JPH05230276A - Composition applied to article to be plated and method for plating therewith - Google Patents
Composition applied to article to be plated and method for plating therewithInfo
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- JPH05230276A JPH05230276A JP6905492A JP6905492A JPH05230276A JP H05230276 A JPH05230276 A JP H05230276A JP 6905492 A JP6905492 A JP 6905492A JP 6905492 A JP6905492 A JP 6905492A JP H05230276 A JPH05230276 A JP H05230276A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】この発明は、メッキ被着用組成
物、およびその組成物を用いたメッキ方法に関するもの
である。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a composition to be plated and a plating method using the composition.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、プラスチックに対する無電解メッ
キは、熱可塑性プラスチックなどの各種のプラスチック
に対して検討されてきた。しかし、メッキの接着力が弱
く実用化が進んでいないが、ただ一つABS樹脂に対す
るものだけが実用化されている。その理由は、ABS樹
脂のブタジェン部の二重結合が酸処理によって侵されて
微小孔が形成され、その微小孔にメッキの金属が付着
し、金属と樹脂とが投錨効果により強固に接着するもの
と推定され、冷熱サイクルなどに十分に耐えることがで
きるからである。2. Description of the Related Art Conventionally, electroless plating for plastics has been studied for various plastics such as thermoplastics. However, although the adhesive strength of the plating is weak and it has not been put into practical use, only the one for ABS resin has been put into practical use. The reason is that the double bond of the butadiene moiety of the ABS resin is attacked by acid treatment to form micropores, the plating metal adheres to the micropores, and the metal and resin are firmly bonded by the anchoring effect. It is presumed that it is possible to sufficiently withstand a heat cycle and the like.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかし、ABS樹脂は
耐熱性に限界があり、100℃〜120℃以上の熱が加
わる場合の使用には耐えられないという問題があった。However, the ABS resin has a limit in heat resistance and has a problem that it cannot be used when heat of 100 ° C. to 120 ° C. or more is applied.
【0004】そこで、この問題を解決するために、エポ
キシ、フェノール、ポリエステルをはじめとする耐熱性
のプラスチックに対し、無電解メッキが試みられてい
る。しかし、耐熱性プラスチックに対してはメッキ後の
金属膜の接着力が弱く、実用に耐えられないという問題
があった。In order to solve this problem, therefore, electroless plating has been attempted on heat resistant plastics such as epoxy, phenol and polyester. However, there is a problem in that the metal film after plating has a weak adhesion to heat-resistant plastics and cannot be put to practical use.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】そこで、この問題を解決
するために、本発明者らは鋭意研究を重ねた結果、耐熱
性プラスチックに対して強度および耐久性に富むメッキ
膜を形成するためのメッキ被着用組成物を、以下のよう
に見出した。In order to solve this problem, the inventors of the present invention have conducted extensive studies and, as a result, have formed a plating film having high strength and durability on a heat-resistant plastic. The composition to be plated was found as follows.
【0006】すなわち、本発明の第1のメッキ被着用組
成物は、反応基を有する樹脂中に充填剤として粒子径が
5μ以下の炭酸カルシウムを50部〜200部充填して
なるものである。That is, the first composition to be plated according to the present invention comprises 50 to 200 parts by weight of calcium carbonate having a particle size of 5 μm or less as a filler in a resin having a reactive group.
【0007】また、第2のメッキ被着用組成物は、反応
基を有する樹脂中に充填剤として粒子径が5μ以下の硫
酸バリウムを50部〜200部充填してなるものであ
る。The second composition to be plated has a resin having a reactive group and 50 parts to 200 parts of barium sulfate having a particle size of 5 μm or less as a filler.
【0008】また、上記のメッキ被着用組成物を使用し
て、耐熱性のあるプラスチックに対して強度および耐久
性に富むメッキ膜を形成できるメッキ方法を、以下のよ
うに発明した。Further, a plating method has been invented as follows, which is capable of forming a plating film having high strength and durability on a heat resistant plastic by using the above composition to be plated.
【0009】すなわち、本発明の第1のメッキ方法は、
上記の第1または第2のメッキ被着用組成物を、被メッ
キ物に塗布する塗布処理工程と、その塗布したメッキ被
着用組成物を重合硬化する硬化処理工程と、その硬化し
たメッキ被着用組成物中の充填剤を露出する表面処理工
程と、その露出した充填剤を溶出する溶出処理工程と、
その溶出処理後のメッキ被着用組成物の表面に無電解メ
ッキを施すメッキ処理工程と、からなるものである。That is, the first plating method of the present invention is
A coating treatment step of applying the above-mentioned first or second plated coating composition to an object to be plated, a curing treatment step of polymerizing and curing the applied plated coating composition, and the cured plated coating composition A surface treatment step of exposing the filler in the material, an elution treatment step of eluting the exposed filler,
The plating treatment step of subjecting the surface of the composition to be plated after the elution treatment to electroless plating.
【0010】さらに、第2のメッキ方法は、第1のメッ
キ方法の全処理の工程後に、さらに被メッキ物を所定の
温度で所定時間に亘って加熱する加熱処理工程を加えた
ものである。Further, the second plating method is a method in which a heat treatment step of further heating the object to be plated at a predetermined temperature for a predetermined time is added after the steps of all the treatments of the first plating method.
【0011】[0011]
【作用】メッキ被着用組成物の発明では、充填剤として
炭酸カルシウムもしくは硫酸バリウムを使用する。これ
により無電解メッキによりメッキ層を形成する際に、ピ
ンホールのない均一かつ比較的厚いメッキ層が短時間に
でき、もってメッキ形成の経済性、効率性に寄与でき
る。In the invention of the composition to be plated, calcium carbonate or barium sulfate is used as the filler. As a result, when a plating layer is formed by electroless plating, a uniform and relatively thick plating layer without pinholes can be formed in a short time, which can contribute to the economical efficiency and efficiency of plating formation.
【0012】また、充填剤の粒子径を5μ以下にしたの
で、表面に露出した充填剤を処理液により溶出させる場
合に、充填剤を短時間に溶出できる。このように溶出が
容易であるため、特殊な溶出工程の必要がなく、従来の
周知の無電解メッキにおける通常の前処理工程(ソフト
エッチングなど)でも充填剤を充分溶出できる。加えて
本発明では、充填剤の溶出後にできる微小孔の大きさが
メッキ後の投錨効果の向上に寄与できると推察され、メ
ッキ膜の剥離強度の向上に寄与できる。Further, since the particle diameter of the filler is 5 μm or less, when the filler exposed on the surface is eluted with the treatment liquid, the filler can be eluted in a short time. Since the elution is easy as described above, a special elution step is not required and the filler can be sufficiently eluted even in the usual pretreatment step (soft etching etc.) in the conventional well-known electroless plating. In addition, in the present invention, it is presumed that the size of the micropores formed after the elution of the filler can contribute to the improvement of the anchoring effect after plating, which can contribute to the improvement of the peel strength of the plated film.
