JPH0532765A - Epoxy resin composition and production of laminate - Google Patents

Epoxy resin composition and production of laminate

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JPH0532765A
JPH0532765A JP18754991A JP18754991A JPH0532765A JP H0532765 A JPH0532765 A JP H0532765A JP 18754991 A JP18754991 A JP 18754991A JP 18754991 A JP18754991 A JP 18754991A JP H0532765 A JPH0532765 A JP H0532765A
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JP
Japan
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compound
epoxy resin
acid
oxazoline
resin composition
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Pending
Application number
JP18754991A
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Japanese (ja)
Inventor
Hisafumi Sekiguchi
尚史 関口
Riichi Otake
利一 大竹
Yoshinori Shimane
義憲 島根
Munekazu Hayashi
宗和 林
Satoshi Demura
智 出村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
DIC Corp
Original Assignee
Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd
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Publication date
Application filed by Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd filed Critical Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0313Organic insulating material
    • H05K1/032Organic insulating material consisting of one material
    • H05K1/0326Organic insulating material consisting of one material containing O

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  • Epoxy Resins (AREA)
  • Reinforced Plastic Materials (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

PURPOSE:To provide a curable unsaturated resin composition giving fibrous substrates having excellent interlaminar separation strength. CONSTITUTION:The epoxy resin composition comprises a bisphenol type epoxy resin, a tetrabromobisphenol A type epoxy resin, hexahydrophthalic anhydride, a compound having an esteramide group and a methacryloyl group and produced by reacting 2,2-m-phenylene bis(2-oxazole) with methacrylic acid, and styrene. Glass fiber substrates are impregnated with the epoxy resin composition, piled up each other and subsequently thermally cured to form a laminate, which is improved in the interlaminar separation strength, chemical resistance and soldering resistance.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、繊維質基材の層間剥離
強度、耐薬品性に優れる積層板の製法とこれに用いると
好適なエポキシ樹脂組成物に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a process for producing a laminate having excellent fibrous base material delamination strength and chemical resistance, and an epoxy resin composition suitable for use in the process.

【0002】[0002]

【従来の技術】プリント回路用基板として使用されるガ
ラスエポキシ樹脂系積層板は、Bステージ化されたプリ
プレグを経た後、加熱加圧成形により製造されており、
エポキシ樹脂硬化剤として耐熱性、電気的特性等に優れ
る多塩基酸無水物が使用されることが知られている。
2. Description of the Related Art A glass epoxy resin-based laminate used as a printed circuit board is manufactured by heating and pressurizing after passing through a B-staged prepreg.
It is known that a polybasic acid anhydride having excellent heat resistance and electrical characteristics is used as an epoxy resin curing agent.

【0003】上記の加熱加圧成形には長時間を要し、生
産性に問題があるため、エポキシ樹脂とエポキシ樹脂用
硬化剤に、エチレン性不飽和二重結合を有する樹脂と重
合開始剤を加えて成形性を向上させたプリプレグの製造
方法が提案されている(特開昭62−285929号公
報)。
Since the above heat and pressure molding requires a long time and there is a problem in productivity, a resin having an ethylenically unsaturated double bond and a polymerization initiator are added to the epoxy resin and the curing agent for the epoxy resin. In addition, a method for producing a prepreg with improved moldability has been proposed (Japanese Patent Laid-Open No. 62-285929).

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
方法では、得られるプリプレグの硬化性は速いものの、
最終硬化物の積層板の物性としては、層間剥離強度、耐
薬品性が十分でないという課題を有している。
However, although the prepreg obtained in the above method has a high curability,
Regarding the physical properties of the laminate of the final cured product, there is a problem that the delamination strength and chemical resistance are not sufficient.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明者らはこの様な状
況を鑑みて鋭意研究した結果、エステルアミド基とエチ
レン性不飽和二重結合を有する化合物(C)を含有する
エポキシ樹脂組成物を用いることによって、層間剥離強
度に優れ、かつ耐薬品性に優れる積層板が得られること
を見い出し、本発明を完成するに至った。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies conducted by the present inventors in view of such circumstances, as a result, an epoxy resin composition containing an esteramide group and a compound (C) having an ethylenically unsaturated double bond. It was found that a laminate having excellent delamination strength and excellent chemical resistance can be obtained by using, and the present invention has been completed.

【0006】すなわち、本発明は、エポキシ樹脂(A)
と、多塩基酸無水物(B)と、エステルアミド基とエチ
レン性不飽和二重結合を有する化合物(C)とを含有す
ることを特徴とするエポキシ樹脂組成物(I)及びエポ
キシ樹脂(A)と、多塩基酸無水物(B)と、エステル
アミド基とエチレン性不飽和二重結合を有する化合物
(C)とを含有するエポキシ樹脂組成物(I)を繊維質
基材(II)に含浸させ、硬化させることを特徴とする
積層板の製法を提供するものである。
That is, the present invention is based on the epoxy resin (A).
And a polybasic acid anhydride (B) and a compound (C) having an ester amide group and an ethylenically unsaturated double bond, and an epoxy resin composition (I) and an epoxy resin (A ), A polybasic acid anhydride (B), and a compound (C) having an ester amide group and an ethylenically unsaturated double bond as a fibrous base material (II). It is intended to provide a method for producing a laminated plate, which is characterized by being impregnated and cured.

【0007】本発明で用いるエポキシ樹脂組成物(I)
としては、エポキシ樹脂(A)と多塩基酸無水物(B)
とエステルアミド基とエチレン性不飽和二重結合を有す
る化合物(C)とを必須成分として、通常重合開始剤
を、更に必要に応じて他の硬化剤、他の樹脂、重合性ビ
ニルモノマー、その他の溶剤、充填剤、硬化促進剤、添
加剤等を含有してなる液状の組成物が挙げられる。
Epoxy resin composition (I) used in the present invention
As the epoxy resin (A) and polybasic acid anhydride (B)
And a compound (C) having an ester amide group and an ethylenically unsaturated double bond as essential components, usually a polymerization initiator, and if necessary, other curing agent, other resin, polymerizable vinyl monomer, etc. A liquid composition containing the solvent, the filler, the curing accelerator, the additive and the like.

