JPH05272915A - Method and screen for positioning sample under test when cylindrical surface is measured - Google Patents

Method and screen for positioning sample under test when cylindrical surface is measured

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JPH05272915A
JPH05272915A JP10174692A JP10174692A JPH05272915A JP H05272915 A JPH05272915 A JP H05272915A JP 10174692 A JP10174692 A JP 10174692A JP 10174692 A JP10174692 A JP 10174692A JP H05272915 A JPH05272915 A JP H05272915A
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cylindrical
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Abstract

PURPOSE:To make it possible to perform simple position alignment by adjusting the shifting amount of a sample under test with respect to a positioning screen and the rotating amount of the positioning screen at the centers of a horizontal axis, a vertical axis and orthogonally intersecting axes, respectively. CONSTITUTION:Reflected reffraction light 3, which has passed through a slot-shaped light transmitting part 63, is reflected from a cylindrical (omitted hereinafter) surface 51a. A sample under test 51 is moved in the direction of a (z) axis so that an adjusting projected image 73 of the luminous flux reflected from the surface 51a is projected in thin line. Thus, the amount of displacement is adjusted. The surface 51a is turned so as to make the projected image 73 vertical, and the amount of the rotating displacement at the center of the (z) axis is adjusted. Then, a positioning screen 61 is moved in the lateral direction, and the diffraction light 35 is incident on a passing light transmitting part 65. For the luminous flux, which can not be transmitted through the light transmitting part 65, a reference projected image is formed on the screen 61. For the reflected light of the passed luminous flux, the projected image 73 is formed. At this time, the surface 51a is turned at the center of the (x) axis. The projected image 73 is aligned with the same position of the passing luminous flux in the direction of the (x) axis. The amount of the rotating displacement of the center of the (x) axis is adjusted. The surface 51a is turned at the center of the (y) axis, and the projected image 73 is moved so as to be overlapped with the projected image 71. Then, the amount of the rotating displacement at the center of the (y) axis is adjusted.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、干渉測定系からのシリ
ンドリカル光を焦点で収束せしめたのち発散させて被検
試料のシリンドリカル面に照射し、この照射光をシリン
ドリカル面で反射させて逆光路で干渉測定系に導き、被
検試料のシリンドリカル面の形状を干渉法により測定す
るに際の被検試料の位置合わせ方法、およびその際に用
いられる位置合わせ用スクリーンに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention is directed to a cylindrical light from an interferometric system which is converged at a focal point and then diverged to irradiate the cylindrical surface of a sample to be tested, and the irradiated light is reflected by the cylindrical surface to cause a reverse optical path. The present invention relates to a method of aligning a test sample when the shape of the cylindrical surface of the test sample is measured by an interferometry method, and a positioning screen used at that time.

【0002】[0002]

【従来の技術】球面あるいは非球面を有するレンズ、ミ
ラー等の光学素子の表面形状を精密測定する方法とし
て、干渉法が知られている。干渉法による表面形状の測
定は、理想的な面形状を有する干渉原器を用い、原器か
らの反射光と被検試料からの反射光とを干渉させ、発生
した干渉縞を観測して被検面の変位量を測定するもので
あり、非接触で被検面の製造誤差が高精度に判ることか
ら非常に便利な方法である。
2. Description of the Related Art Interferometry is known as a method for precisely measuring the surface shape of optical elements such as lenses and mirrors having spherical or aspherical surfaces. To measure the surface shape by the interferometry method, an interference prototype having an ideal surface shape is used, and the reflected light from the prototype interferes with the reflected light from the sample to be inspected, and the generated interference fringes are observed to observe the interference pattern. This is a very convenient method because it measures the amount of displacement of the inspection surface, and the manufacturing error of the surface to be inspected can be detected with high accuracy without contact.

【0003】また、シリンドリカル面等の非球面原器を
製作することが困難であることから、近年、計算機ホロ
グラムを用いて被検面の理想形状と同じ波面を再生する
ホログラム光学素子(HOE)を作成し、これを従来の
原器の代りに用いる干渉測定法が採用されている。
Further, since it is difficult to manufacture an aspherical prototype such as a cylindrical surface, a hologram optical element (HOE) which reproduces the same wavefront as the ideal shape of the surface to be tested by using computer hologram has been recently used. An interferometry method is adopted which is created and used in place of the conventional prototype.

【0004】本出願人は、従来のホログラム干渉法をさ
らに一歩進め、参照光を発生させる面として非球面ある
いは球面を必要とせずに平面状の反射面とすることが可
能となるホログラム干渉計を出願した(特願平3−18
7646号、特願平3−187647号)。
The applicant takes the conventional hologram interferometry one step further, and provides a hologram interferometer capable of forming a flat reflecting surface without requiring an aspherical surface or a spherical surface as a surface for generating reference light. Filed (Japanese Patent Application No. 3-18
7646, Japanese Patent Application No. 3-187647).

【0005】干渉計においては、参照波を発生させる面
は同一面の測定において位置決め・固定可能であるが、
被検試料は検査ごとに入れ替えることが必要となる。そ
のため、被検試料を入れ替えるたびにその位置合わせを
正確に行い、プロジェクタ等の投影面やテレビカメラの
CCD上で、被検試料からの物体波と参照波とを重ね合
わせて、所望の干渉縞を発生せしめることが重要であ
る。
In the interferometer, the plane for generating the reference wave can be positioned and fixed in the measurement of the same plane,
It is necessary to replace the test sample for each test. Therefore, every time the test sample is replaced, the alignment is accurately performed, and the object wave from the test sample and the reference wave are superimposed on the projection surface such as a projector or the CCD of the TV camera to obtain a desired interference fringe. It is important to generate it.

