JPH05237075A - Tuning method of chemical shift saturation pulse - Google Patents
Tuning method of chemical shift saturation pulseInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明はＭＲＩ装置のケミカルシ
フトによる不要成分を除去するケミカルシフト飽和パル
スのチューニング方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of tuning a chemical shift saturation pulse for removing unnecessary components due to a chemical shift of an MRI apparatus.
【０００２】[0002]
【従来の技術】ＭＲＩ装置は核磁気共鳴（以下ＮＭＲと
いう）現象を用いて特定原子核に注目した被検体の断層
像を得る装置である。このＭＲＩ装置において、現在の
イメージングの主な対象核種である水素原子核のプロト
ンＮＭＲについて考察する。2. Description of the Related Art An MRI apparatus is an apparatus for obtaining a tomographic image of a subject focused on a specific atomic nucleus by using a nuclear magnetic resonance (hereinafter referred to as NMR) phenomenon. In this MRI apparatus, proton NMR of hydrogen nuclei, which is the main target nuclide for imaging at present, will be considered.
【０００３】ＮＭＲの共鳴条件は次式で与えられる。 ν＝γＨ0 ／２π …………（１） ここで、νは共鳴周波数、Ｈ0 はその物質に加えられる
静磁場の強さ、γは原子核固有の定数で、核磁気回転比
（通常γ値）と呼ばれている。The resonance condition of NMR is given by the following equation. ν = γH 0 / 2π (1) where ν is the resonance frequency, H 0 is the strength of the static magnetic field applied to the substance, γ is a constant peculiar to the nucleus, and the nuclear magnetic rotation ratio (usually γ Value) is called.
【０００４】一般に物質中ではＮＭＲの共鳴周波数νは
外から加えた静磁場Ｈ0 による共鳴条件式である（１）
式からずれる場合が多い。このずれは金属物質中の原子
核では極めて大きくなるが、プロトンの場合でも、その
共鳴周波数は敏感に化学構造に依存して変化する。この
原因の一つは電子の軌道運動によって、Ｈ0 と逆向きに
生じる磁場（反磁場）によるもので、電子による核の遮
蔽効果と呼ばれている。従って、共鳴周波数は、この遮
蔽効果による定数σを用いて、次式により与えられる。Generally, in a substance, the resonance frequency ν of NMR is a resonance condition expression by a static magnetic field H 0 applied from the outside (1).
Often deviates from the formula. This shift becomes extremely large in the nucleus of the metal substance, but even in the case of a proton, its resonance frequency sensitively changes depending on the chemical structure. One of the causes is a magnetic field (demagnetizing field) generated in the direction opposite to H 0 due to the orbital motion of electrons, which is called a shielding effect of the nucleus by the electrons. Therefore, the resonance frequency is given by the following equation using the constant σ due to this shielding effect.
【０００５】 ν＝（γ／２π）Ｈ0 （１−σ） …………（２） このような共鳴周波数のずれをケミカルシフトと呼び、
低磁場側に共鳴が観測される。そして、このケミカルシ
フトは、化学結合によって電子密度の分布や電子の軌道
運動が変化し、σが異なってくる。そのため同じプロト
ンでも化合物によって共鳴条件が異なっている。即ち、
Ｈ2 Ｏ中のプロトンと脂肪中のプロトンではラーモア周
波数が約３．５ppm ずれる。Ν = (γ / 2π) H 0 (1-σ) (2) Such a shift in resonance frequency is called a chemical shift,
Resonance is observed on the low magnetic field side. In this chemical shift, the distribution of the electron density and the orbital motion of the electrons change due to the chemical bond, and σ becomes different. Therefore, even the same proton has different resonance conditions depending on the compound. That is,
The Larmor frequency is deviated by about 3.5 ppm between the protons in H 2 O and the protons in fat.
【０００６】図４は従来のＭＲＩ装置のＲＦ軸と信号軸
に与えられるパルスシーケンスと、得られる信号の図
で、（イ）図はＲＦ軸に与えられるパルスシーケンスと
得られる信号の図で、１は励起パルスである９０°パル
ス、２は反転パルスである１８０°パルスである。３は
９０°パルス１と１８０°パルス２の時間間隔をＴE ／
２とすると、９０°パルス印加後時間ＴE の後に現れる
ＳＥ信号である。FIG. 4 is a diagram of a pulse sequence applied to the RF axis and the signal axis of the conventional MRI apparatus and the obtained signal. FIG. 4A is a diagram of the pulse sequence applied to the RF axis and the obtained signal. Reference numeral 1 is a 90 ° pulse which is an excitation pulse, and 2 is a 180 ° pulse which is an inversion pulse. 3 is the time interval between 90 ° pulse 1 and 180 ° pulse 2 T E /
If it is 2, the SE signal appears after the time T E after 90 ° pulse application.
