JPH05234538A - Antireflection and antistatic coatings particularly for cathode-ray tube and its manufacture - Google Patents

Antireflection and antistatic coatings particularly for cathode-ray tube and its manufacture

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JPH05234538A
JPH05234538A JP4284596A JP28459692A JPH05234538A JP H05234538 A JPH05234538 A JP H05234538A JP 4284596 A JP4284596 A JP 4284596A JP 28459692 A JP28459692 A JP 28459692A JP H05234538 A JPH05234538 A JP H05234538A
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JP
Japan
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layer
silicon dioxide
coating
antistatic
substrate
Prior art date
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Application number
JP4284596A
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Japanese (ja)
Inventor
Johannes M A A Compen
マリア アザリナ アントニウス コンペン ヨハネス
Den Eeden A L G Van
レオナルドゥス ヘラルドウス ファン デン エーデン アドリアヌス
Juergen P A Heymbeeck
パウル アルベルト ヘイムベーク ユルゲン
Henricus A A Keetels
アルノールドゥス アントニウス ケーテルス ヘンリクス
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Koninklijke Philips NV
Original Assignee
Philips Gloeilampenfabrieken NV
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Abstract

PURPOSE: To provide antireflectioon and antistatic layers which are simply manufactured having good reproducibility and which are not subject to rapid deterioration due to damage and to erosion or contamination due to moisture. CONSTITUTION: This coating is made in the form of a double layer comprising an antiglare layer 6 and an antireflection layer 4 on a substrate 2, particularly on a display screen of a cathode-ray tube. The antistatic layer made of silicon dioxide containing at least one kind of conductive gold oxide is formed from an alcohol solution of alkoxyl silane compound. The antiglar layer 6 made of lithium silicate is formed from underwater sol of lithium oxide stabilized silicon dioxide. If desired, both layers may be reversed, in this case, the conductive gold oxide is blended in lithium silicate when necessary.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、二酸化珪素の層と防眩
層より成る二重層を有する、基体上の反射防止及び帯電
防止コーティングに関するものである。本発明はまた、
二酸化珪素の層と防眩層より成る反射防止及び帯電防止
コーティングを有する陰極線管に関するものである。本
発明は更に、帯電防止層と防眩層より成る二重層を有
し、帯電防止層は、アルコキシシラン化合物のアルコー
ル溶液内の少なくとも一種の導電性金属酸化物の懸濁液
を設け続いて高温での処理によって二酸化珪素と少なく
とも一種の導電性金属の混合物の層を形成する、基体上
の反射防止及び防眩層コーティングの製造方法に関する
ものである。本発明は更にまた、二酸化珪素の層と防眩
層より成る二重層を有する反射防止及び帯電防止コーテ
ィングを基体上につくる方法に関するものである。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to an antireflection and antistatic coating on a substrate having a double layer consisting of a layer of silicon dioxide and an antiglare layer. The present invention also provides
The present invention relates to a cathode ray tube having an antireflection and antistatic coating consisting of a layer of silicon dioxide and an antiglare layer. The invention further comprises a double layer consisting of an antistatic layer and an antiglare layer, the antistatic layer being provided with a suspension of at least one electrically conductive metal oxide in an alcoholic solution of an alkoxysilane compound and subsequently at high temperature. The invention relates to a method for producing an antireflection and antiglare layer coating on a substrate, which forms a layer of a mixture of silicon dioxide and at least one electrically conductive metal by treatment with. The invention also relates to a method for producing an antireflection and antistatic coating on a substrate having a double layer consisting of a layer of silicon dioxide and an antiglare layer.

【0002】[0002]

【従来の技術】反射防止コーティングは、光の反射損失
を低減しまたイメージの妨害反射を抑制するために、例
えば表示装置の表示スクリーン、光源の容器や窓のよう
にその他の光学要素に使用される。前記のようなコーテ
ィングは特に鏡面反射を低減するために(防眩効果)用
いられる。帯電防止コーティングは、例えば表示装置の
表示スクリーン上に用いられる。このような層は、装置
の外表面に存する高い静電圧を数秒内で確実に取除くこ
とができるように十分に導電性である。したがって、使
用者がスクリーンに触わると不愉快なショックを受けた
り周囲のほこりを吸着することが防がれる。
Anti-reflection coatings are used on other optical elements, such as display screens of display devices, light source containers and windows, to reduce reflection losses of light and suppress interfering reflections of images. It The coating as described above is used especially for reducing specular reflection (antiglare effect). Antistatic coatings are used, for example, on the display screen of display devices. Such layers are sufficiently conductive to ensure that high static voltages present on the outer surface of the device can be removed within seconds. Therefore, when the user touches the screen, the user is prevented from receiving an unpleasant shock or adsorbing dust around the user.

