JPH05230442A - Antistatic material - Google Patents

Antistatic material

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JPH05230442A
JPH05230442A JP3590292A JP3590292A JPH05230442A JP H05230442 A JPH05230442 A JP H05230442A JP 3590292 A JP3590292 A JP 3590292A JP 3590292 A JP3590292 A JP 3590292A JP H05230442 A JPH05230442 A JP H05230442A
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JP
Japan
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group
meth
fine particles
curable
acrylate
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Pending
Application number
JP3590292A
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Japanese (ja)
Inventor
Masahiro Kitayama
雅博 北山
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Idemitsu Petrochemical Co Ltd
Original Assignee
Idemitsu Petrochemical Co Ltd
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Publication date
Application filed by Idemitsu Petrochemical Co Ltd filed Critical Idemitsu Petrochemical Co Ltd
Priority to JP3590292A priority Critical patent/JPH05230442A/en
Publication of JPH05230442A publication Critical patent/JPH05230442A/en
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Abstract

PURPOSE:To provide an antistatic material excellent in all of properties such as light transmission (transparency), surface hardness, scratch resistance and heat resistance. CONSTITUTION:The title material is prepared by applying a curing composition consisting mainly of fine conductive particles such as fine indium oxide particles or fine tin oxide particles or conductive fine particles prepared by surface- coating fine particles with the conductive fine particles and a curable phosphazene compound to a substrate and curing the applied composition to form a cured resin layer on its surface.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は帯電防止材に関し、詳し
くは透光性(透明性),表面硬度,耐擦傷性,耐熱性等
の優れた性質を併せ有する帯電防止材に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an antistatic material, and more particularly to an antistatic material having excellent properties such as translucency (transparency), surface hardness, scratch resistance and heat resistance.

【0002】[0002]

【従来の技術および発明が解決しようとする課題】電気
・電子機器をはじめとして様々な分野において、帯電防
止処理を施した各種の部材が広く用いられている。これ
らの部材には、帯電防止性が要求され、この用途に供さ
れる帯電防止性を有する物質には様々な物質があるが、
特に透明性を有するものが好まれている。従来、このよ
うな透明性や帯電防止性を兼ね備えたものとして、酸化
インジウムや酸化スズを蒸着する技術がよく知られてい
る。しかし、これらの化合物は性能的にすぐれたもので
はあるが、蒸着にあたって真空引きに時間がかかり、生
産性が低くなる問題がある。また、基材が高温にさらさ
れるために基材の材質に制約があり、そして得られる蒸
着膜も傷つきやすいという問題がある。さらに、アクリ
ル系樹脂やポリエステル樹脂などのような透明性の優れ
たバインダーに、導電性微粒子や界面活性剤等を配合分
散させて、これを基材に塗布、硬化させたものが用いら
れているが、このものは生産性には問題はないが、表面
硬度が低く、傷つきやすいという問題を有している。
2. Description of the Related Art Various members subjected to antistatic treatment are widely used in various fields including electric and electronic devices. These members are required to have antistatic properties, and there are various substances having antistatic properties used in this application.
Those having transparency are particularly preferred. Conventionally, a technique of vapor-depositing indium oxide or tin oxide is well known as a device having such transparency and antistatic property. However, although these compounds are excellent in performance, there is a problem in that it takes time to evacuate during vapor deposition and productivity becomes low. Further, there is a problem that the material of the substrate is restricted because the substrate is exposed to high temperature, and the vapor deposition film obtained is easily damaged. Further, a binder having excellent transparency such as an acrylic resin or a polyester resin is mixed and dispersed with conductive fine particles, a surfactant or the like, which is applied to a base material and cured, which is used. However, this product has no problem in productivity, but has a problem that it has low surface hardness and is easily scratched.

【0003】[0003]

【課題を解決するための手段】そこで、本発明者は、上
記状況を鑑み、その問題点を解決すべく鋭意研究を重ね
た。その結果、特定の導電性微粒子とそのバインダー樹
脂として特に硬化性ホスファゼン化合物とを組合せ、こ
れを主成分とした硬化性組成物からなる硬化樹脂表面層
を設けることによって、上記課題を解決しうることを見
出した。本発明は、かかる知見に基づいて完成したもの
である。すなわち、本発明は、基材上に、(A)酸化イ
ンジウム系微粒子もしくは酸化スズ系微粒子の導電性微
粒子またはこれらで微粒子の表面を被覆した導電性微粒
子及び(B)硬化性ホスファゼン化合物を主成分とする
硬化性組成物を塗布、硬化させて硬化樹脂表面層を形成
してなる帯電防止材を提供するものである。
Therefore, in view of the above situation, the present inventor has conducted earnest studies to solve the problems. As a result, it is possible to solve the above-mentioned problems by combining specific conductive fine particles and a curable phosphazene compound as a binder resin thereof, and providing a cured resin surface layer made of a curable composition containing this as a main component. Found. The present invention has been completed based on such findings. That is, the present invention comprises, as a main component, (A) conductive fine particles of indium oxide-based fine particles or tin oxide-based fine particles, or conductive fine particles whose surfaces are coated with these and (B) curable phosphazene compound. The present invention provides an antistatic material obtained by applying and curing a curable composition as described above to form a cured resin surface layer.

【0004】先ず、本発明の帯電防止材を構成する基材
としては、電気・電子機器をはじめとして様々な分野に
おいて、広く用いられている各種合成樹脂,金属,紙,
木材,セラミックス等であって、これらはシート状,フ
ィルム状,板状等その形状を問はない。具体的には、例
えば、合成樹脂のうち熱可塑性樹脂としては、ポリエチ
レン,ポリプロピレン,ポリカーボネート,アクリル樹
脂,メタクリル樹脂,ポリ塩化ビニル,ポリエステル樹
脂,ポリアミド樹脂等を用いた基材である。また、熱硬
化性樹脂として、不飽和ポリエステル樹脂,フェノール
樹脂等を用いた基材である。
First, as the base material constituting the antistatic material of the present invention, various synthetic resins, metals, papers, which are widely used in various fields including electric and electronic devices,
Wood, ceramics and the like, which may be in the form of sheet, film, plate or the like. Specifically, for example, a thermoplastic resin among synthetic resins is a base material using polyethylene, polypropylene, polycarbonate, acrylic resin, methacrylic resin, polyvinyl chloride, polyester resin, polyamide resin, or the like. Further, it is a substrate using an unsaturated polyester resin, a phenol resin or the like as the thermosetting resin.

【0005】次に、前記各種基材上には、(A)酸化イ
ンジウム系微粒子もしくは酸化スズ系微粒子の導電性微
粒子またはこれらで微粒子の表面を被覆した導電性微粒
子及び(B)硬化性ホスファゼン化合物を主成分とする
硬化性組成物を塗布、硬化させて硬化樹脂表面層を形成
することによって、本発明の帯電防止材を得ることがで
きる。この硬化樹脂表面層を設けるのに用いられる
(A)成分の導電性微粒子は、酸化インジウム系微粒
子,酸化スズ系微粒子またはこれらで微粒子の表面を被
覆したものであり、比抵抗の値が107 Ωcm以下のも
のである。ここで、酸化インジウム系の導電性微粒子と
しては、SnドープIn2 3 が好ましいものとして挙
げられる。また、酸化スズ系の導電性微粒子としては、
SbドープSnO2 やPドープSnO2 が挙げられる。
そして、これらの酸化インジウム系微粒子や酸化スズ系
微粒子で微粒子の表面を被覆した導電性微粒子として
は、例えば、SbドープSnO2 をコートしたBaSO
4 やSnドープIn2 3 をコートしたBaSO4 が好
適なものとして挙げられる。なお、導電性微粒子に用い
られる無機微粒子としては、例えば、BaSO4 ,Mg
SO4 ,SiO2 等を用いることができる。これらの導
電性微粒子の一次粒子径は、特に制限されないが、硬化
樹脂表面層の特性からして、好ましくは20μm以下で
ある。しかし、得られる帯電防止材のヘーズを考慮すれ
ば、特に、1μm以下にすることが望ましい。
Next, on each of the various substrates, (A) conductive fine particles of indium oxide type fine particles or tin oxide type fine particles, or conductive fine particles whose surfaces are coated with these, and (B) curable phosphazene compound. The antistatic material of the present invention can be obtained by applying and curing a curable composition containing as a main component to form a cured resin surface layer. The conductive fine particles of the component (A) used for providing the cured resin surface layer are indium oxide fine particles, tin oxide fine particles, or a fine particle coated with these, and have a specific resistance value of 10 7 Ωcm or less. Here, as the indium oxide-based conductive fine particles, Sn-doped In 2 O 3 is preferable. Further, as the tin oxide-based conductive fine particles,
Examples thereof include Sb-doped SnO 2 and P-doped SnO 2 .
As the conductive fine particles whose surfaces are coated with these indium oxide-based fine particles or tin oxide-based fine particles, for example, BaSO coated with Sb-doped SnO 2 is used.
Suitable examples include BaSO 4 coated with 4 and Sn-doped In 2 O 3 . The inorganic fine particles used for the conductive fine particles include, for example, BaSO 4 , Mg.
SO 4 , SiO 2 or the like can be used. The primary particle diameter of these conductive fine particles is not particularly limited, but is preferably 20 μm or less in view of the characteristics of the cured resin surface layer. However, considering the haze of the obtained antistatic material, it is particularly preferable that the thickness be 1 μm or less.

【0006】一方、硬化樹脂表面層を設ける際に導電性
微粒子のバインダーとなる(B)成分の硬化性ホスファ
ゼン化合物としては、例えば一般式(I)
On the other hand, as the curable phosphazene compound of the component (B) which serves as a binder for the conductive fine particles when the cured resin surface layer is provided, for example, the general formula (I) is used.