【0008】ここで用いるエポキシ樹脂(A)として
は、例えばエピクロルヒドリン又はβ−メチルエピクロ
ルヒドリンとビスフェノールA、テトラブロモビスフェ
ノ−ルA、ビスフェノールF又はビスフェノールSとか
ら得られるエポキシ樹脂;フェノールまたはアルキルフ
ェノール・ノボラック樹脂のポリグリシジルエーテル
類;エチレングリコール、プロピレングリコール、ポリ
エチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ネオ
ペンチルグリコール、グリセリン、トリメチロールエタ
ン、トリメチロールプロパン又はビスフェノールAのエ
チレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイド付加物
の如き多価アルコールのポリグリシジルエーテル類;ア
ジピン酸、フタル酸、ヘキサヒドロフタル酸又はダイマ
ー酸の如きポリカルボン酸のポリグリシジルエステル
類;シクロヘキセンまたはその誘導体を過酢酸などでエ
ポキシ化させることにより得られるシクロヘキセン系の
エポキシ化合物類(3,4−エポキシ−6−メチル−シ
クロヘキシル−3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘ
キサンカルボキシレート、3,4−エポキシシクロヘキ
シルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキ
シレート、1−エポキシエチル−3,4−エポキシシク
ロヘキサンなど)、シクロペンタジエンもしくはジシク
ロペンタジエン又はそれらの誘導体を過酢酸などでエポ
キシ化させることにより得られるシクロペンタジエン系
のエポキシ化合物類(シクロペンタジエンオキサイド、
ジシクロペンタジエンオキサイド、2,3−エポキシシ
クロペンチルエーテルなど)、リモネンジオキサイドあ
るいはテトラブロモビスフェノールAのジグリシジルエ
ーテルまたはヒドロキシ安息香酸のグリシジルエーテル
エステルなどが挙げられるが、なかでもそれ自体単独で
平均エポキシ当量が100〜400なる範囲内にあるも
の、あるいは二種またはそれ以上の混合物の形でこの範
囲のエポキシ当量となるように適宜組み合わされたもの
であって、かつ常温で無溶剤液状のものが好ましい。
The epoxy resin (A) used here is, for example, an epoxy resin obtained from epichlorohydrin or β-methylepichlorohydrin and bisphenol A, tetrabromobisphenol A, bisphenol F or bisphenol S; phenol or alkylphenol novolac. Resin polyglycidyl ethers; polyglycols of ethylene glycol, propylene glycol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, neopentyl glycol, glycerin, trimethylolethane, trimethylolpropane or polyhydric alcohols such as ethylene oxide or propylene oxide adduct of bisphenol A Glycidyl ethers; polycarbohydrates such as adipic acid, phthalic acid, hexahydrophthalic acid or dimer acid Polyglycidyl esters of acids; cyclohexene-based epoxy compounds (3,4-epoxy-6-methyl-cyclohexyl-3,4-epoxy-6-) obtained by epoxidizing cyclohexene or a derivative thereof with peracetic acid and the like. Methylcyclohexanecarboxylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, 1-epoxyethyl-3,4-epoxycyclohexane, etc.), cyclopentadiene or dicyclopentadiene or their derivatives, and peracetic acid, etc. Cyclopentadiene-based epoxy compounds (cyclopentadiene oxide, obtained by epoxidation with
Dicyclopentadiene oxide, 2,3-epoxycyclopentyl ether, etc.), limonenedioxide, diglycidyl ether of tetrabromobisphenol A, glycidyl ether ester of hydroxybenzoic acid, etc., but among them, average epoxy equivalent by itself. Is preferably in the range of 100 to 400, or a mixture of two or more kinds appropriately combined to have an epoxy equivalent of this range, and a solvent-free liquid form at room temperature. .

【0009】本発明で用いる多塩基酸無水物(B)とし
ては、例えば無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル
酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無
水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水ナ
ジック酸、無水メチルナジック酸、無水トリメリット
酸、無水ピロメリット酸、無水マレイン酸、無水コハク
酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸、ドデセニル無
水コハク酸、無水クロレンディック酸、無水ベンゾフェ
ノンテトラカルボン酸、無水シクロペンタテトラカルボ
ン酸、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロフリル)−
3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン
酸、エチレングリコールビストリメリテート無水物又は
グリセリントリメリテート無水物などが挙げられるが、
これらは単独で、あるいは二種以上の混合の形で用いら
れる。なかでもメチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチ
ルテトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジックナジ
ック酸等の液状の2価カルボン酸無水物が好ましく、特
に貯蔵安定性の優れたエポキシ樹脂組成物が得られるメ
チルヘキサヒドロ無水フタル酸が最も好ましい。必要に
応じて多塩基酸無水物(B)にそれ以外のエポキシ樹脂
硬化剤を併用してもよい。
Examples of the polybasic acid anhydride (B) used in the present invention include phthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, nadic acid anhydride, Methyl nadic acid anhydride, trimellitic acid anhydride, pyromellitic acid anhydride, maleic acid anhydride, succinic acid anhydride, itaconic acid anhydride, citraconic acid anhydride, dodecenyl succinic acid anhydride, chlorendic acid anhydride, benzophenone tetracarboxylic acid anhydride, cycloanhydride Pentatetracarboxylic acid, 5- (2,5-dioxotetrahydrofuryl)-
3-methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid, ethylene glycol bis trimellitate anhydride, glycerin trimellitate anhydride and the like can be mentioned.
These may be used alone or in the form of a mixture of two or more. Among them, liquid divalent carboxylic acid anhydrides such as methylhexahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, and methylnadic nadic acid anhydride are preferable, and an epoxy resin composition having particularly excellent storage stability can be obtained. Phthalic anhydride is most preferred. If necessary, the polybasic acid anhydride (B) may be used in combination with other epoxy resin curing agents.

【0010】本発明の組成物の特徴は、上記エポキシ樹
脂(A)と多塩基酸無水物(B)を必須成分とする組成
物にエステルアミド基とエチレン性不飽和二重結合を有
する化合物が含有されていることにある。
The composition of the present invention is characterized in that a compound having an ester amide group and an ethylenically unsaturated double bond is added to the composition containing the epoxy resin (A) and the polybasic acid anhydride (B) as essential components. It is contained.

【0011】本発明のエステルアミド基とエチレン性不
飽和二重結合を有する化合物(C)としては、一分子中
にエステルアミド基とエチレン性不飽和二重結合とを有
しているものがいずれも使用できる〔以下、単に化合物
(C)という。〕。
As the compound (C) having an esteramide group and an ethylenically unsaturated double bond of the present invention, any one having an esteramide group and an ethylenically unsaturated double bond in one molecule is preferable. Can also be used [hereinafter, simply referred to as compound (C). ].

【0012】この化合物(C)は、例えばオキサゾリ
ン環を1個以上有する化合物と不飽和一塩基酸を反応さ
せる方法、オキサゾリン環を少なくとも2個有する化
合物と多価フェノ−ル類化合物から、末端にオキサゾリ
ン環を有する付加体を得、次いで不飽和一塩基酸を反応
させる方法、オキサゾリン環を少なくとも2個有する
化合物と多塩基酸から、末端にオキサゾリン環を有する
付加体を得、次いで不飽和一塩基酸を反応させる方法、
等により得られる。これらの方法の内及びの方法
は、高分子量の前記化合物を得るの有効な方法である。
This compound (C) can be obtained, for example, by reacting a compound having one or more oxazoline rings with an unsaturated monobasic acid, or from a compound having at least two oxazoline rings and a polyvalent phenol compound to the terminal. Method of obtaining an adduct having an oxazoline ring and then reacting with an unsaturated monobasic acid, obtaining an adduct having an oxazoline ring at the end from a compound having at least two oxazoline rings and a polybasic acid, and then unsaturated monobasic A method of reacting an acid,
Etc. Of these methods and methods are effective methods for obtaining the above-mentioned compound having a high molecular weight.

【0013】オキサゾリン環を1個有する化合物として
は、2−ビニル−2−オキサゾリン、2−ビニル−4−
メチル−2−オキサゾリン、2−ビニル−5−メチル−
2−オキサゾリン、2−ビニル−4−エチル−2−オキ
サゾリン、2−ビニル−5−エチル−2−オキサゾリ
ン、2−イソプロペニル−2−オキサゾリン、2−イソ
プロペニル−4−メチル−2−オキサゾリン、2−イソ
プロペニル−5−メチル−2−オキサゾリン、2−イソ
プロペニル−4−エチル−2−オキサゾリン、2−イソ
プロペニル−5−メチル−2−オキサゾリン、2−イソ
プロペニル−4、5−ジメチル−2−オキサゾリン等が
挙げられる。
The compounds having one oxazoline ring include 2-vinyl-2-oxazoline and 2-vinyl-4-.
Methyl-2-oxazoline, 2-vinyl-5-methyl-
2-oxazoline, 2-vinyl-4-ethyl-2-oxazoline, 2-vinyl-5-ethyl-2-oxazoline, 2-isopropenyl-2-oxazoline, 2-isopropenyl-4-methyl-2-oxazoline, 2-isopropenyl-5-methyl-2-oxazoline, 2-isopropenyl-4-ethyl-2-oxazoline, 2-isopropenyl-5-methyl-2-oxazoline, 2-isopropenyl-4,5-dimethyl- 2-oxazoline etc. are mentioned.

