JPH05317775A - Automatic application device for heated cementing material - Google Patents

Automatic application device for heated cementing material

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Publication number
JPH05317775A
JPH05317775A JP15578492A JP15578492A JPH05317775A JP H05317775 A JPH05317775 A JP H05317775A JP 15578492 A JP15578492 A JP 15578492A JP 15578492 A JP15578492 A JP 15578492A JP H05317775 A JPH05317775 A JP H05317775A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
solder
bonding agent
tank
heating
cementing
Prior art date
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Pending
Application number
JP15578492A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masayoshi Obinata
正好 小日向
Toshimasa Oomura
豪政 大村
Hideaki Yoshida
秀昭 吉田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Materials Corp
Original Assignee
Mitsubishi Materials Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Materials Corp filed Critical Mitsubishi Materials Corp
Priority to JP15578492A priority Critical patent/JPH05317775A/en
Publication of JPH05317775A publication Critical patent/JPH05317775A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To generate automatically a rough pattern of a heated cementing material by providing a nozzle mechanism for feeding a mixture of a heat cementing material and a non-plastic modified material to a cementing section and a control means for controlling the mixing ratio of the heat cementing material and the non-plastic modified material. CONSTITUTION:A first tank 20 and a second tank 40 for storing liquid solder and ceramic grains are disposed respectively for the purpose of mixing a non- plastic modified material, for example, ceramic grains, with a heat cementing material, for example, liquid solder in an automatic heat cementing material application device. A nozzle mechanism 80 for mixing liquid solder with ceramic grains and fed to a cementing interface between one component of electrical equipment, for example, a hybrid IC base and another component, for example, a sheet sink 1 is provided. Also a computer 10 as a control means for controlling changeably the mixing ratio of liquid solder and ceramic grains at the cementing interface is provided.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、例えばハイブリッドI
C基板とヒートシンクとの接合面においてその加熱接合
剤の粗密パターンの発生が自動化できる自動加熱接合剤
塗布装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention is a hybrid I
The present invention relates to an automatic heat-bonding agent application device capable of automatically generating a coarse / dense pattern of the heat-bonding agent on a bonding surface between a C substrate and a heat sink.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、ハイブリッドIC基板にヒートシ
ンクを接合したものにおいては、ハンダをその接合面に
均一な厚さで塗布してその接合が行われている。このハ
イブリッドIC基板上に、ICチップ、例えばパワート
ランジスタ等の発熱素子を搭載する場合にも、ハンダに
より接合されている。このハンダとして、例えばAu−
Si合金からなるハンダを用いる場合には、400℃程
度の高温での加熱が必要である。このため、特に厚膜ハ
イブリッドIC基板のようにICチップを数多くマウン
トする例においては、半導体装置の特性が低下すること
が避けられなかった。また、ICチップとリード線との
接合にもハンダが用いられている。以上のハンダは自動
ハンダ塗布装置により塗布されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, in a case where a heat sink is joined to a hybrid IC substrate, solder is applied to the joining surface with a uniform thickness to carry out the joining. Even when an IC chip, for example, a heating element such as a power transistor is mounted on this hybrid IC substrate, it is joined by solder. As this solder, for example, Au-
When using a solder made of Si alloy, heating at a high temperature of about 400 ° C. is necessary. For this reason, it is unavoidable that the characteristics of the semiconductor device deteriorate, particularly in an example in which a large number of IC chips are mounted, such as a thick film hybrid IC substrate. Further, solder is also used for joining the IC chip and the lead wire. The above solder is applied by an automatic solder applying device.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、自動ハ
ンダ塗布装置により、上記各接合面にハンダを均一な厚
さで塗布する場合には、機械的な外力の加わり易い周辺
部の接合力が中央部のそれと比較して不十分となってい
た。さらに、固化したハンダ内部に残留応力が発生しが
ちであった。これらのため、ハイブリッドIC基板に反
りが生じ易い。そして、上記外力の集中する中央部にお
いては、ICチップ等の割れ、剥離などの不都合が起こ
り易い。特に、固化したハンダ内部で亀裂が生じ、各接
合界面で割れが起こり易いという課題があった。一方、
熱膨張率の異なる異種材料を貼り合わせて得られるハイ
ブリッドIC基板とヒートシンクとの場合には、高温雰
囲気で使用する場合にそれらの接合面でずれが生じて破
損し易く、良好な熱伝導性が得られ難いという課題もあ
った。
However, when the solder is applied to each of the joint surfaces with a uniform thickness by the automatic solder applicator, the peripheral joint strength is apt to be affected by mechanical external force. It was inadequate compared to that. Furthermore, residual stress tends to occur inside the solidified solder. For these reasons, the hybrid IC substrate is likely to warp. Then, in the central portion where the external force is concentrated, inconveniences such as cracking and peeling of the IC chip and the like are likely to occur. In particular, there is a problem that cracks occur inside the solidified solder and cracks easily occur at each joint interface. on the other hand,
In the case of a hybrid IC substrate and a heat sink obtained by bonding different kinds of materials having different thermal expansion coefficients, when they are used in a high temperature atmosphere, their joint surfaces are apt to be misaligned and easily damaged, resulting in good thermal conductivity. There was also a problem that it was difficult to obtain.

