JPH05255352A - Continuous production of oxime silane - Google Patents

Continuous production of oxime silane

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JPH05255352A
JPH05255352A JP32358192A JP32358192A JPH05255352A JP H05255352 A JPH05255352 A JP H05255352A JP 32358192 A JP32358192 A JP 32358192A JP 32358192 A JP32358192 A JP 32358192A JP H05255352 A JPH05255352 A JP H05255352A
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寛 津村
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Abstract

PURPOSE:To enable continuous production of oximesilane simply and safely, as the formation of explosive oxime hydrochloride is prevented. CONSTITUTION:(a) A silane halide of formula: R<1>4-nSiXn (R<1> is a monovalent hydrocarbon group which may be substituted; X is a halogen atom; n is an integral of 1 to 4), ammonia and an organic solvent in an amount 1 to 20-times the weight of the silane halide are continuously charged into the bottom of the first reactor at the same time. (b) The reaction mixture overflowing from the top of the first reactor is lead to the second reactor, and an oxime of the formula: R<2>R<3>C=N-OH (R<2>, R<3> are H, monovalent hydrocarbon group which may be substituted) is also continuously fed into the second reactor. Then, (c) the reaction mixture from the bottom of the second reactor is led to the slurry tank, and (d) the oximesilane of formula: R<1>4-nSi(ON=CR<2>R<3>)n is recovered therefrom.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はオキシムシランの製造方
法、特には爆発性のあるオキシム塩酸塩の発生を防止し
て、容易に、かつ安全にオキシムシランを製造する方法
に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing oxime silane, and more particularly to a method for easily and safely producing oxime silane by preventing generation of explosive oxime hydrochloride.

【0002】[0002]

【従来の技術】オキシムシランの製造は、従来メチルト
リクロロシランなどの塩化シランと化学量論上当量のオ
キシム化合物、例えばメチルエチルケトオキシムとを、
反応時に副生する塩酸の受容体としての化学量論上当量
の有機塩基、例えばピリジンの存在下に反応させること
によって行なわれている(特公昭39−29837号公
報参照)。
2. Description of the Related Art Conventionally, oxime silane has been produced by mixing a chlorosilane such as methyltrichlorosilane with a stoichiometrically equivalent amount of an oxime compound, such as methylethylketoxime.
It is carried out by reacting in the presence of a stoichiometrically equivalent amount of an organic base, such as pyridine, as a receptor for hydrochloric acid produced as a by-product during the reaction (see Japanese Patent Publication No. 39-29837).

【0003】また、このオキシムシランの製造について
は、塩化シランと化学量論的に2倍当量のオキシム化合
物と反応させることも知られており(特公平1−218
34号公報参照)、この場合には過剰のオキシム化合物
が反応時に副生する塩酸の受容体として作動するものと
されている。
Further, in the production of this oxime silane, it is also known to react silane chloride with a stoichiometrically double equivalent of the oxime compound (Japanese Patent Publication No. 1-218).
No. 34), in this case, the excess oxime compound acts as an acceptor of hydrochloric acid produced as a by-product during the reaction.

【0004】さらにこのオキシムシランの製造について
は、塩化シランと化学量論上当量のオキシム化合物とを
反応させる際に、塩酸の受容体としてのアンモニアを化
学量論的に1.04〜1.46倍量吹き込んでオキシム
シランを連続的に製造する方法も提案されている(特開
昭63−227592号公報参照)。
Further, regarding the production of this oxime silane, when reacting a silane chloride with a stoichiometrically equivalent amount of an oxime compound, ammonia as a receiver of hydrochloric acid is stoichiometrically 1.04 to 1.46. A method of continuously producing oxime silane by blowing a double amount has also been proposed (see JP-A-63-227592).