【０００７】（ロ）図は（イ）図のパルスシーケンスに
よって生じたＳＥ信号のデータをフーリエ変換したもの
を表示したＳＥ信号３のスペクトル図である。図におい
て、４は水成分を表わすパルスで、水の共鳴周波数をｆ
0 とすると脂肪成分５の共鳴周波数はｆ0 −３．５ppm
となる。FIG. 2B is a spectrum diagram of the SE signal 3 in which the data of the SE signal generated by the pulse sequence of FIG. In the figure, 4 is a pulse representing the water component, and the resonance frequency of water is f
0 to the resonant frequency of the fat component 5 f 0 -3.5Ppm
Becomes
【０００８】ところで、図４の（ロ）図のスペクトル図
に明らかなように脂肪成分５の振幅は水成分４の振幅に
匹敵する程大きく、水成分４の測定の妨害となってい
る。この脂肪成分５を少なくして水成分４の測定を良好
に行うために、上記のように脂肪と水の共鳴周波数の差
を利用して脂肪成分の周波数だけを選択励起し飽和させ
るケミカルシフト飽和パルスを９０°パルスの前に印加
する手法がある。図５にそのパルスシーケンスとＳＥ信
号のスペクトル図を示す。この図では図４と同様に
（イ）図にパルスシーケンスとＳＥ信号を示し、（ロ）
図にＳＥ信号３のスペクトル図を示している。図におい
て、図４と同等の部分には同一の符号を付してある。図
中、６はケミカルシフト飽和パルス７を印加するケミカ
ルシフト飽和パルス印加部、８は通常のＲＦパルスを印
加して各元素、化合物等の共鳴周波数に合致させて所望
の元素の信号を得るための中心周波数調整用シーケンス
部である。このケミカルシフト飽和パルス７を印加する
ことにより、（ロ）図に明らかなように脂肪成分５が小
さくなっている。By the way, as is clear from the spectrum diagram of FIG. 4B, the amplitude of the fat component 5 is as large as the amplitude of the water component 4 and interferes with the measurement of the water component 4. In order to properly measure the water component 4 by reducing the fat component 5, the chemical shift saturation in which only the frequency of the fat component is selectively excited and saturated by utilizing the difference between the resonance frequencies of fat and water as described above. There is a technique of applying the pulse before the 90 ° pulse. FIG. 5 shows a spectrum diagram of the pulse sequence and the SE signal. Similar to FIG. 4, in this figure, the pulse sequence and the SE signal are shown in FIG.
A spectrum diagram of the SE signal 3 is shown in the figure. In the figure, the same parts as those in FIG. 4 are designated by the same reference numerals. In the figure, 6 is a chemical shift saturation pulse applying section for applying a chemical shift saturation pulse 7, and 8 is a normal RF pulse for applying a resonance frequency of each element, compound, etc. to obtain a signal of a desired element. 3 is a sequence unit for adjusting the center frequency of the. By applying this chemical shift saturation pulse 7, the fat component 5 is reduced as is clear from FIG.
【０００９】[0009]
【発明が解決しようとする課題】ところが、スペクトル
の画面表示は（ロ）図だけで行われており、脂肪成分５
が小さくなってはいるが、ケミカルシフト飽和パルス７
の効果が必ずしも明確でない。従ってチューニングが正
しいのかどうかが不明であった。However, the screen display of the spectrum is performed only by the (b) diagram, and the fat component 5
Is smaller, but chemical shift saturation pulse 7
The effect of is not always clear. Therefore, it was unclear whether the tuning was correct.
【００１０】本発明は上記の点に鑑みてなされたもの
で、その目的は、得られる信号からケミカルシフトによ
って生ずる不要な成分による信号を除くためのケミカル
シフト飽和パルスの最適量を求めることのできるチュー
ニング方法を実現することである。The present invention has been made in view of the above points, and an object thereof is to obtain an optimum amount of a chemical shift saturation pulse for removing a signal due to an unnecessary component caused by a chemical shift from an obtained signal. It is to realize the tuning method.