【0007】[0007]

【化1】 [Chemical 1]

【0008】(式中、Aは重合硬化性基を示し、Bは非
重合硬化性基を示す。また、a,bは、0<a,0≦b
であり、かつa+b=2を満たす実数を示す。)で表さ
れる繰返し単位をもつホスファゼン化合物などが挙げら
れ、各置換基の種類により様々なものがある。式中、A
は重合硬化性基を示すが、この重合硬化性基とは、紫外
線,可視光線や電子線の照射,化学的硬化剤の使用ある
いは加熱等により反応して硬化する官能基を意味し、通
常は反応性二重結合を有する基である。この反応性二重
結合を有する基としては、各種のものがある。例えば、
アクリロイル基,メタクリロイル基,ビニル基あるいは
アリル基を含む官能基があげられる。上記アクリロイル
基を含む官能基あるいはメタクリロイル基を含む官能基
は、アクリロイルオキシ基やメタクリロイルオキシ基、
さらには一般式(II)
(In the formula, A represents a polymerization-curable group, B represents a non-polymerization-curable group, and a and b are 0 <a and 0 ≦ b.
And a real number that satisfies a + b = 2. ) And a phosphazene compound having a repeating unit represented by), and there are various compounds depending on the type of each substituent. In the formula, A
Represents a polymerization-curable group, and the polymerization-curable group means a functional group that is cured by reaction with irradiation of ultraviolet rays, visible rays or electron beams, use of a chemical curing agent or heating, and is usually It is a group having a reactive double bond. There are various groups having this reactive double bond. For example,
Functional groups including acryloyl group, methacryloyl group, vinyl group or allyl group are mentioned. The functional group containing an acryloyl group or a functional group containing a methacryloyl group is an acryloyloxy group or a methacryloyloxy group,
Furthermore, the general formula (II)

【0009】[0009]

【化2】 [Chemical 2]

【0010】〔式中、R1 は水素原子またはメチル基を
示し、R2 は炭素数1〜12(好ましくは1〜5) のア
ルキレン基(分岐アルキレン基を含む)を示す。〕で表
されるものである。
[In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 2 represents an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms (preferably 1 to 5) (including a branched alkylene group). ] Is represented.

【0011】この一般式(II)で表される基の具体例と
しては、2−ヒドロキシエチルメタクリレート,2−ヒ
ドロキシプロピルメタクリレート,3−ヒドロキシプロ
ピルメタクリレート,2−ヒドロキシブチルメタクリレ
ート,3−ヒドロキシブチルメタクリレート,4−ヒド
ロキシブチルメタクリレート,5−ヒドロキシペンチル
メタクリレート,6−ヒドロキシ−3−メチルヘキシル
メタクリレート,5−ヒドロキシヘキシルメタクリレー
ト,3−ヒドロキシ−2−t−ブチルプロピルメタクリ
レート,3−ヒドロキシ−2,2−ジメチルヘキシルメ
タクリレート,3−ヒドロキシ−2−メチル−2−エチ
ルプロピルメタクリレートおよび12−ヒドロキシドデ
シルメタクリレートなどのメタクリレート類中の水酸基
から水素原子を除いた残基、並びに2−ヒドロキシエチ
ルアクリレート,2−ヒドロキシプロピルアクリレー
ト,3−ヒドロキシプロピルアクリレート,2−ヒドロ
キシブチルアクリレート,3−ヒドロキシブチルアクリ
レート,4−ヒドロキシブチルアクリレート,5−ヒド
ロキシペンチルアクリレート,6−ヒドロキシ−3−メ
チルヘキシルアクリレート,5−ヒドロキシヘキシルア
クリレート,3−ヒドロキシ−2−t−ブチルプロピル
アクリレート,3−ヒドロキシ−2,2−ジメチルヘキ
シルアクリレート,3−ヒドロキシ−2−メチル−2−
エチルプロピルアクリレートおよび12−ヒドロキシド
デシルアクリレートなどのアクリレート類中の水酸基か
ら水素原子を除いた残基を挙げることができる。特に好
ましい基は、2−ヒドロキシエチルメタクリレート残基
および2−ヒドロキシエチルアクリレート残基である。
また、このアクリロイル基やメタクリロイル基を含む官
能基は、上述の一般式(II)のもののほかに、一般式(I
II)
Specific examples of the group represented by the general formula (II) include 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 3-hydroxypropyl methacrylate, 2-hydroxybutyl methacrylate, 3-hydroxybutyl methacrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, 5-hydroxypentyl methacrylate, 6-hydroxy-3-methylhexyl methacrylate, 5-hydroxyhexyl methacrylate, 3-hydroxy-2-t-butylpropyl methacrylate, 3-hydroxy-2,2-dimethylhexyl Removal of hydrogen atom from hydroxyl groups in methacrylates such as methacrylate, 3-hydroxy-2-methyl-2-ethylpropyl methacrylate and 12-hydroxydodecyl methacrylate. Residues, and 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 3-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxybutyl acrylate, 3-hydroxybutyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 5-hydroxypentyl acrylate, 6-hydroxy -3-Methylhexyl acrylate, 5-hydroxyhexyl acrylate, 3-hydroxy-2-t-butylpropyl acrylate, 3-hydroxy-2,2-dimethylhexyl acrylate, 3-hydroxy-2-methyl-2-
Examples thereof include a residue obtained by removing a hydrogen atom from a hydroxyl group in acrylates such as ethylpropyl acrylate and 12-hydroxydodecyl acrylate. Particularly preferred groups are 2-hydroxyethyl methacrylate residue and 2-hydroxyethyl acrylate residue.
Further, the functional group containing an acryloyl group or a methacryloyl group can be a compound represented by the general formula (I
II)

【0012】[0012]

【化3】 [Chemical 3]

【0013】(式中、R1 およびR2 は前記と同じであ
る。)で表される官能基、すなわちヒドロキシアルキル
置換(メタ)アクリルアミドの水酸基から水素原子を除
いた残基、さらに一般式(IV)
(Wherein R 1 and R 2 are the same as above), that is, a residue obtained by removing a hydrogen atom from a hydroxyl group of hydroxyalkyl-substituted (meth) acrylamide, and further a general formula ( IV)

【0014】[0014]

【化4】 [Chemical 4]

【0015】(式中、R1 は前記と同じである。)で表
される官能基、即ちアクリルアミドやメタクリルアミド
のアミノ基から水素原子を一個除いた残基をあげること
ができる。さらに、アリル基を含む官能基としては、ア
リル基そのもののほか、例えば、アリルオキシ基( CH
2 =CH−CH2 O− )があるが、このアリルオキシ基
に限らず、広く、一般式(V)〜(VII)
A functional group represented by the formula (wherein R 1 is the same as the above), that is, a residue obtained by removing one hydrogen atom from the amino group of acrylamide or methacrylamide is exemplified. Furthermore, as the functional group containing an allyl group, in addition to the allyl group itself, for example, an allyloxy group (CH
2 = CH-CH 2 O-) it is not limited to this allyloxy group, broadly, the general formula (V) ~ (VII)

【0016】[0016]

【化5】 [Chemical 5]

【0017】(式中、R1 ,R3 ,R4 は前記と同じで
ある。)で表される官能基、即ち水酸基を一個有するア
リル化合物の水酸基から水素原子を除いた残基をあげる
ことができる。この一般式(V)〜(VII)で表される官
能基の具体例としては、
(Wherein R 1 , R 3 and R 4 are the same as defined above), that is, a residue obtained by removing a hydrogen atom from a hydroxyl group of an allyl compound having one hydroxyl group. You can Specific examples of the functional groups represented by the general formulas (V) to (VII) include:

【0018】[0018]

【化6】 [Chemical 6]

【0019】などのアリル化合物中の水酸基から水素原
子を除いた残基がある。一方、一般式(I)中のBは、
前述の如く一般式(VIII),(IX)
There is a residue obtained by removing a hydrogen atom from a hydroxyl group in an allyl compound such as. On the other hand, B in the general formula (I) is
As described above, the general formulas (VIII), (IX)

【0020】[0020]

【化7】 [Chemical 7]

【0021】(式中、Mは酸素原子,硫黄原子またはイ
ミノ基を示し、R5 は炭素数1〜18のアルキル基ある
いは炭素数1〜18のハロゲン化アルキル基を示す。ま
た、R 6 〜R10はそれぞれ独立に水素原子,ハロゲン原
子,炭素数1〜4のアルキル基または炭素数1〜4のハ
ロゲン化アルキル基を示す。)で表される基を示す。一
般式(VIII)の具体例としては、メトキシ基,エトキシ
基,プロポキシ基,ブトキシ基,ペンチルオキシ基,ヘ
キシルオキシ基,ヘプチルオキシ基,オクチルオキシ基
などのアルコキシ基,ハロゲン(例えばフッ素、塩素、
臭素など)で置換された同様のアルコキシ基,メチルチ
オ基,エチルチオ基,プロピルチオ基,ブチルチオ基,
ペンチルチオ基,ヘプチルチオ基,オクチルチオ基など
のアルキルチオ基,ハロゲン(例えばフッ素、塩素、臭
素など)で置換された同様のアルキルチオ基,メチルイ
ミノ基,エチルイミノ基,プロピルイミノ基,ブチルイ
ミノ基,ペンチルイミノ基,ヘキシルイミノ基,ヘプチ
ルイミノ基,オクチルイミノ基などのアルキルイミノ
基,ハロゲン(例えばフッ素、塩素、臭素など)で置換
された同様のアルキルイミノ基等を挙げることができ
る。式(IX)の基は、具体的には、フェノキシ基,チオ
フェニル基,ハロゲン化フェノキシ基(2, 4, 6−ト
リブロモフェノキシ基,4−ブロモフェノキシ基,2−
クロロフェノキシ基,2,4−ジクロロフェノキシ基な
ど)およびハロゲン化チオフェニル基(4−クロロフェ
ニルチオ基など)、あるいはアニリンおよびハロゲン化
アニリン(2−クロロアニリン,2,4−ジクロロアニ
リン,2,4,6−トリブロモアニリンなど)のアミノ
基より水素原子を取り除いた残基などを挙げることがで
きる。
(In the formula, M is an oxygen atom, a sulfur atom or
Represents a mino group, RFiveIs an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms
Or represents a halogenated alkyl group having 1 to 18 carbon atoms. Well
R 6~ RTenAre independently hydrogen atom and halogen atom
Child, alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or ha having 1 to 4 carbon atoms
A rogenated alkyl group is shown. ) Represents a group represented by. one
Specific examples of general formula (VIII) include methoxy group and ethoxy group.
Group, propoxy group, butoxy group, pentyloxy group,
Xyloxy group, heptyloxy group, octyloxy group
Alkoxy groups such as, halogen (eg fluorine, chlorine,
A similar alkoxy group substituted with bromine, etc., methyl
O group, ethylthio group, propylthio group, butylthio group,
Pentylthio group, heptylthio group, octylthio group, etc.
Alkylthio group, halogen (eg fluorine, chlorine, odor
A similar alkylthio group substituted with
Mino group, ethylimino group, propylimino group, butyrui
Mino group, pentylimino group, hexyluimino group, hepti
Alkylimino such as ruimino group and octylimino group
Substitute with groups or halogens (eg fluorine, chlorine, bromine, etc.)
The similar alkylimino group etc.
It The group of formula (IX) is specifically a phenoxy group or a thiol group.
Phenyl group, halogenated phenoxy group (2, 4, 6-to
Libromophenoxy group, 4-bromophenoxy group, 2-
Chlorophenoxy group, 2,4-dichlorophenoxy group
And halogenated thiophenyl group (4-chlorophene)
Nylthio group) or aniline and halogenated
Aniline (2-chloroaniline, 2,4-dichloroani
Amino of phosphorus, 2,4,6-tribromoaniline, etc.
Examples include residues in which hydrogen atoms have been removed from groups.
Wear.