【0004】[0004]

【課題解決のための知見】そして、本願発明者は、ハイ
ブリッドIC基板とICチップ、ヒートシンク等との接
合面において、ハンダを均一の厚さに塗布することな
く、粗密に塗布することにより上記課題が防止されると
いう知見を得た。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The inventors of the present application have been able to apply the above-described problem by applying solder densely and densely on the bonding surface between the hybrid IC substrate and the IC chip, heat sink, etc., without applying the solder to a uniform thickness. We obtained the finding that

【0005】[0005]

【発明の目的】そこで、本発明の目的は、ハイブリッド
IC基板とヒートシンク等との接合面においてハンダの
粗密パターンを自動的に発生させることができる自動加
熱接合剤塗布装置を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to provide an automatic heating bonding agent coating device capable of automatically generating a coarse / dense pattern of solder on a bonding surface between a hybrid IC substrate and a heat sink or the like.

【0006】[0006]

【問題点を解決するための手段】本発明の自動加熱接合
剤塗布装置においては、非塑性変形物の混合された加熱
接合剤を接合部に塗布する自動加熱接合剤塗布装置であ
って、上記加熱接合剤を貯留する第1槽と、上記非塑性
変形物を貯留する第2槽と、上記第1槽から送られる上
記加熱接合剤、および、上記第2槽から送られる上記非
塑性変形物を混合して上記接合部に供給するノズル機構
と、上記加熱接合剤と上記非塑性変形物との混合割合を
制御する制御手段と、備えたものである。
The automatic heating bonding agent applying apparatus of the present invention is an automatic heating bonding agent applying apparatus for applying a heating bonding agent mixed with a non-plastically deformed material to a bonding portion. A first tank for storing the heated bonding agent, a second tank for storing the non-plastic deformation product, the heating bonding agent sent from the first tank, and the non-plastic deformation product sent from the second tank. A nozzle mechanism for mixing and supplying the mixture to the joint portion, and a control means for controlling the mixing ratio of the heated joint agent and the non-plastically deformed material.

【0007】[0007]

