JPH05259749A - Transistor circuit - Google Patents

Transistor circuit

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JPH05259749A
JPH05259749A JP4054868A JP5486892A JPH05259749A JP H05259749 A JPH05259749 A JP H05259749A JP 4054868 A JP4054868 A JP 4054868A JP 5486892 A JP5486892 A JP 5486892A JP H05259749 A JPH05259749 A JP H05259749A
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JP
Japan
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transistor
emitter
circuit
base
temperature
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JP4054868A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshimichi Nakagawa
善路 中川
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To appropriately compensate a temperature of an operating current of a silicon power TR by forming a temperature detection Tr on a same silicon chip as the silicon power TR and detecting a base-emitter voltage. CONSTITUTION:When a collector current of a silicon power TR 2 is increased, the temperature of a power TR chip 1 rises. A base-emitter voltage of a temperature detection TR 3 is decreased due to the rise in the chip temperature and a base-emitter voltage of a PNP type TR 4 is also decreased. A collector current of the TR 4 is decreased through the decrease in the base-emitter voltage of the TR 4 and a bias voltage of the TR 2 is decreased. A collector current of the TR 2 is going to be increased due to a temperature rise, but since a bias voltage is decreased, the collector current is kept constant. The temperature is compensated in a very small time and accurately since the TRs 2, 3 are formed on a same silicon chip.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、二重拡散プロセスで形
成されたベース領域とエミッタ領域から成るシリコンパ
ワートランジスタチップ温度を短時間に検出しその動作
電流を一定に保つトランジスタ回路に関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a transistor circuit for detecting the temperature of a silicon power transistor chip composed of a base region and an emitter region formed by a double diffusion process in a short time and keeping its operating current constant. ..

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、トランジスタ回路のバイアス回路
は種々の改善が成されている。以下図面を参照しなが
ら、上述した従来のバイアス回路で構成されたトランジ
スタ回路の一例について説明する。
2. Description of the Related Art In recent years, various improvements have been made to bias circuits of transistor circuits. An example of a transistor circuit configured by the above-described conventional bias circuit will be described below with reference to the drawings.

【0003】図4は従来のバイアス回路を備えたSEP
P回路の回路図を示すものである。図4において、61
は二重拡散プロセスで形成されたベース領域とエミッタ
領域から成るNPN型シリコンパワートランジスタ、6
2は二重拡散プロセスで形成されたベース領域とエミッ
タ領域から成るPNP型シリコンパワートランジスタ、
63は温度検出トランジスタ、64、65は定電流回
路、66は入力端子、67は出力端子、68はマルチプ
ライヤー回路、69は抵抗器でその抵抗値をR1とし、
70は抵抗器でその抵抗値をR2とする。NPN型シリ
コンパワートランジスタ61、PNP型シリコンパワー
トランジスタ62はそれぞれ別体で、温度検出トランジ
スタ63、定電流回路64、65、マルチプライヤー回
路68、抵抗器69、70は上記NPN型シリコンパワ
ートランジスタ61、PNP型シリコンパワートランジ
スタ62とは別体に実装されている。また、温度検出ト
ランジスタ63はパワートランジスタ61、62に熱結
合されている。
FIG. 4 shows an SEP having a conventional bias circuit.
It is a circuit diagram of a P circuit. In FIG. 4, 61
Is an NPN type silicon power transistor consisting of a base region and an emitter region formed by a double diffusion process, 6
2 is a PNP type silicon power transistor composed of a base region and an emitter region formed by a double diffusion process,
63 is a temperature detection transistor, 64 and 65 are constant current circuits, 66 is an input terminal, 67 is an output terminal, 68 is a multiplier circuit, and 69 is a resistor whose resistance value is R1.
Reference numeral 70 denotes a resistor whose resistance value is R2. The NPN type silicon power transistor 61 and the PNP type silicon power transistor 62 are separate bodies, and the temperature detection transistor 63, the constant current circuits 64 and 65, the multiplier circuit 68, and the resistors 69 and 70 are the NPN type silicon power transistor 61, It is mounted separately from the PNP silicon power transistor 62. Further, the temperature detection transistor 63 is thermally coupled to the power transistors 61 and 62.