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかし、塩化シランと
オキシム化合物を反応させる場合に副生する塩酸をピリ
ジンなどの有機塩基で受容すると、生成物をこの有機塩
基塩酸塩から蒸留分離する際に時々爆発を伴なう危険性
がある。この塩酸を過剰のオキシム化合物で受容する方
法には爆発性のあるオキシム塩酸塩が生成するし、オキ
シム化合物が高価なものであるためにオキシム塩酸塩か
らオキシム化合物を回収精製する設備が必要とされると
いう欠点があり、さらにこの塩酸をアンモニアで受容す
る方法については沸点が60℃以下の非引火性のペルク
ロルフッ素化アルカン類特にトリクロロトリフルオロエ
タン類、より詳細には1,1,2−トリクロル−1,
2,2−トルフルオロエタンなどの塩素系溶剤を使用す
る必要があるために、工業的には塩素系溶剤の使用規制
があり、その使用が難しいという問題点があるし、これ
らの方法はいずれもその収率が低いという不利がある。
However, when hydrochloric acid produced as a by-product in the reaction of silane chloride and an oxime compound is accepted by an organic base such as pyridine, the product is sometimes separated from this organic base hydrochloride by distillation. Risk of explosion. The method of receiving this hydrochloric acid with an excess of oxime compound produces an explosive oxime hydrochloride, and since the oxime compound is expensive, a facility for recovering and purifying the oxime compound from the oxime hydrochloride is required. Further, regarding the method of receiving hydrochloric acid with ammonia, the non-flammable perchlorinated fluorinated alkanes having a boiling point of 60 ° C. or less, especially trichlorotrifluoroethanes, more specifically 1,1,2- Trichlor-1,
Since it is necessary to use a chlorine-based solvent such as 2,2-tolufluoroethane, there are industrial restrictions on the use of the chlorine-based solvent, and there is a problem that its use is difficult. However, there is a disadvantage that the yield is low.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明はこのような不
利,欠点を解決したオキシムシランの連続製造方法に関
するもので、これは一般式R1 4-nSiXn (ここにR1
は非置換または置換の1価炭化水素基、Xはハロゲン原
子、nは1〜4の整数)で示されるハロゲン化シラン
と、このハロゲン化シラン1モルに対し1.55n〜
2.10nモル量のアンモニア及びこのハロゲン化シラ
ンに対し1〜20倍重量の有機溶剤を第1反応器の下方
に連続的にかつ同時に注入し、(b)第1反応器上方よ
り連続的に流出する反応物を第2反応器に送ると同時
に、ハロゲン化シラン1モルに対し1.0n〜1.1n
モル量の一般式R23 C=N−OH(ここにR2 ,R
3 は水素原子あるいは非置換または置換の1価炭化水素
基)で示されるオキシム化合物を第2反応器に連続的に
注入し、(c)連続的に第2反応器下方より流出する反
応生成物をスラリ−タンクにおくり、(d)反応生成物
より副生したNH4 Xの沈殿物を除去すると共に有機液
相を蒸留して、オキシムシランを回収することを特徴と
するものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention relates to a method for continuously producing oxime silane which solves the above disadvantages and drawbacks, which is represented by the general formula R 1 4-n SiX n (where R 1
Is an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group, X is a halogen atom, n is an integer of 1 to 4), and 1.55n to 1 mol of the halogenated silane.
2. 10 nmole of ammonia and 1 to 20 times by weight of organic solvent are continuously and simultaneously injected into the lower part of the first reactor with respect to the halogenated silane, and (b) continuously from the upper part of the first reactor. At the same time when the reactant flowing out was sent to the second reactor, 1.0n to 1.1n was added to 1 mol of the halogenated silane.
A molar amount of the general formula R 2 R 3 C = N-OH (where R 2 , R
3 is a hydrogen atom or an oxime compound represented by an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group) is continuously injected into the second reactor, and (c) is a reaction product continuously flowing out from the lower part of the second reactor. Is placed in a slurry tank, (d) NH 4 X precipitate produced as a by-product from the reaction product is removed, and the organic liquid phase is distilled to recover oxime silane.

【0007】すなわち、本発明者らはオキシムシランを
爆発の危険性なしに、安全に、かつ高収率で得る方法に
ついて種々検討した結果、これについては、始発剤とし
て安価なメチルトリクロロシランなどのハロゲン化シラ
ンを使用し、これをすぐにオキシム化合物と反応させ
ず、このハロゲン化シランをアンモニアと連続的に反応
させたのち、別の反応器で、この反応物をオキシム化合
物と連続的に反応させれば、容易にしかも何の危険性も
なく着色のないオキシムシランを得ることができるし、
収率も85%以上の高いものとすることができることを
見出し、この反応方法などについての研究を進めて本発
明を完成させた。以下にこれをさらに詳述する。
That is, the present inventors have conducted various studies on a method for obtaining oxime silane safely and in a high yield without danger of explosion. A halogenated silane is used, which is not immediately reacted with the oxime compound, but the halogenated silane is continuously reacted with ammonia, and then the reaction product is continuously reacted with the oxime compound in another reactor. By doing so, it is possible to easily obtain oxime silane without coloring without any danger,
It was found that the yield can be as high as 85% or more, and the present invention was completed by conducting research on this reaction method and the like. This will be described in more detail below.

【0008】[0008]

【作用】本発明はオキシムシランの連続的製造方法に関
するものであり、これはハロゲン化シランを有機溶剤下
でアンモニアと連続的に反応させ、別の反応器でこの反
応物をオキシム化合物と連続的に反応させてオキシムシ
ランを製造するものである。
The present invention relates to a continuous method for producing oxime silane, which comprises continuously reacting a halogenated silane with ammonia in an organic solvent and continuously reacting the reaction product with an oxime compound in another reactor. To produce oxime silane.

