JPH05320136A - Synthesis of 4-hydroxymethylpyrazoles - Google Patents

Synthesis of 4-hydroxymethylpyrazoles

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JPH05320136A
JPH05320136A JP12742592A JP12742592A JPH05320136A JP H05320136 A JPH05320136 A JP H05320136A JP 12742592 A JP12742592 A JP 12742592A JP 12742592 A JP12742592 A JP 12742592A JP H05320136 A JPH05320136 A JP H05320136A
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JP
Japan
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formula
compound
compound represented
group
general formula
Prior art date
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Pending
Application number
JP12742592A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Atsuhiro Okawa
敦裕 大川
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication of JPH05320136A publication Critical patent/JPH05320136A/en
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Abstract

PURPOSE:To easily obtain a 4-hydroxymethylpyrazole compound as a raw material for timing group for photographic coupler or intermediates for various organic syntheses simply by reacting a specific pyrazole derivative with a ketone or an aldehyde in the presence of a base. CONSTITUTION:The 4-hydroxymethylpyrazole compound of formula III (e.g. the compound of formula III wherein R<1> and R<2> are CH3 and R<3> and R<4> are H) can be produced simply by reacting a compound of formula I (R<1> and R<2> are H, alkyl or aryl, preferably <=3C unsubstituted alkyl) with a compound of formula II (R<3> and R<4> are H, alkyl or aryl, especially independently H or methyl, preferably both R<3> and R<4> are H) in the presence of a base (especially preferably NaOH, KOH or Ca(OH)2) at about 30-80 deg.C.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は写真用カプラーの有用な
タイミング基の原料として、また種々の有機合成用の中
間体として有用な4−ヒドロキシメチルピラゾール類の
合成法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for synthesizing 4-hydroxymethylpyrazoles which are useful as raw materials for useful timing groups of photographic couplers and as intermediates for various organic syntheses.

【0002】[0002]

【従来の技術】3,5−ジメチル−4−ヒドロキシメチ
ルピラゾールを初めとする4−ヒドロキシメチルピラゾ
ール類から誘導される写真用カプラーは優れた写真性能
を示すことが特願平3−43008号に記されている。
しかしながら例えば3,5−ジメチル−4−ヒドロキシ
メチルピラゾールについてみると、その合成法としては
1950年に、I. Dvoretzkyらが発表した方法がある
(J. Org. Chem.,15巻、1285頁、1950年)。
そこには2通りの合成法が示されており、1つめはスキ
−ム1に示したようにエステルをLiAlH4で還元するもの
である。
2. Description of the Related Art Japanese Patent Application No. 3-43008 discloses that photographic couplers derived from 4-hydroxymethylpyrazoles such as 3,5-dimethyl-4-hydroxymethylpyrazole exhibit excellent photographic performance. It is written.
However, for example, with respect to 3,5-dimethyl-4-hydroxymethylpyrazole, as a synthetic method thereof, there is a method published by I. Dvoretzky et al. In 1950 (J. Org. Chem., Vol. 15, p. 1285, 1950).
There are two synthetic methods shown there. The first is to reduce the ester with LiAlH 4 as shown in scheme 1.

【0003】[0003]

【化4】 [Chemical 4]

【0004】この方法では発火性の高いLiAlH4を用いる
ため大量合成に適用するには極めて危険性が大きく、不
向きである。もう一つの方法はスキーム2に示したよう
にピラゾールのN−メチロール体を合成し、それを更に
1週間かけて4位をヒドロキシメチル化し、その後N上
のヒドロキシメチル基をはずすことにより合成するとい
うものである。
Since this method uses LiAlH 4 having a high ignitability, it is extremely dangerous and unsuitable for application to mass synthesis. The other method is to synthesize the N-methylol derivative of pyrazole as shown in Scheme 2, hydroxymethyl the 4-position for another 1 week, and then remove the hydroxymethyl group on N. It is a thing.

