JPH0525347U - Sample microwave processing device - Google Patents
Sample microwave processing deviceInfo
- Publication number
- JPH0525347U JPH0525347U JP2068191U JP2068191U JPH0525347U JP H0525347 U JPH0525347 U JP H0525347U JP 2068191 U JP2068191 U JP 2068191U JP 2068191 U JP2068191 U JP 2068191U JP H0525347 U JPH0525347 U JP H0525347U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- microwave
- cell
- processing chamber
- reflection plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
[目的] 試料を載せる保持台を回転させずに、試料を
定置したまま、それへマイクロ波を均一な強度で照射す
る。
[構成] シールドケース10の中に処理室11が形成
され、その側方にマグネトロン等のマイクロ波発生器4
が配置され、そのマイクロ波放出口6が処理室11の天
面に下方へ向けて配置ている。前記処理室11の底面に
は、表面に凹凸状の反射面13aを有する反射板13が
回転自在に支持されている。この反射板13には、ベル
ト14を介してモータ15に取り付けられたプーリ16
が連結され、前記モータ15の駆動により回転する。さ
らに、反射板13の上には、前記処理室11の底面から
立設された支柱7により、試料aを収納したセル1を保
持するためのセル保持部3が設置されている。反射板1
3の反射面13aからセル保持部3の高さは、10〜3
0mmが適当である。
(57) [Summary] (Modified) [Purpose] Irradiate the sample with a uniform intensity while the sample is held stationary without rotating the holding table. [Structure] A processing chamber 11 is formed in a shield case 10, and a microwave generator 4 such as a magnetron is provided on the side thereof.
Is disposed, and the microwave emission port 6 is disposed downward on the top surface of the processing chamber 11. A reflection plate 13 having an uneven reflection surface 13a on its surface is rotatably supported on the bottom surface of the processing chamber 11. A pulley 16 attached to a motor 15 via a belt 14 is attached to the reflection plate 13.
Are connected and rotated by the drive of the motor 15. Further, on the reflection plate 13, a cell holding portion 3 for holding the cell 1 containing the sample a is installed by a column 7 standing upright from the bottom surface of the processing chamber 11. Reflector 1
The height of the cell holding portion 3 from the reflecting surface 13a of 3 is 10 to 3
0 mm is suitable.
Description
【0001】[0001]
本考案は、例えば電子顕微鏡や光学顕微鏡で観察したり、或は各種の分析をす るための試料を処理する装置に関し、さらに詳しくいうと、マイクロ波を用いて 、試料を処理する装置に関する。 The present invention relates to an apparatus for processing a sample for observing with an electron microscope or an optical microscope, or for performing various kinds of analysis, and more specifically, to an apparatus for processing a sample using a microwave.
【0002】[0002]
例えば、生体組織試料を電子顕微鏡で観察する場合、採取した試料を固定液で 固定した後、脱水し、さらに樹脂を主体とする包埋剤の中に埋没させ、その後こ の包埋処理した試料をミクロトームにより裁断して、超薄切片試料を得、これを 観察して電子顕微鏡像を得ることが行なわれている。 従来、これら試料の処理において、固定と包埋とは、各々処理剤の中に試料を 投入して長時間をかけて行なわれていた。しかし、これでは、緊急に生体組織試 料の電子顕微鏡像を得る必要のあるときに早急に対応することができない。 For example, when observing a biological tissue sample with an electron microscope, the collected sample is fixed with a fixative, dehydrated, and then embedded in a resin-based embedding medium, which is then subjected to this embedding treatment. It has been practiced to cut a sample with a microtome to obtain an ultrathin section sample and observe it to obtain an electron microscope image. Conventionally, in the processing of these samples, fixing and embedding have been carried out for a long time by putting the sample in each processing agent. However, this does not allow us to immediately respond to an urgent need to obtain an electron microscope image of a biological tissue sample.