【0009】本発明の方法で始発材とされるハロゲン化
シランは一般式R1 4-nSiXn で示され、R1 はメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのアルキル
基、シクロヘキシル基などのシクロアルキル基、ビニル
基、アリル基、ブテニル基などのアルケニル基、フェニ
ル基、トリル基などのアリール基、またはこれらの基の
炭素原子に結合した水素原子の一部または全部をハロゲ
ン原子などで置換したクロロメチル基、トリフルオロプ
ロピル基などから選択される非置換または置換の1価炭
化水素、Xは塩素、フッ素などのハロゲン原子、nは1
〜4の整数とされるもので、これにはテトラクロルシラ
ン、トリメチルクロルシラン、ジメチルジクロルシラ
ン、メチルトリクロルシラン、メチルエチルジクロルシ
ラン、エチルトリクロルシラン、ジエチルジクロルシラ
ン、トリエチルクロルシラン、n−プロピルトリクロル
シラン、イソプロピルトリクロルシラン、2−クロル−
エチルトリクロルシラン、3−クロルプロピルトリクロ
ルシラン、トリエチルクロルシラン、ビニルトリクロル
シラン、ビニルメチルジクロルシラン、プロペニルトリ
クロルシラン、アリルトリクロルシラン、フェニルトリ
クロルシラン及びベンジルトリクロルシランなどが例示
されるが、好ましくはR1 がメチル基、エチル基、ビニ
ル基であるトリクロル化合物とすることがよい。
The halogenated silane used as the starting material in the method of the present invention is represented by the general formula R 1 4-n SiX n , where R 1 is an alkyl group such as methyl group, ethyl group, propyl group or butyl group, cyclohexyl. Groups such as cycloalkyl groups, vinyl groups, allyl groups, alkenyl groups such as butenyl groups, phenyl groups, aryl groups such as tolyl groups, or some or all of the hydrogen atoms bonded to the carbon atoms of these groups are halogen atoms. An unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon selected from a chloromethyl group and a trifluoropropyl group substituted with, etc., X is a halogen atom such as chlorine and fluorine, and n is 1
Is an integer from 4 to 4, including tetrachlorosilane, trimethylchlorosilane, dimethyldichlorosilane, methyltrichlorosilane, methylethyldichlorosilane, ethyltrichlorosilane, diethyldichlorosilane, triethylchlorosilane, n. -Propyltrichlorosilane, isopropyltrichlorosilane, 2-chloro-
Examples thereof include ethyltrichlorosilane, 3-chloropropyltrichlorosilane, triethylchlorosilane, vinyltrichlorosilane, vinylmethyldichlorosilane, propenyltrichlorosilane, allyltrichlorosilane, phenyltrichlorosilane, and benzyltrichlorosilane, but preferably R A trichloro compound in which 1 is a methyl group, an ethyl group, or a vinyl group is preferable.

【0010】このハロゲン化シランは有機溶剤下でアン
モニアガスと反応させるとSi−XがSi−NH2 また
はSi−NH−Siに置換される(第1反応)。またN
4Xも同時に副生する。ここに使用されるアンモニア
の量は、ハロゲン化シラン1モルに対し1.55nモル
未満では未反応となり易く、2.10nより多くすると
大過剰となるので、1.55n〜2.10nモルの範囲
とすることがよく、より好ましくは1.60n〜1.9
5nモルとされる。なお、後記の第2反応で発生したア
ンモニアガスを第1反応で使用される有機溶剤に前もっ
て吸収させておくことにより、アンモニアガスの量をハ
ロゲン化シラン1モルに対し1.10n〜1.45nモ
ル量にすることができる。
When this halogenated silane is reacted with ammonia gas in an organic solvent, Si-X is replaced with Si-NH 2 or Si-NH-Si (first reaction). Also N
H 4 X is also a byproduct at the same time. If the amount of ammonia used here is less than 1.55 nmol to 1 mol of halogenated silane, unreacted tends to occur, and if it exceeds 2.10 n, it becomes a large excess, so the range of 1.55 n to 2.10 nmol. And is more preferably 1.60n to 1.9.
It is set to 5 nmol. In addition, the amount of ammonia gas is 1.10 n to 1.45 n based on 1 mol of the halogenated silane by previously absorbing the ammonia gas generated in the second reaction in the organic solvent used in the first reaction. It can be a molar amount.

【0011】また、この第1反応では反応混合物の粘度
を低下させ、反応性を向上させるため及び後記するオキ
シム化合物との反応後におけるハロゲン化アンモニウム
塩とオキシムシランとの分離を容易にするために、トル
エン、ヘキサン、石油エーテルなどのような有機溶剤の
存在下で行う。この配合量はハロゲン化シランに対し1
〜20倍重量、好ましくは2〜10倍重量とすることが
よい。
In the first reaction, in order to reduce the viscosity of the reaction mixture to improve the reactivity and to facilitate the separation of the ammonium halide salt and the oxime silane after the reaction with the oxime compound, which will be described later. , In the presence of organic solvents such as toluene, hexane, petroleum ether, etc. This compounding amount is 1 with respect to halogenated silane.
It is good that the weight is 20 to 20 times, preferably 2 to 10 times.