【0004】以上のように構成されたSEPP回路につ
いて以下その構成について説明する。温度検出トランジ
スタ63のマルチプライヤー回路68によりこのトラン
ジスタのコレクタ・エミッタ間電圧Vce3は、このト
ランジスタのベース・エミッタ間電圧をVbe3とする
と、ほぼ Vbe3・(R1+R2)/R2 の電圧に
固定される、一方Vce3はパワートランジスタ61、
62のバイアス電圧であるのでこのVce3に応じたコ
レクタ電流がパワートランジスタ61、62のコレクタ
に流れる。ある温度で上記SEPP回路が平衡状態にあ
りパワートランジスタ61、62のコレクタ電流がある
値になっていたとする。ここで入力信号が入力される
等、何らかの原因で上記パワートランジスタ61、62
のコレクタ電流が増加したとすると、コレクタ電流の増
加がコレクタ損失の増加につながり、その結果上記パワ
ートランジスタ61、62のチップ温度が上昇する。
The structure of the SEPP circuit configured as described above will be described below. By the multiplier circuit 68 of the temperature detection transistor 63, the collector-emitter voltage Vce3 of this transistor is fixed to a voltage of approximately Vbe3. (R1 + R2) / R2, where Vbe3 is the base-emitter voltage of this transistor. Vce3 is a power transistor 61,
Since it is the bias voltage of 62, the collector current corresponding to this Vce3 flows into the collectors of the power transistors 61 and 62. It is assumed that the SEPP circuit is in an equilibrium state at a certain temperature and the collector currents of the power transistors 61 and 62 have a certain value. Here, the power transistors 61 and 62 are input for some reason such as an input signal being input.
If the collector current of 1 increases, the increase of collector current leads to an increase of collector loss, and as a result, the chip temperature of the power transistors 61 and 62 rises.

【0005】一般的に知られているようにシリコントラ
ンジスタのベース・エミッタ間電圧Vbeは温度に対し
て約−2mVの温度特性を持っているため、チップ温度
の上昇に伴い同一コレクタ電流を流すためのVbeは下
がる。ここで、もしVbe3が一定であるとすると上記
パワートランジスタ61、62のVbeが下がった分だ
けコレクタ電流が更に増加し、更にこの増加分によりパ
ワートランジスタ61、62のチップ温度が上昇する、
この循環によりパワートランジスタ61、62のコレク
タ電流はどんどん増加し最終的にはパワートランジスタ
61、62の破壊につながる。ところが、温度検出トラ
ンジスタ63はパワートランジスタ61、62に熱結合
されている為、上記パワートランジスタ61、62のチ
ップ温度の上昇分が温度検出トランジスタ63に伝達し
温度検出トランジスタ63のVbe3も下がるため上記
パワートランジスタ61、62のコレクタ電流は一定に
保たれる。
As is generally known, the base-emitter voltage Vbe of a silicon transistor has a temperature characteristic of about -2 mV with respect to temperature, so that the same collector current flows as the chip temperature rises. Vbe goes down. Here, if Vbe3 is constant, the collector current further increases by the amount that Vbe of the power transistors 61 and 62 decreases, and the chip temperature of the power transistors 61 and 62 increases due to this increase.
Due to this circulation, the collector currents of the power transistors 61 and 62 increase more and more, and eventually the power transistors 61 and 62 are destroyed. However, since the temperature detection transistor 63 is thermally coupled to the power transistors 61 and 62, the increase in the chip temperature of the power transistors 61 and 62 is transmitted to the temperature detection transistor 63 and Vbe3 of the temperature detection transistor 63 also decreases. The collector currents of the power transistors 61 and 62 are kept constant.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記のよ
うな従来のバイアス回路を備えたSEPP回路は、パワ
ートランジスタで発生した熱が温度検出トランジスタ6
3に伝達するまでに遅延時間が生じる為、その間は、一
時的に上記パワートランジスタ61、62のコレクタ電
流が増加するという問題点を有しいると共に、パワート
ランジスタチップから温度検出トランジスタ63まで
に、ある熱抵抗分を有するので上記パワートランジスタ
61、62のチップ温度の上昇分の全ては温度検出トラ
ンジスタ63まで伝達しない為完全な温度補償は出来な
いという問題点も有している。
However, in the SEPP circuit provided with the conventional bias circuit as described above, the heat generated in the power transistor causes the temperature detection transistor 6 to operate.
Since there is a delay time before it is transmitted to No. 3, the collector current of the power transistors 61 and 62 temporarily increases during that time, and from the power transistor chip to the temperature detection transistor 63, Since there is a certain amount of thermal resistance, all of the increase in the chip temperature of the power transistors 61 and 62 is not transmitted to the temperature detection transistor 63, so that there is a problem that complete temperature compensation cannot be performed.