【0013】さらに、高分子中に充填剤を50部〜20
0部の割合で充填したので、充填剤の溶出後にできる微
小孔の単位面積あたりの密度が、適正になると推察され
る。従って、この微小孔の密度の適正化により、メッキ
後の投錨効果が向上し、加熱下におけるメッキ層のふく
れや密着不良の防止に寄与できる。Further, 50 parts by weight to 20 parts of a filler is added to the polymer.
Since it was filled at a rate of 0 part, it is estimated that the density per unit area of the micropores formed after the elution of the filler is appropriate. Therefore, by optimizing the density of the micropores, the anchoring effect after plating is improved, which can contribute to the prevention of blistering and poor adhesion of the plating layer under heating.
【0014】さらに加えて、上記のメッキ後の投錨効果
の向上により、メッキ層の熱膨脹や熱収縮が抑制される
ので、150℃〜−40℃の冷熱サイクルに耐え得る。In addition, the thermal expansion and contraction of the plating layer is suppressed by the improvement of the anchoring effect after the plating described above, so that it is possible to endure the heat cycle of 150 ° C to -40 ° C.
【0015】次に、第1のメッキ方法の発明では、塗布
処理工程において上記のメッキ被着用組成物2を、被メ
ッキ物1に塗布する(図1(A)参照)。次の硬化処理
工程では、その塗布したメッキ被着用組成物2を重合硬
化すると、被メッキ物1とメッキ被着用組成物2とは強
固に結合する。さらに表面処理工程では、その硬化した
メッキ被着用組成物2中の充填剤3を物理的または化学
的な方法により露出する(図1(B)参照)。Next, in the invention of the first plating method, the above-mentioned composition to be plated 2 is applied to the object to be plated 1 in the coating treatment step (see FIG. 1 (A)). In the subsequent curing treatment step, when the applied coating composition 2 is polymerized and cured, the plating object 1 and the plating composition 2 are firmly bonded. Further, in the surface treatment step, the filler 3 in the cured coating composition 2 is exposed by a physical or chemical method (see FIG. 1 (B)).
【0016】引き続き、溶出処理工程では、その露出し
た充填剤3を溶出する。充填剤3が溶出除去されたあと
には、空洞として充填剤3の微粒子の形状に対応した多
数の微小孔4が得られる(図1(C)参照)。Subsequently, in the elution processing step, the exposed filler 3 is eluted. After the filler 3 is eluted and removed, a large number of micropores 4 corresponding to the shape of the fine particles of the filler 3 are obtained as cavities (see FIG. 1C).
【0017】次のメッキ処理工程では、上記の状態のメ
ッキ被着用組成物2の表面に無電解メッキを施す。この
処理工程で、メッキ金属5がメッキ被着用組成物2の多
数の微小孔4の中に侵入するとともに、メッキ被着用組
成物2の表面上にメッキ層が均一の厚さに形成されてい
く。無電解メッキが完了すると、投錨効果により被メッ
キ物1上にメッキ膜が一体的に接合される(図1(D)
参照)。In the next plating step, electroless plating is applied to the surface of the composition 2 to be plated in the above state. In this treatment step, the plating metal 5 penetrates into the many micropores 4 of the composition to be plated 2, and a plating layer is formed on the surface of the composition to be plated 2 with a uniform thickness. .. When the electroless plating is completed, the plating film is integrally joined to the object to be plated 1 by the anchoring effect (Fig. 1 (D)).
reference).
【0018】このようにして得られたメッキ物では、メ
ッキ被着用組成物2における充填剤3の溶出後に得られ
る多数の微小孔4が、メッキ後の投錨効果の向上に寄与
できる適正な大きさと推察され、メッキ膜の剥離強度の
向上が図れる。In the plated product thus obtained, the large number of micropores 4 obtained after the elution of the filler 3 in the composition 2 to be plated has an appropriate size capable of contributing to the anchoring effect after plating. It is presumed that the peel strength of the plated film can be improved.
【0019】さらに、重合硬化した高分子中に充填剤3
を50部〜200部の割合で充填してあるので、その充
填剤3の溶出後にできる微小孔4の単位面積あたりの密
度が、適正になると推察される。従って、この微小孔4
の密度の適正化により、メッキ後の投錨効果が向上し、
加熱下におけるメッキ層のふくれや密着不良の防止が図
れる。Further, the filler 3 is added to the polymer which is polymerized and cured.
It is presumed that the density per unit area of the micropores 4 formed after the elution of the filler 3 is appropriate since the filler is filled in a ratio of 50 to 200 parts. Therefore, this micropore 4
The anchoring effect after plating is improved by optimizing the density of
It is possible to prevent swelling and poor adhesion of the plating layer under heating.
【0020】さらに加えて、上記のメッキ後の投錨効果
の向上により、メッキ層の熱膨脹や熱収縮が抑制される
ので、150℃〜−40℃の冷熱サイクルに耐え得るよ
うになる。In addition, since the anchoring effect after the plating is improved, the thermal expansion and the thermal contraction of the plated layer are suppressed, so that the thermal cycle of 150 ° C. to −40 ° C. can be endured.
【0021】次に第2のメッキ方法の発明は、第1のメ
ッキ方法の発明の全処理の工程後に、さらに被メッキ物
を所定の温度で所定時間に亘って加熱する加熱処理工程
を加えたものである。この加熱処理工程を加えることに
より、被メッキ物とメッキ層との分子間距離が短縮し、
2次結合力が増加し両者の接合がより強固となる。Next, in the invention of the second plating method, after the steps of all the treatments of the invention of the first plating method, a heat treatment step of further heating the object to be plated at a predetermined temperature for a predetermined time is added. It is a thing. By adding this heat treatment step, the intermolecular distance between the object to be plated and the plating layer is shortened,
The secondary bonding force increases, and the bonding between the two becomes stronger.
【0022】[0022]
【実施例】次に、本発明のメッキ方法の実施例につい
て、以下に詳細に説明する。EXAMPLES Examples of the plating method of the present invention will be described in detail below.
【0023】このメッキ方法で使用するメッキ被着用組
成物は、反応基を有する樹脂の基剤の他に、着色剤、充
填剤、分散剤、および粘度調製用の溶剤を含む。The plating adhered composition used in this plating method contains a colorant, a filler, a dispersant, and a solvent for adjusting the viscosity, in addition to the resin base having a reactive group.
【0024】基剤は、後述のように被メッキ物の材質と
同じものが好ましく、例えば耐熱性に富むエポキシ、フ
ェノール、ポリエステル、ウレタンなどである。充填剤
としては、後述のように炭酸カルシウム、または硫酸バ
リウムが好適であることを見出した。着色剤としては例
えばシアニングリーン、分散剤としては例えばポリエチ
レングリコールノニフェニルエーテル、粘度調整用の溶
剤としては例えばシクロヘキサノンである。The base material is preferably the same as that of the material to be plated, as will be described later, and is, for example, epoxy, phenol, polyester, urethane or the like having high heat resistance. As the filler, it has been found that calcium carbonate or barium sulfate is suitable as described later. The colorant is, for example, cyanine green, the dispersant is, for example, polyethylene glycol noniphenyl ether, and the viscosity adjusting solvent is, for example, cyclohexanone.
