JPH05313108A - 光変調器 - Google Patents

光変調器

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JPH05313108A
JPH05313108A JP3078254A JP7825491A JPH05313108A JP H05313108 A JPH05313108 A JP H05313108A JP 3078254 A JP3078254 A JP 3078254A JP 7825491 A JP7825491 A JP 7825491A JP H05313108 A JPH05313108 A JP H05313108A
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light
surface plasmon
light wave
electrodes
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JP3078254A
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Tomasz P Jannson
ピー. ジャンソン トマツ
Joanna L Jannson
エル. ジャンソン ジョアンナ
Behzad Moslehi
モスレヒ ベザド
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Physical Optics Corp
Original Assignee
Physical Optics Corp
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 集積光学回路に用いられる超高速小型表面プ
ラズモン波変調器を得ることを目的とする。 【構成】 光波を運ぶための平らなウエーブガイドに隣
接して金属−絶縁体界面を形成し、この界面に高周波電
圧を加えることによって絶縁体を共振せしめて上記界面
に表面プラズモン波を発生せしめこれを上記ウエーブガ
イド内の次第に消える光波に結合せしめ上記光波の強度
を変化せしめた光変調器。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は光の高速変調装置、特に
光を表面プラズモン波相互作用によって高速変調する装
置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】表面プラズモン波(SPW)は金属と絶
縁体間の界面によって支持される電磁波である。金属等
の総ての導体は正の所定の電荷の連続部分内で静電的に
釣り合っている電子のガスとして定義することができ
る。これは1立方cm以内に10の23乗の数の電子が
存在することに略等しい電子密度を有する凝縮された電
子プラズマである。プラズモンは金属内の蓄積電荷振動
に関連する自然エネルギ量子である。電子密度が高いた
め量子効果が著しい。このような表面プラズモン波はA
・D・バードマン著“電磁表面モード”に示されてい
る。
【0003】表面プラズモン波は共振結合によって光学
的に励起せしめることができる。共振の条件は金属と絶
縁体の界面に近い媒体の回折インデックス及び厚さに強
く依存する。光波の強度は、光波を表面プラズモン波に
結合することにより変調することができる。一般的に
は、表面プラズモン波と光波間の結合が強ければ光波伝
達の減衰が大きくなり、結合が弱ければ光波伝達は減衰
しないか減衰しても僅かである。
【0004】減衰された全反射(ATR)効果は高イン
デックスプリズムを介して表面プラズモン波を光学的に
励起するために利用されている。自由空間を移動する光
は臨界角を越える角度でプリズムを介して金属−絶縁体
界面に送られ、表面プラズモン波領域に重なるであろう
次第に消えていく光波の領域を作る。
【0005】かさばった光学的配置内で表面プラズモン
波を光学的に励起するために2つの形態が用いられてい
る。第1の形態はオットーの全反射(ATR)形状であ
る。このオットーの形状では厚い金属媒体上に被着され
た薄い絶縁体層と高インデックスプリズムとの間に小さ
い空隙が存在する。オットーの形状は図1に示される通
りであり、又A・オットー著“フラストレーテッド全反
射法による銀内の非放射表面プラズモン波の励起”に示
されている。表面プラズモン波を光学的に励起するため
に用いられる第2の形態は図2に示すクレットシーマン
の変形ATR形状である。この形状では薄い金属箔がプ
リズムと絶縁体との間に介挿されている。この形状では
空隙がないのでより実用的である。この形状は米国特許
第4,451,123号公報に示されている。このよう
なプリズム形状はシールドクラウト著“長い範囲の表面
プラズモン光電変調器”に示されている。
【0006】表面プラズモン波効果は2つの見地から考
えることができる。その1つは光子、電子、プラズモン
及び他の粒子及びこれら粒子間の相互作用に関連する量
子機械的見地である。これら粒子のエネルギは数1で示
される。
