JPH05231595A - Vapor phase combined heating pressure reducing device for liquefied gas evaporator - Google Patents

Vapor phase combined heating pressure reducing device for liquefied gas evaporator

Info

Publication number
JPH05231595A
JPH05231595A JP3198292A JP3198292A JPH05231595A JP H05231595 A JPH05231595 A JP H05231595A JP 3198292 A JP3198292 A JP 3198292A JP 3198292 A JP3198292 A JP 3198292A JP H05231595 A JPH05231595 A JP H05231595A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pressure
phase line
valve
gas
vapor phase
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP3198292A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazuhiro Oki
和広 大木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Yazaki Corp
Original Assignee
Yazaki Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Yazaki Corp filed Critical Yazaki Corp
Priority to JP3198292A priority Critical patent/JPH05231595A/en
Publication of JPH05231595A publication Critical patent/JPH05231595A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PURPOSE:To increase energy efficiency and improve durability of components such as vaporization cylinder and backpressure valve in a vapor phase combined heating pressure reducing system. CONSTITUTION:A backpressure valve 4a is provided in a liquid phase line 2 and set in such a way that it is opened at the predetermined pressure or less. When pressure in a liquefied gas container 1 is higher than the set pressure of the backpressure valve 4a, gas is pressure-reduced and supplied from a vapor phase line 3 by a vapor phase line pressure regulating valve 9a. When pressure in the container 1 is lower than the set pressure of the backpressure valve 4a, gas is vaporized by a vaporization cylinder 5, gas pressure is reduced by a liquid phase line pressure regulating valve 8, and gas can be also supplied by the liquid phase line 2. When inlet pressure of the vapor phase line pressure regulating valve 9a is below the set pressure of the back pressure valve 4a, the vapor phase line pressure regulating valve 9a is controled to set outlet pressure of the vapor phase line pressure line regulating valve 9a to higher pressure than the set pressure of liquid phase pressure regulating valve 8 so that the vapor phase line pressure regulating valve 9a is operated at all times.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は液化ガス蒸発器のための
気相併用加温減圧方式に係り、特にLPガス消費型蒸発
器の圧力上昇を低減する等に好適な気相併用加温減圧装
置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a vapor phase combined heating and depressurization system for a liquefied gas evaporator, and in particular a vapor phase combined heating and decompression suitable for reducing the pressure rise of an LP gas consumption type evaporator. Regarding the device.

【0002】[0002]

【従来の技術】LPガス消費型蒸発器等のように液化ガ
スを気化して供給する機器について、ガス質、環境、条
件等にかかわらず、例えば出口圧力が常時10kgf/
cm2未満となるようにする等、圧力上昇を抑制する必
要があり、そのために減圧加温式等いくつかの方式が案
出されている。その中に気相併用加温減圧方式があり、
同方式は、一般に液化ガスを充填した容器内の圧力変化
に応じて気相または液相のいずれか一方からガスを供給
するシステムとされている。
2. Description of the Related Art Regarding equipment for vaporizing and supplying liquefied gas such as an LP gas consumption type evaporator, regardless of the gas quality, environment, conditions, etc., for example, the outlet pressure is always 10 kgf /
It is necessary to suppress the pressure rise, for example, by setting the pressure to be less than cm 2, and therefore, several methods such as a reduced pressure heating method have been devised. Among them is the vapor phase combined heating and depressurization method,
The system is generally a system that supplies gas from either the gas phase or the liquid phase according to the pressure change in the container filled with the liquefied gas.

【0003】図7に従来の気相併用加温減圧システムの
一例を示す。同図において、1は液化ガス収容容器であ
り、容器1に液相ライン2と気相ライン3とが挿通され
ている。液相ライン2は容器1内に沈滞するガス液を捕
捉し、気相ライン3は容器1内の上部に充満する蒸発し
たガスを捕捉する。液相ライン2は開閉弁4としての背
圧弁4aおよび逆止弁4bを介して気化筒5内に向けて
配管されている。気化筒5内には熱媒体6が充填され、
また熱媒体6を加熱するための熱源7が配備されてい
る。それにより気化筒5内を通過するガス液は熱媒体6
等により加熱されて気化する。気化筒5内を曲折して通
過した液相ライン2は、液相ラインの圧力調整弁8を介
してガス出口側に連通している。
FIG. 7 shows an example of a conventional heating and depressurizing system using a gas phase together. In the figure, 1 is a liquefied gas storage container, and a liquid phase line 2 and a gas phase line 3 are inserted through the container 1. The liquid phase line 2 captures the gas liquid stagnating in the container 1, and the gas phase line 3 captures the vaporized gas filling the upper part of the container 1. The liquid phase line 2 is piped toward the inside of the vaporization cylinder 5 via a back pressure valve 4a serving as an opening / closing valve 4 and a check valve 4b. A heat medium 6 is filled in the vaporization cylinder 5,
Further, a heat source 7 for heating the heat medium 6 is provided. As a result, the gas liquid passing through the vaporization cylinder 5 is heated by the heat medium 6
It is heated and vaporized. The liquid phase line 2 that has bent and passed through the vaporization cylinder 5 is connected to the gas outlet side via a pressure adjusting valve 8 of the liquid phase line.

【0004】一方、気相ライン3は、気相ラインの圧力
調整弁9を介して液相ラインの圧力調整弁8の出口側で
液相ライン2に合流し、ガス出口側に連通する構造とさ
れている。
On the other hand, the gas phase line 3 joins the liquid phase line 2 at the outlet side of the pressure adjusting valve 8 of the liquid phase line via the pressure adjusting valve 9 of the gas phase line, and communicates with the gas outlet side. Has been done.

【0005】上記装置において、気化筒5入口の背圧弁
4aは、容器の圧力が設定圧力(例えば10kgf/c
2)以下の場合に開放する。また、液相ラインの圧力
調整弁8を気相ラインの圧力調整弁9よりも高い値に設
定される。
In the above apparatus, the back pressure valve 4a at the inlet of the vaporizing cylinder 5 has a container pressure set to a set pressure (for example, 10 kgf / c).
m 2 ) Open in the following cases. Further, the pressure adjusting valve 8 of the liquid phase line is set to a higher value than the pressure adjusting valve 9 of the gas phase line.