【0025】[0025]
【表1】 次に、表1に示すとおりの基剤、着色剤、充填剤、分散
剤、および粘度調製用溶剤を表1の重量比に計量したの
ち攪拌容器に入れて攪拌機で攪拌して、メッキ被着用組
成物を作成する。攪拌機の回転速度は1200rpm
で、攪拌時間は3時間〜6時間とする。[Table 1] Next, the base, colorant, filler, dispersant, and viscosity adjusting solvent as shown in Table 1 were weighed in the weight ratio shown in Table 1, put in a stirring container and stirred by a stirrer to be plated. Create a composition. The rotation speed of the stirrer is 1200 rpm
The stirring time is 3 hours to 6 hours.
【0026】さらに、このように作成したメッキ被着用
組成物を100に対し、所定の硬化剤(例えば変性アミ
ン)を12の重量比で添加して充分攪拌し、硬化剤入り
メッキ被着用組成物を作成する。そして、メッキの対象
である被メッキ物として、耐熱性に富むプラスチックの
中から例えばエポキシ樹脂からなりその表面に銅箔回路
11が付いたプリント基板10を用意する。Further, a predetermined curing agent (for example, modified amine) is added in a weight ratio of 12 to 100 of the coating composition thus prepared, and the mixture is sufficiently stirred to obtain a coating composition containing the curing agent. To create. Then, as an object to be plated, a printed circuit board 10 having a copper foil circuit 11 on the surface thereof is prepared from a plastic having high heat resistance, for example, an epoxy resin.
【0027】そして、用意したプリント基板10の表面
のX軸方向にスクリーン印刷にて、下塗り剤12として
まず粘土調整してメッキ被着用組成物2と同系列の組成
物を、均一かつ所定の厚さに塗布する。塗布後、その下
塗り剤12を150゜Cの温度の下で30分間に亘って
乾燥して硬化させる。しかる後、上記の硬化剤入りのメ
ッキ被着用組成物2を、前記プリント基板10の表面の
Y軸方向にスクリーン印刷にて、均一かつ所定の厚さに
塗布する。その塗布後、メッキ被着用組成物2を150
゜Cの温度の下で30分間に亘って乾燥して硬化させ
る。その結果、図2の(A)で示すように、プリント基
板10とメッキ被着用組成物2とは強固に結合する。こ
のときの、下塗り剤12の厚さは20〜30μ程度が好
ましく、メッキ被着用組成物2の厚さは20〜30μ程
度が好ましい。Then, by screen-printing the surface of the prepared printed circuit board 10 in the X-axis direction, clay was first prepared as the undercoating agent 12 to prepare a composition of the same series as the composition to be plated 2 and to a uniform thickness. Apply to After application, the primer 12 is dried and cured at a temperature of 150 ° C. for 30 minutes. After that, the above-mentioned plating adhered composition 2 containing a curing agent is applied to the surface of the printed circuit board 10 in the Y-axis direction by screen printing to a uniform and predetermined thickness. After the application, the composition to be plated 2 is applied 150
Dry and cure for 30 minutes at a temperature of ° C. As a result, as shown in FIG. 2 (A), the printed board 10 and the composition to be plated 2 are firmly bonded. At this time, the thickness of the undercoating agent 12 is preferably about 20 to 30 μ, and the thickness of the composition to be plated 2 is preferably about 20 to 30 μ.
【0028】上記のように、下塗り剤12を下塗りする
と、銅箔回路11との密着性が向上し、かつ回路の絶縁
性が確保できる。さらに、下塗り剤12をプリント基板
10のX軸方向にスクリーン印刷にて塗布したのち、メ
ッキ被着用組成物2をプリント基板10のY軸方向にス
クリーン印刷にて塗布するようにしたので、ピンホール
の発生を防止できるとともに、塗布表面の平滑化が図れ
る。As described above, when the undercoating agent 12 is undercoated, the adhesiveness with the copper foil circuit 11 is improved and the insulation of the circuit can be secured. Furthermore, since the undercoating agent 12 is applied by screen printing in the X-axis direction of the printed circuit board 10, the composition 2 to be plated is applied by screen printing in the Y-axis direction of the printed circuit board 10. Can be prevented, and the coated surface can be smoothed.
【0029】このようにしてメッキ被着用組成物2の硬
化が終了すると、引き続き、その硬化したメッキ被着用
組成物2中の充填剤3を露出すると、図2の(B)で示
すようになる。この充填剤3の露出は、メッキ被着用組
成物2の表面をバフ研磨することにより行うのが一般的
だが、その表面処理は他の物理的または化学的な研磨で
もよい。When the curing of the composition to be plated 2 is completed in this way, the filler 3 in the cured composition 2 to be plated is subsequently exposed, as shown in FIG. 2B. .. The filler 3 is generally exposed by buffing the surface of the composition 2 to be plated, but the surface treatment may be other physical or chemical polishing.
【0030】次に、通常の無電解メッキ処理の前処理、
すなわち、クリーナコンディショナ、湯洗い、水洗い、
ソフトエッチング、水洗い、酸活性、水洗いなどの各処
理を順次行うが、ソフトエッチングに利用される過硫酸
ソーダ、酸活性に利用される粗製硫酸などにより、その
露出した多数の充填剤3は溶出され、図2の(C)で示
すようになる。このようにして充填剤3が溶出除去され
たあとには、充填剤3の微粒子の形状に対応した多数の
微小孔4の空洞が得られる。Next, the pretreatment of the usual electroless plating treatment,
In other words, cleaner conditioner, hot water wash, water wash,
Each treatment such as soft etching, washing with water, acid activation, and washing with water is sequentially performed, but the exposed large number of fillers 3 are eluted by sodium persulfate used for soft etching and crude sulfuric acid used for acid activation. , As shown in FIG. After the filler 3 is eluted and removed in this way, a large number of cavities of micropores 4 corresponding to the shape of the fine particles of the filler 3 are obtained.
【0031】引き続き、上記の状態にあるメッキ被着用
組成物2の表面に金、銀、銅、ニッケル、亜鉛などの無
電解メッキを施す。無電解メッキ液として、ここではシ
ープレットジャパン株式会社の商品番号「328A」を
使用し、メッキ条件は、メッキ温度が19℃〜22℃の
下でメッキ時間は20分とする。Subsequently, the surface of the plating adhered composition 2 in the above state is electrolessly plated with gold, silver, copper, nickel, zinc or the like. As the electroless plating solution, product number “328A” of Secret Japan Co., Ltd. is used here, and the plating condition is that the plating temperature is 19 ° C. to 22 ° C. and the plating time is 20 minutes.