【0007】
【数1】
【0008】この数1は粒子のエネルギと運動量を示
す。光と金属媒体の相互作用は金属内のガス状電子(フ
ァーミガス)を考えることによって及びプラズマとして
の電子、即ち荷電粒子(イオン)を含む媒体を考えるこ
とによって了解できる。
【0009】プラズモン波は共振周波数を有する。プラ
ズモン波がその共振周波数で照射されることによって励
起されたとき共振を観察でき、照射エネルギのあるもの
がプラズモン波により吸収される。量子粒子の点から見
れば表面プラズモン波システムはある共振周波数を有す
るプラズマ内の粒子の相互作用の背景で考えられる。
【0010】表面プラズモン波はマクスウエルの方程
式、物質定数及び境界条件からも考えられる。簡単なモ
デルでは金属は数2と数3による複雑な誘電体定数によ
って特徴づけられる。
【0011】
【数2】
【0012】
【数3】
【0013】かさ(bulk)プラズモン周波数fpは
数4で示される。
【0014】
【数4】
【0015】ここでmは電子質量、nは10の23乗で
ある。これからかさプラズモン周波数fp bulkと
かさ波長λp bulkが数5のように得られる。
【0016】
【数5】
【0017】表面プラズモン波技術において重要なこと
はかさプラズモン波ではなく後述する金属境界における
電子である表面プラズモン波である。表面電子の固有振
動周波数は表面形状と、相互作用された絶縁体の両方の
関数である。平らな境界と単純な金属に対しては表面プ
ラズモン波周波数fp surfaceは数6に示すよ
うにかさ周波数fp bulkに関連する。
【0018】
【数6】
【0019】一般に表面プラズモン波の共振波長(周波
数)はUV、VIS及びnIRを含む広いスペクトル内
に調節することができる。これは0.1μmのUV面積
内のみに位置するかさ波長との対比である。従来技術に
おいては表面プラズモン波効果は、プリズムを介してS
PWを光学的に励起するため減衰された全反射効果が利
用されるクレットシーマン形状を用いることによって理
解できる。一般に運動量とエネルギ不滅の法則は同時に
満足できないという理由から表面プラズモン波は直接結
合によっては励起できない。然しながらクレットシーマ
ン形状では両不滅の法則が満足される。
【0020】表面プラズモン波(SPW)モードインデ
ックスの数値例を図3に示す。この図3にはアルミニウ
ムと金の2つの型の金属、及び空気とガラスの2つの型
の絶縁体を示し、上記金属は高い回折インデックスを有
し、上記絶縁物は高い誘電定数を有している。図3から
明らかなようにSPWモードインデックスの実部分が絶
縁インデックスより大きく、SPWモードインデックス
の虚部分が金のような回折インデックスの低い金属より
も小さく、所定の金属に対してはSPWモードインデッ
クスの虚部分が高いインデックスの絶縁体よりも大き
い。図4は眞空での波長がλ0 で0.83μmに等しい
表面プラズモン波を有するΖ軸に沿った金属と絶縁体の
相互作用面を示す。
【0021】表面プラズモン波の相速度と伝達ロスに関
して、表面プラズモン波の所定の伝達定数(モードイン
デックス)nSPW は複雑な数7によって表すことができ
る。
【0022】
【数7】
【0023】ここでnR SPW とnI SPW は夫々実及び虚
部分を示す。表面プラズモン波の相速度VSPW は数8に
よって示される。
【0024】
【数8】
【0025】ここでCは眞空中での光の速度である。単
位長Lに対するSPW伝達ロスは伝達定数の虚部分によ
って定められる。デシベル単位で数9又は数10によっ
て示されるロスを生ずる。
【0026】
【数9】
【0027】
【数10】
【0028】ここでλ0 は眞空中での光の波長である。
上述のように平滑な境界における表面プラズモン波は直
接結合によって光学的に励起されることはない。この理
由は運動量及びエネルギ不滅の法則が同時に満足される
ことがないためである。絶縁体とSPWの2つのカーブ
の間に相互作用のないことは図5に示すω−κ線図から
明らかである。所定の周波数においてはSPWの運動量
は絶縁体内の光の運動量より大きい。粗い面を用いた直
接結合は可能であるが解析するのは困難である。従って
既述のオットー及びクレットシーマンの結合体の背景に
おけるような次第に消える波結合が必要となる。
【0029】従来の技術においては高速変調器は複合量
子井戸(MQW)を含む。MQW変調器ではIR(nI
R)スペクトル近くの可視領域では挿入ロスは中程度
(3db以下)であり、駆動電圧は極端に低く、(10
ボルト以下)であり、周波数は極端に高く(5GHz以
上)相互作用長さは極めて短い(ミクロン)。MQW変
調器は速い変調又は切り換えを要求する広い範囲の光信
号の伝達、貯蔵、計算、処理のために用いられている。
MQW変調器は多くの薄い半導体層を有し、これに加え
られる電圧が変ることによって変調器を通過する光の強
度が変化する。MQW変調器は半透明の半導体材料を用
いている。好ましくないことにMQW技術は装置に適用
することが困難であり、極めて高価であり、極端な周囲