【0006】被検試料の位置合わせは球面の測定を考え
た場合、試料台に被検試料を固定し、干渉縞を観察しな
がら、所望の干渉縞となるようにX軸、Y軸およびZ軸
方向に被検試料を動かして調整していた。しかしなが
ら、シリンドリカル面の測定を考えた場合、シリンドリ
カル面の中心軸方向とこれに直交する2つの方向の合計
3つの方向について、それぞれ軸方向の変位と軸を中心
とした回転方向変位があり、これらを簡便に調整するこ
とは困難であった。
When the measurement of the spherical surface is considered for the alignment of the sample to be inspected, the sample to be inspected is fixed on the sample table, and the X-axis, Y-axis and Z-axis are adjusted so as to obtain a desired interference pattern while observing the interference pattern. The test sample was adjusted by moving it in the axial direction. However, when considering the measurement of the cylindrical surface, there are an axial displacement and a rotational displacement about the axis in a total of three directions, that is, the central axial direction of the cylindrical surface and two directions orthogonal to this. It was difficult to easily adjust the.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、シリンドリ
カル面の面精度を干渉法により測定する際に、簡単に位
置合わせが可能な方法および位置合わせ用スクリーンを
提供するものである。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention provides a method and a screen for alignment that enable easy alignment when measuring the surface accuracy of a cylindrical surface by an interferometry method.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明のシリンドリカル
面測定時の被検試料の位置合わせ方法は、干渉測定系か
らのシリンドリカル光を焦点で収束せしめたのち発散さ
せて被検シリンドリカル面に照射し、シリンドリカル面
での反射光を逆光路で干渉測定系に導き、被検シリンド
リカル面の形状を干渉法により測定するに際し、被検シ
リンドリカル面の中心軸をy軸、シリンドリカル面の拡
がり方向においてy軸と直交する軸をx軸、x軸および
y軸と直交する軸をz軸としたとき、y軸方向に延びる
長穴状透孔を有する光拡散板からなる位置合わせ用スク
リーンを用い、干渉測定系からのシリンドリカル光がそ
の焦点位置もしくはその近傍で長穴状透孔を通過するよ
うに位置合わせ用スクリーンを配置し、被検シリンドリ
カル面からの反射光が位置合わせ用スクリーン上に投影
形成された調整用投影像が、直線状に焦点を結ぶように
被検シリンドリカル面の位置をz軸方向に移動調整し、
かつ、直線状の調整用投影像が長穴状透孔に対して水平
となるように、z軸を中心として被検シリンドリカル面
を回動調整し、また、一部通過用透孔を有する光拡散板
からなる位置合わせ用スクリーンを用い、干渉測定系か
らのシリンドリカル光のその焦点位置もしくはその近傍
で、被検シリンドリカル面の中心軸方向における一部の
シリンドリカル光が選択的に一部通過用透孔を通過する
とともに、残部のシリンドリカル光が位置合わせ用スク
リーン上に直線状の基準用投影像を形成するように位置
合わせ用スクリーンを配置し、x軸を中心として被検シ
リンドリカル面を回動させることにより、被検シリンド
リカル面からの反射光が位置合わせ用スクリーン上に形
成する調整用投影像を基準用投影像の長さ方向に移動せ
しめ、かつ、y軸を中心として被検シリンドリカル面を
回動させることにより、基準用投影像の長さ方向と直交
する方向に調整用投影像を移動せしめ、一部通過用透孔
におけるシリンドリカル光の通過位置まで基準用投影像
を移動せしめることを特徴とする。
A method of aligning a sample to be tested at the time of measuring a cylindrical surface of the present invention is such that a cylindrical light from an interferometric system is converged at a focus and then diverged to irradiate the cylindrical surface to be tested. , When the reflected light from the cylindrical surface is guided to the interferometric system through the reverse optical path and the shape of the cylindrical surface to be measured is measured by the interferometry method, the central axis of the cylindrical surface to be measured is the y-axis, and the y-axis is the y-axis in the spreading direction of the cylindrical surface When the axis orthogonal to the x axis is the x axis and the axis orthogonal to the x axis and the y axis is the z axis, interference measurement is performed using a positioning screen made of a light diffusing plate having a slotted through hole extending in the y axis direction. Arrange the alignment screen so that the cylindrical light from the system passes through the slotted hole at or near its focal point, and reflect it from the cylindrical surface to be tested. There adjusting the projected image projected formed on a screen for alignment is moved adjust the position of the test cylindrical surface so as to focus linearly in the z-axis direction,
Moreover, the cylindrical surface to be measured is rotationally adjusted about the z-axis so that the linear projection image for adjustment is horizontal to the long hole-shaped through hole, and the light having the through hole for partially passing is also used. Using a positioning screen consisting of a diffuser, a part of the cylindrical light in the central axis direction of the cylindrical surface to be tested is selectively passed through at or near its focal position of the cylindrical light from the interferometric system. The alignment screen is arranged so that the remaining cylindrical light forms a linear reference projection image on the alignment screen while passing through the hole, and the cylindrical surface to be tested is rotated about the x-axis. As a result, the reflected light from the test cylindrical surface moves the adjustment projection image formed on the alignment screen in the length direction of the reference projection image, and the y-axis By rotating the cylindrical surface to be inspected as the center, the adjustment projection image is moved in the direction orthogonal to the length direction of the reference projection image, and the reference projection is made up to the passage position of the cylindrical light in the through hole for partial passage. Characterized by moving the image.

【0009】また、本発明のシリンドリカル面測定時の
被検試料の位置合わせ用スクリーンは、長穴状透孔と、
この長穴状透孔の長さ方向側部に、長穴状透孔に連続し
てあるいは独立して設けられた長穴状透孔よりも短い一
部通過用透孔とが形成された光拡散板からなることを特
徴とする。
Further, the screen for aligning the sample to be tested at the time of measuring the cylindrical surface of the present invention has a slotted through hole,
A light having a part-passing through hole, which is shorter than the elongated hole-like hole provided continuously or independently to the elongated hole-like hole, is formed on the longitudinal side portion of the elongated hole-like hole. It is characterized by comprising a diffusion plate.