【0022】また、前述の一般式(I)中のa,bにつ
いては、0<a≦2,0≦b<2であり、かつa+b=
2を満たす実数であればよいが、好ましくは0.6≦a≦
2,0≦b≦1.4である。なお置換基Aは、一般式
(I)のホスファゼン化合物を重合(硬化)する際に、
硬化作用を奏する基であり、また置換基Bは、その重合
物の物性を調節するとともに、重合性能を調節する作用
を示す基である。但し、a=0のものは硬化性を有しな
いので、このようなホスファゼン化合物は、本発明の対
象からは除外される。しかし、a=2,b=0のもの、
即ち、
Regarding a and b in the above-mentioned general formula (I), 0 <a ≦ 2, 0 ≦ b <2, and a + b =
It may be any real number that satisfies 2, but preferably 0.6 ≦ a ≦
2,0 ≦ b ≦ 1.4. It should be noted that the substituent A is, when the phosphazene compound of the general formula (I) is polymerized (cured),
The substituent B is a group exhibiting a curing action, and the substituent B is a group exhibiting the action of adjusting the physical properties of the polymer and the polymerization performance. However, since those with a = 0 have no curability, such phosphazene compounds are excluded from the scope of the present invention. However, a = 2, b = 0,
That is,

【0023】[0023]

【化8】 [Chemical 8]

【0024】(式中、Aは前記と同じである。)で表さ
れる繰返し単位を有するホスファゼン化合物は、本発明
の硬化性組成物の原料として利用でき、硬化性の点にお
いて本発明をより効果的にすることができる。本発明に
用いる硬化性ホスファゼン化合物の好ましいものとして
は、上述の一般式(I)の繰返し単位を有するものであ
るが、その重合度は3以上、好ましくは3〜10,000
の範囲、さらに好ましくは3〜18の範囲であり、とり
わけ3あるいは4もしくはそれらの混合物が最適であ
る。また、一般式(I)の繰返し単位が鎖状に結合(重
合)したものもあるが、好ましくは環状に結合(重合)
したものである。このような硬化性ホスファゼン化合物
の具体例をあげると、次の如くである。
The phosphazene compound having a repeating unit represented by the formula (A is the same as above) can be used as a raw material of the curable composition of the present invention, and the present invention is more advantageous in terms of curability. Can be effective. The curable phosphazene compound used in the present invention is preferably a curable phosphazene compound having a repeating unit represented by the above general formula (I), and its degree of polymerization is 3 or more, preferably 3 to 10000.
The range is more preferably 3 to 18, and most preferably 3 or 4 or a mixture thereof. In addition, there are those in which the repeating units of the general formula (I) are linked (polymerized) in a chain shape, but preferably they are linked (polymerized) in a cyclic form.
It was done. Specific examples of such a curable phosphazene compound are as follows.

【0025】[0025]

【化9】 [Chemical 9]

【0026】このような硬化性ホスファゼン化合物は、
様々な方法により製造することができ、特に制限はな
い。例えば、置換基Aとして一般式(II)で表される基
を導入したいときには、この一般式(II)に対応するヒ
ドロキシアルキル(メタ)アクリレート、即ち一般式
Such a curable phosphazene compound is
It can be manufactured by various methods and is not particularly limited. For example, when it is desired to introduce a group represented by the general formula (II) as the substituent A, a hydroxyalkyl (meth) acrylate corresponding to the general formula (II), that is, a general formula

【0027】[0027]

【化10】 [Chemical 10]

【0028】(式中、R1 およびR2 は前記と同じ。)
で表されるヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートを
用い、また置換基Aとして一般式(III)で表される基を
導入したいときには、これに対応する一般式
(In the formula, R 1 and R 2 are the same as above.)
When a hydroxyalkyl (meth) acrylate represented by the formula (1) is used and a group represented by the general formula (III) is desired to be introduced as the substituent A, the corresponding general formula

【0029】[0029]

【化11】 [Chemical 11]

【0030】(式中、R1 およびR2 は前記と同じ。)
で表されるヒドロキシアルキル(メタ)アクリルアミド
を用い、また置換基Aとして一般式(IV)で表される基
を導入したいときには、これに対応する一般式
(In the formula, R 1 and R 2 are the same as above.)
When using a hydroxyalkyl (meth) acrylamide represented by the formula (1) and introducing a group represented by the general formula (IV) as the substituent A, the corresponding general formula

【0031】[0031]

【化12】 [Chemical 12]

【0032】(式中、R1 は前記と同じ。)で表される
(メタ)アクリルアミドを用い、あるいは置換基Aとし
て一般式(V)〜(VIII)で表される基を導入したいと
きには、これに対応する一般式
(In the formula, R 1 is the same as above), or when it is desired to introduce the groups represented by the general formulas (V) to (VIII) as the substituent A, The corresponding general formula

【0033】[0033]

【化13】 [Chemical 13]

【0034】(式中、R1 ,R3 およびR4 は前記と同
じ。)で表されるアリルアルコール,アリルフェノー
ル,ヒドロキシ安息香酸のアリルエステルあるいはその
誘導体を用いる。一方、置換基Bとして導入する一般式
(VIII)で表される基において、Mが酸素原子のときは R5 OH (式中R5 は前記と同じ。)で表されるアルカノール,
ハロゲン化アルカノールあるいはその誘導体を用い、M
が硫黄原子のときは R5 SH (式中R5 は前記と同じ。)で表されるアルキルメルカ
プタン,ハロゲン化アルキルメルカプタンあるいはその
誘導体を用い、Mがイミド基のときは R5 NH2 (式中R5 は前記と同じ。)で表されるアルキルアミ
ン,ハロゲン化アルキルアミンあるいはその誘導体を用
いる。また、置換基Bとして導入する一般式(IX)で表
される基において、Mが酸素原子のときは一般式
(In the formula, R 1 , R 3 and R 4 are the same as above.) Allyl alcohol, allylphenol, allyl ester of hydroxybenzoic acid or its derivative is used. On the other hand, in the group represented by the general formula (VIII) introduced as the substituent B, when M is an oxygen atom, an alkanol represented by R 5 OH (wherein R 5 is the same as the above),
Using halogenated alkanol or its derivative, M
Is a sulfur atom, an alkylmercaptan represented by R 5 SH (wherein R 5 is the same as above), a halogenated alkylmercaptan or a derivative thereof is used, and when M is an imido group, R 5 NH 2 R 5 is the same as the above), and an alkylamine, a halogenated alkylamine or a derivative thereof is used. In the group represented by the general formula (IX) introduced as the substituent B, when M is an oxygen atom, the general formula

【0035】[0035]

【化14】 [Chemical 14]

【0036】(式中、R6 〜R10は前記と同じ。)で表
されるフェノール類を用い、またMが硫黄原子のとき
は、一般式
(Wherein R 6 to R 10 are the same as above), and when M is a sulfur atom, a general formula is used.

【0037】[0037]

【化15】 [Chemical 15]

【0038】(式中、R6 〜R10は前記と同じ。)で表
されるチオフェノール類を用い、またMがイミド基のと
きは、一般式
(Wherein R 6 to R 10 are the same as above), and when M is an imide group, a general formula is used.

