JPH05242673A - Semiconductor storage device - Google Patents

Semiconductor storage device

Info

Publication number
JPH05242673A
JPH05242673A JP4043728A JP4372892A JPH05242673A JP H05242673 A JPH05242673 A JP H05242673A JP 4043728 A JP4043728 A JP 4043728A JP 4372892 A JP4372892 A JP 4372892A JP H05242673 A JPH05242673 A JP H05242673A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
data bus
transistor
transistors
memory device
semiconductor memory
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP4043728A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masao Taguchi
眞男 田口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP4043728A priority Critical patent/JPH05242673A/en
Publication of JPH05242673A publication Critical patent/JPH05242673A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Dram (AREA)

Abstract

PURPOSE:To reduce the circuit layout area and to increase the amplification gain of a data bus amplifier by employing a prescribed column selecting gate. CONSTITUTION:When transistors(TR) Q5 and Q6 become conducting by a column selecting signal CS, in a column selecting gate 14, TRsQ1 and Q2 are connected to a data bus DB. By this, signals on bit lines BL and BLX are supplied to the data bus DB through TRsQ1, Q2, Q5, and Q6 and noise signals on the data bus DB side do not enter into the bit lines BL and BLX. On the other hand, during a writing, TRsQ3 and Q4 become conducting by writing signals W and the TRsQ5 and Q6 become conducting by the column selecting signal CS. By this, the data bus side signals are supplied to the bit lines BL and BLX through TRsQ5, Q6, Q3 and Q4 and data are writte in a sense amplifier 12.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体記憶装置、特に
半導体記憶装置のコラム選択ゲートに関する。更に詳細
には、本発明は、DRAMのコラムアドレス選択回路に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a column select gate of a semiconductor memory device. More specifically, the present invention relates to a DRAM column address selection circuit.

【0002】DRAMの記憶容量の増大とともに、アク
セスの高速化も進んでいる。アクセスの高速化に伴い、
各クロックのタイミング関係が厳しくなり、わずかのタ
イミングの狂いが誤動作のもとになる。特にコラム選択
回路では、 ビット線のリセット状態を解除→ワード線が駆動されて
ビット線にメモリセル信号が現れる→センスアンプを駆
動→ビット線の信号振幅が増大→コラム選択ゲートを導
通させビット線の信号をデータバスに伝える→データバ
ス信号を増幅→出力回路がデータを出力 という順序が厳格に守られないといけない。特に、セン
スアンプの駆動からコラム選択ゲートの導通までのタイ
ミングは、マージンをとると、アクセス時間が長くなっ
てしまいチップとしての性能が悪くなり、一方、マージ
ンをとらないと、センスアンプがセル信号を増幅する前
あるいは増幅の初期にデータバス側から電荷が流入して
くることによる雑音信号のためセンスアンプが誤動作
し、結果的に記憶データを破壊してしまう、という問題
を起こするのでやっかいである。
As the storage capacity of DRAM has increased, the speed of access has been increasing. With faster access,
The timing relationship of each clock becomes strict, and a slight timing error causes malfunction. In particular, in the column selection circuit, the reset state of the bit line is released → The word line is driven and the memory cell signal appears on the bit line → The sense amplifier is driven → The signal amplitude of the bit line is increased → The column selection gate is turned on and the bit line is turned on. It is necessary to strictly adhere to the order of transmitting the signal to the data bus → amplifying the data bus signal → outputting the data from the output circuit. In particular, with regard to the timing from the driving of the sense amplifier to the conduction of the column select gate, if a margin is taken, the access time becomes long and the performance as a chip deteriorates. Before amplifying the signal or during the initial stage of the amplification, the sense amplifier malfunctions due to the noise signal due to the inflow of charges from the data bus side, resulting in the problem that the stored data is destroyed, which is troublesome. is there.

【0003】この問題に対し、本発明の発明者は、以前
に の発明によって解決を試みた。これ
は、ビット線を直接データバス線に接続せず、MOSト
ランジスタのゲートを介して信号を伝達させることで、
データバス側からの干渉を遮断して誤動作を防止するも
のである。本発明は、更にこの回路を改良し、レイアウ
ト面積を小さくすることを可能にした回路方式に関す
る。
The inventor of the present invention has attempted to solve this problem by the above invention. This is because the signal is transmitted through the gate of the MOS transistor without directly connecting the bit line to the data bus line,
The interference from the data bus side is blocked to prevent malfunction. The present invention further relates to a circuit system in which this circuit is improved and a layout area can be reduced.

【0004】更に、本発明はデータバスの信号電圧増幅
系にも工夫をした。これは図7、図8に示すように、デ
ータバスのリセット電圧を電源電圧とし、当該データバ
ス電圧のデータバスアンプへの入力部分にレベルシフト
回路を入れ、電源電圧よりも低下した電圧をデータバス
アンプへの入力とすることである。これによって、デー
タバスアンプを最も利得の高い領域で動作させることが
できる。
Further, the present invention has devised a signal voltage amplification system for the data bus. As shown in FIGS. 7 and 8, the reset voltage of the data bus is used as the power supply voltage, a level shift circuit is inserted at the input portion of the data bus voltage to the data bus amplifier, and the voltage lower than the power supply voltage is used as the data. It is to be the input to the bus amplifier. As a result, the data bus amplifier can be operated in the highest gain region.

【0005】[0005]

【従来の技術】図9には、従来の半導体記憶装置が示さ
れ、(A)、(B)は、それぞれ、従来の半導体記録装
置の回路図、レイアウト状態を示す。
2. Description of the Related Art FIG. 9 shows a conventional semiconductor memory device, and FIGS. 9A and 9B respectively show a circuit diagram and a layout state of a conventional semiconductor recording device.

【0006】図9(A)において、符号10、12、1
4は、それぞれ、セルアレー、センスアンプ、コラム選
択ゲート(ダイレクトセンスコラムI/Oゲート)を示
す。セルアレー10内において、ワード線16は、コン
デンサ18を有するトランジスタ20を介してビット線
BLに接続され、また、ビット線BLXが配置されてい
る。センスアンプ12は、トランジスタQ51、Q52、Q
53、Q54を含み、セルアレー10からの信号を増幅して
コラム選択ゲート14に供給する。
In FIG. 9 (A), reference numerals 10, 12, 1
Reference numeral 4 denotes a cell array, a sense amplifier, and a column selection gate (direct sense column I / O gate), respectively. In the cell array 10, the word line 16 is connected to the bit line BL via the transistor 20 having the capacitor 18, and the bit line BLX is arranged. The sense amplifier 12 includes transistors Q 51 , Q 52 , and Q.
Signals from the cell array 10 are amplified and supplied to the column selection gate 14 including 53 and Q 54 .