【0003】米国特許第4,945,282 号明細書には、二酸
化珪素の層と反射防止層より成る二重層を有する反射防
止及び帯電防止コーティングをそなえたスクリーンが記
載されている。二酸化珪素層は、例えば透明な導電性金
属酸化物を含み、基体と反射防止層との間にあって5か
ら50nmの厚さを有する帯電防止層である。前記の反射防
止層はやはり二酸化珪素を含み10から1000nmの直径を有
する二酸化珪素粒子を有する。若し所望ならば、両方の
層の機能を唯一つの層に組合わせることができる。前記
の米国特許明細書には、反射防止及び帯電防止コーティ
ングの製造方法も記載されている。両方の層は、アルコ
キシシラン化合物(alkoxysilane compound )の溶液を
設け、続いて二酸化珪素を形成するために高温で処理す
ることによりつくられる。前記の帯電防止層の製造に対
しては、例えば、酸化錫、酸化インジウムまたは酸化ア
ンチモンのような導電性金属酸化物がアルコキシシラン
化合物のアルコール溶液に懸濁される。反射防止層の製
造に対しては、二酸化珪素粒子がアルコキシシラン化合
物のアルコール溶液内に懸濁される。
US Pat. No. 4,945,282 describes a screen with an antireflective and antistatic coating having a double layer of a layer of silicon dioxide and an antireflective layer. The silicon dioxide layer is an antistatic layer which comprises, for example, a transparent conductive metal oxide and is between the substrate and the antireflection layer and has a thickness of 5 to 50 nm. The antireflective layer described above also comprises silicon dioxide particles containing silicon dioxide and having a diameter of 10 to 1000 nm. If desired, the functions of both layers can be combined into a single layer. The aforementioned U.S. patents also describe methods of making antireflective and antistatic coatings. Both layers are made by providing a solution of an alkoxysilane compound followed by a high temperature treatment to form silicon dioxide. For the production of the antistatic layer, a conductive metal oxide such as tin oxide, indium oxide or antimony oxide is suspended in an alcohol solution of an alkoxysilane compound. For the production of antireflection layers, silicon dioxide particles are suspended in an alcohol solution of an alkoxysilane compound.

【0004】この公知の反射防止及び帯電防止コーティ
ングの製造方法の欠点は、コーティングが反応性の本来
不安定なアルコキシシラン化合物のアルコール溶液を用
いることである。この溶液は湿気に敏感でまた保存性に
限度がある。このようにつくられた層の構造は、とりわ
け、アルコキシシラン化合物の加水分解および重合の程
度と溶液の粘度とによって左右されるので、結果の再現
性は、望まれる多くのものが置き去りにされる。このこ
とは、マイクロ構造が著しく光学特性に影響を与える反
射防止層に対して重要であり、遥かに厚い帯電防止層に
対してはそれ程重要ではない。公知の方法の別の欠点
は、多がかりに使用する時には多くの安全予防策を講じ
ることが必要な有機溶媒の使用によって形成されるとい
うことである。その上、公知の方法でつくられたコーテ
ィングは、二酸化珪素が表面層内に離散して存在するた
めに機械的に弱いことである。
A disadvantage of this known method of making antireflection and antistatic coatings is that the coating uses an alcoholic solution of a reactive and inherently unstable alkoxysilane compound. This solution is sensitive to moisture and has a limited shelf life. Since the structure of the layer thus produced depends, inter alia, on the extent of hydrolysis and polymerization of the alkoxysilane compound and the viscosity of the solution, the reproducibility of the results leaves much to be desired. .. This is important for antireflective layers, where the microstructure significantly affects the optical properties, and less so for much thicker antistatic layers. Another drawback of the known method is that it is formed by the use of organic solvents which require many safety precautions when used in large quantities. Moreover, the coatings produced by the known method are mechanically weak due to the discrete presence of silicon dioxide in the surface layer.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、とり
わけ、簡単で再現性ある方法でつくられることのでき
る、基体上の反射防止及び帯電防止コーティングを得る
ことにある。これに関して、本発明は長期の保存性を有
する安全な出発材料を目指したものである。本発明の別
の目的は、損傷による急速な劣化、湿気の作用、または
汚染を受けない安定な特性を有する機械的に強い層を得
ることにある。本発明の更に別の目的は、このような反
射防止及び帯電防止コーティングを得る簡単で信頼性の
ある方法を得ることにある。これに関して、本発明は、
有機溶媒の使用を最小限にすることを目指したものであ
る。
The object of the invention is, inter alia, to obtain an antireflection and antistatic coating on a substrate which can be produced in a simple and reproducible manner. In this regard, the present invention is directed to safe starting materials with long-term shelf life. Another object of the present invention is to obtain a mechanically strong layer with stable properties which are not subject to rapid deterioration due to damage, the action of moisture or contamination. Yet another object of the present invention is to provide a simple and reliable method of obtaining such antireflective and antistatic coatings. In this regard, the present invention
The aim is to minimize the use of organic solvents.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】反射防止及び帯電防止コ
ーティングを有する基体、特に表示スクリーンを有する
陰極線管を得る目的は、冒頭に記載された二酸化珪素の
層と防眩層の二重層より成る反射防止及び帯電防止コー
ティングにおいて、防眩層が酸化リチウムより成るよう
にすることにより達成される。
The object of obtaining a substrate having an antireflection and antistatic coating, in particular a cathode ray tube with a display screen, is the reflection consisting of a double layer of a layer of silicon dioxide and an antiglare layer as described at the outset. This is accomplished in the antistatic and antistatic coatings by having the antiglare layer consist of lithium oxide.

