JPH05299316A - Semiconductor manufacturing equipment - Google Patents

Semiconductor manufacturing equipment

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JPH05299316A
JPH05299316A JP12536492A JP12536492A JPH05299316A JP H05299316 A JPH05299316 A JP H05299316A JP 12536492 A JP12536492 A JP 12536492A JP 12536492 A JP12536492 A JP 12536492A JP H05299316 A JPH05299316 A JP H05299316A
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JP
Japan
Prior art keywords
data
event
collection
semiconductor manufacturing
time
Prior art date
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Application number
JP12536492A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Osamu Hatano
治 畑野
Yutaka Naruse
豊 鳴瀬
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Kokusai Electric Corp
Original Assignee
Kokusai Electric Corp
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH05299316A publication Critical patent/JPH05299316A/en
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    • Y02P90/30Computing systems specially adapted for manufacturing

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  • General Factory Administration (AREA)
  • Management, Administration, Business Operations System, And Electronic Commerce (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain a semiconductor manufacturing equipment simply capable of conducting set, change, addition, etc., of collection data and their measurement condition. CONSTITUTION:Whether an event ID corresponding to previously set data collection parameter exists is judged (step 102) for each so-called process recipe. When it is judged that the event ID exists, a parameter is read (step 104). When it is judged that the event ID does not exist, data collection process is ended (step 114). After the parameter is read (step 104), whether spot time for designating measurement time exists is judged (step 106). When it is judged that the spot time does not exist, data are immediately inputted. When it is judged that the spot time exists, data are inputted after the designated time is past (step 108 and step 110).

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、CVD等の半導体の製
造プロセスの一部又は全部を実行する半導体製造装置に
係り、特に、処理中における各種デ−タの収集を行う機
能を有する半導体製造装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor manufacturing apparatus for performing a part or all of a semiconductor manufacturing process such as CVD, and more particularly to a semiconductor manufacturing apparatus having a function of collecting various data during processing. Regarding the device.

【0002】[0002]

【従来の技術】拡散・CVD処理は半導体製造プロセス
の中において重要な処理である。これら拡散処理やCV
D処理を、比較的小さな占有空間で行えるようにしたも
のとして一つの筐体に構成された半導体処理装置が多数
提案されており、実用に供されている。かかる、半導体
製造装置による半導体処理中における処理部分の温度、
圧力、ガス流量等の諸デ−タは、処理が滞りなく行われ
ているか否かを判断するのに重要である。
2. Description of the Related Art The diffusion / CVD process is an important process in the semiconductor manufacturing process. These diffusion processing and CV
A large number of semiconductor processing apparatuses configured in one housing have been proposed and put to practical use as those capable of performing D processing in a relatively small occupied space. Such a temperature of a processing portion during semiconductor processing by the semiconductor manufacturing apparatus,
Various data such as pressure and gas flow rate are important for determining whether or not the processing is being performed smoothly.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来、
この諸デ−タの監視、収集は、例えば、装置のいわゆる
インストレ−ションプログラム(立ち上げ処理)の際に
予め指定するようになっているので、所望するデ−タを
一旦設定した後にデ−タの種類やその測定条件等の変
更、追加等を行おうとしても、簡易に且つ即座にでき
ず、このため融通性ある装置の監視ができないという問
題があった。
[Problems to be Solved by the Invention] However, in the past,
The monitoring and collecting of various data are specified in advance, for example, during a so-called installation program (start-up process) of the apparatus. Therefore, once the desired data is set, the data is set. There is a problem that even if an attempt is made to change or add the type of data or its measurement conditions, it cannot be done simply and immediately, and thus flexible equipment cannot be monitored.

【0004】本発明は、上記実情に鑑みてなされたもの
で、半導体処理に関するデ−タの変更、追加、削除等が
簡易にでき、所望デ−タの監視が容易な半導体製造装置
を提供することを目的とするものである。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and provides a semiconductor manufacturing apparatus in which data relating to semiconductor processing can be easily changed, added, deleted, and desired data can be easily monitored. The purpose is that.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
め本発明に係る半導体製造装置は、複数の半導体処理工
程を実行することにより所定の所望の半導体を形成する
半導体製造装置において、前記半導体処理工程に関する
所望の収集デ−タ及びその測定条件を指定するデ−タ指
定手段と、前記複数の半導体処理工程の実行毎に当該半
導体処理工程において前記デ−タ指定手段より指定され
たデ−タが生ずるか否かを判定する判定手段と、この判
定手段によって前記デ−タ指定手段により指定されたデ
−タが生ずると判定された場合、当該半導体処理工程の
実行中に前記指定されたデ−タを収集するデ−タ収集手
段と、を具備してなるものである。
In order to solve the above problems, a semiconductor manufacturing apparatus according to the present invention is a semiconductor manufacturing apparatus for forming a predetermined desired semiconductor by executing a plurality of semiconductor processing steps. Data designating means for designating desired collection data and processing conditions for the processing step, and data designated by the data designating means in the semiconductor processing step each time the plurality of semiconductor processing steps are executed. And a determination means for determining whether or not data is generated, and when the determination means determines that the data designated by the data designating means is produced, the designation is made during execution of the semiconductor processing step. And a data collecting means for collecting data.