【0010】[0010]

【実施例】前述のように本出願人は先に、反射型または
透過型ホログラム光学素子を用いた干渉計を出願した。
EXAMPLES As described above, the present applicant previously applied for an interferometer using a reflective or transmissive hologram optical element.

【0011】この反射型ホログラム光学素子を用いた干
渉計は、レーザ光を出力する光源と、光源から出力され
たレーザビームを発散させるビーム発散手段と、ビーム
発散手段から出力されたレーザビームを平行光に変換す
る平行光変換手段と、平行光変換手段から射出された平
行光を一方向に反射するとともに被検試料側に反射回折
する反射型ホログラム光学素子と、反射型ホログラム光
学素子から反射された平行光を反射する平面状の基準反
射板を備えてなり、基準反射板から反射された反射光と
被検試料から反射された反射光が反射型ホログラム光学
素子で反射されて互いに干渉し得るように構成されてな
ることを特徴とする。
An interferometer using this reflection-type hologram optical element collimates a light source for outputting a laser beam, a beam diverging means for diverging a laser beam output from the light source, and a laser beam output from the beam diverging means. The parallel light converting means for converting the light into parallel light, the reflection type hologram optical element for reflecting the parallel light emitted from the parallel light converting means in one direction and reflecting and diffracting to the sample side, and the reflection type hologram optical element are reflected. It is equipped with a flat reference reflector that reflects parallel light, and the reflected light reflected from the reference reflector and the reflected light reflected from the test sample can be reflected by the reflective hologram optical element and interfere with each other. It is characterized in that it is configured as follows.

【0012】一方、透過型ホログラム光学素子を用いた
干渉計は、前記の反射型ホログラム光学素子および基準
反射板の代りに、平行光変換手段から出力された平行光
が垂直に入射する半透鏡平面を有するとともに、半透鏡
平面から入射した平行光を屈折光と、被検試料に照射さ
れる透過回折光とに分離してこれら2つの光を異なる方
向に射出するホログラム面を有する透過型ホログラム光
学素子を備えてなり、被検試料から反射されホログラム
面で再回折されてホログラム光学素子を通過した透過回
折光と、半透鏡平面より反射された反射光が互いに干渉
し得るように構成されてなることを特徴とする。
On the other hand, an interferometer using a transmissive hologram optical element is a semi-transparent mirror plane on which the parallel light output from the parallel light converting means is vertically incident instead of the reflective hologram optical element and the reference reflection plate. And transmission type hologram optics having a hologram surface for separating parallel light incident from the plane of the semi-transparent mirror into refracted light and transmitted diffracted light with which the test sample is irradiated, and emitting these two lights in different directions. An element is provided, and it is configured so that the transmitted diffracted light reflected from the test sample, re-diffracted by the hologram surface and passed through the hologram optical element, and the reflected light reflected from the semi-transparent mirror plane can interfere with each other. It is characterized by

【0013】以下、上記の反射型ホログラム干渉計に本
発明を応用する場合を例に挙げて説明する。
The case where the present invention is applied to the above-mentioned reflection type hologram interferometer will be described below as an example.

【0014】図1は、前述の透過型ホログラム干渉計の
構成例を示す説明図である。He−Neレーザ光源11
から出射されたレーザ光は、コンデンサレンズ13によ
り絞り込まれ、ノイズ成分を取り除かれてピンホール1
5から発散される。この発散光はビームスプリッタ17
を経てコリメータレンズ19(平行光変換手段)に入
射、透過して平行光束となり、反射型ホログラム光学素
子31に入射する。
FIG. 1 is an explanatory diagram showing a configuration example of the above-mentioned transmission hologram interferometer. He-Ne laser light source 11
The laser beam emitted from the pinhole 1 is narrowed down by the condenser lens 13, the noise component is removed, and the pinhole 1
Diverging from 5. This divergent light is emitted from the beam splitter 17
After passing through, the light enters the collimator lens 19 (parallel light conversion means), is transmitted and becomes a parallel light flux, and enters the reflection hologram optical element 31.

【0015】反射型ホログラム光学素子31は、紙面に
垂直方向に反射型の回折格子(縞模様)が形成されてお
り、回折格子のピッチ幅(P)を変化させて、レーザ光
の波長(λ)との間に成立するP・(sinα−sin
θ)=λの関係から一次回折角θの大きさを制御するこ
とにより(αは平行光束の入射角)、紙面に垂直方向に
中心軸(図2のy軸)を有するシリンドリカル反射面と
同様に作用する。そこで、コリメータレンズ19から平
行光束(平面波)が入射すると、通常の反射光37と反
射回折光35の2つの反射光束を発生することになる。
なお、このような反射型ホログラム光学素子31は、コ
ンピュタ計算に基づく電子ビーム描画を用いるフォトリ
ソグラフィー法を応用して、常法によりクロム、アルミ
ニウム等の反射回折格子膜を形成することにより作成す
ることができ、被検試料51の理想的なシリンドリカル
面51aと同じ波面のシリンドリカル光を再生すること
ができる。
The reflection type hologram optical element 31 has a reflection type diffraction grating (striped pattern) formed in the direction perpendicular to the paper surface, and the pitch width (P) of the diffraction grating is changed to change the wavelength (λ) of the laser beam. ) And P · (sin α-sin
By controlling the size of the first-order diffraction angle θ from the relationship of θ) = λ (α is the incident angle of a parallel light beam), the same as a cylindrical reflecting surface having a central axis (y-axis in FIG. 2) in the direction perpendicular to the paper surface. Act on. Therefore, when the parallel light flux (plane wave) enters from the collimator lens 19, two reflected light fluxes of the normal reflected light 37 and the reflected diffracted light 35 are generated.
The reflection type hologram optical element 31 is formed by applying a photolithography method using electron beam drawing based on computer calculation and forming a reflection diffraction grating film of chromium, aluminum or the like by a conventional method. Therefore, the cylindrical light having the same wavefront as the ideal cylindrical surface 51a of the test sample 51 can be reproduced.