【0014】また、オキサゾリン環を少なくとも2個有
する化合物としては、例えば、2,2' −o−フェニレ
ンビス(2−オキサゾリン)、2,2'−m−フェニレ
ンビス(2−オキサゾリン)、2,2' −p−フェニレ
ンビス(2−オキサゾリン)、2,2' −p−フェニレ
ンビス(4−メチル−2−オキサゾリン)、2,2'−
p−フェニレンビス(4,4−ジメチル−2−オキサゾ
リン)、2,2' −m−フェニレンビス(4−メチル−
2−オキサゾリン)、2,2' −m−フェニレンビス
(4,4−ジメチル−2−オキサゾリン)、2,2' −
(1,2−エチレン)−ビス(2−オキサゾリン)、
2,2' −(1,4−ブチレン)−ビス(2−オキサゾ
リン)等が挙げられる。
The compound having at least two oxazoline rings is, for example, 2,2'-o-phenylenebis (2-oxazoline), 2,2'-m-phenylenebis (2-oxazoline), 2, 2'-p-phenylenebis (2-oxazoline), 2,2'-p-phenylenebis (4-methyl-2-oxazoline), 2,2'-
p-phenylene bis (4,4-dimethyl-2-oxazoline), 2,2′-m-phenylene bis (4-methyl-)
2-oxazoline), 2,2'-m-phenylenebis (4,4-dimethyl-2-oxazoline), 2,2'-
(1,2-ethylene) -bis (2-oxazoline),
2,2 '-(1,4-butylene) -bis (2-oxazoline) and the like can be mentioned.

【0015】また、本発明に係る化合物(C)を得るた
めにオキサゾリン環を1個以上有する化合物と共に用い
られる不飽和一塩基酸として代表的なものには、アクリ
ル酸、メタクリル酸、桂皮酸、クロトン酸、モノメチル
マレート、モノプロピルマレート、モノブチルマレー
ト、ソルビン酸又はモノ(2−エチルヘキシル)マレー
トなどがあるが、これらは単独でも二種以上の混合にお
いても用いることができる。この際、オキサザリン環を
1個以上有する化合物と不飽和一塩基酸は、触媒が存在
しなくとも50〜200℃の温度範囲で反応しエステル
アミド基を生成する。通常、オキサゾリン環を1個以上
有する化合物と不飽和一塩基酸の反応割合は、オキサゾ
リン環1個に対し不飽和一塩基酸のカルボキシル基0.
5〜2.5個であるが、好ましくは、オキサゾリン環1
個に対し不飽和一塩基酸のカルボキシル基2.0個であ
る。
Typical unsaturated monobasic acids used together with the compound having one or more oxazoline rings to obtain the compound (C) according to the present invention include acrylic acid, methacrylic acid, cinnamic acid, There are crotonic acid, monomethylmalate, monopropylmalate, monobutylmalate, sorbic acid or mono (2-ethylhexyl) malate, and these can be used alone or in a mixture of two or more kinds. At this time, the compound having one or more oxazaline rings and the unsaturated monobasic acid react with each other in the temperature range of 50 to 200 ° C. to form an ester amide group even in the absence of a catalyst. Usually, the reaction ratio of the compound having one or more oxazoline rings and the unsaturated monobasic acid is such that the carboxyl group of the unsaturated monobasic acid is 0.
5 to 2.5, preferably 1 oxazoline ring
The number of unsaturated monobasic acid carboxyl groups is 2.0.

【0016】また、本発明に係る化合物(C)を得るた
めにオキサゾリン環を少なくとも2個有する化合物と共
に用いられる多価フェノ−ル類化合物として代表的なも
のには、カテコ−ル、レゾルシン、ハイドロキノン、ビ
スフェノールA、ビスフェノールF、ブロム化ビスフェ
ノールA、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボ
ラック樹脂、ビスフェノールAノボラック樹脂等が挙げ
られる。オキサゾリン環を少なくとも2個有する化合物
と多価フェノ−ル類化合物の反応は、特に触媒が存在し
なくとも50〜200℃の温度範囲で、且つ多価フェノ
−ル類化合物の水酸基に対しオキサゾリン環が過剰の状
態で反応させ、エステルアミド基を生成させる。好まし
くはオキサゾリン環を少なくとも2個有する化合物と多
価フェノ−ル類化合物の使用割合は、オキサゾリン環2
個に対し多価フェノ−ル類化合物の水酸基1個の割合で
ある。こうして得られたオキサゾリン環を少なくとも2
個有する化合物と多価フェノ−ル類化合物の反応物を、
更に不飽和一塩基酸と触媒なしで50〜200℃の温度
範囲で反応させエステルアミド基とエチレン性不飽和二
重結合を有する化合物を生成させる。その際、オキサゾ
リン環を少なくとも2個有する化合物と多価フェノ−ル
類化合物の反応物と不飽和一塩基酸の使用割合は、オキ
サゾリン環1個に対し不飽和一塩基酸のカルボキシル基
0.5〜2.5個であるが、好ましくは、オキサゾリン
環1個に対し不飽和一塩基酸のカルボキシル基2.0個
である。
Typical examples of the polyvalent phenol compounds used together with the compound having at least two oxazoline rings to obtain the compound (C) according to the present invention include catechol, resorcinol and hydroquinone. , Bisphenol A, bisphenol F, brominated bisphenol A, phenol novolac resin, cresol novolac resin, bisphenol A novolac resin and the like. The reaction between the compound having at least two oxazoline rings and the polyvalent phenol compound is carried out in the temperature range of 50 to 200 ° C. even in the absence of a catalyst, and the oxazoline ring is added to the hydroxyl group of the polyvalent phenol compound. React in an excess state to form an ester amide group. Preferably, the ratio of the compound having at least two oxazoline rings and the polyvalent phenol compound used is 2
It is the ratio of one hydroxyl group of the polyvalent phenol compound to the number. At least 2 oxazoline rings thus obtained
A reaction product of a compound having an individual and a polyvalent phenol compound,
Further, it is reacted with an unsaturated monobasic acid in the temperature range of 50 to 200 ° C. without a catalyst to form a compound having an esteramide group and an ethylenically unsaturated double bond. In that case, the ratio of the reaction product of the compound having at least two oxazoline rings and the polyvalent phenol compound and the unsaturated monobasic acid is such that the carboxyl group of the unsaturated monobasic acid is 0.5 per one oxazoline ring. However, the number of carboxyl groups of unsaturated monobasic acid is 2.0 per one oxazoline ring.