【0007】本発明の好適な実施態様では、二酸化珪素
の層は少なくとも一種の導電性金属酸化物を含む帯電防
止層である。適当な透明な導電性金属酸化物は酸化錫、
酸化インジウム、酸化アンチモン及びこれ等の混合物で
ある。吸湿性材料や金属及び金属化合物特にパラジウム
化合物のようなそれ自体は公知の他の材料を帯電層に所
要の導電率を与えるのに代りに用いることもできる。
In a preferred embodiment of the present invention, the layer of silicon dioxide is an antistatic layer containing at least one conductive metal oxide. A suitable transparent conductive metal oxide is tin oxide,
Indium oxide, antimony oxide and mixtures thereof. Other materials known per se, such as hygroscopic materials and metals and metal compounds, especially palladium compounds, may be used instead to provide the charge layer with the required conductivity.

【0008】本発明の第1の実施態様によれば、二酸化
珪素の層は基体と珪酸リチウムの層の間に位置される。
若し所望ならば、光学的、機械的またはその他の特性を
変えるための材料を層に加えてもよい。例えば、光透過
特性に影響を与えるために染料を用いることができる。
二酸化珪素層が少なくとも一種の染料を含むのが好まし
い。この方が染料を珪酸リチウム層に加えるよりも好ま
しい、というのは、このような層への染料の混入は永続
性に劣るからである。
According to a first embodiment of the invention, a layer of silicon dioxide is located between the substrate and the layer of lithium silicate.
If desired, materials may be added to the layer to modify its optical, mechanical or other properties. For example, dyes can be used to affect the light transmission properties.
It is preferred that the silicon dioxide layer contains at least one dye. This is preferable to adding the dye to the lithium silicate layer because incorporation of the dye into such a layer is less durable.

【0009】第1の実施態様とくらべて層が反射の順序
で設けられるようにした第2の実施態様では、珪酸リチ
ウム層は基体と二酸化珪素の間に位置される。防眩及び
帯電防止機能が単一の層に組合わされるようにした第3
の実施態様では、珪酸リチウムの層は、少なくとも一種
の導電性金属酸化物を含む帯電防止層であり、この層
は、基体と二酸化珪素の層の間に位置される。使用され
る導電性金属酸化物、或は若し所望ならば導電性を与え
る他の材料は、前記の2つの実施態様において二酸化珪
素の層内に用いられた材料と同じ材料とすることができ
る。この第3の実施態様では、二酸化珪素の層は、珪酸
リチウムの層に添加された材料が不変にその中に混入さ
れることを確実にするのに役立つ。
In a second embodiment, in which, compared to the first embodiment, the layers are provided in reflective order, the lithium silicate layer is located between the substrate and silicon dioxide. The third one, in which the antiglare and antistatic functions are combined into a single layer
In one embodiment, the layer of lithium silicate is an antistatic layer comprising at least one conductive metal oxide, which layer is located between the substrate and the layer of silicon dioxide. The conductive metal oxide used, or other material which imparts conductivity if desired, can be the same material used in the layer of silicon dioxide in the previous two embodiments. .. In this third embodiment, the layer of silicon dioxide serves to ensure that the material added to the layer of lithium silicate is permanently incorporated therein.

【0010】本発明のコーティングの第2または第3の
実施態様における一種またはそれ以上の染料のような添
加材料を入れることが所望されるならば、この染料を随
意に層の夫々に添加することができる。特に、二重層の
少なくとも一方は染料を含む。二酸化珪素の層内には染
料が永続的に混入され、これ等の実施態様の酸化リチウ
ムの層は二酸化珪素の層で被覆され、このため、この場
合にも確実に安定なコーティングが得られる。
If it is desired to include additive materials such as one or more dyes in the second or third embodiments of the coating of the present invention, this dye is optionally added to each of the layers. You can In particular, at least one of the bilayers contains a dye. The dye is permanently incorporated into the layer of silicon dioxide and the layer of lithium oxide in these embodiments is coated with a layer of silicon dioxide, which again ensures a stable coating.

