JPH05230509A - Raw material charging method and charging device for bell-less blast furnace - Google Patents

Raw material charging method and charging device for bell-less blast furnace

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Publication number
JPH05230509A
JPH05230509A JP3485892A JP3485892A JPH05230509A JP H05230509 A JPH05230509 A JP H05230509A JP 3485892 A JP3485892 A JP 3485892A JP 3485892 A JP3485892 A JP 3485892A JP H05230509 A JPH05230509 A JP H05230509A
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JP
Japan
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raw material
hopper
partition wall
furnace
charging
Prior art date
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Pending
Application number
JP3485892A
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Japanese (ja)
Inventor
Ichiro Watanabe
一郎 渡辺
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Nippon Steel Corp
Original Assignee
Sumitomo Metal Industries Ltd
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Filing date
Publication date
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Abstract

PURPOSE:To provide the raw material charging method and device which improve discharge characteristics and exactly control the raw material grain size distribution in the radial direction in a furnace by classifying the raw materials to be charged into a lower hopper by grain sizes during operation while utilizing the natural classification and raw material discharge characteristics on the internal deposition surface of an upper hopper. CONSTITUTION:A hollow cylindrical partition wall 13a having a flow regulating body 13b is provided in the lower hopper 5 of a center feed type bell-less top charger of a single port system disposed with the raw material hoppers in two stages; upper and lower and a splashing preventive plate 13c is mounted around the upper part thereof to provide annular spacing parts S1, S2 where the raw materials can make mass flow between this plate and the hopper wall. The charging raw materials of different grain sizes from the upper hopper 2 are forcibly classified by the partition wall 13a, the flow regulating body 13b and the splashing preventive plate 13c within the lower hopper 5. The discharge into the furnace is executed by the mass flow in order of fine, middle and coarse grains to change the grain sizes for discharge with lapse of time as a 'monotonous increase pattern'.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、ベルレス高炉におけ
る原料装入方法およびその装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a raw material charging method and apparatus for a bellless blast furnace.

【0002】[0002]

【従来の技術およびこの発明が解決しようとする課題】
高炉内に原料を装入するに際し、近年では、大ベルや小
ベルの開閉により装入する方法に代わり、大ベルや小ベ
ルを用いず、旋回,傾動が可能な分配シュートを介して
装入物を炉内に分配する、所謂ベルレス炉頂装入装置が
多く採用されるようになってきた。そしてこのベルレス
炉頂装入装置には、炉頂バンカーが並列に設置された
「並列ホッパー型」の装置と、原料ホッパーが上下二段
に設置された所謂「センターフィード型」の装置とがあ
り、最近では後者のセンターフィード型の装置が採用さ
れる傾向にある。
Prior Art and Problems to be Solved by the Invention
When charging raw materials into the blast furnace, in recent years, instead of using the method of opening and closing large bells and small bells, instead of using large bells or small bells, charging is done via a distribution chute that can be swung and tilted. A so-called bell-less furnace top charging device for distributing things into the furnace has been widely adopted. And this bellless furnace top charging device includes a "parallel hopper type" device in which furnace bunkers are installed in parallel, and a so-called "center feed type" device in which raw material hoppers are installed in two upper and lower stages. Recently, the latter center feed type device tends to be adopted.

【0003】このセンターフィード型のベルレス炉頂装
入装置としては、図6にその一例の構成を示すように、
単ポートセンターフィード型ベルレス炉頂装入装置が一
般に知られている。そしてこの図6に基づいて、ベルレ
ス炉頂装入装置の作用を説明すると、装入コンベヤ1に
より炉頂部へ搬送された原料は、上段ホッパー2に装入
され、さらに上段ホッパー2から、その底部に設けられ
た上部ゲート3を経て下段ホッパー5へ装入される。次
いで原料コントロールゲート6を経て、下段ホッパー5
から排出された原料は、分配シュート用駆動装置8によ
り旋回,傾動する分配シュート9を介して炉内に装入さ
れる。
As the center-feed type bellless furnace top charging device, as shown in FIG.
A single port center feed type bellless furnace top charging device is generally known. The operation of the bellless furnace top charging device will be described with reference to FIG. 6. The raw material conveyed to the furnace top by the charging conveyor 1 is charged into the upper hopper 2 and further from the upper hopper 2 to its bottom. It is loaded into the lower hopper 5 through the upper gate 3 provided in the. Next, through the raw material control gate 6, the lower hopper 5
The raw material discharged from the furnace is charged into the furnace through a distribution chute 9 which is swung and tilted by a distribution chute drive device 8.

【0004】このセンターフィード型の装置は、並列ホ
ッパー型の装置に比べて、構造的に簡素で、設備投資額
が安く、装入物を炉内の円周方向にほぼ均一に分配でき
るという機能上の利点がある。
The center-feed type device is structurally simpler than the parallel-hopper type device, the capital investment is low, and the charge can be distributed almost uniformly in the circumferential direction of the furnace. There are advantages.

【0005】しかしながら、図6に示した単ポートセン
ターフィード型ベルレス炉頂装入装置は、以下に述べる
ように、その構造に起因する問題点を有している。
However, the single-port center-feed bellless furnace top charging device shown in FIG. 6 has problems due to its structure, as described below.

【0006】図7は、従来の単ポート式センターフィー
ド型ベルレス炉頂装入装置の上段および下段ホッパーに
おける原料の排出挙動を示す模式図である。この図7に
おいて、装入コンベア1等で上段ホッパー2へ装入され
る原料10aは、ホッパー内の円錐状の原料堆積面で自然
に分級される。そして装入装置、即ちホッパーの中央部
には粒径の小さい原料を主体とする細粒A、側壁の周辺
部には粒径の大きい原料を主体とする粗粒C、それら細
粒Aと粗粒Cの間には中粒Bが堆積する。
FIG. 7 is a schematic diagram showing the discharge behavior of the raw materials in the upper and lower hoppers of a conventional single-port type center feed type bellless furnace top charging device. In FIG. 7, the raw material 10a charged into the upper hopper 2 by the charging conveyor 1 or the like is naturally classified on the conical raw material deposition surface in the hopper. Further, in the charging device, that is, in the hopper, fine particles A mainly composed of a raw material having a small particle diameter are provided. In the peripheral portion of the side wall, coarse particles C mainly composed of a raw material having a large particle diameter are provided. Medium grains B are deposited between the grains C.

