JPH05259504A - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device

Info

Publication number
JPH05259504A
JPH05259504A JP5767592A JP5767592A JPH05259504A JP H05259504 A JPH05259504 A JP H05259504A JP 5767592 A JP5767592 A JP 5767592A JP 5767592 A JP5767592 A JP 5767592A JP H05259504 A JPH05259504 A JP H05259504A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
chip
positioning
array
substrate
circuit board
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP5767592A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Katsuaki Chiba
勝昭 千葉
Makoto Haneda
誠 羽田
Tadao Kaneko
忠男 金子
Tomohiro Suzuki
智浩 鈴木
Yuichi Ono
佑一 小野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP5767592A priority Critical patent/JPH05259504A/en
Publication of JPH05259504A publication Critical patent/JPH05259504A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PURPOSE:To realize easy facedown bonding of a semiconductor chip and a substrate with high position accuracy. CONSTITUTION:A projection part 4 which is used solely for positioning is provided to an electrode surface side of a semiconductor chip 1. A recessed part 9 corresponding to the projection part of the chip is provided to a mounting circuit substrate side. Positioning is completed readily by fitting of the recessed and projecting parts. Thereby, the following can be realized; (1) Positioning of registration deviation of 3mum. (2) Easy adjustment of positioning and high precision positioning mounting in multilayer lamination. (3) Assembly of good position accuracy with a substrate pattern even if position deviation exists between a chip electrode pattern and a chip external shape.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体チップを回路基
板に精度良く確実に実装するために、チップ及び回路基
板上に、チップ及び回路基板上に設けた、突起又はマー
ク、及び凹又は貫通孔構造に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention, in order to mount a semiconductor chip on a circuit board with high accuracy and certainty, a projection or a mark and a recess or a through hole provided on the chip and the circuit board. Regarding pore structure.

【0002】[0002]

【従来の技術】超高周波帯で使用する半導体チップや、
チップの表面より光を入射または出射させる光素子など
をパッケージや回路基板に実装するには従来からフェー
スダウンボンディングと呼ばれる手法が広く使われてい
る。すなわち、図1に示すように、pn接合を有する半
導体チップ1を、電極面を下に向けて回路基板4上に載
せ、p電極2と回路配線パターン5、及びチップの二つ
のn電極3と回路配線パターン6の位置が合致するよう
に位置合わせ操作を行なったのち、チップのp,n電極
の表面に形成したAu/Sn半田を溶融し両者を接着固
定する。
2. Description of the Related Art Semiconductor chips used in the ultra high frequency band,
Conventionally, a method called face-down bonding has been widely used to mount an optical element or the like that allows light to enter or exit from the surface of a chip on a package or a circuit board. That is, as shown in FIG. 1, a semiconductor chip 1 having a pn junction is placed on a circuit board 4 with its electrode surface facing downward, and a p electrode 2 and a circuit wiring pattern 5 and two n electrodes 3 of the chip are placed. After performing a positioning operation so that the positions of the circuit wiring patterns 6 match, the Au / Sn solder formed on the surfaces of the p and n electrodes of the chip is melted and the two are bonded and fixed.

【0003】従来、このようなフェースダウンボンディ
ングにおいては、例えば、「混成集積回路」,菅口・原
留編,工業調査会(1968年,10月),第180〜1
81頁に開示されているように、ハーフミラーを用いた
位置合わせ法が採用されている。
Conventionally, in such face-down bonding, for example, "Hybrid integrated circuit", edited by Sugaguchi and Haradome, Industrial Research Committee (October 1968), No. 180-1
As disclosed on page 81, a positioning method using a half mirror is adopted.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の従来の
方法では、ハーフミラーを介在させた間接的な位置合わ
せになるため、合わせ精度を高めることが極めて困難で
あり、通常、±20μm程度の位置合わせ精度が限界で
あった。
However, in the above-mentioned conventional method, it is extremely difficult to improve the alignment accuracy because of the indirect alignment with the half mirror interposed, and it is usually about ± 20 μm. The alignment accuracy was the limit.

