JPH02187354A - Base for liquid jet recording head and liquid jet recording head using - Google Patents

Base for liquid jet recording head and liquid jet recording head using

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JPH02187354A
JPH02187354A JP747189A JP747189A JPH02187354A JP H02187354 A JPH02187354 A JP H02187354A JP 747189 A JP747189 A JP 747189A JP 747189 A JP747189 A JP 747189A JP H02187354 A JPH02187354 A JP H02187354A
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JP
Japan
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layer
protective layer
liquid
recording head
jet recording
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JP747189A
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Japanese (ja)
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Toshio Kashino
俊雄 樫野
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Canon Inc
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Abstract

PURPOSE:To improve general durability, printing quality as a liquid jet recording head by forming a protective layer of an organic material provided on an electrode inside from the edge line of a base. CONSTITUTION:An electrothermal converter 101 has a heat generator 107 as its essential section. The heat generator 107 is sequentially laminated from a base plate side with a lower layer 109, a heat generating resistor layer 110, and lower and upper layers of a first protective layer 111 composed of an inorganic insulating material on a base plate 116, and the surface (heat operating surface) of the upper layer of the protective layer 111 is brought into direct contact with liquid in a liquid passage. The most surface of a selecting electrode 114 is covered with an upper layer laminated sequentially from an electrode side with a second protective layer 112 and the first protective layer 111. The lower layer of the first protective layer 111 is composed, for example, of an inorganic insulating material such as inorganic nitride, etc., such as Si3N4, etc., and composed of metal material of Ta, etc. Thus, a layer made of an inorganic material having mechanical strength with relatively high viscosity such as metal is disposed on the upper layer of the protective layer 111 to sufficiently absorb a shock due to cavitation generated in case of discharge of liquid, thereby prolonging the life of the electrothermal converter 101.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、液体を噴射し、飛翔液滴を形成して記録を行
なう液体噴射記録ヘッドおよび該記録ヘッドを構成する
記録ヘッド用基体に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a liquid jet recording head that performs recording by jetting liquid and forming flying droplets, and a recording head substrate that constitutes the recording head.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

液体噴射記録ヘッドは、液体を吐出するために設けられ
たオリフィスと、該オリフィスに連通し、液滴な形成す
るための熱エネルギーが液体に作用する部分である熱作
用部を構成の一部とする液流路とを有する液吐出部と、
熱エネルギーを発生する手段としての電気熱変換体とを
具備している。
A liquid jet recording head includes an orifice provided for ejecting liquid, and a heat acting part that communicates with the orifice and acts on the liquid to form droplets. a liquid discharge section having a liquid flow path;
It is equipped with an electrothermal converter as a means for generating thermal energy.

そして、この電気熱変換体は、一対の電極と、これらの
電極に接続し、これらの電極の間に発熱する領域(熱発
生部)を有する発熱抵抗層とを具備している。
This electrothermal converter includes a pair of electrodes, and a heat generating resistance layer connected to these electrodes and having a heat generating region (heat generating portion) between these electrodes.

このような液体噴射記録ヘッドの構造を示す典型的な例
が第2図(a)〜(c)に示される。第2図(a)は液
体噴射記録ヘッドの斜視図であり、第2図(b)は第2
図(a)におけるX−Yでの切断部分図であり、第2図
(c)は個々のヘッド用に分割する前の基体の平面図で
ある。
Typical examples of the structure of such a liquid jet recording head are shown in FIGS. 2(a) to 2(c). FIG. 2(a) is a perspective view of the liquid jet recording head, and FIG. 2(b) is a perspective view of the liquid jet recording head.
It is a partial view cut along the X-Y line in FIG. 2(a), and FIG. 2(c) is a plan view of the base before being divided into individual heads.

記録ヘッド200は、その表面に電気熱変換体201が
設けられている基体202の表面を、所定の線密度で所
定の幅と深さの溝が所定数設けられている溝付き板20
3で覆うように接合する。さらに該層に合わせて液体の
吐出口であるオリフィス204を有するオリフィスプレ
ート217を備えている。
The recording head 200 includes a grooved plate 20 in which a predetermined number of grooves of a predetermined width and depth are provided at a predetermined linear density on the surface of a base body 202 on which an electrothermal transducer 201 is provided.
Join so as to cover with 3. Further, an orifice plate 217 having an orifice 204 serving as a liquid discharge port is provided in accordance with the layer.

図に示す記録ヘッドの場合にはオリフィス204を複数
有するものとして示されているが、もちろん本発明にお
いては、このようなものに限定されるものではなく、単
一オリフィスの記録ヘッドも本発明の範晴に入るもので
ある。
Although the recording head shown in the figure is shown as having a plurality of orifices 204, the present invention is of course not limited to such a recording head, and a recording head with a single orifice is also applicable to the present invention. It falls under Noriharu.

液流路215は、その終端に液体を吐出させるためのオ
リフィス204と、電気熱変換体201より発生される
熱エネルギーが液体に作用して気泡を発生し、その体積
の膨張と収縮による急激な状態変化を引き起す箇所であ
る熱作用部206とを有する。
The liquid flow path 215 has an orifice 204 at its end for discharging liquid, and thermal energy generated by the electrothermal converter 201 acts on the liquid to generate bubbles, causing rapid expansion and contraction of the volume. It has a heat acting part 206 which is a part that causes a state change.

熱作用部206は、電気熱変換体201の熱発生部20
7の上部に位置し、熱発生部207の液体と接触する面
としての熱作用面208をその底面としている。
The heat acting part 206 is the heat generating part 20 of the electrothermal converter 201.
7 and has a heat acting surface 208 as a surface in contact with the liquid of the heat generating section 207 as its bottom surface.