条件では適用不可能となる。
【0030】長距離光ファイバー伝達技術の最近の発展
は、伝達ネットワーク、局部エリアネットワーク(LA
N)、高出力レーザビーム複写、空間光変調(SL
M)、及び外部LD変調のための切換技術の変形の開発
に向けられている。これらの切換技術はMQWよりも適
用が広く光ファイバー伝達のみならず光学コンピュー
タ、検知、高出力レーザ複写、レーザ手術等に適用され
ている。これら技術の他の型のものは比較的低い周波数
(KHz)で電力消費の高い、又光学材料ロスの高い電
磁−光SLMを含む。電磁−光SLMとしてはセメテッ
クス(Semetex)によって造られたものを含む。
他のものは比較的高い周波数のクリスタル(LC)SL
Mであり、最大応答時間が20ns(又はこれより長
い)の強電性LCを基礎としている。更に他のものはL
i b 3 を基礎とする又は応答時間が約70ns以上
のPLZTを基礎とする光回折スイッチである。1ピコ
秒以上の極めて高い周波数のMQW変調器は先に述べ
た。更に5ピコ秒より大きい超高速のプラズモン変調器
がある。
【0031】後者の2つの型の変調技術−MQW及びプ
ラズモン変調器−は前者の4つの切換システムより速度
が少なくとも3桁高いという基本的な利益を有する。更
に後者の2つの技術は電力消費が少なく駆動電圧が低
い。然しながら表面プラズモン波技術はMQW技術に優
る重要な利点を有する。第1にSPWの波長範囲はIR
から可視域に延びている。MQW技術はIRに近い。両
者の技術は潜在的に100GHzより高い同一の変調周
波数を有する。同様にしてMQWとSPW技術の相互作
用長さは共に100μmのように短い。
【0032】上述した相互作用長さは変調器の材料が光
ビームに相互作用する距離である。理想的な例では変調
器はそのオン状態では光ビームを完全に吸収し、オフ状
態では光ビームを完全に伝達する。変調器を理想的な例
にどのようにして近づけるかは拡大比(ER)の形で表
現できる。理想的な例のERは無限に等しい。
【0033】
【数11】
【0034】他の例ではERは数12のように示すこと
ができる。
【0035】
【数12】
【0036】図6においてT1 は完全なオフ状態(値
1)、T2 は完全なオン状態(値0)を示す。理想的な
例では速度又は変調周波数はできるだけ大きくする。通
常の例では相互作用長さLが短かければT1 は低い。相
互作用長さLが極めて長い時はT1 は高い。(この結果
変調装置はかさばったものとなり、能率も悪い)。普通
の相互作用長さはミリメータ単位であり、一方相互作用
長さの短いものは1ミリメータより小さい。
【0037】MQW技術の駆動電圧はSPW技術のそれ
よりも高い。MQWの電圧レベルは10ボルトであり、
SPWの電圧レベルは1ボルトより小さい。駆動電圧が
小さいことは電力消費が少ないことを意味する。SPW
システムで挿入ロスは1メータ当たり3dbであり、M
QWでの挿入ロスは1センチメータ当たり3dbであ
る。挿入ロスはオフ状態での吸収測定値である。SPW
変調器の挿入ロスはメータ目盛で測定される。
【0038】MQW変調器の製造コストは極めて高い
が、SPW技術でのそれは低い。MQW技術では複雑な
GaAs VLSI処理を必要とするためそのコストは
高い。更にSPW変調器のレーザ破壊しきい値は極端に
高いが、MQWのそれは低い。MQW装置を含む総ての
半導体装置のレーザ破壊しきい値は低く温度感知性が高
い。同様にしてMQW変調器のでこぼこ化と環境安定性
は低いがSPW変調器のそれは高い。
【0039】MQWシステムで用いる基礎材料はGaA
sでありSPW技術のそれはポリマーガラスである。従
って材料の点からみれば、MQW技術は半導体を基礎と
するレーザ ダイオード(LD)技術により大きく関連
している。一方SPW技術は絶縁体を基礎としており、
従って挿入ロスの低い光ファイバー媒体技術に大きく関
連している。MQWとの対比においてSPWは1cm2
当たり1GWより大きい極めて高いレーザ破壊しきい値
を有する高出力レーザ切り換え及び変調に使用できる。
【0040】一般にオプトエレクトロニクスにおいては
2つの基本的な傾向がある。その1つは半導体を大きな
基礎とするプリント回路GaAs VLSTエレクトロ
ニクス技術である。これら材料の回折インデックスnは
約2−4の範囲である。他の1つはより最近のものであ
り、ガラス−ポリマー技術である。この技術における一
般的な利益はガラスとポリマーは吸収の極めて低い殆ど
の光学材料と両立でき、回折インデックスの低い記録材
料と多くの接着剤と共に用いることができることであ
る。回折インデックスが低い(n=1.5−1.6)こ
とによる問題の1つは、2つの本質的に異なる材料(例
えばポリマーとGaAs)を用いたときフレスネル反射
ロスが高いことである。然しながら反射防止膜を用いれ
ばこの影響を小さくすることができる。第1の傾向、即
ちプリント回路VLSI技術における基本的な利益はこ
の技術がGaAsやLD等の多くの光源と両立できるこ
とである。従ってMQW技術は両立できる光源であり、