【作用】本発明に係る自動加熱接合剤塗布装置にあって
は、加熱接合剤、例えば液状ハンダに、非塑性変形物、
例えばセラミックス粒を混合させるため、液状ハンダお
よびセラミックス粒を貯留する第1槽および第2槽がそ
れぞれ配設されている。そして、この液状ハンダおよび
セラミックス粒を混合して、電子機器の一構成部品、例
えばハイブリッドIC基板と、他の構成部品、例えばシ
ートシンクと、の接合の界面に供給するノズル機構が設
けられている。さらに、液状ハンダおよびセラミックス
粒の混合割合を上記接合の界面で変更可能に制御する制
御手段が設けられている。例えば、ハイブリッドIC基
板とヒートシンクとの接合面に塗布される液状ハンダ等
は、パワートランジスタの搭載位置の直下の分布が密
(液状ハンダに対してセラミックス粉が少ない、また
は、無い)に形成され、パワートランジスタの直下以外
の分布が疎(液状ハンダに対してセラミックス粉が多
い、または、セラミックス粒のみ)に形成されるもので
ある。したがって、電子機器の構成部品同士の接合部に
おいて、予め入力した電子機器の発熱に関するデータに
応じて自動的に、その加熱接合剤の粗密パターンが発生
するものである。
In the automatic heating bonding agent application device according to the present invention, a heating bonding agent, for example, liquid solder, a non-plastic deformable material,
For example, in order to mix the ceramic particles, a liquid solder and a first tank and a second tank for storing the ceramic particles are provided, respectively. A nozzle mechanism is provided which mixes the liquid solder and the ceramic particles and supplies the liquid solder and ceramic particles to the interface between one component of the electronic device, for example, a hybrid IC substrate, and another component, for example, the sheet sink. .. Further, control means for controlling the mixing ratio of the liquid solder and the ceramic particles to be changeable at the interface of the joining is provided. For example, the liquid solder or the like applied to the joint surface between the hybrid IC substrate and the heat sink is formed so that the distribution immediately below the mounting position of the power transistor is dense (the ceramic powder is less or less than the liquid solder), The distribution other than directly under the power transistor is formed sparsely (there is more ceramic powder than liquid solder, or only ceramic grains). Therefore, in the joint portion between the components of the electronic device, the dense and dense pattern of the heated bonding agent is automatically generated according to the data regarding the heat generation of the electronic device which is input in advance.

【0008】[0008]

【実施例】以下、本発明に係る自動加熱接合剤塗布装置
の一実施例について、図1〜図2を参照して説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of an automatic heating bonding agent coating device according to the present invention will be described below with reference to FIGS.

【0009】図1に示すように、この自動加熱接合剤塗
布装置は、ハンダ、例えばPb−63%Sn(共晶ハン
ダ)を貯留しているハンダ槽20と、このハンダ槽20
内のハンダを加熱するハンダ加熱器30と、セラミック
ス粒、例えば粒径が50μmのアルミナ粒子を貯留して
いるセラミックス槽40と、このハンダ槽20およびセ
ラミックス槽40に取り付けられた電磁弁21,41を
それぞれ駆動させる駆動回路50と、ハンダ槽20内の
液状ハンダとセラミックス40槽内とのセラミックス粉
を混合するミキサ60と、この混合体を加熱する混合加
熱器70と、この加熱接合剤をヒートシンク1表面(ハ
イブリッドICとの接合面)に塗布するノズル80と、
このノズル80をX−Y方向の所定位置に移動させるX
−Y駆動機構90と、ヒートシンク1を右方へ搬送する
コンベア100と、このコンベア100の上方でヒート
シンク1の位置を検出する位置センサ110,111
と、液状ハンダとセラミックス粒との混合割合をヒート
シンク1表面で変更可能に制御するコンピュータ10
と、により構成されているものである。なお、ハンダ槽
20において、50μm以上のハンダ粒子を用いれば、
ミキサ60にて、セラミックス粒との混合融解が同時に
可能で、より混合し易くなるものである。また、非塑性
変形物としてのセラミックス粒に代えて、剛球、タング
ステン球などの硬質金属を用いてもよい。このときは、
ハンダとの濡れ性が向上するものである。
As shown in FIG. 1, this automatic heating bonding agent application apparatus has a solder tank 20 for storing solder, for example, Pb-63% Sn (eutectic solder), and this solder tank 20.
Solder heater 30 that heats the solder inside, ceramics tank 40 that stores ceramics particles, for example, alumina particles having a particle size of 50 μm, and solenoid valves 21, 41 attached to soldering tank 20 and ceramics tank 40 , A mixer 60 for mixing the liquid solder in the solder bath 20 and the ceramic powder in the ceramic 40 bath, a mixing heater 70 for heating this mixture, and a heat sink for this heating bonding agent. Nozzle 80 for coating on one surface (bonding surface with hybrid IC),
X to move the nozzle 80 to a predetermined position in the XY direction
-Y drive mechanism 90, conveyor 100 that conveys heat sink 1 to the right, and position sensors 110 and 111 that detect the position of heat sink 1 above this conveyor 100.
And a computer 10 for controlling the mixing ratio of liquid solder and ceramic particles on the surface of the heat sink 1.
And are composed of. In the solder bath 20, if solder particles of 50 μm or more are used,
In the mixer 60, it is possible to mix and melt the ceramic particles at the same time, which facilitates mixing. Further, hard metal such as hard sphere or tungsten sphere may be used instead of the ceramic particles as the non-plastically deformable material. At this time,
The wettability with solder is improved.