熱発生部207は、基体202上に設けられた下部層2
09、該下部層209上に設けられた発熱抵抗層210
、該発熱抵抗層zio上に設けられた第1の保護層21
1とで構成される。発熱抵抗層210には、熱を発生さ
せるために核層210に通電するための電極213.2
14がその表面に設けられている。電極213は、各液
吐出部の熱発生部に共通の電極であり、電極214は、
各液吐出部の熱発生部を選択して発熱させるための選択
電極であって、液吐出部の液流路に沿って設けられてい
る。
The heat generating section 207 is a lower layer 2 provided on the base 202.
09. Heat generating resistance layer 210 provided on the lower layer 209
, a first protective layer 21 provided on the heat generating resistance layer zio.
1. The heating resistance layer 210 includes an electrode 213.2 for supplying electricity to the core layer 210 to generate heat.
14 is provided on its surface. The electrode 213 is a common electrode for the heat generating part of each liquid discharge part, and the electrode 214 is
This is a selection electrode for selectively generating heat in the heat generating section of each liquid discharge section, and is provided along the liquid flow path of the liquid discharge section.

第1の保護層211は、熱発生部207においては発熱
抵抗層210を、使用する液体から化学的、物理的に保
護するために発熱抵抗層210と液吐出部205の液流
路を満たしている液体とを隔絶すると共に、液体を通じ
て電極213.214間が短絡するのを防止する、発熱
抵抗層210の保護的機能を有している。また、第1の
保護層211は、隣接する電極間における電気的リーク
を防止する役目も担っている。特に、各選択電極間21
4における電気的リークの防止、あるいは各液流路下に
ある電極が何等かの理由で電極と液体とが接触し、これ
に通電することによって起こる電極の電蝕の防止は重要
であって、このためにこのような保護層的機能を有する
第1の保護層211が少なくとも液流路下に存在する電
極上には設けられている。
In the heat generation section 207, the first protective layer 211 fills the heat generation resistance layer 210 and the liquid flow path of the liquid discharge section 205 in order to chemically and physically protect the heat generation resistance layer 210 from the liquid used. The heating resistor layer 210 has a protective function of isolating the electrodes 213 and 214 from the liquid and preventing a short circuit between the electrodes 213 and 214 through the liquid. Furthermore, the first protective layer 211 also plays a role in preventing electrical leakage between adjacent electrodes. In particular, between each selected electrode 21
It is important to prevent electrical leakage in step 4, or to prevent electrolytic corrosion of the electrodes that occurs when the electrodes under each liquid flow path come into contact with the liquid for some reason and are energized. For this purpose, a first protective layer 211 having the function of a protective layer is provided at least on the electrode located below the liquid flow path.

第1の保護Mをはじめとする上部層は、設けられる場所
によって要求される特性が各々異なる。
The upper layers including the first protection M have different required characteristics depending on the location where they are provided.

即ち、例えば熱発生部207においては、■耐熱性、■
耐液性、■液浸透防止性、■熱伝導性、■酸化防止性、
■絶縁性および■耐破傷性に優れていることが要求され
、熱発生部207以外の領域においては熱的条件で緩和
されるが液浸透防止性、耐液性および耐破傷性には十分
優れていることが要求される。
That is, for example, in the heat generating section 207, (1) heat resistance, (2)
Liquid resistance, ■Liquid penetration prevention, ■Thermal conductivity, ■Antioxidation,
■Excellent insulation properties and ■tear resistance are required, which can be alleviated by thermal conditions in areas other than the heat generating part 207, but liquid permeation prevention properties, liquid resistance, and rupture resistance are required. It is required to be excellent.

ところが、上記の■〜■の特性のすべてを所望通りに十
分満足する上部層を構成する材料は今のところなく、■
〜■の特性のいくつかを緩和して使用しているのが現状
である。即ち、熱発生部207においては、■、■およ
び■に優先が置かれて材料の選択がなされ、他方熱発生
部207以外の、例えば電極部においては、■、■およ
び■に優先が置かれて材料の選択が成されて、各々の該
当する領域面上に各相当する材料を以って上部層が形成
されている。
However, there is currently no material constituting the upper layer that sufficiently satisfies all of the above characteristics (■) to (■) as desired;
Currently, some of the characteristics of ~■ are relaxed and used. That is, in the heat generating section 207, priority is given to ■, ■, and ■ when selecting the material, while in other parts other than the heat generating section 207, for example, in the electrode section, priority is given to ■, ■, and ■. The selection of materials is then made, and the upper layer is formed with each corresponding material on each corresponding area surface.

他方、これらとは別に、マルチオリフィス化タイプの液
体噴射記録ヘッドの場合、基板上に多数の微細な電気熱
変換体を同時に形成するために、製造過程において、基
板上では各層の形成、と、形成された層の一部除去の繰
り返しが行なわれ、上部層が形成される段階では、上部
層の形成されるその表面はステップウェッジ部(段差部
)のある微細な凹凸状となっているので、この段差部に
おける上部層の被覆性(Step coverage性
)が重要となっている。つまり、この段差部の被覆性が
悪いと、その部分での液体の浸透が起こり、電蝕あるい
は電気的絶縁破壊を起こす誘因となる。また、形成され
る上部層がその製造法上において欠陥部の生ずる確立が
少なくない場合には、その欠陥部を通じて、液体の浸透
が起こり、電気熱変換体の寿命を著しく低下させる要因
となっている。
On the other hand, in the case of a multi-orifice type liquid jet recording head, in order to simultaneously form a large number of fine electrothermal transducers on the substrate, in the manufacturing process, each layer is formed on the substrate. At the stage where the upper layer is formed by repeatedly removing a portion of the formed layer, the surface on which the upper layer is formed has a fine unevenness with step wedge parts (steps). The step coverage of the upper layer in this stepped portion is important. In other words, if the coverage of this stepped portion is poor, liquid will penetrate into that portion, leading to electrolytic corrosion or electrical breakdown. Furthermore, if there is a high possibility that the formed upper layer will have defects due to the manufacturing method, liquid will penetrate through the defects, which will significantly reduce the lifespan of the electrothermal converter. There is.

これらの理由から、上部層は、段差部における被覆性が
良好であること、形成される層にピンホール等の欠陥の
発生する確立が低く、発生しても実用上無視し得る程度
あるいはそれ以上に少ないことが要求される。
For these reasons, the upper layer must have good coverage at the stepped portion, and the probability that defects such as pinholes will occur in the formed layer is low, and even if they occur, they must be to a practically negligible level or more. less is required.