SPW技術は両立できる材料と言える。
【0041】広い範囲の条件変化を感知するため表面プ
ラズモン波相互作用を基礎とする、高感度受動的感知装
置が用いられている。感知すべき条件は感知媒体の光学
特性、従って共振条件を変える。TM強度も変化する。
この強度変化はファイバーの他端で検出され、感知すべ
き領域の測定値となる。このような受動的センサは例え
ばガス、化学物質、温度、ストレス、張力及び磁界を感
知するために用いられる。これらセンサの型はポスター
ペーパー著“表面プラズモン波共振結合を基礎とする光
ファイバーセンサ”に示されている。プリズムを基礎と
する表面プラズモンセンサは米国特許第4,844,6
13号明細書に示されている。
【0042】
【発明が解決しようとする課題】表面プラズモン波変調
器はMQW変調器に優る多くの利点を有する。然しなが
ら上述のように従来の表面プラズモン波変調器は、その
光源がHeNe等のかさばった高価なレーザーを光源と
する自由空間光ビームと、表面プラズモン波を支持する
金属−絶縁体界面との間を結合するためプリズムを用い
るかさばった光学タイプである。大型のシステムは安定
性と整列性に問題がある。更にSPW大型光学システム
の速度上の利点はMQW型システムのそれよりそれほど
大きくない。従って超高速小型SPW変調器が必要とさ
れている。
【0043】本発明の目的は改良された表面プラズモン
波変調器を得るにある。
【0044】
【課題を解決するための手段】本発明の表面プラズモン
波変調器はポリマーガラス材料と、超高周波数における
変調レーザ光のための超高速光電制御媒体とを有する。
能動的表面プラズモン波変調器は案内された光波を、金
属電極と案内された光波を含む光通路に接近して配置さ
れた光電材料との界面において発生する表面プラズモン
波と結合するもので平らに集積された形又は光ファイバ
ーフォーマットの何れかに形成される。光波は光通路内
で内面的に全反射され光通路の境界の外側に延びる次第
に消える波によって囲まれている。
【0045】表面プラズモン波は金属−光電材料の何れ
かの側における金属電極に外部電磁界を加えることによ
って上記材料の界面に発生し、光通路を通る次第に消え
る光波部分に結合される。2つの波間の結合が強いとき
光エネルギは表面プラズモン波によって吸収され、光の
強度が減少し、弱いときは光の強度の減少が少ない。
【0046】本発明の表面プラズモン波変調器によれば
大型変調器における大型及び整列の問題を解消でき、金
属−絶縁体界面を有する切換システムが全体として光源
の外側に配置され、光波ガイドがビーム変形と挿入ロス
を十分に低下せしめる。本発明の変調器は寸法制限のあ
る集積光学回路内においても使用できる。10-3より少
ない光電材料の回折インデックスの変化によって切り換
えを達成でき、この結果表面プラズモン波変調器に加え
るべき電圧を最小となし得る。
【0047】
【実施例】以下図面によって本発明の実施例を説明す
る。電磁モード(TM偏光)で操作される本発明の好ま
しい実施例のプラズモン波変調器は、主としてその界面
においてプラズモン波を発生し(界面で最大であり、界
面から離れるに従って指数的に減衰する)界面に極めて
近い光の特性に極端に感度を有する複合伝播定数を有
し、TM偏光のための光波伝播ロスが高い。
【0048】図7A,7Bは本発明の表面プラズモン波
変調器10を示す。この表面プラズモン波変調器10
は、2つの金属電極18A,18Bと、この間に挟まれ
ている光電材料20と、2つの電極間に挟まれている層
に対向する被覆材料14の2つの層と、この2つの層間
に挟まれている単一モードの平らなウエーブガイド12
より成る平らな多層構造である。この多層構造内の各層
の回折インデックスを図7Bに示す。被覆材料14の最
上部の層の回折インデックスはn1であり、平らなウエ
ーブガイド12の回折インデックスはn2であり、被覆
材料14の下層の回折インデックスはn3であり、バッ
ファ層16の回折インデックスはn4であり、両金属電
極18A,18Bの複合回折インデックスはn5であ
り、光電材料20の回折インデックスはn6である。
【0049】図7Bに示すようにウエーブガイド12の
回折インデックスn2は被覆材料14の回折インデック
スn1,n3より大きく、又この回折インデックスn2
はバッファ16の回折インデックスn4よりも大きい。
光電材料20の回折インデックスn6はウエーブガイド
12の回折インデックスn2より小さい。
【0050】平らな多層表面プラズモン波変調器10内
の各層の相対的な厚さは、光波のTM部分と、金属−光
電材料界面において発生した表面プラズモン波との結合
を得るためには絶対的なものである。ウエーブガイド1
2と、電極18Aと光電材料20間の金属−絶縁体界面
との間の距離は小さくしなければならない。下側の被覆
材料14の層、バッファ層16(約0.1μm)、両電
極18A,18B及びこの電極間に挟まれた光電材料2
0の全体としての厚さは好ましくは0.5μm程度であ
り、一方平らなウエーブガイド12の厚さは好ましく6
μmである。ウエーブガイド層を含めた表面プラズモン
