JPH0526657B2 - - Google Patents

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JPH0526657B2
JPH0526657B2 JP1451884A JP1451884A JPH0526657B2 JP H0526657 B2 JPH0526657 B2 JP H0526657B2 JP 1451884 A JP1451884 A JP 1451884A JP 1451884 A JP1451884 A JP 1451884A JP H0526657 B2 JPH0526657 B2 JP H0526657B2
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JP
Japan
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liquid
protective layer
layer
heat
recording head
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JP1451884A
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Japanese (ja)
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JPS60159060A (en
Inventor
Hiroto Takahashi
Makoto Shibata
Masami Ikeda
Hirokazu Komuro
Hiroto Matsuda
Hisanori Tsuda
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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Priority to DE3448367A priority patent/DE3448367C2/en
Priority to GB08432628A priority patent/GB2153304B/en
Publication of JPS60159060A publication Critical patent/JPS60159060A/en
Priority to GB08711528A priority patent/GB2188004B/en
Priority to HK679/91A priority patent/HK67991A/en
Priority to HK677/91A priority patent/HK67791A/en
Priority to SG85991A priority patent/SG85991G/en
Priority to SG892/91A priority patent/SG89291G/en
Publication of JPH0526657B2 publication Critical patent/JPH0526657B2/ja
Priority to US08/299,798 priority patent/US5455612A/en
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/005Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
    • B41J2/01Ink jet
    • B41J2/135Nozzles
    • B41J2/14Structure thereof only for on-demand ink jet heads
    • B41J2/14016Structure of bubble jet print heads
    • B41J2/14088Structure of heating means
    • B41J2/14112Resistive element
    • B41J2/14129Layer structure
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2202/00Embodiments of or processes related to ink-jet or thermal heads
    • B41J2202/01Embodiments of or processes related to ink-jet heads
    • B41J2202/03Specific materials used
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2202/00Embodiments of or processes related to ink-jet or thermal heads
    • B41J2202/01Embodiments of or processes related to ink-jet heads
    • B41J2202/11Embodiments of or processes related to ink-jet heads characterised by specific geometrical characteristics

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  • Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

本発明は、液体を噴射し、飛翔液滴を形成して
記録を行なう液体噴射記録ヘツドに関する。 インクジエツト記録法(液体噴射記録法)は、
記録時における騒音の発生が無視し得る程度に極
めて小さいという点、高速記録が可能でありしか
も所謂普通紙に定着という特別な処理を必要とせ
ずに記録の行なえる点において、最近関心を集め
ている。 その中で、例えば特開昭54−51837号公報、ド
イツ公開(DOLS)第2843064号公報に記載され
ている液体噴射記録法は、熱エネルギーを液体に
作用させて、液滴吐出の原動力を得るという点に
おいて、他の液体噴射記録法とは、異なる特徴を
有している。 即ち、上記の公報に開示された記録法は、熱エ
ネルギーの作用を受けた液体が急峻な体積の増大
を伴う状態変化を起し、該状態変化に基づく作用
力によつて、記録ヘツド部先端のオリフイスより
液体が吐出されて、飛翔的液滴が形成され、該液
滴が被記録部材に付着し記録が行なわれる。 殊に、DOLS第2843064号公報に開示されてい
る液体噴射記録法は、所謂drop−on demand記
録法に極めて有効に適用されるばかりではなく、
記録ヘツド部をfull lineタイプで高密度マルチオ
リフイス化された記録ヘツドが容易に具現化でき
るので、高解像度、高品質の画像を高速で得られ
るという特徴を有している。 上記の記録法に適用される装置の記録ヘツド部
は、液体を吐出するために設けられたオリフイス
と、該オリフイスに連通し、液滴を吐出するため
の熱エネルギーが液体に作用する部分である熱作
用部を構成の一部とする液流路とを有する液吐出
部と、熱エネルギーを発生する手段としての電気
熱変換体とを具備している。 そして、この電気熱変換体は、一対の電極と、
これ等の電極に接続しこれ等の電極の間に発熱す
る領域(熱発生部)を有する発熱抵抗層とを具備
している。 このような液体噴射記録ヘツドの構造を示す典
型的な例が、第1図a、第1図b及び第1図cに
示される。第1図aは、液体噴射記録ヘツドのオ
リフイス側から見た正面部分図であり、第1図b
は、第1図aに一点鎖線XYで示す部分で切断し
た場合の切断部分図であり、第1図cは基板平面
図である。 記録ヘツド100は、その表面に電気熱変換体
101が設けられている基板102の表面を、所
定の線密度で所定の巾と深さの溝が所定数設けら
れている溝付板103で覆うように接合すること
によつて、オリフイス104と液吐出部105が
形成された構造を有している。図に示す記録ヘツ
ドの場合には、オリフイス104を複数有するも
のとして示されているが、勿論本発明において
は、このようなものに限定されるものではなく、
単一オリフイスの記録ヘツドも本発明の範疇には