そこで従来においては、これらの要求を満たすべく上部
層を無機絶縁材料で構成される第1の保護層と、有機材
料で構成される第2の保護層を積層して形成したり、更
には、第1の保護層を2層構造にして下層を無機絶縁材
料で構成し、上層を粘りがあって、比較的機械的強度に
優れ、第1の保護層と第2の保護層に対して密着性と粘
着性のある例えば金属等の無機材料で構成したり、第2
の保護層の更に上部に第3の保護層を金属等の無機材料
で構成して配設したりされていた。
Conventionally, in order to meet these requirements, the upper layer is formed by laminating a first protective layer made of an inorganic insulating material and a second protective layer made of an organic material, or The first protective layer has a two-layer structure, the lower layer is made of an inorganic insulating material, and the upper layer is sticky, has relatively good mechanical strength, and adheres closely to the first and second protective layers. It may be made of an inorganic material such as metal, which has elasticity and adhesive properties, or it may be made of a second material.
Further above the protective layer, a third protective layer made of an inorganic material such as metal is disposed.

有機材料で構成される第2の保護層は被覆性に優れるが
、耐熱性の点で劣るため第2図(c)に示すようなパタ
ーンに形成される。
The second protective layer made of an organic material has excellent coverage but poor heat resistance and is therefore formed in a pattern as shown in FIG. 2(c).

[発明が解決しようとする課題] しかしながら、上記従来例では、ヘッド用基体を所望の
大きさに切断分割する際に、通常第3図(a)に示すよ
うにグイシングツ−等を用いて有機材料の保護層も併せ
て切断するため、切断稜線部周辺の保護Mが第3図(b
)に示したように引きちぎられ、パリ状の突起が膜厚の
5倍乃至10倍の高さで発生する。このパリ状突起を有
するヘッド用基体と、溝付板とを接合させると、第3図
 (c)に示したようにオリフィス面に隙間が生じ、隣
接する流路間で相互干渉が起きて、吐出特性が著しく低
下し、印字品位を劣化させる要因となっていた。
[Problems to be Solved by the Invention] However, in the conventional example described above, when cutting and dividing the head substrate into desired sizes, the organic material is usually cut using a cutting tool or the like as shown in FIG. 3(a). Since the protective layer is also cut at the same time, the protection M around the cutting ridge line is
), the film is torn off, and a Paris-like protrusion occurs at a height of 5 to 10 times the film thickness. When the head base having the Paris-like protrusions is joined to the grooved plate, a gap is created on the orifice surface as shown in FIG. 3(c), and mutual interference occurs between adjacent channels. The ejection characteristics were significantly deteriorated, which was a factor in deteriorating printing quality.

本発明は、上記課題に鑑みなされたものであって、液体
噴射記録ヘッドとして総合的な耐久性に優れ、印字品位
の高い液体噴射記録ヘッドを提供することを主たる目的
とする。また本発明の他の目的は、製造加工工程におい
て信頼性が高く、製造歩留りの高い液体噴射記録ヘッド
を提供することである。
The present invention has been made in view of the above problems, and a main object of the present invention is to provide a liquid jet recording head that has excellent overall durability and high printing quality. Another object of the present invention is to provide a liquid jet recording head that is highly reliable in the manufacturing process and has a high manufacturing yield.

[課題を解決するための手段] 即ち本発明は、基板と、該基板上に設けられた発熱抵抗
層と該発熱抵抗層に電気的に接続した電極とを有し、熱
エネルギーを発生する電気熱変換体と、前記電極上に設
けられている有機材料の保護層とを具備する液体噴射記
録ヘッド用基体において、前記有機材料の保護層が基体
の稜線部より内側に形成されていることを特徴とする液
体噴射記録ヘッド用基体であり、液体を吐出する吐出口
に連通ずる液路と該ヘッド用基体とを具備する液体噴射
記録ヘッドである。
[Means for Solving the Problems] That is, the present invention has a substrate, a heating resistor layer provided on the substrate, and an electrode electrically connected to the heating resistor layer, and has an electric wire that generates thermal energy. In a substrate for a liquid jet recording head comprising a heat converter and a protective layer made of an organic material provided on the electrode, the protective layer made of the organic material is formed inside the ridgeline portion of the substrate. The present invention is a characteristic feature of a liquid jet recording head substrate, and is a liquid jet recording head comprising a liquid path communicating with an ejection port for ejecting liquid, and the head substrate.

以下、図面に従って本発明を具体的に説明する。The present invention will be specifically described below with reference to the drawings.

第1図(a)、  (b)、  (c)は、本発明の液
体噴射記録ヘッドの好適な実施態様例である。
FIGS. 1(a), 1(b), and 1(c) show preferred embodiments of the liquid jet recording head of the present invention.

第1図(a)に示されている液体噴射記録ヘッド用基板
102では第2の保護層112は切断ライン上を除外し
て形成されている。
In the liquid jet recording head substrate 102 shown in FIG. 1(a), the second protective layer 112 is formed excluding the area on the cutting line.

図に示される液体噴射記録ヘッド100は、所望数の電
気熱変換体101が設けられた熱を液吐出に利用する液
体噴射記録(バブルジェット:BJと略記する)用の基
体102と、前記電気熱変換体101に対応して設けら
れた溝を所望数有する溝付板103とでその主要部が構
成されている。
The liquid jet recording head 100 shown in the figure includes a substrate 102 for liquid jet recording (bubble jet: abbreviated as BJ) that utilizes heat for liquid ejection, on which a desired number of electrothermal converters 101 are provided, and The main part thereof is constituted by a grooved plate 103 having a desired number of grooves provided corresponding to the heat exchangers 101.

BJ基体102と溝付板103とは、所望個所で接着剤
等で接合されることでBJ基体102の電気熱変換体1
01の設けられている部分と、溝付板103の溝の部分
とによって液流路115を形成しており、該液流路11
5は、その構成の一部に熱作用部106を有する。
The BJ base 102 and the grooved plate 103 are joined at desired locations with an adhesive or the like, thereby forming the electrothermal converter 1 of the BJ base 102.
A liquid flow path 115 is formed by the portion where 01 is provided and the groove portion of the grooved plate 103, and the liquid flow path 11
5 has a heat acting part 106 as a part of its structure.