波変調器10全体の厚さは10μmのオーダーである。
【0051】電極18A、18Bとこれによって挟まれ
た光電材料20の全体の長さは100μm程度に短かく
でき、これは変調器10の能動領域を定める。同様にし
て電極の長さは10μm程度に極端に短くできる。変調
器10の高度に集積した構成は極端にコンパクトにで
き、同様にしてでこぼこにでき、環境の変化に抵抗でき
るものとなる。
【0052】被覆材料14は好ましくは光学ウエーブガ
イドを包むために用いられる。この被覆の最も重大な制
限はウエーブガイド12と光電材料20間の被覆材料1
4の層を薄くしなければならないことである。光学ウエ
ーブガイド12には好ましくは1つの光波モードを支持
する、即ち単一モードウエーブガイドとする。光電材料
20は被覆材料14とバッファ16の2つの薄い中間層
によってウエーブガイド12から分離されているためウ
エーブガイド12の材料を例えばGaAs(又はガラ
ス)のような中性にできる。一般にウエーブガイドの材
料は光波の伝達に好適な光学的に透明な材料となし得
る。バッファ層16はウエーブガイド12の回折インデ
ックスより小さい回折インデックスの絶縁材料によって
作ることができる。好ましいバッファ材料は弗化カルシ
ウムCaF2 である。金属電極18A、18Bは好まし
くは金、アルミニウム、銀又は他の類似の金属によって
作り、その厚さを100Aのオーダーとする。YeBa
CuOのような超電導体をも使用することができる。
【0053】光電材料20は光電ポリマーと呼ばれるセ
カンドオーダーの非線形ポリマーであることが好まし
く、このようなものはピコセコンドのオーダーの応答時
間を有し、振幅変調に要求される回折インデックスは1
-2以下と極めて低い。これらのものを含む光電ポリマ
ーはデュポン アンド セラネーズによって作られてい
る。好ましいポリマーはメチルニトロアニリンである。
従来の変調器ではナノセコンドのオーダーの応答時間を
有する強電クリスタルのような液晶が用いられており、
これは本発明においても同様に用いることができる。
【0054】液晶には10ボルト程度の高い電圧を加え
る必要がある。セレニーズポリマーのような新しいポリ
マーは3.3ボルトで十分である。然しながら本発明の
好ましい光電ポリマーは1ボルトのオーダーの電圧で十
分である。代表的なLC速度は1ミリセコンドのオーダ
ーであり、スメクチックLC速度は約20ナノセコンド
のオーダーであり、PLZTは70ナノセコンド以下の
オーダーであり、これに対し代表的な光電ポリマーでは
その速度はピコセコンド以下のオーダーではるかに高
い。
【0055】好ましい光電ポリマーは以下の3つの重要
な点でLCより秀れている。即ち要求される電圧が2桁
低い。速度が3桁高い。コントラスト比が1桁良い。更
に伝播は最も重要なIR領域(0.7−1.3μm)近
くにある2つの型の材料に比較可能である。
【0056】高い駆動電圧を必要とするPLZTのよう
な光回折材料も同様にして用いられる。然しながら本発
明の変調器10の光電材料20の層としては極端に高い
感度と超高速応答時間を有する光電ポリマーを選択する
必要がある。
【0057】表面プラズモン波変調器10は、例えばレ
ーザダイオード(LD)からの光波の単一モードウエー
ブガイド12によって作られる次第に消える波の相互作
用によって操作される。既に述べたようにウエーブガイ
ド12は極端に薄いので1つのモードのみを支持する。
金属電極18A、18B間に印加される電圧によって光
電材料20の回折インデックスn6が変わる。必要とさ
れる電圧の値は特別な表面プラズモン波変調器10のた
めに選ばれた光電材料20の感度に正比例する。
【0058】2つの異なる光学モードを表面プラズモン
波変調器10内で支持することができる。その1つはウ
エーブガイド12のコアによるコアモードであり、他は
金属電極18と光電材料20の層との間の界面における
表面プラズモン波界面モードである。ガイドされたコア
モードからのエネルギは、2つのモードの相速度が合致
したとき表面プラズモン波界面モードに共振的に結合さ
れる。この相合致条件は、電界を加えて光電材料20の
回折インデックスを変化することによって制御できる。
薄いバッファ層16は相合致条件を満足させるためのも
のである。光波のTM偏光成分は表面プラズモン波界面
モードに結合され、一方TE偏光は不変のままである。
従って入射光がTM偏光されていれば、そのパワーは相
合致例における界面モードに結合される。相が合致しな
いときはTM偏光パワーは不変のままであり、一方界面
モードは抵抗加熱として金属電極内に放散される。従っ
て出力パワーレベルは加えられる電界によって制御され
る。金属電極18A、18Bと光電材料20とより成る
切換システムはLDのみならずウエーブガイドに対して
も全体として外側に位置される。この結果ビーム変形と
挿入ロスが十分に低下される。
【0059】図8は図1に示す表面プラズモン波変調器
の特性を示し、この変調器における金属電極の厚さtm
は100オングストローム、バッファの厚さtB は0.
