JPH05239658A - Method for applying plating on polyester resin - Google Patents

Method for applying plating on polyester resin

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JPH05239658A
JPH05239658A JP4135092A JP4135092A JPH05239658A JP H05239658 A JPH05239658 A JP H05239658A JP 4135092 A JP4135092 A JP 4135092A JP 4135092 A JP4135092 A JP 4135092A JP H05239658 A JPH05239658 A JP H05239658A
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JP
Japan
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plating
polyester resin
wollastonite
etching
plating film
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Withdrawn
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JP4135092A
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Japanese (ja)
Inventor
Hitoshi Tauchi
比登志 田内
Kiyotaka Nakai
清隆 中井
Yoshio Okada
義夫 岡田
Shingo Saijo
信吾 西城
Toshiyasu Miyashita
俊逸 宮下
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
Satosen Co Ltd
Aisin Corp
Original Assignee
Aisin Seiki Co Ltd
Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
Satosen Co Ltd
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0313Organic insulating material
    • H05K1/0353Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement
    • H05K1/0373Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement containing additives, e.g. fillers
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
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    • H05K3/381Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by special treatment of the substrate

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Abstract

PURPOSE:To provide an etching liquid which can form a plating film having good adhesion on a polyester resin contg. inorg. fillers, such as glass fibers. CONSTITUTION:This method for applying plating on the polyester resin consists of a pretreating stage for immersing the surface to be plated of the polyester resin contg. the glass fibers and wollastonite into the etching liquid and subjecting the surface to an etching treatment and a plating stage for forming the plating film on the polyester resin subjected to the etching treatment. The above-mentioned polyester resin contains the glass fibers and the wollastonite and the above-mentioned etching liquid is a soln. of phosphoric acid, acidic ammonium fluoride or acid mixture composed thereof.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、プリント回路、EMI
シールド、装飾品などに利用できる無機充填剤を含むポ
リエステル樹脂の表面に、めっき皮膜を形成する方法に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a printed circuit, EMI
The present invention relates to a method for forming a plating film on the surface of a polyester resin containing an inorganic filler that can be used for shields, ornaments and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、樹脂表面にめっきを施す方法とし
て、樹脂中にゴム分を分散させこのゴム分を硫酸などの
強酸で溶解(エッチングという)し、その後無電解めっ
きを施す方法が一般的に知られている。無電解めっき
は、素材表面の汚れ除去とか、密着を高めるための脱
脂、触媒付与をしやすくしたり、密着性を高めたりする
ための表面調整のエッチング工程、Pd,Ag,Au,
Pt,などの貴金属触媒の付与などにより表面を活性化
する工程、活性化された素材基体を無電解めっき液中に
浸漬して無電解めっき皮膜を形成するめっき工程とから
なる。次いで無電解めっき皮膜の上に電気めっき皮膜を
形成した後、めっき皮膜と樹脂表面との密着性を高める
熱処理工程がおこなわれる。
2. Description of the Related Art Conventionally, a method of plating a resin surface is generally a method of dispersing a rubber component in a resin, dissolving the rubber component with a strong acid such as sulfuric acid (referred to as etching), and then performing electroless plating. Known to. Electroless plating is a surface adjustment etching process for removing dirt on the surface of the material, degreasing for enhancing adhesion, applying catalyst easily, and enhancing adhesion, Pd, Ag, Au,
It comprises a step of activating the surface by applying a noble metal catalyst such as Pt, and a plating step of immersing the activated material substrate in an electroless plating solution to form an electroless plating film. Then, after forming an electroplating film on the electroless plating film, a heat treatment step is performed to enhance the adhesion between the plating film and the resin surface.