【0007】コラム選択ゲート14において、読み出し
側には、ビット線BL、BLXの信号を受けるトランジ
スタQ11、Q12、コラム選択信号CSを受けるトランジ
スタQ13が設けられてり、コラム選択信号CSによりト
ランジスタQ13が導通すると、ビット線BL、BLXの
信号は、トランジスタQ11、Q12を介して読出データバ
ス22に供給されるようになっている。このように、ビ
ット線BL、BLXの信号を受けるトランジスタQ11
12を設けると、信号を書き込むことができなくなるの
で、信号の書込を可能にするため、書込専用のゲート回
路24が設けられている。この書込専用のゲート回路2
4は、コラム選択信号CSを受けるトランジスタQ14
15、書込信号Wを受けるトランジスタQ16、Q17を含
み、書込信号WによりトランジスタQ16、Q17が導通
し、コラム選択信号CSによりトランジスタQ14、Q15
が導通すると、書込データバス26の信号は、トランジ
スタQ14、Q15、Q16、Q17を介してビット線BL、B
LXに供給されるようになっている。
On the read side of the column selection gate 14, transistors Q 11 and Q 12 for receiving the signals of the bit lines BL and BLX and a transistor Q 13 for receiving the column selection signal CS are provided. When the transistor Q 13 is turned on, the signals on the bit lines BL and BLX are supplied to the read data bus 22 via the transistors Q 11 and Q 12 . In this way, the transistor Q 11 , which receives the signals of the bit lines BL and BLX,
Since the signal cannot be written when Q 12 is provided, a write-only gate circuit 24 is provided to enable writing of the signal. This write-only gate circuit 2
4 is a transistor Q 14 , which receives the column selection signal CS,
Q 15, includes transistors Q 16, Q 17 which receives the write signal W, the transistors Q 16, Q 17 is rendered conductive by the write signal W, the transistors Q 14, Q 15 by the column selection signal CS
Is turned on, the signal on the write data bus 26 is transmitted to the bit lines BL and B via the transistors Q 14 , Q 15 , Q 16 and Q 17.
It is designed to be supplied to the LX.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】上記図9(A)の従来
の半導体記憶装置のレイアウト状態を図9(B)に示
す。図9(B)から分かるように、読出用データバス2
2と書込用データバス26をぞれぞれ配線し、該データ
バス22、26の下部に、それぞれ、トランジスタQ11
〜Q13、Q14〜Q17を配置せざるを得ない。
FIG. 9B shows a layout state of the conventional semiconductor memory device shown in FIG. 9A. As can be seen from FIG. 9B, the read data bus 2
2 and the write data bus 26 are respectively wired, and the transistor Q 11 is provided under the data buses 22 and 26, respectively.
It arranged forced to ~Q 13, Q 14 ~Q 17.

【0009】データバスを読出と書込で別々にすること
は本質的な目的ではなく、本来はビット線の電圧をMO
Sトランジスタのゲートで受けてデータバス側の電圧が
ビット線またはセンスアンプに流入しないようにするの
が目的であった。しかし、回路の接続関係の都合で結果
的にデータバスは読出・書込で別系統を用いる必要があ
り、こうして配線本数が増えた結果、チップ面積が増大
するという問題があった。ここで、メモリセルアレーの
分割をしてビット線の一本当たりの長さを短く制限して
メモリセル出力信号として必要な値(例えば150m
V)を獲ようとすると、センスアンプ列は64列や12
8列と多くなる。このような場場合には、データバスの
配線本数もセンスアンプ列の数に比例して増大してしま
うので、配線本数の問題大きい。
It is not an essential purpose to separate the data bus for reading and writing, and the voltage of the bit line is originally MO.
The purpose was to prevent the voltage on the data bus side from being received by the gate of the S transistor from flowing into the bit line or the sense amplifier. However, due to the connection relationship of the circuits, it is necessary to use a separate system for reading and writing the data bus, and as a result of the increase in the number of wirings, the chip area increases. Here, by dividing the memory cell array to limit the length per bit line to a short value, a value required for the memory cell output signal (for example, 150 m
V), 64 rows and 12 rows of sense amplifiers
There will be as many as 8 rows. In such a case, the number of wirings of the data bus also increases in proportion to the number of sense amplifier rows, so that the number of wirings is a serious problem.

【0010】また、データバスの電圧を増幅する回路で
は、当該増幅回路が駆動される電源電圧に等しい電圧レ
ベルの入力電圧を与えると、トランジスタの一般的な特
性として入力直流バイアス電圧が過大となって増幅利得
が減少してしまうという問題がある。
Further, in a circuit for amplifying the voltage of the data bus, when an input voltage having a voltage level equal to the power supply voltage for driving the amplifier circuit is applied, the input DC bias voltage becomes excessive as a general characteristic of the transistor. Therefore, there is a problem that the amplification gain is reduced.

【0011】そこで、本発明の目的は、回路のレイアウ
ト面積を減少させることができる半導体記憶装置を提供
することにある。また、本発明の目的は、データバスア
ンプの増幅利得を向上させることができる半導体記憶装
置を提供することにある。
Therefore, an object of the present invention is to provide a semiconductor memory device capable of reducing the layout area of a circuit. Another object of the present invention is to provide a semiconductor memory device capable of improving the amplification gain of a data bus amplifier.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明は、一対のビット
線(BL、BLX)と、データバス(DB)と、コラム
選択信号(CS)に基づき前記ビット線(BL、BL
X)と前記データバス(DB)とを接続するコラム選択
ゲート(14)と、を含む半導体記憶装置において、前
記コラム選択ゲート(14)は、一対のビット線(B
L、BLX)にそれぞれのゲートが接続され差動対を構
成する第1、第2トランジスタ(Q1 、Q2)と、コラ
ム選択信号(CS)に基づき、前記第1、第2トランジ
スタ(Q1 、Q2 )のそれぞれのドレインと前記データ
バス(DB)とを接続する第6、第5トランジスタ(Q
6 、Q5 )と、書込信号(W)に基づき、前記第1トラ
ンジスタ(Q1 )のゲートと前記第5トランジスタ(Q
5 )とを、前記第2トランジスタ(Q2 )のゲートと前
記第6トランジスタ(Q6 )とを、それぞれ接続する第
3、第4トランジスタ(Q3 、Q4 )と、を備えること
を特徴とする。
According to the present invention, a pair of bit lines (BL, BLX), a data bus (DB), and a column selection signal (CS) are used to generate the bit lines (BL, BL).
X) and a column selection gate (14) connecting the data bus (DB), the column selection gate (14) includes a pair of bit lines (B).
L and BLX) are connected to their respective gates to form a differential pair, and first and second transistors (Q 1 and Q 2 ) and the first and second transistors (Q) based on a column selection signal (CS). 6th and 5th transistors (Q) for connecting the respective drains of the first and Q 2 ) to the data bus (DB).
6 , Q 5 ) and the write signal (W), the gate of the first transistor (Q 1 ) and the fifth transistor (Q 1 )
5 ) and third and fourth transistors (Q 3 , Q 4 ) respectively connecting the gate of the second transistor (Q 2 ) and the sixth transistor (Q 6 ). And