【0016】反射回折光35が、被検試料51のシリン
ドリカル面51aに入射して反射され、逆光路を通過し
て再び反射型ホログラム光学素子31に入射するよう
に、被検試料51が位置合わせして配設されている。6
1は、この位置合わせ用のスクリーンであり、これにつ
いては後に詳述する。反射型ホログラム光学素子31か
らの反射回折光35(シリンドリカル光、すなわち非球
面波)は、一度収束したのち発散して被検試料51のシ
リンドリカル面51aで反射されて物体波光となり、再
び反射型ホログラム光学素子31で回折されることによ
り、平面波となる。
The test sample 51 is aligned so that the reflected diffracted light 35 enters the cylindrical surface 51a of the sample 51 to be reflected, passes through the reverse optical path, and enters the reflective hologram optical element 31 again. Are arranged. 6
Reference numeral 1 is a screen for this alignment, which will be described in detail later. The reflected diffracted light 35 (cylindrical light, that is, an aspherical wave) from the reflective hologram optical element 31 converges once, then diverges and is reflected by the cylindrical surface 51a of the sample 51 to be an object wave light, and again the reflective hologram. A plane wave is generated by being diffracted by the optical element 31.

【0017】一方、反射型ホログラム光学素子31から
の通常の反射光37は、基準反射板33で反射されて再
び反射型ホログラム光学素子31に入射し、この参照波
光と上記の物体波光とがホログラム光学素子31上で重
なりあって互いに干渉し、コリメータレンズ19、ビー
ムスプリッタ17を経て、結像レンズ21によりTVカ
メラ23の受光面(CCD)に干渉縞を形成する。被検
試料51のシリンドリカル面51aが設計通りの面形状
である(理想面からの変位がない)ときは、縞が全く観
察されないか、直線状の等間隔の縞が観察される。な
お、図1の符号11〜23の構成は、フィゾー型干渉計
本体を示している。また、参照波光と物体波光の光量が
同程度である方が効率よく干渉縞を得ることができるの
で、被検試料51の反射率に応じた反射率を有する基準
反射板33を用意することが望ましい。
On the other hand, the normal reflected light 37 from the reflection type hologram optical element 31 is reflected by the reference reflection plate 33 and enters the reflection type hologram optical element 31 again, and this reference wave light and the above object wave light are holograms. The optical elements 31 overlap with each other and interfere with each other, and form an interference fringe on the light receiving surface (CCD) of the TV camera 23 by the imaging lens 21 through the collimator lens 19 and the beam splitter 17. When the cylindrical surface 51a of the test sample 51 has a surface shape as designed (no displacement from the ideal surface), no stripes are observed at all or linear stripes at equal intervals are observed. The configurations 11 to 23 in FIG. 1 indicate the Fizeau interferometer body. Further, since it is possible to efficiently obtain the interference fringes when the light quantities of the reference wave light and the object wave light are about the same, it is possible to prepare the standard reflection plate 33 having the reflectance according to the reflectance of the sample 51 to be tested. desirable.

【0018】このような干渉計および測定方法によれ
ば、参照波を生成する面として平面上の反射板を用いる
ことが可能となり、非球面あるいは球面の基準反射板を
必要としないので、作成が極めて容易であり、また、基
準反射板の位置合わせも簡単で測定が極めて容易であ
る。
According to the interferometer and the measuring method as described above, it is possible to use a planar reflector as a surface for generating a reference wave, and an aspherical or spherical reference reflector is not required. It is extremely easy, and the positioning of the reference reflector is simple, and the measurement is extremely easy.

【0019】しかしながら、前述のように従来において
は、被検試料51の位置合わせが面倒であった。本発明
では、この位置合わせ時に、位置合わせ用スクリーン6
1を用いる。図2は、反射型ホログラム光学素子31、
被検試料51および位置合わせ用スクリーン61の位置
関係を示す説明図である。図3〜図6は、位置合わせ時
の実施例を示す説明図である。
However, as described above, conventionally, the alignment of the sample 51 to be tested has been troublesome. In the present invention, at the time of this alignment, the alignment screen 6
1 is used. FIG. 2 shows a reflection hologram optical element 31,
6 is an explanatory diagram showing a positional relationship between a test sample 51 and a positioning screen 61. FIG. 3 to 6 are explanatory views showing an embodiment at the time of position alignment.

【0020】位置合わせ用スクリーン61は、摺りガラ
ス等の光拡散板からなり、He−Neレーザ11等から
の可視レーザ光がスクリーン61の透孔形成部以外の面
に照射、投影されたときに、その位置や形状をはっきり
と視認できるようになっている。位置合わせ用スクリー
ン61には、長穴状透孔部63と、そのほぼ中央部から
直角方向に突設するようにして連続的に形成された一部
通過用透孔部65とからなる透孔が穿設されている。
The alignment screen 61 is made of a light diffusing plate such as frosted glass, and when visible laser light from the He-Ne laser 11 or the like is irradiated and projected onto the surface of the screen 61 other than the through hole forming portion. , Its position and shape are clearly visible. The positioning screen 61 has a through hole 63 having a long hole-like hole 63 and a partially passing through hole 65 formed continuously from a substantially central portion thereof so as to project in a right angle direction. Has been drilled.