BJ基体102は、シリコン、ガラス、セラミックス等
で構成されている基板116と、該基板116上にSi
O□等で構成される下部層109と、発熱抵抗層110
と、発熱抵抗層の上面の両側には液流路115に沿って
共通電極113及び選択電極114と、発熱抵抗層11
0の電極で被覆されていない部分および電極113.1
14の部分を覆うように第1の保護層111とを具備し
ている。
The BJ base body 102 includes a substrate 116 made of silicon, glass, ceramics, etc., and a silicon layer on the substrate 116.
A lower layer 109 composed of O□, etc., and a heating resistance layer 110
A common electrode 113 and a selection electrode 114 are disposed along the liquid flow path 115 on both sides of the upper surface of the heat generating resistor layer.
0 parts not covered with electrodes and electrodes 113.1
A first protective layer 111 is provided to cover the portion 14.

電気熱変換体101は、その主要部として熱発生部10
7を有し、該熱発生部107は、基板116上に基板側
から順次、下部層、発熱抵抗層、無機絶縁材料で構成さ
れる第1の保護層の下層および無機材料で構成される第
1の保護層の上層が積層されており、第1の保護層の上
層の表面(熱作用面)は液流路中を満たしている液体と
直接接触している。
The electrothermal converter 101 has a heat generating section 10 as its main part.
7, and the heat generating section 107 is arranged on the substrate 116 in order from the substrate side: a lower layer, a heating resistance layer, a lower layer of the first protective layer made of an inorganic insulating material, and a first protective layer made of an inorganic material. The upper layer of the first protective layer is laminated, and the surface (thermal action surface) of the upper layer of the first protective layer is in direct contact with the liquid filling the liquid flow path.

選択電極114のほぼ大部分の表面は、第2の保護J’
1l12および第1の保護層111が電極側よりこの順
で積層されてなる上部層に覆われ、該上部層はこのまま
の形で液流路+15の上流に設けられる共通液室の底面
部分にも設けられる。上部層はこの順に形成されなくて
も、選択電極側から第1の保護層111、第2の保護層
112の順に形成されてもよい。あるいは、第1の保護
層111の下層、第2の保護層112を形成し、第1図
に示した液体噴射記録ヘッドにおいて第1の保護N11
1の上層として形成されている層を第3の保護層として
最表層に形成しても良い。第1の保護層111の下層は
、例えばSiO□等の無機酸化物や5isN4等の無機
窒化物等の無機絶縁材料で構成され、第1の保護N11
1の上層は粘りがあって、比較的機械的強度に優れ、か
つ第1の保護層の下層に対して密着性と接着性のある、
例えば第1の保護層の下層がSiO□で形成されている
場合にはTa等の金属材料で構成される。このように第
1の保護層の上層に金属等の比較的粘りがあって機械的
強度のある無機材料で構成される層を配設することによ
って、特に熱作用面108において、液体吐出の際に生
ずるキャビテーション作用からのショックを充分吸収す
ることができ、電気熱変換体101の寿命を格段に延ば
す効果がある。第1の保護層111の上層は、前述のよ
うに第3の保護層として形成されても同様の効果を有す
る。
Almost the majority of the surface of the selection electrode 114 is protected by the second protection J'
1l12 and the first protective layer 111 are laminated in this order from the electrode side, and the upper layer is covered with the bottom surface of the common liquid chamber provided upstream of the liquid flow path +15. provided. The upper layers do not have to be formed in this order, but may be formed in the order of the first protective layer 111 and the second protective layer 112 from the selection electrode side. Alternatively, a second protective layer 112 may be formed as a lower layer of the first protective layer 111 so that the first protective layer N11 in the liquid jet recording head shown in FIG.
The layer formed as the upper layer of 1 may be formed as the third protective layer as the outermost layer. The lower layer of the first protective layer 111 is made of an inorganic insulating material such as an inorganic oxide such as SiO□ or an inorganic nitride such as 5isN4, and the lower layer of the first protective layer 111 is
The upper layer of 1 is sticky, has relatively excellent mechanical strength, and has adhesiveness and adhesion to the lower layer of the first protective layer.
For example, when the lower layer of the first protective layer is made of SiO□, it is made of a metal material such as Ta. In this way, by disposing a layer made of an inorganic material such as a metal that is relatively sticky and has mechanical strength on the upper layer of the first protective layer, it is possible to prevent the liquid from being ejected, especially on the heat acting surface 108. The shock from the cavitation action that occurs can be sufficiently absorbed, and the life of the electrothermal converter 101 can be significantly extended. Even if the upper layer of the first protective layer 111 is formed as the third protective layer as described above, the same effect can be obtained.

第1図に示される液体噴射記録ヘッド 100の場合に
は、共通電極は第1の保護層111によってのみ覆われ
る。
In the case of the liquid jet recording head 100 shown in FIG. 1, the common electrode is covered only by the first protective layer 111.

第1の保護層111の下層を構成する材料としては、比
較的熱伝導性および耐熱性に優れた無機絶縁材料が適し
ている。例えば、SiO□等の無機酸化物や、酸化チタ
ン、酸化バナジウム、酸化ニオブ、酸化モリブデン、酸
化タンタル、酸化タングステン、酸化クロム、酸化ジル
コニウム、酸化八ツニウム、酸化ランタン、酸化イツト
リウム、酸化マンガン等の遷移金属酸化物、更に酸化ア
ルミニウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸
化バリウム、酸化シリコン等の金属酸化物およびそれら
の接合体、窒化シリコン、窒化アルミニウム、窒化ボロ
ン、窒化タンタル等の高抵抗窒化物およびこれらの酸化
物、窒化物の複合体、更にアモルファスシリコン、アモ
ルファスセレン等の半導体などバルクでは低抵抗であっ
てもスパッタリング法、CVD法、蒸着法、気相反応法
、液体コーティング法等の製造過程で高抵抗化し得る薄
膜材料を挙げることができる。
As the material constituting the lower layer of the first protective layer 111, an inorganic insulating material with relatively excellent thermal conductivity and heat resistance is suitable. For example, transitions of inorganic oxides such as SiO Metal oxides, metal oxides such as aluminum oxide, calcium oxide, strontium oxide, barium oxide, silicon oxide, and their composites, high-resistance nitrides such as silicon nitride, aluminum nitride, boron nitride, tantalum nitride, etc. Composites of oxides and nitrides, as well as semiconductors such as amorphous silicon and amorphous selenium, may have low resistance in bulk, but can become highly resistive during manufacturing processes such as sputtering, CVD, vapor deposition, gas phase reaction, and liquid coating. Mention may be made of thin film materials that can be made resistive.