【0017】更に、本発明に係る化合物(C)を得るた
めにオキサゾリン環を少なくとも2個有する化合物と共
に用いられる多塩基酸として代表的なものには、フマー
ル酸、アジピン酸、セバシン酸、ダイマー酸、イソフタ
ル酸、テレフタル酸、トリメリット酸、ピロメリット酸
等の多塩基酸、及び上記の多塩基酸無水物(B)の水和
物等が挙げられ、これらは単独あるいは二種以上混合し
て用いる。オキサゾリン環を少なくとも2個有する化合
物と上記多塩基酸の反応は、特に触媒が存在しなくとも
50〜200℃の温度範囲で、且つ多塩基酸のカルボキ
シル基に対しオキサゾリン環が過剰の状態で反応させ、
エステルアミド基を生成させる。好ましくはオキサザリ
ン環を少なくとも2個有する化合物と多塩基酸の使用割
合は、オキサゾリン環2個に対し多塩基酸のカルボキシ
ル基1個の割合である。こうして得られたオキサゾリン
環を少なくとも2個有する化合物と多塩基酸の反応物
を、更に不飽和一塩基酸と触媒なしで50〜200℃の
温度範囲で反応させエステルアミド基とエチレン性不飽
和二重結合を有する化合物を生成させる。その際、オキ
サゾリン環を少なくとも2個有する化合物と多塩基酸の
反応物と不飽和一塩基酸の使用割合は、オキサゾリン環
1個に対し不飽和一塩基酸のカルボキシル基0.5〜
2.5個であるが、好ましくは、オキサゾリン環1個に
対し不飽和一塩基酸のカルボキシル基2.0個である上
記の化合物(C)を得る際に先に示した様な原料に不飽
和一塩基酸を反応させる場合は、ゲル化を防止する意味
で、例えば、ハイドロキノン、p−t−ブチルカテコー
ル、モノ−t−ブチルハイドロキノンの如きハイドロキ
ノン類;ハイドロキノンモノメチルエーテル、ジ−t−
p−クレゾールの如きフェノール類;p−ベンゾキノ
ン、ナフトキノン、p−トルキノンの如きキノン類;又
はナフテン酸銅の如き銅塩など重合禁止剤を添加すると
好ましい。
Further, typical polybasic acids used together with the compound having at least two oxazoline rings to obtain the compound (C) according to the present invention include fumaric acid, adipic acid, sebacic acid and dimer acid. , Polyphthalic acid such as isophthalic acid, terephthalic acid, trimellitic acid and pyromellitic acid, and hydrates of the above polybasic acid anhydride (B). These may be used alone or in admixture of two or more. To use. The reaction of the compound having at least two oxazoline rings with the polybasic acid is carried out in the temperature range of 50 to 200 ° C. even in the absence of a catalyst, and in the state where the oxazoline ring is excessive with respect to the carboxyl group of the polybasic acid. Let
Generate an ester amide group. Preferably, the compound having at least two oxazaline rings and the polybasic acid are used in a ratio of one carboxyl group of the polybasic acid to two oxazoline rings. The thus obtained reaction product of a compound having at least two oxazoline rings and a polybasic acid is further reacted with an unsaturated monobasic acid in the temperature range of 50 to 200 ° C. without a catalyst to produce an ester amide group and an ethylenically unsaturated dicarboxylic acid. A compound having a heavy bond is formed. At that time, the ratio of the reaction product of the compound having at least two oxazoline rings and the polybasic acid and the unsaturated monobasic acid is such that the carboxyl group of the unsaturated monobasic acid is 0.5 to 1 to one oxazoline ring.
The number of the compounds is 2.5, but preferably, when the above compound (C) is obtained in which one oxazoline ring has 2.0 carboxyl groups of unsaturated monobasic acid, it is not suitable for the raw materials as shown above. In the case of reacting with a saturated monobasic acid, hydroquinones such as hydroquinone, pt-butylcatechol, and mono-t-butylhydroquinone; hydroquinone monomethyl ether, di-t-
It is preferable to add a polymerization inhibitor such as phenols such as p-cresol; quinones such as p-benzoquinone, naphthoquinone and p-toluquinone; or copper salts such as copper naphthenate.

【0018】上記化合物(C)の使用量(X)と、エポ
キシ樹脂(A)と多塩基酸無水物(B)の重量の和
(Y)の比(X)/(Y)は、2/98〜70/30な
る範囲が通常であるが、なかでも層間剥離強度と耐熱性
のいずれにも優れる積層板が得られる点で95/5〜5
0/50の範囲が好ましい。また後述するが、化合物
(C)以外のエチレン性不飽和二重結合を有する樹脂
(E)を更に併用する場合には、樹脂(E)の重量
(Z)と、化合物(C)の使用量(X)の重量の和
{(X)+(Z)}と、エポキシ樹脂(A)と多塩基酸
無水物(B)の重量の和(Y)の比{(X)+(Z)}
/(Y)は、2/98〜70/30なる範囲が通常であ
るが、なかでも層間剥離強度と耐熱性のいずれにも優れ
る積層板が得られる点で95/5〜50/50の範囲が
好ましい。
The ratio (X) / (Y) of the amount (X) of the compound (C) used and the sum (Y) of the weights of the epoxy resin (A) and the polybasic acid anhydride (B) is 2 / The range of 98 to 70/30 is usually used, but among them, 95/5 to 5 in terms of obtaining a laminated plate excellent in both delamination strength and heat resistance.
The range of 0/50 is preferable. As will be described later, when the resin (E) having an ethylenically unsaturated double bond other than the compound (C) is further used in combination, the weight (Z) of the resin (E) and the amount of the compound (C) used. Ratio ((X) + (Z)} of sum of weights of (X) {(X) + (Z)} and sum of weights of epoxy resin (A) and polybasic acid anhydride (B) (Y) {(X) + (Z)}.
/ (Y) is usually in the range of 2/98 to 70/30, but in particular, it is in the range of 95/5 to 50/50 from the viewpoint that a laminate having excellent delamination strength and heat resistance can be obtained. Is preferred.

【0019】本発明のエポキシ樹脂樹脂組成物(I)
は、エポキシ樹脂(A)と、多塩基酸無水物(B)と、
化合物(C)を必須成分として含有していればよいが、
化合物(C)の重合を促進させるためにさらにラジカル
重合開始剤が通常は用いられる。
Epoxy resin composition (I) of the present invention
Is an epoxy resin (A), a polybasic acid anhydride (B),
As long as it contains the compound (C) as an essential component,
Further, a radical polymerization initiator is usually used to accelerate the polymerization of the compound (C).

【0020】また、本発明で用いるラジカル重合開始剤
(D)としては、例えばシクロヘキサノンパーオキサイ
ド、3,3,5−トリメチルシクロヘキサノンパーオキ
サイド、メチロネキサノンパーオキサイド、1,1−ビ
ス(t−ブチルパーオキシ)3,3,5−トリメチルシ
クロヘキサン、クメンハイドロパーオキサイド、ジクミ
ルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、3,
5,5−トリメチルヘキサノイルパーオキサイド、ベン
ゾイルパーオキサイド、ジ−ミリスチルパーオキシジカ
ーボネート、t−ブチルパーオキシ(2−エチルヘキサ
ノエート)、t−ブチルパーオキシ−3,5,5−トリ
メチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシベンゾエ
ート、クミルパーオキシオクトエートなどの有機過酸化
物が挙げられる。
Examples of the radical polymerization initiator (D) used in the present invention include cyclohexanone peroxide, 3,3,5-trimethylcyclohexanone peroxide, methylonexanone peroxide, and 1,1-bis (t- Butylperoxy) 3,3,5-trimethylcyclohexane, cumene hydroperoxide, dicumyl peroxide, lauroyl peroxide, 3,
5,5-Trimethylhexanoyl peroxide, benzoyl peroxide, di-myristyl peroxydicarbonate, t-butyl peroxy (2-ethyl hexanoate), t-butyl peroxy-3,5,5-trimethyl hexa Examples thereof include organic peroxides such as noate, t-butyl peroxybenzoate, cumyl peroxy octoate.