【0032】この無電解メッキ処理工程により、メッキ
金属5がメッキ被着用組成物2の無数の微小孔4の中ま
で侵入するとともに、メッキ被着用組成物2の表面上に
メッキ層が均一に形成されていく。By this electroless plating process, the plating metal 5 penetrates into the innumerable micropores 4 of the composition 2 to be plated, and a plating layer is uniformly formed on the surface of the composition 2 to be plated. Will be done.
【0033】無電解メッキが終了すると、図2の(D)
で示すように所定の厚さの、メッキ膜が形成される。次
に、水洗い、乾燥、酸活性、水洗いの各工程をこの順序
で順次経たのち、電気メッキを行う。この電気メッキ
は、従来と同様に例えば硫酸銅五水塩などの薬品を使用
し、そのメッキ条件は、温度が22℃〜28℃の下でメ
ッキ時間は50〜70分とする。そして、電気メッキが
終了後は、防錆、乾燥の各処理を行って、全工程を終了
する。When the electroless plating is completed, (D) of FIG.
As shown by, a plating film having a predetermined thickness is formed. Next, after each step of washing with water, drying, acid activation, and washing with water in this order, electroplating is performed. This electroplating uses a chemical such as copper sulfate pentahydrate as in the conventional case, and the plating condition is that the temperature is 22 ° C. to 28 ° C. and the plating time is 50 to 70 minutes. Then, after the electroplating is finished, each process of rust prevention and drying is performed, and the whole process is finished.
【0034】このようにメッキ被着用組成物2を塗布
し、メッキ処理した後、そのメッキ層を回路パターンに
エッチングすることにより、メッキ被着用組成物2を絶
縁層とする多層のプリント基板ができるが、上記のよう
にメッキ被着用組成物2をプリント基板の銅箔表面全体
に塗布せずに選択的に塗布すれば、塗布しないラウンド
部分は下層の銅箔と直接接続され、スルーホールするこ
となく層間導通ができる。Thus, the composition to be plated 2 is applied, plated, and then the plated layer is etched into a circuit pattern to obtain a multilayer printed circuit board having the composition 2 to be plated as an insulating layer. However, if the plating adhered composition 2 is selectively applied without being applied to the entire surface of the copper foil of the printed circuit board as described above, the uncoated round portion is directly connected to the underlying copper foil to form a through hole. There is no inter-layer conduction.
【0035】以上の処理により、本発明メッキ方法を実
施するのであるが、メッキ状態を比較するために、表1
で示すような比較試験を行った。すなわち、この比較試
験は、メッキ被着用組成物については表1の条件どおり
とし、充填剤についてのみ、その種類と平均粒子径を変
え、他は上記と同じ工程によりメッキを行った。その結
果を表2に示す。The plating method of the present invention is carried out by the above treatments.
A comparative test as shown in FIG. That is, in this comparative test, the composition to be plated was subjected to the conditions shown in Table 1, only the filler was changed in its type and average particle diameter, and the plating was performed in the same process as above. The results are shown in Table 2.
【0036】[0036]
【表2】 表2において、形成メッキ層の厚さは、形成後のメッキ
層を剥離してその厚さをマイクロメータで測定した。剥
離強さは、形成後のメッキ層を25mm幅で帯状にカッ
ターナイフでカットし、その一部を引張り試験機により
強制的に180度方向に剥離する。このときの、引張り
速度は50mm/minとする。また表面状態の観察
は、メッキ表面の光沢を肉眼で観察し、良好なものを
「A」とし、乱反射が認められるものを「B」とした。
さらにピンホールの有無は、剥離したメッキ層を30倍
の顕微鏡で観察し、ピンホールの有無を検査した。[Table 2] In Table 2, the thickness of the formed plated layer was measured by peeling off the formed plated layer and measuring the thickness with a micrometer. With respect to the peeling strength, the plated layer after formation is cut into a strip having a width of 25 mm with a cutter knife, and a part thereof is forcibly peeled in the direction of 180 ° by a tensile tester. At this time, the pulling speed is 50 mm / min. For the observation of the surface condition, the gloss of the plated surface was observed with the naked eye, "A" was good and "B" was diffuse reflection.
Further, the presence or absence of pinholes was examined by observing the peeled plating layer with a microscope of 30 times to inspect the presence or absence of pinholes.
【0037】この表2から、形成されたメッキ層の厚
さ、メッキ層の剥離強度、メッキの表面状態、およびピ
ンホールの発生の有無をそれぞれ比較すると、充填剤と
して炭酸カルシウムと硫酸バリウムが優れていることが
わかった。すなわち、充填剤の種類として炭酸カルシウ
ムまたは硫酸バリウムを選択すると、ピンホールのない
均一かつ比較的厚いメッキ層が短時間にでき、もって効
率的、経済的である(表2参照)。From Table 2, comparing the thickness of the formed plating layer, the peeling strength of the plating layer, the surface condition of the plating, and the presence or absence of pinholes, calcium carbonate and barium sulfate are excellent fillers. I found out. That is, when calcium carbonate or barium sulfate is selected as the type of filler, a uniform and relatively thick plating layer without pinholes can be formed in a short time, which is efficient and economical (see Table 2).
【0038】また、炭酸カルシウムはその平均粒子径が
5.0μ以下が好ましく、硫酸バリウムはその平均粒子
径が5.0μ以下、好ましくは1.5μ以下が良いこと
がわかった。その理由は、熱硬化させた充填剤を表面に
露出させて処理液により溶出させる場合に、充填剤を処
理液により短時間で完全に溶出できる上に、通常のメッ
キ工程の前処理の過程で溶出可能となるからである。そ
れと同時に、その充填剤の溶出後にできる微小孔の大き
さが、メッキ後の投錨効果の向上に寄与できると推察さ
れ、メッキ膜の剥離強度が表2で示すように向上するか
らである(表2参照)。It has been found that calcium carbonate preferably has an average particle size of 5.0 μ or less, and barium sulfate has an average particle size of 5.0 μ or less, preferably 1.5 μ or less. The reason is that when the heat-cured filler is exposed on the surface and is eluted with the treatment liquid, the filler can be completely eluted with the treatment liquid in a short time, and in the process of pretreatment of the usual plating process. This is because elution becomes possible. At the same time, it is presumed that the size of the micropores formed after the elution of the filler can contribute to the improvement of the anchoring effect after plating, and the peel strength of the plating film is improved as shown in Table 2 (Table 2).
【0039】表2の比較試験では、メッキ被着用組成物
の充填剤として、炭酸カルシウム、または硫酸バリウム
が優れていることがわかり、その好適な平均粒子径も特
定できた。しかし、充填剤のメッキ被着用組成物中に占
める炭酸カルシウム、または硫酸バリウムの最適な混合
比(重量比)を見出すために、次に表3で示すような比
較試験を実施した。In the comparative test shown in Table 2, it was found that calcium carbonate or barium sulfate was excellent as the filler for the composition to be plated, and its suitable average particle size could be specified. However, in order to find out the optimum mixing ratio (weight ratio) of calcium carbonate or barium sulfate occupying in the composition to be plated with the filler, a comparative test as shown in Table 3 was performed.