【0007】次いで、上段ホッパー2の上部ゲート3を
「開」にして、ホッパー2内の原料12を下段ホッパー5
内へ排出する際の原料10bの排出挙動は、所謂ファンネ
ルフロー型の挙動を示し、排出初期には細粒Aが、次い
で中粒Bが、そして排出末期には粗粒Cが排出される。
Next, the upper gate 3 of the upper hopper 2 is opened, and the raw material 12 in the hopper 2 is fed to the lower hopper 5.
The discharge behavior of the raw material 10b at the time of discharging into the inside shows what is called a funnel flow type behavior, in which the fine particles A are discharged at the early stage of discharging, then the medium particles B are discharged, and the coarse particles C are discharged at the final stage of discharging.

【0008】図8はこの上段ホッパー2からの原料排出
時の粒径の経時変化を模式的に示す図である。ここでの
原料の排出は、細粒A、中粒B、粗粒Cの順に行われる
ので、粒径の経時変化は「単調増加パターン」となる。
この傾向はコークスに比べ粒度分布の範囲が大きい焼結
鉱において顕著に現れる。なおこの図8における横軸は
原料12の排出開始から終了までを 1.0として表わした無
次元時間、縦軸は全体の平均粒径で各排出時間毎の平均
粒度を割って(即ち、平均が 1.0で、 1.0以上は粗粒の
割合が高く、 1.0以下では細粒の割合が高いことを示
す)無次元粒度としたものである。
FIG. 8 is a diagram schematically showing the change over time in the particle size when the raw material is discharged from the upper hopper 2. Since the raw materials are discharged in this order in the order of the fine particles A, the medium particles B, and the coarse particles C, the change with time of the particle size becomes a “monotonically increasing pattern”.
This tendency remarkably appears in the sinter having a larger particle size distribution range than coke. The horizontal axis in FIG. 8 is a dimensionless time expressed as 1.0 from the start to the end of the discharge of the raw material 12, and the vertical axis is the average particle size of the whole divided by the average particle size at each discharge time (that is, the average is 1.0). The ratio of coarse particles is high when 1.0 or more, and the ratio of fine particles is high when 1.0 or less).

【0009】前記上段ホッパー2からの原料12の排出
は、上部ゲート3を全開にした状態で短時間(焼結鉱で
6〜7T/sec)に行われるため、下段ホッパー5内に原
料12が堆積する際には、上段ホッパー2で生じたような
原料堆積時の分級(中心部:細粒、側壁部:粗粒)が充
分になされず、図7に示すように、排出順に堆積し、最
下層に細粒A' 、その上に中粒B' 、最上層に粗粒C'
が上段の時に比べ緩やかな円錐状の堆積面を形成して堆
積する。
The discharge of the raw material 12 from the upper hopper 2 is performed in a short time (6 to 7 T / sec in the sinter ore) with the upper gate 3 fully opened, so that the raw material 12 is discharged into the lower hopper 5. At the time of deposition, the classification (center portion: fine grains, side wall portion: coarse grains) at the time of material deposition, which occurred in the upper hopper 2, was not sufficiently performed, and as shown in FIG. Fine grain A'on the bottom layer, medium grain B'on it, and coarse grain C'on the top layer.
The deposit surface forms a gentle conical surface when compared with the upper level.

【0010】また下段ホッパー5から原料コントロール
ゲート6を経て炉内に装入される原料10cの排出挙動
は、前記上段ホッパー2からの排出挙動と同様にファン
ネルフロー型の挙動を示す。即ち、排出初期には原料コ
ントロールゲート6の直上のホッパー中心部の原料aが
排出され、次いで、それに隣接する部分の原料bが、最
後に側壁部周辺の原料cが排出される。
The discharge behavior of the raw material 10c charged into the furnace from the lower hopper 5 through the raw material control gate 6 exhibits a funnel flow type behavior similar to the discharge behavior from the upper hopper 2. That is, in the initial stage of discharging, the raw material a in the central portion of the hopper just above the raw material control gate 6 is discharged, then the raw material b in the portion adjacent thereto and finally the raw material c in the periphery of the side wall portion are discharged.

【0011】図9はこの原料排出時の経時変化を模式的
に示す図で、排出初期に粗粒ピークが現われ、排出中期
以降、漸次粗粒から細粒となり、排出末期にはホッパー
5の周辺側壁部に残っている粗粒が排出されるのでやや
粒径が大きくなる。この傾向は、前記と同様に焼結鉱に
おいて強く現われる。コークスについては粒径の経時変
化が少なく、やや平坦な「フラットパターン」となる。
なお図9において、横軸と縦軸は図8の場合と同様に定
めたものである。
FIG. 9 is a diagram schematically showing the change over time in discharging the raw material. A coarse particle peak appears in the early stage of discharging, and gradually changes from coarse particles to fine particles after the middle stage of discharging, and around the hopper 5 at the final stage of discharging. Since the coarse particles remaining on the side wall are discharged, the particle size is slightly increased. This tendency appears strongly in the sintered ore as described above. Regarding coke, there is little change in particle size over time, and it becomes a slightly flat “flat pattern”.
Note that, in FIG. 9, the horizontal axis and the vertical axis are defined in the same manner as in the case of FIG.