【0006】[0006]

【作用】複数の半導体処理工程において、収集を所望す
る各種デ−タ及びその測定条件は、デ−タ指定手段によ
り随時指定、変更、追加等ができ、このデ−タ指定手段
により指定されたデ−タが、デ−タ収集手段により収集
される。したがって、従来と異なり、装置のいわゆるイ
ンストレ−ションの際に限らずデ−タ指定手段により収
集デ−タ及びその測定条件の指定、変更、追加等を任意
の時点で行うことができ、所望するデ−タの収集が簡易
にできることとなるものである。
In a plurality of semiconductor processing steps, various data desired to be collected and the measurement conditions thereof can be designated, changed, added, etc. at any time by the data designating means, and designated by the data designating means. The data is collected by the data collecting means. Therefore, unlike the prior art, not only at the time of so-called installation of the apparatus, but it is possible to specify, change, add, etc., the collected data and the measurement conditions thereof at any time by the data designating means, which is desirable. The data can be collected easily.

【0007】[0007]

【実施例】以下、本発明に係る半導体製造装置の実施例
について図面を参照しつつ説明する。先ず、図3及び図
4を参照しつつ本実施例における半導体製造装置の機構
的構造を中心に説明する。ここで、図3は本実施例にお
ける半導体製造装置の外観構造の一例を示す全体斜視
図、図4は図3に示された半導体製造装置の操作パネル
部の拡大正面図である。本実施例における半導体製造装
置は、例えばCVD又は拡散処理を行うもので、図3に
示すような縦長の筐体に、拡散炉等が収納されており、
特に、その全面の中央やや下側で且つ右側には、画面表
示部2を有する操作パネル1が設けられている(図3及
び図4参照)。この操作パネル1は、後述する収集デ−
タの指定を等を行うと共に、その指定されたデ−タが画
面表示部2に表示されるようになっているものである。
Embodiments of the semiconductor manufacturing apparatus according to the present invention will be described below with reference to the drawings. First, the mechanical structure of the semiconductor manufacturing apparatus in this embodiment will be mainly described with reference to FIGS. 3 and 4. 3 is an overall perspective view showing an example of the external structure of the semiconductor manufacturing apparatus in this embodiment, and FIG. 4 is an enlarged front view of the operation panel section of the semiconductor manufacturing apparatus shown in FIG. The semiconductor manufacturing apparatus in this embodiment performs, for example, CVD or diffusion processing, and a diffusion furnace or the like is housed in a vertically long casing as shown in FIG.
In particular, an operation panel 1 having a screen display unit 2 is provided on the lower right side of the center of the entire surface (see FIGS. 3 and 4). This operation panel 1 is used for collecting data described later.
The data is designated, and the designated data is displayed on the screen display unit 2.

【0008】図2には、この半導体製造装置のデ−タ収
集機能を果たす部分を中心にした概略的な電気的構成の
一例を示すブロック図が示されており、以下、同図を参
照しつつその構成を説明する。この半導体製造装置、特
に、デ−タ収集機能を果たす部分は、本装置全体の制御
を行うCPU3と、温度値測定及びヒ−タ−制御を行う
温度制御回路4と、圧力測定及び圧力制御を行う圧力制
御回路5と、ガス流量値測定及びガス流量制御を行うガ
ス流量制御回路6と、図示しない半導体処理部のモ−タ
等の駆動制御を行う駆動制御回路7と、前述の各制御回
路4乃至7のシリアル信号を制御する回線制御回路11
と、外部記憶装置(メモリカ−ド)インタ−フェ−スを
有する操作パネルと、を含んでなるものである。ここ
で、CPU3は、中央処理部、インタ−フェイス部等を
含んでなる公知・周知の構成を有するものである。
FIG. 2 is a block diagram showing an example of a schematic electrical configuration centering on a portion that performs a data collecting function of this semiconductor manufacturing apparatus. The configuration will be described while. This semiconductor manufacturing apparatus, in particular, the part that performs the data collection function, has a CPU 3 that controls the entire apparatus, a temperature control circuit 4 that performs temperature value measurement and heater control, and pressure measurement and pressure control. A pressure control circuit 5, a gas flow rate control circuit 6 for measuring the gas flow rate value and controlling the gas flow rate, a drive control circuit 7 for controlling the drive of a motor of a semiconductor processing unit (not shown), and the control circuits described above. Line control circuit 11 for controlling serial signals 4 to 7
And an operation panel having an external storage device (memory card) interface. Here, the CPU 3 has a known / known configuration including a central processing unit, an interface unit, and the like.