【0021】エポキシ樹脂組成物(I)を得るに際して
の各成分の配合方法および配合順序は特に限定されるも
のではないが、液状成分を混合した後、固型の成分を粉
末状で添加して、分散又は溶解させる方法が好ましい。
The mixing method and mixing order of the respective components for obtaining the epoxy resin composition (I) are not particularly limited, but after mixing the liquid components, the solid components are added in powder form. The method of dispersing or dissolving is preferable.

【0022】本発明で用いるエポキシ樹脂組成物(I)
には、更に化合物(C)以外のエチレン性不飽和二重結
合を有する樹脂(E)を含有させると好ましい。ここで
用いる樹脂(E)として代表的なものを挙げれば、エポ
キシ樹脂と不飽和一塩基酸とのエステル化反応で得られ
るエポキシビニルエステル樹脂、不飽和二塩基酸を含む
二塩基酸類と多価アルコール類との反応で得られる不飽
和ポリエステル樹脂、ジアリルフタレートのプレポリマ
ー等のアリル樹脂等があり、金属箔との接着性などの点
からエポキシビニルエステル樹脂が好ましい。これらの
樹脂を調製するに際しては、樹脂調製中のゲル化を防止
する目的や生成樹脂の保存安定性あるいは硬化性の調整
の目的で上記と同様の重合禁止剤が必要に応じて使用さ
れる。
Epoxy resin composition (I) used in the present invention
It is preferable that the resin further contains a resin (E) having an ethylenically unsaturated double bond other than the compound (C). Typical examples of the resin (E) used here include an epoxy vinyl ester resin obtained by an esterification reaction of an epoxy resin with an unsaturated monobasic acid, a dibasic acid containing an unsaturated dibasic acid, and a polybasic acid. There are unsaturated polyester resins obtained by reaction with alcohols, allyl resins such as prepolymers of diallyl phthalate, and the like, and epoxy vinyl ester resins are preferable from the viewpoint of adhesion to metal foil. In the preparation of these resins, the same polymerization inhibitors as described above are used, if necessary, for the purpose of preventing gelation during resin preparation and for adjusting the storage stability or curability of the produced resin.

【0023】かくして得られるこれらの樹脂(E)に
は、必要ならば公知慣用の溶剤や重合性ビニルモノマ
ー、例えばスチレン、ビニルトルエン、t−ブチルスチ
レン、クロルスチレンもしくはジビニルベンゼンの如き
スチレンおよびその誘導体;エチル(メタ)アクリレー
ト、プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メ
タ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、
イソブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル
(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレー
ト、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートもしく
は2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレートの如き
(メタ)アクリル酸の低沸点エステルモノマー類;又は
トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジ
エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4 −ブ
タンジオールジ(メタ)アクリレートもしくは 1,6−ヘ
キサンジオールジ(メタ)アクリレートの如き多価アル
コールの(メタ)アクリレート類などに溶解し、安定な
樹脂溶液とされる。なかでも粘度が低い点でスチレン、
ビニルトルエン、(メタ)アクリル酸の低沸点エステル
モノマー類が好ましい。
If necessary, these resins (E) thus obtained contain known solvents and polymerizable vinyl monomers, for example, styrene such as styrene, vinyltoluene, t-butylstyrene, chlorostyrene or divinylbenzene and derivatives thereof. Ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate,
Low boiling point ester monomers of (meth) acrylic acid such as isobutyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate or 2-hydroxypropyl (meth) acrylate. Or a (meth) polyhydric alcohol such as trimethylolpropane tri (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate or 1,6-hexanediol di (meth) acrylate A stable resin solution is obtained by dissolving it in acrylates and the like. Among them, styrene, because of its low viscosity,
Vinyltoluene and low-boiling ester monomers of (meth) acrylic acid are preferred.

【0024】本発明で用いるエポキシ樹脂組成物(I)
には、更に公知慣用のエポキシ樹脂用硬化促進剤を添加
すると好ましく、なかでも50℃以上の温度で促進機能
を発揮する潜在性硬化促進剤が特に好ましい。
Epoxy resin composition (I) used in the present invention
It is preferable to add a known and commonly used curing accelerator for epoxy resin, and a latent curing accelerator that exhibits an accelerating function at a temperature of 50 ° C. or higher is particularly preferable.

【0025】また、上記エポキシ樹脂組成物(I)に
は、更に必要に応じ充填剤を加えることもでき、これら
は要求性能、作業条件などに応じて適宜選択されるが、
例を挙げると水酸化アルミニウム、ケイ酸アルミニウ
ム、コロイダルシリカ、炭酸カルシウム、硫酸カルシウ
ム、マイカ、タルク、二酸化チタン、石英粉末、ケイ酸
ジルコニウム、ガラス粉末、アスベスト粉末、ケイ藻
土、三酸化アンチモンなどがある。
If desired, a filler may be added to the epoxy resin composition (I), which is appropriately selected depending on the required performance and working conditions.
Examples include aluminum hydroxide, aluminum silicate, colloidal silica, calcium carbonate, calcium sulfate, mica, talc, titanium dioxide, quartz powder, zirconium silicate, glass powder, asbestos powder, diatomaceous earth, and antimony trioxide. is there.

【0026】他方、本発明で用いる繊維質基材(II)
としては、パルプ、ガラス繊維、炭素繊維または芳香族
ポリアミド系繊維などがあり、なかでもガラス繊維が好
ましい。これらのうちガラス繊維としては、その原料面
から、E−ガラス、C−グラス、A−グラスおよびS−
グラスなどが存在しているが、本発明においてはいずれ
の種類のものも適用できる。
On the other hand, the fibrous base material (II) used in the present invention
Examples thereof include pulp, glass fiber, carbon fiber, aromatic polyamide fiber, and the like, and among them, glass fiber is preferable. Among these, glass fibers include E-glass, C-glass, A-glass and S-glass from the viewpoint of their raw materials.
Although there are glasses and the like, any kind of glass can be applied in the present invention.

【0027】これらの繊維質基材(II)は、その形状
によりロービング、チョップドストランドマット、コン
ティニアスマット、クロス、不織布、ロービングクロ
ス、サーフェシングマットおよびチョップドストランド
があるが、上掲した如き種類や形状は、目的とする成形
物の用途および性能により適宜選択されるものであっ
て、必要によっては二以上の種類または形状からの混合
使用であってもよい。なかでもクロス、不織布が好まし
い。
These fibrous base materials (II) include rovings, chopped strand mats, continuous mats, cloths, non-woven fabrics, roving cloths, surfacing mats and chopped strands, depending on their shapes. Is appropriately selected depending on the intended use and performance of the molded product, and may be a mixed use of two or more kinds or shapes if necessary. Of these, cloth and non-woven fabric are preferable.