【0007】また図5はベース領域とエミッタ領域を二
重拡散プロセスで形成したシリコントランジスタの断面
図である。図5において71はエミッタ領域、72はベ
ース領域、73はコレクタ高比抵抗領域、74はコレク
タ高不純物濃度領域、75はコレクタ裏面部である。図
5で示す様に、二重拡散プロセスで形成されたベース領
域とエミッタ領域から成るシリコンパワートランジタで
は、個別素子を電気的に完全分離するための拡散工程が
ないため、特にコレクタ電極は共通電極として配置する
ため、複数の能動素子あるいは受動素子を組み合わせた
機能回路を形成することは不可能で上記別体の温度検出
トランジスタ63をパワートランジスタチップ上に形成
できない。
FIG. 5 is a sectional view of a silicon transistor having a base region and an emitter region formed by a double diffusion process. In FIG. 5, 71 is an emitter region, 72 is a base region, 73 is a collector high specific resistance region, 74 is a collector high impurity concentration region, and 75 is a collector back surface portion. As shown in FIG. 5, in a silicon power transistor including a base region and an emitter region formed by a double diffusion process, since there is no diffusion step for electrically completely separating individual devices, the collector electrode is common. Since the electrodes are arranged as electrodes, it is impossible to form a functional circuit in which a plurality of active elements or passive elements are combined, and the separate temperature detection transistor 63 cannot be formed on the power transistor chip.

【0008】本発明は、上記従来の問題点に鑑み、より
極めて短時間に、より完全に温度補償ができるバイアス
回路を備えたトランジスタ回路を提供することを目的と
してなされたものである。
In view of the above conventional problems, the present invention has been made for the purpose of providing a transistor circuit having a bias circuit capable of more completely temperature compensation in an extremely short time.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明のトランジスタ回路は、二重拡散プロセスで形
成されたベース領域とエミッタ領域から成るシリコンパ
ワートランジスタと、上記シリコンパワートランジスタ
と同体のシリコン上に上記シリコンパワートランジスタ
とは電気的に絶縁されたベース領域とエミッタ領域から
成るある一定の面積をもつトランジスタとを形成して構
成された素子と、上記シリコンとは別体で形成された実
装基板上に上記トランジスタのベース・エミッタ間電圧
を検出し上記パワートランジスタのバイアス電圧を制御
するバイアス回路とで構成し、上記シリコンパワートラ
ンジスタのチップ温度を短時間に検出しその動作電流を
一定に保つことを特徴とするものである。
In order to solve the above-mentioned problems, a transistor circuit according to the present invention comprises a silicon power transistor including a base region and an emitter region formed by a double diffusion process, and a silicon power transistor which is the same body as the silicon power transistor. An element formed by forming a transistor having a certain area composed of a base region and an emitter region, which is electrically insulated from the silicon power transistor, on silicon, and a device formed separately from the silicon. It is composed of a bias circuit that detects the base-emitter voltage of the transistor on the mounting substrate and controls the bias voltage of the power transistor, detects the chip temperature of the silicon power transistor in a short time, and keeps its operating current constant. It is characterized by keeping.

【0010】[0010]

【作用】本発明は上記した構成によって、パワートラン
ジスタチップの温度を同体のシリコン上に上記シリコン
パワートランジスタとは電気的に絶縁されたベース領域
とエミッタ領域から成るある一定の面積をもつ温度検出
用のトランジスタのベース・エミッタ間電圧を検出しパ
ワートランジスタのコレクタ電流を一定にさせるもので
ある。温度検出用のトランジスタがパワートランジスタ
チップと同体のシリコン上にあるため、より極めて短時
間に、より正確に温度補償ができるバイアス回路を備え
たトランジスタ回路が可能となる。
According to the present invention, the temperature of the power transistor chip having the above-mentioned structure is used for detecting the temperature of the power transistor chip having a certain area consisting of a base region and an emitter region electrically insulated from the silicon power transistor. The base-emitter voltage of the transistor is detected to make the collector current of the power transistor constant. Since the transistor for temperature detection is on the same silicon as the power transistor chip, a transistor circuit having a bias circuit that can perform temperature compensation more accurately in an extremely short time becomes possible.

【0011】[0011]

【実施例】以下本発明のバイアス回路を備えたトランジ
スタ回路の実施例について、図1〜図3を参照しながら
詳細に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENT An embodiment of a transistor circuit having a bias circuit according to the present invention will be described in detail below with reference to FIGS.