【0003】 そこで、これらの処理時間を大幅に短縮する手段として、周波数2.45GH zのマイクロ波を用いて固定と包埋を行うことが提案され、成果をあげている。 例えば、マイクロ波を用いて生体組織試料を包埋処理する場合は、固定、乾燥 した生体組織試料を、樹脂を主体とする包埋剤の中に投入し、前記包埋剤にマイ クロ波を当てて同剤を重合、硬化させ、その中に生体組織を埋没させる。Therefore, as a means for greatly reducing the processing time, fixing and embedding using a microwave having a frequency of 2.45 GHz has been proposed and has been successful. For example, when embedding a biological tissue sample using microwaves, the fixed and dried biological tissue sample is put into an embedding medium mainly composed of a resin, and the embedding medium is subjected to microwaves. The agent is applied to polymerize and cure the agent, and the living tissue is embedded therein.
【0004】 この包埋処理において重要とされることは、包埋剤を生体組織へ十分浸透させ ることと、包埋剤の重合を完全に行なわせることであるとされている。この点を 確実になすためには、マイクロ波の照射を適正化し、包埋剤の温度を所定の温度 に制御することが需要である。 他方、マイクロ波による固定や包埋の処理を多量に行なうためには、マイクロ 波を照射する処理室の中にセルを多数収納し、これらをターンテーブル等で回転 させてマイクロ波の照射の均一化を図りながら、同時に処理することが必要とな る。It is said that what is important in this embedding treatment is to sufficiently permeate the embedding medium into the living tissue and to completely polymerize the embedding medium. To ensure this point, it is necessary to optimize the microwave irradiation and control the temperature of the embedding medium to a predetermined temperature. On the other hand, in order to carry out a large amount of fixation and embedding processing using microwaves, a large number of cells are housed in a processing chamber that irradiates microwaves, and these cells are rotated by a turntable or the like so that microwave irradiation is uniform. It is necessary to process them at the same time while trying to realize them.
【0005】[0005]
しかし、如何にターンテーブル等で回転させながらマイクロ波を照射しても、 マイクロ波発生器で発生したマイクロ波は、処理室の内壁やターンテーブル、或 はセル等に当たって反射、干渉、吸収され、処理室内で複雑な伝播をするため、 例えターンテーブル上でセルを回転しながらマイクロ波を照射しても、個々の処 理剤に照射されるマイクロ波の強度にアンバランスが生じやすい。そして、こう したマイクロ波の照射量のアンバランスは、セルの配置、処理剤の種類等、様々 な条件によって異なる。マイクロ波の照射量が個々の試料でことなると、処理が 不均一になり、処理の不良が生じやすい。 However, no matter how the microwave is radiated while rotating the turntable, the microwave generated by the microwave generator hits the inner wall of the processing chamber, the turntable, or the cell, and is reflected, interfered with, or absorbed, Because of the complicated propagation in the processing chamber, even if the microwave is irradiated while the cell is rotated on the turntable, the imbalance of the microwaves applied to the individual treatment agents is likely to occur. The imbalance of the microwave irradiation amount depends on various conditions such as the cell arrangement and the type of treatment agent. If the microwave irradiation amount is different for each sample, the treatment becomes non-uniform and the treatment is likely to be defective.