【0010】このコンピュータ10は、処理装置本体、
キーボード、モニタ、FBS(フラットベッドスキャ
ナ)、磁気ディスク装置、マウス等により構成されてい
る。入力部は、モニタ、FBS、磁気ディスク装置、キ
ーボードおよびマウス等により構成されている。そし
て、処理装置本体は、周知のCPU、ROM、RAM、
I/Oユニット等により構成されている。
The computer 10 includes a processing device main body,
It is composed of a keyboard, a monitor, an FBS (flatbed scanner), a magnetic disk device, a mouse and the like. The input unit is composed of a monitor, an FBS, a magnetic disk device, a keyboard, a mouse and the like. The processing device main body includes a well-known CPU, ROM, RAM,
It is composed of an I / O unit and the like.

【0011】コンピュータ10の処理装置のI/Oユニ
ットには、ハンダ槽20の温度センサ、ハンダ加熱器3
0、駆動回路50、混合加熱器70、X−Y駆動機構9
0、位置センサ110,111がそれぞれ接続されてい
る。また、駆動回路50には、電磁弁21,41がそれ
ぞれ接続されている。
The I / O unit of the processor of the computer 10 includes a temperature sensor for the solder bath 20 and a solder heater 3.
0, drive circuit 50, mixing heater 70, XY drive mechanism 9
0 and position sensors 110 and 111 are connected respectively. Further, solenoid valves 21 and 41 are connected to the drive circuit 50, respectively.

【0012】以上の構成に係る自動加熱接合剤塗布装置
にあっては、コンピュータ10のモニタ、FBS、磁気
ディスク装置、キーボードまたはマウスから、電子機
器、例えば半導体装置の発熱に関するデータとして、パ
ワートランジスタの数量・種類・最大発熱量・搭載位
置、ハイブリッドIC基板のパターン・材質・厚さ、ヒ
ートシンクの材質・形状、ハンダの種類・粘性、セラミ
ックス粒の種類・粒径等がそれぞれ入力される。そし
て、これらの発熱素子等のデータに基づいて、処理装置
本体は、加熱接合剤を構成する液状ハンダとセラミック
ス粒との混合割合を決定する。さらに、この加熱接合剤
の塗布位置を決定する。そして、この決定した加熱接合
剤を、例えばハイブリッドIC基板とヒートシンク1と
の接合面の決定した位置に塗布する。この結果、ハイブ
リッドIC基板とヒートシンク1との接合面に塗布され
る加熱接合剤は、発熱素子の搭載位置の直下の分布が密
(ハンダに対してセラミックス粉が少ない、または、無
い)に形成され、発熱素子の直下以外の分布が疎(ハン
ダに対してセラミックス粉が多い、または、セラミック
ス粒のみ)に形成されるものである。
In the automatic heating bonding agent coating device having the above-mentioned structure, the power transistor of the computer, the FBS, the magnetic disk device, the keyboard or the mouse is used as data relating to the heat generation of the electronic device, for example, the semiconductor device. The quantity / type / maximum heat generation / mounting position, hybrid IC board pattern / material / thickness, heat sink material / shape, solder type / viscosity, ceramic grain type / grain size, etc. are entered. Then, based on the data of these heating elements and the like, the processing apparatus main body determines the mixing ratio of the liquid solder and the ceramic particles forming the heating bonding agent. Further, the application position of this heated bonding agent is determined. Then, the determined heating bonding agent is applied to the determined position on the bonding surface between the hybrid IC substrate and the heat sink 1, for example. As a result, the heating bonding agent applied to the bonding surface between the hybrid IC substrate and the heat sink 1 is formed so that the distribution just below the mounting position of the heating element is dense (the ceramic powder is small or absent with respect to the solder). The distribution other than directly under the heating element is formed sparsely (there is more ceramic powder than solder, or only ceramic particles).