【0012】図1は本発明の第1の実施例における、バ
イアス回路を備えたエミッタ・フォロア回路の回路図を
示すものである。図1において、1はベース領域とエミ
ッタ領域が二重拡散プロセスで形成されたNPN型のシ
リコンチップ、2はパワートランジスタ部、3は温度検
出用トランジスタ部、4はPNP型トランジスタ、5は
ダイオード、6は定電流回路で定電流ダイオードを用い
ても良い、7はこのエミッタフォロア回路の入力端子、
8はこのエミッタフォロア回路の出力端子、9はパワー
トランジスタのエミッタ抵抗器、10、11、12、1
3、はそれぞれトランジスタまたはダイオードのばらつ
きを吸収するための抵抗器である。上記パワートランジ
スタ部2と温度検出用トランジスタ部3は同一のNPN
型のシリコンチップ1上に形成され、PNP型トランジ
スタ4、ダイオード5、定電流回路6、パワートランジ
スタのエミッタ抵抗器9、抵抗器10、11、12、1
3は別体で形成された実装基板に実装されている。なお
上記別体で形成された実装基板は混成集積回路実装基板
またはプリント基板でもよい。
FIG. 1 is a circuit diagram of an emitter follower circuit having a bias circuit according to the first embodiment of the present invention. In FIG. 1, 1 is an NPN type silicon chip having a base region and an emitter region formed by a double diffusion process, 2 is a power transistor part, 3 is a temperature detecting transistor part, 4 is a PNP type transistor, 5 is a diode, 6 is a constant current circuit which may use a constant current diode, 7 is an input terminal of this emitter follower circuit,
8 is an output terminal of this emitter follower circuit, 9 is an emitter resistor of a power transistor, 10, 11, 12, 1
Reference numerals 3 and 3 are resistors for absorbing variations in transistors or diodes, respectively. The power transistor section 2 and the temperature detecting transistor section 3 are the same NPN.
Formed on the silicon chip 1 of the P type, PNP type transistor 4, diode 5, constant current circuit 6, emitter resistor 9 of power transistor, resistors 10, 11, 12, 1
3 is mounted on a mounting board formed separately. The mounting board formed separately may be a hybrid integrated circuit mounting board or a printed board.

【0013】温度検出用トランジスタ3のベース端子は
そのコレクタ端子に接続しダイオードとして使用してい
る。この温度検出用トランジスタ3のベース・エミッタ
間に電圧を発生させるためにエミッタ端子に定電流回路
6を接続している。PNP型トランジスタ4のエミッ
タ、ベース端子をそれぞれ温度検出用トランジスタ3の
ベース、エミッタ端子に接続し温度検出用トランジスタ
3のベース・エミッタ間電圧をPNP型トランジスタ4
のコレクタ電流に変換している。PNP型トランジスタ
4のコレクタ電流をダイオード5のアノード、カソード
間電圧に変換するためダイオード5をPNP型トランジ
スタ4のコレクタに接続している。このダイオード5の
アノード、カソードをそれぞれパワートランジスタ2の
ベース、エミッタに接続しダイオード5のアノード、カ
ソード間電圧をパワートランジスタ2のバイアス電圧と
している。
The base terminal of the temperature detecting transistor 3 is connected to its collector terminal and used as a diode. A constant current circuit 6 is connected to the emitter terminal in order to generate a voltage between the base and emitter of the temperature detecting transistor 3. The emitter and the base terminal of the PNP type transistor 4 are connected to the base and the emitter terminal of the temperature detecting transistor 3, respectively, and the base-emitter voltage of the temperature detecting transistor 3 is changed to the PNP type transistor 4.
Is converted into the collector current of. The diode 5 is connected to the collector of the PNP type transistor 4 in order to convert the collector current of the PNP type transistor 4 into a voltage between the anode and the cathode of the diode 5. The anode and cathode of this diode 5 are connected to the base and emitter of the power transistor 2, respectively, and the voltage between the anode and cathode of the diode 5 is used as the bias voltage of the power transistor 2.

【0014】以上のように構成されたエミッタ・フォロ
ア回路について、以下その動作について説明する。
The operation of the emitter follower circuit configured as described above will be described below.

【0015】まずある温度で上記エミッタ・フォロア回
路が平衡状態にありパワートランジスタ2のコレクタ電
流がある値になっていたとする。ここで入力信号が入力
される等、何らかの原因で上記パワートランジスタ2の
コレクタ電流が増加したとすると、コレクタ電流の増加
がコレクタ損失の増加につながり、その結果上記パワー
トランジスタチップ1の温度が上昇する。チップ温度の
上昇により温度検出用トランジスタ3のベース・エミッ
タ間電圧は下がりPNP型トランジスタ4のベース・エ
ミッタ間電圧も下がる。PNP型トランジスタ4のベー
ス・エミッタ間電圧が下がることによりPNP型トラン
ジスタ4のコレクタ電流が減少し、ダイオード5のアノ
ード、カソード間電圧すなわちパワートランジスタ2の
バイアス電圧も下がる。パワートランジスタ2のコレク
タ電流は温度の上昇により増加しようとするがバイアス
電圧が減少するため一定に保たれる。この温度補償はパ
ワートランジスタ2及び温度検出用トランジスタ3が同
一のNPN型のシリコンチップ1上に形成されているの
で極めて短時間に、かつ正確におこなわれる。
First, it is assumed that the emitter-follower circuit is in a balanced state at a certain temperature and the collector current of the power transistor 2 has a certain value. If the collector current of the power transistor 2 increases for some reason such as an input signal is input, the increase in collector current leads to an increase in collector loss, and as a result, the temperature of the power transistor chip 1 rises. .. As the chip temperature rises, the base-emitter voltage of the temperature detecting transistor 3 decreases and the base-emitter voltage of the PNP transistor 4 also decreases. As the base-emitter voltage of the PNP transistor 4 decreases, the collector current of the PNP transistor 4 decreases, and the anode-cathode voltage of the diode 5, that is, the bias voltage of the power transistor 2 also decreases. The collector current of the power transistor 2 tends to increase as the temperature rises, but is kept constant because the bias voltage decreases. Since the power transistor 2 and the temperature detecting transistor 3 are formed on the same NPN type silicon chip 1, this temperature compensation is accurately performed in an extremely short time.