【0021】いま、被検試料51のシリンドリカル面5
1aの中心軸をy軸、シリンドリカル面51aの拡がり
方向においてy軸と直交する軸をx軸、x軸およびy軸
と直交する軸をz軸とする。このとき、位置合わせ用ス
クリーン61は、長穴状透孔部63がy軸方向に延びる
ようにして、反射型ホログラム光学素子31からのシリ
ンドリカル光35(反射回折光35)の焦点位置で、透
孔部63または65をシリンドリカル光35が通過する
ように配設される。シリンドリカル光35は、x軸方向
に収束あるいは発散され、y軸方向には収束も発散もさ
れない。
Now, the cylindrical surface 5 of the test sample 51
The central axis of 1a is the y axis, the axis orthogonal to the y axis in the spreading direction of the cylindrical surface 51a is the x axis, and the axis orthogonal to the x axis and the y axis is the z axis. At this time, the alignment screen 61 is arranged so that the elongated hole-shaped through-hole portion 63 extends in the y-axis direction so that it is transparent at the focal position of the cylindrical light 35 (reflected diffracted light 35) from the reflective hologram optical element 31. The cylindrical light 35 is arranged so as to pass through the holes 63 or 65. The cylindrical light 35 is converged or diverged in the x-axis direction, and neither converged nor diverged in the y-axis direction.

【0022】位置合わせに際しては、試料載置テーブル
(図示せず)に被検試料を固定し、y軸方向およびx軸
方向について目視で位置調整し、ついで以下の通りに各
軸方向のシフト量および回転量を調整する。なお、y軸
方向およびx軸方向は光束がシリンドリカル面51aに
ほぼ垂直に入射していればよい。
For alignment, the sample to be tested is fixed on a sample mounting table (not shown), the position is visually adjusted in the y-axis direction and the x-axis direction, and then the shift amount in each axis direction is set as follows. And adjust the amount of rotation. It should be noted that in the y-axis direction and the x-axis direction, the light beam may be incident on the cylindrical surface 51a substantially vertically.

【0023】(1−0) まず調整する際に、スクリー
ン61を目視して大まかな調整をし、モニタ画面25に
画像が出るように調整する。
(1-0) At the time of adjustment, first, the screen 61 is visually inspected to make a rough adjustment so that an image appears on the monitor screen 25.

【0024】(1−1)z軸方向のシフト:図2に示す
ように、反射型ホログラム光学素子31からのシリンド
リカル光35を、位置合わせ用スクリーン61の長穴状
透孔部63通過せしめる(図3には、通過光束を図示し
ていない)。長穴状透孔部63を通過し被検試料51の
シリンドリカル面51aで反射された光束は、z軸方向
でシリンドリカル面51aが正規位置から位置ずれして
いると、スクリーン61の裏面(シリンドリカル面51
a側)の上に収束できず(焦点を結べず)、図3(A)
に示すように拡がった調整用投影像73としてスクリー
ン61の裏面に投影される。
(1-1) Shift in z-axis direction: As shown in FIG. 2, the cylindrical light 35 from the reflection hologram optical element 31 is passed through the elongated hole-shaped hole portion 63 of the alignment screen 61 ( The passing light flux is not shown in FIG. 3). The light flux that has passed through the elongated hole-shaped hole portion 63 and is reflected by the cylindrical surface 51a of the test sample 51 has a back surface (cylindrical surface) of the screen 61 when the cylindrical surface 51a is displaced from the normal position in the z-axis direction. 51
3A cannot be converged on (a side) (cannot be focused), and FIG.
The projected image 73 for adjustment that is expanded as shown in FIG.

【0025】ここで、図3(B)に示すように、調整用
投影像73が細い線として投影されるように被検試料5
1をz軸方向に動かすことにより、z軸方向の変位量の
調整が終了する。
Here, as shown in FIG. 3B, the sample 5 to be inspected is so arranged that the adjustment projection image 73 is projected as a thin line.
By moving 1 in the z-axis direction, the adjustment of the displacement amount in the z-axis direction is completed.

【0026】(1−2) z軸中心の回転:上記操作で
得られた調整用投影像73は、図4(A)に示すように
長穴状透孔部63の長さ方向(正確にはシリンドリカル
光35に対して)傾いているので、z軸を中心にしてシ
リンドリカル面51aを回動(図2のRz方向)し、図
4(B)に示すように調整用投影像73を鉛直にするこ
とにより、z軸の回転方向の変位量の調整が終了する。
(1-2) Rotation about the z-axis: The adjustment projection image 73 obtained by the above-mentioned operation is shown in FIG. Is inclined with respect to the cylindrical light 35), the cylindrical surface 51a is rotated around the z axis (Rz direction in FIG. 2), and the adjustment projection image 73 is vertically changed as shown in FIG. 4B. The adjustment of the displacement amount of the z-axis in the rotation direction is completed by setting.

【0027】(1−3) x軸中心の回転:図5(A)
に示すように、シリンドリカル光35の焦点位置で、位
置合わせ用スクリーン61を横方向に移動させて、シリ
ンドリカル光35を一部通過用透孔部65に入射せしめ
る。このとき、シリンドリカル光35は、y軸方向で全
光束が一部通過用透孔部65を通過できずに、その周り
で一部がスクリーン61上に投影されて、基準用投影像
71を形成する。一方、一部通過用透孔部65を通過し
た光束は(通過光束は図示されていない)、シリンドリ
カル面51aで反射されて、スクリーン61上に調整用
投影像73を形成する。x軸を中心にしてシリンドリカ
ル面51aを回動(Rx)し、図5(B)に示すように
調整用投影像73を長穴状透孔部63の長さ方向に移動
させ、一部透過用透孔部65を通過した光束とy軸方向
の位置を同じくすることにより、x軸の回転方向の変位
量の調整が終了する。
(1-3) Rotation around the x-axis: FIG. 5 (A)
As shown in FIG. 5, the alignment screen 61 is moved in the lateral direction at the focal position of the cylindrical light 35 so that the cylindrical light 35 enters the partially passing through hole portion 65. At this time, in the cylindrical light 35, the entire light flux cannot pass through the partially passing through hole portion 65 in the y-axis direction, and a part thereof is projected on the screen 61 to form a reference projected image 71. To do. On the other hand, the light flux that has passed through the partially passing through-hole portion 65 (the passing light flux is not shown) is reflected by the cylindrical surface 51 a and forms the adjustment projection image 73 on the screen 61. The cylindrical surface 51a is rotated (Rx) about the x-axis to move the adjustment projection image 73 in the length direction of the elongated hole-shaped hole portion 63 as shown in FIG. By adjusting the position of the light flux that has passed through the through hole portion 65 in the y-axis direction, the adjustment of the displacement amount in the rotation direction of the x-axis ends.