【0009】次に、操作パネル1による所望するデ−タ
に関するパラメ−タの編集操作手順について説明する。
先ず、パラメ−タ編集作業に入る前の画面表示部2は、
図5に示されるような表示状態となっている。この画面
は、半導体製造装置の動作により実行される複数のプロ
セスレシピ(半導体処理の処理条件を言う。)の一つを
表示したもので、画面左上部に表示された英数字からな
る文字はこの画面に示されたレシピの名称を示す。一つ
のレシピは複数の処理ステップ(以下、「イベント」と
言う。)からなり、画面上「EVENT」と表示された
部分には、この複数のイベント名称がその処理時刻と共
に示されている。また、画面右上部には、このレシピを
形成するイベントの総数が「TOTAL EVENT
NUMBER」として示されると共に、その下側には、
この全イベントの処理に要する総時間数が「TOTAL
EVENT TIME」として表示されている。さら
に、画面の下側には、操作パネル1において画面表示部
2の直ぐ下側に配置された8個のファンックションキ−
F1〜F8(図4参照)の各機能が表示されている(以
下、「機能表示部」と言う。)。
Next, the procedure for editing the parameters relating to the desired data using the operation panel 1 will be described.
First, the screen display unit 2 before entering the parameter editing work is
The display state is as shown in FIG. This screen displays one of a plurality of process recipes (referred to as processing conditions for semiconductor processing) executed by the operation of the semiconductor manufacturing apparatus. The alphanumeric characters displayed in the upper left part of the screen are The name of the recipe shown on the screen is shown. One recipe consists of a plurality of processing steps (hereinafter referred to as "events"), and in the portion labeled "EVENT" on the screen, the plurality of event names are shown together with their processing times. Also, in the upper right part of the screen, the total number of events forming this recipe is "TOTAL EVENT.
NUMBER ”and below it,
The total number of hours required to process all of these events is "TOTAL
It is displayed as "EVENT TIME". Further, on the lower side of the screen, there are eight function keys arranged on the operation panel 1 immediately below the screen display section 2.
Each function of F1 to F8 (see FIG. 4) is displayed (hereinafter, referred to as “function display section”).

【0010】図5に示されたような画面の表示状態にお
いて、ファンクションキ−F8(機能表示部の表示は
「OTHER」)を押下すると、上述のファンクション
機能表示部の表示は同図(b)に示されるような状態と
なる。その後さらに、ファンクションキ−F3(機能表
示部の表示は「デ−タログ」)を押下すると、画面表示
部2は、図6に示されるような表示状態となって、所望
するデ−タに関するパラメ−タの入力待ちの状態とな
る。
When the function key F8 (the display of the function display portion is "OTHER") is pressed in the display state of the screen as shown in FIG. 5, the above-mentioned display of the function function display portion is shown in FIG. The state becomes as shown in. After that, when the function key F3 (the display of the function display section is “data log”) is further pressed, the screen display section 2 is in the display state as shown in FIG. 6 and the parameter relating to the desired data is displayed. -Waiting for input of data.

【0011】図6は、既に複数のパラメ−タが設定され
ている状態における例であり、同図を参照しつつ表示内
容と共にパラメ−タの入力方法について説明すれば、先
ず、画面左側にパラメ−タの番号(以下、「パラメ−タ
番号」と言う。)が昇番順に示されている。その直ぐ右
側には各デ−タを識別するための識別名称(以下、「デ
−タID」と言う。)が項目名IDの下に表示されてい
る。このデ−タIDは使用者が英文字2文字で自由に設
定することができるもので、その入力にあたっては、先
ず、ファンクションキ−F4(機能表示部の表示は「ア
ルファベット」)を押下する。これにより、ファンクシ
ョンキ−のF1からF7までが図13に示されるように
アルファベット等の入力キ−となり、ファンクションキ
−F8(機能表示は「OTHER」)を押下する毎に図
13に示されるようにファンクションキ−F1乃至7に
対するアルファベットが変化するので、カ−ソル8を図
6に示されるようにIDの欄に移動し、所望するアルフ
ァベットに対応するファンクションキ−を押下すること
によりデ−タIDを入力する。そして、入力を終了する
場合は、F7の[CR]キ−を押下すると、ファンクシ
ョンキ−F1乃至F8の機能は図6に示された状態に戻
ることとなる。尚、カ−ソル8の移動は操作パネル1に
設けられている移動キ−9a〜9dを用いて行うことが
できるようになっている。
FIG. 6 shows an example of a state in which a plurality of parameters have already been set. Referring to FIG. 6, a description will be given of the display contents and the parameter input method. -The number of the data (hereinafter referred to as "parameter number") is shown in ascending order. An identification name (hereinafter, referred to as "data ID") for identifying each data is displayed immediately below the item name ID. This data ID can be freely set by the user with two English characters. To input the data ID, first, the function key F4 (the display of the function display section is "alphabet") is pressed. As a result, the function keys F1 to F7 become input keys such as alphabets as shown in FIG. 13, and each time the function key F8 (the function display is "OTHER") is pressed, as shown in FIG. Since the alphabets for the function keys F1 to F7 change, the cursor 8 is moved to the ID column as shown in FIG. 6 and the data is depressed by pressing the function key corresponding to the desired alphabet. Enter the ID. Then, when the input is finished, the [CR] key of F7 is pressed, and the functions of the function keys F1 to F8 are returned to the states shown in FIG. The movement of the cursor 8 can be performed by using movement keys 9a to 9d provided on the operation panel 1.