【0012】このように、下段ホッパー5から分配シュ
ート9を介して炉内へ装入される原料は、排出初期には
粗粒が多く、漸次粗粒から細粒に変わる。そのため、分
配シュート9を炉内壁側から、炉芯側に向かって旋回,
傾動させて、装入物の分布制御を行う内振り分配方式で
は、図11に示すように、炉内壁側に側粒11b、炉芯側に
細粒11aが装入され、半径方向に粒度偏析が生ずる。
As described above, the raw material charged into the furnace from the lower hopper 5 through the distribution chute 9 has many coarse particles in the initial stage of discharge, and gradually changes from coarse particles to fine particles. Therefore, the distribution chute 9 is swung from the furnace inner wall side toward the furnace core side,
In the internal swing distribution method in which the distribution of the charge is controlled by tilting, as shown in Fig. 11, the side grain 11b is charged on the inner wall side of the furnace, and the fine grain 11a is charged on the core side, and the particle size is segregated in the radial direction. Occurs.

【0013】炉内装入物11の通気性は主としてその平均
粒度ならびに粒度分布により決まり、ガス流分布は炉内
装入物11の層厚分布ならびに半径方向の粒度偏析によっ
て影響を受ける。そのため、炉芯流の確保が大前提とな
る高炉操業において図5(a)に示したような炉内壁側に
細粒11a、炉芯側に粗粒11bが装入されるような粒度分
布になるのが望ましい。しかし、図11の場合、炉内壁側
のガスの流れが強くなり、炉芯部におけるガスの流れ
(炉芯流)が不安定化し、吹抜けやスリップ等を誘発し
やすい不安定な炉況となって、高炉の安定操業を行う上
で大きな制約となっている。
The air permeability of the furnace interior insert 11 is mainly determined by its average particle size and particle size distribution, and the gas flow distribution is influenced by the layer thickness distribution of the furnace interior insert 11 and the radial particle size segregation. Therefore, in the blast furnace operation in which securing of the core flow is a major premise, the particle size distribution is such that the fine particles 11a are charged on the furnace inner wall side and the coarse particles 11b are charged on the furnace core side as shown in FIG. 5 (a). Is desirable. However, in the case of Fig. 11, the gas flow on the inner wall side of the furnace becomes stronger, the gas flow in the furnace core (core flow) becomes unstable, and an unstable furnace condition in which blow-through or slip is easily induced. Therefore, it is a major limitation for stable operation of the blast furnace.

【0014】以上より、下段ホッパー5からの原料の粒
経の経時パターンは「単調増加パターン」が望ましい経
時パターンということになる。
From the above, the time course pattern of the grain size of the raw material from the lower hopper 5 is a desirable time course pattern of "monotonically increasing pattern".

【0015】そして従来では、前記原料の排出初期に粗
粒が排出されるという問題点を解決するために、粒度の
異なる原料を予め分別して炉内に装入(粒度別装入)
し、半径方向における粒度分布の調整を行う方法が提案
されている(特公昭55-16203号公報参照)。
In the prior art, in order to solve the problem that coarse particles are discharged in the initial stage of discharging the raw material, raw materials having different particle sizes are previously sorted and charged into the furnace (charge by particle size).
However, a method of adjusting the particle size distribution in the radial direction has been proposed (see Japanese Patent Publication No. 55-16203).

【0016】しかし、この方法においては、次に述べる
ような問題点がある。即ち、原料を粒度別に分別して装
入するため1チャージ当たりの装入時間が長くなり、高
炉の生産性を向上させようとしても、それに追随できな
い場合が生ずる。またホッパーの均圧,排圧回数が多く
なるので、それに要するガス(N2 ガス)の使用量が増
加する。さらに粒径の異なる原料を予め確保するために
は、篩分け設備や、これらの装入物を個別に貯蔵するた
めの設備も必要であると共に、この設備を設ける設備費
もかさむこととなる。
However, this method has the following problems. That is, since the raw materials are separately charged according to the particle size, the charging time per charge becomes long, and even if it is attempted to improve the productivity of the blast furnace, it may not be possible to follow it. Further, since the number of times of equalizing and exhausting pressure of the hopper increases, the amount of gas (N 2 gas) required for that increases. Further, in order to secure raw materials having different particle sizes in advance, a sieving facility and a facility for individually storing these charges are required, and the facility cost for providing this facility is also increased.

【0017】なお、前記下段ホッパー5からの原料排出
初期における粗粒の排出を抑制する方法として、上段ホ
ッパー2から下段ホッパー5への原料排出速度を小さく
し、下段ホッパー5内で堆積原料の自然分級(中心部:
細粒、側壁部:粗粒)を行わせ、下段ホッパー5から排
出される原料の粒径の経時パターンを上段ホッパー2か
ら排出される原料の粒径の経時パターンと同様に「単調
増加パターン」とする方法もある。しかし、この方法で
は原料の排出時間が長くなるので、炉頂タイムスケジュ
ールの延長につながることとなり、高炉の生産性の増大
に対応できない場合がある。
As a method for suppressing the discharge of coarse particles in the initial stage of discharging the raw material from the lower hopper 5, the raw material discharging speed from the upper hopper 2 to the lower hopper 5 is reduced so that the deposited raw material is naturally stored in the lower hopper 5. Classification (center:
Fine grain, side wall portion: coarse grain) is performed, and the temporal pattern of the particle size of the raw material discharged from the lower hopper 5 is the "monotonically increasing pattern" as in the temporal pattern of the particle size of the raw material discharged from the upper hopper 2. There is also a method. However, with this method, the discharge time of the raw material becomes long, which leads to the extension of the furnace top time schedule, which may not be able to cope with the increase in the productivity of the blast furnace.