【0006】 また、試料を満たしたターンテーブルを回転させながら処理をすると、試料を 満たしたセルには、その回転に伴う振動が伝わる。このため、処理中に振動や衝 撃を与えることが不向きな試料については、この装置を使用して処理することが できなかった。 なおこれらの問題は、電子顕微鏡観察試料の包埋や固定処理に限らず、試料を マイクロ波で処理する場合全般に共通する。 本考案は、前記従来の課題を解消し、ターンテーブルを回転せずに、試料を定 置したまま、それへのマイクロ波の均一な照射が可能な試料マイクロ波処理装置 を提供することを目的とする。Further, when processing is performed while rotating the turntable filled with the sample, the vibration accompanying the rotation is transmitted to the cell filled with the sample. For this reason, it was not possible to process samples that were not suitable for vibration or impact during processing using this device. Note that these problems are not limited to the embedding and fixing treatment of the electron microscope observation sample, but are common to all cases where the sample is treated with microwaves. It is an object of the present invention to solve the above-mentioned conventional problems and to provide a sample microwave processing apparatus capable of uniformly irradiating a microwave to a sample while the sample remains stationary without rotating the turntable. And
【0007】[0007]
すなわち、前記目的を達成するため本考案において採用された手段の要旨は、 試料aを満たしたセル1を保持するセル保持部3と、前記セル保持部3に保持さ れたセル1の中の試料aにマイクロ波を照射する手段4とを有する試料マイクロ 波処理装置において、前記セル保持部3の下に配置され、凹凸状の反射面13a を有する反射板13と、この反射板13を回転させる機構と、前記反射板13に 対向するようセル保持部3の上に配置されたマイクロ波の放射口6とを備えるこ とを特徴とする試料マイクロ波処理装置である。 That is, the gist of the means adopted in the present invention to achieve the above-mentioned object is that the cell holding part 3 holding the cell 1 filled with the sample a and the cell 1 held in the cell holding part 3 are In a sample microwave processing apparatus having a means (4) for irradiating a sample a with a microwave, a reflecting plate (13) having an uneven reflecting surface (13a) arranged below the cell holding section (3) and rotating the reflecting plate (13). The sample microwave processing apparatus is characterized in that it is provided with a mechanism for making it and a microwave radiation port 6 arranged on the cell holding part 3 so as to face the reflection plate 13.
【0008】[0008]
前記本考案の試料マイクロ波処理装置によれば、セル保持部3を回転させず、 その下の反射板13を回転させるので、セル保持部3に保持された試料は定置し たままで処理が行え、それに振動や衝撃を一切与えずに済む。また、マイクロ波 の放射口6と対向する凹凸状の反射面13aを備える反射板13を回転させるこ とにより、後述する如く、セル保持部3に均一な強度でマイクロ波を照射するこ とができる。 According to the sample microwave processing apparatus of the present invention, since the cell holder 3 is not rotated but the reflection plate 13 thereunder is rotated, the sample held in the cell holder 3 can be processed while being stationary. , It does not need any vibration or shock. Further, by rotating the reflecting plate 13 having the concave-convex reflecting surface 13a facing the microwave radiation port 6, it is possible to irradiate the cell holding portion 3 with microwaves with uniform intensity, as described later. it can.
【0009】[0009]
次に、図面を参照しながら、本考案の実施例について具体的に説明する。 図1に本考案の装置全体を、図2にその要部を示す。これらの図において、シ ールドケース10の中に処理室11が形成され、その側方にマグネトロン等のマ イクロ波発生器4が配置され、そのマイクロ波放出口6が処理室11の天面に下 方へ向けて配置ている。前記処理室11の底面には垂直に軸部12が立設され、 これに反射板13が回転自在に支持されている。この反射板13には、ベルト1 4を介してモータ15に取り付けられたプーリ16が連結され、前記モータ15 の駆動により回転する。 Next, an embodiment of the present invention will be specifically described with reference to the drawings. FIG. 1 shows the entire apparatus of the present invention, and FIG. 2 shows the essential parts thereof. In these figures, a processing chamber 11 is formed in a shield case 10, a microwave generator 4 such as a magnetron is arranged on the side of the shielding case 10, and its microwave emission port 6 is located on the top surface of the processing chamber 11. It is arranged toward. A shaft 12 is vertically provided on the bottom surface of the processing chamber 11, and a reflector 13 is rotatably supported on the shaft 12. A pulley 16 attached to a motor 15 is connected to the reflection plate 13 via a belt 14 and is rotated by driving the motor 15.
【0010】 反射板13は、例えば図3及び図4に示すように、厚さ1mm程のアルミニウ ム板の上面に凹凸を形成したもので、この凹凸は、例えば対角線長さ8mm、4 mm菱形毎に高さ約0.3mm程度の頂を形成したものである。 前記反射板13の上には、前記処理室11の底面から立設された支柱7により 、試料aを収納したセル1を保持するためのセル保持部3が設置されている。反 射板13の反射面13aからセル保持部3の高さは、10〜30mmが適当であ る。As shown in FIGS. 3 and 4, for example, the reflection plate 13 is an aluminum plate having a thickness of about 1 mm, and the unevenness is formed on the upper surface of the aluminum plate. Each top has a height of about 0.3 mm. A cell holder 3 for holding the cell 1 accommodating the sample a is installed on the reflection plate 13 by a pillar 7 standing from the bottom surface of the processing chamber 11. The height of the cell holding portion 3 from the reflecting surface 13a of the reflecting plate 13 is preferably 10 to 30 mm.
