotriazoles,
Examples thereof include imidazolopyridines, imidazolopyridines, imidazolopyrroles, imidazoloimidazoles, imidazolooxazoles, imidazolothiazoles and imidazolotriazoles.

【0067】さらに好ましい複素芳香環としては例えば
ピロール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、
テトラゾール、2−チオキサチアゾリン、2−チオキサ
オキサゾリン、インドール、インダゾール、ベンゾトリ
アゾール、ベンズイミダゾール、2−チオキサ−1,
3,4−チアジアゾリン、アザインデン、5−チオキサ
−テトラゾリン、2−チオキサ−1,3,4−オキサジ
アゾリン、3−チオキサ−1,2,4−トリアゾリン、
種々の縮環位置のピラゾロピリジン類、ピラゾロイミダ
ゾール類などがあり、特に好ましくはピラゾール、イン
ダゾール、ピラゾロピリジンの様にピラゾール骨格を含
む複素芳香環である。
Further preferred heteroaromatic rings are, for example, pyrrole, imidazole, pyrazole, triazole,
Tetrazole, 2-thioxathiazoline, 2-thioxoxazoline, indole, indazole, benzotriazole, benzimidazole, 2-thioxa-1,
3,4-thiadiazoline, azaindene, 5-thioxa-tetrazoline, 2-thioxa-1,3,4-oxadiazoline, 3-thioxa-1,2,4-triazoline,
There are various condensed ring position pyrazolopyridines, pyrazoloimidazoles and the like, and particularly preferable are heteroaromatic rings having a pyrazole skeleton such as pyrazole, indazole and pyrazolopyridine.

【0068】これらの複素環化合物は置換基を有してい
てもよい。置換基としては例えば、メルカプト基、ニト
ロ基、カルボキシル基、スルホ基、ホスホノ基、ヒドロ
キシ基、アルキル基、アラルキル基、アルケニル基、ア
ルキニル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキ
シ基、アミノ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ
基、ウレイド基、ウレタン基、スルファモイル基、カル
バモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホ
ニル基、スルフィニル基、ハロゲン原子、シアノ基、ア
リールオキシカルボニル基、アシル基、アルコキシカル
ボニル基、アシルオキシ基、カルボンアミド基、スルホ
ンアミド基、ホスホンアミド基などが挙げられる。一般
式(Q−1)で示される化合物の具体例を以下に示す。
但し本発明は以下の化合物に限定されない。
These heterocyclic compounds may have a substituent. Examples of the substituent include a mercapto group, a nitro group, a carboxyl group, a sulfo group, a phosphono group, a hydroxy group, an alkyl group, an aralkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group and an acylamino group. Group, sulfonylamino group, ureido group, urethane group, sulfamoyl group, carbamoyl group, alkylthio group, arylthio group, sulfonyl group, sulfinyl group, halogen atom, cyano group, aryloxycarbonyl group, acyl group, alkoxycarbonyl group, acyloxy group , Carbonamide group, sulfonamide group, phosphonamide group and the like. Specific examples of the compound represented by formula (Q-1) are shown below.
However, the present invention is not limited to the following compounds.

【0069】[0069]

【化32】 [Chemical 32]

【0070】[0070]

【化33】 [Chemical 33]

【0071】[0071]

【化34】 [Chemical 34]

【0072】[0072]

【化35】 [Chemical 35]

【0073】[0073]

【化36】 [Chemical 36]

【0074】[0074]

【化37】 [Chemical 37]

【0075】[0075]

【化38】 [Chemical 38]

【0076】[0076]

【化39】 [Chemical Formula 39]

【0077】[0077]

【化40】 [Chemical 40]

【0078】本発明に有用な化合物としては上記のもの
の他に特開平3−39953号などに開示されたものを
あげることができる。また本発明の化合物の合成法に関
してはやはり特開平3−39953号に詳しく記載され
ている。本発明の一般式(Q−1)で表わされる化合物
の添加量は特に制約ないが、造核剤1モル当たり10モ
ルから10-3モル、好ましくは、1モルから10-2モル
%の範囲で用いられる。本発明の一般式(Q−2)で表
わされる化合物について説明する。式中、Rは、芳香族
基を表わし、Bはフェニル基又はナフチル基を表わす。
これらフェニル基又はナフチル基は置換基を有していて
もいなくてもよい。一般式(Q−2)で表わされる化合
物について更に詳細に説明する。一般式(Q−2)にお
いてRは、前記一般式(Q−1)のRと同義である。
In addition to the above compounds, compounds useful in the present invention include those disclosed in JP-A-3-39953 and the like. The method for synthesizing the compound of the present invention is also described in detail in JP-A-3-39953. The addition amount of the compound represented by the general formula (Q-1) of the present invention is not particularly limited, but is in the range of 10 mol to 10 −3 mol, preferably 1 mol to 10 −2 mol% per mol of the nucleating agent. Used in. The compound represented by formula (Q-2) of the present invention will be described. In the formula, R represents an aromatic group and B represents a phenyl group or a naphthyl group.
These phenyl groups or naphthyl groups may or may not have a substituent. The compound represented by formula (Q-2) will be described in more detail. In the general formula (Q-2), R has the same meaning as R in the general formula (Q-1).

【0079】Rは置換基で置換されていてもよい。置換
基の例としては、例えばアルキル基、アラルキル基、ア
ルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アリール
基、置換アミノ基、アリールオキシ基、スルファモイル
基、カルバモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ
基、スルホニル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハ
ロゲン原子、シアノ基、スルホ基やカルボキシル基、ア
ルキルおよびアリールオキシカルボニル基、アシル基、
アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、カルボンア
ミド基、スルホンアミド基、ニトロ基、アルキルチオ
基、アリールチオ基などの他、前記の一般式(R)で表
わされる基が挙げられる。
R may be substituted with a substituent. Examples of the substituent include, for example, alkyl group, aralkyl group, alkenyl group, alkynyl group, alkoxy group, aryl group, substituted amino group, aryloxy group, sulfamoyl group, carbamoyl group, alkylthio group, arylthio group, sulfonyl group, sulfinyl group. Groups, hydroxy groups, halogen atoms, cyano groups, sulfo groups and carboxyl groups, alkyl and aryloxycarbonyl groups, acyl groups,
In addition to an alkoxycarbonyl group, an acyloxy group, a carbonamido group, a sulfonamide group, a nitro group, an alkylthio group, an arylthio group and the like, the groups represented by the above general formula (R) can be mentioned.

【0080】Bは、置換もしくは無置換のフェニル基又
はナフチル基を表わす。Bは置換基としては、前記Rの
置換基として述べたものが挙げられる。一般式(Q−
2)で表わされる化合物の具体例を以下に示す。但し、
本発明は以下の化合物に限定されるものではない。
B represents a substituted or unsubstituted phenyl group or naphthyl group. Examples of the substituent of B include those described above as the substituent of R. General formula (Q-
Specific examples of the compound represented by 2) are shown below. However,
The present invention is not limited to the following compounds.

【0081】[0081]

【化41】 [Chemical 41]

【0082】[0082]

【化42】 [Chemical 42]

【0083】[0083]

【化43】 [Chemical 43]

【0084】[0084]

【化44】 [Chemical 44]

【0085】本発明の一般式(Q−2)の化合物の添加
量は、一般式(Q−1)の化合物と同様である。
The addition amount of the compound of the general formula (Q-2) of the present invention is the same as that of the compound of the general formula (Q-1).

【0086】本発明の一般式(Q−1)及び一般式(Q
−2)の化合物の添加方法は、前記一般式(N−1)で
表わされる造核剤の方法と同様にして行なえる。又、必
要に応じて造核剤と共に、溶解して添加することもでき
るし、造核剤と共乳化して用いることもできる。本発明
においては一般式(N−1)で表わされる造核剤の他に
現像液中で酸化されることにより現像抑制剤を放出しう
るレドックス化合物を併用することが好ましい。本発明
の酸化されることにより現像抑制剤を放出しうるレドッ
クス化合物であって、該現像抑制剤の少なくとも一部が
現像液に溶出して現像液成分と反応して抑制性の少ない
化合物に変化しうるようなレドックス化合物について説
明する。レドックス化合物のレドックス基としては、ハ
イドロキノン類、カテコール類、ナフトハイドロキノン
類、アミノフェノール類、ピラゾリドン類、ヒドラジン
類、ヒドロキシルアミン類、レダクトン類であることが
好ましく、ヒドラジン類であることがさらに好ましい。
本発明の酸化されることにより現像抑制剤を放出しうる
レドックス化合物であって、該現像抑制剤の少なくとも
一部が現像液に溶出して現像液成分と反応して抑制性の
少ない化合物は変化しうるようなレドックス化合物とし
て用いられるヒドラジン類は好ましくは以下の一般式
(R−1)、一般式(R−2)、一般式(R−3)で表
わされる。一般式(R−1)で表わされる化合物が特に
好ましい。
The general formula (Q-1) and the general formula (Q
The method of adding the compound of -2) can be performed in the same manner as the method of the nucleating agent represented by the general formula (N-1). If necessary, it can be dissolved and added together with the nucleating agent, or can be used by coemulsifying with the nucleating agent. In the present invention, it is preferable to use, in addition to the nucleating agent represented by the general formula (N-1), a redox compound capable of releasing a development inhibitor by being oxidized in a developing solution. A redox compound capable of releasing a development inhibitor by being oxidized according to the present invention, wherein at least a part of the development inhibitor is eluted into a developing solution and reacts with a developing solution component to be a compound having a small inhibiting property. A possible redox compound will be described. The redox group of the redox compound is preferably hydroquinones, catechols, naphthohydroquinones, aminophenols, pyrazolidones, hydrazines, hydroxylamines and reductones, and more preferably hydrazines.
A redox compound capable of releasing a development inhibitor by being oxidized according to the present invention, and at least a part of the development inhibitor is eluted into a developing solution and reacts with a developing solution component, and a compound having a small inhibiting property is changed. Hydrazines used as such a redox compound are preferably represented by the following general formula (R-1), general formula (R-2) and general formula (R-3). The compound represented by formula (R-1) is particularly preferable.

【0087】[0087]

【化45】 [Chemical 45]

【0088】これらの式中R1 は脂肪族基または芳香族
基を表わす。G1 は−CO−基、−COCO−基、−C
S−基、−C(=NG2 2 )−基、−SO−基、−S
2−基または−P(O)(G2 2 )−基を表わす。
2 は単なる結合手、−O−基、−S−基または−N
(R2 )−基を表わし、R2 はR1 と同定義の基または
水素原子を表わし、分子内に複数のR2 が存在する場合
それらは同じであっても異なっても良い。A1 、A2
水素原子、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル
基またはアシル基を表わし置換されていても良い。一般
式(R−1)ではA1 、A2 の少なくとも一方は水素原
子である。A3 はA1 と同義または−CH2 CH
(A4 )−(Time)t −PUGを表わす。A4 はニ
トロ基、シアノ基、カルボキシル基、スルホニル基また
は−G1 −G2 −R1 (この場合、分子内の2つの−G
1−G2 −R1 は同じであっても異なっても良い。)を
表わす。
In these formulas, R 1 represents an aliphatic group or an aromatic group. G 1 is -CO- group, -COCO- group, -C
S- groups, -C (= NG 2 R 2 ) - group, -SO- group, -S
O 2 - group or -P (O) (G 2 R 2) - represents a group.
G 2 is a simple bond, -O- group, -S- group or -N
Represents a (R 2 )-group, R 2 represents a group having the same definition as R 1 or a hydrogen atom, and when plural R 2 are present in the molecule, they may be the same or different. A 1 and A 2 represent a hydrogen atom, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group or an acyl group, and may be substituted. In the general formula (R-1), at least one of A 1 and A 2 is a hydrogen atom. A 3 has the same meaning as A 1 , or —CH 2 CH
(A 4) - represents the (Time) t -PUG. A 4 is a nitro group, a cyano group, a carboxyl group, a sulfonyl group, or -G 1 -G 2 -R 1 (in this case, two -G in the molecule).
1 -G 2 -R 1 may be the same or different. ) Is represented.

【0089】一般式(R−1)、(R−2)、(R−
3)についてさらに詳細に説明する。一般式(R−
1)、(R−2)、(R−3)において、R1 で表され
る脂肪族基は好ましくは炭素数1〜30のものであっ
て、特に炭素数1〜20の直鎖、分岐または環状のアル
キル基である。このアルキル基は置換基を有していても
よい。一般式(R−1)、(R−2)、(R−3)にお
いて、R1 で表される芳香族基は単環または2環のアリ
ール基または不飽和ヘテロ環基である。ここで不飽和ヘ
テロ環基はアリール基と縮合してヘテロアリール基を形
成してもよい。例えばベンゼン環、ナフタレン環、ピリ
ジン環、キノリン環、イソキノリン環等がある。なかで
もベンゼン環を含むものが好ましい。R1 として特に好
ましいものはアリール基である。
General formulas (R-1), (R-2), (R-
3) will be described in more detail. General formula (R-
In 1), (R-2), and (R-3), the aliphatic group represented by R 1 is preferably one having 1 to 30 carbon atoms, and particularly a straight chain or branched one having 1 to 20 carbon atoms. Alternatively, it is a cyclic alkyl group. This alkyl group may have a substituent. In formulas (R-1), (R-2), and (R-3), the aromatic group represented by R 1 is a monocyclic or bicyclic aryl group or an unsaturated heterocyclic group. Here, the unsaturated heterocyclic group may be condensed with an aryl group to form a heteroaryl group. Examples thereof include a benzene ring, a naphthalene ring, a pyridine ring, a quinoline ring and an isoquinoline ring. Of these, those containing a benzene ring are preferable. Particularly preferred as R 1 is an aryl group.

【0090】R1 のアリール基または不飽和ヘテロ環基
は置換されていてもよく、代表的な置換基としては、例
えばアルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキ
ニル基、アルコキシ基、アリール基、置換アミノ基、ウ
レイド基、ウレタン基、アリールオキシ基、スルファモ
イル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、アリールチ
オ基、スルホニル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、
ハロゲン原子、シアノ基、スルホ基、アリールオキシカ
ルボニル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アシ
ルオキシ基、カルボンアミド基、スルホンアミド基、カ
ルボキシル基、リン酸アミド基などが挙げられ、好まし
い置換基としては、直鎖、分岐または環状のアルキル基
(好ましくは炭素数1〜20のもの)、アラルキル基
(好ましくは炭素数7〜30のもの)、アルコキシ基
(好ましくは炭素数1〜30のもの)、置換アミノ基
(好ましくは炭素数1〜30のアルキル基で置換された
アミノ基)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜4
0を持つもの)、スルホンアミド基(好ましくは炭素数
1〜40を持つもの)、ウレイド基(好ましくは炭素数
1〜40を持つもの、リン酸アミド基(好ましくは炭素
数1〜40のもの)などである。
The aryl group or unsaturated heterocyclic group for R 1 may be substituted, and typical examples of the substituent include, for example, an alkyl group, an aralkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an alkoxy group, an aryl group and a substituted group. Amino group, ureido group, urethane group, aryloxy group, sulfamoyl group, carbamoyl group, alkylthio group, arylthio group, sulfonyl group, sulfinyl group, hydroxy group,
Examples of the halogen atom, a cyano group, a sulfo group, an aryloxycarbonyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an acyloxy group, a carbonamide group, a sulfonamide group, a carboxyl group, a phosphoric acid amide group, and the like, as a preferable substituent, Linear, branched or cyclic alkyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms), aralkyl group (preferably having 7 to 30 carbon atoms), alkoxy group (preferably having 1 to 30 carbon atoms), substitution Amino group (preferably amino group substituted with an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms), acylamino group (preferably 2 to 4 carbon atoms)
0), sulfonamide group (preferably having 1 to 40 carbon atoms), ureido group (preferably having 1 to 40 carbon atoms), phosphoric acid amide group (preferably having 1 to 40 carbon atoms) ) And so on.

【0091】一般式(R−1)、(R−2)、(R−
3)におけるG1 としては−CO−基、−SO2 −基が
好ましく、−CO−基が最も好ましい。A1 、A2 とし
ては水素原子が好ましく、A3 としては水素原子、−C
2 CH(A4 )−(Time)t −PUGが好まし
い。
General formulas (R-1), (R-2) and (R-
As G 1 in 3), —CO— group and —SO 2 — group are preferable, and —CO— group is most preferable. Preferably a hydrogen atom as A 1, A 2, as the A 3 hydrogen atoms, -C
H 2 CH (A 4) - (Time) t -PUG are preferred.

【0092】一般式(R−1)、(R−2)、(R−
3)においてTimeは二価の連結基を表わし、タイミ
ング調節機能を有していてもよい。Timeで表わされ
る二価の連結基は、酸化還元母核の酸化体から放出され
るTime−PUGから一段階あるいはその以上の段階
の反応を経てPUGを放出せしめる基を表わす。Tim
eで表わされる二価の連結基としては、例えば米国特許
第4,248,962号(特開昭54−145,135
号)等に記載のp−ニトロフェノキシ誘導体の分子内閉
環反応によってPUGを放出するもの;米国特許第4,
310,612号(特開昭55−53,330号)およ
び同4,358,525号等に記載の環開裂後の分子内
閉環反応によってPUGを放出するもの;米国特許第
4,330,617号、同4,446,216号、同
4,483,919号、特開昭59−121,328号
等に記載のコハク酸モノエステルまたはその類縁体のカ
ルボキシル基の分子内閉環反応による酸無水物の生成を
伴って、PUGを放出するもの;米国特許第4,40
9,323号、同4,421,845号、リサーチ・デ
ィスクロージャー誌No.21,228(1981年12
月)、米国特許第4,416,977号(特開昭57−
135,944号)、特開昭58−209,736号、
同58−209,738号等に記載のアリールオキシ基
またはヘテロ環オキシ基が共役した二重結合を介した電
子移動によりキノモノメタン、またはその類縁体を生成
してPUGを放出するもの;米国特許第4,420,5
54号(特開昭57−136,640号)、特開昭57
−135,945号、同57−188,035号、同5
8−98,728号および同58−209,737号等
に記載の含窒素ヘテロ環のエナミン構造を有する部分の
電子移動によりエナミンのγ位よりPUGを放出するも
の;特開昭57−56,837号に記載の含窒素ヘテロ
環の窒素原子と共役したカルボニル基への電子移動によ
り生成したオキシ基の分子内閉環反応によりPUGを放
出するもの;米国特許第4,146,396号(特開昭
52−90932号)、特開昭59−93,442号、
特開昭59−75475号、特開昭60−249148
号、特開昭60−249149号等に記載のアルデヒド
類の生成を伴ってPUGを放出するもの;特開昭51−
146,828号、同57−179,842号、同59
−104,641号に記載のカルボキシル基の脱炭酸を
伴ってPUGを放出するもの;−O−COOCRa b
−PUG(Ra 、Rb は一価の基を表わす。)の構造を
有し、脱炭酸と引き続くアルデヒド類の生成を伴ってP
UGを放出するもの;特開昭60−7,429号に記載
のイソシアナートの生成を伴ってPUGを放出するも
の;米国特許第4,438,193号等に記載のカラー
現像薬の酸化体とのカップリング反応によりPUGを放
出するものなどを挙げることができる。これら、Tim
eで表わされる二価の連結基の具体例については特開昭
61−236,549号、特開平1,269,936
号、特願平2−93,487号等にも詳細に記載されて
いる。
General formulas (R-1), (R-2) and (R-
In 3), Time represents a divalent linking group and may have a timing adjusting function. The divalent linking group represented by Time represents a group capable of releasing PUG from Time-PUG released from an oxidized product of a redox mother nucleus through a reaction in one step or more steps. Tim
Examples of the divalent linking group represented by e include, for example, U.S. Pat. No. 4,248,962 (JP-A-54-145,135).
Releasing a PUG by an intramolecular ring closure reaction of a p-nitrophenoxy derivative described in U.S. Pat.
Nos. 310,612 (JP-A-55-53,330) and 4,358,525, which release PUG by an intramolecular ring closure reaction after ring cleavage; US Pat. No. 4,330,617. Nos. 4,446,216, 4,483,919, JP-A-59-121,328, and the like, acid anhydrides by the intramolecular ring-closing reaction of the carboxyl group of the succinic acid monoester or its analogs. Release of PUG with the formation of a product; US Pat. No. 4,40
9,323, 4,421,845, Research Disclosure No. 21,228 (December 1981)
U.S. Pat. No. 4,416,977 (JP-A-57-57).
135,944), JP-A-58-209,736,
No. 58-209,738, which produces quinomonomethane or an analog thereof by electron transfer through a double bond conjugated with an aryloxy group or a heterocyclic oxy group to release PUG; US Pat. 4,420,5
54 (JP-A-57-136,640) and JP-A-57.
-135,945, 57-188,035, 5
8-98,728 and 58-209,737, which release PUG from the γ-position of enamine by electron transfer of the portion having the enamine structure of the nitrogen-containing heterocycle; JP-A-57-56, 837, which releases PUG by an intramolecular ring-closing reaction of an oxy group formed by electron transfer to a carbonyl group conjugated to a nitrogen atom of a nitrogen-containing heterocycle described in U.S. Pat. No. 4,146,396 52-90932), JP-A-59-93,442,
JP-A-59-75475, JP-A-60-249148
Releasing PUG with the formation of aldehydes described in JP-A No. 60-249149;
146, 828, 57-179, 842, 59
Those releasing PUG accompanied by decarboxylation of carboxyl group as described in JP -104,641; -O-COOCR a R b
-PUG (R a and R b represent a monovalent group), and is accompanied by decarboxylation and subsequent formation of aldehydes.
Those releasing UG; those releasing PUG with formation of isocyanate described in JP-A-60-7429; Oxidized products of color developing agents described in U.S. Pat. No. 4,438,193 and the like. And the like, which release PUG by a coupling reaction with These, Tim
Specific examples of the divalent linking group represented by e are JP-A 61-236,549 and JP-A 1,269,936.
And Japanese Patent Application No. 2-93,487.