【0006】上記のシステムによるガス供給は次のよう
に行われる。すなわち、まず、容器の圧力が背圧弁4a
の設定圧力より高いときは、背圧弁4aは閉止し、気化
筒5は機能せず、ガスは専ら気相ライン3を経由し、気
相ラインの圧力調整弁9を介してガス出口側(ガス消費
側)に供給される。
The gas supply by the above system is performed as follows. That is, first, the pressure of the container is the back pressure valve 4a.
When the pressure is higher than the set pressure of, the back pressure valve 4a is closed, the vaporization cylinder 5 does not function, and the gas exclusively passes through the gas phase line 3 and through the pressure adjusting valve 9 of the gas phase line (gas outlet side (gas Consumer side).

【0007】次に、気相ライン3からのガスの供給が続
くと、容器1内では液の蒸発が促進され、その蒸発潜熱
が液から奪われるので液温が下がり、容器1内の圧力が
低下する。容器1内の圧力低下が背圧弁4aの前記設定
圧力以下になると、背圧弁4aが開放して気化筒5内へ
液が入り、液相ラインの圧力調整弁8が開放して液相ラ
イン2からガスが供給される。ここで液相ラインの圧力
調整弁8は気相ラインの圧力調整弁9よりも設定圧力が
高いので、液相ラインの圧力調整弁8が開放すると気相
ラインの圧力調整弁9は閉止することになり、気相ライ
ン3からのガスの供給が停止する。
Next, when the supply of the gas from the vapor phase line 3 continues, the evaporation of the liquid is promoted in the container 1 and the latent heat of evaporation is removed from the liquid, so that the liquid temperature is lowered and the pressure in the container 1 is increased. descend. When the pressure drop in the container 1 becomes equal to or less than the set pressure of the back pressure valve 4a, the back pressure valve 4a opens and liquid enters the vaporization cylinder 5, and the pressure adjusting valve 8 of the liquid phase line opens to open the liquid phase line 2 Gas is supplied from. Since the pressure adjusting valve 8 of the liquid phase line has a higher set pressure than the pressure adjusting valve 9 of the gas phase line, the pressure adjusting valve 9 of the gas phase line should be closed when the pressure adjusting valve 8 of the liquid phase line is opened. Then, the supply of gas from the vapor phase line 3 is stopped.

【0008】それから、外部からの吸熱等により容器1
内の液温が上昇すると背圧弁4aは閉止し、気相ライン
3によるガスの供給が再開する。
Then, the container 1 is heated by heat absorption from the outside.
When the internal liquid temperature rises, the back pressure valve 4a is closed, and the gas supply by the gas phase line 3 is restarted.

【0009】システム作動中における容器1および気化
筒5内圧力の変動および背圧弁4aの開閉の経時変化を
図8に示す。
FIG. 8 shows changes with time in the pressure inside the container 1 and the vaporization cylinder 5 and the opening / closing of the back pressure valve 4a during the system operation.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】上記従来の気相併用加
温減圧システムは、液相ライン2あるいは気相ライン3
のいずれか一方からのみガスが供給されるシステムのた
め、液相ライン2が稼働する間には、供給するガスの全
量を気化筒5で発生させなければならず、そのため、液
を気化するための熱が多分に要求され、エネルギー効率
が劣悪になるという問題があった。
SUMMARY OF THE INVENTION The above conventional vapor phase heating and depressurizing system is used in the liquid phase line 2 or the vapor phase line 3.
Since the gas is supplied from only one of the two, the entire amount of the gas to be supplied must be generated in the vaporization cylinder 5 while the liquid phase line 2 is operating, and therefore, in order to vaporize the liquid. However, there is a problem that the energy efficiency is poor because much heat is required.

【0011】また、気化筒5の内部圧力は、図8に示す
ように、頻繁に激しく変動するので気化筒5が破損しや
すく、さらに背圧弁4aが、特に始動時に開閉を繰り返
すため、耐用寿命が短くなり、故障しやすくなるという
問題があった。
Further, as shown in FIG. 8, the internal pressure of the vaporizing cylinder 5 frequently and drastically fluctuates, so that the vaporizing cylinder 5 is easily damaged, and the back pressure valve 4a repeats opening and closing, especially at the time of starting, so that the useful life is shortened. There was a problem that it became shorter and more likely to break down.

【0012】本発明の目的は、従来の気相併用加温減圧
方式を改良して、ガス供給におけるエネルギー効率を高
めるとともに、気化筒、背圧弁等の構成部品の耐用性を
向上させることにある。
An object of the present invention is to improve the conventional gas phase combined heating and depressurizing system to enhance the energy efficiency in gas supply and to improve the durability of components such as a vaporizing cylinder and a back pressure valve. ..

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】発明者等は、従来の気相
併用加温減圧方式における、液相ラインあるいは気相ラ
インのいずれか一方からのみガスを供給するという発想
を転換し、容器の内部圧力にかかわらず、常に気相ライ
ンにおけるガス供給を持続させる新たな気相併用加温減
圧方式が上記課題の解決に有効であるとの知見に到達し
た。
Means for Solving the Problems The inventors changed the idea of supplying gas only from either the liquid phase line or the gas phase line in the conventional gas phase combined heating and depressurization system, and We have reached the finding that a new gas-phase combined heating and depressurization method that constantly maintains gas supply in the gas-phase line regardless of the internal pressure is effective in solving the above problems.

【0014】上記知見に基づく本発明の構成は、液化ガ
ス収容容器に気相ラインと液相ラインとをそれぞれ挿通
し、前記液相ラインを、前記容器内が設定圧力以下に低
下したとき開放される開閉弁を介して、熱媒体が充填さ
れた気化筒内を通過させてから、出口圧力を設定圧力に
調整すべく弁開度を制御する液相ラインの圧力調整弁を
介して、ガス出口側に連通させ、前記気相ラインに、入
口と出口の圧力差に応じて出口圧力を調整すべく弁開度
を制御する気相ラインの圧力調整弁であって、前記開閉
弁の開放時における前記液相ラインの圧力調整弁の設定
圧力よりも出口圧力を高く設定した気相ラインの圧力調
整弁を設けるとともに、前記気相ラインを前記気相ライ
ンの圧力調整弁と前記液相ラインの圧力調整弁とのそれ
ぞれの出口側で前記液相ラインに合流してなる。
According to the configuration of the present invention based on the above knowledge, the gas phase line and the liquid phase line are inserted into the liquefied gas storage container, and the liquid phase line is opened when the inside of the container drops below a set pressure. After passing through the vaporizing cylinder filled with the heat medium via the on-off valve, the gas outlet is controlled through the liquid pressure line pressure control valve that controls the valve opening to adjust the outlet pressure to the set pressure. A pressure control valve of the gas phase line for controlling the valve opening so as to adjust the outlet pressure according to the pressure difference between the inlet and the outlet, in the gas phase line, A pressure adjusting valve for the gas phase line is provided in which the outlet pressure is set higher than the set pressure of the pressure adjusting valve for the liquid phase line, and the pressure of the gas phase line is adjusted by the pressure adjusting valve of the gas phase line and the liquid phase line. Front on each outlet side with regulator valve Formed by the confluence in the liquid phase line.