【００１１】[0011]
【課題を解決するための手段】前記の課題を解決する本
発明は、ＭＲＩ装置のケミカルシフトによる不要成分を
除去するケミカルシフト飽和パルスのチューニング方法
であって、目的物の成分の共鳴周波数にＲＦ軸に印加す
るＲＦ信号の中心周波数を合わせる段階と、不要成分の
共鳴周波数のケミカルシフト飽和パルスをＲＦ軸に印加
する段階と、前記ケミカルシフト飽和パルスのＲＦパワ
ーを０にしてその時のスペクトル画面に現れる不要成分
の振幅を測定する段階と、チューニングモード画面にし
て参照ラインを１ステップずつ動かして印加するケミカ
ルシフト飽和パルスのＲＦパワーを上げ、各ＲＦパワー
に対応する前記不要成分の振幅を測定する段階と、前記
ケミカルシフト飽和パルスのＲＦパワーとそれに対応す
る前記不要成分の振幅とで作られるチューニングモード
画面から最適パワーチューニング値を求める段階とから
成ることを特徴とするものである。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention for solving the above problems is a method of tuning a chemical shift saturation pulse for removing unnecessary components due to chemical shift of an MRI apparatus, in which the resonance frequency of the target component is RF. The center frequency of the RF signal applied to the axis is adjusted, the chemical shift saturation pulse of the resonance frequency of the unnecessary component is applied to the RF axis, and the RF power of the chemical shift saturation pulse is set to 0 to display the spectrum screen at that time. Measuring the amplitude of the unwanted component that appears and moving the reference line step by step in the tuning mode screen to increase the RF power of the chemical shift saturation pulse to be applied, and measure the amplitude of the unwanted component corresponding to each RF power. And the RF power of the chemical shift saturation pulse and the corresponding unnecessary component Is characterized in that consists of a tuning mode screen made with a width and phase to obtain the optimum power tuning value.
【００１２】[0012]
【作用】目的物の成分の共鳴周波数にＲＦ信号の中心周
波数を合わせ、不要成分の共鳴周波数のケミカルシフト
飽和パルスをＲＦ軸に印加し、ケミカルシフト飽和パル
スのＲＦパワーを０から逐次上げてゆき、各ＲＦパワー
に対する不要成分の振幅をプロットして作ったチューニ
ングモード画面から最適ＲＦパワーチューニング値を求
める。The center frequency of the RF signal is adjusted to the resonance frequency of the target component, the chemical shift saturation pulse of the resonance frequency of the unnecessary component is applied to the RF axis, and the RF power of the chemical shift saturation pulse is sequentially increased from 0. , The optimum RF power tuning value is obtained from the tuning mode screen created by plotting the amplitude of the unnecessary component for each RF power.
【００１３】[0013]
【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細
に説明する。図１，図２は本発明のチューニング方法を
説明するための図で、図１はパルスシーケンスとＳＥ信
号のスペクトルを示す図、図２はケミカルシフト飽和パ
ルスの最適値を求めるために作成するチューニングモー
ド図である。Embodiments of the present invention will now be described in detail with reference to the drawings. 1 and 2 are diagrams for explaining the tuning method of the present invention, FIG. 1 is a diagram showing a spectrum of a pulse sequence and an SE signal, and FIG. 2 is a tuning created for obtaining an optimum value of a chemical shift saturation pulse. It is a mode diagram.
【００１４】図１において、図５と同等の部分には同一
の符号を付してある。（ロ）図において、９は画面上に
表示するラインカーソルで、ラインカーソル９を入力装
置（図示せず。トラックボール等による。）で動かす
と、画面上の横軸に示される周波数のＲＦパルスが被検
体に加えられる。In FIG. 1, the same parts as those in FIG. 5 are designated by the same reference numerals. In the figure (b), 9 is a line cursor displayed on the screen, and when the line cursor 9 is moved by an input device (not shown; by a trackball or the like), an RF pulse having a frequency shown on the horizontal axis on the screen is displayed. Are added to the subject.