【0011】若し所望ならば、本発明のコーティングを
有する基体に、全鏡面反射と全拡散反射を減らすために
それ自体は公知の反射防止層を付加的に設けることがで
きる。この目的で、例えば、低屈折率を有する弗化マグ
ネシウムの層を最外層として設けるかまたは交互に高及
び低屈折率を有する層の積み重ねを用いることができ
る。
If desired, the substrate with the coating according to the invention can additionally be provided with an antireflection layer which is known per se in order to reduce the total specular and diffuse reflection. For this purpose, for example, a layer of magnesium fluoride having a low refractive index can be provided as the outermost layer or alternatively a stack of layers having a high and a low refractive index can be used.

【0012】若し所望ならば、屈折率は、本発明のコー
ティング特に二酸化珪素層にドーパントを添加すること
によって変えることもできる。全反射を減らすのに適し
た層の積み重ねは、例えば、二酸化チタンで付加的にド
ープされた二酸化珪素(屈折率1.7)の第1帯電防止層
と、二酸化チタンの第2の層(屈折率2.1 , 二酸化珪素
層の製法に類似の方法によってつくられる) とより成
り、珪酸リチウム(屈折率1.43) の最外側の防眩層を有
する。層の夫々の厚さは 100から150nm である。
If desired, the index of refraction can also be altered by adding a dopant to the coating of the present invention, especially the silicon dioxide layer. A stack of layers suitable for reducing total internal reflection is, for example, a first antistatic layer of silicon dioxide (refractive index 1.7) additionally doped with titanium dioxide and a second layer of titanium dioxide (refractive index 2.1). , Made by a method similar to the method of manufacturing the silicon dioxide layer) and having an outermost antiglare layer of lithium silicate (refractive index 1.43). The thickness of each layer is 100 to 150 nm.

【0013】反射防止及び帯電防止コーティングを得る
目的は、帯電防止層と防眩層より成る二重層を有し、帯
電防止層は、アルコキシシラン化合物のアルコール溶液
内の少なくとも一種の導電性金属酸化物の懸濁液を設け
続いて高温での処理によって二酸化珪素と少なくとも一
種の導電性金属の混合物の層を形成する、基体上の反射
防止及び防眩層コーティングの製造方法において、防眩
層は、酸化リチウム安定化二酸化珪素の水中ゾルを設け
続いて高圧での処理によって珪酸リチウムの層をつくる
ことによって達成される。本発明の前記の初めの2つの
実施態様に対応して、帯電防止層と防眩層とは、基体例
えば陰極線管の表示スクリーン上に任意の所望の順序で
設けることができる。
The purpose of obtaining an antireflection and antistatic coating is to have a double layer consisting of an antistatic layer and an antiglare layer, the antistatic layer being at least one conductive metal oxide in an alcoholic solution of an alkoxysilane compound. In the method for producing an antireflection and antiglare layer coating on a substrate, which comprises providing a suspension of and subsequently forming a layer of a mixture of silicon dioxide and at least one conductive metal by treatment at high temperature, the antiglare layer comprises: This is accomplished by providing a sol of lithium oxide-stabilized silicon dioxide in water, followed by treatment at high pressure to form a layer of lithium silicate. Corresponding to the first two embodiments of the invention, the antistatic layer and the antiglare layer can be provided in any desired order on the substrate, for example on the display screen of a cathode ray tube.

【0014】本発明のコーティングの前記の第3の実施
態様に沿って、本発明の別の方法は次の点を特徴とす
る、すなわち、帯電防止効果を有する防眩層は、酸化リ
チウム安定化二酸化珪素の水中ゾル内に少なくとも一種
の金属酸化物を懸濁したものを設け続いて高温で処理し
て珪酸リチウムと少なくとも一種の金属酸化物の混合物
の層を形成し、しかる後、アルコキシシラン化合物のア
ルコール溶液を設け続けて高温での処理によって二酸化
珪素の層を形成することによってつくられる。
Along with the above-mentioned third embodiment of the coating of the invention, another method of the invention is characterized in that the antiglare layer with antistatic effect is stabilized with lithium oxide. A suspension of at least one metal oxide in a sol of silicon dioxide in water is provided and subsequently treated at high temperature to form a layer of a mixture of lithium silicate and at least one metal oxide, followed by an alkoxysilane compound. Of an alcoholic solution and subsequently formed at high temperature by forming a layer of silicon dioxide.