【0015】すなわち、従来においては、液相ラインま
たは気相ラインを選択してガスを供給するために、気相
ライン圧力調整弁の開閉を入口側圧力に応じて制御する
ものとし、液相ライン圧力調整弁の設定値は気相ライン
圧力調整弁の設定値よりも高くなるように調整されてい
た。それに対し本発明は、気相ラインを定常的に稼働さ
せ、液相ラインを予備的に使用するという新たな気相併
用加温減圧方式を想到、採用し、そのために気相ライン
圧力調整弁の開閉を入口側圧力および出口側圧力に応じ
て制御するものとし、開閉弁の開放時における液相ライ
ン圧力調整弁の設定値よりも気相ライン圧力調整弁にお
ける出口圧力の設定値を高くすることを特徴としてい
る。
That is, in the prior art, in order to select the liquid phase line or the gas phase line to supply the gas, the opening and closing of the gas phase line pressure adjusting valve is controlled according to the inlet side pressure, and the liquid phase line is controlled. The set value of the pressure control valve was adjusted to be higher than the set value of the vapor phase line pressure control valve. On the other hand, the present invention contemplates and adopts a new gas-phase combined heating and depressurization method in which the gas-phase line is constantly operated and the liquid-phase line is preliminarily used. The opening and closing shall be controlled according to the inlet side pressure and the outlet side pressure, and the set value of the outlet pressure of the vapor phase line pressure adjusting valve shall be higher than the set value of the liquid phase line pressure adjusting valve when the opening and closing valve is opened. Is characterized by.

【0016】上記調整のために、本発明による気相ライ
ン圧力調整弁は、気相ラインの入口側に連通する1次室
と気相ラインの出口側に連通する2次室とを有し、1次
室と2次室とはダイヤフラムを介して隔離されてなり、
ダイヤフラムを弾性手段によって1次室方向に付勢する
とともに、付勢方向またはその反対方向に運動可能な弁
体の一端をダイヤフラムに連結し、弁体の他端を1次室
側のガス吹き出し口に設けた弁座と嵌合可能に配置して
なる構成とされている。
For the above adjustment, the vapor phase line pressure regulating valve according to the present invention has a primary chamber communicating with the inlet side of the vapor phase line and a secondary chamber communicating with the outlet side of the vapor phase line, The primary chamber and the secondary chamber are separated by a diaphragm,
The diaphragm is biased toward the primary chamber by the elastic means, and one end of the valve body that is movable in the biasing direction or the opposite direction is connected to the diaphragm, and the other end of the valve body is the gas outlet of the primary chamber. It is configured so that it can be fitted with the valve seat provided on the.

【0017】さらに、気相ライン圧力調整弁の出口圧力
の変動を抑制し、安定したガス供給圧力を得るために、
本発明は、また、気相ライン圧力調整弁を改良し、すな
わち気相ラインの入口側に連通する1次室と、気相ライ
ンの出口側に連通し1次室よりも断面積の大きい2次室
とを有し、2次室内に、1次室方向に付勢されたダイヤ
フラムとダイヤフラムに連結され1次室内に突出した押
圧手段とを設け、付勢方向またはその反対方向に運動可
能なピストンの一端を、1次室内に、押圧手段と当接可
能に嵌合するとともに、ピストンの他端に、1次室側の
ガス吹き出し口に設けた弁座に嵌合可能な弁体を設けて
なることを特徴とする気相ラインの圧力調整弁を提供す
る。
Furthermore, in order to suppress the fluctuation of the outlet pressure of the vapor phase line pressure regulating valve and obtain a stable gas supply pressure,
The present invention also improves the gas-phase line pressure regulating valve, that is, the primary chamber communicating with the inlet side of the gas-phase line and the secondary chamber communicating with the outlet side of the gas-phase line having a larger cross-sectional area than the primary chamber. A secondary chamber is provided, and a diaphragm that is biased toward the primary chamber and a pressing means that is connected to the diaphragm and protrudes into the primary chamber are provided in the secondary chamber, and the secondary chamber is movable in the biasing direction or the opposite direction. One end of the piston is fitted in the primary chamber so as to be able to contact the pressing means, and the other end of the piston is provided with a valve body that can be fitted in the valve seat provided in the gas outlet of the primary chamber. A pressure regulating valve for a vapor phase line is provided.

【0018】[0018]

【作用】上記構成によると、容器の圧力が背圧弁の設定
圧力より高いときは、背圧弁は閉止し、気化筒は機能せ
ず、ガスは専ら気相ラインを経由し、気相ラインの圧力
調整弁を介してガス出口側(ガス消費側)に供給され
る。
According to the above construction, when the pressure in the container is higher than the set pressure of the back pressure valve, the back pressure valve is closed, the vaporization cylinder does not function, and the gas passes exclusively through the gas phase line and the pressure in the gas phase line. It is supplied to the gas outlet side (gas consuming side) via a regulating valve.

【0019】気相ラインからのガスの供給が続くと、容
器内では液の蒸発が促進され、その蒸発潜熱が液から奪
われるので液温が下がり、容器1内の圧力が低下する。
容器内の圧力低下が背圧弁の設定圧力以下になると、背
圧弁が開放して気化筒内へ液が入る。その場合液相ライ
ン圧力調整弁の出口圧力は気相ラインの圧力調整弁の設
定圧力よりも低いため、液相ライン圧力調整弁は閉止し
たままでガスは供給されず、気相ライン圧力調整弁から
のみガス供給が継続する。そのため容器内の圧力はさら
に低下することになり、かようにして気相ライン圧力調
整弁の出口圧力と液相ライン圧力調整弁の出口圧力とは
等しくなる。
When the gas is continuously supplied from the gas phase line, the evaporation of the liquid is promoted in the container, and the latent heat of evaporation is removed from the liquid, so that the liquid temperature is lowered and the pressure in the container 1 is lowered.
When the pressure drop in the container falls below the set pressure of the back pressure valve, the back pressure valve opens and liquid enters the vaporizing cylinder. In that case, the outlet pressure of the liquid phase line pressure control valve is lower than the set pressure of the gas phase line pressure control valve, so the liquid phase line pressure control valve remains closed and no gas is supplied. Gas supply continues only from. Therefore, the pressure in the container further decreases, and thus the outlet pressure of the vapor phase line pressure regulating valve becomes equal to the outlet pressure of the liquid phase line pressure regulating valve.