【0013】また、本発明は、データバス(DB)と、
該データバス(DB)の信号を増幅するデータバスアン
プ(36)と、を含む半導体記憶装置において、前記デ
ータバスアンプ(36)には、電源電圧(VCC)が供給
されており、前記データバス(DB)のリセット電圧を
電源電圧(VCC)にし、更に下方にレベルシフトして前
記データバスアンプ(36)の入力端に供給する電圧変
更回路(44、46)を備えることを特徴とする。
The present invention also includes a data bus (DB),
In a semiconductor memory device including a data bus amplifier (36) for amplifying a signal of the data bus (DB), a power supply voltage (V CC ) is supplied to the data bus amplifier (36), A voltage changing circuit (44, 46) is provided, which sets the reset voltage of the bus (DB) to the power supply voltage (V CC ), shifts the level further downward, and supplies it to the input terminal of the data bus amplifier (36). To do.

【0014】図1には、本発明の原理による半導体記憶
装置が示され、(A)、(B)は、それぞれ、本発明の
原理による半導体記憶装置の回路図、レイアウト状態を
示す。図1(A)において、セルアレー10及びセンス
アンプ12は、前記従来の半導体記録装置(図9)のも
のと同様であるので、説明を省略する。
FIG. 1 shows a semiconductor memory device according to the principle of the present invention, and (A) and (B) respectively show a circuit diagram and a layout state of the semiconductor memory device according to the principle of the present invention. In FIG. 1A, the cell array 10 and the sense amplifier 12 are the same as those in the conventional semiconductor recording device (FIG. 9), and thus the description thereof will be omitted.

【0015】本発明のコラム選択ゲート14では、読出
・書込でデータバス(DBを)共通化し、これを実現す
るためにビット線BL、BLXとデータバスDBとの間
の回路部分に改良を加えた。すなわち、コラム選択ゲー
ト14は、ビット線BL、BLXの信号を受けセンスア
ンプ12の電圧を検出するトランジスタQ1 、Q2 、書
込信号Wを受けるトランジスタQ3 、Q4 、コラム選択
信号CSを受けるトランジスタQ5 、Q6 を含む。
In the column selection gate 14 of the present invention, the data bus (DB) is commonly used for reading and writing, and in order to realize this, the circuit portion between the bit lines BL and BLX and the data bus DB is improved. added. That is, the column selection gate 14 receives the transistors Q 1 and Q 2 for receiving the signals of the bit lines BL and BLX and detecting the voltage of the sense amplifier 12, the transistors Q 3 and Q 4 for receiving the write signal W, and the column selection signal CS. Includes receiving transistors Q 5 , Q 6 .

【0016】[0016]

【作用】上記図1(A)のコラム選択ゲート14におい
て、コラム選択信号CSによりトランジスタQ5 、Q6
が導通すると、トランジスタQ1 、Q2 は、データバス
DBに接続される。これにより、ビット線BL、BLX
の信号は、トランジスタQ1 、Q2 、Q5 、Q6 を介し
てデータバスDBに供給されるが、逆にデータバスDB
側の信号(雑音信号)は、ビット線BL、BLXに入る
ことはない。
In the column selection gate 14 shown in FIG. 1A, the transistors Q 5 , Q 6 are supplied by the column selection signal CS.
Is turned on, the transistors Q 1 and Q 2 are connected to the data bus DB. As a result, the bit lines BL, BLX
Is supplied to the data bus DB through the transistors Q 1 , Q 2 , Q 5 , Q 6 , but conversely the data bus DB is supplied.
The signal on the side (noise signal) does not enter the bit lines BL and BLX.

【0017】一方、書込時には、書込信号Wによりトラ
ンジスタQ3 、Q4 が導通し、コラム選択信号CSによ
りトランジスタQ5 、Q6 が導通する。これにより、デ
ータバスDB側の信号は、トランジスタQ5 、Q6 、Q
3 、Q4 を介してビット線BL、BLXに供給され、セ
ンスアンプ12にデータが書き込まれる。
On the other hand, at the time of writing, the write signal W turns on the transistors Q 3 and Q 4 , and the column selection signal CS turns on the transistors Q 5 and Q 6 . As a result, the signals on the data bus DB side are transmitted to the transistors Q 5 , Q 6 , and Q.
It is supplied to the bit lines BL and BLX via 3 and Q 4 , and the data is written in the sense amplifier 12.

【0018】上記図1(A)の本発明の原理による半導
体記憶装置のレイアウト状態を図1(B)に示す。図1
(B)から分かるように、データバスDBは、読出・書
込で共通であり、従来装置(図9(A)、(B))と比
較して、配線の本数が減少している。
A layout state of the semiconductor memory device according to the principle of the present invention shown in FIG. 1A is shown in FIG. Figure 1
As can be seen from (B), the data bus DB is common for reading and writing, and the number of wirings is reduced as compared with the conventional device (FIGS. 9A and 9B).

【0019】本発明では、ワード線16が選択され、メ
モリセル出力信号がビット線BL、BLXに現れたあと
直ちにコラム選択をすることができる。これによって、
センスアンプ12とコラム選択のタイミングマージンが
不要となり、センスアンプ12の誤動作の恐れなく高速
にコラム選択することでアクセスタイムを早くできる。
(これはビット線とデータバスの間にゲート受けするト
ランジスタを挿入した回路方式のメリットである。)こ
のような構成をとったとき従来デメリットであったコラ
ム選択ゲート近傍の回路面積の増大は、本発明の回路に
よって抑制される。
In the present invention, column selection can be performed immediately after the word line 16 is selected and the memory cell output signal appears on the bit lines BL and BLX. by this,
A timing margin for selecting the sense amplifier 12 and the column becomes unnecessary, and the access time can be shortened by selecting the column at high speed without fear of malfunction of the sense amplifier 12.
(This is a merit of the circuit system in which a transistor for receiving a gate is inserted between the bit line and the data bus.) When such a configuration is taken, the increase in the circuit area in the vicinity of the column select gate, which has been a demerit, is It is suppressed by the circuit of the present invention.