【0003】この従来の方法は、ABS樹脂やポリアセ
タール樹脂に適用されている。ABS樹脂やポリアセタ
ール樹脂では硫酸とクロム酸との混合液からなるエッチ
ング液により表面に凹部が形成される。このため無電解
めっき工程ではこの凹部を投錨状に埋めてめっき皮膜が
形成でき、樹脂表面とめっき皮膜との密着性が高いもの
となる。しかし、エッチング液により表面に有効な凹部
が形成されない樹脂の場合には、めっき皮膜が投錨状に
形成されず密着性の良いめっき皮膜を形成することが困
難である。
This conventional method is applied to ABS resin and polyacetal resin. In the case of ABS resin or polyacetal resin, recesses are formed on the surface by an etching solution composed of a mixed solution of sulfuric acid and chromic acid. Therefore, in the electroless plating step, the recess can be filled in like an anchor to form a plating film, and the adhesion between the resin surface and the plating film is high. However, in the case of a resin in which an effective recess is not formed on the surface by an etching solution, it is difficult to form a plating film having good adhesion because the plating film is not anchored.

【0004】通常のエッチング処理が困難な非金属部材
(たとえば、セラミックス部材)に対する無電解めっき
法として特開昭63−83279号公報には、エッチン
グに変わりレーザー光線の照射処理した後に、無電解め
っき皮膜を形成する方法が開示されている。しかしレー
ザー光線の照射処理は、従来とは別に新たな工程を追加
せねばならず樹脂めっき工程への適用は必ずしも有効で
はない。
Japanese Patent Laid-Open No. 63-83279 discloses an electroless plating method for a non-metal member (for example, a ceramic member) which is difficult to be subjected to a usual etching treatment. A method of forming is disclosed. However, the irradiation process of the laser beam has to add a new process in addition to the conventional process, and its application to the resin plating process is not always effective.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記の事情に
鑑みてなされたもので、エッチング液の組成を検討する
ことにより、ガラス繊維などの無機充填剤を含むポリエ
ステル樹脂上に密着性のよいめっき皮膜を形成すること
を目的とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and by examining the composition of the etching solution, good adhesion can be obtained on a polyester resin containing an inorganic filler such as glass fiber. The purpose is to form a plating film.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明のポリエステル樹
脂上にめっきを施す方法は、ガラス繊維とウォラストナ
イトとを含有するポリエステル樹脂の被めっき面を、エ
ッチング液に浸漬してエッチング処理をおこなう前処理
工程と、エッチング処理されたポリエステル樹脂にめっ
き皮膜を形成するめっき工程と、からなるポリエステル
樹脂上にめっきを施す方法において、前記ポリエステル
樹脂はガラス繊維とウォラストナイトとを含有し、かつ
エッチング液は、リン酸、酸性フッ化アンモニウムある
いはこれらの混酸溶液であることを特徴とする。
In the method of plating on a polyester resin of the present invention, the surface to be plated of the polyester resin containing glass fibers and wollastonite is immersed in an etching solution to carry out an etching treatment. In a method of plating on a polyester resin comprising a pretreatment step and a plating step of forming a plating film on the etched polyester resin, the polyester resin contains glass fibers and wollastonite, and is etched. The liquid is characterized by being phosphoric acid, ammonium acid fluoride, or a mixed acid solution thereof.

【0007】本発明のめっき法が適用されるポリエステ
ル樹脂としては、ガラス繊維とウォラストナイトとが配
合された、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリブチ
レンテレフタレート樹脂、ポリカーボネート樹脂などの
芳香族系ポリエステル樹脂及びその混合樹脂に適用でき
る。この樹脂に配合されるガラス繊維は、通常の樹脂に
配合されるものであればいずれも使用することができ
る。ウォラストナイトはアスペクト比が1〜20の粒状
物が好ましく、樹脂との相溶性を高めるために表面処理
をおこなったものを使用することもできる。
As the polyester resin to which the plating method of the present invention is applied, aromatic polyester resins such as polyethylene terephthalate resin, polybutylene terephthalate resin, polycarbonate resin, and the like, in which glass fiber and wollastonite are blended, and a mixture thereof. Applicable to resin. As the glass fiber blended with this resin, any glass fiber blended with an ordinary resin can be used. The wollastonite is preferably a granular material having an aspect ratio of 1 to 20, and a surface-treated material may be used to enhance compatibility with the resin.