【0028】(1−4) y軸中心の回転:y軸を中心
にしてシリンドリカル面51aを回動(Ry)し、上記
の操作が終了し図6(A)位置にある調整用投影像73
を、一部透過用透孔部65を通過した光束と重ね合わせ
るように移動させることにより、y軸中心の回転の変位
量の調整が終了する。図示したように、一部通過用透孔
部65の幅を徐々に変化させて構成し、幅広部でシリン
ドリカル光35を通過せしめ、調整時に幅狭部から幅広
部に調整用投影像73を移動せしめることにより、基準
用投影像71と調整用投影像73とが重なる直前まで、
調整用投影像73がスクリーン61面に形成され、これ
を目視できるので便利である。
(1-4) Rotation about the y-axis: The cylindrical surface 51a is rotated (Ry) about the y-axis, the above operation is completed, and the projected image for adjustment 73 at the position shown in FIG. 6 (A).
Is moved so as to be superposed on the light flux that has passed through the partially transmitting through-hole portion 65, whereby the adjustment of the displacement amount of the rotation about the y-axis is completed. As shown in the drawing, the width of the partially passing through hole portion 65 is gradually changed to allow the cylindrical light 35 to pass through the wide portion, and the adjustment projection image 73 is moved from the narrow portion to the wide portion during adjustment. As a result, until just before the reference projection image 71 and the adjustment projection image 73 overlap,
The adjustment projection image 73 is formed on the surface of the screen 61 and can be viewed, which is convenient.

【0029】以上のようなスクリーンを使った位置合わ
せが終了すると、試料からの反射光はTVカメラ23の
受光面に当たるようになる。そこで、ここからはモニタ
画面25上の像を見ながら試料の位置の調整ができる。
When the alignment using the screen as described above is completed, the reflected light from the sample comes to hit the light receiving surface of the TV camera 23. Therefore, from here, the position of the sample can be adjusted while observing the image on the monitor screen 25.

【0030】(2−1) z軸のまわりの回転:試料か
らの反射光は収差を持っている場合、モニタ画像上では
点にならず図3(C)のようにぼやけている。z軸のま
わりの回転を調整することによって図3(D)のように
線状に変化する。
(2-1) Rotation around the z-axis: When the reflected light from the sample has aberration, it does not become a point on the monitor image and is blurred as shown in FIG. 3 (C). By adjusting the rotation around the z-axis, it changes linearly as shown in FIG.

【0031】(2−2) z軸方向のフト:試料のz方
向の位置が合っていないと、光は横に広がる。これを合
わせることによってモニタ画面上は図3(D)から図4
(C)のようになる。
(2-2) Shift in z-axis direction: If the position of the sample in the z-direction is not aligned, the light spreads laterally. By combining these, the monitor screens shown in FIGS.
It becomes like (C).

【0032】(2−3) x軸のまわりの回転を合わせ
ることによってモニタ画面上は図4(C)から図5
(C)のようになる。
(2-3) By adjusting the rotation around the x-axis, the monitor screens shown in FIGS.
It becomes like (C).

【0033】(2−4) y軸のまわりの回転を合わせ
ることによってモニタ画面上は図5(C)から図6
(C)のようになる。
(2-4) By adjusting the rotation around the y-axis, the monitor screens shown in FIGS.
It becomes like (C).

【0034】以上で試料の位置調整はほぼ完了する。干
渉縞がTVモニタ画面上で観察できるようにして、所望
のパターンが得られるように微調整を行なう。
With the above, the position adjustment of the sample is almost completed. Fine adjustment is performed so that the interference fringe can be observed on the TV monitor screen and a desired pattern is obtained.

【0035】本発明の位置合わせ方法および位置合わせ
用スクリーンは種々の変形および応用が可能であり、そ
の一例を挙げれば以下の通りである。
The positioning method and the positioning screen of the present invention can be variously modified and applied, and one example thereof is as follows.

【0036】例えば、位置合わせ用スクリーン61とし
ては、図7〜10の実施例のものが用いられる。図7
は、一部通過用透孔部65の幅を均一に形成したもので
ある。図8は、一部通過用透孔部65を長穴状透孔部6
3の長さ方向の端部よりに形成したものである。また、
図9は、一枚のスクリーン61に独立して長穴状透孔部
63と一部通過用透孔部65を形成したものである。さ
らに、図10(A),(B)は、長穴状透孔部63が形
成されたスクリーン61と、一部通過用透孔部63が形
成されたスクリーン61の2枚の位置合わせ用スクリー
ンを組み合わせて使用する場合を示している。
For example, as the alignment screen 61, the one of the embodiment shown in FIGS. 7 to 10 is used. Figure 7
Is a part of the through-hole 65 for passage is formed to have a uniform width. In FIG. 8, the through-hole portion 65 for passing a part of the through-hole portion 6
3 is formed from the end portion in the length direction. Also,
In FIG. 9, a long hole-shaped through hole portion 63 and a partially passing through hole portion 65 are formed independently on one screen 61. Further, FIGS. 10A and 10B show two alignment screens, a screen 61 having an elongated hole-shaped hole portion 63 formed therein and a screen 61 having a partially-passing hole portion 63 formed therein. It shows the case of using in combination.