【0040】[0040]
【表3】 この比較試験は、試料の充填剤が炭酸カルシウムの場合
にはその平均粒子径を0.8μとし、試料の充填剤が硫
酸バリウムの場合にはその平均粒子径を1.0μとし、
その添加量を30部,50部,100部,150部,2
00部,230部,250部のように変化させて行っ
た。なお、各試料における充填剤以外の成分、すなわち
基剤、着色剤、分散剤、および粘度調製用溶剤の各物質
およびそれらの混合比は、表1と同様である。[Table 3] In this comparative test, when the sample filler is calcium carbonate, the average particle size is 0.8μ, and when the sample filler is barium sulfate, the average particle size is 1.0μ,
The addition amount is 30 parts, 50 parts, 100 parts, 150 parts, 2
It was carried out by changing it to 00 parts, 230 parts, 250 parts. In addition, the components other than the filler in each sample, that is, each substance of the base, the colorant, the dispersant, and the viscosity adjusting solvent, and the mixing ratio thereof are the same as in Table 1.
【0041】次に、この比較試験の結果から、形成され
たメッキ層の厚さ、メッキ膜の剥離強度、メッキの表面
状態、およびピンホールの発生の有無を各試料について
比較すると、炭酸カルシウムの場合も硫酸バリウムの場
合も、重量比が50部以上が実用に供することがわか
る。Next, from the results of this comparative test, the thickness of the formed plating layer, the peeling strength of the plating film, the surface condition of the plating, and the presence or absence of pinholes were compared for each sample. In both the case and barium sulfate, it can be seen that a weight ratio of 50 parts or more is put to practical use.
【0042】しかし、充填剤の重量比が200部を越え
ると、メッキの剥離強度が低下しメッキ被着用組成物の
凝集破壊を呈すると同時に、脆くなって被膜適性が低下
する。しかも、重量比が200部を越えると、メッキ被
着用組成物の作成時に混合しにくくなってその製造が困
難になるという問題もある。However, if the weight ratio of the filler exceeds 200 parts, the peeling strength of the plating is reduced and the composition to be plated is subject to cohesive failure and, at the same time, it becomes brittle and the coating suitability is deteriorated. Moreover, if the weight ratio exceeds 200 parts, there is a problem in that it is difficult to mix the composition to be plated when it is prepared, and the production thereof becomes difficult.
【0043】従って、本発明のメッキ方法に使用するメ
ッキ被着用組成物の充填剤は、炭酸カルシウムの場合も
硫酸バリウムの場合も、いずれもその添加量が50部〜
200部の範囲が最適であることがわかった。換言すれ
ば、添加量が50部〜200部の範囲が最適であるとい
うことは、その充填剤の溶出後の空洞である微小孔の単
位面積あたりの密度が適正になると推察される。従っ
て、この微小孔の適正な密度により、メッキ後の投錨効
果が向上し、加熱下におけるメッキ層のふくれや密着不
良の防止が図れ、もって、熱衝撃強さが大幅に改善でき
る。Therefore, the filler of the composition to be plated to be used in the plating method of the present invention, both calcium carbonate and barium sulfate, is added in an amount of 50 parts by weight or more.
A range of 200 parts was found to be optimal. In other words, the optimum addition amount is in the range of 50 parts to 200 parts, and it is presumed that the density per unit area of the micropores that are cavities after elution of the filler is appropriate. Therefore, the proper density of the micropores improves the anchoring effect after plating, and can prevent swelling and poor adhesion of the plated layer under heating, thus greatly improving the thermal shock strength.
【0044】さらに、上記のメッキ後の投錨効果の向上
により、メッキ層の熱膨脹および熱収縮が抑制されるの
で、150℃〜−40℃の冷熱サイクルに耐え得るよう
になる。Further, since the anchoring effect after the plating is improved, the thermal expansion and the thermal contraction of the plating layer are suppressed, so that the thermal cycle of 150 ° C. to -40 ° C. can be endured.
【0045】次に、本発明のメッキ方法における他の実
施例について説明する。Next, another embodiment of the plating method of the present invention will be described.
【0046】この実施例は、上記の実施例の各処理の後
に、さらにプリント基板10を所定の温度(例えば15
0゜C)の下で、所定時間(例えば30分)に亘って加
熱する加熱処理を加えるものである。In this embodiment, the printed circuit board 10 is further heated to a predetermined temperature (for example, 15) after each processing of the above embodiments.
At 0 ° C., a heat treatment of heating for a predetermined time (for example, 30 minutes) is added.
【0047】このように加熱処理を加えた場合には、メ
ッキ層の剥離強度が、表2および表3で示すように、加
熱処理を加えない場合に比べて向上することがわかる。
その理由は、加熱処理を加えると、プリント基板10と
メッキ層との分子間距離が短縮し、2次結合力が増加し
て両者の接合がより強固になるからであると推察され
る。As shown in Tables 2 and 3, it can be seen that the peel strength of the plating layer is improved when the heat treatment is added as compared with the case where the heat treatment is not added.
It is presumed that the reason is that when heat treatment is applied, the intermolecular distance between the printed board 10 and the plating layer is shortened, the secondary bonding force is increased, and the bonding between the two becomes stronger.
【0048】以上は本発明のメッキ方法をプリント基板
に適用した場合である。しかし、このメッキ方法に適用
できる被メッキ物としては、上記のプリント基板のほか
に、電磁シールド用の素材、加飾用の製品などの耐熱性
を要する分野に広く適用が可能である。The above is the case where the plating method of the present invention is applied to a printed circuit board. However, as an object to be plated that can be applied to this plating method, in addition to the above-mentioned printed circuit board, it can be widely applied to a field requiring heat resistance such as a material for an electromagnetic shield and a product for decoration.
【0049】[0049]
【発明の効果】以上のようにメッキ被着用組成物の発明
では、充填剤として炭酸カルシウムまたは硫酸バリウム
を採用したので、メッキ層を形成する際に、均一なメッ
キが短時間にでき、もってメッキ形成時の効率性、経済
性に寄与できる。As described above, in the invention of the composition to be plated, since calcium carbonate or barium sulfate is used as the filler, uniform plating can be performed in a short time when the plating layer is formed. It can contribute to efficiency and economy in forming.
【0050】また、その充填剤の粒子径を5μ以下にし
たので、熱硬化させた充填剤を表面に露出させて処理液
により溶出させる場合に、充填剤を処理液により短時間
に完全に溶出でき、効率的である。それと同時に、その
充填剤の溶出後にできる微小孔の大きさがメッキ後の投
錨効果の向上に寄与できると推察され、メッキ膜の剥離
強度の向上に寄与できる。Further, since the particle diameter of the filler is set to 5 μm or less, when the heat-cured filler is exposed on the surface and eluted with the treatment liquid, the filler is completely eluted with the treatment liquid in a short time. Yes, it is efficient. At the same time, it is presumed that the size of the micropores formed after the elution of the filler can contribute to the improvement of the anchoring effect after plating, which can contribute to the improvement of the peel strength of the plated film.