【0008】ガラス繊維とウォラストナイトの配合量
は、それぞれが10重量%以上配合されていることが好
ましい。また、このガラス繊維とウォラストナイトとの
配合量の上限としては、通常の無機充填剤が配合される
量の範囲で、両者の配合量の総和が50重量%程度以下
であるのが好ましい。このガラス繊維とウォラストナイ
トとを含む芳香族系ポリエステル樹脂は、脱脂、前処理
後にエッチング液のリン酸、酸性フッ化アンモニウムの
溶液およびその混合酸液に浸漬されると、被めっき面が
適度の粗面化を受けかつ清浄化され、その後キャタライ
ジング、アクセレータなどの活性化処理を受けた後に施
される無電解めっき皮膜との密着性が向上する。これは
樹脂にガラス繊維の他にさらにウォラストナイトが共存
することにより理由は不明であるが、無電解めっき皮膜
の密着性が向上する。すなわち、ウォラストナイトの代
わりにアルミナ粉末を同量配合した比較例(No.1
1)の場合のように、めっき皮膜の密着性は向上しな
い。また、他の硫酸、しゅう酸をエッチング液として用
いてもめっき皮膜の密着性が高まらない。
The glass fiber and wollastonite are preferably mixed in an amount of 10% by weight or more. Further, as the upper limit of the blending amount of the glass fiber and wollastonite, it is preferable that the sum of the blending amounts of both of them is about 50% by weight or less within the range of the blending amount of a usual inorganic filler. Aromatic polyester resin containing this glass fiber and wollastonite, when subjected to degreasing, pretreatment and then phosphoric acid of etching solution, ammonium acid fluoride solution and its mixed acid solution, the surface to be plated is moderately The adhesion with the electroless plating film which is applied after being subjected to roughening and cleaning, and then subjected to activation treatment such as catalyzing and accelerator is improved. The reason for this is not clear due to the presence of wollastonite in addition to glass fiber in the resin, but the adhesion of the electroless plating film is improved. That is, a comparative example (No. 1) in which the same amount of alumina powder was blended instead of wollastonite.
As in the case of 1), the adhesion of the plating film is not improved. Further, even if other sulfuric acid or oxalic acid is used as an etching solution, the adhesion of the plating film does not increase.

【0009】これはガラス繊維とウォラストナイトとの
両者が存在することにより、特に樹脂層と無機充填剤の
ガラス繊維とウォラストナイトとの両者の界面で投錨効
果に類する密着性を高める被めっき面が形成されやすい
のではないかと推定される。このエッチング液は、リン
酸水溶液あるいは酸性フッ化アンモニウム水溶液のそれ
ぞれ単独あるいは両者を混合した混酸水溶液が用いられ
る。このエッチング液は通常のエッチング処理条件が適
用できる。
This is because the presence of both glass fibers and wollastonite makes it possible to enhance the adhesion, which is similar to the anchoring effect, especially at the interface between the resin layer and the glass fibers of the inorganic filler and wollastonite. It is estimated that the surface is likely to be formed. As the etching solution, a phosphoric acid aqueous solution or an ammonium acid fluoride aqueous solution is used alone or as a mixed acid aqueous solution in which both are mixed. Usual etching conditions can be applied to this etching solution.

【0010】めっき皮膜の形成方法は、通常の樹脂めっ
きでおこなわている方法が適用でき、特別の工程を要し
ない。表1にその例を示す。すなわち、脱脂工程、前処
理工程、エッチング工程、コンデイショニング工程、キ
ャタライジング工程、アクセレータ工程、無電解めっき
工程、活性化工程、電気めっき工程、熱処理工程が順に
おこなわれる。各工程の間にはそれぞれ水洗がおこなわ
れる。なお、活性化工程および電気めっき工程および熱
処理工程を採用しない場合もあり得る。
As the method for forming the plating film, the method used in ordinary resin plating can be applied and no special step is required. Table 1 shows an example. That is, a degreasing process, a pretreatment process, an etching process, a conditioning process, a catalyzing process, an accelerator process, an electroless plating process, an activation process, an electroplating process, and a heat treatment process are sequentially performed. Rinsing with water is performed between each process. In some cases, the activation process, the electroplating process, and the heat treatment process may not be adopted.