【0015】本発明によれば、米国特許明細書第4,945,
282 号に記載された方法でつくられることのできる二酸
化珪素の層が用いられる。本発明によれば、この層は、
帯電防止層または保護層として用いられる。両方の用途
に対して、5と50nmの間が好ましい 200nm以下の厚さを
有する比較的薄い層を用いることができる。そのため
に、反応性したがって不安定なアルコキシシラン化合物
と有機溶媒の必要量は従来技術の方法にくらべて限られ
る。本発明によれば、珪酸リチウムの層は防眩層に用い
られ、この珪酸リチウムの層は離散した粒子を含まず、
したがって大きな機械的強度を示す。米国特許明細書第
3,940,511 号には、珪酸リチウムの反射防止層とその製
造方法が記載されており、この層は煤や染料のような色
補正手段を含むが、本発明をもたらした研究によると、
何等かの方策を付加しなければこのような層は導電性金
属酸化物または染料の永続的な混入には適しないことが
わかった。本発明の方法は、公知の両技術の利点を組合
せまたは各技術の欠点を最小限にしたものである。
According to the invention, US Pat. No. 4,945,
A layer of silicon dioxide is used which can be made by the method described in 282. According to the invention, this layer is
Used as an antistatic layer or a protective layer. For both applications it is possible to use relatively thin layers with a thickness below 200 nm, preferably between 5 and 50 nm. Therefore, the required amounts of reactive and thus unstable alkoxysilane compounds and organic solvents are limited compared to prior art methods. According to the invention, a layer of lithium silicate is used for the antiglare layer, this layer of lithium silicate does not contain discrete particles,
Therefore, it exhibits high mechanical strength. US Patent Specification No.
No. 3,940,511 describes an antireflection layer of lithium silicate and a method for producing the same, which layer contains color correction means such as soot and dyes, but according to the research that led to the present invention,
It has been found that, without some measures, such layers are not suitable for permanent incorporation of conductive metal oxides or dyes. The method of the present invention combines the advantages of both known techniques or minimizes the drawbacks of each technique.

【0016】[0016]

【実施例】以下本発明を図面の実施例によって更に詳し
く説明する。実施例1 図1は本発明の反射防止および帯電防止コーティングを
有する基体2を示し、このコーティングは、少なくとも
一種の導電性金属酸化物を有する二酸化珪素の帯電防止
層4と珪酸リチウムの防眩層6とより成る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described in more detail below with reference to embodiments of the drawings. Example 1 FIG. 1 shows a substrate 2 having an antireflective and antistatic coating according to the invention, which coating comprises an antistatic layer 4 of silicon dioxide with at least one conductive metal oxide and an antiglare layer of lithium silicate. It consists of six.

【0017】このようなコーティングは、本発明により
次のような方法でつくられた。陰極線管の表示スクリー
ンは完全に洗浄され、その後、第1の帯電防止層がスピ
ンコーティングにより設けられた、このコーティングの
材料は、重量で2%のテトラエチルオルト珪酸塩 Si (O
C2H5)4のエタノール溶液より成り、この溶液には、重量
で1%の、酸化錫 SnO2 と酸化アンチモンの1:0.15
混合物が導電性材料として分散された。若し所望なら
ば、コーティング材料は染料例えば重量で0.2 %のロー
ダミンBを含む。懸濁液中に存する金属酸化物粒子及び
染料の寸法は、光の散乱を防ぐために 50nm よりも小さ
い。この層は60℃で乾燥され、50と100 nmの間の範囲の
厚さを有した。
Such a coating was produced according to the present invention in the following manner. The display screen of the cathode ray tube was thoroughly cleaned, after which the first antistatic layer was applied by spin coating, the material of this coating being 2% by weight of tetraethylorthosilicate Si (O 2
C 2 H 5 ) 4 in ethanol, which contains 1% by weight of tin oxide SnO 2 and antimony oxide 1: 0.15.
The mixture was dispersed as a conductive material. If desired, the coating material contains a dye, for example 0.2% by weight rhodamine B. The size of the metal oxide particles and dyes present in the suspension is smaller than 50 nm to prevent light scattering. This layer was dried at 60 ° C. and had a thickness in the range between 50 and 100 nm.

【0018】次いで、第2の防眩層がスピンコーティン
グで設けられた。このコーティングの材料は、重量で2
%の固体成分と8:1のモル比の SiO2 : Li2O を有す
る酸化リチウム安定化二酸化珪素水中ゾルより成る。こ
の層の厚さは略々1000nmであった。次ぎに、両方の層は
30分間160 ℃の温度での処理によって硬化され、この処
理において第1の層は二酸化珪素に変換され、第2の層
は珪酸リチウムに変換された。最後に、表示スクリーン
は流水で洗われ、乾燥された。
A second antiglare layer was then applied by spin coating. The material of this coating is 2 by weight
% Solid component and a sol of lithium oxide stabilized silicon dioxide in water with a molar ratio of SiO 2 : Li 2 O of 8: 1. The thickness of this layer was approximately 1000 nm. Next, both layers
It was cured by treatment for 30 minutes at a temperature of 160 ° C., in which the first layer was converted to silicon dioxide and the second layer was converted to lithium silicate. Finally, the display screen was washed with running water and dried.