【0051】さらに、充填剤を50部〜200部の割合
で充填した組成物は、その充填剤の溶出後にできる微小
孔の単位面積あたりの密度が適正になると推察される。
従って、微小孔の密度の適正化により、メッキ後の投錨
効果が向上し、加熱下におけるメッキ層のふくれや密着
不良の防止に寄与できる。Furthermore, it is presumed that the density of the fine pores formed per unit area of the composition filled with the filler in the ratio of 50 to 200 parts will be appropriate.
Therefore, by optimizing the density of the micropores, the anchoring effect after plating is improved, which can contribute to the prevention of blistering and poor adhesion of the plating layer under heating.
【0052】さらに加えて、上記のメッキ後の投錨効果
の密度の向上により、メッキ層の熱膨脹および熱収縮が
抑制されるので、150℃〜−40℃の冷熱サイクルに
耐え得る。In addition, since the thermal expansion and the thermal contraction of the plating layer are suppressed by improving the density of the anchoring effect after the plating described above, the thermal cycle of 150 to -40 ° C can be endured.
【0053】次に、第1のメッキ方法の発明によれば、
耐熱性のあるプラスチックに対して、ピンホールのない
均一かつ比較的厚いメッキ層が短時間にでき、効率的、
経済的である。Next, according to the invention of the first plating method,
For heat-resistant plastic, a uniform and relatively thick plating layer without pinholes can be formed in a short time,
It is economical.
【0054】しかも、その形成されたメッキ層は、投錨
効果の向上によりメッキ膜の剥離強度が向上する上に、
投錨効果の向上により加熱下におけるメッキ層のふくれ
や密着不良の防止が図れる。さらに、その投錨効果の向
上により、メッキ層の熱膨脹および熱収縮が抑制される
ので、150℃〜−40℃の冷熱サイクルに耐え得る。
したがって、耐熱性プラスチックに対して実用に耐え得
るメッキ層の形成ができる。In addition, the formed plating layer improves the peeling strength of the plating film due to the improved anchoring effect, and
By improving the anchoring effect, it is possible to prevent swelling and poor adhesion of the plating layer under heating. Further, since the anchoring effect is improved, the thermal expansion and the thermal contraction of the plating layer are suppressed, so that the plating layer can withstand the heat cycle of 150 ° C to -40 ° C.
Therefore, it is possible to form a plating layer that can be practically used for heat-resistant plastic.
【0055】次に第2のメッキ方法の発明では、第1の
メッキ方法の発明の各処理の後に、さらに被メッキ物を
所定の温度で所定時間に亘って加熱する加熱処理を加え
たので、被メッキ物とメッキ層との分子間距離が短縮
し、2次結合力が増大して両者の接合がより強固となっ
てさらにメッキの接合強度が向上する。Next, in the invention of the second plating method, after each treatment of the invention of the first plating method, a heating treatment for further heating the object to be plated at a predetermined temperature for a predetermined time is added. The intermolecular distance between the object to be plated and the plating layer is shortened, the secondary bonding force is increased, the bond between the two becomes stronger, and the bond strength of the plating is further improved.
【図1】本発明のメッキ方法を説明する工程図である。FIG. 1 is a process diagram illustrating a plating method of the present invention.
【図2】本発明のメッキ方法をプリント基板に適用した
場合の工程図である。FIG. 2 is a process diagram when the plating method of the present invention is applied to a printed circuit board.
1 被メッキ物 2 メッキ被着用組成物 3 充填剤 4 微小孔 5 メッキ金属 10 プリント基板 11 銅箔 12 下塗り剤 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Plated object 2 Plated composition 3 Filler 4 Micropores 5 Plated metal 10 Printed circuit board 11 Copper foil 12 Undercoat agent
─────────────────────────────────────────────────────
─────────────────────────────────────────────────── ───
【手続補正書】[Procedure amendment]
【提出日】平成5年4月19日[Submission date] April 19, 1993
【手続補正1】[Procedure Amendment 1]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】全文[Name of item to be corrected] Full text
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【書類名】 明細書[Document name] Statement
【発明の名称】 メッキ被着用組成物およびそれを用い
たメッキ方法Title: Composition to be plated and plating method using the same
【特許請求の範囲】[Claims]
【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】この発明は、メッキ被着用組成
物、およびその組成物を用いたメッキ方法に関するもの
である。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a composition to be plated and a plating method using the composition.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、プラスチックに対する無電解メッ
キは、熱可塑性プラスチックなどの各種のプラスチック
に対して検討されてきた。しかし、メッキの接着力が弱
く実用化が進んでいないが、ただ一つABS樹脂に対す
るものだけが実用化されている。その理由は、ABS樹
脂のブタジエン部の二重結合が酸処理によって侵されて
微小孔が形成され、その微小孔にメッキの金属が付着
し、金属と樹脂とが投錨効果により強固に接着するもの
と推定され、冷熱サイクルなどに十分に耐えることがで
きるからである。2. Description of the Related Art Conventionally, electroless plating for plastics has been studied for various plastics such as thermoplastics. However, although the adhesive strength of the plating is weak and it has not been put into practical use, only the one for ABS resin has been put into practical use. The reason is that the double bonds of butadiene et emission portion of the ABS resin is in micropores attacked by the acid treatment is formed, its the micropores plating of metal deposition, firmly bonded by the anchor effect and the metal and resin It is presumed that this will occur, and it is possible to sufficiently withstand a heat cycle and the like.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかし、ABS樹脂は
耐熱性に限界があり、100℃〜120℃以上の熱が加
わる場合の使用には耐えられないという問題があった。However, the ABS resin has a limit in heat resistance and has a problem that it cannot be used when heat of 100 ° C. to 120 ° C. or more is applied.
【0004】そこで、この問題を解決するために、エポ
キシ樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂をはじめ
とする耐熱性のプラスチックに対し、無電解メッキが試
みられている。しかし、耐熱性プラスチックに対しては
メッキ後の金属膜の接着力が弱く、実用に耐えられない
という問題があった。Therefore, in order to solve this problem, electroless plating has been attempted on heat-resistant plastics such as epoxy resin , phenol resin and polyester resin . However, there is a problem in that the metal film after plating has a weak adhesion to heat-resistant plastics and cannot be put to practical use.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】そこで、この問題を解決
するために、本発明者らは鋭意研究を重ねた結果、耐熱
性プラスチックに対して強度および耐久性に富むメッキ
膜を形成するためのメッキ被着用組成物を、以下のよう
に見出した。In order to solve this problem, the inventors of the present invention have conducted extensive studies and, as a result, have formed a plating film having high strength and durability on a heat-resistant plastic. The composition to be plated was found as follows.