【0020】その時点で液相ライン圧力調整弁が開放し
て気化筒によって気化されたガスがガス出口側(ガス消
費側)に供給される。同時に気相ライン圧力調整弁は開
放したままなので、気相ラインからもガスは供給され
る。ここで前記の液温低下が継続すると、容器圧力も低
下し、従って気相ラインの圧力調整弁の出口圧力は低下
し、すなわち気相ライン圧力調整弁からのガス量は減少
する。気相ラインのガス供給量が減少すると容器内の蒸
発量も減少するので、前記の蒸発潜熱も低下する。 こ
の過程は容器内の液の蒸発潜熱と外部等からの容器の吸
熱量とが平衡するまで継続し平衡した時点で安定する。
安定後は気相ラインおよび液相ラインの両者から、一定
の比率でガスが供給される。
At that time, the liquid phase line pressure adjusting valve is opened and the gas vaporized by the vaporizing cylinder is supplied to the gas outlet side (gas consuming side). At the same time, the gas line pressure control valve remains open, so gas is also supplied from the gas line. When the liquid temperature lowering continues, the container pressure also lowers, so that the outlet pressure of the pressure regulating valve of the vapor phase line lowers, that is, the gas amount from the vapor phase line pressure regulating valve decreases. When the gas supply amount in the vapor phase line decreases, the evaporation amount in the container also decreases, and the latent heat of vaporization also decreases. This process continues until the latent heat of vaporization of the liquid in the container and the amount of heat absorbed by the container from the outside or the like equilibrate, and becomes stable at the time of equilibrium.
After stabilization, gas is supplied at a constant ratio from both the vapor phase line and the liquid phase line.

【0021】次に、請求項2による気相ライン圧力調整
弁の構成によると、1次室と2次室とに接するダイヤフ
ラムの面積は等しく、入口圧力と出口圧力との差はダイ
ヤフラムの変形、すなわち弁体の開閉に直接反映され
る。ダイヤフラムは弾性手段によって1次室側に押され
ているので、ダイヤフラムの安定のために要する2次室
の圧力は弾性手段による押圧量に相当する分、軽減され
る。入口圧力が大きくなると弁体は大きく開放すること
になるが、それに応じてガス量も増大し、2次室の圧力
も大きくなるため、弁体は閉止する傾向になる。すなわ
ち、弁体の開閉度は弾性手段による押圧量に依存して調
整される。
Next, according to the structure of the vapor phase line pressure regulating valve according to the second aspect, the areas of the diaphragms in contact with the primary chamber and the secondary chamber are equal, and the difference between the inlet pressure and the outlet pressure is the deformation of the diaphragm. That is, it is directly reflected in the opening and closing of the valve body. Since the diaphragm is pushed toward the primary chamber by the elastic means, the pressure in the secondary chamber required for stabilizing the diaphragm is reduced by an amount corresponding to the amount of pressing by the elastic means. When the inlet pressure becomes large, the valve body will be largely opened, but the amount of gas also increases accordingly and the pressure in the secondary chamber also becomes large, so the valve body tends to close. That is, the opening / closing degree of the valve body is adjusted depending on the pressing amount of the elastic means.

【0022】さらに、請求項3による気相ラインの圧力
調整弁の構成によると、弾性手段による押圧量に加え
て、ダイヤフラムの面積とピストン先端の面積との比に
応じて2次室の圧力負担はさらに軽減される。従って入
口圧力に対抗するための出口圧力量は低減し、入口圧力
の変動にかかわらず出口圧力の変動は低減される。
Further, according to the structure of the pressure adjusting valve of the vapor phase line according to the third aspect, in addition to the pressing amount by the elastic means, the pressure load of the secondary chamber is proportional to the ratio of the area of the diaphragm and the area of the tip of the piston. Is further reduced. Therefore, the amount of outlet pressure for countering the inlet pressure is reduced, and the fluctuation of the outlet pressure is reduced regardless of the fluctuation of the inlet pressure.

【0023】[0023]

【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。なお、前記説明と同一の部材には同一の符号を付
して説明を省略する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. The same members as those described above are designated by the same reference numerals and the description thereof will be omitted.

【0024】図1は本発明の一実施例による気相併用加
温減圧システムの系統を示し、同図に基づいて本実施例
の概要を説明すると、液相ライン2に設けた開閉弁4
は、ラインに背圧弁4aを介在させ、逆止弁4bの一端
を背圧弁4aの下流側に接続し、他端を背圧弁4aに接
続してなるものとされている。9aは気相ラインの圧力
調整弁であり、背圧弁4aの開放時における液相ライン
の圧力調整弁8の設定値よりも圧力調整弁9aの出口圧
力の設定値が高くされている。
FIG. 1 shows a system of a gas phase combined heating / depressurizing system according to an embodiment of the present invention. The outline of the present embodiment will be described with reference to the same drawing. An opening / closing valve 4 provided in a liquid phase line 2 is shown in FIG.
Has a back pressure valve 4a interposed in the line, one end of the check valve 4b is connected to the downstream side of the back pressure valve 4a, and the other end is connected to the back pressure valve 4a. Reference numeral 9a denotes a pressure adjusting valve of the gas phase line, and the set value of the outlet pressure of the pressure adjusting valve 9a is set higher than the set value of the pressure adjusting valve 8 of the liquid phase line when the back pressure valve 4a is opened.