いるものである。 液吐出部105は、その終端に液体を吐出させ
るためのオリフイス104と、電気熱変換体10
1より発生される熱エネルギーが液体に作用して
気泡を発生し、その体積の膨張と収縮に依る急激
な状態変化を引き起す箇所である熱作用部106
とを有する。 熱作用部106は、電気熱変換体101の熱発
生部107の上部に位置し、熱発生部107の液
体と接触する面としての熱作用面108をその底
面としている。 熱発生部107は、基板102上に設けられた
下部層109、該下部層109上に設けられた発
熱抵抗層110、該発熱抵抗層110上に設けら
れた第1の保護層111、第2の保護層112と
で構成される。発熱抵抗層110には、熱を発生
させるために該層110に通電するための電極1
13,114がその表面に設けられている。電極
113は、各液吐出部の熱発生部に共通の電極で
あり、電極114は、各液吐出部の熱発生部を選
択して発熱させるための選択電極であつて、液吐
出部の液流路に沿つて設けられている。 第1の保護層111および第2の保護層112
は、熱発生部107に於いては発熱抵抗層110
を、使用する液体から化学的、物理的に保護する
ために発熱抵抗層110と液吐出部105の液流
路を満たしている液体とを隔絶すると共に、液体
を通じて電極113,114間が短絡するのを防
止する、発熱抵抗層110の保護的機能を有して
いる。また、第1の保護層111は、隣接する電
極間に於ける電気的リークを防止する役目も荷つ
ている。殊に、各選択電極間に於ける電気的リー
クの防止、或いは各液流路下にある電極が何等か
の理由で電極と液体が接触し、これに通電するこ
とによつて起る電極の電蝕の防止は重要であつ
て、このためにこのような保護層的機能を有する
第1の保護層111が少なくとも液流路下に存在
する電極上には設けられている。 第1の保護層をはじめとする上部層は、設けら
れる場所によつて要求される特性が各々異なる。
即ち、例えば熱発生部107に於いては、耐熱
性、耐液性、液浸透防止性、熱伝導性、
酸化防止性、絶縁性及び耐破傷性に優れてい
ることが要求され、熱発生部107以外の領域に
於いては熱的条件で緩和されるが液浸透防止性、
耐液性及び耐破傷性には充分優れていることが要
求される。 ところが、上記〜の特性の総てを所望通り
に充分満足する上部層を構成する材料は、今のと
ころなく〜の特性の幾つかを緩和して使用し
ているのが現状である。即ち、熱発生部107に
於いては、、及びに優先が置かれて材料の
選択が成され、他方熱発生部107以外の、例え
ば電極部に於いては、、及びに優先が置か
れて材料の選択が成されて、夫々の該当する領域
面上に各相当する材料を以つて上部層が形成され
ている。 他方、これ等とは別に、マルチオリフイス化タ
イプの液体噴射記録ヘツドの場合には、基板上に
多数の微細な電気熱変換体を同時に形成する為
に、製造過程に於いて、基板上では各層の形成
と、形成された層の一部除去の繰返しが行なわ
れ、上部層が形成される段階では、上部層の形成
されるその表面はステツプウエツヂ部(段差部)
のある微細な凹凸状となつているので、この段差
部に於ける上部層の被覆性(Step coverage性)
が重要となつている。つまり、この段差部の被覆
性が悪いと、その部分での液体の浸透が起り、電
蝕或いは電気的絶縁破壊を起す誘因となる。ま
た、形成される上部層がその製造法上に於いて欠
陥部の生ずる確率が少なくない場合には、その欠
陥部を通じて、液体の浸透が起り、電気熱変換体
の寿命を著しく低下させる要因となつている。 これ等の理由から、上部層は、段差部に於ける
被覆性が良好であること、形成される層にピンホ
ール等の欠陥が発生する確率が低く、発生しても
実用上無視し得る程度或いはそれ以上に少ないこ
とが要求される。 一方、熱作用部106では、液体が加熱により
気化されるが、これが、サブクール沸騰である為
と、加熱時間が短い為にすぐ冷却されて凝縮す
る。従つて熱作用面近傍では毎秒数千回の高頻度
で発泡−凝縮が繰り返されており、この時の圧力
変化(キヤビテーシヨン コロージヨン)は、基
板を破壊することも少なくない。 近年、高画質、高密度の印字品位の要請が強
く、従来にも増して、電極、発熱抵抗層、付随す
る保護層等の微細部の精密な加工が必要とされて
いる。 本発明は、上記の諸点に鑑み成されたものであ
つて、頻繁なる繰返し使用や長時間の連続使用に
於いて総合的な耐久性に優れ、初期の良好な液滴
形成特性を長期に亘つて安定的に維持し得る液体
噴射記録ヘツドを提供することを主たる目的とす
る。 また、本発明の別の目的は、製造加工上に於け
る信頼性の高い液体噴射記録ヘツドを提供するこ
とでもある。 更には、マルチオリフイス化した場合にも製造
歩留りの高い液体噴射記録ヘツドを提供すること
でもある。 本発明の液体噴射記録ヘツドは、液体を吐出し
て飛翔的液滴を形成するために設けられたオリフ
イスと、該オリフイスに連通し、前記液滴を形成
するための熱エネルギーが液体に作用する部分で
ある熱作用部を構成の一部とする複数の液流路
と、それぞれの液流路で少なくとも一対の対置す
る電極が発熱抵抗層に電気的に接続して設けら
れ、これら電極の間に熱発生部が形成されている
複数の電気熱変換体とを具備する液体噴射記録ヘ
ツドにおいて、少なくとも前記熱発生部の発熱抵
抗層の上にある部分上に少なくとも無機絶縁材料
で構成される第1の保護層と、隣接する熱発生部
上に前記液流路の配列方向に帯状に連続して形成
され無機材料で構成される第2の保護層とを有す
ることを特徴とする。 以下、図面に従つて本発明の液体噴射記録ヘツ
ドを具体的に説明する。 第2図は、第1図cに対応する本発明の液体噴
射記録ヘツドの好適な実施態様例である。 第2図に示すように、本発明においては第2の
保護層は、各熱発生部上に単独に設けられず、隣
接する熱発生部上に連続してバー状に設けられ
る。 上部層は、前述のように主として発熱抵抗層を
液流路内の液体と隔絶する機能、耐キヤビテーシ
ヨン機能を有するものであるが、第2図に示した
例では、第1の保護層には主として前者の機能
を、第2の保護層には主として後者の機能を持た
せてある。第2の保護層を第2図に示すような形
状に設けることによつて、パターニングが容易に
なる。従つてノズルが高密度化してもそれに伴う
加工が繁雑になることも、より高い精度が必要と
されることもない。この形状にすることによつ
て、第1図に示す従来例に比べ、電極、発熱抵抗
層、第1の保護層が短絡する確率は、約2倍にな
るが、短絡する程度のピンホール密度は約1〜5
×10-3個/cm2であることを考えると、1000ノズル
の高密度液体噴射記録ヘツドにおいても短絡確率
は0.02〜0.1%であり、十分に高い製造歩留りが
確保できる。加工容易性、歩留り等の点から総合
的に判断すると、最終的には従来よりも高品位の
高密度液体噴射記録ヘツドの提供が可能である。 図示例においては、電極113,114の液流
路下部分はほとんど第1の保護層111のみによ
つて覆われている。熱作用面を除く第1の保護層
の上層に第3の保護層を、被覆性に優れる有機材
料等で構成することもできる。 第1の保護層111は、例えばSiO2等の無機
酸化物やSi3N4等の無機窒化物等の無機質絶縁材
料で構成され、第2の保護層112は粘りがあつ
て、比較的機械的強度に優れ、かつ第1の保護層
に対して密着性と接着性のある、例えば第1の保
護層がSiO2で形成されている場合にはTa等の金
属材料で構成されるのが好ましい。このように第
2の保護層を金属等の比較的粘りがあつて機械的
強度のある無機材料で構成することは、特に熱作
用面108に於いて、液体吐出の際に生ずるキヤ
ビテーシヨン作用からのシヨツクを充分吸収する
ことができ、電気熱変換体101の寿命を格段に
延ばす効果がある。 第1の保護層111を構成する材料としては、
比較的熱伝導性及び耐熱性に優れた無機質絶縁材
料が適している。例えば、SiO2等の無機酸化物
や、酸化チタン、酸化バナジウム、酸化ニオブ、
酸化モリブデン、酸化タンタル、酸化タングステ
ン、酸化クロム、酸化ジルコニウム、酸化ハフニ
ウム、酸化ランタン、酸化イツトリウム、酸化マ
ンガン等の遷移金属酸化物、更に酸化アルミニウ
ム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化
バリウム、酸化シリコン、等の金属酸化物及びそ