【0093】一般式(R−1)、(R−2)、(R−
3)においてPUGは、現像液に流出した際、現像液成
分と反応して抑制性の少ない化合物に変化し得る現像抑
制剤である。またPUGはヘテロ原子を有し、ヘテロ原
子を介して一般式(R−1)、(R−2)、(R−3)
で表わされる化合物の他の部分と結合している。一般的
に公知の現像抑制剤の例はたとえば、テー・エッチ・ジ
ェームズ(T.H.James)著「ザ・セオリー・オブ・ザ
・フォトグラフィック・プロセス(TheTheory of the Ph
otographic Process) 」第4版、1977年、マクミラ
ン(Macmillan)社刊、396頁〜399頁や特願平2−
93,487号明細書56頁〜69頁や特願平2−9
3,487号明細書56頁〜69頁などに記載されてい
る。これらの現像抑制剤は置換基を有してもよい。有用
な置換基としては例えば、メルカプト基、ニトロ基、カ
ルボキシル基、スルホ基、ホスホノ基、ヒドロキシ基、
アルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル
基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ア
ミノ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、ウレイ
ド基、ウレタン基、スルファモイル基、カルバモイル
基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホニル基、
スルフィニル基、ハロゲン原子、シアノ基、アリールオ
キシカルボニル基、アシル基、アルコキシカルボニル
基、アシルオキシ基、カルボンアミド基、スルホンアミ
ドキ、ホスホンアミド基等が挙げられ、これらの基はさ
らに羅漢されても良い。本発明のに用いるPUGは、現
像液に流出した際、現像液成分と反応して抑制性の少な
い化合物に変化し得る抑制剤であるが、前記公知の抑制
剤の中からこの様な機能を持つ現像抑制剤を選択する
か、あるいは前記公知の抑制剤に適切な置換基を組み合
わせることによっなこの様な機能を付与して用いること
ができる。
General formulas (R-1), (R-2), (R-
In 3), PUG is a development inhibitor capable of reacting with the developer components and converting into a compound having less inhibitory properties when flowing out to the developer. Further, PUG has a hetero atom, and the general formulas (R-1), (R-2), (R-3) are introduced through the hetero atom.
It is bonded to the other part of the compound represented by. Examples of commonly known development inhibitors are described, for example, in The Theory of the Ph.D. Process by T. H. James.
otographic Process) ", 4th edition, 1977, published by Macmillan, 396-399 pages and Japanese Patent Application No. 2-
93,487, pages 56 to 69 and Japanese Patent Application No. 2-9.
No. 3,487, pages 56 to 69. These development inhibitors may have a substituent. Examples of useful substituents include mercapto group, nitro group, carboxyl group, sulfo group, phosphono group, hydroxy group,
Alkyl group, aralkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group, alkoxy group, aryloxy group, amino group, acylamino group, sulfonylamino group, ureido group, urethane group, sulfamoyl group, carbamoyl group, alkylthio group, arylthio group, A sulfonyl group,
Examples thereof include a sulfinyl group, a halogen atom, a cyano group, an aryloxycarbonyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an acyloxy group, a carbonamido group, a sulfonamidoki, and a phosphonamido group, and these groups may be further described. .. The PUG used in the present invention is an inhibitor capable of reacting with a developer component and converting into a compound having less inhibitory property when flowing out to a developer, and such a function among the known inhibitors is shown. Such a function can be imparted by using a development inhibitor which has been selected, or by combining the known inhibitor with a suitable substituent.

【0094】本発明に用いるPUGで表わされる現像抑
制剤は造核伝染現像を抑制する化合物であることが好ま
しい。造核伝染現像は、富士フイルムGRANDEXシ
ステム(富士写真フイルム(株))や Kodak Ultratec
システム(Eastman Kodak Co.,Ltd.) の画像形成法に用
いられた新しい現像ケミストリーである。この現像ケミ
ストリーは、「日本写真学会誌」52巻5号、390〜
394頁(1989)や「ジャーナル オブフォトグラ
フィック サイエンス」35巻、162頁(1987)
に解説されているように、露光されたハロゲン化銀粒子
の通常の現像主薬による現像過程と、それによって生成
した現像薬の酸化生成物と造核剤とのクロス酸化に基づ
いて造核活性種が生成し、この活性種による周辺の未露
光〜弱く露光されたハロゲン化銀粒子の造核伝染現像過
程の2つの過程から成っている。従って、全体の現像過
程は、通常の現像過程と、造核現像過程の総和からなっ
ているので、現像抑制剤として従来知られている通常の
現像抑制剤の他に、新しく造核伝染現像過程を抑制する
化合物が抑制作用を発揮しうる。後者を、ここでは、造
核現像抑制剤と称する。本発明に用いるPUGで表わさ
れる現像抑制剤は、造核現像抑制剤が好ましい。造核現
像抑制剤として作用する化合物としては、従来知られて
いる現像抑制剤も効果あるが、特に有効な化合物は、少
なくとも1つ以上のニトロ基、またはニトロソ基を有す
る化合物、ピリジン、ピラジン、キノリン、キノキサリ
ン、あるいはフエナジンなどの含窒素複素環骨格、特に
6員の含窒素複素芳香環骨格を有する化合物、N−ハロ
ゲン結合を有する化合物、キノン類、テトラゾリウム
類、アミンオキシド類、アゾキシ化合物類、酸化能を有
する配位化合物類などである。その中でもニトロ基を有
する化合物、およびピリジン骨格を有する化合物が特に
有効である。
The development inhibitor represented by PUG used in the present invention is preferably a compound which inhibits nucleation infectious development. Nucleating and infectious development is performed by FUJIFILM GRANDEX system (Fuji Photo Film Co., Ltd.) or Kodak Ultratec.
This is a new development chemistry used in the image forming method of the system (Eastman Kodak Co., Ltd.). This development chemistry is described in "Journal of the Photographic Society of Japan" Vol. 52, No. 5, 390-390.
394 pages (1989) and "Journal of Photographic Science", 35 volumes, 162 pages (1987).
As described in, the development process of exposed silver halide grains by a conventional developing agent and the nucleation-active species based on the cross-oxidation between the oxidation product of the developing agent and the nucleating agent produced thereby. And the nucleation-infecting development process of the peripheral unexposed to weakly exposed silver halide grains by the active species. Therefore, the entire development process consists of the sum of the normal development process and the nucleation development process. Therefore, in addition to the normal development inhibitor conventionally known as a development inhibitor, a new nucleation-infectious development process is performed. A compound that suppresses can exert an inhibitory effect. The latter is referred to herein as a nucleation development inhibitor. The development inhibitor represented by PUG used in the present invention is preferably a nucleation development inhibitor. As the compound which acts as a nucleation development inhibitor, conventionally known development inhibitors are also effective, but particularly effective compounds include compounds having at least one or more nitro groups or nitroso groups, pyridine, pyrazine, A compound having a nitrogen-containing heterocyclic skeleton such as quinoline, quinoxaline, or phenazine, particularly a compound having a 6-membered nitrogen-containing heteroaromatic skeleton, a compound having an N-halogen bond, quinones, tetrazoliums, amine oxides, azoxy compounds, Examples thereof include coordination compounds having an oxidizing ability. Among them, a compound having a nitro group and a compound having a pyridine skeleton are particularly effective.

【0095】これらの造核現像抑制剤は置換基を有して
も良く、それら置換基の性質、例えば電子吸引性、電子
供与性、疎水性、親水性、電荷ハロゲン化銀への吸着性
などの性質によって、現像抑制の強さ、拡散のし易さを
はじめとするさまざまな特性をコントロールすることが
できる。有用な置換基の例としては前に一般的な現像抑
制剤の置換基の例として列挙したものがあてはまる。本
発明に有用なこれらの造核現像抑制剤の具体例は特願平
2−258928号、同2−258929号、同3−1
5648号に詳細に記載されている。また、別の系列の
造核現像抑制剤として、アニオン性荷電基、あるいは現
像液中で解離してアニオン性荷電を生じうる解離性基を
有するハロゲン化銀粒子への吸着性化合物も有効であ
る。
These nucleation development inhibitors may have a substituent, and the properties of the substituent, such as electron-withdrawing property, electron-donating property, hydrophobicity, hydrophilicity, adsorbability to charged silver halide, etc. Various properties such as the strength of development inhibition and the ease of diffusion can be controlled by the property of. Examples of useful substituents include those listed above as examples of common development inhibitor substituents. Specific examples of these nucleation development inhibitors useful in the present invention include Japanese Patent Application Nos. 2-258928, 2-258929 and 3-1.
5648 in detail. Further, as another series of nucleation development inhibitors, an adsorptive compound to a silver halide grain having an anionic charged group or a dissociative group capable of dissociating in a developing solution to generate anionic charge is also effective. ..

【0096】本発明に用いるPUGとしての造核現像抑
制剤はヘテロ原子を有し、ヘテロ原子を介して結合して
いる一般式(R−1)、(R−2)、(R−3)で表わ
される化合物の他の部分から放出される機能、さらには
現像液に流出した際、現像液成分と反応して抑制性の少
ない化合物に変化し得る機能を持っている。本発明に用
いるPUGは通常の現像抑制剤あるいは具体例を示した
ような造核現像抑制剤に必要に応じて適切な置換基を結
合することによって上記2つの機能を付与することが好
ましい。本発明に用いるPUGは現像液に流出した際、
現像液成分と反応して抑制性の少ない化合物に変化する
が、この様な現像処理液成分の例としては、アルカリ、
ハイドロキノン類、亜硫酸イオンなど通常よく現像液に
含まれる化合物のほか、界面活性剤、アミン類、有機酸
の塩などが挙げられる。また、この目的のために、フッ
化物イオン、ヒドラジン類、ヒドロキシルアミン類、ヒ
ドロキサム酸類など特別の化合物を現像液に添加しても
良く、これらの成分の複写作用によりPUGの変化が引
きおこされても良い。本発明に用いられるPUGは好ま
しくは以下の一般式(P−1)、(P−2)、(P−
3)で表わされる。
The nucleation development inhibitor as the PUG used in the present invention has a hetero atom and is bonded via the hetero atom of the general formulas (R-1), (R-2) and (R-3). It has a function of being released from the other part of the compound represented by the formula (3), and further has a function of reacting with the components of the developing solution and converting into a compound having less inhibitory property when flowing out to the developing solution. The PUG used in the present invention is preferably imparted with the above-mentioned two functions by bonding an appropriate substituent to a usual development inhibitor or a nucleation development inhibitor as shown in the specific examples, if necessary. When PUG used in the present invention flows out into the developer,
Although it reacts with the developer component and changes into a compound with less inhibitory properties, examples of such a developer component include alkali,
In addition to compounds such as hydroquinones and sulfite ions which are often contained in a developing solution, surfactants, amines, salts of organic acids and the like can be mentioned. For this purpose, special compounds such as fluoride ions, hydrazines, hydroxylamines and hydroxamic acids may be added to the developer, and the copying action of these components causes a change in PUG. Is also good. The PUG used in the present invention preferably has the following general formulas (P-1), (P-2) and (P-
It is represented by 3).

【0097】[0097]

【化46】 [Chemical 46]

【0098】式中、X1 は3価の有機基を表わし、X2
は現像処理液成分と反応してアニオン基に変化する基を
表わし、X3 は造核現像抑制効果を発現する基を表わ
す。さらに詳細に説明すると、X1 は脂肪族基、芳香族
基、あるいはこれらの基と−O−、−S−、−Se−、
−NR3 −(R3 は水素原子、脂肪族基あるいは芳香族
基を表わす。)、−CO−、−SO−、−SO2 −を組
みあわせることによって形成される3価の基であり、置
換されていても良い。好ましい置換基の例としてはPU
Gの置換基として列挙したものがあてはまる。一般式
(P−1)におけるX1 であらわされる3価の基は好ま
しくは以下の一般式(P−11)、(P−12)、(P
−13)で表わされる。(但し、一般式(P−1)にお
けるX2 、X3 を含めた形で表わす。)
In the formula, X 1 represents a trivalent organic group, and X 2
Represents a group that reacts with a developing solution component to be converted into an anion group, and X 3 represents a group that exhibits a nucleation development inhibiting effect. More specifically, X 1 is an aliphatic group, an aromatic group, or these groups and -O-, -S-, -Se-,
—NR 3 — (R 3 represents a hydrogen atom, an aliphatic group or an aromatic group), —CO—, —SO—, a trivalent group formed by combining —SO 2 — It may be replaced. Examples of preferred substituents are PU
Those listed as the substituents of G are applicable. The trivalent group represented by X 1 in the general formula (P-1) is preferably the following general formulas (P-11), (P-12) and (P
-13). (However, it is expressed in the form including X 2 and X 3 in the general formula (P-1).)

【0099】[0099]

【化47】 [Chemical 47]

【0100】式中、X2 、X3 は一般式(P−1)と同
義である。X11は窒素原子と共に含窒素複素環を形成す
るのに必要な非金属原子群を表わす。X12、X13は2価
の有機基を表わし、m、nは0または1を表わす。好ま
しくはX12、X13は脂肪族基、芳香族基、あるいはこれ
らの基と−O−、−S−、−Se−、−NR3 −(R3
は一般式(P−1)と同義)、−CO−、−SO−、−
SO2 −を組みあわせることによって形成される2価の
基であり、置換されていてもよい。好ましい置換基の例
としてはPUGの置換基として列挙したものがあてはま
る。一般式(P−11)において、窒素原子とX11で形
成される含窒素複素環は複素芳香環であることが好まし
い。さらに一般式(P−11)において窒素原子とX1
で形成される複素芳香環基は5ないし6員環が好まし
く、単環であっても他の環と縮環していても良く、また
置換されていても良い。
In the formula, X 2 and X 3 have the same meanings as in formula (P-1). X 11 represents a group of non-metal atoms necessary for forming a nitrogen-containing heterocycle with a nitrogen atom. X 12 and X 13 represent a divalent organic group, and m and n represent 0 or 1. Preferably, X 12 and X 13 are an aliphatic group, an aromatic group, or these groups and —O—, —S—, —Se—, —NR 3 — (R 3
Is synonymous with general formula (P-1)), -CO-, -SO-,-.
It is a divalent group formed by combining SO 2 — and may be substituted. As examples of preferable substituents, those enumerated as the substituents of PUG are applicable. In the general formula (P-11), the nitrogen-containing heterocycle formed by the nitrogen atom and X 11 is preferably a heteroaromatic ring. Further, in the general formula (P-11), nitrogen atom and X 1
The heteroaromatic ring group formed by is preferably a 5- to 6-membered ring, which may be a single ring or condensed with another ring, or may be substituted.

【0101】好ましい複素芳香環の代表的な例としては
例えばピロール、イミダゾール、ピラゾール、1,2,
3−トリアゾール、1,2,4−トリアゾール、テトラ
ゾール、2−チオキサチアゾリン、2−オキサチアゾリ
ン、2−チオキサオキサゾリン、2−オキサオキサゾリ
ン、2−チオキサイミダゾリン、2−オキサイミダゾリ
ン、3−チオキサ−1,2,4−トリアゾリン、3−オ
キサ−1,2,4−トリアゾリン、1,2−オキサゾリ
−5−チオン、1,2−チアゾリン−5−チオン、1,
2−オキサゾリン−5−オン、1,2−チアゾリン−5
−オン、2−チオキサ−1,3,4−チアジアゾリン、
2−オキサ−1,3,4−チアジアゾリン、2−チオキ
サ−1,3,4−オキサジアゾリン、2−オキサ−1,
3,4−オキサジアゾリン、2−チオキサジヒドロピリ
ジン、2−オキサジヒドロピリジン、4−チオキサジヒ
ドロピリジン、4−オキサジヒドロピリジン、イソイン
ドール、インドール、インダゾール、ベンゾトリアゾー
ル、ベンズイミダゾール、2−チオキサベンズイミダゾ
ール、2−オキサベンズイミダゾール、ベンズオキサゾ
リン−2−チオン、アザインデン類、ベンズオキサゾリ
ン−2−オン、ベンゾチアゾリン−2−チオン、ベンゾ
チアゾリン−2−オン、カルバゾール、プリン、カルボ
リン、フェノキサジン、フェノチアジン、種々の縮環位
置のピラゾロピリジン類、ピラゾロピリミジン類、ピラ
ゾロピロール類、ピラゾロピラゾール類、ピラゾロイミ
ダゾール類、ピラゾロオキサゾール類、ピラゾロチアゾ
ール類、ピラゾロトリアゾール類、イミダゾロピリジン
類、イミダゾロピリミジン類、イミダゾロピロール類、
イミダゾロイミダゾール類、イミダゾロオキサゾール
類、イミダゾロチアゾール類、イミダゾロトリアゾール
類などを挙げることができる。
Representative examples of preferred heteroaromatic rings include, for example, pyrrole, imidazole, pyrazole, 1,2,
3-triazole, 1,2,4-triazole, tetrazole, 2-thioxathiazoline, 2-oxathiazoline, 2-thioxaxazoline, 2-oxoxazoline, 2-thioxaimidazoline, 2-oxaimidazoline, 3-thioxa -1,2,4-triazoline, 3-oxa-1,2,4-triazoline, 1,2-oxazoli-5-thione, 1,2-thiazoline-5-thione, 1,
2-oxazolin-5-one, 1,2-thiazoline-5
-One, 2-thioxa-1,3,4-thiadiazoline,
2-oxa-1,3,4-thiadiazoline, 2-thioxa-1,3,4-oxadiazoline, 2-oxa-1,
3,4-oxadiazoline, 2-thioxadihydropyridine, 2-oxadihydropyridine, 4-thioxadihydropyridine, 4-oxadihydropyridine, isoindole, indole, indazole, benzotriazole, benzimidazole, 2-thioxabenzimidazole, 2-oxabenzimidazole, benzoxazoline-2-thione, azaindenes, benzoxazoline-2-one, benzothiazoline-2-thione, benzothiazolin-2-one, carbazole, purine, carboline, phenoxazine, phenothiazine, various Pyrazolopyridines, pyrazolopyrimidines, pyrazolopyrroles, pyrazolopyrazoles, pyrazoloimidazoles, pyrazolooxazoles, pyrazolothiazoles, and pyrazolo in a condensed ring position Riazor acids, Imidazolopyrimidine pyridines, Imidazolopyrimidine pyrimidines, Imidazolopyrimidine pyrroles,
Examples thereof include imidazole imidazoles, imidazolooxazoles, imidazolothiazoles and imidazolotriazoles.