【0011】 図1で示す装置において、前記マイクロ波発生器4のマイクロ波放出口6から 50〜200Wの出力で、2.45GHzのマイクロ波を発射すると、このマク ロ波は、処理室11の壁面や前記反射板13の反射面13aで反射され、定在波 となってこのセル保持部3に保持されたセル1、1に照射され、その中の試料a を加熱する。この場合に、凹凸を有する反射板13の反射面13aでマイクロ波 が乱反射されると共に、同反射板13が回転するため、セル保持部3の上のセル 1、1付近では、均一な強度の定在波となって試料aに照射される。In the apparatus shown in FIG. 1, when a microwave of 2.45 GHz is emitted from the microwave emission port 6 of the microwave generator 4 with an output of 50 to 200 W, the microwave is generated in the processing chamber 11. The cells 1 and 1 held by the cell holding portion 3 are reflected by the wall surface or the reflecting surface 13a of the reflecting plate 13 to form standing waves, and the sample a 1 therein is heated. In this case, microwaves are diffusely reflected by the reflecting surface 13a of the reflecting plate 13 having irregularities, and the reflecting plate 13 rotates, so that uniform intensity can be obtained near the cells 1 and 1 on the cell holding portion 3. The sample a is irradiated with a standing wave.
【0012】 本考案の実施例において、セル保持部3の上で均一なマイクロ波の強度が得ら れることは、次の方法で確認することができる。すなわち、前記セル保持部3に マイクロ波の照射により放電、発光する複数個の放電管5を分散して配置する。 こうした放電管5は、管内での放電により気体分子の発光現象を生じるものであ ればどのようなものであってもよく、管内に封入された電極は接地せずに、電気 的に浮いた状態でセル保持部3に配置する。こうして配置された放電管5により 、図1の装置では、セル保持部3の上のマイクロの波照射強度分布が均一である ことが視覚的に確認された。 なお本考案は、電子顕微鏡観察試料の包埋や固定処理に限らず、試料をマイク ロ波で処理する場合全般に適用できることはもちろんである。In the embodiment of the present invention, it can be confirmed by the following method that uniform microwave intensity is obtained on the cell holder 3. That is, a plurality of discharge tubes 5 that discharge and emit light when irradiated with microwaves are dispersedly arranged in the cell holder 3. The discharge tube 5 may be of any type as long as it produces a light emission phenomenon of gas molecules by the discharge in the tube, and the electrode enclosed in the tube is electrically grounded without being grounded. It is arranged in the cell holding unit 3 in this state. With the discharge tube 5 arranged in this way, it was visually confirmed that in the apparatus of FIG. 1, the microwave irradiation intensity distribution on the cell holding portion 3 was uniform. Of course, the present invention can be applied not only to embedding and fixing treatment of an electron microscope observation sample but also to general treatment of a sample with a microwave.
【0013】[0013]
以上説明した通り本考案では、ターンテーブルを回転せずに、試料を定置した まま、それへのマイクロ波の均一な照射が可能な試料マイクロ波処理装置を提供 することができる。 As described above, the present invention can provide a sample microwave processing apparatus capable of uniformly irradiating a microwave on a stationary sample without rotating the turntable.
【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]
【図1】本考案の実施例を示す試料マイクロ波処理装置
の全体断面図である。FIG. 1 is an overall sectional view of a sample microwave processing apparatus showing an embodiment of the present invention.
【図2】同装置の要部断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view of the main parts of the device.
【図3】同装置の反射板の例を示す斜視図である。FIG. 3 is a perspective view showing an example of a reflection plate of the same device.
【図4】同反射板の要部拡大断面図である。FIG. 4 is an enlarged cross-sectional view of a main part of the reflector.