れらの複合体、窒化シリコン、窒化アルミニウ
ム、窒化ボロン、窒化タンタル等高抵抗窒化物及
びこれら酸化物、窒化物の複合体、更にアモルフ
アスシリコン、アモルフアスセレン等の半導体な
どバルクでは低抵抗であつてもスパツタリング
法、CVD法、蒸着法、気相反応法、液体コーテ
イング法等の製造過程で高抵抗化し得る薄膜材料
を挙げることができる。 第2の保護層112を形成する材料としては、
上記のTaの他に、Sc、Yなどの周期律表第a
族の元素、Ti、Zr、Hfなどの第a族の元素、
V、Nbなどの第a族の元素、Cr、Mo、Wな
どの第a族の元素、Fe、Co、Niなどの第族
の元素;Ti−Ni、Ta−W、Ta−Mo−Ni、Ni
−Cr、Fe−Co、Ti−W、Fe−Ti、Fe−Ni、Fe
−Cr、Fe−Ni−Crなどの上記金属の合金;Ti−
B、Ta−B、Hf−B、W−Bなどの上記金属の
硼化物;Ti−C、Zr−C、V−C、Ta−C、
Mo−C、Cr−Cなどの上記金属の炭化物;Mo
−Si、W−Si、Ta−Siなどの上記金属のケイ化
物;Ti−N、Nb−N、Ta−Nなどの上記金属の
窒化物が挙げられる。第2の保護層は、これらの
材料を用いて蒸着法、スパツタリング法、CVD
法等の手法により形成することができる。第2の
保護層は、上記の材料単独であつてもよいが、も
ちろんこれらの幾つかを組合わせることもでき
る。 前述の第3の保護層は、液浸透防止と耐液作用
に優れた有機質絶縁材料で構成され、更には、
成膜性が良いこと、緻密な構造でかつピンホー
ルが少ないこと、使用インクに対し膨潤、溶解
しないこと、成膜したとき絶縁性が良いこと、
耐熱性が高いこと等の物性を具備していること
が望しい。そのような有機材料としては以下の樹
脂、例えば、シリコーン樹脂、フツ素樹脂、芳香
族ポリアミド、付加重合型ポリイミド、ポリベン
ズイミダゾール、金属キレート重合体、チタン酸
エステル、エポキシ樹脂、フタル酸樹脂、熱硬化
性フエノール樹脂、P−ビニルフエノール樹脂、
ザイロツク樹脂、トリアジン樹脂、BT樹脂(ト
リアジン樹脂とビスマレイミド付加重合樹脂)等
が挙げられる。又、この他に、ポリキシリレン樹
脂及びその誘導体を蒸着して第3の保護層を形成
することもできる。 更に種々の有機化合物モノマー、例えばチオウ
レア、チオアセトアミド、ビニルフエロセン、
1,3,5−トリクロロベンゼン、クロロベンゼ
ン、スチレン、フエロセン、ピロリン、ナフタレ
ン、ペンタメチルベンゼン、ニトロトルエン、ア
クリロニトリル、ジフエニルセレナイド、P−ト
ルイジン、P−キシレン、N,N−ジメチル−P
−トルイジン、トルエン、アニリン、ジフエニル
マーキユリー、ヘキサメチルベンゼン、マロノニ
トリル、テトラシアノエチレン、チオフエン、ベ
ンゼンセレノール、テトラフルオロエチレン、エ
チレン、N−ニトロジフエニルアミン、アセチレ
ン、1,2,4−トリクロロベンゼン、プロパ
ン、等を使用してプラズマ重合法によつて成膜さ
せて、第3の保護層を形成することもできる。 しかしながら、高密度マルチオリフイスタイプ
の記録ヘツドを作成するのであれば、上記した有
機質材料とは別に微細フオトリソグラフイー加工
が極めて容易とされる有機質材料を第3の保護層
を形成する材料として使用するのが望ましい。そ
のような有機質材料としては具体的には、例え
ば、ポリイミドイソインドロキナゾリンジオン
(商品名:PIQ、日立化成製)、ポリイミド樹脂
(商品名:PYRALIN、デユポン製)、環化ポリ
ブタジエン(商品名:JSR−CBR、CBR−
M901、日本合成ゴム製)、フオトニース(商品
名:東レ製)、その他の感光性ポリイミド樹脂等
が好ましいものとして挙げられる。 支持体115は、シリコン、ガラス、セラミツ
クス等で構成する。 下部層109は、主に熱発生部107より発生
する熱の支持体115側への流れを制御する層と
して設けられるもので、熱作用部106に於いて
液体に熱エネルギーを作用させる場合には、熱発
生部107より発生する熱が熱作用部106側に
より多く流れるようにし、電気熱変換体101へ
の通電がOFFされた際には、熱発生部107に
残存している熱が、支持体115側に速やかに流
れるように構成材料の選択と、その層厚の設計が
成される。下部層109を構成する材料として
は、SiO2、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、
酸化マグネシウム等の金属酸化物に代表される無
機質材料が挙げられる。 発熱抵抗層110を構成する材料は、通電され
ることによつて、所望通りの熱が発生するもので
あれば大概のものが採用され得る。 そのような材料としては、具体的には例えば窒
化タンタル、ニクロム、銀−パラジウム合金、シ
リコン半導体、或いは、ハフニウム、ランタン、
ジルコニウム、チタン、タンタル、タングステ
ン、モリブデン、ニオブ、クロム、バナジウム等
の金属及びその合金並びにそれらの硼化物等が好
ましいものとして挙げられる。 これ等の発熱抵抗層110を構成する材料の
中、殊に金属硼化物が優れたものとして挙げるこ
とができ、その中でも最も特性の優れているのが
硼化ハフニウムであり、次いで硼化ジルコニウ
ム、硼化ランタン、硼化タンタル、硼化バナジウ
ム、硼化ニオブの順となつている。 発熱抵抗層110は、上記した材料を使用し
て、電子ビーム蒸着やスパツタリング等の手法を
用いて形成することができる。 電極113及び114を構成する材料として
は、通常使用されている電極材料の多くのものが
有効に使用され、具体的には、例えばAl,Ag,
Au,Pt,Cu等の金属が挙げられ、これ等を使用
して、蒸着等の手法で所定位置に、所定の大き
さ、形状、厚さで設けられる。 溝付板103並びに熱作用部106の上流側に
設けられる共通液室の構成部材を構成する材料と
しては、記録ヘツドの工作時の、或いは使用時の
環境下に於いて形状に熱的影響を受けないか或い
は殆んど受けないものであつて微細精密加工が容
易に適用され得ると共に、面精度を所望通りに容
易に出すことができ、更には、それ等によつて形
成される流路中を液体がスムーズに流れ得るよう
に加工し得るものであれば、大概のものが有効で
ある。 そのような材料として代表的なものを挙げれ
ば、セラミツクス、ガラス、金属、プラスチツク
或いはシリコンウエハー等が好適なものとして例
示される。殊に、ガラス、シリコンウエハーは加
工上容易であること、適度の耐熱性、熱膨張係
数、熱伝導性を有しているので好適な材料の1つ
である。オリフイス104の周りの外表面は液体
で漏れて、液体がオリフイス104の外側に回り
込まないように、液体が水系の場合には撥水処理
を、液体が非水系の場合には撥油処理を施した方
が良い。 以下に実施例を示して本発明の液体噴射記録ヘ
ツドを具体的に説明する。 実施例 第2図に示した液体噴射記録ヘツドを以下のよ
うにして製造した。 Siウエハの熱酸化により5μm厚のSiO2膜を形
成し基板とした。基板にスパッタにより発熱抵抗
層としてHfB2を1500Åの厚みに形成し、続いて
電子ビーム蒸着によりTi層50Å、Al層5000Åを
連続的に堆積した。 フオトリソ工程により第2図のようなパターン
を形成し電極113,114を形成した。熱作用
面のサイズは30μm幅、150μm長でAl電極の抵抗
を含めて150オームであつた。 次に第1の保護層111として、SiO2層をハ
イレートスパツタリングにより2.5μm堆積した。 次に第2の保護層112を以下の工程に従つて
作成した。Taリフトオフ用レジストとしてポリ
イミド膜(日立化成製PIQ)3μmをパターニング
し、その後DCスパツタによりTa膜を1.0μm形成
した。Ta膜形成後PIQ膜を剥離し、所望のTa膜
のパターンを得て基板作製を終了した。 このようにして形成した基板の発熱抵抗体及び
電極と第1の保護層Taとの短絡を1基板あたり
100セグメント、123基板について調べたところ、
10MΩ以下の抵抗を示すものはなかつた。 最後に液流路と熱作用部およびオリフイスを形
成する為の溝付きガラス板を溝部が基板に形成さ
れた熱発生部と適切な配置になるように所定通り
に合わせて接着した。 このようにして作成した記録ヘツドの電気熱変
換体に10μsで30Vの短形電圧を800Hzで印加して
液体吐出実験を行なつたところ、従来と同等以上
の信頼性を得た。 またノズル密度が8本/mm、12本/mm、16本/