【0102】さらに好ましい複素芳香環としては例えば
ピロール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、
テトラゾール、2−チオキサチアゾリン、2−チオキサ
オキサゾリン、インドール、インダゾール、ベンゾトリ
アゾール、ベンズイミダゾール、2−チオキサ−1,
3,4−チアジアゾリン、アザインデン、5−チオキサ
−テトラゾリン、2−チオキサ−1,3,4−オキサジ
アゾリン、3−チオキサ−1,2,4−トリアゾリン、
種々の縮環位置のピラゾロピリジン類、ピラゾロイミダ
ゾール類などがあり、特に好ましくはピラゾール、イン
ダゾール、ピラゾロピリジンの様にピラゾール骨格を含
む複素芳香環である。これらの複素環化合物は置換基を
有していてもよい。置換基としては例えば、メルカプト
基、ニトロ基、カルボキシル基、スルホ基、ホスホノ
基、ヒドロキシ基、アルキル基、アラルキル基、アルケ
ニル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、ア
リールオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、スルホニ
ルアミノ基、ウレイド基、ウレタン基、スルファモイル
基、カルバモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ
基、スルホニル基、スルフィニル基、ハロゲン原子、シ
アノ基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、アル
コキシカルボニル基、アシルオキシ基、カルボンアミド
基、スルホンアミド基、ホスホンアミド基などが挙げら
れる。
Further preferred heteroaromatic rings are, for example, pyrrole, imidazole, pyrazole, triazole,
Tetrazole, 2-thioxathiazoline, 2-thioxoxazoline, indole, indazole, benzotriazole, benzimidazole, 2-thioxa-1,
3,4-thiadiazoline, azaindene, 5-thioxa-tetrazoline, 2-thioxa-1,3,4-oxadiazoline, 3-thioxa-1,2,4-triazoline,
There are various condensed ring position pyrazolopyridines, pyrazoloimidazoles and the like, and particularly preferable are heteroaromatic rings having a pyrazole skeleton such as pyrazole, indazole and pyrazolopyridine. These heterocyclic compounds may have a substituent. Examples of the substituent include a mercapto group, a nitro group, a carboxyl group, a sulfo group, a phosphono group, a hydroxy group, an alkyl group, an aralkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group and an acylamino group. Group, sulfonylamino group, ureido group, urethane group, sulfamoyl group, carbamoyl group, alkylthio group, arylthio group, sulfonyl group, sulfinyl group, halogen atom, cyano group, aryloxycarbonyl group, acyl group, alkoxycarbonyl group, acyloxy group , Carbonamide group, sulfonamide group, phosphonamide group and the like.

【0103】[0103]

【化48】 [Chemical 48]

【0104】式中、X2 、X3 は一般式(P−1)と同
義であり、X11は一般式(P−11)と同義である。X
14は一般式(P−1)におけるX1 自身と同義である。
In the formula, X 2 and X 3 have the same meaning as in the general formula (P-1), and X 11 has the same meaning as in the general formula (P-11). X
14 has the same meaning as X 1 in formula (P-1).

【0105】[0105]

【化49】 [Chemical 49]

【0106】式中、X2 、X3 は一般式(P−1)と同
義であり、X14は一般式(P−12)と同義である。X
15は−O−、−S−、−Se−、−NR3 −(R3 は一
般式(P−1)と同義)を表わす。一般式(P−1)に
おいてX2 で表わされる基は現像処理液成分としてアニ
オン性官能基に変化し得る1価の基である。X2 のアニ
オン性官能基への変化は、酸のアルカリによる解離等の
様に単純なプロトンの移動ではなく、現像処理液成分の
作用による一つあるいは複数の共有結合の切断あるいは
生成を伴う変化であることが好ましく、生成したアニオ
ン性官能基は、一般式(P−1)のX1 で表わされる部
分と結合した状態でいることが好ましい。またX2 のア
ニオン性官能基への変化は、本発明のレドックス化合物
からのPUG放出反応より実質的に後で起こることが好
ましい。一般式(P−1)においてX2 であらわされる
基は好ましくは以下の一般式(P−14)〜(P−1
9)で表わされる。
In the formula, X 2 and X 3 have the same meanings as in the general formula (P-1), and X 14 has the same meanings as in the general formula (P-12). X
15 -O -, - S -, - Se -, - NR 3 - (R 3 is general formula (P-1) synonymous) represent. The group represented by X 2 in the general formula (P-1) is a monovalent group that can be converted into an anionic functional group as a component of the developing solution. The change of X 2 into an anionic functional group is not a simple proton transfer such as dissociation of an acid with an alkali, but a change accompanied by the cleavage or formation of one or more covalent bonds due to the action of a developing solution component. Is preferable, and the generated anionic functional group is preferably in a state of being bonded to the portion represented by X 1 in the general formula (P-1). It is also preferable that the conversion of X 2 into an anionic functional group occurs substantially after the PUG releasing reaction from the redox compound of the present invention. The group represented by X 2 in the general formula (P-1) is preferably the following general formulas (P-14) to (P-1).
It is represented by 9).

【0107】[0107]

【化50】 [Chemical 50]

【0108】式中X21は−COO−、−SO2 O−、−
N(R6 )SO2 O−、−P(O)(OR)O−を表わ
し、R4 は一般式(R−1)のR1 と同定義の基を表わ
し、R5 は水素原子またはR4 と同定義の基を表わす。
In the formula, X 21 is --COO--, --SO 2 O--,-.
N (R 6) SO 2 O -, - P (O) (OR) O- and represents, R 4 represents a general formula (R-1) R 1 and the definition of the group, R 5 is a hydrogen atom or It represents a group having the same definition as R 4 .

【0109】[0109]

【化51】 [Chemical 51]

【0110】式中、X22は−SO2 −、−CO−、−
(NHCO)m −を表わし、mは1または2である。R
6 は一般式(P−14)のR4 と同定義の基あるいは水
素原子を表わし、3つのR6 は同じであっても異なって
いても良い。
In the formula, X 22 is --SO 2- , --CO--,-.
Represents (NHCO) m −, and m is 1 or 2. R
6 represents a group having the same definition as R 4 in formula (P-14) or a hydrogen atom, and three R 6 may be the same or different.

【0111】[0111]

【化52】 [Chemical 52]

【0112】式中、X23は−CO−または−SO2 −を
表わし、X24は一価の基を表わす。3つのX24は同じで
あっても異なっても良く、また任意の2つが結合して環
を形成しても良い。 一般式(P−17) −SO2 −CH2 CH2 −X23−X24 式中、X23、X24は一般式(P−16)と同義
In the formula, X 23 represents —CO— or —SO 2 — and X 24 represents a monovalent group. The three X 24 s may be the same or different, and any two may be combined to form a ring. Formula (P-17) -SO 2 -CH 2 CH in 2 -X 23 -X 24 formula, X 23, X 24 is same meaning as in formula (P-16)

【0113】[0113]

【化53】 [Chemical 53]

【0114】式中、X25は単結合、−O−、−NH−を
表わし、X26はCl、OH、−NH2 を表わす。 一般式(P−19) −X25−X23−CH2 −X27 式中、X23、X25はそれぞれ一般式(P−16)、一般
式(P−18)と同義であり、X27はハロゲンを表わ
す。好ましいX2 の例としては以上の他にも、ホルミル
基、−N=C=O基、オキシラン基などをあげることが
できる。一般式(P−1)においてX3 で表わされる現
像抑制効果を発現する基は好ましい例としては、ニトロ
基、ニトロソ基、含窒素複素環基、N−ハロゲン結合を
有する基、キノン骨格を有する基、テトラゾリウム骨格
を有する基、アミンオキシド構造を含む基、アゾキシ構
造を含む基、酸化能を有する配位化合物を含む基などが
挙げられる。X3 としては特に好ましくはニトロ基、ニ
トロソ基、6員の含窒素複素環基であり、ニトロ基ある
いはピリジル基が最も好ましい。
In the formula, X 25 represents a single bond, —O— or —NH—, and X 26 represents Cl, OH or —NH 2 . In the general formula (P-19) -X 25 -X 23 -CH 2 -X 27 formula, X 23, X 25 are each formula (P-16), a general formula (P-18) interchangeably, X 27 represents halogen. In addition to the above, preferable examples of X 2 include a formyl group, a —N═C═O group, and an oxirane group. Preferred examples of the group which exhibits the development inhibiting effect represented by X 3 in the general formula (P-1) include a nitro group, a nitroso group, a nitrogen-containing heterocyclic group, a group having an N-halogen bond, and a quinone skeleton. Examples thereof include a group, a group having a tetrazolium skeleton, a group containing an amine oxide structure, a group containing an azoxy structure, and a group containing a coordination compound having an oxidizing ability. X 3 is particularly preferably a nitro group, a nitroso group or a 6-membered nitrogen-containing heterocyclic group, most preferably a nitro group or a pyridyl group.

【0115】一般式(P−2) −Y1 −Y2 −Y3 式中、Y1 は2価の有機基を表わし、Y2 は現像処理液
成分と反応して切断され得る2価の基を表わし、Y3
造核現像抑制効果を発現する基を表わす。さらに詳細に
説明するとY1 は脂肪族基、芳香族基、あるいはこれら
の基と−O−、−S−、−Se−、−NR3 −(R3
一般式(P−1)と同義)、−CO−、−SO−、−S
2 −を組み合わせることによって形成される2価の基
であり、置換されていても良い。好ましい置換基の例と
してはPUGの置換基として列挙したものがあてはま
る。一般式(P−2)におけるY1 であらわされる2価
基は好ましくは以下の一般式(P−21)、(P−2
2)で表わされる。(但し、一般式(P−2)における
2 、Y3 を含めた形で表わす。)
[0115] In the general formula (P-2) -Y 1 -Y 2 -Y 3 Formula, Y 1 represents a divalent organic group, Y 2 is a divalent that can be cleaved by reaction with development processing solution components Represents a group, and Y 3 represents a group exhibiting a nucleation development inhibiting effect. More specifically, Y 1 is an aliphatic group, an aromatic group, or these groups and —O—, —S—, —Se—, —NR 3 — (R 3 has the same meaning as in formula (P-1). ), -CO-, -SO-, -S
It is a divalent group formed by combining O 2 — and may be substituted. As examples of preferable substituents, those enumerated as the substituents of PUG are applicable. The divalent group represented by Y 1 in the general formula (P-2) is preferably the following general formulas (P-21) and (P-2
It is represented by 2). (However, it is represented in the form including Y 2 and Y 3 in the general formula (P-2).)

【0116】[0116]

【化54】 [Chemical 54]

【0117】式中、Y2 、Y3 は一般式(P−2)と同
義である。Y11、Y12はそれぞれ一般式(P−11)の
11、X12と同義であり、好ましい実施態様等の説明も
一般式(P−11)のものがそのままあてはまる。1は
0または1である。 一般式(P−22) −Y13−Y12−Y2 −Y3 式中、Y2 、Y3 は一般式(P−2)と同義であり、Y
12は一般式(P−21)と同義である。Y13は一般式
(P−13)におけるX15と同義である。
In the formula, Y 2 and Y 3 have the same meanings as in formula (P-2). Y 11 and Y 12 have the same meanings as X 11 and X 12 in formula (P-11), respectively, and the description of the preferred embodiments and the like applies to formula (P-11) as they are. 1 is 0 or 1. In the general formula (P-22) -Y 13 -Y 12 -Y 2 -Y 3 Formula, Y 2, Y 3 is general formula (P-2) in the above formula, Y
12 has the same meaning as in formula (P-21). Y 13 has the same meaning as X 15 in formula (P-13).

【0118】本発明のレドックス化合物においてPUG
が一般式(P−2)であらわされる場合、本発明のレド
ックス化合物から現像薬酸化体との反応によりY1 −Y
2 −Y3 の放出がおこり、さらに現像処理液成分によ
り、Y1 −Y2 −Y3 のY2 部分の開裂が起こる。ここ
でY2 部分の開裂反応はY1 −Y2 −Y3 の放出反応よ
りも実質的に後で起こることが好ましい。このことか
ら、一般式(R−1)、(R−2)、(R−3)におい
てTimeで表わされる2価の連結基の反応とY2の開
裂反応は混合されやすい。しかしTimeの反応では本
発明のレドックス化合物の分子合体からTime−PU
Gが放出されることが、その後のTime−PUGから
PUGを放出する反応の主因となっている(言い換える
とTime−PUGが放出されなければ、PUGは実質
的に放出されない)のに対し、Y2 の開裂はPUGの放
出とは無関係におこる(すなわちTime−Y1 −Y2
−Y3またはY1 −Y2 −Y3 の放出が起こらなくて
も、現像液成分の作用によりY2の開裂が起こり得る)
ことが好ましい。
In the redox compound of the present invention, PUG
Is represented by the general formula (P-2), the redox compound of the present invention is reacted with an oxidized product of a developing agent to yield Y 1 -Y.
2- Y 3 is released, and the Y 2 portion of Y 1 -Y 2 -Y 3 is cleaved by the components of the developing solution. Here, it is preferable that the cleavage reaction of the Y 2 portion occurs substantially later than the release reaction of Y 1 -Y 2 -Y 3 . From this, the reaction of the divalent linking group represented by Time in the general formulas (R-1), (R-2) and (R-3) and the cleavage reaction of Y 2 are easily mixed. However, in the reaction of Time, from the molecular combination of the redox compound of the present invention, Time-PU
The release of G is the main cause of the subsequent reaction of releasing PUG from Time-PUG (in other words, if Time-PUG is not released, PUG is not released substantially), while Y is released. The cleavage of 2 occurs independently of the release of PUG (ie Time-Y 1 -Y 2
Without occur release -Y 3 or Y 1 -Y 2 -Y 3, can occur cleavage of Y 2 by the action of the developer components)
Preferably.

【0119】さらにY2 の開裂によって、Y1 −Y2
3 がY1 −Y21とY22−Y3 に変化すると表わした場
合、Y22はアニオン性官能基を含むことが好ましく、こ
のアニオン性官能基はY2 の開裂により生成する官能基
であることが好ましい。さらに好ましくはY22は、pK
aが6以下の酸性官能基の共役塩基を官能基として含む
ことが好ましく、pKaが5以下の酸性官能基の共役塩
基を官能基として含むことが特に好ましい。これらの官
能基の好ましい具体例としては、酸性官能基として表わ
すと、カルボキシル基、スルホン酸基、スルフィン酸
基、リン酸基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基などが挙
げられる。
Further, by cleavage of Y 2 , Y 1 -Y 2-
If Y 3 is represented as changes in Y 1 -Y 21 and Y 22 -Y 3, Y 22 preferably includes an anionic functional group, the anionic functional group is a functional group formed by cleavage of Y 2 Preferably. More preferably Y 22 is pK
It is preferable that a contains a conjugate base of an acidic functional group having 6 or less as a functional group, and particularly preferably contains a conjugate base of an acidic functional group having a pKa of 5 or less as a functional group. Preferable specific examples of these functional groups include a carboxyl group, a sulfonic acid group, a sulfinic acid group, a phosphoric acid group, a phosphonic acid group, and a phosphinic acid group when expressed as an acidic functional group.

【0120】一般式(P−2)においてY2 で表わされ
る基は好ましくは以下の一般式(P−23)〜(P−2
6)で表わされる。(但し、一般式(P−2)における
3を含めた形で表わす。) 一般式(P−23) −Y23−Y24−Y3 式中、Y3 は一般式(P−2)と同義であり、Y24は一
般式(P−11)のX12と同義である。Y23は−OCO
−、−SCO−、−O−SO2 −、−O−SO2 N(R
3 )−、−OP(O)(OR3 )−を表わし、R3 は一
般式(P−1)と同義である。
The group represented by Y 2 in the general formula (P-2) is preferably the following general formulas (P-23) to (P-2).
It is represented by 6). (However, it is represented in the form including Y 3 in the general formula (P-2).) In the general formula (P-23) —Y 23 —Y 24 —Y 3 formula, Y 3 is the general formula (P-2). And Y 24 has the same meaning as X 12 in formula (P-11). Y 23 is -OCO
-, - SCO -, - O -SO 2 -, - O-SO 2 N (R
3) -, - OP (O ) (OR 3) - represents, R 3 has the same meaning as in formula (P-1).

【0121】[0121]

【化55】 [Chemical 55]

【0122】式中、Y3 は一般式(P−2)とY24は一
般式(P−23)と同義である。Y25は−CO−または
−SO2 −を表わし、Y26は−S−、−O−または−S
2−を表わす。Y27は水素原子または1価の基を表わ
し、2つのY27は同じであっても異なってもよく、互い
に結合して環を形成してもよい。さらにどちらか一方の
27または2つのY27が一般式(P−2)のY1 で表わ
される基と結合し環状構造を形成しても良い。
In the formula, Y 3 has the same meaning as general formula (P-2) and Y 24 has the same meaning as general formula (P-23). Y 25 represents -CO- or -SO 2- , and Y 26 represents -S-, -O- or -S.
Represents O 2 −. Y 27 represents a hydrogen atom or a monovalent group, and two Y 27 may be the same or different and may bond to each other to form a ring. Further, either Y 27 or two Y 27 may combine with the group represented by Y 1 in formula (P-2) to form a cyclic structure.

【0123】[0123]

【化56】 [Chemical 56]

【0124】式中、Y3 、Y24、Y25、Y26、Y27は一
般式(P−24)と同義。
In the formula, Y 3 , Y 24 , Y 25 , Y 26 and Y 27 have the same meanings as in formula (P-24).

【0125】[0125]

【化57】 [Chemical 57]

【0126】式中、Y3 は一般式(P−2)と同義であ
り、Y24は一般式(P−23)と同義であり、Y25、Y
26は一般式(P−24)と同義である。Y28は窒素原
子、カルボニル、Y25と共に環状構造を形成するのに必
要な非金属原子群を表わす。一般式(P−2)において
3 で表わされる基についての説明は一般式(P−1)
におけるX3 の説明がそのままあてはまり、好ましい実
施態様も同一である。
In the formula, Y 3 has the same meaning as in formula (P-2), Y 24 has the same meaning as in formula (P-23), and Y 25 and Y
26 has the same meaning as in formula (P-24). Y 28 represents a group of non-metal atoms necessary for forming a cyclic structure with a nitrogen atom, carbonyl and Y 25 . For the description of the group represented by Y 3 in formula (P-2), see formula (P-1).
The explanation of X 3 in the above is directly applied, and the preferable embodiments are also the same.