【0020】図2には、本発明を実施するときのセンス
アンプ、コラム選択ゲート、ビット線の関係が示されて
いる。センスアンプSAとコラム選択ゲートI/Oはス
イッチトランジスタ28の切り換えにより左と右の両方
のビット線対BL、BLX;BL、BLXに共通に使用
する。(セルアレーの一番端では共通使用ではなく片側
だけである。)このような配置は本発明に必須の条件で
はないが、こうすることで実質的なビット線BL、BL
Xのピッチを大きくできるので、コラム選択ゲートI/
Oのレイアウトは容易になる。メモリチップは、このよ
うなセンスアンプSAとコラム選択ゲートI/Oとビッ
ト線BL、BLXの組み合わせが多数(例えば64回)
繰り返して配置されて構成される。これによって、本発
明でデータバスの配線本数を半減できることがチップ全
体においていかにメリットがあるかが理解されよう。
FIG. 2 shows the relationship between the sense amplifier, the column selection gate, and the bit line when implementing the present invention. The sense amplifier SA and the column selection gate I / O are commonly used for both the left and right bit line pairs BL, BLX; BL, BLX by switching the switch transistor 28. (At the extreme end of the cell array, it is not commonly used but only one side.) Although such an arrangement is not an essential condition for the present invention, by doing so, substantial bit lines BL, BL
Since the X pitch can be increased, the column select gate I /
The layout of O becomes easy. The memory chip has many combinations (for example, 64 times) of such sense amplifiers SA, column selection gate I / Os, and bit lines BL and BLX.
It is repeatedly arranged. It will be understood from this that how the present invention can reduce the number of data bus lines by half in the whole chip.

【0021】なお、データバスアンプの利得が、その入
力電圧が電源電圧レベルになると、低下してしまう課題
に対し、本発明ではレベルシフト回路を挿入することで
解決した。すなわち、本発明ではMOSトランジスタを
ダイオード接続し、MOSトランジスタに流すバイアス
電流をデータバスから供給することで、データバスの配
線寄生容量に充電された電圧を放電させる機能を兼用さ
せている。
The problem that the gain of the data bus amplifier decreases when the input voltage reaches the power supply voltage level has been solved in the present invention by inserting a level shift circuit. That is, in the present invention, the MOS transistor is diode-connected, and the bias current flowing through the MOS transistor is supplied from the data bus, so that the function of discharging the voltage charged in the wiring parasitic capacitance of the data bus is also used.

【0022】[0022]

【実施例】以下、図面に基づいて本発明の実施例を説明
する。図3には、本発明の実施例による半導体記憶装置
が示されている。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 3 shows a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention.

【0023】図3に示されるようにDRAMのデータバ
スの配線構造は、最終出力回路に到るまでに階層化され
ており、本発明のコラム選択ゲート14は、最小分割単
位のセルアレー10に対するローカルデータバス30に
繋がる。ローカルデータバス30は、ブロックセレクト
32によってアクセスするアドレスに依存してグローバ
ルデータバス34に接続される。グローバルデーアバス
34の電圧は、プリアンプ36で増幅され、このプリア
ンプ36もGDBセレクト37に基づくアドレスに依存
してメインデータバス38に接続される。メインデータ
バス38には、メインセンスアンプ及び書込アンプ40
が接続されている。アンプ40は、共通I/Oバス42
に接続される。
As shown in FIG. 3, the data bus wiring structure of the DRAM is hierarchized up to the final output circuit, and the column selection gate 14 of the present invention is local to the cell array 10 of the minimum division unit. It connects to the data bus 30. The local data bus 30 is connected to the global data bus 34 depending on the address accessed by the block select 32. The voltage of the global data bus 34 is amplified by the preamplifier 36, and this preamplifier 36 is also connected to the main data bus 38 depending on the address based on the GDB select 37. The main data bus 38 has a main sense amplifier and write amplifier 40.
Are connected. The amplifier 40 has a common I / O bus 42.
Connected to.

【0024】なお、本発明は、このような階層構造に限
らずどのようなデータバスにでも適用できるのは言うま
でもない。図4には、図3の半導体記憶装置におけるコ
ラム選択ゲート14のレイアウト状態が示されている。
図4から分かるように、ローカルデータバス(LDB)
30の配線の下にトランジスタQ1 、Q2 、Q5 、Q6
が配置されているので、トランジスタの数が多い割に
は、レイアウト面積の増大を防ぐことができる。なお、
BL1、BL1X、BL3、BL3Xは、ポリシリコン
又はシリカイド等から形成されるビット線であり、ロー
カルデータバス30、アース線GNDは、アルミニウム
等から形成されており、CS1、CS3は、コラム選択
信号用の線であり、Wは書込信号用の線である。
Needless to say, the present invention is not limited to such a hierarchical structure and can be applied to any data bus. FIG. 4 shows a layout state of the column selection gate 14 in the semiconductor memory device of FIG.
As can be seen from FIG. 4, the local data bus (LDB)
Under the wiring of 30, transistors Q 1 , Q 2 , Q 5 , Q 6
Are arranged, it is possible to prevent an increase in layout area despite the large number of transistors. In addition,
BL1, BL1X, BL3, BL3X are bit lines formed of polysilicon, silicaide or the like, the local data bus 30, the ground line GND are formed of aluminum or the like, and CS1 and CS3 are for column selection signals. , And W is a line for a write signal.

【0025】図5には、図3の半導体記憶装置における
コラム選択ゲート14の他のレイアウト状態が示されて
おり、上記図4のレイアウト状態と同様に、レイアウト
面積の増大を防ぐことができる。
FIG. 5 shows another layout state of the column selection gate 14 in the semiconductor memory device of FIG. 3, and like the layout state of FIG. 4, the layout area can be prevented from increasing.

【0026】次に、図6には、本発明の他の実施例によ
る半導体記憶装置が示されている。図6(A)におい
て、トランジスタQ1 、Q2 は直接接地せず、トランジ
スタQ7 を介して接地している。こうすることによっ
て、トランジスタQ1 とQ2 はソースに共通インピーダ
ンスをもつため、より差動増幅器としての機能が強くな
り、直流的消費電力を削減しつつも電圧増幅率を高くで
きる。トランジスタQ7のゲートは、書込の時にカット
するように、トランジスタQ3 、Q4 への書込信号Wと
逆相の信号XWが入る。トランジスタQ7 を挿入するメ
リットは差動増幅機能の他に、書込を高速化できる点も
ある。書込の時はトランジスタQ3 、Q4のゲートはハ
イレベルになって当該トランジスタQ3 、Q4 が導通す
るが、これによってトランジスタQ1 、Q2 は相互にド
レインとゲートが結合され、いわゆるラッチ回路を構成
する。このラッチ接続は、書込動作の初期にはそれまで
のビット線BL1、BL1Xのデータを維持するように
働くので、書込を阻止するように働く。この機能が強す
ぎると、スタチックコラムモードでのランダムなリード
・ライトサイクルの繰返のとき、高速で書込を行うこと
を阻止する可能性がある。このため、書込の時にはトラ
ンジスタQ7 のゲートをロウレベルに下げて当該トラン
ジスタQ7 をカットし、トランジスタQ1 、Q2 のラッ
チ接続を解除することで書込の高速化の目的が果せる。
Next, FIG. 6 shows a semiconductor memory device according to another embodiment of the present invention. In FIG. 6A, the transistors Q 1 and Q 2 are not directly grounded, but are grounded via the transistor Q 7 . By doing so, since the transistors Q 1 and Q 2 have a common impedance at the sources, the function as a differential amplifier becomes stronger, and the voltage amplification factor can be increased while reducing DC power consumption. The gate of the transistor Q 7 is to cut the time of writing, the transistors Q 3, signal XW of the write signal W and the reverse phase to the Q 4 enters. The merit of inserting the transistor Q 7 is that the writing speed can be increased in addition to the differential amplification function. At the time of writing, the gates of the transistors Q 3 and Q 4 are at a high level and the transistors Q 3 and Q 4 become conductive, which causes the drains and gates of the transistors Q 1 and Q 2 to be coupled to each other. Configure a latch circuit. This latch connection works so as to maintain the data of the bit lines BL1 and BL1X until then in the initial stage of the write operation, and thus works to prevent the write. If this function is too strong, it may prevent writing at high speed when repeating random read / write cycles in the static column mode. Therefore, at the time of writing, the gate of the transistor Q 7 is lowered to a low level to cut off the transistor Q 7, and the latch connection of the transistors Q 1 and Q 2 is released to achieve the purpose of speeding up the writing.