mmの記録ヘツドを同様に作成した。その時のTa
膜パターニングの歩留りを従来と比較して表1に
示す。
The present invention relates to a liquid jet recording head that performs recording by jetting liquid and forming flying droplets. The inkjet recording method (liquid jet recording method) is
It has recently attracted attention because it generates negligible noise during recording, is capable of high-speed recording, and can be recorded without the need for special processing such as fixing on plain paper. There is. Among them, for example, the liquid jet recording method described in Japanese Unexamined Patent Publication No. 54-51837 and German Publication of Publication (DOLS) No. 2843064 applies thermal energy to the liquid to obtain the motive force for ejecting droplets. In this respect, it has different characteristics from other liquid jet recording methods. That is, in the recording method disclosed in the above-mentioned publication, the liquid subjected to the action of thermal energy undergoes a state change accompanied by a sharp increase in volume, and the acting force based on the state change causes the tip of the recording head to Liquid is ejected from the orifice to form flying droplets, and the droplets adhere to the recording member to perform recording. In particular, the liquid jet recording method disclosed in DOLS No. 2843064 is not only very effectively applied to the so-called drop-on demand recording method, but also
Since the recording head section can be easily implemented as a full line type recording head with high density multi-orifice, it has the feature that high resolution and high quality images can be obtained at high speed. The recording head part of the apparatus applied to the above recording method is a part that communicates with an orifice provided for ejecting liquid and where thermal energy acts on the liquid in order to eject droplets. The apparatus includes a liquid discharge part having a liquid flow path in which a heat acting part is a part of the structure, and an electrothermal converter as a means for generating thermal energy. This electrothermal converter includes a pair of electrodes,
The heating resistor layer is connected to these electrodes and has a heat generating region (heat generating portion) between these electrodes. Typical examples of the structure of such a liquid jet recording head are shown in FIGS. 1a, 1b and 1c. FIG. 1a is a partial front view of the liquid jet recording head seen from the orifice side, and FIG.
1A is a cutaway view taken along the line XY shown in FIG. 1A, and FIG. 1C is a plan view of the substrate. The recording head 100 covers the surface of a substrate 102 on which an electrothermal converter 101 is provided with a grooved plate 103 having a predetermined number of grooves of a predetermined width and depth at a predetermined linear density. By joining in this manner, the structure has an orifice 104 and a liquid discharge portion 105 formed therein. In the case of the recording head shown in the figure, it is shown as having a plurality of orifices 104, but of course the present invention is not limited to this.
Single orifice recording heads are also within the scope of this invention. The liquid discharge part 105 has an orifice 104 for discharging liquid at its terminal end, and an electrothermal converter 10.
Thermal action part 106 is a part where the thermal energy generated from 1 acts on the liquid and generates bubbles, causing a sudden change in state due to expansion and contraction of the volume.