【0013】以下、図1、図2を用いて、この自動加熱
接合剤塗布装置のプログラムを説明する。コンピュータ
10において電源投入により、このプログラムはCPU
で実行されるものである。なお、電源投入前には、ハン
ダ槽20にはハンダが、セラミックス槽40にはセラミ
ックス粒がそれぞれ投入されている。さらに、電磁弁2
1,41、ノズル80は閉じている。まず、RAM等の
メモリをクリアの処理等して初期化を行う(S1)。次
いで、コンピュータ10のFBS、磁気ディスク装置、
モニタ、キーボードまたはマウスから、半導体装置の発
熱に関するデータとして、パワートランジスタの数量・
種類・最大発熱量・ハイブリッドIC基板上での搭載位
置、ハイブリッドIC基板の材質・厚さ・パターン、ヒ
ートシンク1の材質・形状、ハンダの種類・粘性、セラ
ミックス粒の種類・粒径等がそれぞれ入力される(S
2)。例えば、FBSに電子回路の図面等を挿入するこ
とより、電子機器の発熱に関するデータが入力される。
The program of this automatic heating bonding agent coating device will be described below with reference to FIGS. 1 and 2. When the computer 10 is turned on, this program is executed by the CPU.
Is what is executed in. Before the power is turned on, solder is put in the solder bath 20 and ceramic particles are put in the ceramic bath 40. In addition, solenoid valve 2
1, 41 and the nozzle 80 are closed. First, a memory such as a RAM is initialized by performing a clearing process or the like (S1). Next, the FBS of the computer 10, the magnetic disk device,
From a monitor, keyboard or mouse, use the data on the number of power transistors
Type, maximum heat generation, mounting position on hybrid IC board, material / thickness / pattern of hybrid IC board, heat sink 1 material / shape, solder type / viscosity, ceramic grain type / grain size, etc. Done (S
2). For example, by inserting a drawing of an electronic circuit or the like into the FBS, data regarding heat generation of the electronic device is input.

【0014】次に、入力されたデータに基づいて、コン
ピュータ10のCPUは、加熱接合剤を構成する液状ハ
ンダとセラミックス粒との混合割合、および、この加熱
接合剤のヒートシンク1表面の塗布位置を決定する(S
3)。この混合割合に応じてCPUは、ハンダ加熱器3
0に加熱信号を送信し、駆動回路50に電磁弁21,
41の弁の各開度信号を送信し、混合加熱器70に加
熱信号を送信し、ミキサ60に混合回転信号を送信
する(S4)。この結果、ハンダが所定温度に加熱され
る。駆動回路50が電磁弁21,41をそれぞれ開く信
号を送る。電磁弁21,41が所定開度でそれぞれ開
く。ミキサ60内に、加熱された液状ハンダおよびセラ
ミックス粒が混入される。このミキサ60内で、液状ハ
ンダおよびセラミックス粒が所定温度に加熱され、均一
に混合回転される。
Next, based on the input data, the CPU of the computer 10 determines the mixing ratio of the liquid solder and the ceramic particles constituting the heating bonding agent and the coating position of this heating bonding agent on the surface of the heat sink 1. Determine (S
3). According to this mixing ratio, the CPU determines whether the solder heater 3
0 to send a heating signal to the drive circuit 50 and the solenoid valve 21,
Each valve opening signal of 41 is transmitted, a heating signal is transmitted to the mixing heater 70, and a mixing rotation signal is transmitted to the mixer 60 (S4). As a result, the solder is heated to a predetermined temperature. The drive circuit 50 sends a signal to open the solenoid valves 21 and 41, respectively. The solenoid valves 21 and 41 are opened at a predetermined opening. The heated liquid solder and ceramic particles are mixed in the mixer 60. In the mixer 60, the liquid solder and the ceramic particles are heated to a predetermined temperature and uniformly mixed and rotated.