【0025】背圧弁4a、圧力調整弁8、圧力調整弁9
aの設定について、好適な例では、背圧弁4aの設定圧
力を6kgf/cm2とし、圧力調整弁8の設定圧力を
0.6kgf/cm2とした場合、圧力調整弁9aにお
ける入口圧力の設定値P1=6kgf/cm2に対し出口
圧力の設定値P2=1.5kgf/cm2とされる。
Back pressure valve 4a, pressure adjusting valve 8, pressure adjusting valve 9
Regarding the setting of a, in a preferred example, when the set pressure of the back pressure valve 4a is 6 kgf / cm 2 and the set pressure of the pressure adjusting valve 8 is 0.6 kgf / cm 2 , the inlet pressure setting in the pressure adjusting valve 9a is set. It is the value P 1 = 6kgf / cm 2 to the outlet pressure set value P 2 = 1.5kgf / cm 2.

【0026】上記構成によると、容器内圧力が開閉弁4
の設定圧力より高いときから圧力調整弁8の出口圧力と
圧力調整弁9aの出口圧力とが等しくなるまでは、ガス
は専ら気相ライン3から供給され、それ以後は気相ライ
ン3および液相ライン2から供給されることになる。
According to the above construction, the pressure inside the container is controlled by the on-off valve 4.
The gas is supplied exclusively from the gas phase line 3 until the outlet pressure of the pressure control valve 8 and the outlet pressure of the pressure control valve 9a become equal to each other from the time when the pressure is higher than the set pressure of, and thereafter, the gas phase line 3 and the liquid phase are supplied. It will be supplied from line 2.

【0027】図2は気相ラインの圧力調整弁9aの構造
を示し、同図において、気相ラインの圧力調整弁9a内
部には、ダイヤフラム10aによって気相ライン2の入
口側に連通する1次室11aと出口側に連通する2次室
12aとが形成されている。ダイヤフラム10aは1次
室11aと2次室12aのいずれの側にも変形可能であ
り、ダイヤフラム10aは、また弾性手段としてのスプ
リング13aによって1次室11a方向に付勢されてい
る。弁体14aは前記付勢方向またはその反対方向に運
動可能とされ、その一端は1次室11a内でダイヤフラ
ム10aに連結され、他端は1次室11aの外側に設け
たガス吹き出し口15aに位置する弁座16aと嵌合可
能に配置されている。
FIG. 2 shows the structure of the pressure adjusting valve 9a for the vapor phase line. In FIG. 2, the inside of the pressure adjusting valve 9a for the vapor phase line is connected to the inlet side of the vapor phase line 2 by a diaphragm 10a. A chamber 11a and a secondary chamber 12a communicating with the outlet side are formed. The diaphragm 10a can be deformed to either side of the primary chamber 11a and the secondary chamber 12a, and the diaphragm 10a is biased toward the primary chamber 11a by a spring 13a as an elastic means. The valve body 14a is movable in the urging direction or the opposite direction, one end thereof is connected to the diaphragm 10a in the primary chamber 11a, and the other end thereof is connected to a gas outlet 15a provided outside the primary chamber 11a. It is arranged so that it can be fitted with the valve seat 16a.

【0028】上記構成において、気相ラインの圧力調整
弁9aの設定値は次のようにして求めることができる。
In the above structure, the set value of the pressure adjusting valve 9a on the vapor phase line can be obtained as follows.

【0029】すなわち、圧力調整弁9aのセットポイン
トとして入口圧力P1を5kgf/cm2、出口圧力P2
を0.5kgf/cm2として選択すると、 5A=0.5A+Sp ……………………………………(1) 但し、A : ダイヤフラム10aの面積 Sp: セットポイント時において、スプリング13a
がダイヤフラム10aを付勢する力 (1)より Sp=4.5A ……………………………………(1) Spを一定とすると、P1およびP2の関係は表1、図6
のようになる。
That is, the inlet pressure P 1 is 5 kgf / cm 2 and the outlet pressure P 2 is the set point of the pressure regulating valve 9a.
Is selected as 0.5 kgf / cm 2 , 5A = 0.5A + Sp ……………………………… (1) However, A: Area of diaphragm 10a Sp: Spring 13a at set point
From the force (1) that urges the diaphragm 10a. Sp = 4.5A ……………………………… (1) If Sp is constant, the relationship between P 1 and P 2 is shown in Table 1. , Fig. 6
become that way.

【0030】[0030]

【表1】 [Table 1]

【0031】このように本実施例によると、背圧弁4a
の開放時における気相ラインの圧力調整弁9aの出口圧
力P2の設定値を液相ラインの圧力調整弁8の設定値よ
りも高くし、気相ラインの圧力調整弁9aの構造を図2
図示のようにして気相ラインの圧力調整弁9aの入口圧
力P1と出口圧力P2とを表1に示す関係としたので、装
置の作動中には常に気相ライン3からガスが供給される
こととなり、従来の気相併用加温減圧方式における、気
化筒5等に要求されるエネルギーの効率が改善され、さ
らに図3および図8を比較して気化筒5内圧力の変動、
背圧弁4aの開閉頻度が低くなり、もって背圧弁4a、
気化筒5の耐用性低下の問題を解決することができる。
Thus, according to this embodiment, the back pressure valve 4a
2 is set so that the set value of the outlet pressure P 2 of the pressure adjusting valve 9a of the gas phase line at the time of opening is higher than that of the pressure adjusting valve 8 of the liquid phase line.
As shown in Table 1, the inlet pressure P 1 and the outlet pressure P 2 of the pressure adjusting valve 9a of the vapor phase line are set as shown in Table 1. Therefore, gas is always supplied from the vapor phase line 3 during the operation of the apparatus. Therefore, the efficiency of energy required for the vaporization cylinder 5 and the like in the conventional vapor phase combined heating and depressurization method is improved, and further comparison between FIG. 3 and FIG.
The frequency of opening and closing the back pressure valve 4a becomes low, so that the back pressure valve 4a,
It is possible to solve the problem of deterioration of the durability of the vaporizing cylinder 5.

【0032】次に、本発明の他の実施例を説明する。こ
の実施例は上記の気相ライン圧力調整弁9aに生じる問
題に鑑みてなされたもので、以下、気相ライン圧力調整
弁9aにおける技術的課題を説明する。
Next, another embodiment of the present invention will be described. This embodiment has been made in view of the problem that occurs in the vapor phase line pressure regulating valve 9a, and the technical problems in the vapor phase line pressure regulating valve 9a will be described below.