【0039】[0039]

【化16】 [Chemical 16]

【0040】(式中、R6 〜R10は前記と同じ。)で表
されるアニリンあるいはその誘導体を用いる。これらの
置換基Aを形成する化合物と置換基Bを形成する化合物
とを、クロロホスファゼン〔式(NPCl2)n で表され
る環状化合物あるいは式Cl4 P・(NPCl2)n-1 ・ N
PCl3 で表される鎖状化合物(nは3以上の整数、好
ましくは3〜18)〕などと反応させれば、所望する一
般式(I)のホスファゼン化合物が得られる。なお、上
記の置換基Bを形成する化合物が、アルコール類,メル
カプタン類,フェノール類やチオフェノール類のとき
は、予め金属ナトリウムや金属カリウム等のアルカリ金
属を反応させてアルコラート類,フェノラート類,メル
カプチド,チオフェノラート類としておいてもよい。ま
た、上述の置換基A,Bをそれぞれ形成する化合物とク
ロロホスファゼンとの反応にあたっては、第三級アミン
等の脱ハロゲン化水素剤を用いることが好ましい。この
第三級アミンとしては、例えばトリメチルアミン,トリ
エチルアミン,トリイソプロピルアミン,トリ−n−プ
ロピルアミン,トリ−n−ブチルアミンおよびピリジン
などを挙げることができるが、このなかでもピリジンが
好適である。さらに、この反応は通常有機溶媒中で行わ
れる。用いる有機溶媒としては、ベンゼン,トルエン,
キシレン,クロロホルム,シクロヘキサン,塩化メチレ
ン,テトラヒドロフラン,1,4−ジオキサンなどをあ
げることができる。これらを単独であるいは組合せて使
用することができる。なお、上記反応により得られる硬
化性ホスファゼン化合物は、原料であるクロロホスファ
ゼンの塩素原子が、上述した置換基で全てが置換されて
いることが好ましいが、一部塩素が残留していてもよ
い。
(In the formula, R 6 to R 10 are the same as above.) An aniline or a derivative thereof is used. The compound forming the substituent A and the compound forming the substituent B are mixed with chlorophosphazene [a cyclic compound represented by the formula (NPCl 2 ) n or a compound represented by the formula Cl 4 P. (NPCl 2 ) n-1.
The desired phosphazene compound of the general formula (I) can be obtained by reacting with a chain compound represented by PCl 3 (n is an integer of 3 or more, preferably 3-18). When the compound forming the substituent B is an alcohol, a mercaptan, a phenol or a thiophenol, an alcoholate, a phenolate or a mercaptide is previously reacted with an alkali metal such as sodium metal or potassium metal. , It may be stored as thiophenolates. Further, in the reaction of the compound forming each of the substituents A and B with chlorophosphazene, it is preferable to use a dehydrohalogenating agent such as a tertiary amine. Examples of the tertiary amine include trimethylamine, triethylamine, triisopropylamine, tri-n-propylamine, tri-n-butylamine, pyridine, and the like. Of these, pyridine is preferable. Furthermore, this reaction is usually performed in an organic solvent. The organic solvent used is benzene, toluene,
Examples thereof include xylene, chloroform, cyclohexane, methylene chloride, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane. These can be used alone or in combination. In the curable phosphazene compound obtained by the above reaction, it is preferable that all the chlorine atoms of chlorophosphazene which is a raw material are substituted with the above-mentioned substituents, but some chlorine may remain.

【0041】本発明の帯電防止材は、前記(A)成分の
導電性微粒子及び前記(B)成分の硬化性ホスファゼン
化合物を主成分とし、その他必要に応じて前記(B)成
分の硬化性ホスファゼン化合物と共重合可能な単量体
(共重合用単量体)あるいは乳化剤,懸濁安定剤,重合
開始剤,紫外線吸収剤,潤滑剤等の添加剤を配合して硬
化性組成物を調製し、この硬化性組成物を前記基材上に
塗布し、(B)成分の硬化性ホスファゼン化合物を重
合、硬化させて硬化樹脂表面層を形成することによって
得ることができる。ここで、この硬化性組成物における
(A)成分の導電性微粒子の配合割合は、硬化樹脂表面
層の特性から、(B)成分の硬化性ホスファゼン化合物
100重量部に対して30〜300重量部、好ましくは
60〜250重量部である。
The antistatic material of the present invention is mainly composed of the conductive fine particles of the component (A) and the curable phosphazene compound of the component (B), and, if necessary, the curable phosphazene of the component (B). A curable composition is prepared by blending a monomer copolymerizable with the compound (monomer for copolymerization) or an additive such as an emulsifier, a suspension stabilizer, a polymerization initiator, an ultraviolet absorber and a lubricant. The curable composition can be obtained by applying the curable composition onto the substrate and polymerizing and curing the curable phosphazene compound as the component (B) to form a cured resin surface layer. Here, the mixing ratio of the conductive fine particles of the component (A) in this curable composition is 30 to 300 parts by weight based on the characteristics of the cured resin surface layer, relative to 100 parts by weight of the curable phosphazene compound of the component (B). , Preferably 60 to 250 parts by weight.

【0042】そして、上述の(B)成分の硬化性ホスフ
ァゼン化合物と共重合可能な単官能性単量体および/ま
たは多官能性単量体としては、種々のものを用いること
ができる。すなわち、硬化性ホスファゼン化合物と共重
合可能な単量体(共重合用単量体)としては、シリコー
ン変性硬化性化合物、重合性プレポリマー、さらにはア
クリロイル基,メタクリロイル基,ビニル基あるいはア
リル基をもつ重合性単量体など、反応性二重結合を有す
る化合物をあげることができる。ここで、シリコーン変
性硬化性化合物として、1分子中にシリコーン(シラ
ン)基と好ましくは(メタ)アクリレート基とを有する
化合物であれば特に制限がない。シリコーン変性硬化性
化合物の具体例としては、シリコーン変性ウレタンアク
リレート,(メタ)アクリロキシシラン化合物および
(メタ)アクリレート変性ポリシロキサンなどを挙げる
ことができる。また、(メタ)アクリロキシシラン化合
物として、例えばγ−メタクリロキシプロピルトリメト
キシシラン,γ−メタクリロキシプロピルメチルジメト
キシシランなどが挙げられる。(メタ)アクリレート変
性ポリシロキサンとしては、1分子中にシリコーン(シ
ラン)基と(メタ)アクリレート基を含有する化合物が
ある。
Various kinds of monofunctional monomers and / or polyfunctional monomers copolymerizable with the curable phosphazene compound as the component (B) can be used. That is, as the monomer (copolymerization monomer) copolymerizable with the curable phosphazene compound, a silicone-modified curable compound, a polymerizable prepolymer, and further an acryloyl group, a methacryloyl group, a vinyl group or an allyl group can be used. Examples thereof include compounds having a reactive double bond such as a polymerizable monomer. Here, the silicone-modified curable compound is not particularly limited as long as it is a compound having a silicone (silane) group and preferably a (meth) acrylate group in one molecule. Specific examples of the silicone-modified curable compound include silicone-modified urethane acrylate, (meth) acryloxysilane compound, and (meth) acrylate-modified polysiloxane. Examples of the (meth) acryloxysilane compound include γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane and γ-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane. As the (meth) acrylate-modified polysiloxane, there is a compound containing a silicone (silane) group and a (meth) acrylate group in one molecule.

【0043】また、アクリロイル基,メタクリロイル基
などを有する重合性単量体の具体例としては、メチル
(メタ)アクリレート,2−エチルヘキシル(メタ)ア
クリレート,2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレー
ト,2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレートなど
の単官能基、1,3−ブタンジオールジ(メタ)アクリ
レート,1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレー
ト,1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレー
ト,エチレングリコールジ(メタ)アクリレート,ジエ
チレングリコールジ(メタ)アクリレート,トリエチレ
ングリコールジ(メタ)アクリレート,テトラエチレン
グリコールジ(メタ)アクリレート,ネオペンチルグリ
コールジ(メタ)アクリレート,ポリエチレングリコー
ルジ(メタ)アクリレート,ヒドロキシビバリン酸エス
テルネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレートな
どの2官能基、トリメチロールプロパントリ(メタ)ア
クリレート,ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリ
レート,ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリ
レートなどの3官能基以上の多官能化合物を挙げること
ができる。
Specific examples of the polymerizable monomer having an acryloyl group, a methacryloyl group and the like include methyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate and 2-hydroxy. Monofunctional groups such as propyl (meth) acrylate, 1,3-butanediol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, ethylene glycol di (Meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate , Bifunctional functional groups such as hydroxybivalic acid ester neopentyl glycol di (meth) acrylate, trifunctional functional groups such as trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate Mention may be made of polyfunctional compounds having groups or more.

