JPH05290751A - 高周波型イオン源 - Google Patents

高周波型イオン源

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JPH05290751A
JPH05290751A JP4094110A JP9411092A JPH05290751A JP H05290751 A JPH05290751 A JP H05290751A JP 4094110 A JP4094110 A JP 4094110A JP 9411092 A JP9411092 A JP 9411092A JP H05290751 A JPH05290751 A JP H05290751A
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JP
Japan
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electrode
filament electrode
plasma
ion source
high frequency
Prior art date
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Pending
Application number
JP4094110A
Other languages
English (en)
Inventor
Kenichi Yanagi
謙一 柳
Tadashi Rokkaku
正 六角
Kazuya Tsurusaki
一也 鶴崎
Kuniyuki Kajinishi
邦幸 梶西
Mitsuo Kato
光雄 加藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 放電によりプラズマを発生させ、そのプラズ
マからイオンを引き出すイオン源において、フィラメン
ト電極の寿命を延長し、イオン源を長時間安定して運転
することを目的とする。 【構成】 放電を起こすフィラメント電極を棒状とし、
該電極に高周波電力を印加することにより放電プラズマ
を発生させるため、表皮効果により、フィラメント電極
の表面のみを効率的に加熱することができる。この為、
フィラメント電極の断面積を太くしても、何ら問題なく
加熱することができ、フィラメントの寿命を大幅に延長
することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、高周波型イオン源に関
し、イオンアシスト蒸着装置にも適用可能なものであ
る。
【0002】
【従来の技術】図5に従来のイオン源を示す。同図に示
すようにイオン源は、放電によりプラズマを発生させ、
このプラズマからイオンのみを引き出す装置である。即
ち、プラズマ室01には、ディストリビューター室02
を経て中性ガス03が導入されており、その中央にはフ
ィラメント電極04が配置されている。フィラメント電
極04はプラス端子、マイナス端子を介して直流電源0
5に接続して電圧ΔVFが印加される。この為、フィラ
メント電極04は、通電加熱により熱電子を放出する。
フィラメント電極04の材質としては、タングステン等
の高融点金属材料が使用される。
【0003】フィラメント電極04は、プラズマ室01
の内壁面に対して負電位ΔVIとなるように、フィラメ
ント電極04とプラズマ室01との間に直流電源06が
接続されている。従って、フィラメント電極04に通電
して加熱すると、フィラメント電極04とプラズマ室0
1の内壁面との間で中性ガス03は放電を起こしプラズ
マ化することになる。プラズマ中においては、イオンと
電子がほぼ同数だけ存在し、イオンは通常正電荷を持
つ。
【0004】一方、イオン源の出口側には、スクリーン
07、引出電極08が配置されている。スクリーン07
は、プラズマ室01と接続し、等電位となっている。引
出電極08は、スクリーン07と同様な形状であり、プ
ラズマ室01に対して負電位ΔVAとなるように、引出
電極08とプラズマ室01との間には直流電源09が接
続されている。従って、プラズマ中において正電荷を有
するイオンは、負電位の引出電極08へ吸引されてイオ
ンビーム010となり、スクリーン07、引出電極08
を通過して出射することになる。
【0005】更に、プラズマの密度を上げるために、図
中矢印で示す方向に磁界Mを印加するようにしている。
磁界Mは、図3に示す磁界発生用コイル011により形
成される。また、他のイオン源の例としては、図5に示
すように金属蒸気発生炉から金属イオンを供給するよう
にするものもあるが、原理は図5に示すものと同様であ
る。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】従来のイオン源におけ
るフィラメント電極04の抵抗とその発熱量との関係に