【0033】すなわち、気相ライン圧力調整弁9aにお
いて、入口圧力P1と出口圧力P2との関係は図6の曲線
Aに示される勾配の1次曲線となる。同曲線から出口圧
力P2は入口圧力P1の変動に依存し、P1の変動量が大
きいほど、出口圧力P2の変動量が大きくなることが理
解される。従って入口圧力P1の状態によってガス供給
圧力が変化し、経時的にみるとシステムの作動中におけ
る供給圧力が不安定となる。システム作動中におけるガ
ス供給圧力の変動の経時変化を図5の曲線Aに示す。
That is, in the gas-phase line pressure regulating valve 9a, the relationship between the inlet pressure P 1 and the outlet pressure P 2 is a linear curve with the gradient shown by the curve A in FIG. Outlet pressure P 2 from the curve depends on the fluctuation of the inlet pressure P 1, as the amount of fluctuation of P 1 is large, it is understood that the fluctuation amount of the outlet pressure P 2 increases. Therefore, the gas supply pressure changes depending on the state of the inlet pressure P 1 , and the supply pressure becomes unstable during system operation over time. A curve A in FIG. 5 shows the change over time in the fluctuation of the gas supply pressure during the system operation.

【0034】このような課題を解決するため、本実施例
は、図1の系統において、気相ラインの圧力調整弁9a
を、図4に示す圧力調整弁9bに置換したことを特徴と
する。本実施例においても、システムの全体系統は図1
と同様であり、そのため、図1に関する上記説明と同一
の内容は説明を省略する。
In order to solve such a problem, in the present embodiment, in the system of FIG. 1, the pressure adjusting valve 9a of the vapor phase line is used.
Is replaced with a pressure regulating valve 9b shown in FIG. Also in this embodiment, the entire system is shown in FIG.
Therefore, the description of the same contents as those described above with reference to FIG. 1 will be omitted.

【0035】図4において、気相ライン圧力調整弁9b
は、気相ライン2の入口側に連通する1次室11bと、
気相ライン2の出口側に連通する2次室12bとを有し
ている。前記実施例と相違する点は、1次室11bおよ
び2次室12bはそれぞれ別体に形成され、2次室12
bの軸方向断面積は概ね1次室11bの軸方向断面積よ
りも大きくされている点にある。
In FIG. 4, the vapor line pressure adjusting valve 9b
Is a primary chamber 11b communicating with the inlet side of the vapor phase line 2,
It has a secondary chamber 12b communicating with the outlet side of the vapor phase line 2. The difference from the above-mentioned embodiment is that the primary chamber 11b and the secondary chamber 12b are formed separately, and the secondary chamber 12
The axial sectional area of b is substantially larger than the axial sectional area of the primary chamber 11b.

【0036】2次室12b内には、ダイヤフラム10b
が張設されており、ダイヤフラム10bは、スプリング
13bによって1次室11b方向に付勢されている。ダ
イヤフラム10bが1次室11bおよび2次室12bの
いずれの側にも変形可能である点は前記と同様である。
ダイヤフラム10bには押圧棒17bが連結され、1次
室11b内に突出している。1次室11b内には前記付
勢方向またはその反対方向に運動可能なピストン18b
が配置され、ピストン18bの一端は1次室11b内壁
に嵌合するとともに押圧棒17bの先端と当接可能とさ
れている。ピストン18bの他端には、1次室11bの
外側に設けたガス吹き出し口15bに位置する弁座16
bと嵌合可能な弁体14bが形成されている。
A diaphragm 10b is provided in the secondary chamber 12b.
And the diaphragm 10b is urged toward the primary chamber 11b by a spring 13b. As in the above, the diaphragm 10b can be deformed on either side of the primary chamber 11b and the secondary chamber 12b.
A pressing rod 17b is connected to the diaphragm 10b and projects into the primary chamber 11b. In the primary chamber 11b, a piston 18b movable in the biasing direction or the opposite direction is provided.
Is arranged, and one end of the piston 18b is fitted into the inner wall of the primary chamber 11b and can come into contact with the tip of the pressing rod 17b. The other end of the piston 18b is provided with a valve seat 16 located at a gas outlet 15b provided outside the primary chamber 11b.
A valve body 14b that can be fitted with b is formed.

【0037】本実施例において、ダイヤフラム10bの
面積Bと、ピストン18bの2次室12b側先端の面積
B′との比が7:1.6とされている。
In this embodiment, the ratio of the area B of the diaphragm 10b to the area B'of the tip of the piston 18b on the secondary chamber 12b side is 7: 1.6.

【0038】このような気相ライン圧力調整弁9bの設
定値は、次のようにして求めることができる。
The set value of such a vapor phase line pressure adjusting valve 9b can be obtained as follows.

【0039】すなわち、気相ライン圧力調整弁9bのセ
ットポイントとして、前記実施例と同様に入口圧力P1
を5kgf/cm2、出口圧力P2を0.5kgf/cm
2として選択すると、上記のように、 B:B′=7:1.6 ……………………………………(1) また、前記実施例と同様に、 5B′=0.5B+Sp …………………………………(2) 但し、Sp: セットポイント時において、スプリング
13aがダイヤフラム10aを付勢する力 (1)および(2)より 5(1.6/7)B=0.5B+Sp Sp=0.64B …………………………………………(3) Spを一定とすると、P1およびP2の関係は表2、図6
のようになる。
That is, as the set point of the vapor phase line pressure adjusting valve 9b, the inlet pressure P 1 is set in the same manner as in the above embodiment.
Is 5 kgf / cm 2 , and the outlet pressure P 2 is 0.5 kgf / cm 2.
When selected as 2 , B: B '= 7: 1.6 as described above (1) Further, 5B' = 0 as in the above embodiment. .5B + Sp ……………………………… (2) However, Sp: At the set point, the force that the spring 13a biases the diaphragm 10a is (5) (1.6) from (1) and (2). / 7) B = 0.5B + Sp Sp = 0.64B (3) If Sp is constant, the relationship between P 1 and P 2 is shown in Table 2 and FIG. 6
become that way.

【0040】[0040]

【表2】 [Table 2]

【0041】図6に示すように、本実施例におけるP1
およびP2の相関を示す曲線Bの勾配は、前記実施例の
曲線Aの勾配よりも小さく、従って本実施例によるとP
1が大きく変動してもP2の変動は抑制され、図5に示す
ように安定したガス供給圧力が得られることが理解され
る。
As shown in FIG. 6, P 1 in this embodiment
The slope of the curve B showing the correlation between P and P 2 is smaller than the slope of the curve A of the above-mentioned embodiment, so that according to this embodiment, P
It is understood that the fluctuation of P 2 is suppressed even if 1 largely fluctuates, and a stable gas supply pressure is obtained as shown in FIG.