【0028】前記エポキシ樹脂組成物(I)を用いて積
層板を得る方法としては、例えば、 繊維質基材にエポキシ樹脂組成物(I)を含浸させ、
所定枚数重ね合せ、更にその上下両面を金属箔および/
又はカバーフィルムで被覆し、必要に応じて加熱または
活性エネルギ−線照射等により予備加熱し、次いで加熱
硬化させる方法、 繊維質基材にエポキシ樹脂組成物(I)を含浸させ、
乾燥炉内で重合性ビニルモノマーを除去しつつB−ステ
ージ化し、次いでこのBステージ化物を所定枚数重ね合
せ、加熱硬化させる方法、などが挙げられる。活性エネ
ルギ−線が紫外線の場合、通常、公知慣用の光重合開始
剤が添加される。
As a method for obtaining a laminate using the epoxy resin composition (I), for example, a fibrous base material is impregnated with the epoxy resin composition (I),
Laminate a specified number of sheets, and further top and bottom metal foil and /
Alternatively, a method of covering with a cover film, preheating by heating or irradiation with active energy rays, etc., if necessary, and then heat curing, impregnating a fibrous base material with the epoxy resin composition (I),
Examples thereof include a method in which the polymerizable vinyl monomer is removed in a drying furnace to be B-staged, and then a predetermined number of the B-staged products are superposed and heat-cured. When the active energy ray is ultraviolet ray, a known and conventional photopolymerization initiator is usually added.

【0029】上記、での加熱硬化は、連続加熱炉内
で無圧下で行なわれても良いし、連続ダブルベルトプレ
スで、連続的に加熱加圧成形されても良い。また、の
予備加熱後の積層体又はのB−ステージ化後のB−ス
テージ化物を裁断し、バッチワイズで加熱加圧成形され
ても良い。の予備加熱およびのB−ステージ化は、
通常70〜150℃の温度範囲で行なわれ、加熱硬化は
双方とも100〜190℃で行なわれる。加熱加圧成形
の場合は、通常5〜40kg/cm2の圧力で行なわれ
る。これらの条件はあくまでも例示であって、この条件
だけに限定されるものでないのは勿論である。
The above-mentioned heat curing may be carried out in a continuous heating furnace without pressure, or may be continuously heated and pressed by a continuous double belt press. Alternatively, the pre-heated laminated body or the B-staged B-staged product may be cut and heat-press molded by batchwise. Pre-heating and B-staging of
Usually, it is carried out in the temperature range of 70 to 150 ° C, and both of the heat curing are carried out at 100 to 190 ° C. The heat and pressure molding is usually performed at a pressure of 5 to 40 kg / cm 2 . Of course, these conditions are merely examples, and the present invention is not limited to these conditions.

【0030】本発明のエポキシ樹脂組成物(I)は、積
層板の用途に限定されるものではなく、例えば塗料、接
着剤、封止剤、絶縁ワニス、注型、繊維強化プラスチッ
ク等の用途にも使用される。
The epoxy resin composition (I) of the present invention is not limited to the use of a laminated board, but may be used in, for example, paints, adhesives, sealants, insulating varnishes, castings, fiber reinforced plastics and the like. Also used.

【0031】[0031]