【0005】特に超高周波帯で使用する電子デバイス、
例えば、裏面入射形PINホトダイオードにおいては、
チップの電極パターンサイズが直径20μmに満たない
場合があり、フェースダウンボンディング時の位置合わ
せ精度が問題であった。
Electronic devices used especially in the super high frequency band,
For example, in a back illuminated PIN photodiode,
In some cases, the electrode pattern size of the chip was less than 20 μm in diameter, and the alignment accuracy during face-down bonding was a problem.

【0006】本発明の目的は、凹凸の嵌合による位置合
わせにより、チップのフェースダウンボンディングを容
易に高精度化することにある。また、本発明の目的は、
多層にて面実装する場合にても同様に高精度に組立てる
ことにある。
It is an object of the present invention to easily and highly accurately realize face-down bonding of a chip by positioning by fitting concave and convex portions. Further, the object of the present invention is to
Even in the case of surface mounting with multiple layers, it is necessary to assemble with high accuracy.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記目的は、電子部品チ
ップを回路基板に実装する際に、電子部品チップの凸部
又は凹部と回路基板の凹部又は凸部の嵌合により、容易
に位置合わせすることで位置合わせの高精度化が得られ
る。又この方法を多層面実装する場合に適用することに
より多層面実装においても位置合わせの高精度化が図れ
る。
The object of the invention is to easily align an electronic component chip on a circuit board by fitting a convex portion or a concave portion of the electronic component chip with a concave portion or a convex portion of the circuit board. By doing so, high accuracy of alignment can be obtained. Further, by applying this method in the case of multi-layer surface mounting, the positioning accuracy can be improved even in multi-layer surface mounting.

【0008】[0008]

【作用】図2に示すように、チップ1の表面電極側に、
位置合わせ専用の1個以上の凸部8と対応した位置の回
路基板4上に嵌合位置合わせ専用の凹部9を設ける。チ
ップ1を回路基板4上に載置する際、チップの凸部と回
路基板の凹部の嵌合状態を周辺からチップの傾き具合い
などを観察することにより確認する。
As shown in FIG. 2, on the surface electrode side of the chip 1,
A concave portion 9 dedicated to fitting position alignment is provided on the circuit board 4 at a position corresponding to one or more convex portions 8 dedicated to position alignment. When the chip 1 is placed on the circuit board 4, the fitting state of the convex portion of the chip and the concave portion of the circuit board is confirmed by observing the inclination of the chip from the periphery.

【0009】チップ上の凸部8の直径は、回路基板上の
凹部9の内径よりも僅かに小さくしてある。この設定値
は、要求される合わせ精度によって任意に設定可能であ
る。以上によりチップと基板との凹凸嵌合実装が可能で
ある。
The diameter of the convex portion 8 on the chip is slightly smaller than the inner diameter of the concave portion 9 on the circuit board. This set value can be arbitrarily set depending on the required alignment accuracy. As described above, the concave-convex fitting mounting of the chip and the substrate is possible.

【0010】[0010]

【実施例】以下、本発明の実施例を図面を用いて説明す
る。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0011】実施例1は裏面入射型のPINホトダイオ
ードチップを回路基板との接続に適用した例について述
べる。
Example 1 describes an example in which a back illuminated PIN photodiode chip is applied to the connection with a circuit board.

【0012】図2は、裏面入射型のInP系PINホト
ダイオードチップとその基板回路を示している。裏面入
射型のInP系PINホトダイオードチップ1の表面側
には、直径20μmの微小なp形電極2、及びその両側
に長さ150μm,幅40μmの2個のn形電極3が形
成されている。また、チップ電極のメタライズ構成は、
InP上にTi/Pt/Au/Sn(0.1/0.2/
0.9/0.7μm厚)を蒸着により形成している。さら
に、回路基板電極のメタライズ構成は、石英硝子基板上
にCr/Au(0.05/0.1μm厚)を蒸着により形
成している。本発明によるチップ側の位置合わせ専用凸
部8を2箇所のn形電極中央部に各30×30×3μm
厚のAuをメッキにより形成している。また、回路基板
側の2箇所のn形電極3の中央部には、チップ側に形成
された凸部8との嵌合用凹部9を各33×33×5μm
深さで設けている。
FIG. 2 shows a back illuminated InP PIN photodiode chip and its substrate circuit. On the front surface side of the back illuminated InP PIN photodiode chip 1, a minute p-type electrode 2 having a diameter of 20 μm and two n-type electrodes 3 having a length of 150 μm and a width of 40 μm are formed on both sides thereof. In addition, the metallization structure of the tip electrode is
Ti / Pt / Au / Sn (0.1 / 0.2 / on InP
(0.9 / 0.7 μm thickness) is formed by vapor deposition. Further, the metallized structure of the circuit board electrode is formed by depositing Cr / Au (0.05 / 0.1 μm thick) on the quartz glass substrate. The projections 8 dedicated to the alignment on the chip side according to the present invention are provided in the central portions of the n-type electrodes at two locations, each 30 × 30 × 3 μm
The thick Au is formed by plating. Further, in the central portion of the two n-type electrodes 3 on the side of the circuit board, fitting concave portions 9 for fitting with the convex portions 8 formed on the chip side are 33 × 33 × 5 μm each.
It is provided in depth.