【0006】すなわち、本発明のメッキ被着用組成物
は、反応基を有する樹脂100重量部中に充填剤として
粒子径が5μ以下の炭酸カルシウムまたは/および硫酸
バリウムを50重量部〜200重量部充填してなるもの
である。 Namely, main Tsu key object sealing composition of the present invention, the calcium carbonate particle size less 5μ as fillers in 100 parts by weight of the resin having a reactive group and / or sulfuric acid
Barium is made by filling 50 parts by weight to 200 parts by weight.
【0007】また、上記のメッキ被着用組成物を使用し
て、耐熱性のあるプラスチックに対して強度および耐久
性に富むメッキ膜を形成できるメッキ方法を、以下のよ
うに発明した。[0007] Also, using the above plating the sealing composition, a plating method capable of forming a plating film rich in strength and durability against the plastic having heat resistance, and invention as described below.
【0008】すなわち、本発明の第1のメッキ方法は、
上記のメッキ被着用組成物を、被メッキ物に塗布する塗
布処理工程と、その塗布したメッキ被着用組成物を重合
硬化する硬化処理工程と、その硬化したメッキ被着用組
成物中の充填剤を露出する表面処理工程と、その露出し
た充填剤を溶出する溶出処理工程と、その溶出処理後の
メッキ被着用組成物の表面に無電解メッキを施すメッキ
処理工程と、からなるものである。That is, the first plating method of the present invention is
The above main Tsu key object sealing composition, a coating process for coating the object to be plated, a curing treatment step of polymerizing and curing the coating to be worn composition thereof coated, the filling of the cured coating to be worn composition A surface treatment step for exposing the agent, an elution treatment step for eluting the exposed filler, and a plating treatment step for subjecting the surface of the composition to be plated after the elution treatment to electroless plating. ..
【0009】さらに、第2のメッキ方法は、第1のメッ
キ方法の全処理の工程後に、さらに被メッキ物を所定の
温度で所定時間に亘って加熱する加熱処理工程を加えた
ものである。Further, the second plating method is a method in which a heat treatment step of further heating the object to be plated at a predetermined temperature for a predetermined time is added after the steps of all the treatments of the first plating method.
【0010】次に、本発明のメッキ方法について、以下
に詳細に説明する。 Next, the plating method of the present invention will be described below.
Will be described in detail.
【0011】このメッキ方法で使用するメッキ被着用組
成物は、反応基を有する樹脂の基剤の他に、着色剤、充
填剤、分散剤、および粘度調製用の溶剤を含む。 Plated wear assembly used in this plating method
In addition to the resin base that has a reactive group,
It includes a filler, a dispersant, and a solvent for adjusting the viscosity.
【0012】基剤は、後述のように被メッキ物の材質と
同じものが好ましく、例えば耐熱性に富むエポキシ樹
脂、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン
樹脂などである。充填剤としては、炭酸カルシウム、ま
たは硫酸バリウムが好適であることを見出した。着色剤
としては例えばシアニングリーン、分散剤としては例え
ばポリエチレングリコールノニフェニルエーテル、粘度
調整用の溶剤としては例えばシクロヘキサノンである。 The base material is the same as the material to be plated as described later.
The same thing is preferable, for example, epoxy resin with high heat resistance
Fat, phenol resin, polyester resin, polyurethane
For example, resin. As the filler, calcium carbonate,
It has also been found that barium sulfate is suitable. Colorant
For example, cyanine green, for example as a dispersant
For example polyethylene glycol noniphenyl ether, viscosity
The solvent for adjustment is, for example, cyclohexanone.
【0013】[0013]
【作用】メッキ被着用組成物の発明では、充填剤として
炭酸カルシウムもしくは硫酸バリウムを使用する。これ
により無電解メッキによりメッキ層を形成する際に、ピ
ンホールのない均一かつ比較的厚いメッキ層が短時間に
でき、もってメッキ形成の経済性、効率性に寄与でき
る。In the invention of the composition to be plated, calcium carbonate or barium sulfate is used as the filler. As a result, when a plating layer is formed by electroless plating, a uniform and relatively thick plating layer without pinholes can be formed in a short time, which can contribute to the economical efficiency and efficiency of plating formation.
【0014】また、充填剤の粒子径を5μ以下にしたの
で、表面に露出した充填剤を処理液により溶出させる場
合に、充填剤を短時間に溶出できる。このように溶出が
容易であるため、特殊な溶出工程の必要がなく、従来の
周知の無電解メッキにおける通常の前処理工程(ソフト
エッチングなど)でも充填剤を充分溶出できる。加えて
本発明では、充填剤の溶出後にできる微小孔の大きさが
メッキ後の投錨効果の向上に寄与できると推察され、メ
ッキ膜の剥離強度の向上に寄与できる。Further, since the particle size of the filler is 5 μm or less, when the filler exposed on the surface is eluted with the treatment liquid, the filler can be eluted in a short time. Since the elution is easy as described above, a special elution step is not required and the filler can be sufficiently eluted even in the usual pretreatment step (soft etching etc.) in the conventional well-known electroless plating. In addition, in the present invention, it is presumed that the size of the micropores formed after the elution of the filler can contribute to the improvement of the anchoring effect after plating, which can contribute to the improvement of the peel strength of the plated film.
【0015】さらに、硬化したメッキ被着用組成物中に
充填剤を50重量部〜200重量部の割合で充填したの
で、充填剤の溶出後にできる微小孔の単位面積あたりの
密度が、適正になると推察される。従って、この微小孔
の密度の適正化により、メッキ後の投錨効果が向上し、
加熱下におけるメッキ層のふくれや密着不良の防止に寄
与できる。Furthermore, since the filler is filled in the cured composition to be plated on the basis of 50 parts by weight to 200 parts by weight , the density per unit area of the micropores formed after the elution of the filler becomes appropriate. Inferred. Therefore, by optimizing the density of the micro holes, the anchoring effect after plating is improved,
It can contribute to the prevention of blistering and poor adhesion of the plating layer under heating.
【0016】さらに加えて、上記のメッキ後の投錨効果
の向上により、メッキ層の熱膨脹や熱収縮が抑制される
ので、150℃〜−40℃の冷熱サイクルに耐え得る。In addition, since the anchoring effect after the plating is improved, the thermal expansion and the thermal contraction of the plating layer are suppressed, so that it is possible to endure the heat cycle of 150 ° C to -40 ° C.
【0017】次に、第1のメッキ方法の発明では、塗布
処理工程において上記のメッキ被着用組成物2を、被メ
ッキ物1に塗布する(図1(A)参照)。次の硬化処理
工程では、その塗布したメッキ被着用組成物2を重合硬
化すると、被メッキ物1とメッキ被着用組成物2とは強
固に結合する。さらに表面処理工程では、その硬化した
メッキ被着用組成物2中の充填剤3を物理的または化学
的な方法により露出する(図1(B)参照)。Next, in the invention of the first plating method, the above-mentioned composition to be plated 2 is applied to the object to be plated 1 in the coating treatment step (see FIG. 1 (A)). In the subsequent curing treatment step, when the applied coating composition 2 is polymerized and cured, the plating object 1 and the plating composition 2 are firmly bonded. Further, in the surface treatment step, the filler 3 in the cured coating composition 2 is exposed by a physical or chemical method (see FIG. 1 (B)).