【0015】次いで、ハンダ槽20内の加熱された液状
ハンダの温度が適正か否か判断される(S5)。適正の
ときはステップS7に進む。適正でないとき、すなわち
ハンダの量が増減してそのハンダの温度が所定温度より
高いまたは低いときは、ハンダ加熱器30の加熱信号
のレベルを増減する(S6)。同様に、ミキサ60内の
液状ハンダおよびセラミックス粉の加熱接合剤の温度が
適正か否か判断される(S7)。適正のときはステップ
S9に進む。適正でないときは、混合加熱器70の加熱
信号のレベルを増減する(S8)。この結果、液状ハ
ンダおよびセラミックス粉が増減しても加熱接合剤は所
定の温度に保たれる。
Next, it is judged whether the temperature of the heated liquid solder in the solder bath 20 is proper (S5). If it is proper, the process proceeds to step S7. When it is not proper, that is, when the amount of solder increases or decreases and the temperature of the solder is higher or lower than the predetermined temperature, the level of the heating signal of the solder heater 30 is increased or decreased (S6). Similarly, it is determined whether the temperatures of the liquid solder and the ceramic powder heating bonding agent in the mixer 60 are appropriate (S7). If it is proper, the process proceeds to step S9. If it is not appropriate, the level of the heating signal of the mixing heater 70 is increased or decreased (S8). As a result, the heated bonding agent is kept at a predetermined temperature even if the liquid solder and the ceramic powder increase or decrease.

【0016】次に、コンベア100により右方へ搬送さ
れるヒートシンク1を位置センサ110が発見したか否
かが判断される(S9)。発見していないときは、ステ
ップS5に戻る。発見したときは、ステップS3で決定
した加熱接合剤の塗布位置から定めるノズル80の初期
位置信号がX−Y駆動機構90に送信される(S1
0)。この結果、ノズル80はヒートシンク1の上方
(ハイブリッド基板との接合側)の所定位置に移動し、
ノズル80の先端がヒートシンク1表面近傍に接近す
る。そして、ノズル80が開き、このノズル80からヒ
ートシンク1表面上の所定点に加熱接合剤が塗布され
る。この所定点からコンベア100の移動に従って加熱
接合剤を塗布しながら移動する。
Next, it is determined whether or not the position sensor 110 has found the heat sink 1 conveyed rightward by the conveyor 100 (S9). If not found, the process returns to step S5. If found, the initial position signal of the nozzle 80 determined from the application position of the heated bonding agent determined in step S3 is transmitted to the XY drive mechanism 90 (S1).
0). As a result, the nozzle 80 moves to a predetermined position above the heat sink 1 (on the side where the hybrid substrate is joined),
The tip of the nozzle 80 approaches the vicinity of the surface of the heat sink 1. Then, the nozzle 80 is opened, and the heating bonding agent is applied from this nozzle 80 to a predetermined point on the surface of the heat sink 1. From this predetermined point, the conveyor 100 is moved while being coated with the hot bonding agent.

【0017】次いで、電磁弁21,41の開度を調節す
るかどうかが判断される(S11)。調節しないとき
は、ステップS13に進む。調節するときは、電磁弁2
1,41の開度変更信号を駆動回路50に送信する
(S12)。この結果、駆動回路50は、少なくとも電
磁弁21または電磁弁41の開度を調節させる。そし
て、ノズル80から塗布される加熱接合剤の液状ハンダ
とセラミックス粉との混合割合が変わる。
Next, it is judged whether or not the opening degrees of the solenoid valves 21, 41 are adjusted (S11). When not adjusting, it progresses to step S13. Solenoid valve 2 when adjusting
The opening change signals of 1, 41 are transmitted to the drive circuit 50 (S12). As a result, the drive circuit 50 adjusts at least the opening degree of the solenoid valve 21 or the solenoid valve 41. Then, the mixing ratio of the liquid solder of the heating bonding agent applied from the nozzle 80 and the ceramic powder changes.