【0005】[0005]

【化5】 [Chemical 5]

【0006】この方法では合成に3工程を要し、2工程
目では反応が1週間かかるうえ収率も24%と低いなど
の問題がある。
In this method, there are problems that three steps are required for the synthesis, the reaction takes one week in the second step, and the yield is as low as 24%.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は4−ヒ
ドロキシメチルピラゾール類の簡便な合成法を提案する
ことである。
An object of the present invention is to propose a simple synthetic method for 4-hydroxymethylpyrazoles.

【0008】[0008]

【課題を達成するための手段】本発明の目的は、一般式
(I)で表わされる化合物と一般式(II)で表わされる
化合物を塩基の存在下反応させて一般式(III)で表わさ
れる化合物を合成する4−ヒドロキシメチルピラゾール
類の合成法によって達成された。
The object of the present invention is represented by the general formula (III) by reacting a compound represented by the general formula (I) with a compound represented by the general formula (II) in the presence of a base. This was accomplished by a method of synthesizing 4-hydroxymethylpyrazoles to synthesize compounds.

【0009】[0009]

【化6】 [Chemical 6]

【0010】(式中R1 とR2 はそれぞれ独立に水素原
子、アルキル基、もしくはアリール基を表わす。)
(In the formula, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group.)

【0011】[0011]

【化7】 [Chemical 7]

【0012】(式中R3 とR4 はそれぞれ独立に水素原
子、アルキル基もしくはアリール基を表わす。)
(In the formula, R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group.)

【0013】[0013]

【化8】 [Chemical 8]

【0014】(式中R1 、R2 、R3 、R4 は一般式
I、IIと同義である。)
(In the formula, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 have the same meanings as those in the general formulas I and II.)

【0015】一般式(I)で表わされる化合物について
説明する。R1 とR2 はそれぞれ独立に水素原子、置換
もしくは無置換のアルキル基(メチル、エチル、tert−
ブチル、デシル、ベンジルなど)、もしくは置換もしく
は無置換のアリール基(フェニルなど)を表わす。置換
基としてはアルキル基、アリール基、ハロゲン原子、ア
ルコキシ基、アリールオキシ基、カルバモイル基、アシ
ルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、シアノ
基、ニトロ基などが挙げられる。R1 、R2 として好ま
しくは水素原子以外の基を表わすときであり、より好ま
しくは炭素数6以下のアルキル基もしくはフェニル基を
表わすときであり、特に好ましくは炭素数3以下の無置
換アルキル基を表わす場合である。
The compound represented by formula (I) will be described. R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group (methyl, ethyl, tert-
Butyl, decyl, benzyl, etc.) or a substituted or unsubstituted aryl group (phenyl, etc.). Examples of the substituent include an alkyl group, an aryl group, a halogen atom, an alkoxy group, an aryloxy group, a carbamoyl group, an acylamino group, an alkylthio group, an arylthio group, a cyano group and a nitro group. R 1 and R 2 are preferably groups other than hydrogen atoms, more preferably alkyl groups having 6 or less carbon atoms or phenyl groups, and particularly preferably unsubstituted alkyl groups having 3 or less carbon atoms. Is the case.

【0016】次に一般式(II)で表わされる化合物につ
いて説明する。R3 とR4 はそれぞれ独立に水素原子、
アルキル基(メチル、エチル、イソブチルなど)もしく
はアリール基(フェニルなど)を表わす。R3 、R4
して好ましくは両者のうち少なくとも1つが水素原子を
表わす場合であり、より好ましくはR3 もしくはR4
それぞれ独立に水素原子もしくはメチル基を表わす場合
であり、特に好ましくはR3 とR4 がともに水素原子を
表わす場合である。表1と表2に一般式(II)で表わさ
れる化合物の代表例を示す。
Next, the compound represented by the general formula (II) will be described. R 3 and R 4 are each independently a hydrogen atom,
Represents an alkyl group (methyl, ethyl, isobutyl, etc.) or an aryl group (phenyl, etc.). R 3 and R 4 are preferably a case where at least one of both represents a hydrogen atom, more preferably R 3 or R 4 independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and particularly preferably R 3 And R 4 both represent a hydrogen atom. Tables 1 and 2 show typical examples of the compound represented by the general formula (II).