【0016】以上のように本実施例によれば、極めて短
時間に、より正確に温度補償ができるバイアス回路を備
えたエミッタ・フォロア回路が可能となる。
As described above, according to this embodiment, an emitter follower circuit equipped with a bias circuit capable of more accurately temperature compensating in an extremely short time becomes possible.

【0017】図2は本発明の第2の実施例における、バ
イアス回路を備えたSEPP回路の回路図を示すもので
ある。
FIG. 2 is a circuit diagram of a SEPP circuit having a bias circuit according to the second embodiment of the present invention.

【0018】図2において、21はベース領域とエミッ
タ領域が二重拡散プロセスで形成されたNPN型のシリ
コンチップ、22はパワートランジスタ部、23は温度
検出用トランジスタ部、24はベース領域とエミッタ領
域が二重拡散プロセスで形成されたPNP型のシリコン
チップ、25はパワートランジスタ部、26は温度検出
用トランジスタ部、27はPNP型トランジスタ、28
はNPN型トランジスタ、29、30はダイオード、3
1は定電流回路で定電流ダイオードを用いても良い、3
2はこのSEPP回路の入力端子、33はこのSEPP
回路の出力端子である。上記パワートランジスタ部2
2、温度検出用トランジスタ部23は同一のNPN型の
シリコンチップ21上に形成され、上記パワートランジ
スタ部25、温度検出用トランジスタ部26は同一のP
NP型のシリコンチップ24上に形成され、PNP型ト
ランジスタ27、NPN型トランジスタ28、ダイオー
ド29、30、定電流回路31は上記NPN型のシリコ
ンチップ21、PNP型のシリコンチップ24とは別体
で形成された実装基板に実装されている。
In FIG. 2, 21 is an NPN type silicon chip having a base region and an emitter region formed by a double diffusion process, 22 is a power transistor part, 23 is a temperature detecting transistor part, and 24 is a base region and an emitter region. Is a PNP type silicon chip formed by a double diffusion process, 25 is a power transistor part, 26 is a temperature detecting transistor part, 27 is a PNP type transistor, 28
Is an NPN type transistor, 29 and 30 are diodes, 3
1 is a constant current circuit, and a constant current diode may be used, 3
2 is the input terminal of this SEPP circuit, 33 is this SEPP circuit
This is the output terminal of the circuit. The power transistor section 2
2. The temperature detecting transistor section 23 is formed on the same NPN type silicon chip 21, and the power transistor section 25 and the temperature detecting transistor section 26 have the same P.
The PNP transistor 27, the NPN transistor 28, the diodes 29 and 30, and the constant current circuit 31 formed on the NP type silicon chip 24 are separate from the NPN type silicon chip 21 and the PNP type silicon chip 24. It is mounted on the formed mounting board.