第1の保護層の上層および第3の保護層を形成すること
のできる材料としては、上記のTaの他にSe、 Y等
の周期律表II a族の元素、Ti、 Zr、 Hf等
の第■a族の元素、V、 Nb等の第Va族の元素、C
r、Mo。
In addition to the above-mentioned Ta, materials that can form the upper layer of the first protective layer and the third protective layer include elements of group II a of the periodic table such as Se and Y, Ti, Zr, and Hf. Group ■A elements, V, Group Va elements such as Nb, C
r, Mo.

W等の第Vla族の元素、Fe、Co、Ni等の第■族
の元素Ti−Ni、 Ta−W、 Ta−Mo−Ni、
 Ni−Cr、 Fe−Co、 Ti−W。
Group Vla elements such as W, Group II elements such as Fe, Co, Ni, Ti-Ni, Ta-W, Ta-Mo-Ni,
Ni-Cr, Fe-Co, Ti-W.

Fe−Ti、 Fe−Ni、 Fe−Cr、 Fe−N
i−Crなどの上記金属の合金;  Ti−B、 Ta
−B、 Hf−B、 W−Bなどの上記金属の硼化物;
  Ti−C,Zr−C,V−C,Ta−C,Mo−C
,5i−Cなどの上記金属の炭化物; Mo−5i、 
W−Si、 Ta−3iなどの上記金属のケイ化物; 
Ti−N、 Nb−N、 Ta−Nなどの上記金属の窒
化物が挙げられる。第1の保護層の上層および第3の保
護層は、これらの材料を用いて蒸着法、スパッタリング
法、CVD法等の、手法により形成することができる。
Fe-Ti, Fe-Ni, Fe-Cr, Fe-N
Alloys of the above metals such as i-Cr; Ti-B, Ta
-B, Hf-B, borides of the above metals such as W-B;
Ti-C, Zr-C, V-C, Ta-C, Mo-C
, 5i-C; carbides of the above metals such as Mo-5i,
Silicides of the above metals such as W-Si and Ta-3i;
Examples include nitrides of the above metals such as Ti-N, Nb-N, and Ta-N. The upper layer of the first protective layer and the third protective layer can be formed using these materials by a method such as a vapor deposition method, a sputtering method, or a CVD method.

第1の保護層の上層および第3の保護層は、上記の層単
独であってもよいが、もちろんこれらの幾つかを組合せ
ることもできる。また、第3の保護層も上記のものの単
独ではなく、第1図に示した第1の保護層のように、第
1の保護層の下層の材質と組合せて使用することも可能
である。
The upper layer of the first protective layer and the third protective layer may be the above-mentioned layers alone, but of course some of them can also be combined. Further, the third protective layer is not limited to the above materials alone, but can also be used in combination with the material of the layer below the first protective layer, like the first protective layer shown in FIG.

第2の保護層112は、液浸透防止と耐液作用に優れた
有機絶縁材料で構成され、更には、■成膜性が良いこと
、■緻密な構造でかつピンホールが少いこと、■使用イ
ンクに対し膨潤、溶解しないこと、■成膜したとき絶縁
性が良いこと、■耐熱性が高いこと等の物性を具備して
いることが望ましい。そのような有機材料としては以下
の樹脂、例えば、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、芳香族
ボリブミド、付加重合型ボリイミ阻ポリベンズイミダゾ
ール、金属キレート重合体、チタン酸エステル、エポキ
シ樹脂、フタル酸樹脂、熱硬化性フェノール樹脂、p−
ビニルフェノール樹脂、ザイロツタ樹脂、トリアジン樹
脂、BT樹脂(トリアジン樹脂とビスマレイミド付加重
合樹脂)等が挙げられる。またこの他に、ポリキシリレ
ン樹脂およびその誘導体を蒸着して第2の保護層112
を形成することもできる。
The second protective layer 112 is made of an organic insulating material that has excellent liquid penetration prevention and liquid resistance properties, and has the following characteristics: (1) good film formability, (2) a dense structure with few pinholes, It is desirable that the material has physical properties such as not swelling or dissolving in the ink used, (1) good insulation properties when formed into a film, and (2) high heat resistance. Examples of such organic materials include the following resins, such as silicone resins, fluororesins, aromatic polybumides, addition-polymerized polybenzimidazoles, metal chelate polymers, titanate esters, epoxy resins, phthalate resins, and thermosetting resins. phenolic resin, p-
Examples include vinyl phenol resin, Zyrotsuta resin, triazine resin, BT resin (triazine resin and bismaleimide addition polymer resin), and the like. In addition, polyxylylene resin and derivatives thereof are deposited to form the second protective layer 112.
can also be formed.