and has. The heat acting part 106 is located above the heat generating part 107 of the electrothermal converter 101, and has a heat acting surface 108, which is a surface of the heat generating part 107 that comes into contact with the liquid, as its bottom surface. The heat generating section 107 includes a lower layer 109 provided on the substrate 102, a heat generating resistor layer 110 provided on the lower layer 109, a first protective layer 111 provided on the heat generating resistor layer 110, and a second protective layer 111 provided on the heat generating resistor layer 110. It is composed of a protective layer 112. The heating resistance layer 110 includes an electrode 1 for supplying electricity to the layer 110 to generate heat.
13 and 114 are provided on its surface. The electrode 113 is a common electrode for the heat generating section of each liquid discharging section, and the electrode 114 is a selection electrode for selectively generating heat in the heat generating section of each liquid discharging section. It is provided along the flow path. First protective layer 111 and second protective layer 112
In the heat generating section 107, the heating resistance layer 110
In order to chemically and physically protect the liquid from the liquid to be used, the heating resistance layer 110 and the liquid filling the liquid flow path of the liquid discharge part 105 are separated from each other, and the electrodes 113 and 114 are short-circuited through the liquid. The heating resistance layer 110 has a protective function of preventing this. The first protective layer 111 also has the role of preventing electrical leakage between adjacent electrodes. In particular, it is necessary to prevent electrical leakage between each selected electrode, or to prevent electrical leakage that may occur when the electrode under each liquid flow path comes into contact with the liquid for some reason and is energized. Prevention of electrolytic corrosion is important, and for this purpose, the first protective layer 111 having the function of a protective layer is provided at least on the electrodes located below the liquid flow path. The upper layers including the first protective layer have different characteristics depending on where they are provided.
That is, for example, in the heat generating part 107, heat resistance, liquid resistance, liquid penetration prevention property, thermal conductivity,
It is required to have excellent oxidation prevention properties, insulation properties, and tear resistance, and in areas other than the heat generating part 107, it is relieved by thermal conditions, but it is required to have excellent liquid penetration prevention properties.
Sufficiently excellent liquid resistance and puncture resistance are required. However, at present, there is no material constituting the upper layer that fully satisfies all of the above characteristics as desired, and the current situation is that some of the characteristics of ~ are relaxed when used. That is, in the heat generating part 107, priority is given to and when selecting the material, while in other parts, such as electrode parts, priority is given to and. A selection of materials is made and a top layer is formed with each corresponding material on each relevant area surface. On the other hand, in the case of a multi-orifice type liquid jet recording head, in order to simultaneously form a large number of fine electrothermal transducers on the substrate, each layer is formed on the substrate during the manufacturing process. The formation of the upper layer and the removal of a portion of the formed layer are repeated, and at the stage where the upper layer is formed, the surface on which the upper layer is formed has a step wedge portion (stepped portion).