【0019】このようにして得られた表示スクリーンは
十分に導電性で帯電防止性であった。鏡面反射を犠牲に
した散乱反射は、例えば表示スクリーン上の外部光源の
妨害イメージの抑止の助けになる。
The display screen thus obtained was sufficiently conductive and antistatic. Scattered reflections at the expense of specular reflections help to prevent disturbing images of external light sources, for example on the display screen.

【0020】前述のテトラエチルオルト珪酸塩に代え
て、それ自体は公知の他のタイプSi(OR)4 のアルコキ
シシラン化合物を用いることもできる。この場合Rは1
から5炭素原子を有するのが好ましいアルキル基であ
る。例えば、代りにメタノールを溶媒として用いること
もできる。二酸化珪素への変換を高めるために例えば無
機酸を有する或る量の水を溶液に加えてもよい。適当な
組成は、例えば米国特許明細書第4,945,282 号明細書に
記載されているが、この米国特許明細書では、帯電防止
層に適当に用いることができる他の化合物のほかに適当
な導電性金属酸化物にも言及されている。導電性を得る
ために、金属酸化物の代りに例えばパラジウム、プラチ
ナまたは金の化合物を用いることもできる (米国特許明
細書第4,563,612 号参照) 。酸化リチウム安定化二酸化
珪素の水中ゾルに適した化合物は、米国特許明細書第3,
940,511 号及び同第4,563,612 号に記載されている。
Instead of the tetraethylorthosilicate mentioned above, it is also possible to use alkoxysilane compounds of the type Si (OR) 4 known per se. In this case R is 1
Preferred alkyl groups have from 5 to 5 carbon atoms. For example, methanol can alternatively be used as the solvent. A certain amount of water with, for example, an inorganic acid may be added to the solution to enhance the conversion to silicon dioxide. Suitable compositions are described, for example, in U.S. Pat.No. 4,945,282, in which U.S. Pat.No. Oxides are also mentioned. Instead of metal oxides it is also possible to use compounds of, for example, palladium, platinum or gold to obtain conductivity (see US Pat. No. 4,563,612). Suitable compounds for the sol of lithium oxide-stabilized silicon dioxide in water are described in US Pat.
940,511 and 4,563,612.

【0021】実施例2 図4は、表示窓32、コーン33およびネック34を有するガ
ラス容器31を有するそれ自体は公知の陰極線管の一部切
欠き斜視図を示す。ネック内には電子ビーム36を発生す
る電子銃35が設けられる。前記の電子ビーム36は表示ス
クリーン37上に集束されてターゲットスポット38を形成
する。電子ビーム36は、偏向コイルシステム39によっ
て、表示スクリーン37を横切って互いに直交する2方向
x−yに偏向される。けい光体の層は表示スクリーン37
上にある。表示窓32の外側には、実施例1に記載したよ
うにしてつくられた反射防止及び帯電防止コーティング
が設けられている。
EXAMPLE 2 FIG. 4 shows a partially cutaway perspective view of a cathode ray tube known per se with a glass container 31 having a display window 32, a cone 33 and a neck 34. An electron gun 35 for generating an electron beam 36 is provided in the neck. The electron beam 36 is focused on a display screen 37 to form a target spot 38. The electron beam 36 is deflected by a deflection coil system 39 in two mutually orthogonal directions xy across the display screen 37. Fluorescent layer is display screen 37
It is above. The outside of the display window 32 is provided with an antireflection and antistatic coating made as described in Example 1.

【0022】実施例3 図2は、本発明の別の実施例による反射防止及び帯電防
止コーティングを有する基体12を示し、このコーティン
グは、珪酸リチウムの防眩層16と少なくとも一種の導電
性金酸化物を含む二酸化珪素の帯電防止層14とを有する
二重層より成る。このようなコーティングは、層を設け
る順序が逆であることを除いては実施例1の材料と方法
とを用いてつくられた。酸化リチウム安定化二酸化珪素
ゾルの第1の層を設けた後、この層は60℃で乾燥され
た。アルコキシシラン化合物を含む第2の層を設けた
後、両方の層は160 ℃の温度で30分間アニールされ、し
かる後、表示スクリーンは流水で洗われて乾燥された。
得られた結果は実施例1に記載されたのと同じであっ
た。
EXAMPLE 3 FIG. 2 shows a substrate 12 having an antireflective and antistatic coating according to another embodiment of the present invention, the coating comprising an antiglare layer 16 of lithium silicate and at least one conductive gold oxide. And an antistatic layer 14 of silicon dioxide containing the same. Such a coating was made using the materials and methods of Example 1 except that the order of applying the layers was reversed. After providing the first layer of lithium oxide stabilized silicon dioxide sol, this layer was dried at 60 ° C. After applying the second layer containing the alkoxysilane compound, both layers were annealed at a temperature of 160 ° C. for 30 minutes, after which the display screen was washed with running water and dried.
The results obtained were the same as those described in Example 1.