【実施例】次に本発明を製造例、実施例および比較例を
挙げて更に具体的に説明する。尚、例中の部および%は
特に断りのない限りはすべて重量基準である。 製造例1〔化合物(C)の製造〕 2,2′−m−フェニレンビス(2−オキサゾ−ル)5
46部と、メタアクリル酸172部とを、ハイドロキノ
ン0.25部の存在下、100℃で8時間反応させスチ
レン425部で希釈溶解して、エステルアミド基とメタ
アクリロイル基をともに2個ずつ有する化合物(C−
1)を得た。 製造例2〔同上〕 2,2′−m−フェニレンビス(2−オキサゾ−ル)4
35部と、ビスフェノールA233部とを、150℃で
10時間反応させ、両末端オキサゾリン環を有する付加
体を得、次いでこれにメタアクリル酸172部とハイド
ロキノン0.25部を加え、100℃で更に10時間反
応させ、スチレン364部で希釈溶解してエステルアミ
ド基と、両末端にメタアクリロイル基を有する化合物
(C−2)を得た。 製造例3〔同上〕 2,2′−p−フェニレンビス(2−オキサゾ−ル)4
35部と、ビスフェノールA23部を、170℃で8時
間反応させ、両末端オキサゾリン環を有する付加体を
得、次いでこれにメタアクリル酸172部とハイドロキ
ノン0.25部を加え、100℃で更に10時間反応さ
せ、スチレン364部で希釈溶解して、エステルアミド
基と、両末端にメタアクリロイル基を有する化合物(C
−3)を得た。 製造例4〔同上〕 2,2′−m−フェニレンビス(2−オキサゾ−ル)4
35部と、オルソクレゾールノボラック樹脂(融点:6
0℃)223部を、150℃で10時間反応させ、末端
オキサゾリン環を有する付加体を得、次いでこれにメタ
アクリル酸172部とハイドロキノン0.25部を加
え、100℃で更に10時間反応させ、スチレン364
部で希釈溶解して、エステルアミド基とメタアクリロイ
ル基とを有する化合物(C−4)を得た。 製造例5〔同上〕 2,2′−m−フェニレンビス(2−オキサゾ−ル)4
35部と、レゾルシン111部とを、150℃で10時
間反応させ、両末端オキサゾリン環を有する付加体を
得、次いでこれにメタアクリル酸172部とハイドロキ
ノン0.25部を加え、100℃で更に10時間反応さ
せ、スチレン304部で希釈溶解してエステルアミド基
と、両末端にメタアクリロイル基を有する化合物(C−
5)を得た。 製造例6〔同上〕 2−ビニル−2−オキサゾリン100部と、メタアクリ
ル酸172部とを、ハイドロキノン0.096部の存在
下、100℃で8時間反応させ、スチレン29部で希釈
溶解して、エステルアミド基とエチレン性不飽和二重結
合とをそれぞれ1個ずつ有する化合物(C−6)を得
た。 製造例7〔同上〕 無水マレイン酸98部と水18部を100℃で1時間反
応させてマレイン酸を得た。これに2,2′−m−フェ
ニレンビス(2−オキサゾ−ル)432部を加え、12
0℃で6時間反応させ、両末端オキサゾリン環を有する
付加体を得、次いでこれにメタアクリル酸172部とハ
イドロキノン0.23部を加え、100℃で更に10時
間反応させ、スチレン309部で希釈溶解して、エステ
ルアミド基と、両末端にメタアクリロイル基を有する化
合物(C−7)を得た。 製造例8〔同上〕 メチルテトラヒドロ無水フタル酸166部と水18部を
100℃で1時間反応させてメチルテトラヒドロ無水フ
タル酸を得た。これに2,2′−m−フェニレンビス
(2−オキサゾ−ル)432部を加え、120℃で6時
間反応させ、両末端オキサゾリン環を有する付加体を
得、次いでこれにメタアクリル酸172部とハイドロキ
ノン0.23部を加え、100℃で更に10時間反応さ
せ、スチレン338部で希釈溶解して、エステルアミド
基と、両末端にメタアクリロイル基を有する化合物(C
−8)を得た。 実施例1〜12 表−1に示す組成で配合してなる各々のエポキシ樹脂組
成物43部を厚さ0.18mm、幅1050mmの長尺
のガラスクロスに該エポキシ樹脂組成物固形分の含有率
が43%になる様に含浸せしめ、これを8枚重ね合せ、
更に厚さ35μmの銅箔をその上下に重ね合せ、110
℃の加熱炉で4分間加熱しながら搬送し、次いで170
℃に加熱されたダブルベルトプレス機で20kg/cm
2の圧力で10分間加熱加圧成形した後、1000mm
×1000mmに裁断し、次いで170℃で50分間後
硬化して、厚さ1.6mmの積層板を得た。各々の銅張
積層板について以下の方法で層間剥離強度、耐薬品性、
吸水率及びハンダ耐熱性を測定した。これらの結果を表
−1に示した。
EXAMPLES Next, the present invention will be described more specifically with reference to production examples, examples and comparative examples. All parts and% in the examples are by weight unless otherwise specified. Production Example 1 [Production of Compound (C)] 2,2′-m-phenylene bis (2-oxazole) 5
46 parts and 172 parts of methacrylic acid are reacted at 100 ° C. for 8 hours in the presence of 0.25 part of hydroquinone, diluted and dissolved with 425 parts of styrene, and each has two ester amide groups and two methacryloyl groups. Compound (C-
1) was obtained. Production Example 2 [Same as above] 2,2′-m-phenylenebis (2-oxazole) 4
35 parts and 233 parts of bisphenol A are reacted at 150 ° C. for 10 hours to obtain an adduct having oxazoline rings at both ends, and then 172 parts of methacrylic acid and 0.25 part of hydroquinone are added thereto, and further at 100 ° C. The mixture was reacted for 10 hours, diluted with 364 parts of styrene and dissolved to obtain a compound (C-2) having an esteramide group and a methacryloyl group at both ends. Production Example 3 [Same as above] 2,2′-p-phenylene bis (2-oxazole) 4
35 parts and 23 parts of bisphenol A are reacted at 170 ° C. for 8 hours to obtain an adduct having oxazoline rings at both ends, and then 172 parts of methacrylic acid and 0.25 part of hydroquinone are added thereto, and the mixture is further added at 100 ° C. for 10 hours. The mixture is allowed to react for a time, diluted and dissolved with 364 parts of styrene, and a compound having an ester amide group and a methacryloyl group at both ends (C
-3) was obtained. Production Example 4 [Same as above] 2,2′-m-phenylene bis (2-oxazole) 4
35 parts and orthocresol novolac resin (melting point: 6
(0 ° C.) 223 parts are reacted at 150 ° C. for 10 hours to obtain an adduct having a terminal oxazoline ring. Then, 172 parts of methacrylic acid and 0.25 part of hydroquinone are added thereto, and the mixture is further reacted at 100 ° C. for 10 hours. , Styrene 364
Partially dissolved to obtain a compound (C-4) having an ester amide group and a methacryloyl group. Production Example 5 [Same as above] 2,2′-m-phenylene bis (2-oxazole) 4
35 parts and 111 parts of resorcinol were reacted at 150 ° C. for 10 hours to obtain an adduct having both-end oxazoline rings, and then 172 parts of methacrylic acid and 0.25 part of hydroquinone were added thereto, and further at 100 ° C. The mixture is reacted for 10 hours, diluted with 304 parts of styrene and dissolved to dissolve the compound having an ester amide group and a methacryloyl group at both ends (C-
5) was obtained. Production Example 6 [Same as above] 100 parts of 2-vinyl-2-oxazoline and 172 parts of methacrylic acid were reacted at 100 ° C. for 8 hours in the presence of 0.096 parts of hydroquinone, and diluted with 29 parts of styrene to dissolve. A compound (C-6) having one ester amide group and one ethylenically unsaturated double bond was thus obtained. Production Example 7 [same as above] 98 parts of maleic anhydride and 18 parts of water were reacted at 100 ° C for 1 hour to obtain maleic acid. To this, 432 parts of 2,2'-m-phenylenebis (2-oxazole) was added, and 12
After reacting at 0 ° C for 6 hours, an adduct having oxazoline rings at both ends was obtained. Then, 172 parts of methacrylic acid and 0.23 part of hydroquinone were added, and the mixture was further reacted at 100 ° C for 10 hours and diluted with 309 parts of styrene. After dissolution, a compound (C-7) having an esteramide group and a methacryloyl group at both ends was obtained. Production Example 8 [Same as above] Methyl tetrahydrophthalic anhydride was obtained by reacting 166 parts of methyltetrahydrophthalic anhydride with 18 parts of water at 100 ° C for 1 hour. To this, 432 parts of 2,2′-m-phenylenebis (2-oxazol) was added, and the mixture was reacted at 120 ° C. for 6 hours to obtain an adduct having oxazoline rings at both ends, and then 172 parts of methacrylic acid. And 0.23 parts of hydroquinone are added, and the mixture is further reacted at 100 ° C. for 10 hours, diluted and dissolved with 338 parts of styrene, and a compound having an ester amide group and a methacryloyl group at both ends (C
-8) was obtained. Examples 1 to 12 43 parts of each epoxy resin composition prepared by blending with the composition shown in Table 1 was added to a long glass cloth having a thickness of 0.18 mm and a width of 1050 mm to obtain a solid content of the epoxy resin composition. Impregnated so that it will be 43%, stack 8 of these,
Further, a copper foil having a thickness of 35 μm is laminated on the upper and lower sides thereof,
Transport in a heating furnace at ℃ for 4 minutes while heating, then 170
20kg / cm with double belt press machine heated to ℃
1000 mm after heat and pressure molding at a pressure of 2 for 10 minutes
It was cut into 1000 mm and then post-cured at 170 ° C. for 50 minutes to obtain a laminated plate having a thickness of 1.6 mm. Delamination strength, chemical resistance,
The water absorption rate and the solder heat resistance were measured. The results are shown in Table 1.

【0032】層間剥離強度:最外層の繊維質基材を銅箔
のついた状態で、最外層に隣接する繊維質基材から剥
し、最外層基材除去面に対する引き剥し方向の角度を9
0℃に保ちつつ、テンシロンにて5cm/minの速度
で剥離強度を測定した。
Delamination strength: The outermost fibrous base material was peeled from the fibrous base material adjacent to the outermost layer with the copper foil attached, and the angle of the peeling direction with respect to the outermost layer base material removed surface was 9
The peel strength was measured with Tensilon at a speed of 5 cm / min while maintaining the temperature at 0 ° C.

【0033】耐薬品性 :得られた積層板の両面の銅
箔をエッチングで除去し、40℃の塩化メチレンに15
分および30分間浸漬して積層板の表面の状態を目視で
判定した。
Chemical resistance: The copper foils on both sides of the obtained laminated plate were removed by etching, and the coated foil was immersed in methylene chloride at 40 ° C. for 15 minutes.
It was immersed for 30 minutes and 30 minutes, and the state of the surface of the laminate was visually determined.

【0034】吸水率(%):25mm×50mmに切断した
積層板の片面の銅箔をエッチングで除去した後、120
℃、2気圧の条件で4時間及び6時間のプレッシャーク
ッカーテストを行い、次式に基いて吸水率を算出し、平
均値を示した。
Water absorption rate (%): After removing the copper foil on one surface of the laminated plate cut into 25 mm × 50 mm by etching, 120
A pressure cooker test was performed for 4 hours and 6 hours under the conditions of ° C and 2 atm, and the water absorption rate was calculated based on the following formula, and the average value was shown.