【0027】図6(B)の回路は、基本的には上記図6
(A)のものと同じであるが、トランジスタQ7 を各コ
ラムにすべて挿入するのではなく、例えば64コラムに
1個といった具合に減らしてトランジスタQ7 が専有す
る面積の増大を防いでいる。
The circuit shown in FIG. 6B is basically the same as that shown in FIG.
Although it is the same as that of (A), the transistor Q 7 is not inserted in each column, but is reduced to, for example, one in 64 columns to prevent an increase in the area occupied by the transistor Q 7 .

【0028】次に、図7(A)は、前述した図3の半導
体記憶装置の具体的な回路図である。図7(A)におい
て、ビット線BL、BLXの信号は、センスアンプ12
で増幅され、電圧センスフロントエンド44に入る。こ
の電圧センスフロントエンド44とトランジスタQ5
6 により、コラム選択ゲート14が構成される。コラ
ム選択ゲート14からの信号は、ローカルデータバス3
0、ブロック選択スイッチ32、グローバルデータバス
34を通り、ロード部(ビット線負荷pMOS部)44
及びレベルシフト回路(電流シンク及びレベルシフト
部)46を介して、データバスアンプ(電圧センスアン
プあるいはプリアンプ)36に供給される。
Next, FIG. 7A is a specific circuit diagram of the semiconductor memory device of FIG. In FIG. 7A, the signals on the bit lines BL and BLX are the sense amplifier 12
Is amplified by and enters the voltage sense front end 44. This voltage sense front end 44 and transistor Q 5 ,
The column selection gate 14 is constituted by Q 6 . The signal from the column selection gate 14 is supplied to the local data bus 3
0, the block selection switch 32, and the global data bus 34, and the load unit (bit line load pMOS unit) 44.
And a level shift circuit (current sink and level shift unit) 46 to a data bus amplifier (voltage sense amplifier or preamplifier) 36.

【0029】上記ロード部44は、トランジスタQ21
22を含み、レベルシフト回路46は、トランジスタQ
23、Q24、Q25、Q26を含み、データバスアンプ36
は、トランジスタQ27、Q28、Q29、Q30を含む。トラ
ンジスタQ21、Q22には、クロックφ1 が供給され、ト
ランジスタQ25、Q26には、クロックφ2 が供給されて
おり、クロックφ1 は書込のときつまりXWE(外部印
加)が「L」レベルでかつXRAS(外部印加)が
「L」レベルのときだけ「H」レベルであり、それ以外
では「L」レベルであり、また、クロックφ2 は、XR
AS(外部印加)が「L」レベルのとき「H」レベルで
あり、それ以外は「L」レベルである。なお、XWE、
XRASに基づいてクロックφ1 、φ2 を発生させるた
めの回路を図7(B)に示し、図7(B)において、符
号48、50はクロック発生器であり、符号52はNO
R回路であり、符号54はインバータ(反転回路)であ
る。
The load section 44 includes a transistor Q 21 ,
Including Q 22 , the level shift circuit 46 includes a transistor Q
23 , Q 24 , Q 25 , Q 26 are included, and the data bus amplifier 36
Includes transistors Q 27 , Q 28 , Q 29 , Q 30 . The transistors Q 21, Q 22, the clock phi 1 is supplied to the transistor Q 25, Q 26, the clock phi 2 are supplied, the clock phi 1 when the writing that is XWE (external application) is " It is at the "H" level only when it is at the "L" level and XRAS (externally applied) is at the "L" level, and is at the "L" level otherwise, and the clock φ 2 is XR.
It is "H" level when AS (external application) is "L" level, and is "L" level otherwise. In addition, XWE,
FIG. 7B shows a circuit for generating clocks φ 1 and φ 2 based on XRAS. In FIG. 7B, reference numerals 48 and 50 are clock generators, and reference numeral 52 is NO.
Reference numeral 54 is an R circuit, and reference numeral 54 is an inverter (inverting circuit).

【0030】ここで、本発明に関連して特徴があるの
は、ローカルデータバス30とグローバルデータバス3
4がロード部44のpMOSトランジスタQ21とQ22
よって電源電圧VCCにプルアップされていることであ
る。当該トランジスタQ21、Q22のゲートは読出動作時
に接地され、従って三極管領域にバイアスされて純抵抗
に近い特性を示す(図7(C)参照)。このためデータ
バス電圧はVCCレベルにリセットされる。
The feature of the present invention is that it has a local data bus 30 and a global data bus 3.
4 is pulled up to the power supply voltage V CC by the pMOS transistors Q 21 and Q 22 of the load section 44. The gates of the transistors Q 21 and Q 22 are grounded during the read operation, and therefore, are biased to the triode region and exhibit characteristics close to pure resistance (see FIG. 7C). Therefore, the data bus voltage is reset to the V CC level.