【0013】以下に、チップ1を回路基板4にフェース
ダウンボンディングする際の方法について述べる。ま
ず、チップ1を真空コレットによりチャックし、回路基
板4上の所定の位置に載置する。この時、回路基板上に
設けられた2個の凹部に、チップ上に設けられた2個の
凸部を嵌合して、位置合わせを完了する。
A method for face-down bonding the chip 1 to the circuit board 4 will be described below. First, the chip 1 is chucked by a vacuum collet and placed at a predetermined position on the circuit board 4. At this time, the two convex portions provided on the chip are fitted into the two concave portions provided on the circuit board to complete the alignment.

【0014】実施例2は並列導波路型光演算装置に適用
した例を示す。
The second embodiment shows an example applied to a parallel waveguide type optical arithmetic unit.

【0015】図3の、並列光導波路13及び15は、信
号に対して透明なる材料である石英硝子を用い、信号光
伝送方向と平行に溝加工による矩形部分を作成し、光導
波路を形成したものである。この導波路は高さ200μ
m,幅150μmの矩形状をしている。矩形導波路間の
ピッチは250μmである。さらにこの矩形導波路と垂
直方向に45度の斜め溝加工を施す。この深さは入力光
側より50μmずつ順次深くなり4溝を形成する。この
矩形導波路の表面および斜め溝加工部には、Auの蒸着
膜が約0.5μm 施されており、導波路内の光閉じ込め
効率を高める様にしている。
The parallel optical waveguides 13 and 15 shown in FIG. 3 are made of quartz glass, which is a transparent material for signals, and rectangular portions are formed by groove processing in parallel with the signal light transmission direction to form optical waveguides. It is a thing. The height of this waveguide is 200μ
It has a rectangular shape of m and a width of 150 μm. The pitch between the rectangular waveguides is 250 μm. Further, oblique groove processing of 45 degrees is performed in the direction perpendicular to the rectangular waveguide. This depth gradually increases by 50 μm from the input light side to form four grooves. A vapor deposition film of Au is applied to the surface of the rectangular waveguide and the oblique groove processed portion to a thickness of about 0.5 μm so as to enhance the optical confinement efficiency in the waveguide.

【0016】この並列光導波路13および15の導波路
形成側と反対側には図2と同様の嵌合凹部を2個形成す
る。一方面型素子の両面には嵌合用凸部を各2個形成す
る。寸法及び電極構造は図2と同様である。次に面増幅
素子アレイ4を挾み、矩形導波路の伝送方向が互いに直
交する形で、フリップチップボンディングで凹凸の嵌合
によりAu/Sn融着する。この並列光導波路13はさ
らに2つの凸部を設けたアルミナ基板11上に高融点P
b/Sn半田にてボンディングされている。嵌合部凹凸
の寸法は前記図2と同様である。又、PDアレイ12と
LDアレイ18及びヒートシンク19は図3の様にPb
/Snにてボンディングする。
Two fitting recesses similar to those shown in FIG. 2 are formed on the side of the parallel optical waveguides 13 and 15 opposite to the side where the waveguides are formed. Two fitting protrusions are formed on each side of the one-sided element. The dimensions and electrode structure are the same as in FIG. Next, the surface amplification element array 4 is sandwiched, and Au / Sn fusion is performed by fitting of unevenness by flip-chip bonding so that the transmission directions of the rectangular waveguides are orthogonal to each other. The parallel optical waveguide 13 has a high melting point P on the alumina substrate 11 provided with two convex portions.
Bonded with b / Sn solder. The dimensions of the fitting irregularities are the same as in FIG. The PD array 12, the LD array 18, and the heat sink 19 are Pb as shown in FIG.
Bonding with / Sn.