【0012】この第1反応における反応温度は限界的で
はなく、室温またはそれ以下の温度でも進行し、温度の
上昇と共に反応速度は増大するが、着色体の形成も若干
増加するので、この温度は0〜100℃、好ましくは2
5〜70℃とされる。なお、この第1反応は発熱反応で
あるため、第1反応器は、撹拌機を装着した縦型のもの
でジャケットなどによる冷却構造をもったものとするこ
とがよい。第1反応の滞留時間は、30秒〜10分、好
ましくは1〜5分の範囲とすればよい。
The reaction temperature in the first reaction is not critical, and the reaction proceeds even at room temperature or lower, and the reaction rate increases with an increase in temperature, but the colorant formation also slightly increases. 0 to 100 ° C, preferably 2
It is set to 5 to 70 ° C. Since the first reaction is an exothermic reaction, it is preferable that the first reactor is a vertical type equipped with a stirrer and has a cooling structure such as a jacket. The residence time of the first reaction may be in the range of 30 seconds to 10 minutes, preferably 1 to 5 minutes.

【0013】この第1反応で得られた反応物はオキシム
化合物との反応によりオキシムシランとなるのである
が、ここに使用されるオキシム化合物は一般式R23
C=N−OHで示され、このR2 ,R3 が水素原子ある
いは前記したR1 と同じ非置換または置換1価炭化水素
基であるものとされるが、この炭化水素基としては特に
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル
基、ヘキシル基、ビニル基、ブテニル基、シクロペンチ
ル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基、3−メチ
ル−1−シクロヘキシル基、シクロペンテニル基、フェ
ニル基、トリル基などが例示される。
The reaction product obtained in the first reaction is converted into an oxime silane by the reaction with the oxime compound. The oxime compound used here has the general formula R 2 R 3
C = N-OH, and R 2 and R 3 are hydrogen atoms or the same unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group as R 1 described above, and the hydrocarbon group is particularly methyl. Group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, vinyl group, butenyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cyclooctyl group, 3-methyl-1-cyclohexyl group, cyclopentenyl group, phenyl group, tolyl group Examples include groups.

【0014】このオキシム化合物としては4−メチルシ
クロヘキサノンオキシム、4−塩化シクロヘキサノンオ
キシム、アセトフェノンオキシム、ベンゾフェノンオキ
シム、ベンジルエチルケトンオキシム、シクロヘキシル
メチルケトンオキシム及びベンズアルデヒドオキシムが
例示されるが、好ましいオキシム化合物としてはホルム
アルデヒドオキシム、アセトアルデヒドオキシム、アセ
トンオキシム、メチルエチルケトンオキシム、ジエチル
ケトンオキシム及びシクロヘキサノンオキシムが挙げら
れ、さらに好ましいものとしてはメチルエチルケトンオ
キシム、アセトンオキシムが挙げられるが、このメチル
エチルケトンオキシムはシリコ−ン重合物の常温加硫剤
として用いられるオキシムシラン化合物に使用されるた
めに最も好適とされる。
Examples of the oxime compound include 4-methylcyclohexanone oxime, 4-chlorocyclohexanone oxime, acetophenone oxime, benzophenone oxime, benzylethylketone oxime, cyclohexylmethylketone oxime and benzaldehyde oxime. Preferred oxime compounds are formaldehyde. Examples thereof include oximes, acetaldehyde oximes, acetone oximes, methyl ethyl ketone oximes, diethyl ketone oximes, and cyclohexanone oximes, and more preferable examples include methyl ethyl ketone oximes and acetone oximes. The methyl ethyl ketone oximes are room temperature vulcanizing agents for silicone polymers. Most suitable for use in oxime silane compounds used as That.

【0015】この第1反応で得られた反応物とオキシム
化合物とを反応させると、Si−N=がSi−(ON=
CR23 )に置換されて、オキシムシランとなり、こ
の時アンモニアガスが発生する(第2反応)。ここに使
用されるオキシム化合物の量はハロゲン化シラン1モル
に対して1.0n〜1.1nモル倍の範囲、好ましくは
1.01n〜1.06nモル倍の範囲とすればよい。こ
のオキシム化合物の添加は、第2反応器の中に液中滴下
すればよい。
When the reaction product obtained in the first reaction is reacted with an oxime compound, Si-N = becomes Si- (ON =
It is replaced with CR 2 R 3 ) to become oxime silane, and ammonia gas is generated at this time (second reaction). The amount of the oxime compound used here may be in the range of 1.0n to 1.1n mole times, preferably in the range of 1.01n to 1.06n mole times, per mole of the halogenated silane. The addition of the oxime compound may be carried out by dropping in the liquid in the second reactor.

【0016】第2反応器中で発生するアンモニアは、第
1反応で反応されなかった微量の未反応ハロゲン化物S
i−Xのハロゲンの補足として用いられ、オキシムハロ
ゲン酸塩の生成を防止すると共に、Si−Xに起因する
着色の防止を行う。第2反応器より系外に発生するアン
モニアガスは、第1反応器に入る前の有機溶剤に吸収さ
せて回収することが好ましい。
Ammonia generated in the second reactor is a small amount of unreacted halide S which has not been reacted in the first reaction.
It is used as a complement to the halogen of i-X and prevents the formation of oxime halogenate and also prevents the coloration due to Si-X. Ammonia gas generated outside the system from the second reactor is preferably collected by being absorbed by the organic solvent before entering the first reactor.