【0011】本発明のエッチング液でガラス繊維とウォ
ラストナイトとを含むポリエステル樹脂を処理すれば、
めっき皮膜は銅に限らずニッケル、その他樹脂に適用さ
れるめっき皮膜であればいずれも可能である。さらに通
常のめっき工程がそのまま適用できる。
When a polyester resin containing glass fiber and wollastonite is treated with the etching solution of the present invention,
The plating film is not limited to copper, and any plating film applicable to nickel or other resins can be used. Furthermore, the usual plating process can be applied as it is.

【0012】[0012]

【作用】本発明のめっき方法では、ガラス繊維とウォラ
ストナイトを含むポリエステル樹脂をリン酸、酸性フッ
化アンモニウムあるいはこれらの混酸溶液からなるエッ
チング液を用いてエッチング処理をおこなう。このエッ
チング処理によりガラス繊維とウォラストナイトとを含
むポリエステル樹脂の被めっき面は、無電解めっき皮膜
が密着しやすくなる。これは樹脂の被めっき面にガラス
繊維とウォラストナイトとが分散しているため、エッチ
ング液により粗面化と清浄化およびガラス繊維とウォラ
ストナイト表面の活性化がおこなわれ、めっき皮膜と密
着性の高いめっき付着面が形成されているものと推測さ
れる。その結果、以後の通常のめっき法により密着性の
高いめっき皮膜が形成される。
In the plating method of the present invention, the glass fiber and the polyester resin containing wollastonite are subjected to an etching treatment using an etching solution composed of phosphoric acid, ammonium acid fluoride or a mixed acid solution thereof. By this etching treatment, the electroless plating film is easily adhered to the plated surface of the polyester resin containing glass fiber and wollastonite. This is because the glass fiber and wollastonite are dispersed on the surface of the resin to be plated, so the etching solution roughens and cleans the surface and activates the surface of the glass fiber and wollastonite, adhering to the plating film. It is presumed that a highly adherent plated surface is formed. As a result, a plating film having high adhesiveness is formed by the subsequent ordinary plating method.

【0013】[0013]

【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。表1に銅めっき皮膜を形成する各工程で使用する薬
品の種類およびその処理条件を示した。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples. Table 1 shows the types of chemicals used in each step of forming a copper plating film and the treatment conditions thereof.

【0014】[0014]

【表1】 [Table 1]