【0127】[0127]

【化58】 [Chemical 58]

【0128】式中、Z1 〜Z5 は水素原子または1価の
基を表わし、さらに以下の条件、条件、条件の少
なくとも1つを満たしている。 条件 Z2 、Z5 の少なくとも一方はニトロ基を表わ
す。 条件 Z3 、Z4 の少なくとも一方はニトロ基であ
り、かつ、Z1 〜Z5 の少なくとも2つは電子吸引基で
ある。 条件 Z3 、Z4 の少なくとも一方はニトロ基であ
り、Z1 は脂肪族基または芳香族基である。
In the formula, Z 1 to Z 5 represent a hydrogen atom or a monovalent group, and further satisfy at least one of the following conditions, conditions and conditions. At least one of the conditions Z 2 and Z 5 represents a nitro group. Conditions At least one of Z 3 and Z 4 is a nitro group, and at least two of Z 1 to Z 5 are electron withdrawing groups. At least one of the conditions Z 3 and Z 4 is a nitro group, and Z 1 is an aliphatic group or an aromatic group.

【0129】さらに詳細に説明すると、Z1 〜Z5 の表
わす1価の基の例としては、一般式(R−1)における
1 の置換基として列挙したもののほか、ニトロ基、ニ
トロソ基などを挙げることができる。Z1 が脂肪族基を
表わす時、好ましくは炭素数1〜10の直鎖、分岐また
は環状のアルキル基、アルケニル基またはアルキニル基
である。またアルキル基はアリール基によって置換さ
れ、炭素数7〜10のアラルキル基となることも好まし
い。具体的な例としてはメチル基、エチル基、イソプロ
ピル基、t−ブチル基、ベンジル基などが挙げられる。
1 が芳香族基を表わす時、好ましくは炭素数6〜10
のアリール基、または炭素数5〜10の不飽和複素環基
であり、これらは置換されていても良い。置換基の例と
してはZ1 〜Z5 の表わす1価の例として挙げたものが
あてはまる。Z1 の具体的な例としては置換または無置
換のフェニル基、ナフチル基、ピリジル基、キノリル
基、イソキノリル基などが挙げられる。
Explaining in more detail, examples of the monovalent group represented by Z 1 to Z 5 include those listed as the substituent of R 1 in the general formula (R-1), a nitro group, a nitroso group and the like. Can be mentioned. When Z 1 represents an aliphatic group, it is preferably a linear, branched or cyclic alkyl group, alkenyl group or alkynyl group having 1 to 10 carbon atoms. It is also preferable that the alkyl group is substituted with an aryl group to be an aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms. Specific examples include a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, a t-butyl group, a benzyl group and the like.
When Z 1 represents an aromatic group, it preferably has 6 to 10 carbon atoms.
Or an unsaturated heterocyclic group having 5 to 10 carbon atoms, which may be substituted. As the examples of the substituent, those mentioned as examples of the monovalent group represented by Z 1 to Z 5 are applicable. Specific examples of Z 1 include a substituted or unsubstituted phenyl group, naphthyl group, pyridyl group, quinolyl group, isoquinolyl group and the like.

【0130】Z2 〜Z5 が少なくとも2つの電子吸引基
を表わす時(内、少なくとも1つはニトロ基を表わ
す)、好ましい電気吸引基はハメット(Hammett)の置換
基定数の値でσp が0.2以上もしくはσm が0.3以
上の置換基であり、特に好ましくはσp が0.3以上も
しくはσm が0.4以上の置換基である。具体的にはニ
トロ基、アチニトロ基、ニトロソ基、シアノ基、トリフ
ロロメチル基、トリクロロメチル基などのポリハロゲン
化アルキル基、ペンタフロロフェニル基などのポリフロ
ロアリール基、アルキルまたはアリールスルホニル基、
アルキルまたはアリールスルフィニル基、スルファモイ
ル基、カルバモイル基、アルキルまたはアリールカルボ
ニル基、アルキルまたはアリールオキシカルボニル基、
ホルミル基、アリールアゾ基、アミジノ基、アンモニオ
基、スルホニオ基、アシルオキシ基、アルキルまたはア
リールスルホニルオキシ基、ホスフィノ基、ホスフィン
オキシド基、ホスホン酸エステル基、ホスホン酸アミド
基、電子欠乏性の複素環基、臭素原子、フッ素原子など
が例として挙げられる。さらにこれらの基は置換されて
いても良く、有用な置換基の例としては一般式(R−
1)においてR1 の置換基の例として列挙したものが挙
げられる。また、Z2 、Z4 、Z5 のいずれかがニトロ
基であることが好ましく、Z2 がニトロ基であることが
特に好ましい。以下に本発明で有用な、一般式(P−
3)で表わされるPUGの具体例を挙げるが本発明はこ
れによって制限されるものではない。
When Z 2 to Z 5 represent at least two electron withdrawing groups (of which at least one represents a nitro group), the preferred electrowithdrawing group is the value of Hammett's substituent constant and σ p is The substituent is 0.2 or more or σ m is 0.3 or more, and particularly preferably the substituent is σ p is 0.3 or more or σ m is 0.4 or more. Specifically, nitro group, atinitro group, nitroso group, cyano group, trifluoromethyl group, polyhalogenated alkyl group such as trichloromethyl group, polyfluoroaryl group such as pentafluorophenyl group, alkyl or arylsulfonyl group,
An alkyl or arylsulfinyl group, a sulfamoyl group, a carbamoyl group, an alkyl or arylcarbonyl group, an alkyl or aryloxycarbonyl group,
Formyl group, arylazo group, amidino group, ammonio group, sulfonio group, acyloxy group, alkyl or arylsulfonyloxy group, phosphino group, phosphine oxide group, phosphonic acid ester group, phosphonic acid amide group, electron-deficient heterocyclic group, Examples thereof include bromine atom and fluorine atom. Further, these groups may be substituted, and examples of useful substituents include the general formula (R-
Those listed as examples of the substituent of R 1 in 1) are mentioned. Further, it is preferable that any of Z 2 , Z 4 and Z 5 is a nitro group, and it is particularly preferable that Z 2 is a nitro group. Hereinafter, the general formula (P-
Specific examples of the PUG represented by 3) will be given, but the present invention is not limited thereto.

【0131】[0131]

【化59】 [Chemical 59]

【0132】[0132]

【化60】 [Chemical 60]

【0133】[0133]

【化61】 [Chemical formula 61]

【0134】また一般式(R−1)、(R−2)、(R
−3)において、R1 またはTimeは、その中にカプ
ラー等の不動性写真用添加剤において常用されているバ
ラスト基や一般式(R−1)、(R−2)、(R−3)
で表わされる化合物がハロゲン化銀に吸着することを促
進する基が組み込まれていてもよい。バラスト基は一般
式(R−1)、(R−2)、(R−3)で表わされる化
合物が実質的に他層または処理液中へ拡散できないよう
にするのに十分な分子量を与える有機基であり、アルキ
ル基、アリール基、ヘテロ環基、エーテル基、チオエー
テル基、アミド基、ウレイド基、ウレタン基、スルホン
アミド基などの一つ以上の組合せからなるものである。
バラスト基として好ましくは置換ベンゼン環を有するバ
ラスト基であり、特に分岐状アルキル基で置換されたベ
ンゼン環を有するバラスト基が好ましい。
The general formulas (R-1), (R-2) and (R
-3), R 1 or Time is a ballast group or a general formula (R-1), (R-2) or (R-3) commonly used in a non-moving photographic additive such as a coupler.
A group that promotes the adsorption of the compound represented by the formula (1) to silver halide may be incorporated. The ballast group is an organic compound giving a molecular weight sufficient to prevent the compounds represented by the general formulas (R-1), (R-2) and (R-3) from substantially diffusing into another layer or the treatment liquid. The group is composed of one or more combinations of alkyl groups, aryl groups, heterocyclic groups, ether groups, thioether groups, amide groups, ureido groups, urethane groups, sulfonamide groups, and the like.
The ballast group is preferably a ballast group having a substituted benzene ring, and particularly preferably a ballast group having a benzene ring substituted with a branched alkyl group.

【0135】ハロゲン化銀への吸着促進基としては、具
体的には4−チアゾリン−2−チオン、4−イミダゾリ
ン−2−チオン、2−チオヒダントイン、ローダニン、
チオバルビツール酸、テトラゾリン−5−チオン、1,
2,4−トリアゾリン−3−チオン、1,3,4−オキ
サゾリン−2−チオン、ベンズイミダゾリン−2−チオ
ン、ベンズオキサゾリン−2−チオン、ベンゾチアゾリ
ン−2−チオン、チオトリアジン、1,3−イミダゾリ
ン−2−チオンのような環状チオアミド基、鎖状チオア
ミド基、脂肪族メルカプト基、芳香族メルカプト基、ヘ
テロ環メルカプト基(−SH基が結合した炭素原子の隣
が窒素原子の場合はこれと互変異性体の関係にある環状
チオアミド基と同義であり、この基の具体例は上に列挙
したものと同じである。)、ジスルフィド結合を有する
基、ベンゾトリアゾール、トリアゾール、テトラゾー
ル、インダゾール、ベンズイミダゾール、イミダゾー
ル、ベンゾチアゾール、チアゾール、チアゾリン、ベン
ゾオキサゾール、オキサゾール、オキサゾリン、チアジ
アゾール、オキサチアゾール、トリアジン、アザインデ
ンのような窒素、酸素、硫黄及び炭素の組合せからなる
5員ないし6員の含窒素ヘテロ環基、及びベンズイミダ
ゾリニウムのような複素環四級塩などが挙げられる。こ
れらはさらに適当な置換基で置換されていてもよい。置
換基としては、例えばR1 の置換基として述べたものが
挙げられる。以下に本発明に用いられる化合物の具体例
を列記するが本発明はこれに限定されるものではない。
Specific examples of the adsorption-promoting group for silver halide include 4-thiazoline-2-thione, 4-imidazoline-2-thione, 2-thiohydantoin, rhodanine,
Thiobarbituric acid, tetrazoline-5-thione, 1,
2,4-triazoline-3-thione, 1,3,4-oxazoline-2-thione, benzimidazoline-2-thione, benzoxazoline-2-thione, benzothiazoline-2-thione, thiotriazine, 1,3- Cyclic thioamide group such as imidazoline-2-thione, chain thioamide group, aliphatic mercapto group, aromatic mercapto group, heterocyclic mercapto group (If the carbon atom next to the -SH group is a nitrogen atom, It has the same meaning as a cyclic thioamide group in a tautomeric relationship, and specific examples of this group are the same as those listed above.), A group having a disulfide bond, benzotriazole, triazole, tetrazole, indazole, benz. Imidazole, imidazole, benzothiazole, thiazole, thiazoline, benzoxazole, oki 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic group consisting of a combination of nitrogen, oxygen, sulfur and carbon, such as sol, oxazoline, thiadiazole, oxathiazole, triazine and azaindene, and heterocyclic quaternary compounds such as benzimidazolinium Examples include salt. These may be further substituted with appropriate substituents. Examples of the substituent include those mentioned as the substituent of R 1 . Specific examples of the compound used in the present invention are listed below, but the present invention is not limited thereto.

【0136】[0136]

【化62】 [Chemical formula 62]

【0137】[0137]

【化63】 [Chemical 63]

【0138】[0138]

【化64】 [Chemical 64]

【0139】[0139]

【化65】 [Chemical 65]

【0140】[0140]

【化66】 [Chemical 66]

【0141】[0141]

【化67】 [Chemical 67]

【0142】[0142]

【化68】 [Chemical 68]

【0143】[0143]

【化69】 [Chemical 69]

【0144】[0144]

【化70】 [Chemical 70]

【0145】[0145]

【化71】 [Chemical 71]

【0146】[0146]

【化72】 [Chemical 72]

【0147】[0147]

【化73】 [Chemical 73]

【0148】[0148]

【化74】 [Chemical 74]

【0149】本発明に用いられるレドックス化合物とし
ては上記のものの他に、例えば特願平2−258928
号、同2−258929号、同3−15648号に記載
されたものを用いることができる。本発明に用いられる
レドックス化合物の合成法は例えば特開昭61−21
3,847号、同62−260,153号、米国特許第
4,684,604号、特願昭63−98,803号、
米国特許第3,379,529号、同3,620,74
6号、同4,377,634号、同4,332,878
号、特開昭49−129,536号、同56−153,
336号、同56−153,342号、特願平1−29
0,563号、同2−62,337号、同2−64,7
17号などに記載されている方法が参考になる。
As the redox compound used in the present invention, in addition to those described above, for example, Japanese Patent Application No. 2-258928.
Nos. 2-258929 and 3-15648 can be used. The method for synthesizing the redox compound used in the present invention is described in, for example, JP-A-61-21.
3,847, 62-260,153, U.S. Pat. No. 4,684,604, Japanese Patent Application No. 63-98,803,
U.S. Pat. Nos. 3,379,529 and 3,620,74
No. 6, No. 4,377, 634, No. 4,332, 878
JP-A-49-129,536, 56-153,
No. 336, No. 56-153,342, Japanese Patent Application No. 1-29
0,563, 2-62,337, 2-64,7
The method described in No. 17 or the like is helpful.

【0150】本発明のレドックス化合物は、ハロゲン化
銀1モルあたり1×10-6〜5×10-2モル、より好ま
しくは1×10-5〜1×10-2モルの範囲内で用いられ
る。本発明のレドックス化合物は、適当な水混和性有機
溶媒、例えば、アルコール類(メタノール、エタノー
ル、プロパノール、フッ素化アルコール)、ケトン類
(アセトン、メチルエチルケトン)、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブなどに
溶解して用いることができる。また、既に良く知られて
いる乳化分散法によって、ジブチルフタレート、トリク
レジルフォスフェート、グリセリルトリアセテートある
いはジエチルフタレートなどのオイル、酢酸エチルやシ
クロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機械的
に乳化分散物を作成して用いることもできる。あるいは
固体分散法として知られている方法によって、レドック
ス化合物の粉末を水の中にボールミル、コロイドミル、
あるいは超音波によって分散して用いることもできる。
The redox compound of the present invention is used within the range of 1 × 10 -6 to 5 × 10 -2 mol, and more preferably 1 × 10 -5 to 1 × 10 -2 mol, per mol of silver halide. .. The redox compound of the present invention is suitable for use in a suitable water-miscible organic solvent such as alcohols (methanol, ethanol, propanol, fluorinated alcohol), ketones (acetone, methyl ethyl ketone), dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, methyl cellosolve and the like. It can be dissolved and used. Further, by a well-known emulsification and dispersion method, dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, oil such as glyceryl triacetate or diethyl phthalate, and an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone are dissolved and mechanically emulsified and dispersed. It is also possible to create and use things. Alternatively, by a method known as a solid dispersion method, the powder of the redox compound is ball milled in water, a colloid mill,
Alternatively, they can be dispersed by ultrasonic waves and used.

【0151】本発明のハロゲン化銀乳剤層に用いられる
ハロゲン化銀乳剤としては、塩化銀、塩臭化銀、沃臭化
銀、沃塩臭化銀等どの組成でもかまわない。該乳剤は、
ロジウム塩を含有することが、超硬調画像を得る点で好
ましい。ロジウム塩含量は、該ハロゲン化銀乳剤の粒子
サイズ、化学増感の方法と程度等に応じて最適の量を選
択することが望ましく、その選択のための試験の方法は
当業者のよく知るところである。通常は、好ましくはハ
ロゲン化銀1モルに対して1×10-8モルないし1×1
-4モルの範囲で用いられる。本発明に好ましく用いら
れるロジウム塩としては、例えば二塩化ロジウム、三塩
化ロジウム、ヘキサ塩化ロジウムアンモニウムなどを挙
げることができる。
The silver halide emulsion used in the silver halide emulsion layer of the present invention may have any composition such as silver chloride, silver chlorobromide, silver iodobromide and silver iodochlorobromide. The emulsion is
It is preferable to contain a rhodium salt from the viewpoint of obtaining a super-high contrast image. For the rhodium salt content, it is desirable to select an optimum amount according to the grain size of the silver halide emulsion, the method and degree of chemical sensitization, etc., and the test method for the selection is well known to those skilled in the art. is there. Usually, preferably 1 × 10 −8 mol to 1 × 1 mol per mol of silver halide.
It is used in the range of 0 -4 mol. Examples of the rhodium salt preferably used in the present invention include rhodium dichloride, rhodium trichloride, and rhodium ammonium hexachloride.

【0152】本発明に用いられるハロゲン化銀の平均粒
子サイズは微粒子(例えば0.7μ以下)の方が好まし
く、特に0.5μ以下が好ましい。粒子サイズ分布は基
本的には制限はないが、単分散である方が好ましい。こ
こでいう単分散とは重量もしくは粒子数で少なくともそ
の95%が平均粒子サイズの±40%以内の大きさを持
つ粒子群から構成されていることをいう。
The average grain size of silver halide used in the present invention is preferably fine grains (for example, 0.7 μ or less), and particularly preferably 0.5 μ or less. The particle size distribution is basically not limited, but it is preferably monodisperse. Here, the monodisperse means that at least 95% by weight or the number of particles is composed of a particle group having a size within ± 40% of the average particle size.

【0153】写真乳剤中のハロゲン化銀粒子は立方体、
八面体のような規則的(regular)な結晶形を有するもの
でもよく、また球状、板状などのような変則的(irregu
lar)な結晶を持つもの、あるいはこれらの結晶形の複合
形を持つものであってもよい。ハロゲン化銀粒子は内部
と表層が均一な相から成っていても、異なる相からなっ
ていてもよい。別々に形成した2種以上のハロゲン化銀
乳剤を混合して使用してもよい。
The silver halide grains in the photographic emulsion are cubic,
It may have a regular crystal form such as an octahedron, or an irregular shape such as a sphere or a plate.
lar) crystal or a composite form of these crystal forms. The silver halide grains may have a uniform phase in the inside and the surface layer, or may have different phases. Two or more kinds of silver halide emulsions formed separately may be mixed and used.