【0017】この反応温度は限界的ではなく、これは室
温またはそれ以下でも進行するが、温度の上昇と共に反
応速度が増大するし、着色体の形成も若干増加するの
で、0〜100℃の範囲とすればよいが、好ましくは2
5〜75℃の範囲とすればよい。この反応は前記した第
1反応と違って殆んど発熱しないので、特に冷却する必
要はないが、この反応における反応時間(回分法の場
合)および滞留時間(連続法の場合)は一般に5分間〜
60分間、好ましくは10分〜40分間とすればよく、
これはオキシム化合物、溶剤の種類および量、温度など
により実験的に定めればよい。
This reaction temperature is not critical, and it proceeds at room temperature or lower, but the reaction rate increases with increasing temperature, and the formation of colored bodies also slightly increases, so that it is in the range of 0 to 100 ° C. However, preferably 2
The temperature may be in the range of 5 to 75 ° C. Unlike the first reaction described above, this reaction hardly generates heat, so that it is not particularly necessary to cool it. However, the reaction time (in the case of batch method) and the residence time (in the case of continuous method) in this reaction are generally 5 minutes. ~
60 minutes, preferably 10 to 40 minutes,
This may be determined experimentally depending on the type and amount of oxime compound, solvent, temperature and the like.

【0018】第1反応物とオキシム化合物との反応(第
2反応)により、オキシムシランが生成するが、この第
2反応物中に、NH4 Xで示されるハロゲン化アンモニ
ウムが沈殿物として副生されているので、このものは第
2反応物から濾過して分離する必要がある。濾過時、収
率を増加させるために有機溶剤によりケ−キ洗浄するこ
ともできる。また、この濾過後の液相は有機溶剤を含有
しているので、蒸留により有機溶剤を分離する必要があ
るが、オキシムシランは100℃以上に加熱されると着
色が著しくなるので、減圧下、90℃以下で分離するこ
とが好ましい。
Oxime silane is produced by the reaction between the first reaction product and the oxime compound (second reaction). In this second reaction product, ammonium halide represented by NH 4 X is produced as a by-product as a precipitate. As such, it must be separated from the second reactant by filtration. During filtration, it may be washed with an organic solvent to increase the yield. Further, since the liquid phase after this filtration contains an organic solvent, it is necessary to separate the organic solvent by distillation, but since oxime silane becomes markedly colored when heated to 100 ° C. or higher, under reduced pressure, It is preferable to separate at 90 ° C or lower.

【0019】本発明の方法によるオキシムシランの製造
は、例えば、ハロゲン化シランとこのハロゲン化シラン
1モルに対し1.55n〜2.10nモル量のアンモニ
アおよびハロゲン化シランに対し1〜20倍重量の有機
溶剤とを第1反応器の下方に連続的に、かつ同時に注入
し反応させ、第1反応器上方よりこの第1反応物を第2
反応器に入れ、オキシム化合物をハロゲン化シラン1モ
ルに対し1.0n〜1.1nモル量を連続添加し反応さ
せてオキシムシランとしたのち、副生したNH4 Xをろ
別し、この液相を蒸留するという方法で行えばよい。
The production of oxime silane by the method of the present invention is carried out, for example, by using a halogenated silane and 1 mol of this halogenated silane in an amount of 1.55 n to 2.10 nmole of ammonia and 1 to 20 times the weight of the halogenated silane. Is continuously and simultaneously injected into the lower part of the first reactor to react with each other, and the first reaction product is added to the second reactor from above the first reactor.
Into a reactor, an oxime compound was continuously added in an amount of 1.0 n to 1.1 nmole to 1 mol of a halogenated silane to cause reaction to form an oxime silane, and then NH 4 X produced as a by-product was filtered off. The phase may be distilled.

【0020】つぎにこれを添付の図面にもとづいて説明
する。図1は本発明によるオキシムシラン製造装置の好
ましい実施態様を示したものであるが、図における第1
反応器1は撹拌器を備えており、冷却のためのジヤケッ
トをそなえている。この第1反応器1にはメチルトリク
ロロシランなどのハロゲン化シランが反応器下部の流路
2より注入され、このシランに対し2〜10倍重量のト
ルエン、ヘキサンなどの有機溶剤が反応器下部の流路3
から流入され、これにハロゲン化シラン1モルに対し
1.55n〜2.10nモル量のアンモニアガスが反応
器下部の流路4から注入される。後記の反応器2より流
出するアンモニアガスを反応器1に入る前の有機溶剤に
吸収させる場合は、ハロゲン化シラン1モルに対し1.
10n〜1.15nモル量のアンモニアガスを注入すれ
ばよい。
Next, this will be described with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 shows a preferred embodiment of the oxime silane production apparatus according to the present invention.
The reactor 1 is equipped with a stirrer and has a jacket for cooling. Halogenated silane such as methyltrichlorosilane is injected into the first reactor 1 through a channel 2 in the lower part of the reactor, and an organic solvent such as toluene and hexane having a weight of 2 to 10 times is added to the lower part of the reactor. Channel 3
1.55 n to 2.10 nmole of ammonia gas per 1 mole of halogenated silane is injected from the channel 4 at the bottom of the reactor. When the ammonia gas flowing out from the reactor 2 to be described later is absorbed by the organic solvent before entering the reactor 1, it is 1.
It is sufficient to inject 10 n to 1.15 nmole of ammonia gas.