The step coverage of the upper layer at this stepped part is high because it has a certain fine unevenness.
is becoming important. In other words, if the coverage of this stepped portion is poor, liquid will penetrate into that portion, causing electrolytic corrosion or electrical breakdown. In addition, if the upper layer to be formed has a high probability of having defects due to the manufacturing method, liquid may penetrate through the defects, which can significantly shorten the life of the electrothermal converter. It's summery. For these reasons, the upper layer must have good coverage in the step part, and the probability that defects such as pinholes will occur in the formed layer is low, and even if they occur, they can be ignored in practical terms. Or even less is required. On the other hand, in the heat action section 106, the liquid is vaporized by heating, but because this is subcooled boiling and because the heating time is short, it is immediately cooled and condensed. Therefore, foaming and condensation are repeated at a high frequency of several thousand times per second in the vicinity of the heat-active surface, and the pressure changes (cavitation and corrosion) at this time often destroy the substrate. In recent years, there has been a strong demand for high image quality and high density printing quality, and more precise processing of minute parts such as electrodes, heating resistor layers, and accompanying protective layers is required than ever before. The present invention has been developed in view of the above points, and has excellent overall durability in frequent repeated use and long-term continuous use, and maintains good initial droplet formation characteristics over a long period of time. The main object of the present invention is to provide a liquid jet recording head that can be stably maintained. Another object of the present invention is to provide a liquid jet recording head that is highly reliable in manufacturing and processing. Another object of the present invention is to provide a liquid jet recording head that has a high manufacturing yield even when it is made into a multi-orifice head. The liquid jet recording head of the present invention has an orifice provided for ejecting liquid to form flying droplets, and is in communication with the orifice, so that thermal energy for forming the droplets acts on the liquid. A plurality of liquid flow paths each having a heat acting part as a part of the structure, and at least one pair of opposing electrodes in each liquid flow path are provided electrically connected to the heat generating resistor layer, and between these electrodes. In a liquid jet recording head comprising a plurality of electrothermal transducers each having a heat generating section formed therein, at least a portion of the heat generating section above the heat generating resistive layer is provided with a plurality of electrothermal transducers formed of at least an inorganic insulating material. The present invention is characterized in that it has one protective layer and a second protective layer formed of an inorganic material and continuously formed in a band shape in the arrangement direction of the liquid flow paths on the adjacent heat generating part. The liquid jet recording head of the present invention will be specifically explained below with reference to the drawings. FIG. 2 shows a preferred embodiment of the liquid jet recording head of the present invention corresponding to FIG. 1c. As shown in FIG. 2, in the present invention, the second protective layer is not provided individually on each heat generating portion, but is continuously provided in a bar shape on adjacent heat generating portions. As mentioned above, the upper layer mainly has the function of isolating the heating resistance layer from the liquid in the liquid flow path and the anti-cavitation function, but in the example shown in FIG. The second protective layer mainly has the former function, and the second protective layer mainly has the latter function. By providing the second protective layer in the shape shown in FIG. 2, patterning becomes easy. Therefore, even if the nozzle density is increased, the machining process will not become complicated and higher precision will not be required. By adopting this shape, the probability that the electrode, heating resistance layer, and first protective layer will be short-circuited is approximately twice that of the conventional example shown in Fig. 1, but the pinhole density is high enough to cause a short-circuit. is about 1-5
Considering that the short circuit probability is 0.02 to 0.1% even in a high-density liquid jet recording head with 1000 nozzles , and a sufficiently high manufacturing yield can be ensured. Judging comprehensively from the viewpoints of processability, yield, etc., it is ultimately possible to provide a high-density liquid jet recording head of higher quality than the conventional one. In the illustrated example, the lower portions of the liquid flow paths of the electrodes 113 and 114 are mostly covered only by the first protective layer 111. A third protective layer may be formed on top of the first protective layer except for the heat acting surface, using an organic material or the like having excellent covering properties. The first protective layer 111 is made of an inorganic insulating material such as an inorganic oxide such as SiO 2 or an inorganic nitride such as Si 3 N 4 , and the second protective layer 112 is sticky and relatively mechanical. For example, if the first protective layer is made of SiO2 , it is preferable to use a metal material such as Ta, which has excellent physical strength and adhesion and adhesion to the first protective layer. preferable. The fact that the second protective layer is made of an inorganic material such as a metal that is relatively sticky and has mechanical strength is advantageous in that it protects the heat-active surface 108 from the cavitation effect that occurs when liquid is discharged. Shock can be sufficiently absorbed and the life of the electrothermal converter 101 can be significantly extended. The materials constituting the first protective layer 111 include:
Inorganic insulating materials with relatively excellent thermal conductivity and heat resistance are suitable. For example, inorganic oxides such as SiO 2 , titanium oxide, vanadium oxide, niobium oxide,
Transition metal oxides such as molybdenum oxide, tantalum oxide, tungsten oxide, chromium oxide, zirconium oxide, hafnium oxide, lanthanum oxide, yttrium oxide, manganese oxide, as well as aluminum oxide, calcium oxide, strontium oxide, barium oxide, silicon oxide, etc. Bulk metal oxides and their composites, high-resistance nitrides such as silicon nitride, aluminum nitride, boron nitride, tantalum nitride, and composites of these oxides and nitrides, and semiconductors such as amorphous silicon and amorphous selenium. Examples include thin film materials that have low resistance but can be made high in resistance through manufacturing processes such as sputtering, CVD, vapor deposition, gas phase reaction, and liquid coating. Materials for forming the second protective layer 112 include:
In addition to Ta mentioned above, periodic table a such as Sc, Y etc.