【0012】上述したIDの右側には、所望するデ−タ
が得られるイベントに予め付与された番号及び名称が表
示されるEVENT ID欄が設けられている。この欄
には使用者が該当するイベントの番号を操作パネル1の
数字キ−を用いて入力すればよく、番号が入力されると
対応するイベント名称がその右側に自動的に表示される
ようになっている。ここで、この欄に入力される番号と
各イベントとの対応関係は図7に示されたように予め定
められている。この図7に示された各イベントはもちろ
ん各レシピにおいて実行されるものである。
On the right side of the above-mentioned ID, there is provided an EVENT ID column in which the number and the name given in advance to the event for obtaining the desired data are displayed. In this field, the user may enter the number of the corresponding event using the numeric keypad on the operation panel 1, and when the number is entered, the corresponding event name is automatically displayed on the right side. Is becoming Here, the correspondence relationship between the numbers entered in this field and each event is predetermined as shown in FIG. Each event shown in FIG. 7 is, of course, executed in each recipe.

【0013】EVENNT ID欄の右側には、所望す
る収集デ−タを具体的に示すITEM欄が設けられてい
る。この欄の表示は、使用者が数字キ−を操作すること
によって入力されるデ−タ項目番号と、当該番号に対応
するデ−タ名称とからなる。ここでデ−タ項目番号は、
画面右側に表示されているガイド部10の中に番号と、
その番号に対応するデ−タとが示されており、この表示
を参照しつつ所望するデ−タに対応する番号を確認して
数字キ−を用いて入力することによって、その右側に該
当するデ−タ名が自動的に表示されるようになってい
る。本実施例におけるデ−タについて2、3説明すれ
ば、「TEMP」は温度デ−タであることを意味し、こ
の「TEMP」の後に「CH01」とあれば、デ−タを
入力するために複数用意されたデ−タチャンネルの内、
第1チャンネルに入力される温度デ−タであることを意
味する。また、「MFC」はバルブ開度を意味し、この
「MFC」の後に「CH02」とあれば、デ−タを入力
するデ−タチャンネルの内、第2チャンネルに入力され
るバルブ開度であることを意味する。
On the right side of the EVENT ID column, there is an ITEM column that specifically shows desired collection data. The display of this column consists of the data item number input by the user operating the numeric key and the data name corresponding to the number. Here, the data item number is
The number in the guide section 10 displayed on the right side of the screen,
The data corresponding to the number is shown, and by referring to this display, the number corresponding to the desired data is confirmed and the number is input using the numeric key, which corresponds to the right side. The data name is automatically displayed. The data in this embodiment will be described in a few words. "TEMP" means temperature data. If "CH01" follows "TEMP", the data is input. Among multiple data channels prepared in
This means that the temperature data is input to the first channel. Further, "MFC" means the valve opening degree, and if "CH02" follows this "MFC", it is the valve opening degree input to the second channel of the data channels for inputting data. Means there is.

【0014】上述したITEM欄のさらに右側には、収
集デ−タの条件を指定するCONDITION欄が設け
られている。この収集デ−タの条件とは、上述したデ−
タをいかなる状態で収集するのか、すなわち、最大値、
最小値、平均値等を指定するするもので、使用者が画面
右側のガイド部10のCONDITIONの欄に表示さ
れた各条件と、それに対応する番号とを参照して、所望
する条件に該当する番号を数字キ−を使用して入力する
ことにより、対応するデ−タ収集条件名が自動的に表示
されるようなっている。
On the further right side of the above-mentioned ITEM column, there is provided a CONDITION column for designating the condition of the collection data. The conditions of this collection data are the above-mentioned data.
The state of collecting data, that is, the maximum value,
The minimum value, the average value, and the like are designated, and the user refers to each condition displayed in the CONDITION column of the guide unit 10 on the right side of the screen and the corresponding number to meet the desired condition. By inputting the number using the numeric key, the corresponding data collection condition name is automatically displayed.

【0015】上述したCONDITION欄の右側に
は、前述したITEM欄及びCONDITION欄のキ
−入力の際に指針となる事項が表示されたガイド部10
と、ITEM欄で指定されたデ−タを収集する所望の時
間が表示されるSPOT TIME欄が設けられてい
る。本実施例のSPOT TIME欄においては、最大
8個の時間指定が可能であり、所望の時間を操作パネル
1の数字キ−を用いて入力できるようになっている。以
上,述べたようにしてパラメ−タ設定を終えた後は、フ
ァンクションキ−F1(機能表示部の表示は「アウトラ
イン」)を押下することによって図6の画面から図5に
示されたアウトライン画面に戻り、設定されたパラメ−
タに従って各レシピの実行毎に所望のデ−タが収集され
ることとなる。
On the right side of the above-mentioned CONDITION column, a guide section 10 is provided on which a guideline for the key entry of the above-mentioned ITEM and CONDITION columns is displayed.
And a SPOT TIME column for displaying a desired time for collecting the data specified in the ITEM column. In the SPOT TIME column of this embodiment, a maximum of eight times can be designated, and a desired time can be entered using the number keys on the operation panel 1. After setting the parameters as described above, by pressing the function key F1 (the display on the function display section is "outline"), the outline screens shown in FIGS. 6 to 5 are displayed. Return to and set the parameters.
According to the data, desired data is collected each time each recipe is executed.