【0021】この反応は連続的に行なわれ、この滞留時
間は1〜5分間とされるが、発生した反応熱は反応器の
間接冷却で冷却され、反応温度は25〜75℃とされ
る。この反応で生成された第1反応物は、反応器上部か
ら流路6を経て第2反応器5に連続的に送られる。
The reaction is carried out continuously, the residence time is set to 1 to 5 minutes, the generated heat of reaction is cooled by indirect cooling of the reactor, and the reaction temperature is set to 25 to 75 ° C. The first reactant produced by this reaction is continuously sent from the upper part of the reactor to the second reactor 5 through the flow path 6.

【0022】第2反応器5に送られた第1反応物に、オ
キシム化合物が添加され、これらの反応でオキシムシラ
ンが合成されるのであるが、オキシム化合物はハロゲン
化シラン1モルに対し1.0n〜1.1nモル量を流路
7から連続的に添加すればよい。流路8より系外に流出
するアンモニアガスを反応器1に注入される前の有機溶
剤に吸収させることができる。
An oxime compound is added to the first reaction product sent to the second reactor 5, and oxime silane is synthesized by these reactions. The oxime compound is 1. It suffices to continuously add a molar amount of 0 n to 1.1 n from the channel 7. Ammonia gas flowing out of the system through the flow path 8 can be absorbed by the organic solvent before being injected into the reactor 1.

【0023】この反応は反応温度25〜75℃で、滞在
時間5〜60分好ましくは10〜40分で行えばよい。
第2反応物は、反応器下部の流路10より連続的にスラ
リ−タンク9に送られ、そこから流路12を経て、ろ過
器11に送られる。ろ過器11で副生ハロゲン化アンモ
ニウムを第2反応物より分離する。なお、流路13は必
要に応じ添加されるケ−キ洗浄用の溶剤流路である。
This reaction may be carried out at a reaction temperature of 25 to 75 ° C. and a residence time of 5 to 60 minutes, preferably 10 to 40 minutes.
The second reaction product is continuously sent to the slurry tank 9 from the flow path 10 at the lower part of the reactor, and then sent to the filter 11 via the flow path 12. By-product ammonium halide is separated from the second reactant by the filter 11. The channel 13 is a solvent channel for cleaning the cake, which is added as necessary.

【0024】このろ過器11で分離された固体状のハロ
ゲン化アンモニウムは流路14から除去され、流体は流
路16を経てタンク17に送られた後、ストリッパ−1
8で蒸留される。蒸留後オキシムシランは流路19から
精製物として取得され、溶剤及びオキシム化合物を含む
蒸気流は流路20から回収される。
The solid ammonium halide separated by the filter 11 is removed from the flow path 14, the fluid is sent to the tank 17 through the flow path 16, and then the stripper-1.
It is distilled at 8. After distillation, the oxime silane is obtained as a purified product from the flow path 19, and the vapor stream containing the solvent and the oxime compound is recovered from the flow path 20.

【0025】[0025]

【実施例】次に本発明の実施例を上げる。 実施例1 ビニルトリス(メチルエチルケトオキシム)
シランの製造 180rpmで回転するテフロン製の撹拌機を装着し
た、内径80mm、長さ110mmで、冷却水で外側を
冷却できるようにした二重管構造の縦型円柱状反応器1
に、ビニルトリクロロシランを934g/時で反応器下
方の流路2より注入すると共に、トルエンを5,887
g/時(シランに対し6.3倍重量)で反応器下方の流
路3から注入、およびアンモニアガスを700NL/時
(シラン1モルに対し1.8×3モル)で反応器下方の
流路4より注入し、60〜75℃で滞留時間4分で反応
させた。
EXAMPLES Next, examples of the present invention will be described. Example 1 Vinyl tris (methyl ethyl ketoxime)
Production of silane A vertical columnar reactor 1 having a double tube structure equipped with a Teflon stirrer rotating at 180 rpm and having an inner diameter of 80 mm and a length of 110 mm and capable of cooling the outside with cooling water 1.
At the same time, vinyltrichlorosilane was injected at a rate of 934 g / hour from the flow path 2 below the reactor, and toluene was added at a rate of 5,887.
g / hour (6.3 times the weight of silane) was injected from the flow path 3 below the reactor, and ammonia gas flowed at 700 NL / hour (1.8 × 3 moles per mole of silane) below the reactor. It was injected through the line 4 and reacted at 60 to 75 ° C. for a residence time of 4 minutes.