ついては、次のようにして求められる。 R=ρ(L/A) …(1) 但し、R:フィラメント電極の電気抵抗(Ω) A:フィラメント電極の断面積(cm2) L:フィラメント電極の長さ(cm) ρ:フィラメント電極の抵抗率(Ω・cm) Q=I2・R =I2・ρ(L/A) …(2) 但し、Q:フィラメント電極の発熱量(W) I:通電電流(A)
【0007】従って、フィラメント電極から単位表面積
当たり発熱する熱流束q(W/cm2)は、次のように求め
られる。 q=Q/π・d・L q=I2・ρ(L/A)/π・d・L …(3) 但し、d:フィラメント電極の直径 ここで、フィラメント電極の断面積Aとその直径dと
は、次の関係がある。 A=π・d2/4 …(4) これを、式(3)に代入すると、次のようになる。 q=I2・ρ(L/π・d2/4)/π・d・L =4I2・ρ/π2・d3 …(5)
【0008】このように、フィラメント電極の直径dを
細くするほど、単位表面積当たり発熱する熱流束qが大
きくなり、高い温度を維持することができる。この為、
従来のイオン源では、プラズマを長く維持するために、
フィラメント電極04の直径をできるだけ細くしてい
た。しかし、フィラメント電極04は高温となり、蒸発
量が多く、また、イオンと衝突して消耗するから、フィ
ラメント電極04を細くするほど、その寿命が短くなる
問題があった。この為、フィラメント電極を使用するイ
オン源は、長時間安定して運転することが出来なかっ
た。
【0009】本発明は、上記従来技術に鑑みてなされた
ものであり、フィラメント電極に高周波電力を印加する
ことにより低温で電子を放出できる高周波型イオン源を
提供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】斯かる目的を達成する本
発明の構成は放電によりプラズマを発生させ、そのプラ
ズマからイオンを引き出すイオン源において、放電を起
こすフィラメント電極を棒状とし、該電極に高周波電力
を印加することにより放電プラズマを発生させ、このプ
ラズマから引出電極によりイオンのみを引き出すことを
特徴とする。
【0011】
【作用】フィラメント電極に高周波を通電すると、表皮
効果により、表面にのみに電流が流れ、表面のみが加熱
される。従って、フィラメント電極の断面積が大きくて
も、フィラメント電極の表面のみが効率的に加熱される
ことになる。
【0012】
【実施例】以下、本発明について、図面に示す実施例を
参照して詳細に説明する。図1、図2に本発明の一実施
例を示す。同図に示すように、プラズマ室のケーシング
1内には、棒状のフィラメント電極2が配設されると共
にこのフィラメント電極2は接続端子4を介して高周波
電源5に接続している。接続端子4は、絶縁体3を介し
てケーシング1を貫通しており、ケーシング1はアース
(接地)されている。本発明のフィラメント電極2は、
高周波加熱されるため、通電加熱していた従来のフィラ
メント電極と異なり、二つの端子は必要なく、一つの接
続端子4のみで良い。つまり、本発明では、高周波加熱
するため、アースであるケーシング1に他方の電極の役
割をさせるのである。
【0013】従って、フィラメント電極2に高周波電源
5から高周波電力を印加すると、図6に示すようにフィ
ラメント電極2の電位が直流の場合と比べ高くなる為、
フィラメント電極2の近傍で電場が強くなる。この為、
ケーシング1とフィラメント電極2との間で簡単に放電
を起こすことになる。また、高周波電力がフィラメント
電極2に印加されるため、表皮効果により、フィラメン
ト電極2の表面のみに電流がながれ、表面のみが加熱さ
れることになる。表皮効果は、高周波を通電するとフィ
ラメント電極の断面に均一に電流が流れるのではなく、
表面から厚みδだけの範囲に電流が集中的に流れる現象
であり、下式に示すように周波数が高くなるほど、表皮
厚みδが小さくなる。尚、直流電流のように高温とはな
らない。
【0014】δ∝(ρ/f)1/2 …(6) 但し、δ:表皮厚み ρ:抵抗率 f:周波数 一方、ケーシング1を貫通するノズル6から、ケーシン
グ1内へ中性ガスが導入されており、この中性ガスは、
ケーシング1とフィラメント電極2との間での放電によ
りプラズマ化する。このプラズマ中には、電子とイオン
がほぼ同数存在しており、イオンは正電荷を有する。
【0015】イオン室の出口側には、多孔板状の引出電
極7が配置されている。引出電極7は、プラズマ中の正
電荷を有するイオンを引き出すため、負電位を印加する
引出電極8に接続している。引出電極7の前方には、加
速電極9が配置されている。加速電極9は、引き出した
イオンを加速するためのものであり、加速電源10に接
続している。
【0016】従って、引出電極7によりプラズマ中から
引き出されたイオンは、更に、加速電極8により加速さ
れ、図示しない真空チャンバに案内されることになる。
尚、加速電極9は、イオン源に必ずしも必要ではなく、