【0016】次に、上述のようにして設定された所望す
る収集デ−タに関するパラメ−タの格納状態を図8を参
照しつつ説明する。図8は、本装置に設けられた記憶部
(図示せず)におけるパラメ−タの記憶順位を示したも
ので、先ず、1バイト目には、全パラメ−タ数が記憶さ
れる。本実施例において、設定し得るパラメ−タ数は最
大40で、何等パラメ−タが設定されない場合、この領
域には、「00」が格納されるようになっている。この
パラメ−タ数の後には、各デ−タID毎に前述したイベ
ントID等が順に格納されている。
Next, the storage state of the parameters relating to the desired collection data set as described above will be described with reference to FIG. FIG. 8 shows the storage order of the parameters in the storage section (not shown) provided in this apparatus. First, the total number of parameters is stored in the first byte. In this embodiment, the maximum number of parameters that can be set is 40. If no parameter is set, "00" is stored in this area. After the number of parameters, the above-mentioned event ID and the like are sequentially stored for each data ID.

【0017】すなわち、本実施例においては、一つのパ
ラメ−タの集合は、5バイトの領域が使用されており、
その内、デ−タIDには2バイトの領域が確保されて、
この領域にデ−タIDがASCIIコ−ドで格納される
ようになっている。デ−タIDに続いては、イベントI
Dに対して1バイトの領域が確保されており、BCDコ
−ドで前述したイベント番号(図6参照)が格納される
ようになっている。尚、「00」が格納された場合は、
デ−タ収集の対象がないことを意味する。さらに、この
イベントIDの後は、収集デ−タ指定(図6に示された
ITEMに同義)に対して、1バイトの領域が確保され
ており、ここには所望するデ−タに対応するデ−タ番号
が16進コ−ドにより格納される。尚、図8に示された
デ−タ番号に対する各デ−タの種別は図6に示されたガ
イド部10の中に表示されたITEM欄の各デ−タ項目
と同一である。
That is, in the present embodiment, a 5-byte area is used for one parameter set,
A 2 byte area is reserved for the data ID,
The data ID is stored in this area in ASCII code. Following the data ID, Event I
An area of 1 byte is reserved for D, and the event number (see FIG. 6) described above is stored in the BCD code. If "00" is stored,
It means that there is no data collection target. Further, after this event ID, a 1-byte area is reserved for collection data designation (synonymous with ITEM shown in FIG. 6), which corresponds to desired data. The data number is stored in hexadecimal code. The type of each data corresponding to the data number shown in FIG. 8 is the same as each data item in the ITEM column displayed in the guide section 10 shown in FIG.

【0018】収集デ−タ指定の後には、収集方法指定に
対して1バイトの領域が確保されている。ここで、収集
方法とは図6において「CONDITION」と同意義
である。ここには、図6で示された収集デ−タの条件、
すなわち、最大値、最小値等の指定が16進コ−ドによ
り格納されこととなっている。尚、図8に示された収集
方法とそれに対応する番号とは、図6においてガイド部
10に示されたCONDITION欄の記載と同一であ
る。以上、上述したデ−タIDから始まって収集方法指
定までが1パラメ−タ当りの内容であり、本実施例にお
いては、収集すべきデ−タが無い場合を除けばこのパラ
メ−タの数は、最小1から最大40まで可変となってい
る。
After the collection data is designated, a 1-byte area is reserved for the collection method designation. Here, the collection method has the same meaning as "CONDITION" in FIG. Here, the conditions of the collection data shown in FIG.
That is, the designation of the maximum value, the minimum value, etc. is stored in the hexadecimal code. The collection method shown in FIG. 8 and the corresponding numbers are the same as those described in the CONDITION column shown in the guide unit 10 in FIG. As described above, the contents per one parameter start from the above data ID to the designation of the collection method. In this embodiment, the number of this parameter is excluded unless there is no data to be collected. Is variable from a minimum of 1 to a maximum of 40.

【0019】さらに、上述したパラメ−タの集合の後に
は、スポット時間に関するデ−タ領域が確保されてい
る。本実施例においては、既に図6で説明したように8
個までのスポット時間が設定できるようになっている。
そして、1スポット時間は、時、分、秒の表示からな
り、それぞれ、1バイトの領域が確保されている。この
スポット時間の意味は、EVENT ID欄(図6参
照)で指定されたイベントの実行が開始されてから、こ
のスポット時間で指定された時間だけ経過した時点で、
所定のデ−タの収集が開始されることを意味するもので
ある。
Further, after the above-mentioned set of parameters, a data area relating to the spot time is secured. In this embodiment, as described above with reference to FIG.
You can set the spot time up to the number of spots.
Then, one spot time consists of hour, minute, and second display, and a 1-byte area is secured for each. The meaning of this spot time is that when the time specified by this spot time has elapsed since the execution of the event specified in the EVENT ID column (see FIG. 6) was started,
This means that collection of predetermined data is started.