【0044】一方、重合性プレポリマーとしては、例え
ば、ポリエステル(メタ)アクリレート,ポリウレタン
(メタ)アクリレート,エポキシ(メタ)アクリレー
ト,ポリエーテル(メタ)アクリレート,メラミン(メ
タ)アクリレート,オリゴ(メタ)アクリレート,アル
キド(メタ)アクリレート,ポリオール(メタ)アクリ
レート,シリコン(メタ)アクリレートなど(メタ)ア
クリロイル基を少なくとも1個有するプレポリマーが挙
げられる。特に好ましいプレポリマーはポリエステル,
エポキシ,ポリウレタンの各(メタ)アクリレートであ
る。上記ポリエステル(メタ)アクリレートとしては、
例えば、エチレングリコール,1,4−ブタジオール,
1,6−ヘキサンジオール,ジエチレングリコールトリ
メチロールプロパン,ジプロピレングリコール,ポリエ
チレングリコール,ポリプロピレングリコール,ペンタ
エリスリトール,ジペンタエリスリトールなどの多価ア
ルコールと、フタル酸,アジピン酸,マレイン酸,トリ
メリット酸,イタコン酸,コハク酸,テレフタル酸,ア
ルケニルコハク酸などの多塩基酸とからポリエステルを
得、次いでこれを(メタ)アクリル化したものが挙げら
れる。上記(メタ)アクリル化したものとしては、アジ
ピン酸/1,6−ヘキサンジオール/(メタ)アクリル
酸系、無水フタル酸/プロピレンオキシド/(メタ)ア
クリル酸系、トリメリット酸/ジエチレングリコール/
アクリル酸系などのポリエステル(メタ)アクリレート
を挙げることができる。エポキシ(メタ)アクリレート
は、エポキシ樹脂のエポキシ基を(メタ)アクリル酸で
エステル化し、官能基を(メタ)アクリロイル基とした
ものである。この具体例としては、ビスフェノールA−
エピクロルヒドリン型エポキシ樹脂/(メタ)アクリル
酸系、フェノールノボラック−エピクロルヒドリン型エ
ポキシ樹脂/(メタ)アクリル酸系、脂環型エポキシ樹
脂/(メタ)アクリル酸系などのエポキシ(メタ)アク
リレートが挙げられる。上記ポリウレタン(メタ)アク
リレートとしては、例えば、トリレンジイソシアネート
のようなイソシアネート化合物と、2−ヒドロキシエチ
ル(メタ)アクリレートのようなヒドロキシル基を有す
る(メタ)アクリレートとを反応させることにより得ら
れる。この場合、分子の中央部はポリエステル構造をも
ち、両端にイソシアネート基を配置し(メタ)アクリル
化することが多い。また、ウレタン化合物としては、例
えば油変性ポリウレタン樹脂系,湿気硬化性ポリウレタ
ン樹脂系,ブロック型ポリウレタン樹脂系および触媒硬
化ポリウレタン樹脂系などが挙げられる。エポキシ化合
物としては、例えば、エポキシ樹脂に適当な硬化剤を添
加したもの、エポキシ樹脂と脂肪酸との反応によってエ
ステル化したもの、エポキシ樹脂とアルキド樹脂とを併
用したものなどが挙げられる。シリコーン化合物として
は、例えば、モノメチルまたはモノエチルトリクロロシ
ランに少量のジメチルジクロロシラン,ジエチルジクロ
ロシランを混合し、反応させて得られた初期縮合物など
が挙げられる。得られた初期縮合物は、通常、適当な溶
剤に溶解し、必要に応じて可溶性脂肪酸塩やジンクオク
チネートなど硬化促進剤を添加して用いられる。
On the other hand, as the polymerizable prepolymer, for example, polyester (meth) acrylate, polyurethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, melamine (meth) acrylate, oligo (meth) acrylate. , Alkyd (meth) acrylates, polyol (meth) acrylates, silicon (meth) acrylates, and other prepolymers having at least one (meth) acryloyl group. A particularly preferred prepolymer is polyester,
Epoxy and polyurethane (meth) acrylates. As the polyester (meth) acrylate,
For example, ethylene glycol, 1,4-butadiol,
Polyhydric alcohols such as 1,6-hexanediol, diethylene glycol trimethylolpropane, dipropylene glycol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, pentaerythritol, dipentaerythritol and phthalic acid, adipic acid, maleic acid, trimellitic acid, itaconic acid Polyesters obtained from a polybasic acid such as succinic acid, terephthalic acid, and alkenylsuccinic acid, and then (meth) acrylated one are listed. Examples of the above (meth) acrylated ones include adipic acid / 1,6-hexanediol / (meth) acrylic acid type, phthalic anhydride / propylene oxide / (meth) acrylic acid type, trimellitic acid / diethylene glycol /
Acrylic acid-based polyester (meth) acrylates may be mentioned. Epoxy (meth) acrylate is obtained by esterifying an epoxy group of an epoxy resin with (meth) acrylic acid to make a functional group a (meth) acryloyl group. An example of this is bisphenol A-
Epoxy (meth) acrylates such as epichlorohydrin type epoxy resin / (meth) acrylic acid type, phenol novolac-epichlorohydrin type epoxy resin / (meth) acrylic acid type, alicyclic epoxy resin / (meth) acrylic acid type and the like can be mentioned. The polyurethane (meth) acrylate can be obtained, for example, by reacting an isocyanate compound such as tolylene diisocyanate with a (meth) acrylate having a hydroxyl group such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate. In this case, the central part of the molecule often has a polyester structure, and is often (meth) acrylated by disposing isocyanate groups at both ends. Examples of urethane compounds include oil-modified polyurethane resin systems, moisture-curable polyurethane resin systems, block-type polyurethane resin systems, and catalyst-curable polyurethane resin systems. Examples of the epoxy compound include those obtained by adding an appropriate curing agent to epoxy resin, those obtained by esterification by the reaction of epoxy resin and fatty acid, and those obtained by using epoxy resin and alkyd resin together. Examples of the silicone compound include an initial condensate obtained by mixing a small amount of dimethyldichlorosilane and diethyldichlorosilane with monomethyl or monoethyltrichlorosilane and reacting them. The obtained initial condensate is usually dissolved in a suitable solvent and, if necessary, a curing accelerator such as a soluble fatty acid salt or zinc octinate is added before use.

【0045】この硬化性組成物を基材上に塗布、硬化さ
せるには、常温硬化方法を利用することもできるが、得
られる硬化樹脂表面層の特性を考慮すると、加熱硬化方
法および活性エネルギー線(可視光線,紫外線,電子
線,X線,γ線など)を照射して硬化する方法を利用す
るのが好ましい。したがって、この硬化性組成物を調製
するあたっては、(B)成分の硬化性ホスファゼン化合
物の重合あるいは共重合時の硬化方法によってその調製
方法を変えることになる。すなわち、上記重合あるいは
共重合を行う際、加熱硬化方法を利用する場合には、必
要に応じ、重合開始剤として過酸化物系の化合物,アゾ
化合物を単独または組合わせて使用することが好まし
い。ここで、過酸化物系の化合物としては、例えば、ベ
ンゾイルパーオキサイド;p−クロロベンゾイルパーオ
キサイド;2,4−ジクロロベンゾイルパーオキサイ
ド;t−ブチルヒドロパーオキサイド;ジ−t−ブチル
パーオキサイド;ジクミルパーオキサイド;t−ブチル
パーオキシアセテート;t−ブチルパーオキシベンゾエ
ートなどを挙げることができる。また、他の過酸化物
(過硫酸塩,レドックス系)も使用することができ、こ
の過硫酸塩としては、例えば、過硫酸アンモニウム,過
硫酸カリウムなど、レドックス系としては、過酸化水素
−金属塩,有機過酸化物−金属塩,有機過酸化物−脂肪
族または脂環式ポリアミン化合物,有機過酸化物−ジメ
チルアニリン,重クロム酸カリウム−金属酸化物など、
アゾ化合物としては、芳香族ジアゾアミノ化合物,芳香
族ジアゾチオエーテル,芳香族ジアゾオキシ化合物,脂
肪族ジアゾ化合物などを挙げることができる。なお、加
熱硬化方法では、硬化性組成物の塗布量や塗布スピード
等の条件によって相違するが、100℃以上で完全に硬
化させればよい。
A normal temperature curing method can be used to coat and cure this curable composition on a substrate. However, considering the characteristics of the cured resin surface layer to be obtained, a heat curing method and an active energy ray are used. It is preferable to use a method of curing by irradiating with (visible light, ultraviolet ray, electron beam, X-ray, γ-ray, etc.). Therefore, in preparing this curable composition, the preparation method is changed depending on the curing method at the time of polymerization or copolymerization of the curable phosphazene compound as the component (B). That is, when a heat curing method is used in carrying out the above-mentioned polymerization or copolymerization, it is preferable to use a peroxide compound or an azo compound as a polymerization initiator, if necessary, alone or in combination. Examples of the peroxide-based compound include benzoyl peroxide; p-chlorobenzoyl peroxide; 2,4-dichlorobenzoyl peroxide; t-butyl hydroperoxide; di-t-butyl peroxide; Examples include mill peroxide, t-butyl peroxyacetate and t-butyl peroxybenzoate. Other peroxides (persulfate, redox type) can also be used. Examples of the persulfate include ammonium persulfate and potassium persulfate, and for the redox type, hydrogen peroxide-metal salt. , Organic peroxide-metal salt, organic peroxide-aliphatic or alicyclic polyamine compound, organic peroxide-dimethylaniline, potassium dichromate-metal oxide, etc.
Examples of the azo compound include aromatic diazoamino compounds, aromatic diazothioethers, aromatic diazooxy compounds, and aliphatic diazo compounds. In the heat curing method, it may be completely cured at 100 ° C. or higher, though it depends on the conditions such as the coating amount and the coating speed of the curable composition.

【0046】一方、上記重合あるいは共重合を行う際、
紫外線,電子線あるいは可視光線等の活性エネルギー線
による硬化方法を利用する場合には、必要に応じ、重合
開始剤(光増感剤)を使用することが好ましい。かかる
重合開始剤としては、各種のものを用いることができ
る。具体的には、例えば、1−ヒドロキシシクロヘキシ
ルフェニルケトン,ジベンゾイル,ベンゾイル,ベンゾ
インメチルエーテル,ベンゾインエチルエーテル,p−
クロロベンゾフェノン,p−メトキシベンゾフェノン,
ベンゾイルパーオキサイド,ジ−t−ブチルパーオキサ
イド及びカンファキノン等を挙げることができる。これ
らの反応開始剤は、単独であるいは組合わせて用いるこ
とができる。これらの反応開始剤の配合量は、硬化性ホ
スファゼン化合物100重量部に対して、通常は0.05
〜10重量部の範囲で用いられる。なお、この活性エネ
ルギー線による硬化方法では、例えば、紫外線の場合で
は、波長が200〜550nmの範囲にある紫外線を1
秒以上照射、好ましくは3〜300秒照射すればよい。
ここで、照射光線の積算光量は、通常500〜5,000
mJ/cm2 である。ここで、重合開始剤の使用量は、
硬化性ホスファゼン化合物100重量部に対して、通常
0.1〜10重量部の範囲で選ばれる。
On the other hand, when carrying out the above-mentioned polymerization or copolymerization,
When utilizing a curing method using active energy rays such as ultraviolet rays, electron rays or visible rays, it is preferable to use a polymerization initiator (photosensitizer), if necessary. As the polymerization initiator, various kinds can be used. Specifically, for example, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, dibenzoyl, benzoyl, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, p-
Chlorobenzophenone, p-methoxybenzophenone,
Examples thereof include benzoyl peroxide, di-t-butyl peroxide and camphorquinone. These reaction initiators can be used alone or in combination. The compounding amount of these reaction initiators is usually 0.05 with respect to 100 parts by weight of the curable phosphazene compound.
It is used in the range of 10 to 10 parts by weight. In this curing method using active energy rays, for example, in the case of ultraviolet rays, the ultraviolet rays having a wavelength in the range of 200 to 550 nm are
Irradiation may be performed for 2 seconds or more, preferably for 3 to 300 seconds.
Here, the integrated light quantity of the irradiation light rays is usually 500 to 5,000.
It is mJ / cm 2 . Here, the amount of the polymerization initiator used is
Usually, based on 100 parts by weight of the curable phosphazene compound,
It is selected in the range of 0.1 to 10 parts by weight.