1μm、バッファインデックスnB (nB =n4 )は
1.39である。図8にはミリメータ当たりのTM伝播
ロスをdbで示しており、又光電材料インデックスに対
するモードインデックスの関係を示している。図8のカ
ーブはウエーブガイド12を通る光波のTM偏光の単一
モード伝播のためのマクスウエルの方程式を解くことに
よって得られる。実線のカーブ26はTMロスを示し、
光電材料の回折インデックスがnSPW の部分で急激に変
化している。この部分においてはTM伝播ロスは2db
/mmから約75db/mmに急増している。
【0060】図8の点線のカーブ28はモードインデッ
クスを示し、光電材料の回折インデックス(n6 )27
の点でピークとなっている。このピークの点では光波モ
ードと表面プラズモン波モードとの間の結合が最大であ
り、従って表面プラズモン波モードによる光波モードの
TM伝播部分の吸収が最強となる。この回折インデック
スn6 において共振効果特性が急変する。
【0061】図9A−9Cは光電材料と電極との積層体
に加える電圧によって出力が変わる状態を示す。図9A
は所定の電圧及び波長におけるウエーブガイド内でのガ
イドモード波の角度に対する出力変化を示す。図9Bは
異なる電圧と所定の波長におけるガイドモード角に対す
る出力変化を示す。上記電圧変化によって共振点がづれ
るようになる。従って光電材料の何れかの側の電極に加
える電圧を変えれば2つのカーブV1 とV2 の垂直線2
9上の点AとB間で示されるように出力が変化する。カ
ーブV1 とV2 ではウエーブガイド内のガイドモード角
が互いに異なる。ガイドモード角が大きくなればカーブ
2 の出力が大きくなる。これら2つの異なるガイドモ
ード角は複数モードシステムにおける2つの区別された
モードに対応する。
【0062】カーブV2 に対応する第2のモードではカ
ーブV1 とV2 の垂直線30上の点C、D間で示される
ように夫々出力が変化する。出力変化はθR1 で最も大
きく変調の深さも最大となる。
【0063】図9Cは印加電圧の異なる2つのカーブV
1 , 2 に対する回折インデックスの変化を示す。ここ
で電圧V2 での光電材料の回折インデックスnV2は電圧
1での光電材料の回折インデックスnv1と、これら2
つの電圧における2つのインデックス間の差Δnとの和
に等しい。出力変化を大きくするためにはnの値を10
-3のオーダーだけ変えるだけで良い。
【0064】上記のカーブは光波の波長λが0.83μ
mの場合である。本発明の表面プラズモン波変調器10
はこれを構成する層の厚さと回折インデックスによって
その特性が大きく変化し、表面プラズモン波によって光
波のTM部分を3db吸収するため、即ちTMロスを3
db変えるためには回折インデックスを10-3のオーダ
ーで小さく変えるのみで良い。
【0065】従って表面プラズモン波変調器10の設計
に際しては、伝播波ベクトルが波長のモード特性のカッ
トオフ共振周波数に近くなるようレーザダイオード光を
ウエーブガイド12内に加えるようにする。換言すれば
特殊な変調器のための上記のカーブを得るためにはウエ
ーブガイド12内の光の波長を共振波長に接近するよう
に(又はシステムの構成によってはその逆)調節し、境
界条件を入れたマクスウエルの方程式を解くようにす
る。
【0066】回折インデックスがn6である特定の光電
材料のためには特定の共振周波数を見出す必要がある。
この値が見出されたとき共振周波数に近い周波数の光源
を設定し、光電材料20の回折インデックスを極めて僅
か変えるのみで光電材料を共振せしめ、その表面プラズ
モン波を光波モードに結合できるようにする。このよう
にすればTMウエーブガイドモードの強度ロスを、外側
に配置した光電材料20の回折インデックスの変化が3
×10-3当たり1dbの非常に大きい傾斜に沿ったもの
とすることができる。光と長い摂動ウエーブガイド間の
相互作用長さを10μm以上にすることによって外部回
折インデックス変調の変化に対する変調器の感度を10
-4に増加することができる。
【0067】本発明の変調器10の主な利益の1つは電
極18A、18Bの面積が小さいため相互作用長さが極
端に短く、その結果システムの時定数が極めて短くなる
ことである。従って変調器10の応答は、変調器10の
構造によって僅かに制限されるのみであり、セカンドオ
ーダーの非線形ポリマーを含む光電材料20の選択によ
って主として定めることができる。
【0068】一方電極は抵抗ロスの極めて低いSrCa
CuOやYB CuO等の超電動物質によって作ることが
できる。
【0069】表面プラズモン波変調器10はウエーブガ
イド12内を移動する光波モードの次第に消える波部分
と表面プラズモン波モードとの結合効果を基礎としてい
る。電極−光電材料集積体が完全にウエーブガイド外に
位置しているため表面プラズモンモードはウエーブガイ
ド12内の光波の次第に消える波のみに実質的に影響す
る。