【0020】図8に示されたデ−タ収集パラメ−タの領
域は、収集デ−タが1個の場合を最小とすれば、この場
合のバイト数は、パラメ−タ数の指定に1バイト、パラ
メ−タの指定に5バイト及びスポット時間の指定に24
バイトそれぞれ必要であることから、全部で30バイト
の領域が使用されることとなる。また、最大時、すなわ
ち、40のパラメ−タが指定された場合には、パラメ−
タの領域だけで5×40=80バイト使用されることと
なるので、全部で225バイトの記憶領域が使用される
こととなる。尚、図8に示されたデ−タ収集パラメ−タ
は、本実施例ににおいては、図9に示されるようにプロ
セスレシピデ−タ(各レシピを実行する上で必要となる
デ−タ)の後部に格納されるようになっている。プロセ
スレシピのデ−タサイズとしては、512バイト、10
24バイト又は2048バイトのいずれかのサイズが確
保されるようになっている。このようにプロセスレシピ
デ−タの格納領域の直ぐ後にデ−タ収集パラメ−タの格
納領域を続けることによって、デ−タエリアの無駄のな
い使用が可能となる。
In the area of the data collection parameter shown in FIG. 8, if the number of collection data is one, the number of bytes in this case is 1 for specifying the number of parameters. Byte, 5 bytes for specifying parameters and 24 for specifying spot time
Since each byte is required, a total of 30 bytes will be used. At the maximum, that is, when 40 parameters are specified, the parameters are
Since 5 × 40 = 80 bytes are used only in the data area, a total of 225 bytes of storage area is used. In the present embodiment, the data collection parameters shown in FIG. 8 are process recipe data (data necessary for executing each recipe) as shown in FIG. ) Is designed to be stored at the rear. Data size of process recipe is 512 bytes, 10
A size of either 24 bytes or 2048 bytes is secured. In this way, by continuing the storage area for the data collection parameters immediately after the storage area for the process recipe data, it is possible to use the data area without waste.

【0021】次に、図10乃至図12を参照しつつ具体
的なデ−タ収集例について説明する。図10には、酸化
膜生成のためのプロセスレシピの実行状態を時間の経過
にしたがってあらわした説明図が示されており、同図を
参照しつつ時間の経過に沿って収集されるデ−タについ
て説明する。先ず、スタンバイ状態経過後の第1のイベ
ント(イベント1)すなわち、ランアップと称される工
程の全期間に渡って、チャンネル1から炉内温度につい
ての最大値、最小値がそれぞれ収集される。続く、第2
のイベント(イベント2)すなわち、プレヒ−トと称さ
れる工程においては、指定されたデ−タはないので、デ
−タ収集は行われない。そして、第3のイベント(イベ
ント3)すなわち、デポ(デポジットの略)と称される
工程においては、チャンネル1からこのイベント3の期
間中における炉内温度の平均値が、チャンネル2から酸
素流量の最小及び最大値並びにイベント3開始後時間T
1経過後の値が、それぞれ収集される。また、チャンネ
ル3から塩化水素流量の最大及び最小値並びイベント3
開始後時間T2経過した時点における値が、それぞれ収
集される。
Next, a specific example of data collection will be described with reference to FIGS. FIG. 10 is an explanatory diagram showing the execution state of the process recipe for forming the oxide film with the passage of time, and the data collected along with the passage of time while referring to the same figure. Will be described. First, the first event (event 1) after the lapse of the standby state, that is, the maximum value and the minimum value of the furnace temperature are collected from the channel 1 over the entire period of the process called run-up. Continued, second
In the event (event 2), that is, the process called preheat, there is no designated data, so no data collection is performed. Then, in the third event (event 3), that is, in the process called deposit (abbreviation of deposit), the average value of the furnace temperature during the period of this event 3 from the channel 1 is the oxygen flow rate from the channel 2 Minimum and maximum values and time T after the start of event 3
The values after one lapse are collected respectively. Also, the maximum and minimum values of hydrogen chloride flow rate from channel 3 and event 3
The values at the time when the time T2 has elapsed after the start are collected.

【0022】図11においては、上述したプロセスレシ
ピ実行中における収集デ−タのデ−タID、イベントI
D、デ−タ収集項目及びデ−タ収集方法の対応関係が示
されている。この図11に示された各項目の基本的内容
については、既に説明済みであるので、ここでの詳細な
説明は省略する。
In FIG. 11, the data ID and event I of the collected data during the execution of the process recipe described above.
The correspondence between D, data collection items, and data collection methods is shown. Since the basic contents of each item shown in FIG. 11 have already been described, detailed description thereof will be omitted here.

【0023】図12には、図11に示されたプロセスレ
シピの実行によって得られたデ−タを得るために設定さ
れたデ−タ収集パラメ−タの記憶領域への格納状態が示
されている。同図は、図8で説明したデ−タ収集パラメ
−タの格納状態を、具体的に表現し直したものである。
すなわち、プロセスレシピの実行により収集されるデ−
タ数は図11から明らかなように、9個であるので、記
憶領域の先頭の1バイト目には、「9」が格納される
(図12参照)。続いてパラメ−タ1に関するデ−タが
格納されるが、先ず、デ−タIDであるZ1に対するA
SCIIコ−ド、「5A」及び「31」が2バイトに渡
って格納されている。さらに、その後には、イベントI
D番号の「01」、デ−タ収集項目を表すコ−ド「0
1」及びデ−タ収集方法を表すコ−ド「08」が、それ
ぞれ1バイトの領域に格納されている。
FIG. 12 shows the storage state in the storage area of the data collection parameter set to obtain the data obtained by executing the process recipe shown in FIG. There is. This figure is a concrete representation of the storage state of the data collection parameters described in FIG.
That is, the data collected by executing the process recipe
As is apparent from FIG. 11, the number of data is nine, so that “9” is stored in the first byte at the beginning of the storage area (see FIG. 12). Then, the data regarding the parameter 1 is stored. First, the A for the data ID Z1 is stored.
The SCII code, "5A" and "31" are stored over 2 bytes. Furthermore, after that, Event I
D number "01", code "0" representing data collection item
1 "and the code" 08 "representing the data collection method are stored in each 1-byte area.