【0031】従来この部分にはダイオード接続されたn
MOSトランジスタが用いられていたが、この場合、ト
ランジスタのしきい値分だけVCCから降下した電圧がデ
ータバスには印加される。この結果、VCCがもともと低
い設計の場合、データバス電圧がコラム選択回路14の
動作にとって必ずしも理想的でない状態になる。その理
由は、VCCが低いと、しきい値分だけ低下した電圧は電
源電圧VCCの半分に近いレベルになることに関係してい
る。例えばVCCを1.5Vとすると、ビット線は電源電
圧VCCの半分の値の0.75Vにリセットされており、
これによってトランジスタQ1 とQ2 のゲート電圧はほ
ぼこれと同じ電源電圧VCCの半分のレベル(実際にはこ
れにセル出力電圧分だけ増減があるが、この値は100
mVオーダーのため近似的に無視できる)となってい
る。もしVCCからしきい値(0.7V)低下した電圧が
データバスのリセットレベルだとするとこれは0.8V
であり、ビット線の0.75Vと大差ないわけである。
この結果、トランジスタQ1、Q2 のゲート電圧とドレ
イン電圧は大差なく、従来、当該トランジスタQ1 、Q
2 は利得の少ない領域にバイアスされることになる。
Conventionally, n is diode-connected to this portion.
Although a MOS transistor was used, in this case, the voltage dropped from V CC by the threshold value of the transistor is applied to the data bus. As a result, the data bus voltage is not necessarily ideal for the operation of the column selection circuit 14 in the case of a design in which V CC is originally low. The reason is that when V CC is low, the voltage lowered by the threshold value becomes a level close to half of the power supply voltage V CC . For example, if V CC is 1.5 V, the bit line is reset to 0.75 V, which is half the power supply voltage V CC .
As a result, the gate voltage of the transistors Q 1 and Q 2 is approximately half the same level as the power supply voltage V CC (actually there is an increase or decrease of the cell output voltage, but this value is 100).
It can be ignored approximately because of mV order). If the voltage lowered from V CC by the threshold value (0.7V) is the reset level of the data bus, this is 0.8V.
That is, there is not much difference from the bit line of 0.75V.
As a result, the gate voltage and the drain voltage of the transistors Q 1 and Q 2 are not so different from each other .
2 will be biased in the low gain region.

【0032】これに対し、データバスをpMOSトラン
ジスタQ21、Q22によって電源電圧VCCにプルアップし
ておくと、上記従来の問題を生じない。更に、データバ
スをVCCレベルにリセットすることによるメリットは、
電源電圧VCCのバンプダウン現象に強くなることであ
る。バンプダウンとは、チップの内部で電源配線の配線
抵抗の影響で幾つかの回路が動作するとその影響で瞬間
的に電圧が低下することである。このとき、従来のよう
にnMOSのダイオード接続では、データバスの電圧は
電源電圧VCCの変化に追従せず(データバスの寄生容量
が大きい上にVCCが瞬時低下するとVCCにプルアップし
ているダイオード接続nMOSトランジスタがダイオー
ドの逆バイアス状態になってカットオフしてしまうた
め)、相対的に電源電圧VCCとデータバスの電圧関係が
狂ってデータバスアンプ36の動作に支障をきたす(入
力電圧レベルが電源電圧VCCに対して相対的に高くな
る)。
On the other hand, if the data bus is pulled up to the power supply voltage V CC by the pMOS transistors Q 21 and Q 22 , the above conventional problem does not occur. Furthermore, the merit of resetting the data bus to V CC level is
This means that the power supply voltage V CC is resistant to the bump down phenomenon. Bump down means that when some circuits operate inside the chip due to the influence of the wiring resistance of the power supply wiring, the voltage instantaneously drops due to the influence. At this time, in the conventional nMOS diode connection, the voltage of the data bus does not follow the change of the power supply voltage V CC (when the parasitic capacitance of the data bus is large and V CC is momentarily lowered, it is pulled up to V CC. (Since the diode-connected nMOS transistor is in the reverse bias state of the diode and cuts off), the voltage relationship between the power supply voltage V CC and the data bus is relatively deviated and the operation of the data bus amplifier 36 is hindered (there is a problem). The input voltage level is relatively high with respect to the power supply voltage V CC ).

【0033】これに対し、データバスをpMOSトラン
ジスタQ21、Q22にてVCCにリセットしていれば、VCC
の変動はデータバスに伝達され(pMOSトランジスタ
はダイオード接続ではなく抵抗性のためカットオフしな
いため)、上記従来の問題を生じない。
On the other hand, if the data bus is reset to V CC by the pMOS transistors Q 21 and Q 22 , V CC
Is transmitted to the data bus (since the pMOS transistor is not diode-connected and is not cut off due to its resistance), the above-mentioned conventional problems do not occur.

【0034】なお、上記のようにデータバスを電源電圧
CCにプルアップした場合に、データバスアンプ36に
とって入力電圧レベルがVCCレベルになるという問題が
ある。この場合、データバスアンプ36の入力部分のト
ランジスタQ27〜Q30は、ドレインに対してゲート電圧
が高くなり、三極管領域のバイアス状態になって利得が
小さくなる可能性がある。そこで、トランジスタQ23
26によってレベルシフト回路46を構成し、データバ
スの電圧からトランジスタQ23、Q24のゲート・ソース
間の電圧分だけ低下した電圧をデータバスアンプ36に
与えるようにしている。レベルシフト回路46は、トラ
ンジスタQ25、Q26に微小電流を流し、この電流がトラ
ンジスタQ23、Q24に発生させるしきい値電流程度の電
圧を用いて構成されている。トランジスタQ25、Q26
流す電流はレベルシフトのためだけではなく、データバ
スの電荷を常に接地側にわずかに引き抜くことでバンプ
ダウンに伴ってデータバス電圧が相対的に過剰に浮き上
がるのを防止する作用も兼ねている。
Incidentally, when the data bus is pulled up to the power supply voltage V CC as described above, there is a problem that the input voltage level becomes V CC level for the data bus amplifier 36. In this case, the transistors Q 27 to Q 30 in the input portion of the data bus amplifier 36 have a high gate voltage with respect to the drain, and may enter the bias state in the triode region, resulting in a small gain. Therefore, the transistor Q 23 ~
A level shift circuit 46 is constituted by Q 26 , and a voltage obtained by lowering the voltage of the data bus by the gate-source voltage of the transistors Q 23 and Q 24 is applied to the data bus amplifier 36. The level shift circuit 46 is configured by using a voltage of about the threshold current generated by causing the transistors Q 25 and Q 26 to pass minute currents and causing the currents to generate in the transistors Q 23 and Q 24 . The currents flowing through the transistors Q 25 and Q 26 are not only for level shifting, but the data bus voltage is prevented from being relatively excessively lifted due to bump down by always pulling the data bus charge slightly to the ground side. It also has the function of doing.

【0035】データバスアンプ36は差動増幅型のカレ
ントミラー負荷型電圧増幅型アンプであり、その出力に
は、pMOSトランジスタQ31、Q32から成る電流ドラ
イバ56が接続される。当該トランジスタQ31、Q32
メインデータバス38を駆動するためのものであり、デ
ータバスアンプ36が選択されたときは、トランジスタ
33が導通して差動増幅幅的にバス38に電流を与え
る。
The data bus amplifier 36 is a differential amplification type current mirror load type voltage amplification type amplifier, and the output thereof is connected to a current driver 56 composed of pMOS transistors Q 31 and Q 32 . The transistors Q 31 and Q 32 are for driving the main data bus 38, and when the data bus amplifier 36 is selected, the transistor Q 33 is turned on to differentially amplify the current to the bus 38. give.