【0047】なお、基材上に、硬化性組成物を塗布する
にあたって、その作業性,硬化樹脂表面層の膜厚の制御
などから有機溶媒で希釈調製して用いることができる。
ここで、有機溶剤としては,例えば、メチルエチルケト
ン,メチルイメブチルケトンなどのケトン類、2−プロ
パノール,1−ブタノールなどのアルコール類、セロソ
ルブル類、酢酸エステル類、エーテル類、芳香族炭化水
素などを単独で、あるいは適宜混合して用いることがで
きる。また、硬化性組成物には、目的を損なわない範囲
でその他各種の添加剤を配合してもよい。ここで、その
他の添加剤としては、通常の硬化剤,重合禁止剤,発色
剤,酸化防止剤,紫外線吸収剤,潤滑剤などがあげられ
る。潤滑剤としては、液体,グリース状のいかなる性状
のものでもよく、シリコーン系,フッ素系、その他合成
潤滑剤などを用いることができる。
When the curable composition is applied onto the substrate, it can be diluted with an organic solvent and used for its workability and control of the film thickness of the cured resin surface layer.
Here, as the organic solvent, for example, ketones such as methyl ethyl ketone and methyl ime butyl ketone, alcohols such as 2-propanol and 1-butanol, cellosolves, acetic acid esters, ethers, aromatic hydrocarbons, etc. Or, it can be used by appropriately mixing them. Further, the curable composition may be blended with other various additives as long as the purpose is not impaired. Here, examples of other additives include ordinary curing agents, polymerization inhibitors, color formers, antioxidants, ultraviolet absorbers and lubricants. The lubricant may be liquid or grease-like, and silicone-based, fluorine-based, and other synthetic lubricants may be used.

【0048】ここで、硬化樹脂表面層を設けるあたって
調製される硬化性組成物の成分組成の一例を示すと次の
通りである。 (a)硬化性ホスファゼン化合物 100重量部 (b)硬化性ホスファゼン化合物と共重合可能な単官能性単量体及び/又は 多官能性単量体 0〜300重量部 (c)有機溶剤 (d)光反応開始剤あるいは熱重合開始剤 0.05〜5重量部 〔(a)と(b)の合計100重量部に対して〕 (e)導電性微粒子 30〜300重量部 〔(a)と(b)の合計100重量部に対して〕 (f)その他添加剤 このような配合組成からなる硬化性樹脂は、顔料の分散
に一般的に用いられている分散・攪拌機でもって十分に
攪拌,分散され調製される。この硬化性組成物の調製に
用いられる分散・攪拌機としては、各種のものを用いる
ことができる。具体的には、例えば、サンドミル,ロー
ルミル,ボールミル,超音波分散機,マイクロフルイダ
イザー分散機等を挙げることができる。なお、前記有機
溶剤は、必ずしも用いる必要はないが、前述の如く作業
性、硬化後の硬化樹脂表面層の厚さ制御のうえから好ま
しくは(a),(b)の混合物の重量濃度が、0.5〜6
0%となるように有機溶剤に溶解すればよい。
An example of the component composition of the curable composition prepared by providing the cured resin surface layer is as follows. (A) 100 parts by weight of curable phosphazene compound (b) 0 to 300 parts by weight of monofunctional monomer and / or polyfunctional monomer copolymerizable with curable phosphazene compound (c) Organic solvent (d) Photoreaction initiator or thermal polymerization initiator 0.05 to 5 parts by weight [relative to 100 parts by weight of (a) and (b)] (e) Conductive fine particles 30 to 300 parts by weight [(a) and ( (b) to 100 parts by weight in total] (f) Other additives The curable resin having such a composition is sufficiently stirred and dispersed by a dispersing / stirring machine generally used for dispersing the pigment. And prepared. As the dispersing / stirring machine used for preparing the curable composition, various kinds can be used. Specific examples include a sand mill, a roll mill, a ball mill, an ultrasonic disperser, and a microfluidizer disperser. The organic solvent is not necessarily used, but in terms of workability and thickness control of the cured resin surface layer after curing as described above, the weight concentration of the mixture of (a) and (b) is preferably 0.5-6
It may be dissolved in an organic solvent so that the concentration becomes 0%.

【0049】本発明の帯電防止材は、このようにして調
製された硬化性組成物を基材上に、通常のコーテイング
に採用されているコーター(例えば、スピンコーター,
グラビアコーター,ロールコーター,ブレードコータ
ー,ドクターコーター,スプレーコーター,カーテンフ
ローコーターなど)でもって塗布した後、必要に応じて
溶剤を除去する。次いで、前記の硬化方法で硬化させ、
硬化樹脂表面層を形成することによって得ることができ
る。かくして基材上に形成される硬化樹脂表面層の厚さ
は、1μm以上、好ましくは5〜100μmで、透明
性,耐擦傷性,耐熱性等の優れた性質を併せ有する帯電
防止材を得ることができる。
The antistatic material of the present invention comprises the curable composition thus prepared on a substrate, and a coater (for example, spin coater,
After coating with a gravure coater, roll coater, blade coater, doctor coater, spray coater, curtain flow coater, etc., remove the solvent if necessary. Then, it is cured by the above-mentioned curing method,
It can be obtained by forming a cured resin surface layer. Thus, the thickness of the cured resin surface layer formed on the substrate is 1 μm or more, preferably 5 to 100 μm, and an antistatic material having excellent properties such as transparency, scratch resistance, and heat resistance is obtained. You can

【0050】[0050]

【実施例】次に、製造例および実施例に基づいて、本発
明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれに限定さ
れるものではない。 製造例1 硬化性ホスファゼン化合物(A)の製造 温度計,攪拌装置,滴下漏斗およびコンデンサーを取り
付けた2リットル容のフラスコに、ヘキサクロロシクロ
トリホスファゼン〔式(NPCl2)3 の環状化合物〕8
6.8gを脱水ベンゼン338gに溶解した。このベンゼ
ン溶液に310gのピリジンおよび0.29gのヒドロキ
ノンを加えて攪拌した。次に、2−ヒドロキシエチルメ
タクリレート200ミリリットルを237ミリリットル
のベンゼンに溶解し、この溶液を上記フラスコ中に滴下
し、60℃で30時間かけて反応させた。反応後、濾過
してピリジンの塩酸塩を除去した。濾液を水洗し、次い
で、芒硝を用いて乾燥させ、減圧蒸留により溶剤を除去
して、粘稠性の1, 1, 3, 3, 5, 5−ヘキサ( メタ
クリロイルエチレンジオキシ)シクロトリホスファゼン
〔硬化性ホスファゼン化合物(A)〕200gを得た。
EXAMPLES Next, the present invention will be described in more detail based on production examples and examples, but the present invention is not limited thereto. Production Example 1 Production of curable phosphazene compound (A) In a 2 liter flask equipped with a thermometer, a stirrer, a dropping funnel and a condenser, hexachlorocyclotriphosphazene [cyclic compound of formula (NPCl 2 ) 3 ] 8
6.8 g was dissolved in 338 g of dehydrated benzene. To this benzene solution, 310 g of pyridine and 0.29 g of hydroquinone were added and stirred. Next, 200 ml of 2-hydroxyethyl methacrylate was dissolved in 237 ml of benzene, and this solution was dropped into the above flask and reacted at 60 ° C. for 30 hours. After the reaction, the pyridine hydrochloride was removed by filtration. The filtrate was washed with water, then dried using Glauber's salt, the solvent was removed by vacuum distillation, and the viscous 1,1,3,3,5,5-hexa (methacryloylethylenedioxy) cyclotriphosphazene [ 200 g of curable phosphazene compound (A) was obtained.

【0051】製造例2 硬化性ホスファゼン化合物(B)の製造 温度計、攪拌装置、滴下ロートおよびコンデンサーを取
り付けた2リットル容のフラスコに、テトラヒドロフラ
ン300ミリリットルおよび金属ナトリウム25.5gを
投入した後、これにフェノール104.3g( 1.11モ
ル)を滴下し、滴下終了後、3時間かけて還流しフェノ
ラートを得た。次に、ヘキサクロロシクロトリホスファ
ゼン193g( 0.555モル)をベンゼン400ミリリ
ットルに溶解した溶液を上記の反応液中に滴下し、還流
下に4時間かけて反応を進行させた。次いで、反応液の
温度を室温にまで冷却し、ピリジン352g( 4.45モ
ル)を加え、さらに、2−ヒドロキシエチルメタクリレ
ート381g( 2.45モル)を滴下漏斗から徐々に滴下
した。さらに、湯浴にて60℃に加熱し、攪拌しながら
20時間反応を行い、析出した結晶および触媒を濾別
し、得られた濾液中の溶媒を減圧蒸留により除去し、残
渣を充分乾燥させて、黄色液状物〔硬化性ホスファゼン
化合物(B)〕452gを得た.
Production Example 2 Production of Curable Phosphazene Compound (B) 300 ml of tetrahydrofuran and 25.5 g of sodium metal were placed in a 2 liter flask equipped with a thermometer, a stirrer, a dropping funnel and a condenser. 104.3 g (1.11 mol) of phenol was added dropwise to the mixture, and after completion of the addition, the mixture was refluxed for 3 hours to obtain a phenolate. Then, a solution prepared by dissolving 193 g (0.555 mol) of hexachlorocyclotriphosphazene in 400 ml of benzene was added dropwise to the above reaction solution, and the reaction was allowed to proceed for 4 hours under reflux. Then, the temperature of the reaction solution was cooled to room temperature, 352 g (4.45 mol) of pyridine was added, and 381 g (2.45 mol) of 2-hydroxyethyl methacrylate was gradually added dropwise from the dropping funnel. Furthermore, the mixture was heated to 60 ° C. in a hot water bath, reacted for 20 hours while stirring, the precipitated crystals and catalyst were filtered off, the solvent in the obtained filtrate was removed by distillation under reduced pressure, and the residue was sufficiently dried. To obtain 452 g of a yellow liquid [curable phosphazene compound (B)].