【0018】次に、X−Y駆動機構を移動させるか否か
が判断される(S13)。移動させないときは、ステッ
プS15に進む。移動させるときは、X−Y駆動機構9
0に移動信号が送信される(S14)。この結果、X
−Y駆動機構90は、移動信号に基づいて、ヒートシ
ンク1表面の上方でノズル80を移動させる。そして、
ノズル80はヒートシンク1表面において加熱接合剤を
塗布しながら移動する。
Next, it is determined whether or not to move the XY drive mechanism (S13). If it is not moved, the process proceeds to step S15. When moving, XY drive mechanism 9
A movement signal is transmitted to 0 (S14). As a result, X
The -Y drive mechanism 90 moves the nozzle 80 above the surface of the heat sink 1 based on the movement signal. And
The nozzle 80 moves while applying a heating bonding agent on the surface of the heat sink 1.

【0019】次いで、位置センサ111の信号に基づい
て終了するか否かが判断される(S15)。終了すると
きは、ステップS16に進む。終了しないときは、ステ
ップS11に戻る。この結果、上記半導体装置の発熱に
関するデータに基づいて、ヒートシンク1上には粗密の
パターンが自動的に形成される。例えば、ハイブリッド
IC基板とヒートシンク1との接合面に塗布される加熱
接合剤は、パワートランジスタの搭載位置の直下の分布
が密(液状ハンダに対してセラミックス粉が無い)に形
成され、パワートランジスタの直下以外の分布が疎(液
状ハンダに対してセラミックス粉が多い)に形成される
ものである。
Then, it is determined whether or not to end based on the signal from the position sensor 111 (S15). When finished, the process proceeds to step S16. If not completed, the process returns to step S11. As a result, a coarse and dense pattern is automatically formed on the heat sink 1 based on the data relating to the heat generation of the semiconductor device. For example, the heating bonding agent applied to the bonding surface between the hybrid IC substrate and the heat sink 1 has a dense distribution (there is no ceramic powder for liquid solder) immediately below the mounting position of the power transistor. The distribution other than immediately below is formed sparsely (more ceramic powder than liquid solder).

【0020】次に、ノズルクローズ信号がX−Y駆動
機構90に送信される(S16)。この結果、X−Y駆
動機構90によりノズル80は閉められる。そして、ノ
ズル80はヒートシンク1の上方に浮上する。最後にス
テップS1に戻る。
Next, the nozzle close signal is transmitted to the XY drive mechanism 90 (S16). As a result, the nozzle 80 is closed by the XY drive mechanism 90. Then, the nozzle 80 floats above the heat sink 1. Finally, the process returns to step S1.

【0021】このような疎密分布をハイブリッドIC基
板とヒートシンク1との接合面に与えることにより、接
合後の残留応力が低下し、ハイブリッドIC基板および
ヒートシンク1からなる積層体が反ったり、それらの接
合界面で剥離したりする現象を抑えることができる。特
にその積層体の周辺部においては、外力に対する塑性変
形が容易となるため、応力の緩和、残留応力の低減をよ
り効果的に行うことができる。また、このような積層体
を高温状態で使用するならば、ハンダを密に塗布した部
分は接合界面にあってその接触面積が大きくなるので熱
伝導性が良好となり、製品不良を低減することができ
る。さらに、このハンダの疎密分布を中央部から周辺部
に向かって連続的に変化させるならば、本発明の効果が
より高められる。なお、同様に、ハイブリッドIC基板
とパワートランジスタ等との接合部にも自動加熱接合剤
塗布装置が適用できる。
By giving such a sparse / dense distribution to the joint surface between the hybrid IC substrate and the heat sink 1, the residual stress after the joint is reduced, the laminated body composed of the hybrid IC substrate and the heat sink 1 is warped, and the joints thereof are joined. The phenomenon of peeling at the interface can be suppressed. In particular, in the peripheral portion of the laminated body, plastic deformation due to an external force is facilitated, so that stress relaxation and residual stress reduction can be performed more effectively. Further, if such a laminate is used at a high temperature, the portion where the solder is densely applied is at the joint interface and the contact area is large, so the thermal conductivity is good and product defects can be reduced. it can. Furthermore, if the density distribution of the solder is continuously changed from the central portion toward the peripheral portion, the effect of the present invention is further enhanced. In addition, similarly, the automatic heating bonding agent coating device can be applied to the bonding portion between the hybrid IC substrate and the power transistor or the like.