【0036】メインデータバス38の終端には、電流検
出アンプ(メインセンスアンプ及び書込アンプ)40が
接続され、トランジスタQ31、Q32が駆動する電流を検
出し、ラッチ回路58で大振幅に増幅して出力バッファ
アンプに読出データを与える。
A current detection amplifier (main sense amplifier and write amplifier) 40 is connected to the end of the main data bus 38, and the current driven by the transistors Q 31 and Q 32 is detected, and the latch circuit 58 makes a large amplitude. It amplifies and provides read data to the output buffer amplifier.

【0037】上記図7のロード部44及びレベルシフト
回路46は、他のタイプの回路にも適用でき、例えば、
図8に示されるように、センスアンプすなわちラッチ型
のセンス回路12の出力をコラム選択ゲート14´を通
じて直接データバス30に接続する場合に適用できる。
ここで、センスアンプ12のトランジスタも電源電圧の
半分の状態から動作が始まるので、データバス30のリ
セット電位も電源電圧の半分に近いレベルにリセットさ
れていると、データバス30の電荷をセンスアンプ12
側から引き抜くのに時間がかかりアクセスが遅くなる。
これに対し、本発明では、データバス30の電位を電源
電圧VCC(チップ内で作った内部電源電圧を含む)とす
るため、この問題が解決される。
The load section 44 and the level shift circuit 46 shown in FIG. 7 can be applied to other types of circuits.
As shown in FIG. 8, it can be applied to the case where the output of the sense amplifier, that is, the latch type sense circuit 12 is directly connected to the data bus 30 through the column selection gate 14 '.
Here, since the transistor of the sense amplifier 12 also starts operating from the state of half the power supply voltage, if the reset potential of the data bus 30 is also reset to a level close to half the power supply voltage, the charge of the data bus 30 will be sensed. 12
It takes time to pull out from the side, and access becomes slow.
On the other hand, according to the present invention, the potential of the data bus 30 is set to the power supply voltage V CC (including the internal power supply voltage created in the chip), so that this problem is solved.

【0038】[0038]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
コラム選択ゲートを特異な回路構成としたので、回路の
レイアウト面積を減少させることができる。また、本発
明によれば、データバスの電圧を変更しているので、デ
ータバスアンプの増幅利得を向上させることができる。
As described above, according to the present invention,
Since the column select gate has a unique circuit configuration, the layout area of the circuit can be reduced. Further, according to the present invention, since the voltage of the data bus is changed, the amplification gain of the data bus amplifier can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の原理による半導体記憶装置を示し、
(A)、(B)はそれぞれ回路図、レイアウト状態図で
ある。
FIG. 1 shows a semiconductor memory device according to the principles of the present invention,
(A) and (B) are a circuit diagram and a layout state diagram, respectively.

【図2】センスアンプ、コラム選択ゲート及びビット線
の関係を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a relationship between a sense amplifier, a column selection gate, and a bit line.

【図3】本発明の実施例による半導体記録装置の回路図
である。
FIG. 3 is a circuit diagram of a semiconductor recording device according to an embodiment of the present invention.

【図4】図3の半導体記憶装置におけるコラム選択ゲー
トのレイアウト状態図である。
FIG. 4 is a layout state diagram of column select gates in the semiconductor memory device of FIG.

【図5】図3の半導体記憶装置にけるコラム選択ゲート
の他のレイアウト状態図である。
FIG. 5 is another layout state diagram of the column selection gate in the semiconductor memory device of FIG.

【図6】本発明の他の実施例による半導体記憶装置の回
路図である。
FIG. 6 is a circuit diagram of a semiconductor memory device according to another embodiment of the present invention.

【図7】レベルシフト回路を有する半導体記憶装置の回
路図である。
FIG. 7 is a circuit diagram of a semiconductor memory device having a level shift circuit.

【図8】レベルシフト回路を有する他の半導体記憶装置
の回路図である。
FIG. 8 is a circuit diagram of another semiconductor memory device having a level shift circuit.

【図9】従来の半導体記憶装置を示し、(A)、(B)
はそれぞれ回路図、レイアウト状態図である。
9A and 9B show a conventional semiconductor memory device, and FIGS.
Are a circuit diagram and a layout state diagram, respectively.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…セルアレー 12…センスアンプ 14…コラム選択ゲート Q1 、Q2 、Q3 、Q4 、Q5 、Q6 …トランジスタ W…書込信号 CS…コラム選択信号 DB…データバス10 ... Cell array 12 ... Sense amplifier 14 ... Column selection gate Q 1 , Q 2 , Q 3 , Q 4 , Q 5 , Q 6 ... Transistor W ... Write signal CS ... Column selection signal DB ... Data bus