【００１５】図２のチューニングモード図では、横軸に
ＲＦ軸に印加したケミカルシフト飽和パルス７の大きさ
を示すＲＦパワーを取り、縦軸に図１の（ロ）図に示す
ラインカーソル９で指定された周波数での脂肪成分５の
振幅値Ａf を取っている。図において、１０は画面上に
表示されるトラックボール等の入力装置からの入力によ
って左右に移動可能な参照ラインである。この参照ライ
ンを入力装置によって動かすと、参照ライン１０の位置
に合致したＲＦパワーを持つケミカルシフト飽和パルス
７がＲＦ軸に印加される。In the tuning mode diagram of FIG. 2, the horizontal axis indicates the RF power indicating the magnitude of the chemical shift saturation pulse 7 applied to the RF axis, and the vertical axis indicates the line cursor 9 shown in FIG. The amplitude value A f of the fat component 5 at the designated frequency is taken. In the figure, reference numeral 10 is a reference line which can be moved left and right by an input from an input device such as a trackball displayed on the screen. When this reference line is moved by the input device, a chemical shift saturation pulse 7 having RF power matching the position of the reference line 10 is applied to the RF axis.
【００１６】次に、図１に示すＲＦ軸にケミカルシフト
飽和パルス７を加えたパルスシーケンスを印加した場合
に脂肪成分５を最小にするチューニング方法を図３のフ
ローチャートを用いて説明する。ＭＲＩ装置が動作状態
になっている状態から開始する。Next, a tuning method for minimizing the fat component 5 when the pulse sequence in which the chemical shift saturation pulse 7 is added to the RF axis shown in FIG. 1 is applied will be described with reference to the flowchart of FIG. It starts from a state where the MRI apparatus is in an operating state.
【００１７】ステップ１ スペクトル図の水成分４に中心周波数ｆ0 を合わせる。 ステップ２ 表示画面をスペクトルモードにし、ラインカーソル９を
脂肪成分５のピーク位置に合わせ、周波数がｆ0 −Δｆ
（Δｆは３．５ppm とする）の帯域ｆB （水成分４には
オーバーラップしない帯域幅）のケミカルシフト飽和パ
ルス７をＲＦ軸に加える。Step 1 The center frequency f 0 is adjusted to the water component 4 in the spectrum diagram. Step 2 Set the display screen to the spectrum mode, align the line cursor 9 with the peak position of the fat component 5, and set the frequency to f 0 −Δf.
A chemical shift saturation pulse 7 in a band f B (a band width that does not overlap the water component 4) of (Δf is 3.5 ppm) is applied to the RF axis.
【００１８】ステップ３ ケミカルシフト飽和パルス７のＲＦパワーを０にする。 ステップ４ ＲＦパワー０の時の脂肪成分５の振幅Ａf を測定する。Step 3 The RF power of the chemical shift saturation pulse 7 is set to 0. Step 4 The amplitude A f of the fat component 5 when the RF power is 0 is measured.
【００１９】ステップ５ 表示画面をチューニングモードに切り替え、参照ライン
１０を１ステップ動かしてＲＦパワーを上げる。Step 5 The display screen is switched to the tuning mode, and the reference line 10 is moved one step to increase the RF power.
【００２０】ステップ６ スペクトルモード画面にして脂肪成分５の振幅Ａf を測
定する。 ステップ７ 予定した測定範囲の測定が終ったかチェックする。終っ
ていなければステップ５に戻る。終っていればステップ
８に進む。Step 6 The amplitude A f of the fat component 5 is measured on the spectrum mode screen. Step 7 Check if the measurement of the planned measurement range is completed. If not, return to step 5. If finished, proceed to step 8.
【００２１】ステップ８ チューニングモード画面から脂肪成分５の振幅Ａf の最
小となるＲＦパワーを見付け、この値を最適ＲＦパワー
チューニング値とする。Step 8 From the tuning mode screen, find the RF power that minimizes the amplitude A f of the fat component 5, and set this value as the optimum RF power tuning value.
【００２２】ステップ９ ケミカルシフト飽和パルス７のＲＦパワーをステップ８
で得た最適ＲＦパワーチューニング値に調節してＲＦ軸
に印加する。Step 9: The RF power of the chemical shift saturation pulse 7 is set to Step 8
The value is adjusted to the optimum RF power tuning value obtained in step 1 and applied to the RF axis.