【0018】この他に、下段ホッパー内に中空円筒を設
置し、その中に初期に上段ホッパーから排出される細粒
を装入し、炉内に排出する際において、その中空円筒を
円筒外の原料を、マスフローさせるために上方向に移動
させるというのがある(特開昭 61-157604号公報参
照)。しかし、下段ホッパー内は、高温,高圧でありダ
ストも多く、内筒を移動させる装置を設置することは難
しく、また仮に設置したとしてもメンテナンスが大変で
あり、実用的ではない。
In addition to this, a hollow cylinder is installed in the lower hopper, and fine particles discharged from the upper hopper in the initial stage are charged into the hollow cylinder. In some cases, the raw material is moved upward for mass flow (see JP-A-61-157604). However, the inside of the lower hopper is high temperature, high pressure, and much dust, it is difficult to install a device for moving the inner cylinder, and even if it is installed, the maintenance is difficult and it is not practical.

【0019】それから、下段ホッパー内に円筒(特開昭
60-43414号公報参照)を設置し、前述した特開昭 61-15
7604号公報と同様の効果を狙ったものがある。しかしこ
の場合は、円筒に入らなかつた細粒が、円筒上に堆積し
た原料に反発して壁側に堆積し、円筒と細粒との間に中
粒や粗粒が堆積するために、下段ホッパー5からの排出
原料の粒径経時パターンを「単調増加パターン」にする
ことはできない。
Then, in the lower hopper, a cylinder (Japanese Patent Laid-Open No.
60-43414), and the above-mentioned JP-A-61-15
There are some which aim at the same effect as the 7604 publication. However, in this case, the fine particles that did not enter the cylinder repel the raw material deposited on the cylinder and are deposited on the wall side, and medium particles and coarse particles are deposited between the cylinder and the fine particles. The pattern of the particle size of the raw material discharged from the hopper 5 cannot be made a “monotonically increasing pattern”.

【0020】また小ベル上に二重円筒を設置し、内筒内
に細粒、内筒〜外筒間に中粒、外筒の外に粗粒を強制的
に装入し、炉内円周方向に均一に原料を分布させようと
したものがある(特公昭61-10526号公報参照)。しかし
この場合は、対象がベル高炉であり、仮にセンターフィ
ード型ベルレス高炉の下段ホッパー5に設置しても、内
筒内には上段ホッパー2から真っ直ぐに細粒が落ちてく
るために、細粒が装入されるが、特開昭60-43414号公報
と同様に、内筒上面の堆積原料と、後から上段ホッパー
2から装入されてくる細, 中, 粗粒との反発が大きい。
そして特に粗粒に比べて細, 中粒は大きく反発するため
に、粗粒が内筒〜外筒間に、外筒の外に細, 中粒が装入
されて、原料の粒径の経時パターンは「単調増加パター
ン」にはならない。
Further, a double cylinder is installed on the small bell, and fine particles in the inner cylinder, medium particles between the inner cylinder and the outer cylinder, and coarse particles outside the outer cylinder are forcibly charged, and the inner circle of the furnace is There is an attempt to evenly distribute the raw material in the circumferential direction (see Japanese Patent Publication No. 61-10526). However, in this case, the target is the bell blast furnace, and even if it is installed in the lower hopper 5 of the center feed type bellless blast furnace, fine particles fall straight from the upper hopper 2 into the inner cylinder, However, similar to Japanese Patent Laid-Open No. 60-43414, there is a large repulsion between the deposited raw material on the upper surface of the inner cylinder and the fine, medium and coarse particles charged later from the upper hopper 2.
Fine particles and medium particles, in particular, repel more than coarse particles.Therefore, coarse particles are charged between the inner and outer cylinders, and fine particles and medium particles are charged outside the outer cylinder. The pattern does not become a “monotonically increasing pattern”.

【0021】さらに、下段ホッパー5内に整流板を設置
し、整流板とホッパー壁との間を原料がマスフローする
ように位置を調整するというのがある。しかし、原料が
整流板の上に一部残るために、二回目以降に装入される
原料の堆積状況は変わってくるし、整流板の下に上段ホ
ッパーから最初に装入されてくる細粒が、整流板の上に
歩留まり、下段ホッパー5から炉内へ装入する際に、細
粒が初期に排出されず、「単調増加パターン」にはなら
ない。
Further, there is a method in which a current plate is installed in the lower hopper 5 and the position is adjusted so that the raw material mass flows between the current plate and the hopper wall. However, since some of the raw material remains on the straightening vane, the deposition status of the raw material charged after the second time will change, and the fine particles initially fed from the upper hopper below the straightening vane will be changed. , Yields on the straightening vanes, and when the lower hopper 5 is charged into the furnace, the fine particles are not initially discharged, and the "monotonically increasing pattern" does not occur.

【0022】この発明は前述した事情に鑑みて創案され
たもので、その目的は上段ホッパー内の原料堆積面で自
然に行われる分級および上段ホッパーからの原料の排出
特性を利用して、下段ホッパーに装入される原料を操業
中に粒度別に分別し、下段ホッパーからの原料の排出特
性を改善して、炉内の半径方向における原料の粒度分布
を的確に制御することのできる原料装入方法およびこの
原料装入方法を実施する原料装入装置を提供することに
ある。
The present invention was devised in view of the above-mentioned circumstances, and its purpose is to utilize the classification naturally performed on the raw material depositing surface in the upper hopper and the discharge characteristics of the raw material from the upper hopper to make use of the lower hopper. The raw material charging method that can separate the raw material charged into the furnace according to the particle size during operation, improve the discharge characteristics of the raw material from the lower hopper, and accurately control the particle size distribution of the raw material in the radial direction inside the furnace. Another object of the present invention is to provide a raw material charging device for carrying out this raw material charging method.

【0023】[0023]

【課題を解決するための手段】この発明は、炉頂に原料
ホッパーが上下二段に配置された単ポート式センターフ
ィード型ベルレス炉頂装入装置を有するベルレス高炉に
おいて、炉内に装入される原料粒径の経時変化を制御す
ることができるようにしたのである。
The present invention is a bellless blast furnace having a single-port type center feed type bellless furnace top charging device in which raw material hoppers are arranged in upper and lower two stages on the furnace top. The change in the particle size of the raw material with time can be controlled.