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一対のビット線(BL、BLX)と、デ
ータバス(DB)と、コラム選択信号(CS)に基づき
前記ビット線(BL、BLX)と前記データバス(D
B)とを接続するコラム選択ゲート(14)と、を含む
半導体記憶装置において、 前記コラム選択ゲート(14)は、 一対のビット線(BL、BLX)にそれぞれのゲートが
接続され差動対を構成する第1、第2トランジスタ(Q
1 、Q2 )と、 コラム選択信号(CS)に基づき、前記第1、第2トラ
ンジスタ(Q1 、Q2)のそれぞれのドレインと前記デ
ータバス(DB)とを接続する第6、第5トランジスタ
(Q6 、Q5 )と、 書込信号(W)に基づき、前記第1トランジスタ
(Q1 )のゲートと前記第5トランジスタ(Q5 )と
を、前記第2トランジスタ(Q2 )のゲートと前記第6
トランジスタ(Q6 )とを、それぞれ接続する第3、第
4トランジスタ(Q3 、Q4 )と、 を備えることを特徴とする半導体記憶装置。
1. A pair of bit lines (BL, BLX), a data bus (DB), and the bit line (BL, BLX) and the data bus (D) based on a column selection signal (CS).
In a semiconductor memory device including a column selection gate (14) connected to B), the column selection gate (14) has a pair of bit lines (BL, BLX) connected to respective gates to form a differential pair. The first and second transistors (Q
1 and Q 2 ) and a sixth and a fifth connecting the drains of the first and second transistors (Q 1 and Q 2 ) to the data bus (DB) based on the column selection signal (CS). Transistors (Q 6 , Q 5 ) and a gate of the first transistor (Q 1 ) and the fifth transistor (Q 5 ) are connected to the second transistor (Q 2 ) based on the write signal (W). Gate and the sixth
A semiconductor memory device comprising: a third transistor and a fourth transistor (Q 3 , Q 4 ) respectively connecting the transistor (Q 6 ).
【請求項2】 請求項1記載の半導体記憶装置におい
て、前記第1、第2トランジスタ(Q1 、Q2 )と接地
レベル間には、第7トランジスタ(Q7 )が接続され、
第1、第2トランジスタ(Q1 、Q2 )は、作動増幅回
路を構成することを特徴とする半導体記憶装置。
2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein a seventh transistor (Q 7 ) is connected between the first and second transistors (Q 1 , Q 2 ) and a ground level,
A semiconductor memory device characterized in that the first and second transistors (Q 1 , Q 2 ) constitute an operational amplifier circuit.
【請求項3】 請求項2記載の半導体記憶装置におい
て、前記第3、第4トランジスタ(Q3 、Q4 )に書込
信号(W)が供給されるとき、前記第7トランジスタ
(Q7 )には、書込信号(W)と逆レベルの信号(X
W)が供給されることを特徴とする半導体記憶装置。
3. The semiconductor memory device according to claim 2, wherein when a write signal (W) is supplied to the third and fourth transistors (Q 3 , Q 4 ), the seventh transistor (Q 7 ) Is a signal (X) opposite in level to the write signal (W).
W) is supplied to the semiconductor memory device.
【請求項4】 請求項2又は3記載の半導体記憶装置に
おいて、前記第7トランジスタ(Q7 )は、複数のコラ
ムアドレスに共通に接続されていることを特徴とする半
導体記録装置。
4. The semiconductor memory device according to claim 2, wherein the seventh transistor (Q 7 ) is commonly connected to a plurality of column addresses.
【請求項5】 データバス(DB)と、該データバス
(DB)の信号を増幅するデータバスアンプ(36)
と、を含む半導体記憶装置において、 前記データバスアンプ(36)には、電源電圧(VCC
が供給されており、 前記データバス(DB)のリセット電圧を電源電圧(V
CC)にし、更に下方にレベルシフトして前記データバス
アンプ(36)の入力端に供給する電圧変更回路(4
4、46)を備えることを特徴とする半導体記憶装置。
5. A data bus (DB) and a data bus amplifier (36) for amplifying a signal of the data bus (DB).
In the semiconductor memory device including: and, the data bus amplifier (36) has a power supply voltage (V CC ).
Is supplied, and the reset voltage of the data bus (DB) is the power supply voltage (V
CC ), further level-shifted downward, and supplied to the input terminal of the data bus amplifier (36).
4, 46).
【請求項6】 請求項5記載の半導体記憶装置におい
て、前記電圧変更回路(44、46)は、データバス
(DB)のリセット電圧を電源電圧(VCC)にするロー
ド部(44)と、データバス(DB)の電圧を下方にレ
ベルシフトするレベルシフト回路(46)と、を備え、 前記ロード部(44)は、電源電圧(VCC)とデータバ
ス(DB)との間に接続されるpMOSトランジスタ
(Q21、Q22)を有し、 前記レベルシフト回路(46)は、データバス(DB)
にドレイン及びゲートが接続されデータバスアンプ(3
6)の入力端にソースが接続されたnMOSトランジス
タ(Q23、Q24)と、データバスアンプ(36)の入力
端の電圧を接地レベルに向かってプルダウンするプルダ
ウン素子(Q25、Q26)と、を有することを特徴とする
半導体記憶装置。
6. The semiconductor memory device according to claim 5, wherein the voltage change circuit (44, 46) includes a load section (44) for setting a reset voltage of the data bus (DB) to a power supply voltage (V CC ). A level shift circuit (46) for shifting the voltage of the data bus (DB) downward, and the load unit (44) is connected between the power supply voltage (V CC ) and the data bus (DB). has a pMOS transistor (Q 21, Q 22) that, said level shift circuit (46), a data bus (DB)
The drain and gate are connected to the data bus amplifier (3
NMOS transistors (Q 23 , Q 24 ) whose sources are connected to the input terminal of 6) and pull-down elements (Q 25 , Q 26 ) for pulling down the voltage of the input terminal of the data bus amplifier (36) toward the ground level. A semiconductor memory device comprising:
【請求項7】 請求項6記載の半導体記憶装置におい
て、前記pMOSトランジスタ(Q21、Q22)及びプル
ダウン素子(Q25、Q26)は,書込時にカットオフする
ことを特徴とする半導体記憶装置。
7. The semiconductor memory device according to claim 6, wherein the pMOS transistors (Q 21 , Q 22 ) and the pull-down elements (Q 25 , Q 26 ) are cut off during writing. apparatus.
JP4043728A 1992-02-28 1992-02-28 Semiconductor storage device Pending JPH05242673A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4043728A JPH05242673A (en) 1992-02-28 1992-02-28 Semiconductor storage device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4043728A JPH05242673A (en) 1992-02-28 1992-02-28 Semiconductor storage device

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001035796A Division JP2001256783A (en) 2001-02-13 2001-02-13 Semiconductor storage device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH05242673A true JPH05242673A (en) 1993-09-21

Family

ID=12671851

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4043728A Pending JPH05242673A (en) 1992-02-28 1992-02-28 Semiconductor storage device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH05242673A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001057072A (en) * 1999-07-21 2001-02-27 Hyundai Electronics Ind Co Ltd Sensing amplifier of non-volatile ferroelectric memory device

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001057072A (en) * 1999-07-21 2001-02-27 Hyundai Electronics Ind Co Ltd Sensing amplifier of non-volatile ferroelectric memory device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100239958B1 (en) Semiconductor memory device
US6703871B2 (en) Amplifier for use in semiconductor integrated circuits
JP3592423B2 (en) Semiconductor integrated circuit device
US5966319A (en) Static memory device allowing correct data reading
US5323345A (en) Semiconductor memory device having read/write circuitry
US5373473A (en) Amplifier circuit and semiconductor memory device employing the same
US5587952A (en) Dynamic random access memory including read preamplifiers activated before rewrite amplifiers
US4860257A (en) Level shifter for an input/output bus in a CMOS dynamic ram
JPH05282868A (en) Semiconductor storage device
US5805506A (en) Semiconductor device having a latch circuit for latching data externally input
JP2756797B2 (en) FET sense amplifier
KR950005171B1 (en) Current mirror amplifier and driving method
US5815450A (en) Semiconductor memory device
JPH07211081A (en) Semiconductor memory device
JPS6376192A (en) Semiconductor memory device
JPH04232691A (en) Clock operation type amplifier, cycle-time of which is shortened
JP2792258B2 (en) Readout circuit of dynamic RAM
KR100326236B1 (en) Sense amplifier using MOS/BIPOLAR composition transistor
JPH05242673A (en) Semiconductor storage device
JPH0785358B2 (en) Semiconductor memory device
US6552943B1 (en) Sense amplifier for dynamic random access memory (“DRAM”) devices having enhanced read and write speed
JP3064561B2 (en) Semiconductor storage device
JPH04298896A (en) Semiconductor storage device
US6031776A (en) Sense amplifier circuit for a semiconductor memory device
JP2001256783A (en) Semiconductor storage device

Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20010424