また、イオン源とは別個に、イオンの下流側へ設けても
良い。
【0017】上記構成を有する本実施例では、フィラメ
ント電極2に高周波を印加することによりフィラメント
電極2とケーシング1との間で放電を起こさせ、これに
より、プラズマ室内でプラズマを発生させることができ
る。例えば、図1に示すフィラメント電極2として、直
径2mm、長さ100mmのものを使用し、高周波電源の周
波数を13.5MHzとすることにより、プラズマ室内に均
一にプラズマを発生させることができた。
【0018】また、フィラメント電極2は表皮効果によ
り表面のみに電流が流れ、表面のみが加熱されることか
ら、フィラメント電極2の断面積を太くしてもなんら問
題はなく、この為、フィラメント電極の寿命を従来に比
較して飛躍的に延長することができる。尚、フィラメン
ト電極2の形状としては、上記実施例に示すように直線
状に限るものではなく、図7(1)(2)に示すように
T字状のもの、方形状のものも使用することができる。
【0019】
【発明の効果】以上、実施例に基づいて具体的に説明し
たように、本発明は、フィラメント電極を高周波加熱す
るので、表皮効果により、フィラメント電極の表面のみ
を効率的に加熱することができる。この為、フィラメン
ト電極の断面積を太くしても、何ら問題なく加熱するこ
とができ、フィラメントの寿命を大幅に延長することが
可能となり、また、イオン源を長時間安定して運転する
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例に係る高周波型イオン源の斜
視図である。
【図2】同図(a)は本発明の一実施例に係る高周波型
イオン源の正面図、同図(b)は同図(a)中のA−A
線断面図である。
【図3】従来のイオン源の一例を示す斜視図である。
【図4】従来のイオン源の他の例を示す説明図である。
【図5】従来のイオン源の原理説明図である。
【図6】プラズマ室内における電場の強さを示す説明図
である。
【図7】同図(1)(2)は、本発明に使用されるフィ
ラメント電極の他の例を示す説明図である。
【符号の説明】
1 プラズマ室ケーシング 2 フィラメント電極 3 絶縁体 4 接続端子 5 高周波電源 6 ノズル 7 引出電極 8 引出電源 9 加速電極 01 プラズマ室 02 ディストリビューター室 03 中性ガス 04 フィラメント電極 05 直流電源 06 直流電源 07 スクリーン 08 引出電極 09 直流電源 010 イオンビーム 011 磁界発生用コイル
フロントページの続き (72)発明者 梶西 邦幸 広島県広島市西区観音新町四丁目6番22号 三菱重工業株式会社広島研究所内 (72)発明者 加藤 光雄 広島県広島市西区観音新町四丁目6番22号 三菱重工業株式会社広島研究所内

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 放電によりプラズマを発生させ、そのプ
    ラズマからイオンを引き出すイオン源において、放電を
    起こすフィラメント電極を棒状とし、該電極に高周波電
    力を印加することにより放電プラズマを発生させ、この
    プラズマから引出電極によりイオンのみを引き出すこと
    を特徴とする高周波型イオン源。
JP4094110A 1992-04-14 1992-04-14 高周波型イオン源 Pending JPH05290751A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4094110A JPH05290751A (ja) 1992-04-14 1992-04-14 高周波型イオン源

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4094110A JPH05290751A (ja) 1992-04-14 1992-04-14 高周波型イオン源

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH05290751A true JPH05290751A (ja) 1993-11-05

Family

ID=14101302

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4094110A Pending JPH05290751A (ja) 1992-04-14 1992-04-14 高周波型イオン源

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004508682A (ja) * 2000-09-06 2004-03-18 アクセンタス パブリック リミテッド カンパニー プラズマ助長ガス反応装置

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20010522