【0024】そしてこの発明の要旨は、次に述べる(1)
のベルレス高炉の原料装入方法、および(2) の原料装入
装置にある。
The gist of the present invention is described below (1)
The method of charging raw materials for the bellless blast furnace and the apparatus for charging raw materials of (2).

【0025】(1) 原料ホッパーが上下二段に配置された
単ポート式センターフィード型ベルレス炉頂装入装置に
より、原料を炉内に装入するに際し、まず下段ホッパー
内において、ホッパー軸芯と同軸の円筒形状または多角
面筒形状の仕切り壁で仕切られて形成された中央部の空
所に、上段ホッパーから原料を装入する。この時に、最
初に細粒を中央部空所へ装入し、次いで中央部空所から
原料を溢流させて、飛散防止板に当てさせ、中粒を下方
に堆積させ、粗粒をその上方に堆積させて、下段ホッパ
ー内の原料の堆積状況を制御する。
(1) When charging the raw material into the furnace by means of a single-port type center feed type bellless furnace top charging device in which the raw material hoppers are arranged in upper and lower two stages, first, in the lower hopper, The raw material is charged from the upper hopper into a central empty space formed by being partitioned by a coaxial cylindrical or polygonal tubular partition wall. At this time, first, the fine particles are charged into the central void, and then the raw material is overflowed from the central void and applied to the anti-scattering plate to deposit the medium particles downward and the coarse particles upward. Then, the state of deposition of the raw material in the lower hopper is controlled.

【0026】そしてこのようにして、装入,充填した後
の原料を、下段ホッパー底部のゲートを「開」にして、
中央部空所の原料から排出し、次いで仕切り壁周りの原
料流速を、仕切り壁の周りに設置した略円錐形状の整流
体で制御すると共に、この整流体とホッパー下方部の斜
面との間の環状間隙部からマスフローで排出し、原料を
炉内へ装入することを特徴とするベルレス高炉における
原料装入方法。
In this way, the raw material after charging and filling is opened by opening the gate at the bottom of the lower hopper,
After discharging the raw material in the central empty space, the flow velocity of the raw material around the partition wall is controlled by the substantially conical rectifier installed around the partition wall, and the rectifier between this rectifier and the slope below the hopper is controlled. A raw material charging method in a bellless blast furnace, characterized in that the raw material is discharged from the annular gap portion by mass flow and charged into the furnace.

【0027】(2) 原料ホッパーが上下に段に配置された
単ポート式センターフィード型ベルレス炉頂装入装置の
下段ホッパー内に、ホッパー軸芯と同軸の円筒形状また
は多角面筒形状の仕切り壁が設けられていると共に、こ
の仕切り壁の周りに、略円錐形状の整流体が設けられて
なり、仕切り壁および整流体と下段ホッパーにおける下
方部の斜面との間に原料排出時の原料が通過でき、かつ
マスフローする環状間隙部を有することを特徴とするベ
ルレス高炉における原料装入装置。
(2) In the lower hopper of the single-port type center-feed type bellless furnace top charging device in which the raw material hoppers are arranged in the upper and lower stages, a partition wall having a cylindrical shape or a polygonal cylinder shape coaxial with the hopper axis In addition to this, a substantially conical rectifying body is provided around this partition wall, and the raw material at the time of discharging the raw material passes between the partition wall and the rectifying body and the lower slope of the lower hopper. A raw material charging apparatus in a bellless blast furnace, which is capable of and has an annular gap portion for mass flow.

【0028】[0028]

【実施例】以下に、前記「課題を解決するための手段」
で述べた構成を有する本発明の原料装入装置の具体例
と、その作用効果、ならびにこの原料装入装置を用いて
行う本発明の原料装入方法について説明する。
[Examples] Below, the above-mentioned "means for solving the problems"
A specific example of the raw material charging device of the present invention having the above-mentioned configuration, its function and effect, and the raw material charging method of the present invention performed using this raw material charging device will be described.

【0029】図1は、本発明の原料装入装置の構成の一
例を示す縦断面概略図である。この図において、下段ホ
ッパー5の上部にはこのホッパー5を均圧,排圧して炉
内へ原料を装入出来るようにするための上部シール弁4
が、また下段ホッパー5の下部には炉内へ装入する原料
の流量を調整する原料コントロールゲート6および下部
シール弁7が設置されている。
FIG. 1 is a schematic vertical sectional view showing an example of the constitution of the raw material charging apparatus of the present invention. In this figure, an upper seal valve 4 is provided above the lower hopper 5 for equalizing and discharging the hopper 5 so that raw materials can be charged into the furnace.
However, below the lower hopper 5, a raw material control gate 6 and a lower seal valve 7 for adjusting the flow rate of the raw material charged into the furnace are installed.

【0030】そしてこの下段ホッパー5内には、円筒支
持ビーム14aおよび支持ビーム用ブランケット15aが取
付けられ、この円筒支持ビーム14aにホッパー5の軸芯
と同軸である円筒形状の仕切り壁13aが設置されてい
る。
A cylindrical supporting beam 14a and a supporting beam blanket 15a are mounted in the lower hopper 5, and a cylindrical partition wall 13a coaxial with the axis of the hopper 5 is installed on the cylindrical supporting beam 14a. ing.

【0031】この仕切り壁13aの下端とホッパー5の下
方部の斜面との間には、原料が通過できる程度の環状の
間隙部が確保されている。また仕切り壁13aの外周下方
には略円錐形状の整流体13bが設置されており、下部ホ
ッパーとの間に原料が排出される際、原料がマスフロー
するように適度な環状間隙部が設けられている。なおこ
の間隙部は、例えば充填原料の最大粒径、通常コークス
の最大粒径の約6倍程度の寸法を確保してればよい。
Between the lower end of the partition wall 13a and the slope of the lower portion of the hopper 5, there is secured an annular gap portion through which the raw material can pass. Further, a substantially conical rectifying body 13b is installed below the outer periphery of the partition wall 13a, and an appropriate annular gap portion is provided between the lower wall and the lower hopper so that the raw material is mass-flowed. There is. It should be noted that the gap may have a size that is, for example, about 6 times the maximum particle size of the filling material and the maximum particle size of the normal coke.