更に、種々の有機化合物モノマー、例えばチオウレア、
チオアセトアミド、ビニルフェロセン、1、3.5− 
トリクロロベンゼン、クロロベンゼン、スチレン、フェ
ロセン、ビロリン、ナフタレン、ペンタメチルベンゼン
、ニトロトルエン、アクリロニトリル、ジフェニルセレ
ナイド、p−トルイジン、p−キシレン、N、N−ジメ
チル−p−トルイジン、トルエン、アニリン、ジフェニ
ルマーキュリ−ヘキサメチルベンゼン、マロノニトリル
、テトラシアンエチレン、チオフェン、ベンゼンセレノ
ール、テトラフルオロエチレン、エチレン、N−ニトロ
ソジフェニルアミン、アセチレン、1.2.4− トリ
クロロベンゼン、プロパン等を使用してプラズマ重合法
によって成膜させて、第2の保護層112を形成するこ
ともできる。
Furthermore, various organic compound monomers such as thiourea,
Thioacetamide, vinylferrocene, 1,3.5-
Trichlorobenzene, chlorobenzene, styrene, ferrocene, viroline, naphthalene, pentamethylbenzene, nitrotoluene, acrylonitrile, diphenylselenide, p-toluidine, p-xylene, N,N-dimethyl-p-toluidine, toluene, aniline, diphenylmercury- Film formation by plasma polymerization using hexamethylbenzene, malononitrile, tetracyanethylene, thiophene, benzeneselenol, tetrafluoroethylene, ethylene, N-nitrosodiphenylamine, acetylene, 1.2.4-trichlorobenzene, propane, etc. The second protective layer 112 can also be formed in this manner.

しかしながら、本実施例のような記録ヘッドを作製する
のであれば、上記した有機材料とは別に微細フォトリソ
グラフィー加工が極めて容易とされる有機材料を第2の
保護層112を形成する材料として使用するのが望まし
い。そのような有機材料としては具体的には、例えば、
ポリイミドイソインドロキナゾリンジオン(商品名:P
IQ、日立化成製)、ポリイミド樹脂(商品名: PY
RALIN、デュポン製)、環化ポリブタジェン(商品
名:JSR−CBR,CBR−M2O3、日本合成ゴム
製)、フォトニース(商品名:東し製)、その他の感光
性ポリイミド樹脂等が好ましいものとして挙げられる。
However, if a recording head like this embodiment is to be manufactured, an organic material that is extremely easy to process using fine photolithography is used as the material for forming the second protective layer 112, in addition to the above-mentioned organic materials. is desirable. Specifically, such organic materials include, for example,
Polyimide isoindoquinazolinedione (Product name: P
IQ, manufactured by Hitachi Chemical), polyimide resin (product name: PY
Preferred examples include RALIN (manufactured by DuPont), cyclized polybutadiene (product name: JSR-CBR, CBR-M2O3, manufactured by Japan Synthetic Rubber), Photonease (product name: Toshi), and other photosensitive polyimide resins. It will be done.

下部層109は、主に熱発生部107より発生する熱の
基板116側への流れを制御する層として設けられるも
ので、熱作用部106において液体に熱エネルギーを作
用される場合には、熱発生部107より発生する熱が熱
作用部106側により多く流れるようにし、電気熱変換
体101への通電がOFFされた際には、熱発生部に残
存している熱が、基板側に速やかに流れるように構成材
料の選択と、その層厚の設計が成される。下部層を構成
する材料としては、先に挙げた5t(hの他に酸化ジル
コニウム、酸化タンタル、酸化マグネシウム等の金属酸
化物に代表される無機材料が挙げられる。
The lower layer 109 is provided as a layer that mainly controls the flow of heat generated from the heat generating section 107 toward the substrate 116, and when thermal energy is applied to the liquid in the heat applying section 106, the heat is applied to the liquid. The heat generated from the heat generating section 107 is made to flow more toward the heat acting section 106, and when the electricity to the electrothermal converter 101 is turned off, the heat remaining in the heat generating section is quickly transferred to the substrate side. The selection of constituent materials and the design of their layer thickness are done in a way that flows with the flow. In addition to the above-mentioned 5t(h), examples of the material constituting the lower layer include inorganic materials typified by metal oxides such as zirconium oxide, tantalum oxide, and magnesium oxide.

発熱抵抗層110を構成する材料は、通電されることに
よって、所望通りの熱が発生するものであれば大概のも
のが採用される。
As the material constituting the heat generating resistor layer 110, almost any material can be used as long as it generates desired heat when energized.

そのような材料としては、具体的には例えば窒化タンタ
ル、ニクロム、銀−パラジウム合金、シリコン半導体、
あるいは、ハフニウム、ランタン、ジルコニウム、チタ
ン、タンタル、タングステン、モリブデン、ニオブ、ク
ロム、バナジウム等の金属およびその合金、ならびにそ
れらの硼化物等が好ましいものとして挙げられる。
Specific examples of such materials include tantalum nitride, nichrome, silver-palladium alloy, silicon semiconductor,
Alternatively, metals such as hafnium, lanthanum, zirconium, titanium, tantalum, tungsten, molybdenum, niobium, chromium, vanadium, alloys thereof, and borides thereof are preferred.

これらの発熱抵抗層110を構成する材料の中、特に金
属硼化物が優れたものとして挙げることができ、その中
でも最も特性の優れているのが硼化ハフニウムであり、
次いで硼化ジルコニウム、硼化ランタン、硼化バナジウ
ム、硼化ニオブの順となっている。
Among these materials constituting the heating resistance layer 110, metal borides are particularly excellent, and among them, hafnium boride has the most excellent properties.
This is followed by zirconium boride, lanthanum boride, vanadium boride, and niobium boride.

発熱抵抗層110は、上記した材料を使用して、電子ビ
ーム蒸着や、スパッタリング等の手法を用いて形成する
ことができる。
The heat generating resistor layer 110 can be formed using the above-mentioned materials using techniques such as electron beam evaporation and sputtering.

電極113および114を構成する材料としては、通常
使用されている電極材料の多くのものが有効に使用され
、具体的には例えば、Ajl、 Ag、 Au。
As the material constituting the electrodes 113 and 114, many commonly used electrode materials can be effectively used, and specific examples include Ajl, Ag, and Au.

Pt、 Cu等の金属が挙げられ、これらを使用して、
蒸着等の手法で所定位置に、所定の大きさ、形状、厚さ
で設けられる。
Examples include metals such as Pt and Cu, and using these,
It is provided in a predetermined position and with a predetermined size, shape, and thickness by a method such as vapor deposition.