【0015】第1の脱脂工程では、被めっき樹脂のめっ
き面をエースクリーンA−200(商品名)の50g/
lの溶液で55℃10分の処理した後水洗する。第2の
前処理工程では、水酸化ナトリウムの200g/lの溶
液で70℃20分処理した後水洗する。第3のエッチン
グ工程では、以下の表2、3に示すエッチング液で55
℃10分処理した後水洗する。第4のコンディショニン
グ工程では、B−ニュートライザー(商品名)の200
ml/lの溶液中で25℃2分処理した後水洗する。第
5のキャタライジング工程では、キャタリストC(商品
名)と塩酸の混合液で25℃3分処理した後水洗する。
第6のアクセレータ工程では塩酸溶液で25℃10分処
理した後水洗する。第7の化学めっき工程ではめっき液
中で25℃10分の処理した後水洗する。第8の活性化
工程では、トップサン(商品名)溶液で25℃30秒処
理した後水洗する。第9の電気めっき工程ではめっき溶
液中で25℃で4A/dm2 電流値の通電により無電解
めっき皮膜の上に電気めっき皮膜を形成する。水洗した
後、第10の熱処理工程で100℃で5時間処理してめ
っき品が得られる。 (実施例1)上記の工程で表2に示すようにポリエチレ
ンテレフタレート樹脂又は、ポリブチレンテレフタレー
ト樹脂に配合する無機充填剤のガラス繊維と、ウォラス
トナイトとの割合を変え、エッチング浴液の組成を変え
て処理して、上記のポリエチレンテレフタレート樹脂に
銅メッキを施した。
In the first degreasing step, the plating surface of the resin to be plated is 50 g / a of A-screen A-200 (trade name).
After treatment with the solution of 1 for 10 minutes at 55 ° C, it is washed with water. In the second pretreatment step, a solution of 200 g / l of sodium hydroxide is treated at 70 ° C. for 20 minutes and then washed with water. In the third etching step, the etching solution shown in Tables 2 and 3 below was used.
It is treated at 10 ° C. for 10 minutes and then washed with water. In the fourth conditioning step, B-Nutrizer (trade name) 200
It is treated in a solution of ml / l at 25 ° C. for 2 minutes and then washed with water. In the fifth catalyzing step, the mixture is treated with a mixed solution of Catalyst C (trade name) and hydrochloric acid at 25 ° C. for 3 minutes and then washed with water.
In the sixth accelerator step, the substrate is treated with a hydrochloric acid solution at 25 ° C. for 10 minutes and then washed with water. In the seventh chemical plating step, the plating solution is treated at 25 ° C. for 10 minutes and then washed with water. In the eighth activation step, the solution is treated with Topsun (trade name) solution at 25 ° C. for 30 seconds and then washed with water. In the ninth electroplating step, an electroplating film is formed on the electroless plating film by applying a current of 4 A / dm 2 at 25 ° C. in the plating solution. After washing with water, a plated product is obtained by treatment at 100 ° C. for 5 hours in the tenth heat treatment step. (Example 1) As shown in Table 2 in the above steps, the composition of the etching bath solution was changed by changing the ratio of the glass fiber of the inorganic filler compounded to the polyethylene terephthalate resin or the polybutylene terephthalate resin and the wollastonite. The polyethylene terephthalate resin was plated with copper after being treated differently.

【0016】No.1は、ガラス繊維10重量%、ウォ
ラストナイト15重量%含有するポリエチレンテレフタ
レート樹脂を用い、酸性フッ化アンモニウム100g/
l、リン酸200ml/lの水溶液からなるエッチング
液を用い表1に示した各工程を経てポリエチレンテレフ
タレート樹脂の銅めっき品を作製した。No.2では、
無機充填剤の配合をガラス繊維20重量%、ウォラスト
ナイト15重量%としたポリエチレンテレフタレート樹
脂を用いた以外は、No.1と同じエッチング液を用い
た。
No. 1 is a polyethylene terephthalate resin containing 10% by weight of glass fiber and 15% by weight of wollastonite, and 100 g of ammonium acid fluoride /
A copper-plated product of polyethylene terephthalate resin was produced through the steps shown in Table 1 using an etching solution composed of an aqueous solution of 1 and 200 ml / l of phosphoric acid. No. In 2,
No. 3 except that a polyethylene terephthalate resin was used in which the inorganic filler was compounded in an amount of 20% by weight of glass fiber and 15% by weight of wollastonite. The same etching solution as in 1 was used.

【0017】No.3では、無機充填剤の配合をガラス
繊維10重量%、ウォラストナイト10重量%としたポ
リエチレンテレフタレート樹脂を用いた以外は、No.
1と同じエッチング液を用いた。No.4では、No.
1で使用したポリエチレンテレフタレート樹脂を用い、
エッチング液をリン酸100ml/l、酸性フッ化アン
モニウム100g/lの組成とした以外は、No.1と
同じ条件でめっき処理をおこなった。
No. In No. 3, except that a polyethylene terephthalate resin containing 10% by weight of glass fiber and 10% by weight of wollastonite was used as an inorganic filler, No. 3 was used.
The same etching solution as in 1 was used. No. In No. 4, No. 4
Using the polyethylene terephthalate resin used in 1,
No. 3 except that the etching solution had a composition of phosphoric acid 100 ml / l and ammonium acid fluoride 100 g / l. The plating treatment was performed under the same conditions as in 1.