【0070】光路内を移動する光波は内面的に全反射す
るため、必然的にファイバーコア内のガイド波と同一方
向で被覆材料内を移動する次第に消える波の形の電磁エ
ネルギが発生する。次第に消える波はファイバーから半
径方向にエネルギを運ぶことはないが、光のオーバーフ
ローの形でファイバーに沿ってパワーを運ぶ。半径方向
では次第に消える波は被覆の0.5μmのオーダーの被
覆半径の数分の一である1/e間隔の指数関数的に減少
する振幅の波である。次第に消える波のエネルギが除去
又は吸収されたときウエーブガイド12内を移動する光
の強度が減少する。特に光ファイバー用途ではこのパワ
ーもれは長い距離の効果的光伝達の目的に有害であるた
め好ましくない。然しながら表面プラズモン波変調器1
0の使用に際してこのパワーもれを正しく制御すること
によってウエーブガイド又はファイバー内の光の振幅は
変調でき、この結果情報によってコード化でき、又は非
パルス状光源からパルス状光源を作り得る。
【0071】光の振幅変調はマイクロウエーブのような
極めて高い周波数で行うことができ、かくして変調器1
0によってテラヘルツ領域内での周波数変調を達成でき
る。相互作用長さLを僅か大きくすることによって光電
材料の回折インデックスを10-4又はそれ以下に変える
ことができる。
【0072】図10は光ファイバー装置とした表面プラ
ズモン波変調器30′を示す。図10において32は被
覆34を有する光ファイバーケーブルであり、36はそ
の被覆34の一部を除去したコアである。バッファ層3
8は被覆34の一部を除去することによってその外径の
減少された部分に配置されている。金属箔40がバッフ
ァ層38の頂面に配置されており、光電材料42と金属
電極44が金属箔40の頂面に配置されている。コア3
6の外側と被覆34及びバッファ層38内に延びる次第
に消える波を有しコア36内を移動する光波は、光電材
料42の回折インデックスを変えて共振せしめるに十分
な電圧を金属箔40と金属電極44間に加えることによ
って金属箔40と光電材料42との間の界面に発生する
表面プラズモン波と結合せしめることができる。本発明
の集積した平らなウエーブガイド装置の例ではコア36
内の光波のTM部分の伝播は光電材料の共振周波数で表
面プラズモン波によって吸収することができ、このコア
36内の光波は極端に高い周波数でパルス化して例えば
パルスレーザとしたり、遠隔地へ光ファイバーケーブル
で伝達すべき情報でコード化することができる。
【0073】変調器10、30′は金属電極に加えられ
る高周波電圧による光電材料の回折インデックス変化に
敏感であり、光電材料の特定な回折インデックス値で光
波のTMモードが共振結合によって減衰表面プラズモン
モードと結合する。
【0074】高周波マイクロウエーブ(100GHzま
で)を本発明変調器の能動領域(電極端部間の面積)に
結合するため移動波電極構造が必要とされる。図11は
50オームのインピーダンスを有する高周波移動波(1
GHz以上)に合致する電極構造50を示す。図11に
示すようにマイクロ波エネルギを含む同軸ケーブル52
は、第2のマイクロストリップ電極58をその下面に有
する光電材料56の頂面に配設した第1のマイクロスト
リップ電極54に結合される。変調すべき光波は電極構
造50の最上部層である平らなウエーブガイド60内に
運ばれる。同軸ケーブル52内のマイクロ波エネルギは
光電材料56の回折インデックスを変化し、光電材料5
6の共振周波数において光電材料56とマイクロストリ
ップ電極56との間の界面を移動する表面プラズモン波
が平らなウエーブガイド60内を移動する光波の次第に
消える波部分に結合される。この結果同軸ケーブル52
内を移動するマイクロ波の周波数とエネルギの変化に応
じて光波のエネルギが減少する。絶対的な条件はマイク
ロ波と光の両電磁波の相速度の合致であり、これは種々
の層の相対的材料定数を適当に調節することによって達
成することができる。
【0075】レーザ光等の光波をウエーブガイド60内
にエッジ結合せしめるためにはグリン(grin)レン
ズを有する従来のレーザダイオードを用いることができ
る。出力光は解析による光検出器によって検出すること
ができる。プラズモン変調器の周波数レスポンスは電極
を駆動する掃引発振器、高速GaAs光検出器及び光検
出電流を受け取るスペクトルアナライザを含むマイクロ
波測定装置を用いることによって測定できる。発振器、
スペクトルアナライザ及び測定値の図形表示装置を制御
するため卓上コンピュータを使用できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来のオットーの表面プラズモン波発生器の説
明図である。
【図2】従来のクレットシーマンの表面プラズモン波発
生器の説明図である。
【図3】本発明の変調器における金属と絶縁体の異なる
組合せと、達成可能な回折インデックス変化との比較を
示す説明図である。
【図4】λ0 =0.83μmでの金属絶縁物界面を通る