【0019】温度検出用トランジスタ23のベース端子
はそのコレクタ端子に接続しダイオードとして使用して
いる。この温度検出用トランジスタ23のベース・エミ
ッタ間に電圧を発生させるためにエミッタ端子に定電流
回路31を接続している。PNP型トランジスタ27の
エミッタ、ベース端子をそれぞれ温度検出用トランジス
タ23のベース、エミッタ端子に接続し温度検出用トラ
ンジスタ23のベース・エミッタ間電圧をPNP型トラ
ンジスタ27のコレクタ電流に変換している。温度検出
用トランジスタ26のベース端子はそのコレクタ端子に
接続しダイオードとして使用している。この温度検出用
トランジスタ26のベース・エミッタ間に電圧を発生さ
せるためにエミッタ端子に定電流回路31を接続してい
る。NPN型トランジスタ28のエミッタ、ベース端子
をそれぞれ温度検出用トランジスタ26のベース、エミ
ッタ端子に接続し温度検出用トランジスタ26のベース
・エミッタ間電圧をPNP型トランジスタ28のコレク
タ電流に変換している。PNP型トランジスタ27及び
NPN型トランジスタ28のコレクタ電流をダイオード
29、30のアノード、カソード間電圧に変換するため
ダイオード29、30をPNP型トランジスタ27及び
NPN型トランジスタ28のコレクタ間に挿入してい
る。このダイオード29のアノード、ダイオード30の
カソードをそれぞれパワートランジスタ22のベース、
パワートランジスタ25のベースに接続しダイオード2
9、30のアノード、カソード間電圧をパワートランジ
スタ22及びパワートランジスタ25のバイアス電圧と
している。
The base terminal of the temperature detecting transistor 23 is connected to its collector terminal and used as a diode. A constant current circuit 31 is connected to the emitter terminal in order to generate a voltage between the base and emitter of the temperature detecting transistor 23. The emitter and base terminals of the PNP type transistor 27 are connected to the base and emitter terminals of the temperature detecting transistor 23, respectively, and the base-emitter voltage of the temperature detecting transistor 23 is converted into the collector current of the PNP type transistor 27. The base terminal of the temperature detecting transistor 26 is connected to its collector terminal and used as a diode. A constant current circuit 31 is connected to the emitter terminal in order to generate a voltage between the base and emitter of the temperature detecting transistor 26. The emitter and base terminals of the NPN type transistor 28 are connected to the base and emitter terminals of the temperature detecting transistor 26, respectively, and the base-emitter voltage of the temperature detecting transistor 26 is converted into the collector current of the PNP type transistor 28. The diodes 29, 30 are inserted between the collectors of the PNP type transistor 27 and the NPN type transistor 28 in order to convert the collector current of the PNP type transistor 27 and the NPN type transistor 28 into the voltage between the anode and the cathode of the diodes 29, 30. The anode of the diode 29 and the cathode of the diode 30 are respectively the base of the power transistor 22,
Connect to the base of power transistor 25 and diode 2
The voltage between the anode and the cathode of 9 and 30 is used as the bias voltage of the power transistor 22 and the power transistor 25.

【0020】以上のように構成されたSEPP回路も第
一の実施例と同様に、極めて短時間に、より正確に温度
補償ができる。
The SEPP circuit configured as described above can also perform temperature compensation more accurately in an extremely short time, as in the first embodiment.

【0021】図3は本発明の第3の実施例における、バ
イアス回路を備えたエミッタ接地回路の回路図を示すも
のである。
FIG. 3 is a circuit diagram of a grounded-emitter circuit having a bias circuit according to the third embodiment of the present invention.

【0022】図3において、41はベース領域とエミッ
タ領域が二重拡散プロセスで形成されたNPN型のシリ
コンチップ、42はパワートランジスタ部、43は温度
検出用トランジスタ部、44はPNP型トランジスタ、
45はダイオード、46は定電流回路で定電流ダイオー
ドを用いても良い、47はこのエミッタ接地回路の入力
端子、48はこのエミッタ接地回路の出力端子、49は
パワートランジスタのコレクタ抵抗器、50はパワート
ランジスタのエミッタ抵抗器である。上記パワートラン
ジスタ部42、温度検出用トランジスタ部43は同一の
上記NPN型のシリコンチップ41上に形成され、上記
ダイオード45、定電流回路46、抵抗器49、50は
上記NPN型のシリコンチップ41とは別体に形成され
た実装基板に実装されている。温度検出用トランジスタ
43のベース端子はそのコレクタ端子に接続しダイオー
ドとして使用している。この温度検出用トランジスタ4
3のベース・エミッタ間に電圧を発生させるためにエミ
ッタ端子に定電流回路46を接続している。PNP型ト
ランジスタ44のエミッタ、ベース端子をそれぞれ温度
検出用トランジスタ43のベース、エミッタ端子に接続
し温度検出用トランジスタ43のベース・エミッタ間電
圧をPNP型トランジスタ44のコレクタ電流に変換し
ている。PNP型トランジスタ44のコレクタ電流をダ
イオード45のアノード、カソード間電圧に変換するた
めダイオード45をPNP型トランジスタ44のコレク
タに接続している。このダイオード45のアノード、カ
ソードをそれぞれパワートランジスタ42のベース、エ
ミッタに接続しダイオード45のアノード、カソード間
電圧をパワートランジスタ42のバイアス電圧としてい
る。
In FIG. 3, 41 is an NPN type silicon chip having a base region and an emitter region formed by a double diffusion process, 42 is a power transistor section, 43 is a temperature detecting transistor section, 44 is a PNP type transistor,
45 is a diode, 46 is a constant current circuit and may be a constant current diode, 47 is an input terminal of this grounded-emitter circuit, 48 is an output terminal of this grounded-emitter circuit, 49 is a collector resistor of a power transistor, and 50 is It is an emitter resistor of a power transistor. The power transistor section 42 and the temperature detecting transistor section 43 are formed on the same NPN type silicon chip 41, and the diode 45, the constant current circuit 46, and the resistors 49 and 50 are the same as the NPN type silicon chip 41. Are mounted on a mounting board formed separately. The base terminal of the temperature detecting transistor 43 is connected to its collector terminal and used as a diode. This temperature detection transistor 4
A constant current circuit 46 is connected to the emitter terminal in order to generate a voltage between the base and emitter of No. 3. The emitter and base terminals of the PNP type transistor 44 are respectively connected to the base and emitter terminals of the temperature detecting transistor 43, and the base-emitter voltage of the temperature detecting transistor 43 is converted into the collector current of the PNP type transistor 44. The diode 45 is connected to the collector of the PNP type transistor 44 in order to convert the collector current of the PNP type transistor 44 into a voltage between the anode and the cathode of the diode 45. The anode and cathode of the diode 45 are connected to the base and emitter of the power transistor 42, respectively, and the voltage between the anode and cathode of the diode 45 is used as the bias voltage of the power transistor 42.