【0024】他のパラメ−タについても、基本的に同様
にして各種コ−ドで表現されたものが格納されている。
そして、9個のパラメ−タの後部には、スポット時間が
格納されている。すなわち、パラメ−タ6及び9におい
て、スポット時間T1(22分)及びスポット時間T2
がそれぞれ設定されているので、このデ−タがスポット
1及びスポット2に、それぞれ格納されている(図12
参照)。
As for the other parameters, those expressed by various codes are basically stored in the same manner.
The spot time is stored at the rear of the nine parameters. That is, in parameters 6 and 9, spot time T1 (22 minutes) and spot time T2
Since these are set respectively, this data is stored in each of spot 1 and spot 2 (see FIG. 12).
reference).

【0025】最後に、本装置におけるデ−タ収集の処理
手順について概括的に図1のフロ−チャ−トを参照しつ
つ以下に説明する。先ず、このフロ−チャ−ト示された
処理は、サブル−チンプログラムとして実行されるもの
で、このサブル−チンプログラムは、各プロセスレシピ
毎に図2において示されたCPU3によって実行される
ものである。この処理は、スタ−トステップ100から
開始されステップ102へ進み、イベントIDの検索が
行われる。すなわち、この処理が実行されるプロセスレ
シピの名称に相当するイベントIDがデ−タ収集パラメ
−タ中にあるか否かを判断し、該当するイベントIDが
無いと判断された場合には、ステップ114を介して図
示しないメインプログラムに戻ることとなる。一方、該
当のイベントID有りと判断された場合にはステップ1
04へ進み、デ−タID等のデ−タ収集パラメ−タの読
み込みが行われる。
Finally, the data collection processing procedure of this apparatus will be described below with reference to the flowchart of FIG. First, the processing shown in this flowchart is executed as a subroutine program, and this subroutine program is executed by the CPU 3 shown in FIG. 2 for each process recipe. is there. This process starts from the start step 100 and proceeds to step 102 where the event ID is searched. That is, it is determined whether or not an event ID corresponding to the name of the process recipe in which this process is executed is in the data collection parameter, and if it is determined that there is no corresponding event ID, the step The program returns to the main program (not shown) via 114. On the other hand, if it is determined that the corresponding event ID exists, step 1
In step 04, the data collection parameters such as the data ID are read.

【0026】パラメ−タ読み込みの後は、ステップ10
6において、スポット時間の有無を判断し、スポット時
間の指定有り(YES)と判断された場合はステップ1
08へ進んで、イベント開始時から指定されたスポット
時間までの時間の経過を計時して指定された時間が経過
したところでステップ110へ進むこととなる。一方、
ステップ106において、スポット時間の指定無しと判
断された場合は、直接ステップ110へ進むこととな
る。そして、ステップ110においては、先に読み込ま
れたパラメ−タに基づいて所定のデ−タの入力が行わ
れ、ステップ112へ進んで入力デ−タが図示しない記
憶素子の所定の記憶領域に格納された後、ステップ11
4を介してメインル−チンへ戻ることとなる。
After reading the parameters, step 10
In step 6, it is judged whether or not there is a spot time, and if it is judged that the spot time is designated (YES), step 1
In step 08, the elapsed time from the start of the event to the designated spot time is counted, and when the designated time has elapsed, the routine proceeds to step 110. on the other hand,
If it is determined in step 106 that the spot time is not specified, the process directly proceeds to step 110. Then, in step 110, predetermined data is input based on the previously read parameters, and the process proceeds to step 112 to store the input data in a predetermined storage area of a storage element (not shown). After being done, step 11
You will return to the main routine via 4.

【0027】本実施例においては、所望する収集デ−タ
及びその収集の条件を操作パネル1から指定して収集で
きるだけでなく、その変更、追加、削除が操作パネル1
を用いて随時できるので、半導体処理が円滑に行われて
いるか否かを判断するための諸デ−タを簡易に確実に収
集できデ−タの監視が容易に行える半導体製造装置を提
供できることとなる。
In the present embodiment, not only the desired collection data and the conditions of the collection can be specified and collected from the operation panel 1, but also the change, addition and deletion can be performed on the operation panel 1.
It is possible to provide a semiconductor manufacturing apparatus capable of easily collecting various data for judging whether or not semiconductor processing is smoothly performed and easily monitoring the data, since it can be performed at any time by using Become.