【0154】本発明の乳剤層又は、その他の親水性コロ
イド層に、フィルター染料として、あるいはイラジエー
ション防止その他、種々の目的で、水溶性染料を含有し
てもよい。フィルター染料としては、写真感度をさらに
低めるための染料、好ましくは、ハロゲン化銀の固有感
度域に分光吸収極大を有する紫外線吸収剤や、明室感光
材料として取り扱われる際のセーフライト光に対する安
全性を高めるための、主として350nm〜600nm
の領域に実質的に光吸収をもつ染料が用いられる。染料
のモル吸光係数により異なるが、通常10-2g/m2〜1
g/m2の範囲で添加される。好ましくは50mg〜500
mg/m2である。染料の具体例は特開昭63−64039
号に詳しく記載されているものが用いられる。上記染料
は適当な溶媒〔例えば水、アルコール(例えばメタノー
ル、エタノール、プロパノールなど)、アセトン、メチ
ルセロソルブ、など、あるいはこれらの混合溶媒〕に溶
解して本発明の非感光性の親水性コロイド層用塗布液中
に添加される。これらの染料は2種以上組合せて用いる
こともできる。本発明の染料は、明室取扱いを可能にす
るに必要な量用いられる。具体的な染料の使用量は、一
般に10-3g/m2〜1g/m2、特に10-3g/m2〜0.
5g/m2の範囲に好ましい量を見い出すことができる。
The emulsion layer of the present invention or the other hydrophilic colloid layer may contain a water-soluble dye as a filter dye or for various purposes such as prevention of irradiation. As a filter dye, a dye for further reducing photographic sensitivity, preferably an ultraviolet absorber having a spectral absorption maximum in the intrinsic sensitivity region of silver halide, and safety against safelight light when handled as a light-sensitive material in a bright room 350 nm to 600 nm for increasing the
A dye having a substantial light absorption in the region is used. It depends on the molar extinction coefficient of the dye, but usually 10 -2 g / m 2 -1
It is added in the range of g / m 2 . Preferably 50 mg to 500
It is mg / m 2 . Specific examples of dyes are described in JP-A-63-64039.
What is described in detail in the No. is used. The dye is dissolved in a suitable solvent [eg water, alcohol (eg methanol, ethanol, propanol, etc.), acetone, methyl cellosolve, etc., or a mixed solvent thereof] for the non-photosensitive hydrophilic colloid layer of the present invention. It is added to the coating solution. These dyes can be used in combination of two or more. The dye of the present invention is used in an amount necessary to enable light room handling. The specific amount of the dye used is generally 10 −3 g / m 2 to 1 g / m 2 , and particularly 10 −3 g / m 2 to 0.
A preferred amount can be found in the range of 5 g / m 2 .

【0155】写真乳剤の結合剤または保護コロイドとし
ては、ゼラチンを用いるのが有利であるが、それ以外の
親水性コロイドも用いることができる。たとえばゼラチ
ン誘導体、ゼラチンと他の高分子とのグラフトポリマ
ー、アルブミン、カゼイン等の蛋白質;ヒドロキシエチ
ルセルロース、カルボキシメチルセルロース、セルロー
ス硫酸エステル類等の如きセルロース誘導体、アルギン
酸ソーダ、澱粉誘導体などの糖誘導体、ポリビニルアル
コール、ポリビニルアルコール部分アセタール、ポリ−
N−ビニルピロリドン、ポリアクリル酸、ポリメタクリ
ル酸、ポリアクリルアミド、ポリビニルイミダゾール、
ポリビニルピラゾール等の単一あるいは共重合体の如き
多種の合成親水性高分子物質を用いることができる。ゼ
ラチンとしては石灰処理ゼラチンのほか、酸処理ゼラチ
ンを用いてもよく、ゼラチン加水分解物、ゼラチン酵素
分解物も用いることができる。
As the binder or protective colloid of the photographic emulsion, it is advantageous to use gelatin, but other hydrophilic colloids can also be used. For example, gelatin derivatives, graft polymers of gelatin and other polymers, proteins such as albumin and casein; cellulose derivatives such as hydroxyethyl cellulose, carboxymethyl cellulose and cellulose sulfates, sugar derivatives such as sodium alginate and starch derivatives, polyvinyl alcohol. , Polyvinyl alcohol partial acetal, poly-
N-vinylpyrrolidone, polyacrylic acid, polymethacrylic acid, polyacrylamide, polyvinylimidazole,
A wide variety of synthetic hydrophilic polymeric substances such as polyvinylpyrazole and other single or copolymers can be used. As the gelatin, acid-treated gelatin may be used in addition to lime-treated gelatin, and gelatin hydrolyzate and gelatin enzyme-decomposed product may also be used.

【0156】本発明の方法で用いるハロゲン化銀乳剤は
化学増感されていなくてもよいが、化学増感されていて
もよい。ハロゲン化銀乳剤の化学増感の方法として、硫
黄増感、還元増感及び貴金属増感法が知られており、こ
れらのいずれをも単独で用いても、又併用して化学増感
してもよい。貴金属増感法のうち金増感法はその代表的
なもので金化合物、主として金錯塩を用いる。金以外の
貴金属、たとえば白金、パラジウム、イリジウム等の錯
塩を含有しても差支えない。その具体例は米国特許2,
448,060号、英国特許618,061号などに記
載されている。硫黄増感剤としては、ゼラチン中に含ま
れる硫黄化合物のほか、種々の硫黄化合物、たとえばチ
オ硫酸塩、チオ尿素類、チアゾール類、ローダニン類等
を用いることができる。還元増感剤としては第一すず
塩、アミン類、ホルムアミジンスルフィン酸、シラン化
合物などを用いることができる。
The silver halide emulsion used in the method of the present invention may not be chemically sensitized, but may be chemically sensitized. As a method of chemically sensitizing a silver halide emulsion, sulfur sensitization, reduction sensitization and noble metal sensitization are known, and any of these may be used alone or in combination for chemical sensitization. Good. The gold sensitization method is a typical one of the noble metal sensitization methods, and a gold compound, mainly a gold complex salt is used. Noble metals other than gold, for example, platinum, palladium, iridium and other complex salts may be contained. A specific example is US Patent 2,
No. 448,060, British Patent No. 618,061 and the like. As the sulfur sensitizer, various sulfur compounds such as thiosulfates, thioureas, thiazoles, and rhodanines can be used in addition to the sulfur compounds contained in gelatin. As the reduction sensitizer, a primary tin salt, an amine, formamidinesulfinic acid, a silane compound or the like can be used.

【0157】本発明で用いられるハロゲン化銀乳剤層に
は、公知の分光増感色素を添加してもよい。分光増感色
素の具体例は、特願平2−123683号49頁から8
5頁、特開昭62−215272号の77頁〜124頁
に記載のものなどがあげられる。
A known spectral sensitizing dye may be added to the silver halide emulsion layer used in the present invention. Specific examples of the spectral sensitizing dye are described in Japanese Patent Application No. 2-1263683, pp. 49-8.
5 and pages 77 to 124 of JP-A-62-215272.

【0158】本発明の感光材料には、感光材料の製造工
程、保存中あるいは写真処理中のカブリを防止しあるい
は写真性能を安定化させる目的で、種々の化合物を含有
させることができる。すなわちアゾール類たとえばベン
ゾチアゾリウム塩、ニトロインダゾール類、クロロベン
ズイミダゾール類、ブロモベンズイミダゾール類、メル
カプトチアゾール類、メルカプトベンゾチアゾール類、
メルカプトチアジアゾール類、アミノトリアゾール類、
ベンゾチアゾール類、ニトロベンゾトリアゾール類、な
ど;メルカプトピリミジン類;メルカプトトリアジン
類;たとえばオキサゾリンチオンのようなチオケト化合
物;アザインデン類、たとえばトリアザインデン類、テ
トラアザインデン類(特に4−ヒドロキシ置換(1,
3,3a,7)テトラザインデン類)、ペンタアザイン
デン類など;ベンゼンチオスルフォン酸、ベンゼンスル
フィン酸、ベンゼンスルフォン酸アミド等のようなカブ
リ防止剤または安定剤として知られた多くの化合物を加
えることができる。これらのものの中で、好ましいのは
ベンゾトリアゾール類(例えば、5−メチル−ベンゾト
リアゾール)及びニトロインダゾール類(例えば5−ニ
トロインダゾール)である。また、これらの化合物を処
理液に含有させてもよい。
The light-sensitive material of the present invention may contain various compounds for the purpose of preventing fog during the manufacturing process of the light-sensitive material, during storage or during photographic processing or stabilizing photographic performance. That is, azoles such as benzothiazolium salts, nitroindazoles, chlorobenzimidazoles, bromobenzimidazoles, mercaptothiazoles, mercaptobenzothiazoles,
Mercaptothiadiazoles, aminotriazoles,
Benzothiazoles, nitrobenzotriazoles, etc .; mercaptopyrimidines; mercaptotriazines; thioketo compounds such as oxazolinethione; azaindenes, such as triazaindenes, tetraazaindenes (especially 4-hydroxy-substituted (1,
3,3a, 7) Tetrazaindenes), pentaazaindenes, etc .; Add many compounds known as antifoggants or stabilizers such as benzenethiosulfonic acid, benzenesulfinic acid, benzenesulfonic acid amide, etc. be able to. Among these, preferred are benzotriazoles (eg 5-methyl-benzotriazole) and nitroindazoles (eg 5-nitroindazole). Further, these compounds may be contained in the treatment liquid.

【0159】本発明の写真感光材料には、写真乳剤層そ
の他の親水性コロイド層に無機または有機の硬膜剤を含
有してよい。例えばクロム塩(クロムミョウバン、な
ど)、アルデヒド類、(グルタールアルデヒドなど)、
N−メチロール化合物(ジメチロール尿素、など)、ジ
オキサン誘導体、活性ビニル化合物(1,3,5−トリ
アクリロイル−ヘキサヒドロ−s−トリアジン、1,3
−ビニルスルホニル−2−プロパノールなど)、活性ハ
ロゲン化合物(2,4−ジクロル−6−ヒドロキシ−s
−トリアジンなど)、ムコハロゲン酸類、などを単独ま
たは組み合わせて用いることができる。
The photographic light-sensitive material of the present invention may contain an inorganic or organic hardener in the photographic emulsion layer and other hydrophilic colloid layers. For example, chromium salts (chrome alum, etc.), aldehydes, (glutaraldehyde, etc.),
N-methylol compounds (dimethylol urea, etc.), dioxane derivatives, active vinyl compounds (1,3,5-triacryloyl-hexahydro-s-triazine, 1,3
-Vinylsulfonyl-2-propanol, etc.), active halogen compounds (2,4-dichloro-6-hydroxy-s
-Triazine, etc.), mucohalogen acids, etc. can be used alone or in combination.

【0160】本発明に用いて作られる感光材料の写真乳
剤層または他の親水性コロイド層には塗布助剤、帯電防
止、スベリ性改良、乳化分散、接着防止及び写真特性改
良(例えば、現像促進、硬調化、増感)等種々の目的
で、種々の界面活性剤を含んでもよい。例えばサポニン
(ステロイド系)、アルキレンオキサイド誘導体(例え
ばポリエチレングリコール、ポリエチレングリコール/
ポリプロピレングリコール縮合物、ポリエチレングリコ
ールアルキルエーテル類又はポリエチレングリコールア
ルキルアリールエーテル類、ポリエチレングリコールエ
ステル類、ポリエチレングリコールソルビタンエステル
類、ポリアルキレングリコールアルキルアミン又はアミ
ド類、シリコーンのポリエチレンオキサイド付加物
類)、グリシドール誘導体(例えばアルケニルコハク酸
ポリグリセリド、アルキルフェノールポリグリセリ
ド)、多価アルコールの脂肪酸エステル類、等のアルキ
ルエステル類などの非イオン性界面活性剤;アルキルカ
ルボン酸塩、アルキルスルフォン酸塩、アルキルベンゼ
ンスルフォン酸塩、アルキルナフタレンスルフォン酸
塩、アルキル硫酸エステル類、アルキルリン酸エステル
類、N−アシル−N−アルキルタウリン類、スルホコハ
ク酸エステル類、スルホアルキルポリオキシエチレンア
ルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキ
ルリン酸エステル類などのような、カルボキシ基、スル
ホ基、ホスホ基、硫酸エステル基、リン酸エステル基等
の酸性基を含むアニオン界面活性剤;アミノ酸類、アミ
ノアルキルスルホン酸類、アミノアルキル硫酸又はリン
酸エステル類、アルキルベタイン類、アミンオキシド類
などの両性界面活性剤;アルキルアミン塩類、脂肪族あ
るいは芳香族第4級アンモニウム塩類、ピリジニウム、
イミダゾリウムなどの複素環第4級アンモニウム塩類、
及び脂肪族又は複素環を含むホスホニウム又はスルホニ
ウム塩類などのカチオン界面活性剤を用いることができ
る。又、特開昭62−215272号649頁から68
8頁に記載されている化合物等を用いることができる。
寸度安定性の為にポリアルキルアクリレートの如きポリ
マーラテックスを含有せしめることができる。
The photographic emulsion layer or other hydrophilic colloid layer of the light-sensitive material produced according to the present invention has a coating aid, an antistatic property, an improvement in slipperiness, an emulsion dispersion, an adhesion prevention and an improvement in photographic properties (for example, development acceleration). , Hardening, and sensitization), various surfactants may be included. For example, saponin (steroidal), alkylene oxide derivative (eg polyethylene glycol, polyethylene glycol /
Polypropylene glycol condensates, polyethylene glycol alkyl ethers or polyethylene glycol alkyl aryl ethers, polyethylene glycol esters, polyethylene glycol sorbitan esters, polyalkylene glycol alkylamines or amides, polyethylene oxide adducts of silicones), glycidol derivatives ( Nonionic surfactants such as alkyl esters such as alkenyl succinic acid polyglyceride, alkylphenol polyglyceride, fatty acid esters of polyhydric alcohols, etc .; alkyl carboxylates, alkyl sulfonates, alkylbenzene sulfonates, alkyls Naphthalene sulfonate, alkyl sulfates, alkyl phosphates, N-acyl-N-alk Such as taurines, sulfosuccinates, sulfoalkyl polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, polyoxyethylene alkyl phosphates, etc., such as carboxy groups, sulfo groups, phospho groups, sulfate ester groups, phosphate ester groups, etc. Anionic surfactants containing acidic groups; amphoteric surfactants such as amino acids, aminoalkyl sulfonic acids, aminoalkyl sulfates or phosphoric acid esters, alkylbetaines, amine oxides; alkylamine salts, aliphatic or aromatic primary surfactants. Quaternary ammonium salts, pyridinium,
Heterocyclic quaternary ammonium salts such as imidazolium,
And cationic surfactants such as phosphonium or sulfonium salts containing aliphatic or heterocyclic rings can be used. Also, JP-A-62-215272, pages 649 to 68
The compounds described on page 8 can be used.
Polymer latexes such as polyalkyl acrylates may be included for dimensional stability.

【0161】本発明に用いるのに適した現像促進剤ある
いは造核伝染現像の促進剤としては、特開昭53−77
616、同54−37732、同53−137,13
3、同60−140,340、同60−14959、な
どに開示されている化合物の他、N又はS原子を含む各
種の化合物が有効である。次に具体例を列挙する。
Development accelerators or accelerators for nucleating infectious development suitable for use in the present invention are described in JP-A-53-77.
616, ibid. 54-37732, ibid. 53-137, 13
In addition to the compounds disclosed in No. 3, No. 60-140, 340, No. 60-14959, etc., various compounds containing an N or S atom are effective. Next, specific examples will be listed.

【0162】[0162]

【化75】 [Chemical 75]

【0163】[0163]

【化76】 [Chemical 76]

【0164】[0164]

【化77】 [Chemical 77]

【0165】これらの促進剤は、化合物の種類によって
最適添加量が異なるが1.0×10-3〜0.5g/m2
好ましくは5.0×10-3〜0.1g/m2の範囲で用い
るのが望ましい。これらの促進剤は適当な溶媒(H
2 O)メタノールやエタノールなどのアルコール類、ア
セトン、ジメチルホルムアミド、メチルソルセルブな
ど)に溶解して塗布液に添加される。これらの添加剤を
複数の種類を併用してもよい。
The optimum addition amount of these accelerators varies depending on the kind of the compound, but 1.0 × 10 −3 to 0.5 g / m 2 ,
It is preferably used in the range of 5.0 × 10 −3 to 0.1 g / m 2 . These promoters are suitable solvents (H
2 O) It is dissolved in alcohols such as methanol and ethanol, acetone, dimethylformamide, methylsolcerve, etc.) and added to the coating solution. Plural kinds of these additives may be used in combination.

【0166】本発明のハロゲン化銀感光材料を用いて超
硬調で高感度の写真特性を得るには、従来の伝染現像液
や米国特許2、419、975号に記載されたpH13
に近い高アルカリ現像液を用いる必要はなく、安定な現
像液を用いることができる。すなわち、本発明のハロゲ
ン化銀感光材料は、促進剤としての亜硫酸イオンを0.
15モル/リットル以上含み、pH10.5〜12.
3、特にpH11.0〜12.0の現像液によって充分
に超硬調のネガ画像を得ることができる。本発明の方法
において用いうる現像主薬には特別な制限はなく、例え
ばジヒドロキシベンゼン類(例えばハイドロキノン)、
3−ピラゾリドン類(例えば1−フェニル−3−ピラゾ
リドン、4,4−ジメチル−1−フェニル−3−ピラゾ
リドン)、アミノフェノール類(例えばN−メチル−p
−アミノフェノール)などを単独あるいは組み合わせて
もちいることができる。本発明のハロゲン化銀感光材料
は特に、主現像主薬としてジヒドロキシベンゼン類を、
補助現像主薬として3−ピラゾリドン類またはアミノフ
ェノール類を含む現像液で処理されるのに適している。
好ましくはこの現像液においてジヒドロキシベンゼン類
は0.05〜0.5モル/リットル、3−ピラゾリドン
類またはアミノフェノール類は0.06モル/リットル
以下の範囲で併用される。また米国特許4269929
号に記載されているように、アミン類を現像液に添加す
ることによって現像速度を高め、現像時間の短縮化を実
現することもできる。本発明に用いる現像液としては、
特願平1−294185号に記載のアミノ化合物を用い
ることができる。現像液にはその他、アルカリ金属の亜
硫酸塩、炭酸塩、ホウ酸塩、及びリン酸塩の如きpH緩
衝剤、臭化物、沃化物、及び有機カブリ防止剤(特に好
ましくはニトロインダゾール類またはベンゾトリアゾー
ル類)の如き現像抑制剤ないし、カブリ防止剤などを含
むことができる。又必要に応じて、硬水軟化剤、溶解助
剤、色調剤、現像促進剤、界面活性剤(とくに好ましく
は前述のポリアルキレンオキサイド類)、消泡剤、硬膜
剤、フィルムの銀汚れ防止剤(例えば2−メルカプトベ
ンズイミダゾールスルホン酸類など)を含んでもよい。
定着液としては一般に用いられる組成のものを用いるこ
とができる。定着剤としてはチオ硫酸塩、チオシアン酸
塩のほか、定着剤としての効果が知られている有機硫黄
化合物を用いることができる。定着液には硬膜剤として
水溶性アルミニウム塩などを含んでもよい。
In order to obtain ultrahigh contrast and high sensitivity photographic characteristics using the silver halide light-sensitive material of the present invention, a conventional infectious developer or pH 13 described in US Pat. No. 2,419,975 is used.
It is not necessary to use a highly alkaline developing solution close to the above, and a stable developing solution can be used. That is, the silver halide light-sensitive material of the present invention contains a sulfite ion as an accelerator of 0.
15 mol / liter or more, pH 10.5-12.
3, especially with a developing solution having a pH of 11.0 to 12.0, a sufficiently high-contrast negative image can be obtained. There is no particular limitation on the developing agent that can be used in the method of the present invention, and examples thereof include dihydroxybenzenes (for example, hydroquinone),
3-pyrazolidones (eg 1-phenyl-3-pyrazolidone, 4,4-dimethyl-1-phenyl-3-pyrazolidone), aminophenols (eg N-methyl-p
-Aminophenol) or the like can be used alone or in combination. The silver halide light-sensitive material of the present invention particularly contains dihydroxybenzenes as a main developing agent,
It is suitable for processing with a developer containing 3-pyrazolidones or aminophenols as an auxiliary developing agent.
In this developer, dihydroxybenzenes are preferably used in an amount of 0.05 to 0.5 mol / liter, and 3-pyrazolidones or aminophenols are used in an amount of 0.06 mol / liter or less. US Pat. No. 4,269,929
It is also possible to increase the developing speed and shorten the developing time by adding amines to the developing solution, as described in the publication. As the developer used in the present invention,
The amino compounds described in Japanese Patent Application No. 1-294185 can be used. Other developers include pH buffers such as alkali metal sulfites, carbonates, borates, and phosphates, bromides, iodides, and organic antifoggants (particularly preferably nitroindazoles or benzotriazoles). Development inhibitor or antifoggant. Also, if necessary, a water softener, a dissolution aid, a color tone agent, a development accelerator, a surfactant (particularly preferably the above-mentioned polyalkylene oxides), an antifoaming agent, a hardener, and a silver stain preventing agent for the film. (For example, 2-mercaptobenzimidazole sulfonic acids, etc.) may be included.
As the fixer, one having a commonly used composition can be used. As the fixing agent, in addition to thiosulfates and thiocyanates, organic sulfur compounds known to be effective as a fixing agent can be used. The fixing solution may contain a water-soluble aluminum salt or the like as a hardening agent.