【0023】以上のように構成されたエミッタ接地回路
も第一の実施例と同様に、極めて短時間に、より正確に
温度補償ができる。
The grounded-emitter circuit configured as described above can also perform temperature compensation more accurately in an extremely short time, as in the first embodiment.

【0024】[0024]

【発明の効果】以上のように本発明は、温度検出用トラ
ンジスタをシリコンパワートランジスタと同体のシリコ
ン上に形成しそのベース・エミッタ間電圧を検出するこ
とにより、シリコンパワートランジスタの発熱を極めて
短時間かつ正確に検出することができ、シリコンパワー
トランジスタの動作電流の温度補償を適切に行うことが
できる。
As described above, according to the present invention, the temperature detecting transistor is formed on the same silicon as the silicon power transistor and the voltage between the base and the emitter thereof is detected, so that the heat generation of the silicon power transistor is extremely short. In addition, the temperature of the operating current of the silicon power transistor can be accurately compensated for, and the temperature of the operating current of the silicon power transistor can be appropriately compensated.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1の実施例における、バイアス回路
を備えたエミッタ・フォロア回路の回路図を示すもので
ある。
FIG. 1 is a circuit diagram of an emitter-follower circuit including a bias circuit according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第2の実施例における、バイアス回路
を備えたSEPP回路の回路図を示すものである。
FIG. 2 is a circuit diagram of a SEPP circuit including a bias circuit according to a second embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第3の実施例における、バイアス回路
を備えたエミッタ接地回路の回路図を示すものである。
FIG. 3 is a circuit diagram of a grounded-emitter circuit including a bias circuit according to a third embodiment of the present invention.

【図4】従来のバイアス回路を備えたSEPP回路の回
路図を示すものである。
FIG. 4 is a circuit diagram of a SEPP circuit including a conventional bias circuit.

【図5】ベース領域とエミッタ領域を二重拡散プロセス
で形成したシリコントランジスタの断面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view of a silicon transistor in which a base region and an emitter region are formed by a double diffusion process.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ベース領域とエミッタ領域が二重拡散プロセスで形
成されたNPN型のシリコンチップ 2 パワートランジスタ部 3 温度検出用トランジスタ部 4 PNP型トランジスタ 5 ダイオード 6 定電流回路 7 入力端子 8 出力端子 9 パワートランジスタのエミッタ抵抗器 10 抵抗器 11 抵抗器 12 抵抗器 13 抵抗器 21 ベース領域とエミッタ領域が二重拡散プロセスで
形成されたNPN型のシリコンチップ 22 パワートランジスタ部 23 温度検出用トランジスタ部 24 ベース領域とエミッタ領域が二重拡散プロセスで
形成されたPNP型のシリコンチップ 25 パワートランジスタ部 26 温度検出用トランジスタ部 27 PNP型トランジスタ 28 NPN型トランジスタ 29 ダイオード 30 ダイオード 31 定電流回路 32 SEPP回路の入力端子 33 SEPP回路の出力端子 41 ベース領域とエミッタ領域が二重拡散プロセスで
形成されたNPN型のシリコンチップ 42 パワートランジスタ部 43 温度検出用トランジスタ部 44 PNP型トランジスタ 45 ダイオード 46 定電流回路 47 エミッタ接地回路の入力端子 48 エミッタ接地回路の出力端子 49 パワートランジスタのコレクタ抵抗器 50 パワートランジスタのエミッタ抵抗器 71 エミッタ領域 72 ベース領域 73 コレクタ高比抵抗領域 74 コレクタ高不純物濃度領域 75 コレクタ裏面部
1 NPN type silicon chip in which base region and emitter region are formed by double diffusion process 2 Power transistor part 3 Temperature detecting transistor part 4 PNP type transistor 5 Diode 6 Constant current circuit 7 Input terminal 8 Output terminal 9 Power transistor Emitter resistor 10 Resistor 11 Resistor 12 Resistor 13 Resistor 21 NPN type silicon chip with base region and emitter region formed by double diffusion process 22 Power transistor part 23 Temperature detecting transistor part 24 Base region and emitter PNP type silicon chip 25 formed by double diffusion process 25 power transistor section 26 temperature detecting transistor section 27 PNP type transistor 28 NPN type transistor 29 diode 30 diode 31 constant current circuit 32 S Input terminal of EPP circuit 33 Output terminal of SEPP circuit 41 NPN type silicon chip in which base region and emitter region are formed by double diffusion process 42 Power transistor part 43 Temperature detecting transistor part 44 PNP type transistor 45 Diode 46 Constant current Circuit 47 Input terminal of grounded-emitter circuit 48 Output terminal of grounded-emitter circuit 49 Collector resistor of power transistor 50 Emitter resistor of power transistor 71 Emitter region 72 Base region 73 Collector high specific resistance region 74 Collector high impurity concentration region 75 Collector backside Department