group elements, group a elements such as Ti, Zr, Hf,
Group A elements such as V and Nb; Group A elements such as Cr, Mo, and W; Group A elements such as Fe, Co, and Ni; Ti-Ni, Ta-W, Ta-Mo-Ni, Ni
-Cr, Fe-Co, Ti-W, Fe-Ti, Fe-Ni, Fe
- Alloys of the above metals such as Cr, Fe-Ni-Cr; Ti-
Borides of the above metals such as B, Ta-B, Hf-B, W-B; Ti-C, Zr-C, V-C, Ta-C,
Carbides of the above metals such as Mo-C and Cr-C; Mo
Examples include silicides of the above metals such as -Si, W-Si and Ta-Si; nitrides of the above metals such as Ti-N, Nb-N and Ta-N. The second protective layer can be formed using these materials by vapor deposition, sputtering, or CVD.
It can be formed by a method such as a method. The second protective layer may be made of the above-mentioned materials alone, but of course some of these materials may also be combined. The third protective layer described above is made of an organic insulating material that has excellent liquid penetration prevention and liquid resistance properties, and further includes:
It has good film forming properties, has a dense structure and few pinholes, does not swell or dissolve in the ink used, and has good insulation properties when formed into a film.
It is desirable that the material has physical properties such as high heat resistance. Examples of such organic materials include the following resins, such as silicone resins, fluororesins, aromatic polyamides, addition polymerized polyimides, polybenzimidazole, metal chelate polymers, titanate esters, epoxy resins, phthalate resins, and thermoplastic resins. Curable phenolic resin, P-vinylphenol resin,
Examples include Zyloc resin, triazine resin, BT resin (triazine resin and bismaleimide addition polymer resin), and the like. In addition to this, the third protective layer can also be formed by vapor depositing a polyxylylene resin or a derivative thereof. Furthermore, various organic compound monomers such as thiourea, thioacetamide, vinylferrocene,
1,3,5-trichlorobenzene, chlorobenzene, styrene, ferrocene, pyrroline, naphthalene, pentamethylbenzene, nitrotoluene, acrylonitrile, diphenylselenide, P-toluidine, P-xylene, N,N-dimethyl-P
-Toluidine, toluene, aniline, diphenylmercury, hexamethylbenzene, malononitrile, tetracyanoethylene, thiophene, benzeneselenol, tetrafluoroethylene, ethylene, N-nitrodiphenylamine, acetylene, 1,2,4-tri The third protective layer can also be formed by a plasma polymerization method using chlorobenzene, propane, or the like. However, if a high-density multi-orifice type recording head is to be manufactured, an organic material that is extremely easy to process using fine photolithography must be used as the material for forming the third protective layer, in addition to the above-mentioned organic materials. is desirable. Specifically, such organic materials include, for example, polyimide isoindoquinazolinedione (trade name: PIQ, manufactured by Hitachi Chemical), polyimide resin (trade name: PYRALIN, manufactured by DuPont), and cyclized polybutadiene (trade name: JSR−CBR, CBR−
Preferred examples include M901 (manufactured by Japan Synthetic Rubber Co., Ltd.), Photonis (trade name: manufactured by Toray Industries), and other photosensitive polyimide resins. The support 115 is made of silicon, glass, ceramics, or the like. The lower layer 109 is provided as a layer that mainly controls the flow of heat generated from the heat generating section 107 toward the support body 115, and when applying thermal energy to the liquid in the heat acting section 106, , the heat generated from the heat generating section 107 is made to flow more toward the heat acting section 106, and when the electricity to the electrothermal converter 101 is turned off, the heat remaining in the heat generating section 107 is transferred to the support. The constituent materials are selected and the layer thickness is designed so that the material flows quickly toward the body 115. Materials constituting the lower layer 109 include SiO 2 , zirconium oxide, tantalum oxide,
Examples include inorganic materials typified by metal oxides such as magnesium oxide. As the material constituting the heat generating resistor layer 110, almost any material can be used as long as it generates desired heat when energized. Specific examples of such materials include tantalum nitride, nichrome, silver-palladium alloy, silicon semiconductor, hafnium, lanthanum,
Preferred examples include metals such as zirconium, titanium, tantalum, tungsten, molybdenum, niobium, chromium, and vanadium, alloys thereof, and borides thereof. Among these materials constituting the heating resistance layer 110, metal borides are particularly excellent, and among them, hafnium boride has the best properties, followed by zirconium boride, The order is lanthanum boride, tantalum boride, vanadium boride, and niobium boride. The heat generating resistor layer 110 can be formed using the above-mentioned materials using methods such as electron beam evaporation and sputtering. As the material constituting the electrodes 113 and 114, many commonly used electrode materials can be effectively used, and specifically, for example, Al, Ag,
Examples include metals such as Au, Pt, and Cu, which are used to provide a predetermined size, shape, and thickness at a predetermined location by a method such as vapor deposition. The materials constituting the grooved plate 103 and the components of the common liquid chamber provided on the upstream side of the heat acting section 106 are materials whose shape is not affected by thermal effects during the construction of the recording head or under the environment during use. It is possible to easily apply micro-precision machining to a material that does not receive or hardly receives it, and can easily obtain the desired surface accuracy, and furthermore, the flow path formed by such a material can be easily applied. Most materials are effective as long as they can be processed so that liquid can flow smoothly through them. Typical examples of such materials include ceramics, glass, metal, plastic, and silicon wafers. In particular, glass and silicon wafers are suitable materials because they are easy to process and have appropriate heat resistance, thermal expansion coefficient, and thermal conductivity. The outer surface around the orifice 104 is treated with a water-repellent treatment if the liquid is aqueous, or an oil-repellent treatment if the liquid is non-aqueous, to prevent liquid from leaking and getting around the outside of the orifice 104. It's better to do so. The liquid jet recording head of the present invention will be specifically explained below with reference to Examples. EXAMPLE The liquid jet recording head shown in FIG. 2 was manufactured as follows. A 5 μm thick SiO 2 film was formed by thermal oxidation of a Si wafer and used as a substrate. HfB 2 was formed on the substrate to a thickness of 1500 Å as a heating resistance layer by sputtering, and then a Ti layer of 50 Å and an Al layer of 5000 Å were successively deposited by electron beam evaporation. A pattern as shown in FIG. 2 was formed by a photolithography process, and electrodes 113 and 114 were formed. The size of the heat-active surface was 30 μm wide, 150 μm long, and 150 ohms including the resistance of the Al electrode. Next, as the first protective layer 111, a 2.5 μm thick SiO 2 layer was deposited by high-rate sputtering. Next, the second protective layer 112 was created according to the following steps. A 3 μm polyimide film (PIQ manufactured by Hitachi Chemical) was patterned as a Ta lift-off resist, and then a 1.0 μm Ta film was formed by DC sputtering. After forming the Ta film, the PIQ film was peeled off to obtain the desired Ta film pattern, completing the substrate fabrication. Short-circuiting between the heating resistor and electrode of the substrate thus formed and the first protective layer Ta is prevented per substrate.