【0017】LDアレイ18からの入力光16は、マイ
クロレンズアレイ17によりコリメート光になり、並列
光導波路15の各導波路にLDアレイ素子各々の光が対
応する様に位置調整される。その後マイクロレンズアレ
イ17はLDアレイ18の上に固定される。入力光16
は各導波路内にある斜め溝により導波路基板面と垂直の
方向に反射される。反射光は面型光増幅素子アレイ14
に入射され、光増幅変調作用を受けたあと並列光導波路
基板13に入射され、各導波路毎に集光されて出力光2
1となりPDアレイ12に入射される。
The input light 16 from the LD array 18 is converted into collimated light by the microlens array 17, and the position of the light of each LD array element is adjusted so as to correspond to each waveguide of the parallel optical waveguide 15. After that, the microlens array 17 is fixed on the LD array 18. Input light 16
Is reflected in a direction perpendicular to the waveguide substrate surface by the oblique groove in each waveguide. The reflected light is a surface-type optical amplification element array 14
Is incident on the parallel optical waveguide substrate 13 after being subjected to the optical amplification and modulation action, and is condensed for each waveguide to output light 2
It becomes 1 and is incident on the PD array 12.

【0018】LDアレイ18からの各素子の光強度を入
力ベクトルとし、面増幅素子アレイ14を演算マトリッ
クスとし、PDアレイ12の各素子の受光感度を出力ベ
クトルとすることにより積和演算を行なうことが出来
た。また、同様に面増幅素子アレイ14の各素子の増幅
/減衰作用を応用し、入力Xiと出力Yj間の光通信、
すなわち光交換を行なうことが出来た。
The product-sum operation is performed by using the light intensity of each element from the LD array 18 as an input vector, the surface amplification element array 14 as an operation matrix, and the light receiving sensitivity of each element of the PD array 12 as an output vector. Was completed. Similarly, by applying the amplification / attenuation action of each element of the surface amplification element array 14, optical communication between the input Xi and the output Yj,
That is, optical exchange could be performed.

【0019】実施例3は並列光導波路をLSIのような
電子デバイス間との接続に適用した例について述べる。
The third embodiment will describe an example in which a parallel optical waveguide is applied to connection between electronic devices such as LSI.

【0020】図4は、並列導波路型光電子情報処理装置
を示している。並列光導波路基板35は図3に示したも
のと同様のものである。この並列光導波路35の導波路
部と反対側の面には位置合わせ用の2つの凹部を設け、
さらに図2と同様の電極パターン36と2つの凸部を設
けたマイクロプロセッサ用LSI34にはTi/Pt/
Au電極による凸部を設け、凹凸の嵌合により位置合わ
せを行ない、フリップチップボンディングする。このL
SI34は並列光導波路35に4個並列に搭載されてお
り、これら1個のLSIには2つの凸部を設けた1個の
PDアレイ33が対応し、並列に凹凸の嵌合により位置
合わせを行なった後、Au/Snにてフリップチップボ
ンディングされている。LDアレイ38からでた信号光
39は図3に示したのと同様に各導波路毎に並列に進行
し、斜め溝により反射され各PDアレイ33並列に入射
する。この光は電気信号に変換され、近接のLSIに入
力信号として伝送される。LSI34により電気処理さ
れた出力信号は並列導波路35の電極パターン36を伝
って外部に取りだされる。
FIG. 4 shows a parallel waveguide type optoelectronic information processing apparatus. The parallel optical waveguide substrate 35 is similar to that shown in FIG. Two concave portions for alignment are provided on the surface of the parallel optical waveguide 35 opposite to the waveguide portion,
Further, in the microprocessor LSI 34 having the same electrode pattern 36 and two convex portions as in FIG. 2, Ti / Pt /
Protrusions are formed by Au electrodes, and the protrusions and recesses are fitted to each other for alignment and flip-chip bonding. This L
Four SIs 34 are mounted in parallel in the parallel optical waveguide 35, and one PD array 33 having two convex portions corresponds to one LSI, and the alignment is performed by fitting the concave and convex portions in parallel. After that, it is flip-chip bonded by Au / Sn. The signal light 39 emitted from the LD array 38 travels in parallel for each waveguide similarly to that shown in FIG. 3, is reflected by the oblique groove, and is incident on each PD array 33 in parallel. This light is converted into an electric signal and transmitted to an adjacent LSI as an input signal. The output signal electrically processed by the LSI 34 is taken out through the electrode pattern 36 of the parallel waveguide 35.