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 二重拡散プロセスで形成されたベース領
域とエミッタ領域から成るシリコンパワートランジスタ
と上記シリコンパワートランジスタと同体のシリコン上
に上記シリコンパワートランジスタとは電気的に絶縁さ
れたベース領域とエミッタ領域から成るある一定の面積
をもつトランジスタとを形成して構成された素子と、上
記シリコンとは別体で形成された実装基板上に上記トラ
ンジスタのベース・エミッタ間電圧を検出し上記シリコ
ンパワートランジスタのバイアス電圧を制御するバイア
ス回路とで構成し、上記シリコンパワートランジスタの
チップ温度を短時間に検出しその動作電流を一定に保つ
ことを特徴とするトランジスタ回路。
1. A silicon power transistor including a base region and an emitter region formed by a double diffusion process, and a base region and an emitter electrically insulated from the silicon power transistor on the same silicon as the silicon power transistor. A silicon power transistor which detects a base-emitter voltage of the transistor on an element formed by forming a transistor having a certain area consisting of a region and a mounting substrate formed separately from the silicon. And a bias circuit that controls the bias voltage of the silicon power transistor, and detects the chip temperature of the silicon power transistor in a short time to keep its operating current constant.
【請求項2】 上記バイアス回路が、上記トランジスタ
のコンプリメンタリ・トランジスタで構成され、上記ト
ランジスタのベース端子と上記コンプリメンタリ・トラ
ンジスタのエミッタ端子、上記トランジスタのエミッタ
端子と上記コンプリメンタリ・トランジスタのベース端
子が接続されていることを特徴とする請求項1記載のト
ランジスタ回路。
2. The bias circuit comprises a complementary transistor of the transistor, the base terminal of the transistor and the emitter terminal of the complementary transistor, and the emitter terminal of the transistor and the base terminal of the complementary transistor are connected. The transistor circuit according to claim 1, wherein:
【請求項3】 上記トランジスタ及び上記トランジスタ
のコンプリメンタリ・トランジスタそれぞれのエミッタ
端子に抵抗器を挿入することを特徴とする請求項2記載
のトランジスタ回路。
3. The transistor circuit according to claim 2, wherein a resistor is inserted in the emitter terminal of each of the transistor and the complementary transistor of the transistor.
【請求項4】 上記シリコンパワートランジスタをエミ
ッタ・フォロアとして使用することを特徴とする請求項
1記載のトランジスタ回路。
4. The transistor circuit according to claim 1, wherein the silicon power transistor is used as an emitter follower.
【請求項5】 上記シリコンパワートランジスタをSE
PP回路として使用することを特徴とする請求項1記載
のトランジスタ回路。
5. The silicon power transistor is SE
The transistor circuit according to claim 1, wherein the transistor circuit is used as a PP circuit.
【請求項6】 上記シリコンパワートランジスタをエミ
ッタ接地回路として使用することを特徴とする請求項1
記載のトランジスタ回路。
6. The silicon power transistor is used as a grounded-emitter circuit.
The transistor circuit described.
JP4054868A 1992-03-13 1992-03-13 Transistor circuit Pending JPH05259749A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7123730B2 (en) 2001-03-15 2006-10-17 Bluetek Co., Ltd. Audio power amplifying apparatus and method

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