When I investigated 100 segments and 123 boards, I found that
None showed a resistance of less than 10 MΩ. Finally, a glass plate with grooves for forming a liquid flow path, a heat acting part, and an orifice was bonded in a predetermined manner so that the grooves were appropriately arranged with the heat generating part formed on the substrate. A liquid ejection experiment was conducted by applying a rectangular voltage of 30 V at 800 Hz for 10 μs to the electrothermal transducer of the recording head created in this way, and the reliability was equal to or better than that of the conventional method. Also, the nozzle density is 8/mm, 12/mm, 16/
A recording head of mm was prepared in the same manner. Ta at that time
Table 1 shows a comparison of the film patterning yield with the conventional method.

【表】 以上のように、本発明によれば、高品位、高密
度の液体噴射記録ヘツドを高い製造歩留りで提供
することができる。
[Table] As described above, according to the present invention, a high-quality, high-density liquid jet recording head can be provided with a high manufacturing yield.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図a,b,cは夫々、従来の液体噴射記録
ヘツドの構成を説明するためのもので、第1図a
は模式的正面部分図、第1図bは第1図aの一点
鎖線XYでの切断部分図、第1図cは基板の模式
的平面図、第2図は本発明の液体噴射記録ヘツド
の構成を説明するためのもので、第1図cに相当
する基板の模式的平面図である。 100……液体噴射記録ヘツド、101……電
気熱変換体、102……基板、103……溝付
板、104……オリフイス、105……液吐出
部、106……熱作用部、107……熱発生部、
108……熱作用面、109……下部層、110
……発熱抵抗層、111……第1の保護層、11
2……第2の保護層、113……共通電極、11
4……選択電極、115……支持体。
Figures 1a, b, and c are for explaining the configuration of a conventional liquid jet recording head, respectively.
is a schematic front partial view, FIG. 1b is a partial view cut along the dashed line XY in FIG. 1a, FIG. 1c is a schematic plan view of the substrate, and FIG. FIG. 2 is a schematic plan view of a substrate corresponding to FIG. 1c, for explaining the configuration. 100...liquid jet recording head, 101...electrothermal converter, 102...substrate, 103...grooved plate, 104...orifice, 105...liquid discharge section, 106...thermal action section, 107... heat generating part,
108...Heat action surface, 109...Lower layer, 110
...Heating resistance layer, 111...First protective layer, 11
2...Second protective layer, 113...Common electrode, 11
4...Selective electrode, 115...Support.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 液体を吐出して飛翔的液滴を形成するために
設けられたオリフイスと、該オリフイスに連通
し、前記液滴を形成するための熱エネルギーが液
体に作用する部分である熱作用部を構成の一部と
する複数の液流路と、それぞれの液流路で少なく
とも一対の対置する電極が発熱抵抗層に電気的に
接続して設けられ、これら電極の間に熱発生部が
形成されている複数の電気熱変換体とを具備する
液体噴射記録ヘツドにおいて、 少なくとも前記熱発生部の発熱抵抗層の上にあ
る部分上に少なくとも無機絶縁材料で構成される
第1の保護層と、隣接する熱発生部上に前記液流
路の配列方向に帯状に連続して形成され無機材料
で構成される第2の保護層とを有することを特徴
とする液体噴射記録ヘツド。
[Scope of Claims] 1. An orifice provided for ejecting liquid to form flying droplets, and a portion communicating with the orifice where thermal energy acts on the liquid to form the droplets. A plurality of liquid channels each having a certain heat acting part as a part of the structure, and at least one pair of opposing electrodes in each liquid channel are electrically connected to a heat generating resistor layer, and heat is generated between these electrodes. In a liquid jet recording head comprising a plurality of electrothermal transducers in which a heat generation section is formed, at least a first portion made of an inorganic insulating material is provided on at least a portion of the heat generation section that is above the heating resistance layer. 1. A liquid jet recording head comprising: a protective layer; and a second protective layer formed of an inorganic material and continuously formed in a band shape in the arrangement direction of the liquid flow paths on an adjacent heat generating section.
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