溝付板103ならびに熱作用部106の上流側に設けら
れる共通液室の構成部材を構成する材料としては、記録
ヘッドの工作時の、あるいは使用時の環境下において形
状に熱的影響を受けないか、あるいは殆ど受けないもの
であって、微細精密加工が容易に適用され得ると共に、
面精度を所望通りに容易に出すことができ、更には、そ
れらによって形成される流路中を液体がスムーズに流れ
得るように加工し得るものであれば、大概のものが有効
である。
The grooved plate 103 and the materials constituting the common liquid chamber provided on the upstream side of the heat acting section 106 should be such that their shapes are not affected by heat during the working or use environment of the recording head. or is hardly susceptible to micro-precision machining, and
Most of the materials are effective as long as they can easily achieve the desired surface precision and can be processed so that the liquid can flow smoothly through the flow path formed by them.

そのような材料として代表的なものを挙げれば、セラミ
ックス、ガラス、金属、プラスチックあるいはシリコン
ウェハー等が好適なものとして例示される。
Typical examples of such materials include ceramics, glass, metals, plastics, and silicon wafers.

次にBJ基体102と溝付板103との積層物のオリフ
ィス面に印字精度を向上させるために、真円度の高い丸
穴が穿孔されたオリフィスプレート117は第1図(b
)に示すように、オリフィス】04を設けた樹脂もしく
は金属の薄膜118にオリフィス面となる側に撥インク
性の被覆層119が、またヘッドとの接合面となる側に
接着剤J@  120が積層された構造になっている。
Next, in order to improve printing accuracy on the orifice surface of the laminate of the BJ base 102 and the grooved plate 103, an orifice plate 117 with a round hole of high roundness is drilled as shown in FIG.
), an ink-repellent coating layer 119 is applied to the resin or metal thin film 118 provided with the orifice 04 on the side that will become the orifice surface, and an adhesive J@ 120 is applied to the side that will become the bonding surface with the head. It has a layered structure.

オリフィスプレートを形成する樹脂としては、適度の耐
熱性のある樹脂、例えば、ポリイミド、ポリエーテルサ
ルフォン、ポリサルフォン、ポリエステル、アクリル樹
脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、エポ
キシ樹脂、シリコン樹脂などが挙げられる。また、これ
らの樹脂にフィラーを混入してプレートの強度を高めた
ものであってもよい。
Examples of the resin forming the orifice plate include resins with appropriate heat resistance, such as polyimide, polyethersulfone, polysulfone, polyester, acrylic resin, phenolic resin, urea resin, melamine resin, epoxy resin, and silicone resin. It will be done. Further, fillers may be mixed into these resins to increase the strength of the plate.

一方、金属材料としては、SUS材、ニッケル、金、銀
、白金等が挙げられる。
On the other hand, examples of the metal material include SUS material, nickel, gold, silver, and platinum.

[実施例J 第1図に示した液体噴射記録ヘッド用基体を以下のよう
にして製造した、 Stウェハの熱酸化により5μm厚のSi0g膜を形成
し基板とした。基板にスパッタリングにより発熱抵抗層
としてHfB2を150〇への厚みに形成し、続いて電
子ビーム蒸着によりTi層50A、  A/!層500
0.lf。
[Example J The substrate for a liquid jet recording head shown in FIG. 1 was manufactured as follows. An Si0g film with a thickness of 5 μm was formed by thermal oxidation of an St wafer and used as a substrate. HfB2 was formed on the substrate as a heating resistance layer to a thickness of 1500 by sputtering, and then a Ti layer of 50A, A/! was formed by electron beam evaporation. layer 500
0. lf.

を連続的に堆積した。was deposited continuously.

次にフォトリソ工程により電極113.114を形成し
た。熱作用面のサイズは30−幅、150μm長でA4
電極の抵抗を含めて150オームであった。
Next, electrodes 113 and 114 were formed by a photolithography process. The size of the heat-active surface is A4 with a width of 30 mm and a length of 150 μm.
The resistance was 150 ohms including the resistance of the electrodes.

続いて第1の保護層の下層として5iOzスパッタリン
グ層をハイレートスパッタにより2.2μm堆積させ、
更に第1の保RTJHの上層としてTaのスパッタリン
グによりTa層を0.5Iim厚に積層した。
Subsequently, a 5iOz sputtering layer was deposited to a thickness of 2.2 μm as a lower layer of the first protective layer by high-rate sputtering.
Further, as an upper layer of the first bonding RTJH, a Ta layer was deposited to a thickness of 0.5 Im by sputtering Ta.

次に第2の保護層として2.0μm厚のフォトニース層
を第1図(C)の斜線部分上に以下の工程にしたがって
作製した。
Next, as a second protective layer, a 2.0 μm thick Photoneese layer was formed on the shaded area in FIG. 1(C) according to the following steps.

即ち、上記工程で所定のパターンに形成された基板を、
洗浄、乾燥後、フォトニース溶液をスピンナーでコーテ
ィングした。
That is, the substrate formed into a predetermined pattern in the above process,
After washing and drying, the Photonice solution was coated with a spinner.

次に80℃中に10分間放置し、ベーキングを行なった
。しかる後、マスクアライナ−を用いて露光し、現像処
理を行ない所望のフォトニース層パターンを得た。イソ
プロピルアルコールで洗浄・乾燥の後、 150℃中で
60分間ベーキングを行ない、フォトニース層パターン
の形成工程を終了した。
Next, it was left at 80° C. for 10 minutes to perform baking. Thereafter, exposure was performed using a mask aligner and development treatment was performed to obtain a desired photonice layer pattern. After washing and drying with isopropyl alcohol, baking was performed at 150° C. for 60 minutes to complete the process of forming the photonice layer pattern.

次いでダイシングソーで接断分割し目的とする液体噴射
記録ヘッド用基体を作製した。
Next, the substrate was cut and cut using a dicing saw to produce the desired substrate for a liquid jet recording head.