【0018】No.5では、No.1で使用したポリエ
チレンテレフタレート樹脂を用い、エッチング液の組成
を酸性フッ化アンモニウムの濃度を50g/l、リン酸
100ml/lとした以外は、No.1と同じ条件でめ
っき処理をおこなった。No.6では、No.1で使用
したポリエチレンテレフタレート樹脂を用い、エッチン
グ液の組成を酸性フッ化アンモニウムを100g/lに
したものを用いた以外は、No.1と同じ条件でめっき
処理をおこなった。
No. In No. 5, No. 5 No. 1 except that the polyethylene terephthalate resin used in 1 was used and the composition of the etching solution was ammonium acid fluoride concentration of 50 g / l and phosphoric acid of 100 ml / l. The plating treatment was performed under the same conditions as in 1. No. In No. 6, No. 6 No. 1 except that the polyethylene terephthalate resin used in 1 was used and the composition of the etching solution was 100 g / l of ammonium acid fluoride. The plating treatment was performed under the same conditions as in 1.

【0019】No.7では、No.2で使用したポリエ
チレンテレフタレート樹脂を用い、エッチング液の組成
を酸性フッ化アンモニウムを50g/lにしたものを用
いた以外は、No.1と同じ条件でめっき処理をおこな
った。No.8では、No.3で使用したポリエチレン
テレフタレート樹脂を用い、エッチング液の組成をリン
酸を200ml/lにしたものを用いた以外は、No.
1と同じ条件でめっき処理をおこなった。
No. In No. 7, No. 7 No. 2 except that the polyethylene terephthalate resin used in 2 was used and the composition of the etching solution was ammonium acid fluoride of 50 g / l. The plating treatment was performed under the same conditions as in 1. No. In No. 8, No. 8 No. 3 except that the polyethylene terephthalate resin used in 3 was used and the composition of the etching solution was phosphoric acid of 200 ml / l.
The plating treatment was performed under the same conditions as in 1.

【0020】No.9では、No.1で使用したポリエ
チレンテレフタレート樹脂を用い、エッチング液の組成
をリン酸を100ml/lにしたものを用いた以外は、
No.1と同じ条件でめっき処理をおこなった。No.
10はNo.1で使用したポリエチレンテレフタレート
樹脂を用い、No.1と同じ条件でめっき処理した後、
熱処理をおこなわなかったものである。
No. In No. 9, No. 9 Except that the polyethylene terephthalate resin used in 1 was used and the composition of the etching solution was phosphoric acid of 100 ml / l,
No. The plating treatment was performed under the same conditions as in 1. No.
No. 10 is No. Using the polyethylene terephthalate resin used in No. 1, No. After plating under the same conditions as 1
It was not heat treated.

【0021】[0021]

【表2】 [Table 2]

【0022】No.11はNo.2と同じ量のガラス繊
維とウォラストナイトを含有するポリブチレンテレフタ
レート樹脂を用いた以外はNo.1と同じエッチング液
を用いてめっき処理をおこなった。表3にその組成を示
す。No.12はNo.7と同じ量のガラス繊維とウォ
ラストナイトを含有するポリブチレンテレフタレート樹
脂を用いた以外はNo.1と同じエッチング液を用いて
めっき処理をおこなった。
No. No. 11 is No. No. 2 except that a polybutylene terephthalate resin containing the same amount of glass fiber and wollastonite as 2 was used. A plating process was performed using the same etching solution as in 1. Table 3 shows the composition. No. No. 12 is No. No. 7 except that a polybutylene terephthalate resin containing the same amount of glass fiber and wollastonite as in No. 7 was used. A plating process was performed using the same etching solution as in 1.