【0032】さらに下段ホッパー5の上方には、飛散防
止板13cが設けられている。図2は図1に示した原料装
入装置におけるの下段ホッパー5の拡大縦断面図、図3
はその立体図を示す。これらの図において、仕切り壁13
aおよび整流体13bが下段ホッパー5内に取付けられて
おり、仕切り壁13aにより円筒状もしくはリング状の空
所(イ)が形成されている。
Further, a scattering prevention plate 13c is provided above the lower hopper 5. 2 is an enlarged vertical sectional view of the lower hopper 5 in the raw material charging apparatus shown in FIG.
Shows the three-dimensional view. In these figures, the partition wall 13
a and the rectifying body 13b are mounted in the lower hopper 5, and the partition wall 13a forms a cylindrical or ring-shaped void (a).

【0033】そしてこの仕切り壁13aの下端と、ホッパ
ー5の下方部の斜面(ホッパー5の円錐面5a)との間に
は、装入される原料が通過できるような間隙S2が設け
られている。また工作物13bについては、ホッパー斜面
壁との間に原料がマスフローできる間隙S2が設けられ
ている。
A gap S2 is provided between the lower end of the partition wall 13a and the lower slope of the hopper 5 (the conical surface 5a of the hopper 5) so that the raw material to be charged can pass therethrough. .. As for the work 13b, a gap S2 is provided between the work 13b and the sloped wall of the hopper so that the raw material can mass flow.

【0034】この例では、仕切り壁13aと整流体13bと
を設置した原料装入装置を示したが、仕切り壁13aおよ
び整流体13bは、例えば8〜32の多角面形状にしてもよ
く、実用上は多角面体形状の方が好適である。これは、
仕切り壁13aが上段ホッパー2からの装入原料により衝
撃を受け、原料流下時に摩耗するので、耐摩耗性ライナ
ーを取り付ける必要があるが、通常、平板上のライナー
を使用するので、多角面形状の方が取り付けが容易なた
めである。
In this example, the raw material charging device in which the partition wall 13a and the rectifying body 13b are installed is shown, but the partition wall 13a and the rectifying body 13b may have a polygonal shape of 8 to 32, for example. A polygonal shape is preferable for the top. this is,
Since the partition wall 13a is impacted by the charging raw material from the upper hopper 2 and is abraded when the raw material flows down, it is necessary to attach a wear resistant liner, but since a liner on a flat plate is usually used, a polygonal shape is used. This is because it is easier to install.

【0035】前記の飛散防止板13cと仕切り壁13aとの
間隙S3も、装入原料の粒径に見合った大きさにするこ
とが必要で、充填される原料の最大粒径(通常、コーク
スが最大粒径を有する)の約6倍以上の寸法を確保すれ
ば、原料の安定した排出が可能である。この間隙は大き
すぎると原料排出時に後述するような順序の良い排出が
行なわれず、また小さすぎると棚吊りが生じ、閉塞の恐
れが生じる。
The gap S3 between the shatterproof plate 13c and the partition wall 13a also needs to have a size corresponding to the particle size of the charging raw material, and the maximum particle size of the raw material to be charged (usually coke is Stable discharge of the raw material is possible by securing a size of about 6 times or more (having the maximum particle size). If this gap is too large, the materials will not be ejected in order as will be described later when it is ejected, and if it is too small, rack hanging will occur and there is a risk of blockage.

【0036】なお仕切り壁13aの大きさは、それぞれの
仕切り壁で仕切られて形成される空所(イ)に、上段ホ
ッパー2から装入される細粒Aが収納できるように定め
ればよい。
The size of the partition wall 13a may be determined so that the fine particles A charged from the upper hopper 2 can be stored in the space (a) formed by partitioning the partition walls. ..

【0037】次に、前記の原料装入装置を用いて本発明
の原料装入方法を実施する際の手順、ならびにその時の
下段ホッパー5内における原料の挙動について、図4に
基づいて説明する。
Next, the procedure for carrying out the raw material charging method of the present invention using the raw material charging device and the behavior of the raw material in the lower hopper 5 at that time will be described with reference to FIG.

【0038】まず下段ホッパー5への原料装入時におい
ては、ホッパー5の底部の原料コントロールゲート6を
「閉」とし、上部シール弁4を「開」にしてから、上部
ゲート3を全開にする。
First, when charging the raw material into the lower hopper 5, the raw material control gate 6 at the bottom of the hopper 5 is closed, the upper seal valve 4 is opened, and then the upper gate 3 is fully opened. ..