次にこのようにして作製した基体を用いて液体噴射記録
ヘッドを作製した。まずヘッド用基体と配線基板とを接
続させるため、金属製の支持板にヘッド用基体を接着す
る。配線基板とヘッド用基体とは、ワイヤボンディング
法で接続した。次にこのヘッド用基体上に基体と同密度
の400DPI (DotPer Inch)の溝を有
する溝付プラスチック板を位置合せの後接着固定した。
Next, a liquid jet recording head was manufactured using the substrate thus manufactured. First, in order to connect the head base and the wiring board, the head base is bonded to a metal support plate. The wiring board and head base were connected by wire bonding. Next, a grooved plastic plate having grooves of 400 DPI (Dot Per Inch) having the same density as the substrate was bonded and fixed onto the head substrate after alignment.

更に、20μmの樹脂フィルムの位置面に、撥インク性
被覆層を、また他の面に接着剤層を形成した多層フィル
ムを連続穿孔によりオリフィスが形成されたオリフィス
プレートを溝と位置合せの後接着固定した。
Furthermore, a multilayer film with an ink-repellent coating layer formed on one side of the 20 μm resin film and an adhesive layer formed on the other side was bonded after aligning an orifice plate with orifices formed by continuous perforation to the grooves. Fixed.

このようにして作製した記録ヘッドを印字評価した結果
を第1表に示した。サンプルは本実施例、従来例ともに
各1000ヘツドずつ作製した。
Table 1 shows the results of printing evaluation of the recording head produced in this manner. 1000 heads of each sample were prepared for both the present example and the conventional example.

第  1  表 [発明の効果] 第1表の結果から明らかなように、本発明のヘッドは従
来のものに比べ、印字不良が殆ど発生せず、印字品位が
高く、信頼性に優れたものである。また、製造歩留りも
高く、大量かつ安価なヘッドを供給できるものである。
Table 1 [Effects of the Invention] As is clear from the results in Table 1, the head of the present invention has almost no printing defects, high printing quality, and excellent reliability compared to the conventional head. be. Furthermore, the manufacturing yield is high, and a large quantity of inexpensive heads can be supplied.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、本発明の液体噴射記録ヘッドの構成を示すも
ので、 (a)は記録ヘッドの斜視図、 (b)はX−
Yでの切断面図、 (C)はヘッド用基体に分割する前
の模式的平面図、第2図は従来の液体噴射記録ヘッドの
構成を示すもので(a)、  (b)、  (c)はそ
れぞれ第1図の(a)、  (b)、  (c)に対応
し、第3図は従来のヘッド用基体の切断分割によるパリ
の発生状態を示すもので、(a)はダイヤモンドブレー
ドによる切断分割の模式的断面図、(b)は切断分割後
の模式的断面図、(C)は切断分割したヘッド用基体を
用いた液体記録ヘッドの模式的断面図を示す。 100、200・・・液体噴射記録ヘッド101、20
1・・・電気熱変換体 102、202・・・ヘッド用基体 103、203・・・溝付板 104、204・・・オリフィス 105、205・・・溝 106、206・・・熱作用部 07、20?・・・熱発生部 08、208・・・熱作用面 09、209・・・下部層 0.20・・・発熱抵抗層 1、21・・・第1の保護層(上部層)2、212・・
・第2の保護層(上部層)3.23・・・共通電極 4.24・・・選択電極 5.25・・・液流路 6・・・  基板 7、217・・・オリフィスプレート 8、218・・・オリフィスプレート用基材9、219
・・・撥インク性被覆層 20.220・・・接着剤層 21・・・支持板 22・・・配線基板 (b) (C) (C) 第 ■ (a) 第 図 (a) (b) (C) 第 図
FIG. 1 shows the structure of the liquid jet recording head of the present invention, (a) is a perspective view of the recording head, (b) is an X-
(C) is a schematic plan view before being divided into head substrates; FIG. 2 shows the configuration of a conventional liquid jet recording head; (a), (b), (c) ) correspond to (a), (b), and (c) in Fig. 1, respectively, and Fig. 3 shows the state of occurrence of burrs due to cutting and division of the conventional head base, and (a) shows the state in which pars occur due to the cutting and division of the conventional head base. (b) is a schematic cross-sectional view after cutting and dividing, and (C) is a schematic cross-sectional view of a liquid recording head using a head substrate which has been cut and divided. 100, 200...liquid jet recording heads 101, 20
1... Electrothermal converter 102, 202... Head base 103, 203... Grooved plate 104, 204... Orifice 105, 205... Groove 106, 206... Heat acting part 07 , 20? ...Heat generating portions 08, 208...Heat action surfaces 09, 209...Lower layer 0.20...Heating resistance layers 1, 21...First protective layer (upper layer) 2, 212・・・
- Second protective layer (upper layer) 3.23... Common electrode 4.24... Selection electrode 5.25... Liquid flow path 6... Substrate 7, 217... Orifice plate 8, 218... Orifice plate base material 9, 219
... Ink-repellent coating layer 20.220 ... Adhesive layer 21 ... Support plate 22 ... Wiring board (b) (C) (C) No. ■ (a) Fig. (a) (b ) (C) Figure

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、基板と、該基板上に設けられた発熱抵抗層と該発熱
抵抗層に電気的に接続した電極とを有し、熱エネルギー
を発生する電気熱変換体と、前記電極上に設けられてい
る有機材料の保護層とを具備する液体噴射記録ヘッド用
基体において、前記有機材料の保護層が基体の稜線部よ
り内側に形成されていることを特徴とする液体噴射記録
ヘッド用基体。 2、液体を吐出する吐出口に連通する液路と、請求項1
記載の液体噴射記録ヘッド用基体とを具備することを特
徴とする液体噴射記録ヘッド。
[Claims] 1. An electrothermal converter that generates thermal energy and includes a substrate, a heating resistance layer provided on the substrate, and an electrode electrically connected to the heating resistance layer; A substrate for a liquid jet recording head comprising a protective layer made of an organic material provided on an electrode, wherein the protective layer made of the organic material is formed inside a ridgeline portion of the substrate. Base for head. 2. A liquid path communicating with a discharge port for discharging liquid; Claim 1
A liquid jet recording head comprising the liquid jet recording head substrate described above.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013188892A (en) * 2012-03-12 2013-09-26 Toshiba Tec Corp Inkjet head

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