【0028】[0028]

【発明の効果】以上、述べたように、本発明によれば、
装置を一番最初に始動する際に行なう各種条件の設定と
は別個に、半導体処理に関する所望デ−タ及びその収集
条件を独自に設定できるように構成することにより、従
来と異なり、デ−タ及びその測定条件の設定、変更、追
加を随時、簡易に行うことができ、所望のデ−タの監視
が容易な半導体製造装置を提供することができる。
As described above, according to the present invention,
In addition to setting various conditions when the apparatus is started for the first time, the desired data relating to semiconductor processing and the collecting conditions thereof can be set independently so that the data is different from the conventional data. Also, it is possible to provide a semiconductor manufacturing apparatus in which the setting, change, and addition of the measurement conditions can be easily performed at any time, and desired data can be easily monitored.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係る半導体製造装置用デ−タ収集装置
におけるデ−タ収集処理の一連の手順を説明するための
フロ−チャ−ト図である。
FIG. 1 is a flow chart for explaining a series of procedures of data collection processing in a data collection apparatus for a semiconductor manufacturing apparatus according to the present invention.

【図2】本発明に係る半導体製造装置用デ−タ収集装置
の概略構成を示すブロック図である。
FIG. 2 is a block diagram showing a schematic configuration of a data collecting apparatus for a semiconductor manufacturing apparatus according to the present invention.

【図3】本発明に係る半導体製造装置用デ−タ収集装置
が組み込まれる半導体製造装置の外観を示す全体斜視図
である。
FIG. 3 is an overall perspective view showing an appearance of a semiconductor manufacturing apparatus in which a data collecting apparatus for a semiconductor manufacturing apparatus according to the present invention is incorporated.

【図4】図3に示された半導体製造装置の操作パネル部
分の拡大正面図である。
FIG. 4 is an enlarged front view of an operation panel portion of the semiconductor manufacturing apparatus shown in FIG.

【図5】プロセスレシピの内容を表示した状態における
画面表示部の一例を示す正面図である。
FIG. 5 is a front view showing an example of a screen display unit in a state where the contents of a process recipe are displayed.

【図6】デ−タ収集パラメ−タの設定状態における画面
表示部の一例を示す正面図である。
FIG. 6 is a front view showing an example of a screen display unit in a setting state of data collection parameters.

【図7】イベントIDとイベント名称との対応関係を示
す対応図である。
FIG. 7 is a correspondence diagram showing a correspondence relationship between event IDs and event names.

【図8】デ−タ収集パラメ−タの格納状態を概念的に示
す概念図である。
FIG. 8 is a conceptual diagram conceptually showing a storage state of data collection parameters.

【図9】デ−タ収集パラメ−タとプロセスレシピデ−タ
との格納状態における相対位置関係を概念的に示す概念
図である。
FIG. 9 is a conceptual diagram conceptually showing the relative positional relationship between the data collection parameter and the process recipe data in the stored state.

【図10】酸化膜生成のプロセスレシピ実行状態におけ
るデ−タ収集を説明するためのタイミング図である。
FIG. 10 is a timing chart for explaining data collection in the process recipe execution state of oxide film formation.

【図11】図10に示された酸化膜生成における収集デ
−タのデ−タID等のパラメ−タの対応関係を示した対
応図である。
FIG. 11 is a correspondence diagram showing a correspondence relationship between parameters such as data ID of collected data in oxide film generation shown in FIG.

【図12】図10におけるプロセスレシピにおける具体
的なデ−タ収集パラメ−タの格納状態を説明するための
説明図である。
12 is an explanatory diagram for explaining a concrete storage state of data collection parameters in the process recipe in FIG.

【図13】ファンクションキ−のアルファベット入力キ
−としての機能を説明するための説明図である。
FIG. 13 is an explanatory diagram for explaining a function of the function key as an alphabet input key.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…操作パネル、 2…画面表示部、 3…CPU、
8…カ−ソル、10…ガイド部
1 ... Operation panel, 2 ... Screen display unit, 3 ... CPU,
8 ... cursor, 10 ... guide section

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数の半導体処理工程を実行することに
より所望の半導体を形成する半導体製造装置において、
前記複数の半導体処理工程に関する所望の収集デ−タ及
びその測定条件を指定するデ−タ指定手段と、前記複数
の半導体処理工程の実行毎に当該半導体処理工程におい
て前記デ−タ指定手段より指定されたデ−タが生ずるか
否かを判定する判定手段と、この判定手段によって前記
デ−タ指定手段により指定されたデ−タが生ずると判定
された場合、当該半導体処理工程の実行中に前記指定さ
れたデ−タを収集するデ−タ収集手段と、を具備したこ
とを特徴とする半導体製造装置。
1. A semiconductor manufacturing apparatus for forming a desired semiconductor by executing a plurality of semiconductor processing steps,
Data designating means for designating desired collection data and measurement conditions thereof relating to the plurality of semiconductor processing steps, and designation by the data designating means in the semiconductor processing step each time the plurality of semiconductor processing steps are executed. Determining means for determining whether or not the generated data occurs, and when the determining means determines that the data designated by the data designating means will occur, during the execution of the semiconductor processing step. A semiconductor manufacturing apparatus, comprising: a data collection unit that collects the specified data.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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