【0035】 (ただしWはテスト前の積層板重量、
W′はテスト後の積層板重量である。) ハンダ耐熱性:上記プレッシャークッカーテスト後の積
層板の表面の水分をよく拭き取った後、JIS C-6481に準
じて各サンプルに付いて10回測定し、以下の基準で評
価した。
[0035] (W is the weight of the laminate before the test,
W'is the weight of the laminated plate after the test. ) Solder heat resistance: After water on the surface of the laminated plate after the above pressure cooker test was thoroughly wiped off, each sample was measured 10 times according to JIS C-6481 and evaluated according to the following criteria.

【0036】 ○:ハンダ耐熱性不良の試料全くなし。 △:ハンダ耐熱性不良の試料1/4未満あり。 ×:ハンダ耐熱性不良の試料1/4以上あり。 比較例1 化合物(C−1)を用いない以外は実施例1と全く同様
にして、積層板を得た。この銅張積層板について同様に
層間剥離強度、耐薬品性、吸水率及びハンダ耐熱性を測
定した。これらの結果を表−1に示した。
◯: No sample having poor solder heat resistance. Δ: There is less than 1/4 of the sample with poor solder heat resistance. X: There are 1/4 or more samples with poor solder heat resistance. Comparative Example 1 A laminated board was obtained in exactly the same manner as in Example 1 except that the compound (C-1) was not used. The delamination strength, chemical resistance, water absorption and solder heat resistance of the copper clad laminate were measured in the same manner. The results are shown in Table 1.

【0037】[0037]

【表1】 [Table 1]

【0038】[0038]

【表2】 [Table 2]

【0039】[0039]

【表3】 [Table 3]

【0040】尚、表−1中で用いた原料等の名称の定義
は次の通り。 エピクロン840 :エポキシ当量185な
るビスフェノール型エポキ樹脂。
The definitions of the names of the raw materials used in Table 1 are as follows. Epicron 840: A bisphenol type epoxy resin having an epoxy equivalent of 185.

【0041】エピクロン152 :エポキシ
当量365なるテトラブロモビスフェノールA型エポキ
シ樹脂、臭素含有率46%。
Epiclon 152: Tetrabromobisphenol A type epoxy resin having an epoxy equivalent of 365 and a bromine content of 46%.

【0042】エピクロンB650 :ヘキサヒ
ドロ無水フタル酸。 ディックライトUE7016 :テトラブロムビスフェ
ノールAのジジグリシジルエーテルのジメタアクリレー
トでスチレンにより希釈したもの。スチレン含有率27
%、臭素含有率29%。
Epicron B650: Hexahydrophthalic anhydride. Dicklight UE7016: Dimethyacrylate of tetradibromobisphenol A didiglycidyl ether diluted with styrene. Styrene content rate 27
%, Bromine content 29%.

【0043】(いずれも大日本インキ化学工業(株)製
である。)
(All are manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.)

【0044】[0044]

【発明の効果】本発明では、エステルアミド基とエチレ
ン性不飽和二重結合とを有する化合物を必須成分として
含有したエポキシ樹脂組成物であるので、それを含有し
ない従来のエポキシ樹脂にはない、層間剥離強度、耐薬
品性及び耐熱性のいずれにも優れた硬化物が得られると
いう格別顕著な効果を奏する。
INDUSTRIAL APPLICABILITY Since the present invention is an epoxy resin composition containing a compound having an ester amide group and an ethylenically unsaturated double bond as an essential component, it does not exist in a conventional epoxy resin which does not contain it. A particularly remarkable effect that a cured product having excellent delamination strength, chemical resistance and heat resistance can be obtained.

【0045】従って、本発明のエポキシ樹脂組成物で例
えば積層板を製造すると、得られる繊維質基材間の層間
剥離強度、耐薬品性及び半田耐熱性のいずれにも優れた
ものとなる。
Therefore, when, for example, a laminated board is produced from the epoxy resin composition of the present invention, the obtained fibrous base material has excellent delamination strength, chemical resistance and solder heat resistance.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C08G 59/48 NJE 8416−4J C08J 5/04 CFC 7188−4F // C08L 63:00 8416−4J ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification code Internal reference number FI Technical display location C08G 59/48 NJE 8416-4J C08J 5/04 CFC 7188-4F // C08L 63:00 8416-4J

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 エポキシ樹脂(A)と、多塩基酸無水物
(B)と、エステルアミド基とエチレン性不飽和二重結
合を有する化合物(C)とを含有することを特徴とする
エポキシ樹脂組成物(I)。
1. An epoxy resin containing an epoxy resin (A), a polybasic acid anhydride (B), and a compound (C) having an ester amide group and an ethylenically unsaturated double bond. Composition (I).
【請求項2】 化合物(C)が、オキサゾリン環を少な
くとも1個有する化合物と不飽和一塩基酸を反応させて
得られる化合物である請求項1記載の組成物。
2. The composition according to claim 1, wherein the compound (C) is a compound obtained by reacting a compound having at least one oxazoline ring with an unsaturated monobasic acid.
【請求項3】 化合物(C)が、オキサゾリン環を少な
くとも2個有する化合物と多価フェノ−ル類化合物か
ら、末端にオキサゾリン環を有する付加体を得、次いで
これと不飽和一塩基酸を反応させて得られる化合物であ
る請求項1記載の組成物。
3. A compound (C) is obtained from a compound having at least two oxazoline rings and a polyvalent phenol compound to obtain an adduct having an oxazoline ring at the terminal, and then reacting this with an unsaturated monobasic acid. The composition according to claim 1, which is a compound obtained by the method.
【請求項4】 化合物(C)が、オキサゾリン環を少な
くとも2個有する化合物と多塩基酸から、末端にオキサ
ゾリン環を有する付加体を得、次いでこれと不飽和一塩
基酸を反応させて得られる化合物である請求項1記載の
組成物。
4. The compound (C) is obtained by obtaining an adduct having an oxazoline ring at a terminal from a compound having at least two oxazoline rings and a polybasic acid, and then reacting this with an unsaturated monobasic acid. The composition of claim 1 which is a compound.
【請求項5】 更に(C)以外のエチレン性不飽和二重
結合を有する樹脂(E)を含む請求項1、2、3又は4
記載の組成物。
5. A resin (E) having an ethylenically unsaturated double bond other than (C) is further included.
The composition as described.
【請求項6】 請求項1の組成物を繊維質基材(II)
に含浸させ、硬化させることを特徴とする積層板の製
法。
6. A fibrous base material (II) comprising the composition of claim 1.
A method for producing a laminated plate, which comprises:
【請求項7】 請求項2の組成物を繊維質基材(II)
に含浸させ、硬化させることを特徴とするの積層板の製
法。
7. A fibrous base material (II) containing the composition of claim 2.
A method for producing a laminated plate, which comprises:
【請求項8】 請求項3の組成物を繊維質基材(II)
に含浸させ、硬化させることを特徴とする積層板の製
法。
8. A fibrous base material (II) comprising the composition of claim 3.
A method for producing a laminated plate, which comprises:
【請求項9】 請求項4の組成物を繊維質基材(II)
に含浸させ、硬化させることを特徴とする積層板の製
法。
9. A fibrous base material (II) containing the composition of claim 4.
A method for producing a laminated plate, which comprises:
【請求項10】 請求項5の組成物を繊維質基材(I
I)に含浸させ、硬化させることを特徴とするの積層板
の製法。
10. A fibrous base material (I
A method for producing a laminated plate, which comprises impregnating with I) and curing.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100369949C (en) * 2006-03-06 2008-02-20 哈尔滨工业大学 High temperature -resistant 4,5-epoxy cyclohexane-1,2-diglycidyl-m-phthalate epoxy resins and process for preparing same

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