【0023】[0023]

【表3】 [Table 3]

【0024】(実施例2)表4に示す各工程および条件
(実施例1に類似)により、ポリエステル樹脂にニッケ
ルめっき皮膜を形成した。
Example 2 A nickel plating film was formed on a polyester resin by the steps and conditions shown in Table 4 (similar to Example 1).

【0025】[0025]

【表4】 [Table 4]

【0026】表3のNo.13示すように、No.1と
同じ量のガラス繊維とウォラストナイトとを含有するポ
リエチレンテレフタレート樹脂を用い、エッチング液に
酸性フッ化アンモニウム100g/lを用いた他は銅め
っき皮膜とほぼ同じ条件で、めっき皮膜形成用試薬をニ
ッケル用に代えてめっき処理をおこなった。 (比較例)比較として表3に示すように無機充填剤のウ
ォラストナイトをアルミナに変えたものおよび無機充填
剤はそのままの樹脂を用いエッチング浴組成を硫酸、し
ゅう酸に変えて表1の銅めっき工程をおこなった。
No. 3 in Table 3 As shown in FIG. A reagent for forming a plating film under substantially the same conditions as the copper plating film except that the polyethylene terephthalate resin containing the same amount of glass fiber and wollastonite as 1 is used and ammonium acid fluoride 100 g / l is used as the etching solution. Was used instead of nickel for plating. (Comparative Example) For comparison, as shown in Table 3, the wollastonite of the inorganic filler was changed to alumina, and the resin of the inorganic filler was used as it was, and the etching bath composition was changed to sulfuric acid and oxalic acid. A plating process was performed.

【0027】No.15は、ガラス繊維10重量%、ア
ルミナ粉末15重量%を含有するポリエチレンテレフタ
レート樹脂を用いて、No.1と同じ条件でエッチング
処理、めっき処理をおこなった。No.16はエッチン
グ液の組成を硫酸100ml/lに変えた他は、No.
1の樹脂を用い同じ条件でめっき処理をおこなった。
No. No. 15 is a polyethylene terephthalate resin containing 10% by weight of glass fiber and 15% by weight of alumina powder. Etching treatment and plating treatment were performed under the same conditions as in 1. No. No. 16 was No. 16 except that the composition of the etching solution was changed to 100 ml / l of sulfuric acid.
The resin of No. 1 was used to perform the plating treatment under the same conditions.

【0028】No.17はエッチング液をしゅう酸20
0g/lに変えた他は、No.1のポリエチレンテレフ
タレート樹脂を用い同じ条件でめっき処理をおこなっ
た。No.18はエッチング処理をせずにNo.1のポ
リエチレンテレフタレート樹脂を用い同じ条件でめっき
処理をおこなった。 (評価)得られた各めっき品のめっき皮膜の密着性を、
幅20mmのピール試験法で測定した。結果を表2、3に
示す。表中の密着力の単位はkg/cm である。
No. 17 is oxalic acid 20 as an etching solution
Other than changing to 0 g / l, no. The plating treatment was performed under the same conditions using the polyethylene terephthalate resin of No. 1. No. No. 18 is No. without etching treatment. The plating treatment was performed under the same conditions using the polyethylene terephthalate resin of No. 1. (Evaluation) The adhesion of the plated film of each plated product obtained was
It was measured by a peel test method with a width of 20 mm. The results are shown in Tables 2 and 3. The unit of adhesion in the table is kg / cm.

【0029】表2、3に示すように、実施例1、2では
密着力が1.4〜0.9kg/cm の範囲にあり、比較例の
0.5〜0.3kg/cm より高く密着性に優れていること
を示している。また銅めっき皮膜以外にニッケルめっき
皮膜でもNo.13に示すように密着力は1.1kg/cm
であり銅と同じである。
As shown in Tables 2 and 3, the adhesive strength in Examples 1 and 2 is in the range of 1.4 to 0.9 kg / cm, which is higher than that of Comparative Example, 0.5 to 0.3 kg / cm. It has shown that it is excellent in sex. In addition to the copper plating film, the nickel plating film also has a No. Adhesion is 1.1kg / cm as shown in 13
And is the same as copper.