【0037】また、各軸の調整順序も上記実施例に限定
されず、例えば、x軸の回転方向とy軸の回転方向を同
時に調整してもよい。
Further, the adjustment order of each axis is not limited to the above embodiment, and for example, the x-axis rotation direction and the y-axis rotation direction may be adjusted simultaneously.

【0038】さらに、反射型ホログラム光学素子を用い
た干渉計に限定されず、他のホログラム干渉計や、理想
的シリンドリカル面を有する干渉原器を用いる干渉計な
どに適用することができる。
Further, the present invention is not limited to the interferometer using the reflection type hologram optical element, but can be applied to other hologram interferometers, interferometers using an interferometer having an ideal cylindrical surface, and the like.

【0039】図11は、前述の透過型ホログラム干渉計
の一例を示す概略図であり、図1における反射型ホログ
ラム光学素子31と基準反射板33の代りに、透過型ホ
ログラム光学素子41を用ている以外は、干渉縞の測定
原理および被検試料51の位置合わせ原理は、図1〜図
10に示した場合と同様である。透過型ホログラム光学
素子41の入射面には半透鏡膜41aが形成され、これ
からの一部反射光が参照波光として利用される。また、
透過型ホログラム光学素子41の他面に形成されたホロ
グラム面41bからの一次の透過回折光45を、被検試
料51に入・反射せしめて物体光波を生じせしめ、干渉
縞を得ている。ホログラム面41bは、被検試料51の
理想的なシリンドリカル面に対応する波面を屈折回折光
45として再生し、シリンドリカル面51aの位置合わ
せは、位置合わせ用スクリーン61によって行われる。
FIG. 11 is a schematic diagram showing an example of the above-mentioned transmission hologram interferometer. A transmission hologram optical element 41 is used instead of the reflection hologram optical element 31 and the reference reflection plate 33 in FIG. Other than the above, the principle of measuring the interference fringes and the principle of aligning the test sample 51 are the same as those shown in FIGS. A semi-transparent mirror film 41a is formed on the incident surface of the transmissive hologram optical element 41, and partially reflected light from this is used as reference wave light. Also,
The first-order transmitted diffracted light 45 from the hologram surface 41b formed on the other surface of the transmissive hologram optical element 41 is made incident on and reflected by the sample 51 to be inspected to generate an object light wave, and an interference fringe is obtained. The hologram surface 41b reproduces a wavefront corresponding to an ideal cylindrical surface of the test sample 51 as the refracted diffracted light 45, and the positioning of the cylindrical surface 51a is performed by the positioning screen 61.

【0040】[0040]

【発明の効果】本発明の位置合わせ方法および位置合わ
せ用スクリーンによれば、被検試料のシリンドリカル面
の理想面からの変位量を干渉法により測定するに際し、
被検試料の位置合わせを極めて簡単な操作で行うことが
できる。また、必要な部材も光拡散板からなる簡単な構
成のスクリーンのみでよいので、干渉計の大型化やコス
トの上昇を招くこともない。
According to the alignment method and the alignment screen of the present invention, when the displacement amount of the cylindrical surface of the test sample from the ideal surface is measured by the interferometry method,
The position of the test sample can be adjusted by an extremely simple operation. Moreover, since the necessary members only need to be a screen having a simple structure including a light diffusing plate, the interferometer does not become large and the cost does not increase.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明で用いられる干渉計の概略構成を示す説
明図である。
FIG. 1 is an explanatory diagram showing a schematic configuration of an interferometer used in the present invention.

【図2】本発明の位置合わせ時における、ホログラム光
学素子、位置合わせ用スクリーンおよび被検試料の関係
を示す斜視説明図である。
FIG. 2 is a perspective explanatory view showing the relationship between the hologram optical element, the alignment screen, and the test sample during alignment according to the present invention.

【図3】本発明の位置合わせ方法を示す説明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram showing a positioning method of the present invention.

【図4】本発明の位置合わせ方法を示す説明図である。FIG. 4 is an explanatory diagram showing a positioning method of the present invention.

【図5】本発明の位置合わせ方法を示す説明図である。FIG. 5 is an explanatory diagram showing a positioning method of the present invention.

【図6】本発明の位置合わせ方法を示す説明図である。FIG. 6 is an explanatory diagram showing a positioning method of the present invention.

【図7】本発明の位置合わせ用スクリーンの実施例を示
す平面図である。
FIG. 7 is a plan view showing an embodiment of the alignment screen of the present invention.

【図8】本発明の位置合わせ用スクリーンの実施例を示
す平面図である。
FIG. 8 is a plan view showing an embodiment of a positioning screen of the present invention.

【図9】本発明の位置合わせ用スクリーンの実施例を示
す平面図である。
FIG. 9 is a plan view showing an embodiment of the alignment screen of the present invention.

【図10】本発明の位置合わせ用スクリーンの実施例を
示す平面図である。
FIG. 10 is a plan view showing an embodiment of the alignment screen of the present invention.