【0042】なお、前記各実施例においては開閉弁4を
背圧弁4aおよび逆止弁4bからなるものとしたが、本
発明はそれに限定されるものではなく、例えば電磁弁を
液相ライン2に介在させ、電磁弁の下流側に逆止弁の一
端を接続するとともに逆止弁の他端を、圧力スイッチに
接続し、電磁弁および圧力スイッチを制御器によって制
御する構成としても有効である。
Although the on-off valve 4 is composed of the back pressure valve 4a and the check valve 4b in each of the above-described embodiments, the present invention is not limited to this. For example, an electromagnetic valve may be provided in the liquid phase line 2. It is also effective to interpose one end of the check valve downstream of the solenoid valve, connect the other end of the check valve to the pressure switch, and control the solenoid valve and the pressure switch by the controller.

【0043】[0043]

【発明の効果】本発明によれば、液相ラインの背圧弁等
開閉手段の開放時における液相ライン圧力調整弁の設定
値よりも気相ライン圧力調整弁の出口圧力設定値を高く
し、常に気相ラインが機能してガスが供給されて液相ラ
インの稼働が少なくるものとしたので、気化筒等に必要
な熱が低減される等エネルギー効率が向上される。ま
た、気化筒の内部圧力変動、背圧弁の開閉頻度が低減さ
れ、構成部品の耐用寿命を延ばすことができ、さらに、
気相ライン圧力調整弁の改良により気相ラインからのガ
ス供給圧力を安定させることができる等の効果が奏され
る。
According to the present invention, the outlet pressure set value of the gas phase line pressure adjusting valve is made higher than the set value of the liquid phase line pressure adjusting valve when the opening / closing means such as the back pressure valve of the liquid phase line is opened, Since the gas phase line is always functioning and gas is supplied to reduce the operation of the liquid phase line, the heat required for the vaporization tube or the like is reduced and the energy efficiency is improved. In addition, fluctuations in the internal pressure of the vaporization cylinder and the frequency of opening and closing the back pressure valve can be reduced, and the useful life of the components can be extended.
By improving the gas-phase line pressure control valve, the gas supply pressure from the gas-phase line can be stabilized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例による気相併用加温減圧シス
テムの系統図である。
FIG. 1 is a system diagram of a gas phase combined heating and depressurizing system according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1実施例による気相ライン圧力調整弁を示す
断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a vapor line pressure adjusting valve according to the embodiment of FIG.

【図3】図1実施例の、作動時における背圧弁の開閉、
および容器内圧力、気化筒内圧力の経時変化を示すダイ
ヤグラムである。
FIG. 3 is a diagram showing the opening and closing of the back pressure valve during operation of the embodiment of FIG.
3 is a diagram showing changes with time in the container internal pressure and the vaporization cylinder internal pressure.

【図4】本発明の他の実施例による気相ライン圧力調整
弁を示す断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a vapor line pressure adjusting valve according to another embodiment of the present invention.

【図5】図2図示の圧力調整弁および図4図示の圧力調
整弁の、作動時における容器内圧力、ガス供給圧力の経
時変化の比較を示すダイヤグラムである。
5 is a diagram showing a comparison of changes over time in the pressure inside the container and the gas supply pressure during operation of the pressure regulating valve shown in FIG. 2 and the pressure regulating valve shown in FIG.

【図6】前記各圧力調整弁における、入口圧力P1およ
び出口圧力P2の相関の比較を示すグラフである。
FIG. 6 is a graph showing a comparison of the correlation between the inlet pressure P 1 and the outlet pressure P 2 in each pressure control valve.

【図7】従来の技術の一例による気相併用加温減圧シス
テムの系統図である。
FIG. 7 is a system diagram of a vapor phase combined heating / depressurizing system according to an example of a conventional technique.

【図8】図7の例の、作動時における背圧弁の開閉、お
よび容器内圧力、気化筒内圧力の経時変化を示すダイヤ
グラムである。
8 is a diagram showing the opening / closing of the back pressure valve, and the changes over time in the pressure inside the container and the pressure inside the vaporizing cylinder in the example of FIG. 7. FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 容器 2 液相ライン 3 気相ライン 4 開閉手段 4a 背圧弁 4b 逆止弁 5 気化筒 6 熱媒体 7 熱源 8 液相ライン圧力調整弁 9、9a、9b 気相ライン圧力調整弁 10a、10b ダイヤフラム 11a、11b 1次室 12a、12b 2次室 13a、13b スプリング 14a、14b 弁体 15a、15b ガス吹き出し口 16a、16b 弁座 17b 押圧棒 18b ピストン DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Container 2 Liquid phase line 3 Gas phase line 4 Opening / closing means 4a Back pressure valve 4b Check valve 5 Vaporizing cylinder 6 Heat medium 7 Heat source 8 Liquid phase line pressure adjusting valve 9, 9a, 9b Gas line pressure adjusting valve 10a, 10b Diaphragm 11a, 11b Primary chamber 12a, 12b Secondary chamber 13a, 13b Spring 14a, 14b Valve body 15a, 15b Gas outlet 16a, 16b Valve seat 17b Push rod 18b Piston