1 セル 3 セル保持部 4 マイクロ波発生器 6 マイクロ波の放出口 13 反射板 13a 反射板の反射面 1 Cell 3 Cell Holder 4 Microwave Generator 6 Microwave Emission Port 13 Reflector 13a Reflector Reflector
Claims (1)
するセル保持部(3)と、前記セル保持部(3)に保持
されたセル(1)の中の試料(a)にマイクロ波を照射
する手段(4)とを有する試料マイクロ波処理装置にお
いて、前記セル保持部(3)の下に配置され、凹凸状の
反射面(13a)を有する反射板(13)と、この反射
板(13)を回転させる機構と、前記反射板(13)に
対向するようセル保持部(3)の上に配置されたマイク
ロ波の放射口(6)とを備えることを特徴とする試料マ
イクロ波処理装置。1. A cell holding part (3) holding a cell (1) filled with a sample (a) and a sample (a) in the cell (1) held by the cell holding part (3). In a sample microwave processing apparatus having a means (4) for irradiating a microwave, a reflection plate (13) arranged below the cell holding part (3) and having an uneven reflection surface (13a), A sample comprising a mechanism for rotating the reflection plate (13) and a microwave radiation port (6) arranged on the cell holding part (3) so as to face the reflection plate (13). Microwave processing device.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2068191U JPH0525347U (en) | 1991-03-09 | 1991-03-09 | Sample microwave processing device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2068191U JPH0525347U (en) | 1991-03-09 | 1991-03-09 | Sample microwave processing device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0525347U true JPH0525347U (en) | 1993-04-02 |
Family
ID=12033923
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2068191U Pending JPH0525347U (en) | 1991-03-09 | 1991-03-09 | Sample microwave processing device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0525347U (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012181152A (en) * | 2011-03-02 | 2012-09-20 | Tokyo Metropolitan Industrial Technology Research Institute | Auxiliary heating instrument, heating device, measuring method of chemical oxygen consumption and heating method |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63172827A (en) * | 1987-01-13 | 1988-07-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | High frequency heating appliance |
-
1991
- 1991-03-09 JP JP2068191U patent/JPH0525347U/en active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63172827A (en) * | 1987-01-13 | 1988-07-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | High frequency heating appliance |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012181152A (en) * | 2011-03-02 | 2012-09-20 | Tokyo Metropolitan Industrial Technology Research Institute | Auxiliary heating instrument, heating device, measuring method of chemical oxygen consumption and heating method |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5068086A (en) | Method and apparatus for batch fixating tissue specimens | |
JP5968218B2 (en) | HIFU-induced cavitation with reduced power threshold | |
EP0615123A4 (en) | Method and apparatus for surface analysis. | |
JPH06502552A (en) | Selective radiation to pathological substances | |
JPH0525347U (en) | Sample microwave processing device | |
JP2923266B2 (en) | Wood drying equipment | |
KR102012602B1 (en) | The electromagnetic radiation chamber of the bio-effect analyzing apparatus | |
US4280049A (en) | X-ray spectrometer | |
JPS58168230A (en) | Microwave plasma processing method | |
Login et al. | Calibration and standardization of microwave ovens for fixation of brain and peripheral nerve tissue | |
Umemura et al. | Sonodynamic approach to tumor treatment | |
US4898709A (en) | Ore irradiator | |
JP2010216782A (en) | Wood dryer | |
KR102012601B1 (en) | Analyzer for analyzing biological effects of electromagnetic waves | |
JPH0735748A (en) | Microwave sample processing equipment | |
JPS6113006Y2 (en) | ||
JP3360993B2 (en) | Substrate processing equipment | |
JP2002501302A (en) | Method and apparatus for processing a substrate | |
JP2005224580A (en) | Tera-hertz wave irradiation system | |
RU2651594C1 (en) | Microwave drier of down and fur raw materials of the rotor type | |
JPH04188592A (en) | Microwave oven | |
RU203452U1 (en) | X-ray blood irradiation device | |
JP2000137100A (en) | Electronic beam irradiation device | |
JPH0968600A (en) | Electron beam irradiating device | |
JPH0246893B2 (en) |