【0167】本発明の方法における処理温度は普通18
℃から50℃の間に選ばれる。写真処理には自動現像機
を用いるのが好ましいが、本発明の方法により、感光材
料を自動現像機に入れてから出てくるまでのトータルの
処理時間を60秒〜120秒に設定しても、充分に超硬
調のネガ階調の写真特性が得られる。本発明の現像液に
は銀汚れ防止剤として特開昭56−24,347号に記
載の化合物を用いることができる。現像液中に添加する
溶解助剤として特開昭61−267759号に記載の化
合物を用いることができる。さらに現像液に用いるpH
緩衝剤として特開昭60−93,433号に記載の化合
物あるいは特開昭62−186259に記載の化合物を
用いることができる。
The processing temperature in the method of the present invention is usually 18
It is selected between 0 ° C and 50 ° C. Although it is preferable to use an automatic processor for photographic processing, even if the total processing time from putting the light-sensitive material in the automatic developing machine until it comes out is set to 60 seconds to 120 seconds by the method of the present invention. The photographic characteristics of a super gradation of negative gradation can be obtained. The compounds described in JP-A-56-24,347 can be used in the developer of the present invention as a silver stain preventing agent. The compounds described in JP-A-61-267759 can be used as dissolution aids added to the developing solution. Furthermore, the pH used for the developer
As the buffer agent, the compounds described in JP-A-60-93,433 or the compounds described in JP-A-62-186259 can be used.

【0168】[0168]

【実施例】【Example】

実施例1 <ハロゲン化銀乳剤の作り方> 乳剤−A 0.37モルの硝酸銀水溶液と、完成乳剤の銀1モルあ
たり1.0×10-7モルに相当する(NH4)3 RhCl
6 と2×10-7モルのK3 IrCl6 、0.11モルの
臭化カリウムと0.27モルの塩化ナトリウムを含むハ
ロゲン塩水溶液を、塩化ナトリウムと、1,3−ジメチ
ル−2−イミダゾリジンチオンを含有するゼラチン水溶
液に、攪拌しながら45℃で12分間ダブルジェット法
により添加し、平均粒子サイズ0.20μm、塩化銀含
有率70モル%の塩臭化銀粒子を得ることにより核形成
を行なった。続いて同様に0.63モルの硝酸銀水溶液
と、0.19モルの臭化カリウムと、0.47モルの塩
化ナトリウムを含むハロゲン塩水溶液をダブルジェット
法により、20分間かけて添加した。その後銀1モル当
たり1×10-3モルのKI溶液を加えてコンバージョン
を行ない常法に従ってフロキュレーション法により水洗
し、ゼラチン40gを加え、pH6.5、pAg7.5
に調整し、さらに銀1モルあたりベンゼンチオスルホン
酸ナトリウム7mgおよびチオ硫酸ナトリウム5mg及び塩
化金酸8mgを加え、60℃で45分間加熱し、化学増感
処理を施し、安定剤として1,3,3a,7−テトラザ
インデン150mgおよび防腐剤としてプロキセルを加え
た。得られた粒子は平均粒子サイズ0.28μm、塩化
銀含量70モル%の塩臭化銀立方体粒子であった。(変
動係数9%)
Example 1 <Preparation of Silver Halide Emulsion> Emulsion-A 0.37 mol of silver nitrate aqueous solution and (NH 4 ) 3 RhCl corresponding to 1.0 × 10 −7 mol per 1 mol of silver in the finished emulsion.
An aqueous halogen salt solution containing 6 and 2 × 10 −7 mol of K 3 IrCl 6 , 0.11 mol of potassium bromide and 0.27 mol of sodium chloride, sodium chloride and 1,3-dimethyl-2-imidazolidinethione. Nucleation is carried out by adding a double jet method at 45 ° C. for 12 minutes to an aqueous solution of gelatin containing the above to obtain silver chlorobromide grains having an average grain size of 0.20 μm and a silver chloride content of 70 mol%. It was Then, similarly, a 0.63 mol silver nitrate aqueous solution, a 0.19 mol potassium bromide, and a 0.47 mol sodium chloride containing halogen salt aqueous solution were added by the double jet method over 20 minutes. Thereafter, 1 × 10 −3 mol of KI solution was added per mol of silver, conversion was carried out, and the product was washed with water by a flocculation method in accordance with a conventional method, 40 g of gelatin was added, pH 6.5, pAg 7.5.
The amount of sodium benzenethiosulfonate (7 mg), sodium thiosulfate (5 mg) and chloroauric acid (8 mg) were added per 1 mol of silver, and the mixture was heated at 60 ° C. for 45 minutes to be chemically sensitized. 150 mg of 3a, 7-tetrazaindene and proxel as a preservative were added. The obtained grains were cubic silver chlorobromide grains having an average grain size of 0.28 μm and a silver chloride content of 70 mol%. (Coefficient of variation 9%)

【0169】(塗布試料の作成)塩化ビニリデン共重合
体からなる下塗層(0.5μ)を有するポリエチレンテ
レフタレートフィルム(150μ)支持体上に、支持体
側から、順次に、UL、EM、PCの層構成になるよう
に、塗布し試料No.101〜111を作成した。以下に
各層の調製法及び塗布量を示す。 (UL)ゼラチン10g、ゼラチンに対して20wt%の
ポリエチルアクリレート、化合物(イ)をゼラチンに対
して2wt%を添加し、完成量250mlになるように水を
加えて調製し、ゼラチン0.5g/m2になるように塗布
した。 (EM)前記、乳剤−Aをゼラチンと共に40℃で溶解
した後、増感色素として下記化合物S−1を3.6×1
-4モル/モルAg、5−メチルベンズトリアゾール
6.5mg/m2、4−ヒドロキシ−1,3,3a,7−テ
トラザインデン1.3mg/m2、1−フェニル,5−メル
カプトテトラゾール1mg/m2、下記化合物(イ)50mg
/m2、ゼラチンに対して15wt%のポリエチルアクリレ
ート、ゼラチンに対して15wt%の下記化合物(ハ)、
ゼラチン硬化剤として、ゼラチンに対して4wt%の下記
化合物(ロ)、及び本発明の一般式(N−1)の造核剤
及び一般式(Q−1)、一般式(Q−2)の化合物を表
2に示す様に添加して、Ag3.6g/m2となるように
塗布した。
(Preparation of Coating Sample) On a polyethylene terephthalate film (150 μ) support having an undercoat layer (0.5 μ) made of a vinylidene chloride copolymer, UL, EM and PC were sequentially coated from the support side. Sample No. is applied so that it has a layered structure. 101-111 were created. The preparation method and coating amount of each layer are shown below. (UL) 10 g of gelatin, 20 wt% of polyethyl acrylate with respect to gelatin, 2 wt% of compound (a) with respect to gelatin were added, and water was added to a final amount of 250 ml to prepare 0.5 g of gelatin. It was applied so as to be / m 2 . (EM) The above emulsion-A was dissolved at 40 ° C. together with gelatin, and the following compound S-1 was used as a sensitizing dye in an amount of 3.6 × 1.
0 -4 mol / mol Ag of 5-methyl benzotriazole 6.5 mg / m 2, 4-hydroxy-1,3,3a, 7- tetrazaindene 1.3 mg / m 2, 1-phenyl-5-mercaptotetrazole 1 mg / m 2 , the following compound (a) 50 mg
/ M 2 , 15 wt% polyethyl acrylate with respect to gelatin, 15 wt% with respect to gelatin the following compound (c),
As a gelatin hardening agent, 4 wt% of the following compound (b) with respect to gelatin, and the nucleating agent of the general formula (N-1) of the present invention and the general formula (Q-1) and the general formula (Q-2) The compounds were added as shown in Table 2 and coated so as to have Ag of 3.6 g / m 2 .

【0170】[0170]

【化78】 [Chemical 78]

【0171】[0171]

【化79】 [Chemical 79]

【0172】(PC)ゼラチン溶液にポリメチルメタク
リレート分散物(平均粒子サイズ5μ)、更に次の界面
活性剤(ニ、ホ、ヘ)を添加し、ゼラチン0.5g/
m2、ポリメチルメタクリレートとして0.5g/m2とな
る様に塗布した。
Polymethylmethacrylate dispersion (average particle size 5 μm) and the following surfactants (d, h, f) were added to (PC) gelatin solution, and gelatin 0.5 g /
m 2, and was applied as a 0.5 g / m 2 as polymethylmethacrylate.

【0173】[0173]

【化80】 [Chemical 80]

【0174】またバック層は次に示す処方にて塗布し
た。 〔バック層処方〕 ゼラチン 4g/m2 マット剤 ポリメチルメタアクリレート(粒子 径3.0〜4.0μ) 10mg/m2 ラテックス ポリエチルアクリレート 2g/m2 界面活性剤 p−ドデシルベンゼンスルホン酸 ナトリウム 40mg/m2 フッ素系界面活性剤(ヘ) 5mg/m2 ゼラチン硬化剤;化合物(ロ) 110mg/m2 染料 染料〔a〕、〔b〕、〔c〕及び〔d〕の混合物 染料〔a〕 53mg/m2 染料〔b〕 14mg/m2 染料〔c〕 25mg/m2 染料〔d〕 18mg/m2
The back layer was coated according to the following formulation. [Back layer formulation] Gelatin 4 g / m 2 Matting agent Polymethylmethacrylate (particle size 3.0 to 4.0 µ) 10 mg / m 2 Latex Polyethyl acrylate 2 g / m 2 Surfactant p-Dodecylbenzenesulfonic acid sodium 40 mg / M 2 Fluorine-based surfactant (f) 5 mg / m 2 gelatin hardening agent; Compound (b) 110 mg / m 2 Dye Mixture of dyes [a], [b], [c] and [d] Dye [a] 53 mg / m 2 dye [b] 14 mg / m 2 dye [c] 25 mg / m 2 dye [d] 18 mg / m 2

【0175】[0175]

【化81】 [Chemical 81]

【0176】[0176]

【化82】 [Chemical formula 82]

【0177】[0177]

【化83】 [Chemical 83]

【0178】本実施例で用いた現像液処方を表1に示
す。
Table 1 shows the formulation of the developing solution used in this example.

【0179】[0179]

【表1】 [Table 1]

【0180】本実施例でEMに用いた造核剤種量及び一
般式(Q−1)、(Q−2)の化合物種量、これらを用
いたときの写真性の結果を表2に示す。
Table 2 shows the amount of the nucleating agent used in the EM in this example, the amount of the compound of the general formulas (Q-1) and (Q-2), and the photographic results when these were used. ..

【0181】[0181]

【表2】 [Table 2]

【0182】表2の結果から、本発明の造核剤と一般式
(Q−1)又は(Q−2)を用いると写真特性として
は、大きく変わらず、黒ポツが非常に少なく、サーモ後
も非常に少ないレベルを維持していることが分かる。一
方比較化合物a、b、cを用いた試料No.109〜11
1では、Fresh では、特に比較化合物b、cを用いたN
o.110、111が黒ポツを減らす効果がみられる
が、本発明に較べ非常に多い。本発明によれば、写真特
性を大きく変えることなく、黒ポツが少ない、写真感材
が得られる。
From the results shown in Table 2, when the nucleating agent of the present invention and the general formula (Q-1) or (Q-2) are used, the photographic characteristics are not significantly changed, black spots are very small, and after the thermostat You can see that they are maintaining a very low level. On the other hand, sample Nos. Using comparative compounds a, b, and c. 109-11
In 1, in Fresh, in particular N using comparative compounds b and c
o. Although 110 and 111 have the effect of reducing black spots, they are much larger than the present invention. According to the present invention, a photographic light-sensitive material having few black spots can be obtained without significantly changing photographic characteristics.

【0183】実施例−2 実施例−1のEMの造核剤を化合物例I−5)2.5×
10-5 mol/m2、I−20)2.5×10-7 mol/m2
変えて、UL層に、本発明の一般式(Q−1)、(Q−
2)の化合物を添加した他は、実施例−1と全く同様に
して試料を作成し、又実施例−1と同様にして、露光処
理を行った。その結果を表−3に示す。
Example-2 The nucleating agent for EM of Example-1 was used as Compound Example I-5) 2.5 ×.
10 −5 mol / m 2 , I-20) 2.5 × 10 −7 mol / m 2 and the general formula (Q-1), (Q-
A sample was prepared in the same manner as in Example-1 except that the compound of 2) was added, and an exposure treatment was carried out in the same manner as in Example-1. The results are shown in Table-3.

【0184】[0184]

【表3】 [Table 3]

【0185】表3の結果から明らかなように、本発明の
一般式(Q−1)、(Q−2)の化合物は、UL層に添
加した場合にも、黒ポツ抑止の効果があることが分か
る。
As is clear from the results shown in Table 3, the compounds of the general formulas (Q-1) and (Q-2) of the present invention have an effect of suppressing black spots even when added to the UL layer. I understand.

【0186】実施例−3 乳剤−B 前記の乳剤−Aの(NH4)3 RhCl6 を完成乳剤の銀
1モル当たり1.8×10-7に変えた他は、乳剤−Aと
全く同様にして、調製した。
Example-3 Emulsion-B Same as Emulsion-A except that (NH 4 ) 3 RhCl 6 in Emulsion-A above was changed to 1.8 × 10 −7 per mol of silver in the finished emulsion. Was prepared.

【0187】(塗布試料の作成)塩化ビニリデン共重合
体からなる下塗層(0.5μ)を有するポリエチレンテ
レフタレートフィルム(150μ)支持体上に、支持体
側から、順次に、UL、EMU、ML、EMO、PCの
層構成になるように、塗布し試料No.301〜312を
作成した。以下に各層の調製法及び塗布量を示す。 (UL)ゼラチン10g、ゼラチンに対して20wt%の
ポリエチルアクリレート、化合物(イ)をゼラチンに対
して2wt%を添加し、完成量250mlになるように水を
加えて調製し、ゼラチン0.5g/m2になるように塗布
した。 (EMU)前記、乳剤−Aをゼラチンと共に40℃で溶
解した後、増感色素として実施例−1の化合物S−1を
3.6×10-4モル/モルAg、5−メチルベンズトリ
アゾール6.5mg/m2、4−ヒドロキシ−1,3,3
a,7−テトラザインデン1.3mg/m2、1−フェニ
ル,5−メルカプトテトラゾール1mg/m2、実施例−1
の化合物(イ)50mg/m2、ゼラチンに対して15wt%
のポリエチルアクリレート、ゼラチンに対して15wt%
の実施例−1の化合物(ハ)、ゼラチン硬化剤として、
ゼラチンに対して4wt%の実施例−1の化合物(ロ)、
本発明の造核剤(I−5)3.8×10-5 mol/m2
び、本発明の一般式(Q−1)及び(Q−2)の化合物
を表4に示す様に添加して、Ag3.6g/m2となるよ
うに塗布した。 (ML)ゼラチン10g、ゼラチンに対して20wt%の
ポリエチルアクリレート、前記化合物(イ)をゼラチン
に対して2wt%を添加し、完成量250mlになるように
水を加えて調製し、ゼラチン1.0g/m2になるように
塗布した。 (EMO)前記乳剤−Bをゼラチンと共に溶解した後、
増感色素として前記化合物S−1を3.6×10-4モル
/モルAg、4−ヒドロキシ−1,3,3a,7−テト
ラザインデン1.0mg/m2、本発明の酸化されることに
より現像抑制剤を放出する化合物を表4に示すように添
加、前記化合物(イ)20mg/m2、ゼラチンに対して2
0wt%のポリエチルアクリレート、及びゼラチン硬化剤
として、ゼラチンに対して4wt%の前記化合物(ロ)を
添加して、Ag0.4g/m2、ゼラチン0.4g/m2
なる様に塗布した。 (PC)ゼラチン溶液にポリメチルメタクリレート分散
物(平均粒子サイズ5μ)、更に前記界面活性剤(ニ、
ホ、ヘ)を添加し、ゼラチン0.5g/m2、ポリメチル
メタクリレートとして0.5g/m2となる様に塗布し
た。またバック層は次に示す処方にて塗布した。 〔バック層処方〕 ゼラチン 4g/m2 マット剤 ポリメチルメタアクリレート(粒子 径3.0〜4.0μ) 10mg/m2 ラテックス ポリエチルアクリレート 2g/m2 界面活性剤 p−ドデシルベンゼンスルホン酸 ナトリウム 40mg/m2 フッ素系界面活性剤(ヘ) 5mg/m2 ゼラチン硬化剤;化合物(ロ) 110mg/m2 染料 染料〔a〕、〔b〕、〔c〕及び〔d〕の混合物 染料〔a〕 53mg/m2 染料〔b〕 14mg/m2 染料〔c〕 25mg/m2 染料〔d〕 18mg/m2 本実施例で用いている化合物(イ)〜(ヘ)及び染料
(a)〜(d)は、実施例−1で示した化合物と全く同
じ物である。
(Preparation of Coating Sample) On a polyethylene terephthalate film (150 μ) support having an undercoat layer (0.5 μ) made of a vinylidene chloride copolymer, UL, EMU, ML, in order from the support side. Sample No. was applied so as to have a layer structure of EMO and PC. Nos. 301 to 312 were created. The preparation method and coating amount of each layer are shown below. (UL) 10 g of gelatin, 20 wt% of polyethyl acrylate with respect to gelatin, 2 wt% of compound (a) with respect to gelatin were added, and water was added to a final amount of 250 ml to prepare 0.5 g of gelatin. It was applied so as to be / m 2 . (EMU) The emulsion-A was dissolved with gelatin at 40 ° C., and the compound S-1 of Example-1 was used as a sensitizing dye in an amount of 3.6 × 10 −4 mol / mol Ag, 5-methylbenztriazole 6 0.5 mg / m 2 , 4-hydroxy-1,3,3
a, 7-Tetrazaindene 1.3 mg / m 2 , 1-phenyl, 5-mercaptotetrazole 1 mg / m 2 , Example-1
Compound (a) of 50 mg / m 2 , 15 wt% with respect to gelatin
15% by weight of polyethyl acrylate and gelatin
As the compound (c) of Example-1 of Example 1 and a gelatin hardening agent,
4 wt% of the compound of Example-1 (b) based on gelatin,
The nucleating agent (I-5) of the present invention 3.8 × 10 −5 mol / m 2 and the compounds of the general formulas (Q-1) and (Q-2) of the present invention were added as shown in Table 4. Then, it was applied so as to have Ag of 3.6 g / m 2 . (ML) 10 g of gelatin, 20 wt% of polyethyl acrylate with respect to gelatin, 2 wt% of the compound (a) with respect to gelatin were added, and water was added to a final amount of 250 ml to prepare gelatin 1. It was applied so as to be 0 g / m 2 . (EMO) After dissolving the emulsion-B together with gelatin,
The compound S-1 as a sensitizing dye is 3.6 × 10 −4 mol / mol Ag, 4-hydroxy-1,3,3a, 7-tetrazaindene 1.0 mg / m 2 , which is oxidized according to the present invention. As a result, a compound releasing a development inhibitor was added as shown in Table 4, and the compound (a) was 20 mg / m 2 , and the amount was 2 with respect to gelatin.
0 wt% of polyethyl acrylate, and as a gelatin hardener, said compound of 4 wt% of (b) was added to the gelatin, Ag0.4g / m 2, was coated as a gelatin 0.4 g / m 2 .. (PC) Gelatin solution in polymethylmethacrylate dispersion (average particle size 5μ), and the surfactant (d,
E, f) is added and gelatin 0.5 g / m 2, was coated as a 0.5 g / m 2 as polymethylmethacrylate. The back layer was applied according to the following formulation. [Back layer formulation] Gelatin 4 g / m 2 matting agent Polymethylmethacrylate (particle size 3.0 to 4.0 μ) 10 mg / m 2 latex Polyethyl acrylate 2 g / m 2 Surfactant p-dodecylbenzene sulfonic acid sodium 40 mg / M 2 Fluorine-based surfactant (f) 5 mg / m 2 gelatin hardening agent; Compound (b) 110 mg / m 2 Dye Mixture of dyes [a], [b], [c] and [d] Dye [a] 53 mg / m 2 dye [b] 14 mg / m 2 dye [c] 25 mg / m 2 dye [d] 18 mg / m 2 Compounds (a) to (f) and dye (a) to (used in this example. d) is exactly the same as the compound shown in Example-1.