【0021】LDアレイ38の光は、コリメート光とな
る様マイクロレンズアレイ37と位置合わせ後、基板上
のLDアレイ38上に固定される。同様にLSI34お
よびPDアレイ33のボンディングされた並列光導波路
35は、スペーサを介して基板31にPb/Sn半田に
てボンディングされる。
The light from the LD array 38 is aligned with the microlens array 37 so as to become collimated light, and then fixed on the LD array 38 on the substrate. Similarly, the parallel optical waveguide 35 to which the LSI 34 and the PD array 33 are bonded is bonded to the substrate 31 by Pb / Sn solder via a spacer.

【0022】これにより、本並列導波路型光電子情報処
理装置は空間的なスペースを取らずにコンパクトで冷却
が可能となり、プロセッサ用LSIへの並列信号処理が
可能となった。
As a result, the parallel waveguide type optoelectronic information processing apparatus is compact and can be cooled without taking a spatial space, and parallel signal processing to the processor LSI is enabled.

【0023】[0023]

【発明の効果】以上述べた発明によれば、フェースダウ
ンボンディングの際の位置合わせ精度を約5μmとする
ことができ、特に、容易な合わせ方式としてフェースダ
ウンボンディングを要するデバイスの実装に大きく寄与
する。
According to the invention described above, the alignment accuracy in face-down bonding can be set to about 5 μm, and in particular, it greatly contributes to the mounting of a device which requires face-down bonding as an easy alignment method. ..

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】従来の一実施例を示す裏面入射型PINホトダ
イオードチップと回路基板の構成図である。
FIG. 1 is a configuration diagram of a back illuminated PIN photodiode chip and a circuit board showing a conventional example.

【図2】本発明の一実施例を示す裏面入射型PINホト
ダイオードチップと回路基板面の凹凸構成図である。
FIG. 2 is a concavo-convex configuration diagram of a back illuminated PIN photodiode chip and a circuit board surface showing an embodiment of the present invention.

【図3】本発明の一実施例を示す並列導波路型光演算装
置の構成図である。
FIG. 3 is a configuration diagram of a parallel waveguide type optical arithmetic unit showing an embodiment of the present invention.

【図4】本発明の一実施例を示す並列導波路型光電子情
報処理装置の構成図である。
FIG. 4 is a configuration diagram of a parallel waveguide type optoelectronic information processing apparatus showing an embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…半導体チップ(ホトダイオード)、2…p電極、3
…n電極、4…回路基板、5…p電極配線パターン、6
…n電極配線パターン、7…組合わせマーク、8…凸
部、9…凹部、11…アルミナ基板、12…PDアレ
イ、13,15…並列光導波路基板、14…面型光増幅
素子アレイ、16…入力信号光、17…マイクロレンズ
アレイ、18…LDアレイ、19…ヒートシンク、21
…出力光、22…凸部、23…凹部、31…基板、32
…スペーサ、33…PDアレイ、34…マイクロプロセ
ッサLSI、35…並列光導波路基板、36…電極パタ
ーン、37…マイクロレンズアレイ、38…LDアレ
イ、39…信号光、40…凸部、41…凹部。
1 ... Semiconductor chip (photodiode), 2 ... p electrode, 3
... n electrode, 4 ... circuit board, 5 ... p electrode wiring pattern, 6
... n-electrode wiring pattern, 7 ... combination mark, 8 ... convex portion, 9 ... concave portion, 11 ... alumina substrate, 12 ... PD array, 13, 15 ... parallel optical waveguide substrate, 14 ... planar optical amplification element array, 16 Input signal light, 17 Microlens array, 18 LD array, 19 Heat sink, 21
... output light, 22 ... convex portion, 23 ... concave portion, 31 ... substrate, 32
... Spacer, 33 ... PD array, 34 ... Microprocessor LSI, 35 ... Parallel optical waveguide substrate, 36 ... Electrode pattern, 37 ... Microlens array, 38 ... LD array, 39 ... Signal light, 40 ... Convex portion, 41 ... Recessed portion ..