【図11】本発明で用いられる干渉計の概略構成を示す
説明図である。
FIG. 11 is an explanatory diagram showing a schematic configuration of an interferometer used in the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 He−Neレーザ光源 13 コンデンサレンズ 15 ピンホール 17 ビームスプリッタ 19 コリメータレンズ 21 投影レンズ 23 TVカメラ 25 モニタ画面 31 反射型ホログラム光学素子 33 基準反射板 35 反射回折光(シリンドリカル光) 37 反射光 41 透過型ホログラム光学素子 41a 半透鏡面 41b ホログラム面 45 屈折回折光 45 屈折光 51 被検試料 51a シリンドリカル面 61 位置合わせ用スクリーン 63 長穴状透孔部 65 一部通過用透孔部 71 基準用投影像 73 測定用投影像 75 基準反射板33からの像 77 シリンドリカル面51aからの像 11 He-Ne Laser Light Source 13 Condenser Lens 15 Pinhole 17 Beam Splitter 19 Collimator Lens 21 Projection Lens 23 TV Camera 25 Monitor Screen 31 Reflective Hologram Optical Element 33 Reference Reflector 35 Reflected Diffracted Light (Cylindrical Light) 37 Reflected Light 41 Transmitted Holographic optical element 41a Semi-transparent mirror surface 41b Hologram surface 45 Refracted diffracted light 45 Refracted light 51 Test sample 51a Cylindrical surface 61 Positioning screen 63 Slotted through hole portion 65 Partial through hole portion 71 Reference projected image 73 Projected Image for Measurement 75 Image from Reference Reflector 33 77 Image from Cylindrical Surface 51a

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 干渉測定系からのシリンドリカル光を焦
点で収束せしめたのち発散させて被検シリンドリカル面
に照射し、シリンドリカル面での反射光を逆光路で干渉
測定系に導き、被検シリンドリカル面の形状を干渉法に
より測定するに際し、 被検シリンドリカル面の中心軸をy軸、シリンドリカル
面の拡がり方向においてy軸と直交する軸をx軸、x軸
およびy軸と直交する軸をz軸としたとき、 y軸方向に延びる長穴状透孔を有する光拡散板からなる
位置合わせ用スクリーンを用い、干渉測定系からのシリ
ンドリカル光がその焦点位置もしくはその近傍で長穴状
透孔を通過するように位置合わせ用スクリーンを配置
し、被検シリンドリカル面からの反射光が位置合わせ用
スクリーン上に投影形成された調整用投影像が、直線状
に焦点を結ぶように被検シリンドリカル面の位置をz軸
方向に移動調整し、かつ、直線状の調整用投影像が長穴
状透孔に対して水平となるように、z軸を中心として被
検シリンドリカル面を回動調整し、 また、一部通過用透孔を有する光拡散板からなる位置合
わせ用スクリーンを用い、干渉測定系からのシリンドリ
カル光のその焦点位置もしくはその近傍で、被検シリン
ドリカル面の中心軸方向における一部のシリンドリカル
光が選択的に一部通過用透孔を通過するとともに、残部
のシリンドリカル光が位置合わせ用スクリーン上に直線
状の基準用投影像を形成するように位置合わせ用スクリ
ーンを配置し、x軸を中心として被検シリンドリカル面
を回動させることにより、被検シリンドリカル面からの
反射光が位置合わせ用スクリーン上に形成する調整用投
影像を基準用投影像の長さ方向に移動せしめ、かつ、y
軸を中心として被検シリンドリカル面を回動させること
により、基準用投影像の長さ方向と直交する方向に調整
用投影像を移動せしめ、一部通過用透孔におけるシリン
ドリカル光の通過位置まで基準用投影像を移動せしめる
ことを特徴とする、シリンドリカル面測定時の被検試料
の位置合わせ方法。
1. Cylindrical light from an interferometric measurement system is converged at a focal point, then diverged to irradiate a cylindrical surface to be inspected, and reflected light from the cylindrical surface is guided to the interferometric measurement system by a reverse optical path to detect the cylindrical surface to be inspected. When the shape of is measured by an interferometric method, the central axis of the cylindrical surface to be tested is the y axis, the axis orthogonal to the y axis in the spreading direction of the cylindrical surface is the x axis, and the axis orthogonal to the x axis and the y axis is the z axis. Then, using a positioning screen made of a light diffusion plate having a slotted hole extending in the y-axis direction, the cylindrical light from the interferometric system passes through the slotted hole at or near its focal position. The alignment screen is arranged in such a manner that the reflected light from the cylindrical surface under test is projected and formed on the alignment screen, and the adjustment projection image is focused linearly. So that the position of the cylindrical surface to be inspected is adjusted in the z-axis direction, and the projected image for adjustment in a straight line is horizontal with respect to the elongated through-hole, the cylindrical surface to be inspected around the z-axis. The surface is rotationally adjusted, and a positioning screen composed of a light diffusing plate having a through hole for partially passing is used to measure the cylindrical surface of the test surface at or near the focal position of the cylindrical light from the interferometric measurement system. For alignment so that some cylindrical light in the direction of the central axis selectively passes through the through holes for partial passage, and the remaining cylindrical light forms a linear reference projection image on the alignment screen. By arranging the screen and rotating the cylindrical surface to be inspected around the x-axis, the reflected light from the cylindrical surface to be inspected is formed on the alignment screen. It moved an integer for projected image in the longitudinal direction of the reference projection images and, y
By rotating the cylindrical surface to be inspected around the axis, the adjustment projection image is moved in the direction orthogonal to the length direction of the reference projection image, and the reference is made to the passage position of the cylindrical light in the through hole for partial passage. A method for aligning a sample to be tested at the time of measuring a cylindrical surface, characterized by moving a projection image for use.
【請求項2】 長穴状透孔と、この長穴状透孔の長さ方
向側部に、長穴状透孔に連続してあるいは独立して設け
られた長穴状透孔よりも短い一部通過用透孔とが形成さ
れた光拡散板からなることを特徴とするシリンドリカル
面測定時の位置合わせ用スクリーン。
2. A slotted hole and a slotted hole which is continuous or independent from the slotted hole and which is provided at the side of the slotted hole in the longitudinal direction. A positioning screen for measuring a cylindrical surface, characterized by comprising a light diffusing plate having a through hole for partially passing therethrough.
【請求項3】 前記一部通過用透孔が、長穴状透孔の長
さ方向のほぼ中央部に設けられている請求項2記載のシ
リンドリカル面測定時の位置合わせ用スクリーン。
3. The alignment screen for measuring a cylindrical surface according to claim 2, wherein the partially passing through hole is provided substantially at the center of the elongated hole in the length direction.
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