【0017】[0017]

【表1】 [Table 1]

【0018】[0018]

【表2】 [Table 2]

【0019】反応で用いる塩基としては周期律表の中の
アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の水酸化物、ナ
トリウムメトキシドを初めとする金属アルコキシド、ト
リエチルアミンや2,6−ルチジン、1,8−ジアザビ
シクロ〔5・4・0〕−7−ウンデセンなどの有機塩基
などを用いることができる。これらのうちで好ましくは
LiOH、NaOH、KOH 、Ca(OH)2 、NaOCH3もしくはNaOC 2H5
であり、特に好ましくはNaOH、KOH もしくはCa(OH)2
ある。
The base used in the reaction is
Alkali metal or alkaline earth metal hydroxides,
Metal alkoxides such as thorium methoxide,
Liethylamine, 2,6-lutidine, 1,8-diazabi
Organic bases such as cyclo [5,4,0] -7-undecene
Etc. can be used. Of these, preferably
LiOH, NaOH, KOH, Ca (OH)2, NaOCH3Or NaOC 2HFive
And particularly preferably NaOH, KOH or Ca (OH)2so
is there.

【0020】反応のモル比としては一般式(I)で表わ
される化合物に対し一般式(II)で表わされる化合物は
0.5〜10倍のモル比で使われる。好ましくは0.8
〜3.0の範囲であり、より好ましくは0.9〜2.0
の範囲である。また一般式(I)で表わされる化合物に
対する塩基のモル比は0.1〜3.0の範囲で用いら
れ、好ましくは0.5〜2.0、より好ましくは0.8
〜1.5の範囲である。
Regarding the molar ratio of the reaction, the compound represented by the general formula (II) is used in a molar ratio of 0.5 to 10 times that of the compound represented by the general formula (I). Preferably 0.8
To 3.0, more preferably 0.9 to 2.0.
The range is. The molar ratio of the base to the compound represented by the general formula (I) is used in the range of 0.1 to 3.0, preferably 0.5 to 2.0, more preferably 0.8.
The range is from 1.5 to 1.5.

【0021】反応溶媒としては水、アルコール(メタノ
ール、エタノール、イソプロピルアルコールなど)、エ
ーテル(テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサンな
ど)、非プロトン性極性溶媒(N,N−ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリルな
ど)、ハロゲン系溶媒(1,2−ジクロロエタン、塩化
メチレン、クロロベンゼンなど)、炭化水素系溶媒(ヘ
キサン、ベンゼン、トルエンなど)などを用いることが
できる。またこれら反応溶媒を2種以上混合して用いて
もよい。
As the reaction solvent, water, alcohol (methanol, ethanol, isopropyl alcohol, etc.), ether (tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, etc.), aprotic polar solvent (N, N-dimethylformamide, dimethylsulfoxide, acetonitrile, etc.) ), A halogen-based solvent (1,2-dichloroethane, methylene chloride, chlorobenzene, etc.), a hydrocarbon-based solvent (hexane, benzene, toluene, etc.), and the like can be used. Moreover, you may use these reaction solvents in mixture of 2 or more types.

【0022】反応は一般式(I)と(II)で表わされる
化合物を適当な溶媒中で混ぜ、加熱攪拌することにより
行なわれる。反応温度は通常0℃〜120℃の間で行な
われ、好ましくは20℃〜100℃、より好ましくは3
0℃〜80℃の間である。反応時間は通常10分から1
0時間の範囲で行なわれ、中でも30分から5時間の範
囲で行なわれることが多い。実験の後処理としては反応
終了後反応液を冷却し、析出した結晶を濾取することで
ほぼ純品の目的物が得られることが多い。また場合によ
っては反応液から目的物を
The reaction is carried out by mixing the compounds represented by the general formulas (I) and (II) in a suitable solvent and heating with stirring. The reaction temperature is generally 0 ° C to 120 ° C, preferably 20 ° C to 100 ° C, more preferably 3 ° C.
It is between 0 ° C and 80 ° C. Reaction time is usually 10 minutes to 1
It is carried out in the range of 0 hours, and particularly in the range of 30 minutes to 5 hours. As the post-treatment of the experiment, it is often the case that the reaction product is cooled after completion of the reaction and the precipitated crystals are collected by filtration to obtain an almost pure target product. In some cases, the target