【0023】実施例4 図3は、本発明の更に別の実施例による反射防止及び帯
電防止コーティングを有する基体22を示し、このコーテ
ィングは、少なくとも一種の導電性金酸化物を含む珪酸
リチウムの防眩及び帯電防止層26と二酸化珪素の保護層
28とを有する二重層より成る。このようなコーティング
は、アルコキシシラン化合物のアルコール溶液の代りに
酸化リチウム安定化二酸化珪素の水中ゾルに金酸化物が
懸濁されたこと以外は実施例3による材料及び方法を用
いることによってつくられた。使用量、作業工程及び結
果は実施例3と同じであった。本発明により、有効なコ
ーティングが簡単且つ再現可能につくられ、このコーテ
ィングは、陰極線管の表示スクリーンに適し、十分な防
眩及び帯電防止並びに湿気や機械的な損傷のような周囲
の種々の影響に十分な耐性を示した。
EXAMPLE 4 FIG. 3 shows a substrate 22 having an antireflective and antistatic coating according to yet another embodiment of the present invention, which coating is a lithium silicate coating containing at least one conductive gold oxide. Antiglare and antistatic layer 26 and protective layer of silicon dioxide
And a double layer having 28 and. Such a coating was made by using the materials and methods according to Example 3 except that the gold oxide was suspended in a sol of lithium oxide stabilized silicon dioxide in water instead of an alcoholic solution of an alkoxysilane compound. .. The amount used, the work process and the result were the same as in Example 3. According to the invention, an effective coating is produced in a simple and reproducible way, which coating is suitable for cathode ray tube display screens and has good anti-glare and antistatic properties as well as various environmental influences such as moisture and mechanical damage. Showed sufficient resistance to.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明のコーティングを有する基体の第1実施
例の略断面図、
1 is a schematic cross-sectional view of a first embodiment of a substrate having a coating of the present invention,

【図2】本発明のコーティングを有する基体の第2実施
例の略断面図、
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a second embodiment of a substrate having a coating of the present invention,

【図3】本発明のコーティングを有する基体の第3実施
例の略断面図、
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of a third embodiment of a substrate having a coating of the present invention,

【図4】本発明の陰極線管の一実施例の一部切欠き斜視
図、
FIG. 4 is a partially cutaway perspective view of an embodiment of the cathode ray tube of the present invention,

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2,12, 22 基体 4,14 帯電防止層 6,16 防眩層 26 防眩及び帯電防止層 28 保護層 32 表示窓 40 反射及び帯電防止コーティング 2,12,22 Substrate 4,14 Antistatic layer 6,16 Antiglare layer 26 Antiglare and antistatic layer 28 Protective layer 32 Display window 40 Reflective and antistatic coating

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 アドリアヌス レオナルドゥス ヘラルド ウス ファン デン エーデン オランダ国 5621 ベーアー アインドー フェン フルーネヴァウツウェッハ 1 (72)発明者 ユルゲン パウル アルベルト ヘイムベ ーク オランダ国 5621 ベーアー アインドー フェン フルーネヴァウツウェッハ 1 (72)発明者 ヘンリクス アルノールドゥス アントニ ウス ケーテルス オランダ国 5621 ベーアー アインドー フェン フルーネヴァウツウェッハ 1 ─────────────────────────────────────────────────── ───Continued from the front page (72) Inventor Adrinus Leonardus Herald Us van den Eden Netherlands 5621 Beer Ainde Ven Frühne Wautzwech 1 (72) Inventor Jürgen Paul Albert Bermeim Beck Netherlands 5621 Bein Ain Fenflue Nevautzwech 1 (72) Inventor Henrix Arnordus Antonius Katers Netherlands 5621 Beer Aindow Fenflu Nevautzwech 1