【0039】そして上段ホッパー2の原料は前記の図7
で述べたように、初期には細粒A、次いで中粒B、末期
には粗粒Cの順で排出されるので、最初は細粒Aが下段
ホッパー5内の仕切り壁13aで囲まれた空所(イ)に装
入される(図4の(a) 参照)。次いで中粒Bと粗粒Cが
上段ホッパー2から排出され、下段ホッパー5の空所イ
を溢れ(オーバーフロー)して仕切り壁13aの周りで、
堆積していく。(図4の(b),(c) に示したように中粒が
粗粒の下に堆積する。)その後、コントロールゲート6
を「開」にすると、その開孔直上部にある空所(イ)内
の細粒「ア」が優先的に排出される(図4の(d) 参
照)。次に細粒「ア」の排出が完了し、その後の排出に
おいては、仕切り壁13aの周りに堆積している中粒
「イ」を主体とする原料がマスフローとなって間隙S
2,S1(図2参照)を通過して排出される(図4の
(e) 参照)。
The raw material for the upper hopper 2 is shown in FIG.
As described above, since the fine particles A are discharged in the order of the fine particles A, then the medium particles B, and the coarse particles C in the final stage, the fine particles A are surrounded by the partition wall 13a in the lower hopper 5 at first. It is loaded into the void (a) (see (a) in Fig. 4). Next, the medium particles B and the coarse particles C are discharged from the upper hopper 2 and overflow the vacant space (a) of the lower hopper 5 to overflow the partition wall 13a.
Pile up. (Medium particles are deposited under the coarse particles as shown in (b) and (c) of FIG. 4.) After that, the control gate 6
When is opened, the fine particles "a" in the void (a) immediately above the opening are preferentially discharged (see Fig. 4 (d)). Next, the discharge of the fine particles "a" is completed, and in the subsequent discharge, the raw material mainly composed of the medium particles "a" accumulated around the partition wall 13a becomes a mass flow to form the gap S.
2, S1 (see FIG. 2) is discharged (see FIG. 4).
(See (e)).

【0040】そして排出の末期には、ホッパー5の側壁
周辺に堆積している粗粒「ウ」を主体とする原料が、ホ
ッパー面5aに沿ってS2,S1を通過して排出される
(図4の(f) 参照)。
At the end of discharging, the raw material mainly composed of coarse grains "c" deposited around the side wall of the hopper 5 is discharged through S2 and S1 along the hopper surface 5a (Fig. (See (f) of 4).

【0041】図5は前記の下段ホッパー5からの原料排
出時の粒径の経時変化を模式的に示す図であるが、排出
の初期には細粒、次いで中粒、最後に粗粒が排出される
ので、前記の図8に示した場合と同様の「単調増加パタ
ーン」となる。なおこの図5における横軸と縦軸は図8
の場合と同様に定めたものである。
FIG. 5 is a diagram schematically showing the time-dependent change in particle size when the raw material is discharged from the lower hopper 5. Fine particles are discharged in the initial stage of discharge, then medium particles are discharged, and finally coarse particles are discharged. Therefore, the “monotonically increasing pattern” similar to the case shown in FIG. 8 is obtained. The horizontal and vertical axes in FIG. 5 are shown in FIG.
The same as in the case of.

【0042】以上述べたように、本発明の原料装入方法
を適用すれば、下段ホッパー5から炉内へ装入される原
料の排出パターンを操業中に制御することができ、高炉
の操業の安定と操業幅を広げることができる。
As described above, when the raw material charging method of the present invention is applied, the discharge pattern of the raw material charged into the furnace from the lower hopper 5 can be controlled during the operation, and the operation of the blast furnace can be controlled. Stability and operational range can be expanded.

【0043】[0043]

【発明の効果】炉頂に原料ホッパーが上下に段に配置さ
れた単ポート式センターフィード型ベルレス炉頂装入装
置を有するベルレス高炉において、本発明方法を適用し
て炉内に原料を装入することにより、炉内の半径方向に
おける粒度分布を的確に制御することができる。即ち、
下段ホッパーから排出される原料の粒径は「単調増加パ
ターン」となるので、内振り方式で原料を炉内に装入す
ると、炉内壁側に細粒、炉芯側に粗粒の原料を堆積させ
ることができる。
INDUSTRIAL APPLICABILITY In a bellless blast furnace having a single port type center feed type bellless furnace top charging device in which raw material hoppers are vertically arranged on the furnace top, the raw material is charged into the furnace by applying the method of the present invention. By doing so, the particle size distribution in the radial direction in the furnace can be accurately controlled. That is,
Since the particle size of the raw material discharged from the lower hopper has a "monotonically increasing pattern", when the raw material is charged into the furnace by the internal swing method, fine particles are deposited on the inner wall side of the furnace and coarse particles are deposited on the core side. Can be made

【0044】その結果、高炉内のガス流分布を適正に制
御することが可能となり、高炉の安定操業および燃料費
の低減という効果が得られる。またこのような粒度分布
の制御は、本発明の装置を用いれば、容易に行なうこと
ができる。
As a result, it becomes possible to properly control the gas flow distribution in the blast furnace, and the effects of stable operation of the blast furnace and reduction of fuel cost can be obtained. Further, such control of particle size distribution can be easily performed by using the apparatus of the present invention.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】単ポート式センターフィード型ベルレス炉にお
ける、この発明の原料装入装置を示す概略図である。
FIG. 1 is a schematic view showing a raw material charging device of the present invention in a single-port type center feed type bellless furnace.

【図2】この発明の原料装入装置における下段ホッパー
を示す拡大概略図である。
FIG. 2 is an enlarged schematic view showing a lower hopper in the raw material charging device of the present invention.

【図3】この発明における仕切り壁と飛散防止板および
整流体とを示す概略斜視図である。
FIG. 3 is a schematic perspective view showing a partition wall, a shatterproof plate, and a rectifying body according to the present invention.

【図4】この発明における下段ホッパー内原料の挙動を
示す概略図である。
FIG. 4 is a schematic view showing the behavior of the raw material in the lower hopper in the present invention.

【図5】この発明における下段ホッパーから炉内への排
出粒径の経時変化を示すグラフである。
FIG. 5 is a graph showing changes over time in the particle size discharged from the lower hopper into the furnace in the present invention.

【図6】従来の原料装入装置を示す概略図である。FIG. 6 is a schematic view showing a conventional raw material charging device.

【図7】従来の原料装入装置における上段および下段ホ
ッパー内での原料堆積状況を示す概略図である。
FIG. 7 is a schematic diagram showing a state of raw material deposition in the upper and lower hoppers of a conventional raw material charging apparatus.

【図8】上段ホッパーへの排出粒径の経時変化を示すグ
ラフである。
FIG. 8 is a graph showing changes over time in the particle size discharged to the upper hopper.