【0188】本実施例で用いた現像液は実施例−1と同
じである。
The developing solution used in this example is the same as that in Example-1.

【0189】性能評価は、実施例−1と同様にして行っ
た。結果を表4に示す。
Performance evaluation was performed in the same manner as in Example-1. The results are shown in Table 4.

【0190】[0190]

【表4】 [Table 4]

【0191】表4の結果から、本発明の造核剤と一般式
(Q−1)、(Q−2)の併用により、黒ポツの発生を
抑止することが出来る。又、EMO層に本発明のレドッ
クス化合物を用いた場合においても、本発明の造核剤と
一般式(Q−1)、(Q−2)とを併用することで黒ポ
ツ抑止に十分な効果があることが分かる。
From the results shown in Table 4, the use of the nucleating agent of the present invention and the general formulas (Q-1) and (Q-2) together can suppress the generation of black spots. Even when the redox compound of the present invention is used in the EMO layer, by using the nucleating agent of the present invention and the general formulas (Q-1) and (Q-2) in combination, sufficient effect for suppressing black spots can be obtained. It turns out that there is.

【0192】実施例−4 (感光性乳剤の調製)59℃に保ったゼラチン水溶液に
銀1モル当り5.0×10-6モルの(NH4)3 RHCl
6 の存在下で硝酸銀水溶液と塩化ナトリウム水溶液を同
時に混合したのち、当業界でよく知られた方法にて、可
溶性塩を除去したのちにゼラチンを加え、化学熟成せず
に安定化剤として2−メチル−4−ヒドロキシ−1,
3,3a,7−テトラザインデンを添加した。この乳剤
は平均サイズが0.15μの立方晶形をした単分散乳剤
であった。(乳剤A) 乳剤−Aの(NH4)3 RhCl6 を8.3×10-6モル
に変えた他は、乳剤Aと全く同様にして乳剤Bを調製し
た。 (塗布試料の作成)支持体;塩化ビニリデン共重合体か
らなる下塗層(0.5μ)を有するポリエチレンテレフ
タレートフィルム(150μ)。この支持体に支持体層
からUL、EMU、ML、EMO、PCの層構成になる
様に塗布した。以下に各層の調製法及び塗布量を示す。 (UL)ゼラチン3%水溶液に化合物(d)を加え、ゼ
ラチンとして0.3g/m2となるように塗布した。化合
物(d)は、10mg/m2であった。 (EMU)前記乳剤(A)を再溶解し、ヒドラジン誘導
体を含むポリマー微粒子を添加し、更に下記化合物
(a)〜(d)、及びゼラチンに対して30wt%のポリ
エチルアクリレート及び硬膜剤として、1,3−ビニル
スルホニル2−プロパノール(2wt%対ゼラチン)を加
えて調製し、Ag3.8g/m2、ゼラチン2g/m2、造
核剤I−5として7.5×10-5 mol/m2となる様に塗
布した。
Example 4 (Preparation of Photosensitive Emulsion) An aqueous gelatin solution kept at 59 ° C. contained 5.0 × 10 −6 mol of (NH 4 ) 3 RHCl per mol of silver.
After simultaneously mixing an aqueous solution of silver nitrate and an aqueous solution of sodium chloride in the presence of 6 , gelatin was added after removing soluble salts by a method well known in the art, and as a stabilizer without chemical ripening. Methyl-4-hydroxy-1,
3,3a, 7-Tetrazaindene was added. This emulsion was a cubic-shaped monodisperse emulsion having an average size of 0.15μ. (Emulsion A) Emulsion B was prepared in the same manner as emulsion A except that (NH 4 ) 3 RhCl 6 in emulsion-A was changed to 8.3 × 10 -6 mol. (Preparation of coating sample) Support; polyethylene terephthalate film (150μ) having an undercoat layer (0.5μ) made of vinylidene chloride copolymer. This support was coated from the support layer so as to have a layer structure of UL, EMU, ML, EMO, and PC. The preparation method and coating amount of each layer are shown below. The compound (d) was added to a 3% aqueous solution of (UL) gelatin, and the mixture was coated at 0.3 g / m 2 as gelatin. The amount of compound (d) was 10 mg / m 2 . (EMU) The above emulsion (A) was redissolved, polymer particles containing a hydrazine derivative were added, and further, the following compounds (a) to (d) and 30 wt% of polyethyl acrylate with respect to gelatin and a hardener were used. , 1,3-vinylsulfonyl-propanol (2 wt% to gelatin) was added to prepare, Ag3.8g / m 2, gelatin 2 g / m 2, nucleating agent I-5 as a 7.5 × 10 -5 mol It was applied so that it would be / m 2 .

【0193】[0193]

【化84】 [Chemical 84]

【0194】(ML)ゼラチン10gを前記化合物
(d)0.12%を含む水溶液に溶解し、完成量300
mlになる様に調製し、ゼラチン1.0g/m2になる様に
塗布した。 (EMO)前記乳剤(B)を再溶解し、酸化されること
により、現像抑制剤を放出しうる化合物(R−3)を
7.5×10-5モル/m2、更に前記化合物(a)0.0
3mg/m2、及びゼラチンに対して30wt%のポリエチル
アクリレート及び硬膜剤として、1,3−ビニルスルホ
ニル−2−プロパノール(2wt%対ゼラチン)を加えて
調製し、Ag0.3g/m2、ゼラチン0.4g/m2とな
るようにして塗布した。 (PC)ゼラチン溶液にマット剤として、ポリメチルメ
タクリレート粒子(平均粒径2.5μ)を添加し、更に
塗布助剤として次の界面活性剤(e)、(f)、
(g)、安定剤(h)、(i)、及び紫外線吸収剤
(j)を添加して調製し、ゼラチン1.5g/m2、マッ
ト剤0.3g/m2となる様に塗布した。
(ML) Gelatin (10 g) was dissolved in an aqueous solution containing 0.12% of the compound (d) to give a final amount of 300.
It was prepared so that the amount would be 1.0 ml / ml and gelatin was applied so as to be 1.0 g / m 2 . (EMO) The compound (R-3) capable of releasing the development inhibitor by re-dissolving the emulsion (B) and oxidizing the compound (R-3) is added in an amount of 7.5 × 10 −5 mol / m 2 , and further the compound (a). ) 0.0
3 mg / m 2 , and prepared by adding 30 wt% of polyethyl acrylate to gelatin and 1,3-vinylsulfonyl-2-propanol (2 wt% to gelatin) as a hardening agent, Ag 0.3 g / m 2 , Gelatin at 0.4 g / m 2 were applied. Polymethylmethacrylate particles (average particle size 2.5 μm) were added as a matting agent to a (PC) gelatin solution, and the following surfactants (e) and (f) were added as coating aids.
(G), stabilizer (h), (i), and ultraviolet absorber (j) were added and prepared, and gelatin was applied at 1.5 g / m 2 and matting agent at 0.3 g / m 2 . ..

【0195】[0195]

【化85】 [Chemical 85]

【0196】(造核剤を含むポリマー微粒子の調製法)
造核剤I−5 1.5g、I−30 3.0g、融点降
下剤(A−1) 1.7g、ポリ(t)ブチルアクリル
アミド6.0g、及び酢酸エチル50mlよりなる溶液を
60℃に加温した後、ゼラチン12gとドデシルベンゼ
ンスルホン酸ナトリウム0.7g、プロキセル20mgを
含む水溶液120mlに加え、高速攪拌機(ホモジナイザ
ー、日本精機製作所製)にて、微粒子乳化物を得た。こ
の乳化物を加熱減圧蒸留により酢酸エチルを除去した。
乳化物の平均粒子サイズは0.13μmであった。
(Preparation Method of Polymer Fine Particles Containing Nucleating Agent)
A solution comprising 1.5 g of nucleating agent I-5, 3.0 g of I-30, 1.7 g of melting point depressant (A-1), 6.0 g of poly (t) butyl acrylamide, and 50 ml of ethyl acetate was heated to 60 ° C. After heating, the mixture was added to 120 ml of an aqueous solution containing 12 g of gelatin, 0.7 g of sodium dodecylbenzenesulfonate and 20 mg of proxel, and a high-speed stirrer (homogenizer, manufactured by Nippon Seiki Seisakusho) was used to obtain a fine particle emulsion. Ethyl acetate was removed from this emulsion by heating under reduced pressure.
The average particle size of the emulsion was 0.13 μm.

【0197】[0197]

【化86】 [Chemical formula 86]

【0198】前記EMU層に本発明の化合物(Q−
1)、(Q−2)を表5に示す様に添加して、試料No.
401〜405を作成した。
The compound of the present invention (Q-
1) and (Q-2) were added as shown in Table 5, and sample No.
401-405 were created.

【0199】このサンプルに大日本スクリーン(株)製
明室プリンターp−607で、特開平2−293736
号公報の第1図に示すような原稿を通して画像露光し3
8℃20秒現像処理し、定着、水洗、乾燥したのち、抜
き文字画質の評価を行った。抜文字画質5とは第1図の
如き原稿を用いて50%の網点面積が返し用感光材料上
に50%の網点面積となる様な適正露光した時30μm
巾の文字が再現される画質を言い非常に良好な抜文字画
質である。一方抜文字画質1とは同様な適正露光を与え
た時150μm巾以上の文字しか再現することのできな
い画質を言い良くない抜文字品質であり、5と1の間に
官能評価で4〜2のランクを設けた。3以上が実用し得
るレベルである。結果を表3に示した。本発明のサンプ
ルは抜文字画質が優れる。
This sample was measured with a bright room printer p-607 manufactured by Dainippon Screen Co., Ltd. using the method disclosed in JP-A-2-293736.
Image exposure through a document as shown in FIG.
After development at 8 ° C. for 20 seconds, fixing, washing with water, and drying, the image quality of extracted characters was evaluated. The image quality of blank characters 5 is 30 μm when properly exposed so that a halftone dot area of 50% becomes 50% of halftone dot area on the return light-sensitive material using the original as shown in FIG.
It is the image quality with which characters with a wide width are reproduced, and it is a very good character quality with blank characters. On the other hand, the extracted character image quality 1 is an unexplained extracted character quality, which is an image quality that can reproduce only characters having a width of 150 μm or more when the same appropriate exposure is given, and is between 4 and 2 in the sensory evaluation between 5 and 1. Rank is set. A level of 3 or more is a practical level. The results are shown in Table 3. The sample of the present invention is excellent in extracted character image quality.

【0200】[0200]

【表5】 [Table 5]

【0201】表5の結果から、本発明の試料No.402
〜405では、網点品質に優れ、黒ポツが極めて少な
く、良好な写真性が得られる。
From the results of Table 5, the sample No. of the present invention was obtained. 402
At 405, the halftone dot quality is excellent, black spots are extremely small, and good photographic properties are obtained.

─────────────────────────────────────────────────────
─────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成3年9月13日[Submission date] September 13, 1991

【手続補正1】[Procedure Amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0038[Correction target item name] 0038

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0038】[0038]

【化20】 [Chemical 20]

【手続補正2】[Procedure Amendment 2]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0039[Correction target item name] 0039

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0039】[0039]

【化21】 [Chemical 21]

【手続補正3】[Procedure 3]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0047[Correction target item name] 0047

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0047】[0047]

【化29】 [Chemical 29]

【手続補正4】[Procedure amendment 4]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0063[Correction target item name] 0063

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0063】[0063]

【化31】 [Chemical 31]

【手続補正5】[Procedure Amendment 5]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0133[Name of item to be corrected] 0133

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0133】[0133]

【化61】 [Chemical formula 61]

【手続補正6】[Procedure Amendment 6]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0162[Name of item to be corrected] 0162

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0162】[0162]

【化75】 [Chemical 75]

【手続補正7】[Procedure Amendment 7]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0168[Name of item to be corrected] 0168

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0168】[0168]

【実施例】 実施例1 <ハロゲン化銀乳剤の作り方> 乳剤−A 0.37モルの硝酸銀水溶液と、完成乳剤の銀1モルあ
たり1.0×10−7モルに相当する(NHRh
Clと2×10−7モルのKIrCl、0.11
モルの臭化カリウムと0.27モルの塩化ナトリウムを
含むハロゲン塩水溶液を、塩化ナトリウムと、1,3−
ジメチル−2−イミダゾリジンチオンを含有するゼラチ
ン水溶液に、攪拌しながら45℃で12分間ダブルジェ
ット法により添加し、平均粒子サイズ0.20μm、塩
化銀含有率70モル%の塩臭化銀粒子を得ることにより
核形成を行なった。続いて同様に0.63モルの硝酸銀
水溶液と、0.19モルの臭化カリウムと、0.47モ
ルの塩化ナトリウムを含むハロゲン塩水溶液をダブルジ
ェット法により、20分間かけて添加した。その後銀1
モル当たり1×10−3モルのKI溶液を加えてコンバ
ージョンを行ない常法に従ってフロキュレーション法に
より水洗し、ゼラチン40gを加え、pH6.5、pA
g7.5に調整し、さらに銀1モルあたりベンゼンチオ
スルホン酸ナトリウム7mgおよびチオ硫酸ナトリウム
5mg及び塩化金酸8mgを加え、60℃で45分間加
熱し、化学増感処理を施し、安定剤として4−ヒドロキ
シ−6−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデン
150mgおよび防腐剤としてプロキセルを加えた。得
られた粒子は平均粒子サイズ0.28μm、塩化銀含量
70モル%の塩臭化銀立方体粒子であった。(変動係数
9%)
Example 1 <How to make a silver halide emulsion> Emulsion-A 0.37 mol of an aqueous silver nitrate solution, and 1.0 × 10 −7 mol per mol of silver of the finished emulsion (NH 4 ) 3 Rh
Cl 6 and 2 × 10 −7 mol of K 3 IrCl 6 , 0.11
An aqueous halogen salt solution containing 1 mol of potassium bromide and 0.27 mol of sodium chloride was added to
To obtain silver chlorobromide grains having an average grain size of 0.20 μm and a silver chloride content of 70 mol% by adding to a gelatin aqueous solution containing dimethyl-2-imidazolidinethione by stirring at 45 ° C. for 12 minutes by a double jet method. Nucleation was performed by. Then, similarly, a 0.63 mol silver nitrate aqueous solution, a 0.19 mol potassium bromide, and a 0.47 mol sodium chloride containing halogen salt aqueous solution were added by the double jet method over 20 minutes. Then silver 1
Conversion was carried out by adding 1 × 10 −3 mol of KI solution per mol, followed by washing with water by the flocculation method according to a conventional method, adding 40 g of gelatin, pH 6.5, pA
g 7.5, sodium benzenethiosulfonate 7 mg, sodium thiosulfate 5 mg and chloroauric acid 8 mg were added per 1 mol of silver, and the mixture was heated at 60 ° C. for 45 minutes for chemical sensitization treatment, and then added as a stabilizer. 150 mg of -hydroxy-6-methyl-1,3,3a, 7-tetrazaindene and proxel as preservative were added. The obtained grains were cubic silver chlorobromide grains having an average grain size of 0.28 μm and a silver chloride content of 70 mol%. (Coefficient of variation 9%)

【手続補正8】[Procedure Amendment 8]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0170[Correction target item name] 0170

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0170】[0170]

【化78】 [Chemical 78]

【手続補正9】[Procedure Amendment 9]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0171[Name of item to be corrected] 0171

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0171】[0171]

【化79】 [Chemical 79]

【手続補正10】[Procedure Amendment 10]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0176[Name of item to be corrected] 0176

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0176】[0176]

【化82】 [Chemical formula 82]

【手続補正11】[Procedure Amendment 11]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0181[Name of item to be corrected] 0181

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0181】[0181]

【表2】 [Table 2]

【手続補正12】[Procedure Amendment 12]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0187[Name of item to be corrected] 0187