表面プラズモン波の説明図である。
【図5】運動量とエネルギ不滅の法則が直接結合によっ
ては同時に満足されないことを示すグラフである。
【図6】表面プラズモン波変調器の時間に対する伝達状
態のオン,オフを示す線図である。
【図7A】本発明の平らな形の表面プラズモン波変調器
の説明図である。
【図7B】本発明の平らな形の表面プラズモン波変調器
の各層の回折インデックスの説明図である。
【図8】光電材料のインデックスの共振とロスの関係を
示すグラフである。
【図9A】印加電圧に応じた出力とガイドされた波のモ
ード角の関係を示すグラフである。
【図9B】印加電圧に応じた出力とガイドされた波のモ
ード角の関係を示すグラフである。
【図9C】印加電圧に応じた出力とガイドされた波のモ
ード角の関係を示すグラフである。
【図10】本発明の光ファイバーの形の表面プラズモン
波変調器を示す説明図である。
【図11】本発明の表面プラズモン波変調器におけるマ
イクロストリップ電極を用いた表面プラズモン波変調器
の説明図である。
【符号の説明】
7A 金属電極 7B 金属電極 10 表面プラズモン波変調器 12 ウエーブガイド 14 被覆材料 16 バッファ層 18 金属電極 20 光電材料 29 垂直線 30 垂直線 30′ 表面プラズモン波変調器 32 光ファイバーケーブル 34 被覆 36 コア 38 バッファ層 40 金属箔 42 光電材料 44 金属電極 50 電極構造 52 同軸ケーブル 54 マイクロストリップ電極 56 光電材料 58 マイクロストリップ電極 60 ウエーブガイド
フロントページの続き (72)発明者 ジョアンナ エル. ジャンソン アメリカ合衆国 カリフォルニア州 90505 トーランス ビア エル セレノ 2629 (72)発明者 ベザド モスレヒ アメリカ合衆国 カリフォルニア州 90277 レドンド ビーチ ノースルシア アベニュー 724

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光波を運ぶための平らなウエーブガイド
    と、このウエーブガイド上に配置した相合致層と、可変
    電磁界が加えられる2つの電極と、この2つの電極によ
    って挟まれ、その回折インデックスが電磁エネルギによ
    って変化される材料とより成り、この材料とこれを挟む
    上記電極が光波の次第に消えていくフィールド内で上記
    相合致層上に配置されていることを特徴とする光変調
    器。
  2. 【請求項2】 上記平らなウエーブガイドが光波を内面
    的に全反射する単一モードのウエーブガイドである請求
    項1記載の光変調器。
  3. 【請求項3】 光波を運ぶための、その一部が被覆され
    ていない光ファイバーと、この光ファイバーの被覆され
    ていない部分上に配置した相合致層と、2つの電極によ
    って挟まれ、その回折インデックスが電磁エネルギによ
    って変化される材料とより成り、上記2つの電極に可変
    電磁界が加えられ、上記材料とこれを挟む上記電極が光
    波の次第に消えていくフィールド内で上記相合致層上に
    配置されていることを特徴とする光変調器。
  4. 【請求項4】 上記光ファイバーが光波を内面的に全反
    射する単一モードのウエーブガイドである請求項3記載
    の光変調器。
  5. 【請求項5】 上記電極が金等の導体である請求項1又
    は3記載の光変調器。
  6. 【請求項6】 上記材料が強電液晶又は光電ポリマーよ
    り成る請求項1又は3記載の光変調器。
  7. 【請求項7】 2つの電極間に位置する上記材料の回折
    インデックスが光によって影響される請求項1又は3記
    載の光変調器。
  8. 【請求項8】 光波の源がレーザである請求項1記載の
    光変調器。
  9. 【請求項9】 その回折インデックスが印加電圧に対応
    する材料と、この材料を挟持してこれに異なる電圧を印
    加するための2つの電極の一つとの間の界面に形成され
    る表面プラズモン波にウエーブガイド内を移動する光波
    を結合するための機構と、上記結合のための機構と上記
    ウエーブガイド間に配置された相合致層とより成り、電
    圧によって発生された表面プラズモン波に応じて光波の
    強度が変化するようになることを特徴とする光波の強度
    変調装置。
  10. 【請求項10】 上記電極間に加えられる電圧がマイク
    ロ波発生器によって発生される請求項9記載の光波の強
    度変調装置。
  11. 【請求項11】 上記材料が絶縁物である請求項9記載
    の光波の強度変調装置。
  12. 【請求項12】 上記材料が光電物質である請求項9記
    載の光波の強度変調装置。
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