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 二酸化珪素の層と防眩層より成る二重層
を有する、基体上の反射防止及び帯電防止コーティング
において、防眩層は珪酸リチウムより成ることを特徴と
する反射防止及び帯電防止コーティング。
1. An antireflection and antistatic coating on a substrate having a double layer consisting of a layer of silicon dioxide and an antiglare layer, characterized in that the antiglare layer consists of lithium silicate. ..
【請求項2】 二酸化珪素の層は、少なくとも一種の導
電性金属酸化物を含む防眩層である請求項1のコーティ
ング。
2. The coating of claim 1, wherein the layer of silicon dioxide is an antiglare layer containing at least one conductive metal oxide.
【請求項3】 二酸化珪素の層は、基体と珪酸リチウム
の層の間に位置する請求項2のコーティング。
3. The coating of claim 2, wherein the layer of silicon dioxide is located between the substrate and the layer of lithium silicate.
【請求項4】 二酸化珪素の層は少なくとも一種の染料
を含む請求項3のコーティング。
4. The coating of claim 3 wherein the silicon dioxide layer comprises at least one dye.
【請求項5】 珪酸リチウムの層は、基体と二酸化珪素
の間に位置する請求項2のコーティング。
5. The coating of claim 2, wherein the layer of lithium silicate is located between the substrate and silicon dioxide.
【請求項6】 珪酸リチウムの層は少なくとも一種の導
電性金属酸化物を含む帯電防止層で、この層は、基体と
二酸化珪素の間に位置する請求項1のコーティング。
6. The coating of claim 1, wherein the layer of lithium silicate is an antistatic layer containing at least one conductive metal oxide, the layer being located between the substrate and silicon dioxide.
【請求項7】 二重層の少なくとも一方は染料を含む請
求項5または6記載のコーティング。
7. A coating according to claim 5 or 6 wherein at least one of the bilayers comprises a dye.
【請求項8】 二酸化珪素の層と防眩層より成る反射防
止及び帯電防止コーティングを有する陰極線管におい
て、防眩層は珪酸リチウムよりつくられたことを特徴と
する陰極線管。
8. A cathode ray tube having an antireflection and antistatic coating comprising a layer of silicon dioxide and an antiglare layer, wherein the antiglare layer is made of lithium silicate.
【請求項9】 帯電防止層と防眩層より成る二重層を有
し、帯電防止層は、アルコキシシラン化合物のアルコー
ル溶液内の少なくとも一種の導電性金属酸化物の懸濁液
を設け続いて高温での処理によって二酸化珪素と少なく
とも一種の導電性金属の混合物の層を形成する、基体上
の反射防止及び帯電防止層コーティングの製造方法にお
いて、防眩層は、酸化リチウム安定化二酸化珪素の水中
ゾルを設け続いて高温での処理によって珪酸リチウムの
層をつくることを特徴とする基体上に反射防止及び帯電
防止コーティングをつくる方法。
9. A double layer comprising an antistatic layer and an antiglare layer, wherein the antistatic layer is provided with a suspension of at least one conductive metal oxide in an alcohol solution of an alkoxysilane compound and subsequently at high temperature. In the method for producing an antireflection and antistatic layer coating on a substrate, wherein a layer of a mixture of silicon dioxide and at least one conductive metal is formed by the treatment with the antiglare layer, the antiglare layer is a sol of lithium oxide stabilized silicon dioxide in water. And subsequently forming a layer of lithium silicate by treatment at elevated temperature to form an antireflective and antistatic coating on a substrate.
【請求項10】 二酸化珪素の層と防眩層より成る二重
層を有する反射防止及び帯電防止コーティングを基体上
につくる方法において、酸化リチウム安定化二酸化珪素
の水中ゾル内に少なくとも一種の金属酸化物を懸濁した
ものを設け続いて高温で処理して珪酸リチウムと少なく
とも一種の金属酸化物の混合物の層を形成し、しかる
後、アルコキシシラン化合物のアルコール溶液を設け続
いて高温での処理によって二酸化珪素の層を形成するこ
とを特徴とする基体上に反射防止及び帯電防止コーティ
ングをつくる方法。
10. A method of forming an antireflective and antistatic coating on a substrate having a bilayer consisting of a layer of silicon dioxide and an antiglare layer, the method comprising at least one metal oxide in a sol of lithium oxide stabilized silicon dioxide in water. Suspended in water and subsequently treated at high temperature to form a layer of a mixture of lithium silicate and at least one metal oxide, and then an alcoholic solution of an alkoxysilane compound is provided and subsequently treated by high temperature treatment. A method of making an antireflection and antistatic coating on a substrate, which comprises forming a layer of silicon.
JP4284596A 1991-10-23 1992-10-22 Antireflection and antistatic coatings particularly for cathode-ray tube and its manufacture Pending JPH05234538A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6180030B1 (en) 1996-09-26 2001-01-30 Catalysts & Chemicals Industries Co., Ltd. Substrate with transparent conductive coating and display device
JP2020529045A (en) * 2017-08-04 2020-10-01 武漢華星光電半導体顕示技術有限公司Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Disolay Technology Co.,Ltd Flexible substrate for OLED display panel and its manufacturing method

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6180030B1 (en) 1996-09-26 2001-01-30 Catalysts & Chemicals Industries Co., Ltd. Substrate with transparent conductive coating and display device
JP2020529045A (en) * 2017-08-04 2020-10-01 武漢華星光電半導体顕示技術有限公司Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Disolay Technology Co.,Ltd Flexible substrate for OLED display panel and its manufacturing method
EP3664178B1 (en) * 2017-08-04 2022-08-10 Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co., Ltd. Flexible substrate of oled display panel and method for preparing same

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Publication number Publication date
DE69207338T2 (en) 1996-07-25
TW214014B (en) 1993-10-01
DE69207338D1 (en) 1996-02-15

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