【００２３】ステップ１０ 以上のステップで得たパルスシーケンスでスキャンを行
う。上記の方法において、チューニングモード図を作る
場合にステップ５において行うＲＦパワーの上昇ステッ
プの選択及びステップ７の測定範囲の選択はチューニン
グスキャン時間と測定精度に関係するので、ヘッドコイ
ルやボディコイルなどのコイル毎にテーブルを作ってお
いて、それぞれに対応して最適値を求める。Step 10 Scan is performed with the pulse sequence obtained in the above steps. In the above method, when the tuning mode diagram is created, the selection of the step of increasing the RF power in step 5 and the selection of the measurement range in step 7 are related to the tuning scan time and the measurement accuracy. Create a table for each coil and find the optimum value for each.
【００２４】上記の方法は脂肪成分を抑制することを例
として説明したが水成分を抑制する場合にも用いること
ができる。以上説明したように本実施例によれば （１）パルスシーケンスにケミカルシフト飽和パルスを
追加し、そのＲＦパワーを可変にして脂肪成分の振幅を
プロットすることにより脂肪と水のスペクトルの変化が
観察できると同時にケミカルシフト飽和パルスの効果の
確認ができて、チューニングの値の正確さを認識するこ
とができるようになる。Although the above method has been described by taking the case of suppressing the fat component as an example, it can also be used in the case of suppressing the water component. As described above, according to the present embodiment, (1) a chemical shift saturation pulse is added to the pulse sequence, the RF power is made variable, and the amplitude of the fat component is plotted to observe changes in the fat and water spectra. At the same time, the effect of the chemical shift saturation pulse can be confirmed, and the accuracy of the tuning value can be recognized.
【００２５】（２）図２に示すようなチューニングモー
ド図を作ることにより、視覚的に脂肪成分が最小になる
ＲＦパワーの最適値が容易に求められる。尚、本発明は
上記実施例に限定されるものではない。実施例ではケミ
カルシフト飽和パルスにｓｉｎｃパルスを用いたが、バ
イノミアルパルス等他の波形のものを用いても適用可能
である。(2) By creating a tuning mode diagram as shown in FIG. 2, the optimum value of the RF power that minimizes the fat component visually can be easily obtained. The present invention is not limited to the above embodiment. In the embodiment, the sinc pulse is used as the chemical shift saturation pulse, but other waveforms such as binomial pulse can be used.
【００２６】図２のチューニングモード図を作る場合に
トラックボールに限らず入力装置から数値で入力しても
良い。本実施例で示した方法の手順を９０°パルス、１
８０°パルスのパワーや、受信利得の算出等を行うチュ
ーニングスキャンに加えることにより、自動化されたチ
ューニング方法にすることもできる。When making the tuning mode diagram of FIG. 2, not only the trackball but also a numerical value may be input from the input device. The procedure of the method shown in the present embodiment is 90 ° pulse, 1
An automated tuning method can also be performed by adding to the tuning scan for calculating the power of 80 ° pulse and the reception gain.
【００２７】[0027]
【発明の効果】以上詳細に述べたように本発明によれ
ば、ケミカルシフトによって生ずる不要な成分による信
号を除いて、目的とする成分による信号のみを得ること
ができるようになり、実用上の効果は大きい。As described above in detail, according to the present invention, it becomes possible to obtain only the signal of the target component, excluding the signal of the unnecessary component caused by the chemical shift, which is practical. The effect is great.
【図１】本発明の一実施例のチューニング方法を説明す
るための図で、（イ）図はパルスシーケンスの図、
（ロ）図はＳＥ信号のスペクトル図である。FIG. 1 is a diagram for explaining a tuning method according to an embodiment of the present invention, in which (a) is a pulse sequence diagram,
(B) is a spectrum diagram of the SE signal.
【図２】本発明の一実施例のチューニング方法に用いる
チューニングモード図である。FIG. 2 is a tuning mode diagram used in the tuning method of the embodiment of the present invention.
【図３】本発明の実施例の方法のフローチャートであ
る。FIG. 3 is a flowchart of a method according to an embodiment of the present invention.
【図４】通常のスキャンのパルスシーケンスとそれによ
って得られる信号の図で、（イ）図はＲＦ軸に与えられ
るパルスの図、（ロ）図は得られたＳＥ信号のスペクト
ル図である。4A and 4B are diagrams of a pulse sequence of a normal scan and a signal obtained by the pulse sequence. FIG. 4A is a diagram of pulses applied to the RF axis, and FIG. 4B is a spectrum diagram of the obtained SE signal.