【図9】従来における下段ホッパーから炉内への排出粒
径の経時変化を示すグラフである。
FIG. 9 is a graph showing a change over time in the particle size discharged from the lower hopper into the furnace in the related art.

【図10】高炉操業における原料の望ましい炉内堆積状
態を示す概略図である。
FIG. 10 is a schematic diagram showing a desirable state of deposition of raw materials in a furnace in a blast furnace operation.

【図11】従来の高炉操業における原料の炉内堆積状態
を示す概略図である。
FIG. 11 is a schematic view showing a state of raw material deposition in a furnace in a conventional blast furnace operation.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…装入コンベア、2…上段ホッパー、3…上部ゲー
ト、4…上部シール弁、5…下段ホッパー、5a…ホッ
パー面、6…コントロールゲート、7…下部シール弁、
13a…仕切り壁、13b…整流体、13c…飛散防止板、14
a…円筒支持ビーム、15a…支持ビーム用ブランケッ
ト。
1 ... Charging conveyor, 2 ... Upper hopper, 3 ... Upper gate, 4 ... Upper sealing valve, 5 ... Lower hopper, 5a ... Hopper surface, 6 ... Control gate, 7 ... Lower sealing valve,
13a ... partition wall, 13b ... rectifier, 13c ... scatter prevention plate, 14
a ... Cylindrical support beam, 15a ... Support beam blanket.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 原料ホッパーが上下二段に設置された単
ポート式センターフィード型ベルレス炉頂装入装置によ
り、原料を炉内へ装入するに際しての原料装入方法であ
り、 まず前記下段ホッパー内に、ホッパー軸芯と同軸の円筒
形状または多角面筒形状に形成された仕切り壁を設置す
ると共に、この仕切り壁で仕切られ形成されているホッ
パー中央部の空所へ、前記上段ホッパーから原料を装入
し、 次いで、前記下段ホッパー中央部の空所への装入原料
を、中央部空所から溢れさせると共に、この溢れた原料
を、前記仕切り壁の上部周囲位置の設けられており、ホ
ッパー軸芯と同軸の下方が絞られた多角面筒形状に形成
されている飛散防止板に当てるようにし、 その後、前記飛散防止板に当てた原料を、飛散防止板と
前記仕切り壁との間の環状間隙部を通過させて、仕切り
壁近くからホッパー壁側へ向け細,中,粗の順で仕切り
壁の周りに再分級させることにより、前記上段ホッパー
からの下段ホッパー内への原料装入を完了し、 次いで、前記下段ホッパー底部のゲートを「開」にし
て、まず前記中央部空所の原料を排出し、その後、中央
部空所に隣接する原料を、下段ホッパーの下方部斜面
と、前記仕切り壁に設けられている略円錐形状の整流体
および仕切り壁の下端との間の環状間隙部を通過させて
排出することにより、 前記下段ホッパーからの原料を前記炉内に装入すること
を特徴とするベルレス高炉の原料装入方法。
1. A raw material charging method for charging a raw material into a furnace by means of a single-port type center feed type bellless furnace top charging device in which the raw material hoppers are installed in upper and lower two stages. Inside, a partition wall formed in the shape of a cylinder or a polygonal cylinder that is coaxial with the hopper axis is installed, and to the empty space in the center of the hopper that is partitioned by this partition wall, the raw material from the upper hopper Then, the raw material to be charged into the void in the central portion of the lower hopper is caused to overflow from the void in the central portion, and the overflowing raw material is provided at the upper peripheral position of the partition wall, The shatterproof plate, which is coaxial with the hopper axis and has a downwardly squeezed bottom, is applied to the shatterproof plate, and then the material applied to the shatterproof plate is passed between the shatterproof plate and the partition wall. Ring of The material is charged from the upper hopper into the lower hopper by passing through the gap and re-classifying around the partition wall in the order of thin, medium, and coarse from near the partition wall to the hopper wall side. Completion, then, by opening the gate of the bottom hopper bottom, first discharge the raw material in the central void, then the raw material adjacent to the central void, the lower slope of the lower hopper, Charge the raw material from the lower hopper into the furnace by passing through the annular gap between the rectifying body having a substantially conical shape provided on the partition wall and the lower end of the partition wall, and discharging. A method of charging raw materials for a bellless blast furnace characterized by:
【請求項2】 原料ホッパーが上下二段に配置された単
ポート式のセンターフィード型ベルレス炉頂装入装置に
おける前記下段ホッパー内に、ホッパー下方部の斜面と
で排出時原料が通過できる環状間隙部を形成できるよう
に設置されており、ホッパー軸芯と同軸の円筒形状また
は多角面筒形状の仕切り壁と、この仕切り壁に、ホッパ
ー下方部の斜面とで原料がマスフローできる環状間隙部
を形成できるように設けられている略円錐形状の整流体
と、前記仕切り壁の上部周囲位置に、仕切り壁とで前記
上段ホッパーからの装入時原料が通過できる環状間隙部
を形成できるように設けられており、ホッパー軸芯と同
軸の下方が絞られた多角面筒形状の飛散防止板とを備え
てなることを特徴とするベルレス高炉の原料装入装置。
2. An annular gap in the lower hopper of a single-port type center feed type bellless furnace top charging device in which the raw material hoppers are arranged in upper and lower two stages, and a raw material can pass through the lower surface of the hopper at the time of discharge. The partition wall is installed so that it can be formed with a cylindrical or polygonal cylindrical partition coaxial with the hopper shaft core, and an annular gap is formed in this partition wall where the raw material can mass flow with the sloped surface below the hopper. A substantially conical rectifying body that is provided so that it can be provided in an upper peripheral position of the partition wall so as to form an annular gap portion through which the raw material can pass when charging from the upper hopper with the partition wall. In addition, the raw material charging device for the bellless blast furnace is characterized by comprising a polygonal cylindrical anti-scattering plate that is concentric with the hopper axis and has a narrowed lower part.
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