【0052】実施例1 硬化性組成物配合 硬化性ホスファゼン化合物(A) 25g SbドープSnO2 25g 〔三菱マテリアル(株)製T−1,一次粒子径0.02μm〕 メチルイソブチルケトン 36g ブチルセロソルブ 3g イソプロパノール 40g セロソルブアセテート 36g 上記配合からなる成分組成を混合し、200W超音波洗
浄槽で15分間処理した後、分散機としてマイクロフイ
ルダイザを用いて処理し、十分分散させた。この分散液
に、2−メチル−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2
−モリフォリノ−1−プロパノン1.25gを加え、溶解
して硬化性組成物(a)を調製した。この硬化性組成物
(a)をスピンコーターを用い、厚さ3mmの透明なポ
リカーボネート板に塗布し、80℃にて10分間溶剤を
蒸発させた後、高圧水銀灯にて500mJ/cm2 紫外
線を照射し、2μmの硬化樹脂表面層を有する本発明の
ポリカーボネート板を得た。
Example 1 Curable composition blend Curable phosphazene compound (A) 25 g Sb-doped SnO 2 25 g [T-1, manufactured by Mitsubishi Materials Corp., primary particle size 0.02 μm] Methyl isobutyl ketone 36 g Butyl cellosolve 3 g Isopropanol 40 g Cellosolve acetate 36 g The component composition having the above composition was mixed and treated in a 200 W ultrasonic cleaning tank for 15 minutes, and then treated using a microfil diser as a disperser and sufficiently dispersed. 2-Methyl- [4- (methylthio) phenyl] -2 was added to this dispersion.
-Morifolino-1-propanone (1.25 g) was added and dissolved to prepare a curable composition (a). This curable composition (a) was applied to a transparent polycarbonate plate having a thickness of 3 mm using a spin coater, the solvent was evaporated at 80 ° C. for 10 minutes, and then 500 mJ / cm 2 ultraviolet rays were irradiated with a high pressure mercury lamp. Then, a polycarbonate plate of the present invention having a cured resin surface layer of 2 μm was obtained.

【0053】実施例2 実施例1において、硬化性ホスファゼン化合物(A)の
代わりに硬化性ホスファゼン化合物(B)を用いた以外
は、実施例1と同様な処理,操作を行い、硬化樹脂表面
層を有するポリカーボネート板を得た。その評価結果を
第1表に示す。 実施例3 実施例1において、SbドープSnS2 の代わりにSn
ドープIn2 3 を用いた以外は実施例1と同様にし
た。評価結果を第1表に示す。 実施例4 硬化性組成配合 SbドープSnO2 をコートしたBaSO4 25g 〔三井金属(株)製パストランIV,一次粒子径0.5μm〕 メチルイソブチルケトン 36g ブチルセロソルブ 3g ブタノール 35g イソプロパノール 40g セロソルブアセテート 36g 非イオン系界面活性剤 0.5g 上記配合からなる成分組成を混合し、600W超音波洗
浄槽で30分間処理した。この液に、 硬化性ホスファゼン化合物(A) 12.5g ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 12.5g 〔荒川化学(株)製ビームセット700〕 1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン 1.2g を加え、溶解し、分散機としてマイクロフイルダイザを
用いて処理、十分分散させ硬化性組成物(b)を調製し
た。実施例1の硬化性組成物(a)を硬化性組成物
(b)に代えた以外は、実施例1と同様に実施した。
Example 2 A cured resin surface layer was prepared in the same manner as in Example 1 except that the curable phosphazene compound (B) was used in place of the curable phosphazene compound (A). A polycarbonate plate having The evaluation results are shown in Table 1. Example 3 In Example 1, Sn was used instead of Sb-doped SnS 2.
The same procedure was performed as in Example 1 except that doped In 2 O 3 was used. The evaluation results are shown in Table 1. Example 4 Curable composition blended Sb-doped SnO 2 coated BaSO 4 25 g [Mitsui Metals Co., Ltd. Pastran IV, primary particle size 0.5 μm] Methyl isobutyl ketone 36 g Butyl cellosolve 3 g Butanol 35 g Isopropanol 40 g Cellosolve acetate 36 g Nonionic system Surfactant 0.5 g The component composition having the above composition was mixed and treated in a 600 W ultrasonic cleaning bath for 30 minutes. Curable phosphazene compound (A) 12.5 g dipentaerythritol hexaacrylate 12.5 g [Arakawa Chemical Co., Ltd. beam set 700] 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone 1.2 g was added and dissolved in this liquid. As a result, a curable composition (b) was prepared by treating with a microfil diser and sufficiently dispersing. It carried out like Example 1 except having changed curable composition (a) of Example 1 into curable composition (b).

【0054】実施例5 硬化性組成配合 SbドープSnO3 20g 〔三菱マテリアル(株)製T−1,一次粒子径0.02μm〕 トルエン 160g 非イオン系界面活性剤 0.5g 上記配合からなる成分組成を混合し、分散機としてマイ
クロフイルダイザを用いて処理し、十分分散させた。こ
の分散液に、 硬化性ホスファゼン化合物(A) 7g ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 7g 〔日本火薬(株)製カヤラッドDPHA〕 2,2−ビス(4−アクリロキシジエトキシフェニル)プロパン 6g 〔日本火薬(株)製カヤラッドR−551〕 2−メチル〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルフォリノ −1−プロパン 1g p−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル 0.6g を加え、溶解させ、分散機としてマイクロフイルダイザ
を用いて処理、十分分散させ硬化性組成物(c)を調製
した。この硬化性組成物(c)をグラビアコーターを用
い、厚さ100μmの透明なポリエチレンテレフタレー
トフィルムに塗布し、80℃の熱風で20秒間溶剤を蒸
発させた後、高圧水銀灯にて500mJ/cm2 紫外線
を照射し、2μmの硬化樹脂表面層を有する本発明のポ
リエチレンテレフタレートフィルムを得た。
Example 5 Curable composition blending Sb-doped SnO 3 20 g [T-1, manufactured by Mitsubishi Materials Corporation, primary particle size 0.02 μm] Toluene 160 g Nonionic surfactant 0.5 g Component composition consisting of the above blending Were mixed and treated with a microfil diser as a disperser to sufficiently disperse. Curable phosphazene compound (A) 7g Dipentaerythritol hexaacrylate 7g [Kayarad DPHA manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.] 2,2-bis (4-acryloxydiethoxyphenyl) propane 6g [Nippon Kayaku Co., Ltd.] ) Kayarad R-551] 2-methyl [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-1-propane 1 g p-Dimethylaminobenzoic acid ethyl ester 0.6 g was added and dissolved, and a microfil dye was used as a disperser. A curable composition (c) was prepared by treating and sufficiently dispersing it using a mill. This curable composition (c) was applied to a 100 μm-thick transparent polyethylene terephthalate film using a gravure coater, the solvent was evaporated with hot air at 80 ° C. for 20 seconds, and then 500 mJ / cm 2 ultraviolet rays were applied using a high pressure mercury lamp. To obtain a polyethylene terephthalate film of the present invention having a cured resin surface layer of 2 μm.

【0055】比較例1 硬化性組成配合 硬化性ホスファゼン化合物(A) 25g ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 25g 〔荒川化学(株)製ビームセット700〕 非イオン系界面活性剤 1g 〔日本油脂(株)製エレガンS−100〕 メチルイソブチルケトン 36g ブチルセロソルブ 3g ブタノール 35g イソプロパノール 40g セロソルブアセテート 36g 上記配合からなる成分組成を混合し、分散機としてマイ
クロフイルダイザを用いて処理し、十分分散させた。こ
の分散液を用いた以外は、実施例1と同様に実施した。 比較例2 市販の透明導電粉分散タイプの硬化性組成物として、触
媒化成(株)製のP3055(紫外線硬化タイプ)を用
いた以外は、実施例1と同様に実施した。
Comparative Example 1 Curable composition blend Curable phosphazene compound (A) 25 g Dipentaerythritol hexaacrylate 25 g [Beamset 700 manufactured by Arakawa Chemical Co., Ltd.] Nonionic surfactant 1 g [Nippon Oil & Fat Co., Ltd. Elegan S-100] Methyl isobutyl ketone 36 g Butyl cellosolve 3 g Butanol 35 g Isopropanol 40 g Cellosolve acetate 36 g The component composition having the above composition was mixed, and the mixture was treated using a microfil diser as a disperser and sufficiently dispersed. The same procedure as in Example 1 was carried out except that this dispersion liquid was used. Comparative Example 2 The procedure of Example 1 was repeated, except that P3055 (UV curable type) manufactured by Catalyst Kasei Co., Ltd. was used as a commercially available transparent conductive powder-dispersed curable composition.