【0022】このように、電子機器の構成部品の接合部
において、自動加熱接合剤塗布装置は、予め入力した電
子機器の発熱に関するデータに応じて自動的に、その加
熱接合剤の粗密パターンが発生できるものである。この
粗密パターン自動化によっては、電子機器の回路基板の
反りや撓み等の変形および加熱接合剤の剥離や割れ等の
破壊のおこらない電子機器を安価に製造することができ
る。
As described above, in the joining portion of the components of the electronic device, the automatic heating bonding agent applying device automatically generates the coarse and dense pattern of the heating bonding agent in accordance with the data about the heat generation of the electronic device which is input in advance. It is possible. By automating the rough and dense pattern, it is possible to inexpensively manufacture an electronic device that does not cause warping or bending of the circuit board of the electronic device or deformation such as peeling or cracking of the heating bonding agent.

【0023】[0023]

【発明の効果】本発明の自動加熱接合剤塗布装置は、電
子機器の構成部品同士の接合部において、加熱接合剤を
塗布する場合に、加熱接合剤の粗密パターンが自動的に
発生できるものである。この粗密パターン自動化によっ
ては、電子機器の回路基板の反りや撓み等の変形および
加熱接合剤の剥離や割れ等の破壊のおこらない電子機器
を安価に製造することができる。
The automatic heating bonding agent coating device of the present invention is capable of automatically generating a coarse and dense pattern of the heating bonding agent when the heating bonding agent is applied at the joint between the components of the electronic equipment. is there. By automating the rough and dense pattern, it is possible to inexpensively manufacture an electronic device that does not cause warping or bending of the circuit board of the electronic device or deformation such as peeling or cracking of the heating bonding agent.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例に係る自動加熱接合剤塗布装
置を示すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing an automatic heating bonding agent coating device according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の一実施例に係る自動加熱接合剤塗布装
置の動作手順を示すフローチャートである。
FIG. 2 is a flowchart showing an operation procedure of the automatic heating bonding agent coating device according to the embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ヒートシンク 10 コンピュータ(制御手段) 20 ハンダ槽(第1槽) 40 セラミックス槽(第2槽) 60 ミキサ(ノズル機構) 70 X−Y駆動機構(ノズル機構) 80 ノズル(ノズル機構) DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 heat sink 10 computer (control means) 20 solder bath (first bath) 40 ceramics bath (second bath) 60 mixer (nozzle mechanism) 70 XY drive mechanism (nozzle mechanism) 80 nozzle (nozzle mechanism)

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 非塑性変形物の混合された加熱接合剤を
接合部に塗布する自動加熱接合剤塗布装置であって、 上記加熱接合剤を貯留する第1槽と、 上記非塑性変形物を貯留する第2槽と、 上記第1槽から送られる上記加熱接合剤、および、上記
第2槽から送られる上記非塑性変形物を混合して上記接
合部に供給するノズル機構と、 上記加熱接合剤と上記非塑性変形物との混合割合を制御
する制御手段と、備えたことを特徴とする自動加熱接合
剤塗布装置。
1. An automatic heating bonding agent application device for applying a heating bonding agent mixed with a non-plastic deformation material to a bonding portion, the first tank storing the heating bonding agent, and the non-plastic deformation material. A second tank for storing, a heating mechanism sent from the first tank, and a nozzle mechanism for mixing the non-plastic deformation product sent from the second tank and supplying the mixture to the joint part, and the heating joint. An automatic heating bonding agent coating device comprising: a control unit for controlling a mixing ratio of the adhesive and the non-plastic deformation product.
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