【0026】ついで、反応生成物を流路6から容積10
Lのテフロン製反応機付反応器5に流下させると同時
に、メチルエチルケトオキシムを1,555g/時で
(シラン1モルに対し1.03×3モル)流路7から注
入し、温度60〜65℃、滞留時間40分で流路10よ
りスラリ−タンク9に移送した。5時間後反応を中止
し、スラリ−タンク9内の反応物を流路12より加圧ろ
過器11に送り塩化アンモニウムを除去し、液相を流路
16よりタンク15に送った。得られたケ−キはトルエ
ンで洗浄後流路14より排出し、液はタンク15に送っ
た。液相を流路17からストリッパ−18に移し、75
〜85℃、30mmHg以下で2時間蒸留した。ストリ
ッパ−内に残った液をガスクロマトグラフィ−で分析し
たところ、このものは純度95.1%のビニルトリス
(メチルエチルケトオキシム)シランであることが確認
され、ビニルトリクロロシランに対する収率は93%で
あった。
Then, the reaction product is discharged from the channel 6 to a volume of 10
At the same time as it was made to flow down into the reactor 5 made of Teflon made of L, at the same time, methyl ethyl ketoxime was injected at a rate of 1,555 g / hour (1.03 × 3 mol per mol of silane) from the flow path 7, and the temperature was 60 to 65 ° C. Then, it was transferred from the flow path 10 to the slurry tank 9 with a residence time of 40 minutes. After 5 hours, the reaction was stopped, the reaction product in the slurry tank 9 was sent to the pressure filter 11 through the channel 12 to remove ammonium chloride, and the liquid phase was sent to the tank 15 through the channel 16. The cake thus obtained was washed with toluene and discharged from the flow path 14, and the liquid was sent to the tank 15. Transfer the liquid phase from channel 17 to stripper-18,
Distilled at ˜85 ° C. and below 30 mmHg for 2 hours. When the liquid remaining in the stripper was analyzed by gas chromatography, it was confirmed to be vinyltris (methylethylketoxime) silane having a purity of 95.1%, and the yield based on vinyltrichlorosilane was 93%. ..

【0027】実施例2 実施例1におけると同様な実験を反復したが、ただし供
給速度は、 ビニルトリクロロシラン 1,870g/時 トルエン 9,350g/時(シラン
に対し5.0倍重量) アンモニア(反応器1) 1,268NL/時(シラ
ン1モルに対し1.63×3モル) メチルエチルケトオキシム 3,173g/時(シラン
1モルに対し1.05×3モル) 滞留時間(反応器1)= 2.4分 滞留時間(反応器2)= 20 分 としたところ、ビニルトリクロロシランに対する、ビニ
ルトリス(メチルエチルケトオキシム)シランの収率は
91%であった。
Example 2 The same experiment as in Example 1 was repeated, except that the feed rate was vinyltrichlorosilane 1,870 g / hr toluene 9,350 g / hr (5.0 times the weight of the silane) ammonia ( Reactor 1) 1,268 NL / hour (1.63 × 3 moles per mole of silane) Methyl ethyl ketoxime 3,173 g / hour (1.05 × 3 moles per mole of silane) Residence time (reactor 1) = 2.4 minutes When the residence time (reactor 2) was set to 20 minutes, the yield of vinyltris (methylethylketoxime) silane was 91% based on vinyltrichlorosilane.

【0028】実施例3 メチルトリス(メチルエチルケ
トオキシム)シランの製造 実施例1に記したのと同じ方法および装置を用いて行っ
たが、ビニルトリクロロシランの代わりにメチルトリク
ロロシランを用い、その供給速度は、 メチルトリクロロシラン 1,313g/時 トルエン 6,171g/時(シラン
に対し4.7倍重量) アンモニア(反応器1) 1,091NL/時(シラ
ン1モルに対し1.85×3モル) メチルエチルケトオキシム 2,337g/時(シラ
ン1モルに対し1.02×3モル) 滞留時間(反応器1)は3.6分 滞留時間(反応器2)は34分としたところ、メチルト
リクロロシランに対するメチルトリス(メチルエチルケ
トオキシム)シランの収率は9.4%であった。
Example 3 Manufacture of Methyltris (methylethylketoxime) silane It was carried out using the same method and apparatus as described in Example 1, except that methyltrichlorosilane was used instead of vinyltrichlorosilane and the feed rate was Methyltrichlorosilane 1,313 g / hour Toluene 6,171 g / hour (4.7 times the weight of silane) Ammonia (reactor 1) 1,091 NL / hour (1.85 × 3 moles to 1 mole of silane) Methylethylketoxime 2,337 g / hour (1.02 × 3 mol for 1 mol of silane) Residence time (reactor 1) was 3.6 minutes Residence time (reactor 2) was 34 minutes, methyltrichlorosilane to methyltrichlorosilane ( The yield of methylethylketoxime) silane was 9.4%.