【0056】実施例及び比較例で得られたそれぞれの帯
電防止材について、その物性評価として耐スチールウー
ル性,耐摩耗性,密着性等を試験した。その評価結果を
第1表に示す。なお、各試験方法は、次の通りである。 1.全光線透過率 JIS K−7105に拠った。 2.ヘーズ JIS K−7105に拠った。 3.密着性 クロスカット(1mm巾,100区画)セロハンテープ
剥離法で、剥離しなかった部分の数で評価した。 例 0/100:全部剥離、100/100:剥離な
し 4.耐摩耗性 テーバー摩耗試験法にしたがった。 摩耗輪 CS−10 荷重 500g 試験前後のヘーズ差(ΔH)で評価した。 5.耐スチールウール性 スチールウール試験法にしたがった。 スチールウール #0000 荷重 500g/cm2 100回往復 試験前後の傷の有無で評価した。 6.表面抵抗率 JIS K−6911に拠った。
Each of the antistatic materials obtained in Examples and Comparative Examples was tested for steel wool resistance, abrasion resistance, adhesion and the like as physical property evaluation. The evaluation results are shown in Table 1. The test methods are as follows. 1. Total light transmittance Based on JIS K-7105. 2. Haze Based on JIS K-7105. 3. Adhesion The cross-cut (1 mm width, 100 sections) cellophane tape peeling method was used to evaluate the number of unpeeled parts. Example 0/100: All peeling, 100/100: No peeling 4. Abrasion resistance According to Taber abrasion test method. Abrasion wheel CS-10 load 500 g Evaluation was made by the haze difference (ΔH) before and after the test. 5. Steel wool resistance Steel wool test method was followed. Steel wool # 0000 load 500 g / cm 2 100 times reciprocation It was evaluated by the presence or absence of scratches before and after the test. 6. Surface resistivity Based on JIS K-6911.

【0057】[0057]

【表1】 [Table 1]

【0058】[0058]

【表2】 [Table 2]

【0059】[0059]

【発明の効果】以上の如く、本発明の酸化インジウムも
しくは酸化スズを基調とし、これらに導電性付与処理を
施した微粒子及び硬化性ホスファゼン化合物を用いた帯
電防止材は、高硬度で、透明性に優れ,耐擦傷性,耐熱
性等の優れた性質を併せ有し、しかも帯電防止性に優れ
たものである。したがって、本発明の帯電防止材は、電
気・電子機器その他等の部材として有効に利用される。
INDUSTRIAL APPLICABILITY As described above, the antistatic material using the fine particles and the curable phosphazene compound, which are based on the indium oxide or tin oxide of the present invention and are subjected to the conductivity imparting treatment, has high hardness and transparency. It also has excellent properties such as scratch resistance and heat resistance, as well as excellent antistatic properties. Therefore, the antistatic material of the present invention is effectively used as a member for electric / electronic devices and the like.

─────────────────────────────────────────────────────
─────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成5年2月12日[Submission date] February 12, 1993

【手続補正1】[Procedure Amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0047[Correction target item name] 0047

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0047】なお、基材上に、硬化性組成物を塗布する
にあたって、その作業性,硬化樹脂表面層の膜厚の制御
などから有機溶媒で希釈調製して用いることができる。
ここで、有機溶剤としては,例えば、メチルエチルケト
ン,メチルイメブチルケトンなどのケトン類、2−プロ
パノール,1−ブタノールなどのアルコール類、セロソ
ルブル類、酢酸エステル類、エーテル類、芳香族炭化水
素などを単独で、あるいは適宜混合して用いることがで
きる。また、硬化性組成物には、目的を損なわない範囲
でその他各種の添加剤を配合してもよい。ここで、その
他の添加剤としては、通常の硬化剤,重合禁止剤,発色
剤,酸化防止剤,紫外線吸収剤,潤滑剤,表面改質剤,
分散剤などがあげられる。
When the curable composition is applied onto the substrate, it can be diluted with an organic solvent and used for its workability and control of the film thickness of the cured resin surface layer.
Here, as the organic solvent, for example, ketones such as methyl ethyl ketone and methyl ime butyl ketone, alcohols such as 2-propanol and 1-butanol, cellosolves, acetic acid esters, ethers, aromatic hydrocarbons, etc. Or, it can be used by appropriately mixing them. Further, the curable composition may be blended with other various additives as long as the purpose is not impaired. Here, other additives include ordinary curing agents, polymerization inhibitors, color formers, antioxidants, ultraviolet absorbers, lubricants, surface modifiers,
Examples include a dispersant.

【手続補正2】[Procedure Amendment 2]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0049[Correction target item name] 0049

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0049】本発明の帯電防止材は、このようにして調
製された硬化性組成物を基材上に、通常のコーテイング
に採用されているコーター(例えば、スピンコーター,
グラビアコーター,ロールコーター,ブレードコータ
ー,ドクターコーター,スプレーコーター,カーテンフ
ローコーターなど)でもって塗布した後、必要に応じて
溶剤を除去する。次いで、前記の硬化方法で硬化させ、
硬化樹脂表面層を形成することによって得ることができ
る。かくして基材上に形成される硬化樹脂表面層の厚さ
は、1μm以上、好ましくは2〜100μmで、透明
性,耐擦傷性,耐熱性等の優れた性質を併せ有する帯電
防止材を得ることができる。
The antistatic material of the present invention comprises the curable composition thus prepared on a substrate, and a coater (for example, spin coater,
After coating with a gravure coater, roll coater, blade coater, doctor coater, spray coater, curtain flow coater, etc., remove the solvent if necessary. Then, it is cured by the above-mentioned curing method,
It can be obtained by forming a cured resin surface layer. Thus, the thickness of the cured resin surface layer formed on the substrate is 1 μm or more, preferably 2 to 100 μm, and an antistatic material having excellent properties such as transparency, scratch resistance, and heat resistance is obtained. You can

【手続補正3】[Procedure 3]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0053[Correction target item name] 0053

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0053】実施例2 実施例1において、硬化性ホスファゼン化合物(A)の
代わりに硬化性ホスファゼン化合物(B)を用いた以外
は、実施例1と同様な処理,操作を行い、硬化樹脂表面
層を有するポリカーボネート板を得た。その評価結果を
第1表に示す。 実施例3 実施例1において、SbドープSnO2 の代わりにSn
ドープIn2 3 を用いた以外は実施例1と同様にし
た。評価結果を第1表に示す。 実施例4 硬化性組成配合 SbドープSnO2 をコートしたBaSO4 25g 〔三井金属(株)製パストランIV,一次粒子径0.5μm〕 メチルイソブチルケトン 36g ブチルセロソルブ 3g ブタノール 35g イソプロパノール 40g セロソルブアセテート 36g 非イオン系界面活性剤 0.5g 上記配合からなる成分組成を混合し、600W超音波洗
浄槽で30分間処理した。この液に、 硬化性ホスファゼン化合物(A) 12.5g ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 12.5g 〔荒川化学(株)製ビームセット700〕 1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン 1.2g を加え、溶解し、分散機としてマイクロフイルダイザを
用いて処理、十分分散させ硬化性組成物(b)を調製し
た。実施例1の硬化性組成物(a)を硬化性組成物
(b)に代えた以外は、実施例1と同様に実施した。
Example 2 A cured resin surface layer was prepared in the same manner as in Example 1 except that the curable phosphazene compound (B) was used instead of the curable phosphazene compound (A). A polycarbonate plate having The evaluation results are shown in Table 1. Example 3 In Example 1, Sn was used instead of Sb-doped SnO 2.
Same as Example 1 except that doped In 2 O 3 was used. The evaluation results are shown in Table 1. Example 4 Curable composition blended Sb-doped SnO 2 coated BaSO 4 25 g [Mitsui Kinzoku Co., Ltd. Pastran IV, primary particle size 0.5 μm] Methyl isobutyl ketone 36 g Butyl cellosolve 3 g Butanol 35 g Isopropanol 40 g Cellosolve acetate 36 g Nonionic system Surfactant 0.5 g The component composition having the above composition was mixed and treated in a 600 W ultrasonic cleaning bath for 30 minutes. Curable phosphazene compound (A) 12.5 g dipentaerythritol hexaacrylate 12.5 g [Arakawa Chemical Co., Ltd. beam set 700] 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone 1.2 g was added to this liquid and dissolved to obtain a disperser. As a result, a curable composition (b) was prepared by treating with a microfil diser and sufficiently dispersing. It carried out like Example 1 except having changed curable composition (a) of Example 1 into curable composition (b).

【手続補正4】[Procedure amendment 4]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0057[Correction target item name] 0057

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0057】[0057]

【表1】 [Table 1]

フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01B 1/00 D 7244−5G // C08L 43:02 7921−4J Continuation of front page (51) Int.Cl. 5 Identification number Office reference number FI technical display location H01B 1/00 D 7244-5G // C08L 43:02 7921-4J

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基材上に、(A)酸化インジウム系微粒
子もしくは酸化スズ系微粒子の導電性微粒子またはこれ
らで微粒子の表面を被覆した導電性微粒子及び(B)硬
化性ホスファゼン化合物を主成分とする硬化性組成物を
塗布、硬化させて硬化樹脂表面層を形成してなる帯電防
止材。
1. A main component comprising (A) conductive fine particles of indium oxide-based fine particles or tin oxide-based fine particles, conductive fine particles coated with the surface of the fine particles, and (B) curable phosphazene compound on a substrate. An antistatic material obtained by applying and curing a curable composition to form a cured resin surface layer.
【請求項2】 (A)成分の導電性微粒子の一次粒子径
が、20μm以下である請求項1記載の帯電防止材。
2. The antistatic material according to claim 1, wherein the conductive particles of the component (A) have a primary particle diameter of 20 μm or less.
【請求項3】 (A)成分の導電性微粒子の配合割合
が、(B)成分の硬化性ホスファゼン化合物100重量
部に対して30〜300重量部である請求項1記載の帯
電防止材。
3. The antistatic material according to claim 1, wherein the content of the conductive fine particles as the component (A) is 30 to 300 parts by weight based on 100 parts by weight of the curable phosphazene compound as the component (B).
JP3590292A 1992-02-24 1992-02-24 Antistatic material Pending JPH05230442A (en)

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JP3590292A JPH05230442A (en) 1992-02-24 1992-02-24 Antistatic material

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008527707A (en) * 2005-01-10 2008-07-24 スー・クワンスック Spacer for antistatic flexible printed circuit board for high temperature curing process

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JP2008527707A (en) * 2005-01-10 2008-07-24 スー・クワンスック Spacer for antistatic flexible printed circuit board for high temperature curing process

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