【図５】脂肪成分のデータを減少させるためのパルスシ
ーケンスとその効果を示す図で、（イ）図はパルスシー
ケンスの図、（ロ）図はＳＥ信号のスペクトル図であ
る。5A and 5B are diagrams showing a pulse sequence for reducing fat component data and its effect. FIG. 5A is a pulse sequence diagram, and FIG. 5B is an SE signal spectrum diagram.
１ ９０°パルス ２ １８０°パルス ４ 水成分 ５ 脂肪成分 ７ ケミカルシフト飽和パルス ９ ラインカーソル １０ 参照ライン 1 90 ° pulse 2 180 ° pulse 4 Water component 5 Fat component 7 Chemical shift saturation pulse 9 Line cursor 10 Reference line
Claims (1)
成分を除去するケミカルシフト飽和パルスのチューニン
グ方法であって、 目的物の成分（４）の共鳴周波数にＲＦ軸に印加するＲ
Ｆ信号の中心周波数を合わせる段階と、 不要成分（５）の共鳴周波数のケミカルシフト飽和パル
ス（７）をＲＦ軸に印加する段階と、 前記ケミカルシフト飽和パルス（７）のＲＦパワーを０
にしてその時のスペクトル画面に現れる不要成分（５）
の振幅（Ａf ）を測定する段階と、 チューニングモード画面にして参照ライン（１０）を１
ステップずつ動かして印加するケミカルシフト飽和パル
ス（７）のＲＦパワーを上げ、各ＲＦパワーに対応する
前記不要成分（５）の振幅（Ａf ）を測定する段階と、 前記ケミカルシフト飽和パルスのＲＦパワーとそれに対
応する前記不要成分（５）の振幅（Ａf ）とで作られる
チューニングモード画面から最適パワーチューニング値
を求める段階とから成ることを特徴とするケミカルシフ
ト飽和パルスのチューニング方法。1. A method of tuning a chemical shift saturation pulse for removing an unnecessary component due to a chemical shift of an MRI apparatus, wherein R is applied to a resonance frequency of a component (4) of an object on an RF axis.
The step of matching the center frequency of the F signal, the step of applying a chemical shift saturation pulse (7) of the resonance frequency of the unnecessary component (5) to the RF axis, and the RF power of the chemical shift saturation pulse (7) being 0
And unnecessary components appearing on the spectrum screen at that time (5)
The amplitude (A f ) of the measurement, and the reference line (10) is set to 1 in the tuning mode screen.
Increasing the RF power of the applied chemical shift saturation pulse (7) by moving step by step and measuring the amplitude (A f ) of the unnecessary component (5) corresponding to each RF power; and RF of the chemical shift saturation pulse. A method of tuning a chemical shift saturation pulse, comprising the step of obtaining an optimum power tuning value from a tuning mode screen made up of power and the amplitude (A f ) of the unnecessary component (5) corresponding thereto.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3201034A JPH05237075A (en) | 1991-08-12 | 1991-08-12 | Tuning method of chemical shift saturation pulse |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3201034A JPH05237075A (en) | 1991-08-12 | 1991-08-12 | Tuning method of chemical shift saturation pulse |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05237075A true JPH05237075A (en) | 1993-09-17 |
Family
ID=16434342
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3201034A Pending JPH05237075A (en) | 1991-08-12 | 1991-08-12 | Tuning method of chemical shift saturation pulse |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05237075A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008072393A1 (en) * | 2006-12-15 | 2008-06-19 | Hitachi Medical Corporation | Nuclear magnetic resonance imaging device |
| JP2008272185A (en) * | 2007-04-27 | 2008-11-13 | Hitachi Medical Corp | Nuclear magnetic resonance imaging apparatus |
-
1991
- 1991-08-12 JP JP3201034A patent/JPH05237075A/en active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| WO2008072393A1 (en) * | 2006-12-15 | 2008-06-19 | Hitachi Medical Corporation | Nuclear magnetic resonance imaging device |
| US8188739B2 (en) | 2006-12-15 | 2012-05-29 | Hitachi Medical Corporation | Nuclear magnetic resonance imaging apparatus |
| JP5004967B2 (en) * | 2006-12-15 | 2012-08-22 | 株式会社日立メディコ | Nuclear magnetic resonance imaging apparatus, high-frequency magnetic field pulse intensity adjusting method, and nuclear magnetic resonance imaging method |
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