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鈴木 智浩 神奈川県横浜市戸塚区戸塚町180番地 日 立通信システム株式会社内 (72)発明者 小野 佑一 東京都国分寺市東恋ケ窪1丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Tomohiro Suzuki 180 Totsuka-cho, Totsuka-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Hitachi Communication Systems Co., Ltd. Central Research Laboratory

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】半導体チップを回路基板に実装する半導体
装置において、上記チップ及び基板にそれぞれ嵌合によ
り位置合わせを行うための凹凸を備えたことを特徴とす
る半導体装置。
1. A semiconductor device in which a semiconductor chip is mounted on a circuit board, wherein the chip and the board are each provided with projections and depressions for performing alignment by fitting.
JP5767592A 1992-03-16 1992-03-16 Semiconductor device Pending JPH05259504A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5767592A JPH05259504A (en) 1992-03-16 1992-03-16 Semiconductor device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5767592A JPH05259504A (en) 1992-03-16 1992-03-16 Semiconductor device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH05259504A true JPH05259504A (en) 1993-10-08

Family

ID=13062499

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5767592A Pending JPH05259504A (en) 1992-03-16 1992-03-16 Semiconductor device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH05259504A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09232601A (en) * 1996-02-27 1997-09-05 Nec Corp Photodetective device
JP2019212861A (en) * 2018-06-08 2019-12-12 日本電信電話株式会社 Light-receiving device and method of manufacturing the same

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09232601A (en) * 1996-02-27 1997-09-05 Nec Corp Photodetective device
US5929500A (en) * 1996-02-27 1999-07-27 Nec Corporation Light receiving device for use in optical fiber communications and the like
JP2019212861A (en) * 2018-06-08 2019-12-12 日本電信電話株式会社 Light-receiving device and method of manufacturing the same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5981945A (en) Optoelectronic transducer formed of a semiconductor component and a lens system
US6558976B2 (en) Critically aligned optical MEMS dies for large packaged substrate arrays and method of manufacture
US6998646B2 (en) Integration of top-emitting and top-illuminated optoelectronic devices with micro-optic and electronic integrated circuits
JP3413839B2 (en) Optoelectronic integrated circuit device
JP3731542B2 (en) Optical module and optical module mounting method
TW201028748A (en) Wafer level optoelectronic package with fiber side insertion
JP2002303738A (en) High-speed electric signal/optical signal translator
JP4643891B2 (en) Positioning method for parallel optical system connection device
WO1987004566A1 (en) Interconnects for wafer-scale-integrated assembly
US5297218A (en) Optical semiconductor laser and optical waveguide alignment device
JP2527054B2 (en) Optical module submount and manufacturing method thereof
JPH0990177A (en) Optical semiconductor device
JPH11326662A (en) Optical planar circuit
JPH05259504A (en) Semiconductor device
JPH05121710A (en) Light receiving and emitting element array module
JP3440679B2 (en) Semiconductor device
US6839139B2 (en) Bench based integrated wavelength locker
JPH0582810A (en) Photoelectric transfer device
KR100317397B1 (en) Architecture of a free-space optical interconnection module
JP2608585B2 (en) Hybrid optical integrated circuit
JP2616550B2 (en) Optical module
JPS5982779A (en) Mounting method of optical integrated circuit
JPH04349674A (en) Optical semiconductor element and mounting method therefor
JPH07209560A (en) Optical module
JPH08220375A (en) Opto-electric hybrid circuit module and optical coupler and its production