【0030】したがって、エッチング液にリン酸、酸性
フッ化アンモニウムの溶液を使用することにより、密着
性の優れためっき皮膜を通常の工程で、ポリエステル樹
脂上に形成することができる。
Therefore, by using a solution of phosphoric acid and ammonium acid fluoride as the etching solution, a plating film having excellent adhesion can be formed on the polyester resin in a usual process.

【0031】[0031]

【発明の効果】本発明のめっき法によれば、ポリエステ
ル樹脂のエッチングに使用する液組成を特定することに
より、従来のめっき工程を適用しても従来のめっき皮膜
より密着性の高いめっき皮膜が形成できる。本発明にお
いて使用するエッチング液には、リン酸および酸性フッ
化アンモニウムが用いられているが、これらは低毒性で
あり、特に酸性フッ化アンモニウムは消毒や防虫剤など
の成分として用いられており、従来使用されている硫酸
や、クロム酸より毒性が低く安全である。したがって、
めっき工程の環境をより安全とすることができる。
EFFECT OF THE INVENTION According to the plating method of the present invention, by specifying the liquid composition used for etching the polyester resin, a plating film having higher adhesion than the conventional plating film can be obtained even when the conventional plating process is applied. Can be formed. The etching solution used in the present invention, phosphoric acid and ammonium acid fluoride are used, but these are low toxicity, ammonium acid fluoride is particularly used as a component such as disinfectant and insect repellent, It is less toxic and safer than conventional sulfuric acid and chromic acid. Therefore,
The environment of the plating process can be made safer.

フロントページの続き (72)発明者 中井 清隆 愛知県刈谷市朝日町2丁目1番地 アイシ ン精機株式会社内 (72)発明者 岡田 義夫 大阪市西成区玉出西2丁目20番65号 株式 会社サトーセン内 (72)発明者 西城 信吾 大阪市西成区玉出西2丁目20番65号 株式 会社サトーセン内 (72)発明者 宮下 俊逸 大阪市北区中之島三丁目2番4号 鐘淵化 学工業株式会社内Front Page Continuation (72) Inventor Kiyotaka Nakai 2-1, Asahi-cho, Kariya City, Aichi Aisin Seiki Co., Ltd. (72) Inventor Yoshio Okada 2-20-65 Tamade Nishi Nishinari-ku, Osaka Satosen Co., Ltd. (72) Inventor Shingo Nishijo 2-2065 Tamade Nishi, Nishinari-ku, Osaka City Satosen Co., Ltd. (72) Inventor Shunsuke Miyashita 3-4-2 Nakanoshima 3-chome, Kita-ku, Osaka City Kanebuchi Kagaku Kogyo Co., Ltd.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ガラス繊維とウォラストナイトとを含有
するポリエステル樹脂の被めっき面を、エッチング液に
浸漬してエッチング処理をおこなう前処理工程と、エッ
チング処理されたポリエステル樹脂にめっき皮膜を形成
するめっき工程と、からなるポリエステル樹脂上にめっ
きを施す方法において、 前記ポリエステル樹脂は、ガラス繊維とウォラストナイ
トとを含有し、かつ前記エッチング液は、リン酸、酸性
フッ化アンモニウムあるいはこれらの混酸溶液であるこ
とを特徴とするポリエステル樹脂上にめっきを施す方
法。
1. A pretreatment step of immersing a surface of a polyester resin containing glass fibers and wollastonite to be plated in an etching solution to perform an etching treatment, and forming a plating film on the etched polyester resin. In a method of plating on a polyester resin comprising a plating step, the polyester resin contains glass fibers and wollastonite, and the etching solution is phosphoric acid, ammonium acid fluoride or a mixed acid solution thereof. A method of plating on a polyester resin, characterized in that
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