【0023】抽出、濃縮し適当な溶媒を加えることによ
り目的物を結晶として単離することもあるし、また濃縮
して得られた残渣をシリカゲルもしくはアルミナカラム
により精製し目的物を単離する場合もある。また蒸留に
より精製することも可能である。以下に本発明の一般式
(III)で表わされる化合物の具体例を示すが、本発明は
これらによって限定されるものではない。
The desired product may be isolated as crystals by extracting and concentrating and adding a suitable solvent, or when the residue obtained by concentrating is purified by a silica gel or alumina column to isolate the desired product. There is also. It can also be purified by distillation. Specific examples of the compound represented by formula (III) of the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.

【0024】[0024]

【表3】 [Table 3]

【0025】[0025]

【表4】 [Table 4]

【0026】[0026]

【表5】 [Table 5]

【0027】次に本発明を実施例に基づき更に詳細に説
明するが、本発明はこれらによって限定されるものでは
ない。
The present invention will be described in more detail based on the following examples, but the invention is not intended to be limited thereto.

【0028】実施例1 例示化合物( III−1)の合成Example 1 Synthesis of Exemplified Compound (III-1)

【0029】[0029]

【化9】 [Chemical 9]

【0030】III−1a(100g)をNaOH(48g)
が入った水溶液(400ml)中に加えた。そこに37%
ホルマリン水溶液(112ml)を加え50℃に加熱し2
時間反応させた。その後反応液を室温に冷却し、析出し
た結晶を濾取し、イソプロピルアルコールで洗浄、乾燥
することにより例示化合物( III−1)が59g(46
%収率)得られた。 m.p.177.5−179.0℃。
III-1a (100 g) was added to NaOH (48 g)
Was added to an aqueous solution (400 ml). 37% there
Add formalin aqueous solution (112 ml) and heat to 50 ° C. 2
Reacted for hours. Thereafter, the reaction solution was cooled to room temperature, and the precipitated crystals were collected by filtration, washed with isopropyl alcohol, and dried to give 59 g (46 g) of Exemplified Compound (III-1).
% Yield) was obtained. m. p. 177.5-179.0 ° C.

【0031】実施例2 例示化合物( III−3)の合成 実施例1と同様にして III−3を合成することができ
た。収率36%。
Example 2 Synthesis of Exemplified Compound (III-3) III-3 could be synthesized in the same manner as in Example 1. Yield 36%.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一般式(I)で表わされる化合物と一般
式(II)で表わされる化合物を塩基の存在下反応させて
一般式(III)で表わされる化合物を合成する4−ヒドロ
キシメチルピラゾール類の合成法。 【化1】 (式中R1 とR2 はそれぞれ独立に水素原子、アルキル
基、もしくはアリール基を表わす。) 【化2】 (式中R3 とR4 はそれぞれ独立に水素原子、アルキル
基もしくはアリール基を表わす。) 【化3】 (式中R1 、R2 、R3 、R4 は一般式I、IIと同義で
ある。)
1. 4-Hydroxymethylpyrazoles for synthesizing a compound represented by the general formula (III) by reacting a compound represented by the general formula (I) with a compound represented by the general formula (II) in the presence of a base. Method of synthesis. [Chemical 1] (In the formula, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group.) (In the formula, R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group.) (In the formula, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 have the same meanings as those in formulas I and II.)
JP12742592A 1992-05-20 1992-05-20 Synthesis of 4-hydroxymethylpyrazoles Pending JPH05320136A (en)

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