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 液化ガス収容容器に気相ラインと液相ラ
インとをそれぞれ挿通し、前記液相ラインを、前記容器
内が設定圧力以下に低下したとき開放される開閉弁を介
して、熱媒体が充填された気化筒内を通過させてから、
出口圧力を設定圧力に調整すべく弁開度を制御する液相
ラインの圧力調整弁を介して、ガス出口側に連通させ、
前記気相ラインに、入口と出口の圧力差に応じて出口圧
力を調整すべく弁開度を制御する気相ラインの圧力調整
弁であって、前記開閉弁の開放時における前記液相ライ
ンの圧力調整弁の設定圧力よりも出口圧力を高く設定し
た気相ラインの圧力調整弁を設けるとともに、前記気相
ラインを前記気相ラインの圧力調整弁と前記液相ライン
の圧力調整弁とのそれぞれの出口側で前記液相ラインに
合流してなることを特徴とする液化ガス蒸発器のための
気相併用加温減圧装置。
1. A liquefied gas storage container is inserted with a vapor phase line and a liquid phase line, respectively, and the liquid phase line is heated by an on-off valve which is opened when the inside of the container falls below a set pressure. After passing through the vaporization cylinder filled with the medium,
Via the pressure adjusting valve of the liquid phase line that controls the valve opening to adjust the outlet pressure to the set pressure, communicate with the gas outlet side,
In the vapor phase line, a pressure regulating valve of the vapor phase line for controlling the opening of the valve so as to regulate the outlet pressure according to the pressure difference between the inlet and the outlet, the pressure of the liquid phase line when the on-off valve is opened. A pressure adjusting valve for the gas phase line is provided in which the outlet pressure is set to be higher than the set pressure of the pressure adjusting valve, and the gas phase line is provided with each of the pressure adjusting valve for the gas phase line and the pressure adjusting valve for the liquid phase line. A combined heating and depressurizing device for a vapor phase for a liquefied gas evaporator, characterized in that it joins the liquid phase line on the outlet side of the.
【請求項2】 前記気相ラインの圧力調整弁は、前記気
相ラインの入口側に連通する1次室と前記気相ラインの
出口側に連通する2次室とを有し、前記1次室と前記2
次室とはダイヤフラムを介して隔離されてなり、前記ダ
イヤフラムを弾性手段によって前記1次室方向に付勢す
るとともに、該付勢方向またはその反対方向に運動可能
な弁体の一端を前記ダイヤフラムに連結し、前記弁体の
他端を前記1次室側のガス吹き出し口に設けた弁座と嵌
合可能に配置してなることを特徴とする請求項1に記載
の液化ガス蒸発器のための気相併用加温減圧装置。
2. The pressure regulating valve of the vapor phase line has a primary chamber communicating with an inlet side of the vapor phase line and a secondary chamber communicating with an outlet side of the vapor phase line, Room and above 2
The secondary chamber is isolated via a diaphragm, and the diaphragm is biased toward the primary chamber by an elastic means, and one end of a valve element movable in the biasing direction or the opposite direction is moved to the diaphragm. 2. The liquefied gas evaporator according to claim 1, wherein the liquefied gas evaporator is connected to the other end of the valve body so that the other end of the valve body can be fitted with a valve seat provided on the gas outlet of the primary chamber. Gas phase combined heating and decompression device.
【請求項3】 前記気相ラインの圧力調整弁は、前記気
相ラインの入口側に連通する1次室と、前記気相ライン
の出口側に連通し前記1次室よりも断面積の大きい2次
室とを有し、前記2次室内に、前記1次室方向に付勢さ
れたダイヤフラムと該ダイヤフラムに連結され前記1次
室内に突出した押圧手段とを設け、前記付勢方向または
その反対方向に運動可能なピストンの一端を、前記1次
室内に、前記押圧手段と当接可能に嵌合するとともに、
前記ピストンの他端に、前記1次室側のガス吹き出し口
に設けた弁座に嵌合可能な弁体を設けてなることを特徴
とする請求項1に記載の液化ガス蒸発器のための気相併
用加温減圧装置。
3. The pressure regulating valve of the vapor phase line has a larger cross-sectional area than the primary chamber communicating with the inlet side of the vapor phase line and the primary chamber communicating with the outlet side of the vapor phase line. A secondary chamber, and a diaphragm urged toward the primary chamber and a pressing means connected to the diaphragm and protruding into the primary chamber are provided in the secondary chamber, and the urging direction or its direction. One end of a piston movable in the opposite direction is fitted in the primary chamber so as to be able to contact the pressing means,
The liquefied gas evaporator according to claim 1, wherein the other end of the piston is provided with a valve body that can be fitted into a valve seat provided in the gas outlet on the primary chamber side. Combined heating and decompression device for gas phase.
JP3198292A 1992-02-19 1992-02-19 Vapor phase combined heating pressure reducing device for liquefied gas evaporator Pending JPH05231595A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3198292A JPH05231595A (en) 1992-02-19 1992-02-19 Vapor phase combined heating pressure reducing device for liquefied gas evaporator

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3198292A JPH05231595A (en) 1992-02-19 1992-02-19 Vapor phase combined heating pressure reducing device for liquefied gas evaporator

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH05231595A true JPH05231595A (en) 1993-09-07

Family

ID=12346146

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3198292A Pending JPH05231595A (en) 1992-02-19 1992-02-19 Vapor phase combined heating pressure reducing device for liquefied gas evaporator

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH05231595A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110878905A (en) * 2018-09-05 2020-03-13 气体产品与化学公司 Apparatus and method for testing compressed gas distribution stations

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110878905A (en) * 2018-09-05 2020-03-13 气体产品与化学公司 Apparatus and method for testing compressed gas distribution stations
CN110878905B (en) * 2018-09-05 2022-04-12 气体产品与化学公司 Apparatus and method for testing compressed gas distribution stations

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20080011363A1 (en) Pressure Control Valve
US11486607B1 (en) Thermal management systems for extended operation
JP2002106959A (en) Heat pump water heater
JPH05231595A (en) Vapor phase combined heating pressure reducing device for liquefied gas evaporator
US20040007015A1 (en) Expansion valve
JP2002221376A (en) Refrigerating cycle
JP4256565B2 (en) High-pressure control valve for supercritical vapor compression refrigeration cycle equipment
KR101575028B1 (en) Atmospheric Vaporizing System for Liquified Petroleum Gas
US2224053A (en) Refrigerator control
JPH05345126A (en) Chemical solution supply device
JP4957273B2 (en) Steam supply device
JPH02125309A (en) Pressure control valve
JPH03113210A (en) Automatically regulating mechanism for gas flow rate for volume regulating valve in cigarette gas lighter, cartridge type gas cylinder, and the like
JP3281416B2 (en) Pressure regulator
JPH05215297A (en) Heating and decompressing system commonly used for gaseous phase of liquefied gas
JPS6324487Y2 (en)
JPH08145494A (en) Absorption type heat pump
JP2000266206A (en) Expansion valve
JPH0646118B2 (en) Heat pump device
JP2001249724A (en) Pressure adjuster
KR20220139074A (en) Cryogenic reciprocating pump for generating high pressure liquid using tension, and operating method thereof
JP2506097Y2 (en) Pressure regulator
JP2725715B2 (en) Control device for decompression boiler type vaporizer
JP6130707B2 (en) Liquefied gas evaporator
JP2008175160A (en) Vaporizer for gas engine