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0187】(塗布試料の作成)塩化ビニリデン共重合
体からなる下塗層(0.5μ)を有するポリエチレンテ
レフタレートフィルム(150μ)支持体上に、支持体
側から、順次に、UL、EMU、ML、EMO、PCの
層構成になるように、塗布し試料No.301〜312
を作成した。以下に各層の調製法及び塗布量を示す。 (UL)ゼラチン10g、ゼラチンに対して20wt%
のポリエチルアクレート、化合物(イ)をゼラチンに対
して2wt%を添加し、完成量250mlになるように
水を加えて調製し、ゼラチン0.5g/mになるよう
に塗布した。 (EMU)前記、乳剤−Aをゼラチンと共に40℃で溶
解した後、増感色素として実施例−1の化合物S−1を
3.6×10−4モル/モルAg、5−メチルベンズト
リアゾール6.5mg/m、4−ヒドロキシ−6−メ
チル−1,3,3a7−テトラザインデン1.3mg/
、1−フェニル,5−メルカプトテトラゾール1m
g/m、実施例−1の化合物(イ)50mg/m
ゼラチンに対して15wt%のポリエチルアクリレー
ト、ゼラチンに対して15wt%の実施例−1の化合物
(ハ)、ゼラチン硬化剤として、ゼラチンに対して4w
t%の実施例−1の化合物(ロ)、本発明の造核剤(I
−5)3.8×10−5mol/m及び、本発明の一
般式(Q−1)及び(Q−2)の化合物を表4に示す様
に添加して、Ag3.6g/mとなるように塗布し
た。 (ML)ゼラチン10g、ゼラチンに対して20w%の
ポリエチルアクリレート、前記化合物(イ)をゼラチン
に対して2wt%を添加し、完成量250mlになるよ
うに水を加えて調製し、ゼラチン1.0g/mになる
ように塗布した。 (EMO)前記乳剤−Bをゼラチンと共に溶解した後、
増感色素として前記化合物S−1を3.6×10−4
ル/モルAg、4−ヒドロキシ−6−メチルー1,3,
3a,7−テトラザインデン1.0mg/m、本発明
の酸化されることにより現像抑制剤を放出する化合物を
表4に示すように添加、前記化合物(イ)20mg/m
、ゼラチンに対して20wt%のポリエチルアクリレ
ート、及びゼラチン硬化剤として、ゼラチンに対して4
wt%の前記化合物(ロ)を添加して、Ag0.4g/
、ゼラチン0.4g/mとなる様に塗布した。 (PC)ゼラチン溶液にポリメチルメタクリレート分散
物(平均粒子サイズ5μ)、更に前記界面活性剤(ニ、
ホ、ヘ)を添加し、ゼラチン0.5g/m、ポリメチ
ルメタクリレートとして0.5g/mとなる様に塗布
した。またバック層は次に示す処方にて塗布した。 〔バック層処方〕 ゼラチン 4g/m マット剤 ポリメチルメタアクリレート(粒子 径3.0〜4.0μ) 10mg/m ラテックス ポリエチルアクリレート 2g/m 界面活性剤 p−ドデシルベンゼンスルホン酸 ナトリウム 40mg/m フッ素系界面活性剤(ヘ) 5mg/m ゼラチン硬化剤;化合物(ロ) 110mg/m 染料 染料〔a〕、〔b〕、〔c〕及び〔d〕の混合物 染料〔a〕 53mg/m 染料〔b〕 14mg/m 染料〔c〕 25mg/m 染料〔d〕 18mg/m 本実施例で用いている化合物(イ)〜(ヘ)及び染料
(a)〜(d)は、実施例−1で示した化合物と全く同
じ物である。
(Preparation of Coating Sample) On a polyethylene terephthalate film (150 μ) support having an undercoat layer (0.5 μ) made of a vinylidene chloride copolymer, UL, EMU, ML, in order from the support side. Sample No. 1 was applied so as to have a layer structure of EMO and PC. 301 to 312
It was created. The preparation method and coating amount of each layer are shown below. (UL) Gelatin 10 g, 20 wt% with respect to gelatin
2 wt% of the polyethyl acrylate and the compound (ii) were added to gelatin, and water was added to the final amount of 250 ml to prepare gelatin, and the gelatin was applied to 0.5 g / m 2 . (EMU) The emulsion-A was dissolved at 40 ° C. together with gelatin, and then the compound S-1 of Example-1 was used as a sensitizing dye in an amount of 3.6 × 10 −4 mol / mol Ag, 5-methylbenztriazole 6 0.5 mg / m 2 , 4-hydroxy-6-methyl-1,3,3a7-tetrazaindene 1.3 mg /
m 2 , 1-phenyl, 5-mercaptotetrazole 1 m
g / m 2 , the compound (a) of Example-1 50 mg / m 2 ,
15 wt% of polyethyl acrylate to gelatin, 15 wt% of compound of Example-1 (c) to gelatin, and 4 w of gelatin as a gelatin hardening agent.
t% of the compound of Example-1 (b), the nucleating agent of the present invention (I
-5) 3.8 × 10 −5 mol / m 2 and compounds of the general formulas (Q-1) and (Q-2) of the present invention were added as shown in Table 4 to obtain Ag of 3.6 g / m 2. It was applied so as to be 2 . (ML) 10 g of gelatin, 20% by weight of polyethyl acrylate to gelatin, 2 wt% of the compound (a) to gelatin were added, and water was added to a final amount of 250 ml to prepare gelatin 1. It was applied so as to be 0 g / m 2 . (EMO) After dissolving the emulsion-B together with gelatin,
The compound S-1 was used as a sensitizing dye in an amount of 3.6 × 10 −4 mol / mol Ag, 4-hydroxy-6-methyl-1,3,3.
3a, 7-Tetrazaindene 1.0 mg / m 2 , the compound of the present invention which releases a development inhibitor upon oxidation is added as shown in Table 4, the compound (a) 20 mg / m 2
2 , 20 wt% of polyethyl acrylate to gelatin, and 4 to gelatin as a gelatin hardening agent
Add 0.4 wt% of the above compound (b)
m 2 and gelatin were applied at 0.4 g / m 2 . (PC) Gelatin solution in polymethylmethacrylate dispersion (average particle size 5μ), and the surfactant (d,
E, f) is added and gelatin 0.5 g / m 2, was coated as a 0.5 g / m 2 as polymethylmethacrylate. The back layer was applied according to the following formulation. [Back layer formulation] Gelatin 4 g / m 2 Matting agent Polymethylmethacrylate (particle diameter 3.0 to 4.0 µ) 10 mg / m 2 latex Polyethyl acrylate 2 g / m 2 Surfactant p-dodecylbenzene sulfonate sodium 40 mg / M 2 Fluorine-based surfactant (f) 5 mg / m 2 gelatin hardening agent; Compound (b) 110 mg / m 2 Dye Mixture of dyes [a], [b], [c] and [d] Dye [a] 53 mg / m 2 dye [b] 14 mg / m 2 dye [c] 25 mg / m 2 dye [d] 18 mg / m 2 Compounds (a) to (f) and dyes (a) to (used in this example. d) is exactly the same as the compound shown in Example-1.

【手続補正13】[Procedure Amendment 13]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0192[Correction target item name] 0192

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0192】実施例−4 (感光性乳剤の調製)59℃に保ったゼラチン水溶液に
銀1モル当り5.0×10−6モルの(NHRH
Clの存在下で硝酸銀水溶液と塩化ナトリウム水溶液
を同時に混合したのち、当業界でよく知られた方法に
て、可溶性塩を除去したのちにゼラチンを加え、化学熟
成せずに安定化剤として6−メチル−4−ヒドロキシ−
1,3,3a,7−テトラザインデンを添加した。この
乳剤は平均サイズが0.15μの立方晶形をした単分散
乳剤であった。(乳剤A) 乳剤−Aの(NHRhClを8.3×10−6
モルに変えた他は、乳剤Aと全く同様にして乳剤Bを調
製した。 (塗布試料の作成)支持体;塩化ビニリデン共重合体か
らなる下塗層(0.5μ)を有するポリエチレンテレフ
タレートフィルム(150μ)。この支持体に支持体層
からUL、EMU、ML、EMO、PCの層構成になる
様に塗布した。以下に各層の調製法及び塗布量を示す。 (UL)ゼラチン3%水溶液に化合物(d)を加え、ゼ
ラチンとして0.3g/mとなるように塗布した。化
合物(d)は、10mg/mであった。 (EMU)前記乳剤(A)を再溶解し、ヒドラジン誘導
体を含むポリマー微粒子を添加し、更に下記化合物
(a)〜(d)、及びゼラチンに対して30wt%のポ
リエチルアクリレート及び硬膜剤として、1,3−ビス
ビニルスルホニル2−プロパノール(2wt%対ゼラチ
ン)を加えて調製し、Ag3.8g/m、ゼラチン2
g/m、造核剤I−5として7.5×10−5mol
/mとなる様に塗布した。
Example 4 (Preparation of Photosensitive Emulsion) An aqueous gelatin solution maintained at 59 ° C. contained 5.0 × 10 −6 mol of (NH 4 ) 3 RH per mol of silver.
An aqueous solution of silver nitrate and an aqueous solution of sodium chloride were simultaneously mixed in the presence of Cl 6 , and a soluble salt was removed by a method well known in the art, and then gelatin was added to the mixture as a stabilizer without chemical ripening. -Methyl-4-hydroxy-
1,3,3a, 7-Tetrazaindene was added. This emulsion was a cubic-shaped monodisperse emulsion having an average size of 0.15μ. (Emulsion A) (NH 4 ) 3 RhCl 6 of Emulsion-A was added to 8.3 × 10 −6.
Emulsion B was prepared in exactly the same manner as Emulsion A, except that the molar amount was changed. (Preparation of coating sample) Support; polyethylene terephthalate film (150μ) having an undercoat layer (0.5μ) made of vinylidene chloride copolymer. This support was coated from the support layer so as to have a layer structure of UL, EMU, ML, EMO, and PC. The preparation method and coating amount of each layer are shown below. The compound (d) was added to a 3% aqueous solution of (UL) gelatin, and the mixture was coated at 0.3 g / m 2 as gelatin. The amount of compound (d) was 10 mg / m 2 . (EMU) The above emulsion (A) was redissolved, polymer particles containing a hydrazine derivative were added, and further the following compounds (a) to (d) and 30 wt% of polyethyl acrylate to gelatin and a hardener were added. , 1,3-bisvinylsulfonyl 2-propanol (2 wt% to gelatin) were added to prepare Ag 3.8 g / m 2 , gelatin 2.
g / m 2 , 7.5 × 10 −5 mol as nucleating agent I-5
It was applied so as to be / m 2 .

【手続補正14】[Procedure Amendment 14]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0193[Name of item to be corrected] 0193

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0193】[0193]

【化84】 [Chemical 84]

【手続補正15】[Procedure Amendment 15]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0194[Name of item to be corrected] 0194

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0194】(ML)ゼラチン10gを前記化合物
(d)0.12%を含む水溶液に溶解し、完成量300
mlになる様に調製し、ゼラチン1.0g/mになる
様に塗布した。 (EMO)前記乳剤(B)を再溶解し、酸化されること
により、現像抑制剤を放出しうる化合物(R−3)を
7.5×10−5モル/m、更に前記化合物(a)
0.03mg/m、及びゼラチンに対して30wt%
のポリエチルアクリレート及び硬膜剤として、1,3−
ビスビニルスルホニル−2−プロパノール(2wt%対
ゼラチン)を加えて調製し、Ag0.3g/m、ゼラ
チン0.4g/mとなるようにして塗布した。 (PC)ゼラチン溶液にマット剤として、ポリメチルメ
タクリレート粒子(平均粒径2.5μ)を添加し、更に
塗布助剤として次の界面活性剤(e)、(f)、
(g)、安定剤(h)、(i)、及び紫外線吸収剤
(j)を添加して調製し、ゼラチン1.5g/m、マ
ット剤0.3g/mとなる様に塗布した。
(ML) 10 g of gelatin was dissolved in an aqueous solution containing 0.12% of the compound (d) to obtain a final amount of 300
It was prepared so as to have a volume of ml, and coated so that the amount of gelatin would be 1.0 g / m 2 . (EMO) The compound (R-3) capable of releasing the development inhibitor by re-dissolving the emulsion (B) and being oxidized, is added to 7.5 × 10 −5 mol / m 2 , and further the compound (a) )
0.03 mg / m 2 , and 30 wt% with respect to gelatin
As polyethyl acrylate and hardener of 1,3-
Added bis vinylsulfonyl-2-propanol (2 wt% to gelatin) were prepared, Ag0.3g / m 2, was coated as a gelatin 0.4 g / m 2. Polymethylmethacrylate particles (average particle size 2.5 μm) were added as a matting agent to a (PC) gelatin solution, and the following surfactants (e) and (f) were added as coating aids.
(G), stabilizer (h), (i), and ultraviolet absorber (j) were added and prepared, and gelatin was applied at 1.5 g / m 2 and matting agent at 0.3 g / m 2 . ..

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 新居 一巳 神奈川県南足柄市中沼210番地 富士写真 フイルム株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Kazumi Arai 210 Nakanishuma, Minamiashigara City, Kanagawa Prefecture Fuji Photo Film Co., Ltd.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持体上に、少なくとも一つの一般式
(N−1)で表わされる造核剤を含むハロゲン化銀乳剤
層を有し、該ハロゲン化銀乳剤層及び/又はそれに隣接
するハロゲン化銀乳剤を含有しない親水性コロイド層
に、一般式(Q−1)及び(Q−2)で表わされる化合
物から選ばれる少なくとも1つの化合物を含有すること
を特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。 一般式(N−1) 【化1】 式中、R1 は脂肪族基または芳香族基を表わし、R2
水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、アミノ基、ヒドラジノ基、カルバモイル基またはオ
キシカルボニル基を表わし、G1 は−C(O)−基、−
SO2 −基、−SO−基、−P(=O)(R2 )−基、
−COCO−基、−CS−基またはイミノメチレン基を
表わし、A1 、A2 はともに水素原子あるいは一方が水
素原子で他方が置換もしくは無置換のアルキルスルホニ
ル基、または置換もしくは無置換のアリールスルホニル
基、または、置換もしくは無置換のアシル基を表わす。 一般式(Q−1) 【化2】 式中、Rは脂肪族基、芳香族基または、複素環基を表わ
し、Zは含窒素複素環芳香族環を形成するのに必要な原
子群を表わす。 一般式(Q−2) 【化3】 式中Rは、芳香族基を表わし、Bはフェニル基、又はナ
フチル基を表わす。
1. A support having a silver halide emulsion layer containing at least one nucleating agent represented by the general formula (N-1), the silver halide emulsion layer and / or a halogen adjacent thereto. A silver halide photographic light-sensitive material characterized in that a hydrophilic colloid layer containing no silver halide emulsion contains at least one compound selected from compounds represented by formulas (Q-1) and (Q-2). .. General formula (N-1): In the formula, R 1 represents an aliphatic group or an aromatic group, R 2 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group, a hydrazino group, a carbamoyl group or an oxycarbonyl group, and G 1 represents -C (O)-group,-
SO 2 - group, -SO- group, -P (= O) (R 2) - group,
Represents a —COCO— group, a —CS— group or an iminomethylene group, and A 1 and A 2 are both hydrogen atoms or one is a hydrogen atom and the other is a substituted or unsubstituted alkylsulfonyl group, or a substituted or unsubstituted arylsulfonyl group Represents a group or a substituted or unsubstituted acyl group. General formula (Q-1) In the formula, R represents an aliphatic group, an aromatic group, or a heterocyclic group, and Z represents an atomic group necessary for forming a nitrogen-containing heterocyclic aromatic ring. General formula (Q-2): In the formula, R represents an aromatic group, and B represents a phenyl group or a naphthyl group.
【請求項2】 支持体上に、第1のハロゲン化銀乳剤
層、親水性コロイド層、第2のハロゲン化銀乳剤
層、保護層を〜の順に順次塗設してなるハロゲン
化銀写真感光材料において、又はに、下記一般式
(N−1)で表わされる造核剤を含み、造核剤を含まな
い方のハロゲン化銀乳剤層に、下記一般式(R−1)、
一般式(R−2)及び一般式(R−3)で表わされる酸
化されることにより現像抑制剤を放出しうるレドックス
化合物の少なくとも一つを含み、造核剤を含むハロゲン
化銀乳剤層及び/又は、それに隣接するハロゲン化銀乳
剤を含まない親水性コロイド層に、一般式(Q−1)及
び一般式(Q−2)で表わされる化合物の少なくとも一
つを含有することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材
料。 一般式(N−1) 【化4】 式中、R1 は脂肪族基または芳香族基を表わし、R2
水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、アミノ基、ヒドラジノ基、カルバモイル基またはオ
キシカルボニル基を表わし、G1 は−C(O)−基、−
SO2 −基、−SO−基、−P(=O)(R2 )−基、
−COCO−基、−CS−基またはイミノメチレン基を
表わし、A1 、A2 はともに水素原子あるいは一方が水
素原子で他方が置換もしくは無置換のアルキルスルホニ
ル基、または置換もしくは無置換のアリールスルホニル
基、または、置換もしくは無置換のアシル基を表わす。 一般式(Q−1) 【化5】 式中、Rは脂肪族基、芳香族基または、複素環基を表わ
し、Zは含窒素複素環芳香族環を形成するのに必要な原
子群を表わす。 一般式(Q−2) 【化6】 式中Rは、芳香族基を表わし、Bはフェニル基、又はナ
フチル基を表わす。 【化7】 これらの式中R1 は脂肪族基または芳香族基を表わす。
1 は−CO−基、−COCO−基、−CS−基、−C
(=NG2 2 )−基、−SO−基、−SO2−基また
は−P(O)(G2 2 )−基を表わす。G2 は単なる
結合手、−O−基、−S−基または−N(R2 )−基を
表わし、R2 はR1 と同定義の基または水素原子を表わ
し、分子内に複数のR2 が存在する場合それらは同じで
あっても異なっても良い。A1 、A2 は水素原子、アル
キルスルホニル基、アリールスルホニル基またはアシル
基を表わし置換されていても良い。一般式(R−1)で
はA1 、A2 の少なくとも一方は水素原子である。A3
はA1 と同義または−CH2 CH(A4 )−(Tim
e)t −PUGを表わす。A4 はニトロ基、シアノ基、
カルボキシル基、スルホニル基または−G1 −G2 −R
1 (この場合、分子内の2つの−G1−G2 −R1 は同
じであっても異なっても良い。)を表わす。Timeは
二価の連結基を表わし、tは0または1を表わす。PU
Gは、現像液に流出した際、現像液成分と反応して抑制
性の少ない化合物に変化し得る現像抑制剤を表わす。
2. A silver halide photographic light-sensitive material comprising a support, a first silver halide emulsion layer, a hydrophilic colloid layer, a second silver halide emulsion layer, and a protective layer, which are sequentially coated in this order. In the material, or in the silver halide emulsion layer containing the nucleating agent represented by the following general formula (N-1) and not containing the nucleating agent, the following general formula (R-1),
A silver halide emulsion layer containing at least one redox compound represented by the general formula (R-2) and the general formula (R-3) capable of releasing a development inhibitor by being oxidized and containing a nucleating agent; And / or a hydrophilic colloid layer containing no silver halide emulsion adjacent thereto containing at least one of the compounds represented by the general formula (Q-1) and the general formula (Q-2). Silver halide photographic light-sensitive material. General formula (N-1): In the formula, R 1 represents an aliphatic group or an aromatic group, R 2 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group, a hydrazino group, a carbamoyl group or an oxycarbonyl group, and G 1 represents -C (O)-group,-
SO 2 - group, -SO- group, -P (= O) (R 2) - group,
Represents a —COCO— group, a —CS— group or an iminomethylene group, and A 1 and A 2 are both hydrogen atoms or one is a hydrogen atom and the other is a substituted or unsubstituted alkylsulfonyl group, or a substituted or unsubstituted arylsulfonyl group Represents a group or a substituted or unsubstituted acyl group. General formula (Q-1): In the formula, R represents an aliphatic group, an aromatic group or a heterocyclic group, and Z represents an atomic group necessary for forming a nitrogen-containing heterocyclic aromatic ring. General formula (Q-2): In the formula, R represents an aromatic group, and B represents a phenyl group or a naphthyl group. [Chemical 7] In these formulas, R 1 represents an aliphatic group or an aromatic group.
G 1 is -CO- group, -COCO- group, -CS- group, -C
(= NG 2 R 2) - represents the group - group, -SO- group, -SO 2 - group or -P (O) (G 2 R 2). G 2 represents a mere bond, —O— group, —S— group or —N (R 2 ) — group, R 2 represents a group having the same definition as R 1 or a hydrogen atom, and a plurality of R's are present in the molecule. If two are present they may be the same or different. A 1 and A 2 represent a hydrogen atom, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group or an acyl group, and may be substituted. In the general formula (R-1), at least one of A 1 and A 2 is a hydrogen atom. A 3
Is synonymous with A 1 or —CH 2 CH (A 4 ) — (Tim
e) represents t- PUG. A 4 is a nitro group, a cyano group,
Carboxyl group, a sulfonyl group or -G 1 -G 2 -R
1 (in this case, two -G 1 -G 2 -R 1 in the molecule may be the same or different). Time represents a divalent linking group, and t represents 0 or 1. PU
G represents a development inhibitor capable of reacting with the components of the developer and converting into a compound having less inhibitory properties when flowing out to the developer.
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