【0029】[0029]

【発明の効果】本発明はオキシムシランの製造方法に関
するもので、これは前記したようにハロゲン化シランを
有機溶剤下アンモニアと反応させ、別の反応器でこの反
応物をオキシム化合物と反応させてオキシムシランを製
造するというものであるが、この場合爆発性のオキシム
ハロゲン酸塩は発生しないので、容易にかつ安全にオキ
シムシランを得ることができるし、これによれば目的と
するオキシムシランを85%以上の高い収率で得ること
ができるという有利性が与えられる。
The present invention relates to a method for producing oxime silane, which comprises reacting a halogenated silane with ammonia in an organic solvent as described above, and reacting the reaction product with an oxime compound in a separate reactor. This is to produce oxime silane. In this case, an explosive oxime halogenate is not generated, so that the oxime silane can be easily and safely obtained. The advantage is given that it can be obtained in high yields above%.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明によってオキシムシランを製造するため
の製造フローシートを示したものである。
FIG. 1 shows a production flow sheet for producing oxime silane according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 第1反応器 2、3、4、6、7、8、10、12、13、14、1
6、17、19、20 流路 4 第2反応機 9 スラリ−タンク 11 ろ過器 17 タンク 18 ストリッパ−
1 First reactor 2, 3, 4, 6, 7, 8, 10, 12, 13, 14, 1
6, 17, 19, 20 Flow path 4 Second reactor 9 Slurry tank 11 Filter 17 Tank 18 Stripper

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小棚 伸彦 群馬県安中市磯部2丁目13番1号 信越化 学工業株式会社磯部工場内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Nobuhiko Kotana 2-13-1, Isobe, Annaka-shi, Gunma Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Isobe factory

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】(a)一般式R1 4-nSiXn (ここにR1
は非置換または置換の1価炭化水素基、Xはハロゲン原
子、nは1〜4の整数)で示されるハロゲン化シラン
と、このハロゲン化シラン1モルに対し、1.55n〜
2.1nモル量のアンモニア及びこのハロゲン化シラン
に対し1〜20倍重量の有機溶剤を第1反応器の下方に
連続的にかつ同時に注入し、(b)第1反応器上方より
連続的に流出する反応物を第2反応器に送ると同時に、
ハロゲン化シラン1モルに対し1.0n〜1.1nモル
量の一般式R23 C=N−OH(ここにR2 ,R3
水素原子あるいは非置換または置換の1価炭化水素基)
で示されるオキシム化合物を第2反応器に連続的に注入
し、(c)連続的に第2反応器下方より流出する反応生
成物をスラリ−タンクにおくり、(d)反応生成物より
副生したNH4 Xの沈殿物を除去すると共に有機液相を
蒸留して、そこから一般式R1 4-nSi(ON=CR2
3n 示されるオキシムシランを回収することを特徴と
するオキシムシランの連続製造方法。
(A) The general formula R 1 4-n SiX n (where R 1
Is an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group, X is a halogen atom, and n is an integer of 1 to 4), and 1.55n to 1 mol of this halogenated silane is used.
2.1 nmol of ammonia and 1 to 20 times by weight of an organic solvent with respect to this halogenated silane are continuously and simultaneously injected below the first reactor, and (b) continuously from above the first reactor. At the same time as sending outflowing reactants to the second reactor,
Formula 1.0n~1.1n molar amount with respect to the halogenated silane 1 mole R 2 R 3 C = N- OH ( wherein in R 2, R 3 is a hydrogen atom or an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group )
The oxime compound represented by is continuously injected into the second reactor, (c) the reaction product continuously flowing out from the lower part of the second reactor is placed in a slurry tank, and (d) a by-product from the reaction product. The precipitated NH 4 X was removed and the organic liquid phase was distilled, from which the general formula R 1 4-n Si (ON = CR 2 R
3 ) A method for continuously producing oxime silane, which comprises recovering the oxime silane represented by n .
【請求項2】工程(b)の第2反応器から流出するアン
モニアを第1反応器に入る前の有機溶剤に吸収させ、か
つ工程(a)の第1反応器に注入するアンモニアガスの
量をハロゲン化シラン1モルに対し1.10n〜1.4
5nモル量とする請求項1に記載のオキシムシランの連
続製造方法。
2. Amount of ammonia gas to be absorbed into the organic solvent before entering the first reactor and to be injected into the first reactor of step (a), while ammonia flowing out from the second reactor of step (b) is absorbed. 1.10n to 1.4 per mol of halogenated silane
The method for continuously producing oxime silane according to claim 1, wherein the amount is 5 nmole.
【請求項3】工程(d)で回収した溶剤を第1反応器に
循環させる請求項1または2に記載のオキシムシランの
連続製造方法。
3. The continuous method for producing oxime silane according to claim 1, wherein the solvent recovered in step (d) is circulated in the first reactor.
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