【0018】引き続き、溶出処理工程では、その露出し
た充填剤3を溶出する。充填剤3が溶出除去されたあと
には、空洞として充填剤3の微粒子の形状に対応した多
数の微小孔4が得られる(図1(C)参照)。Subsequently, in the elution processing step, the exposed filler 3 is eluted. After the filler 3 is eluted and removed, a large number of micropores 4 corresponding to the shape of the fine particles of the filler 3 are obtained as cavities (see FIG. 1C).
【0019】次のメッキ処理工程では、上記の状態のメ
ッキ被着用組成物2の表面に無電解メッキを施す。この
処理工程で、メッキ金属5がメッキ被着用組成物2の多
数の微小孔4の中に侵入するとともに、メッキ被着用組
成物2の表面上にメッキ層が均一の厚さに形成されてい
く。無電解メッキが完了すると、投錨効果により被メッ
キ物1上にメッキ膜が一体的に接合される(図1(D)
参照)。In the next plating step, electroless plating is applied to the surface of the composition 2 to be plated in the above state. In this treatment step, the plating metal 5 penetrates into the many micropores 4 of the composition to be plated 2, and a plating layer is formed on the surface of the composition to be plated 2 with a uniform thickness. .. When the electroless plating is completed, the plating film is integrally joined to the object to be plated 1 by the anchoring effect (Fig. 1 (D)).
reference).
【0020】このようにして得られたメッキ物では、メ
ッキ被着用組成物2における充填剤3の溶出後に得られ
る多数の微小孔4が、メッキ後の投錨効果の向上に寄与
できる適正な大きさと推察され、メッキ膜の剥離強度の
向上が図れる。In the plated product thus obtained, the large number of micropores 4 obtained after the elution of the filler 3 in the composition 2 to be plated has an appropriate size capable of contributing to the anchoring effect after plating. It is presumed that the peel strength of the plated film can be improved.
【0021】さらに、重合硬化した高分子中に充填剤3
を50重量部〜200重量部の割合で充填してあるの
で、その充填剤3の溶出後にできる微小孔4の単位面積
あたりの密度が、適正になると推察される。従って、こ
の微小孔4の密度の適正化により、メッキ後の投錨効果
が向上し、加熱下におけるメッキ層のふくれや密着不良
の防止が図れる。Further, the filler 3 is added to the polymer which is polymerized and cured.
It is presumed that the density per unit area of the micropores 4 formed after the elution of the filler 3 is appropriate, since it is filled at a ratio of 50 parts by weight to 200 parts by weight . Therefore, by optimizing the density of the fine holes 4, the anchoring effect after plating is improved, and it is possible to prevent swelling and poor adhesion of the plated layer under heating.
【0022】さらに加えて、上記のメッキ後の投錨効果
の向上により、メッキ層の熱膨脹や熱収縮が抑制される
ので、150℃〜−40℃の冷熱サイクルに耐え得るよ
うになる。In addition, the thermal expansion and contraction of the plated layer is suppressed by the improvement of the anchoring effect after the plating described above, so that it becomes possible to endure the heat cycle of 150 ° C to -40 ° C.
【0023】次に第2のメッキ方法の発明は、第1のメ
ッキ方法の発明の全処理の工程後に、さらに被メッキ物
を所定の温度で所定時間に亘って加熱する加熱処理工程
を加えたものである。この加熱処理工程を加えることに
より、被メッキ物とメッキ層との分子間距離が短縮し、
2次結合力が増加し両者の接合がより強固となる。 Next, in the invention of the second plating method, after the steps of all the treatments of the invention of the first plating method, a heat treatment step of further heating the object to be plated at a predetermined temperature for a predetermined time is added. It is a thing. By adding this heat treatment step, the intermolecular distance between the object to be plated and the plating layer is shortened,
The secondary bonding force increases, and the bonding between the two becomes stronger .
【0024】[0024]
【実施例】 【Example】
【表1】 次に、表1に示すとおりの基剤、着色剤、充填剤、分散
剤、および粘度調製用溶剤を表1の重量比に計量したの
ち攪拌容器に入れて攪拌機で攪拌して、メッキ被着用組
成物を作成する。攪拌機の回転速度は1200rpm
で、攪拌時間は3時間〜6時間とする。 [Table 1] Next, the base, colorant, filler, dispersant, and viscosity adjusting solvent as shown in Table 1 were weighed in the weight ratio shown in Table 1, put in a stirring container and stirred by a stirrer to be plated. Create a composition. The rotation speed of the stirrer is 1200 rpm
The stirring time is 3 hours to 6 hours.
【0025】さらに、このように作成したメッキ被着用
組成物を100に対し、所定の硬化剤(例えば変性アミ
ン)を12の重量比で添加して充分攪拌し、硬化剤入り
メッキ被着用組成物を作成する。そして、メッキの対象
である被メッキ物として、耐熱性に富むプラスチックの
中から例えばエポキシ樹脂からなりその表面に銅箔回路
11が付いたプリント基板10を用意する。Further, a predetermined curing agent (for example, modified amine) is added in a weight ratio of 12 to 100 of the coating composition thus prepared and sufficiently stirred, and the coating composition containing the curing agent is added. To create. Then, as an object to be plated, a printed circuit board 10 having a copper foil circuit 11 on the surface thereof is prepared from a plastic having high heat resistance, for example, an epoxy resin.
【0026】そして、用意したプリント基板10の表面
のX軸方向にスクリーン印刷にて、下塗り剤12として
まず粘度調整してメッキ被着用組成物2と同系列の組成
物に所定の硬化剤を加え、均一かつ所定の厚さに塗布す
る。塗布後、その下塗り剤12を150°Cの温度の下
で30分間に亘って乾燥して硬化させる。しかる後、上
記の硬化剤入りのメッキ被着用組成物2を、前記プリン
ト基板10の表面のY軸方向にスクリーン印刷にて、均
一かつ所定の厚さに塗布する。その塗布後、メッキ被着
用組成物2を150°Cの温度の下で30分間に亘って
乾燥して硬化させる。その結果、図2の(A)で示すよ
うに、プリント基板10とメッキ被着用組成物2とは強
固に結合する。このときの、下塗り剤12の厚さは20
〜30μ程度が好ましく、メッキ被着用組成物2の厚さ
は20〜30μ程度が好ましい。[0026] Then, in the X-axis direction in the screen printing of the surface of the printed circuit board 10 which is prepared, a predetermined curing agent is first adjusted viscosity to the compositions of the same series and plating the sealing composition 2 as a primer 12 In addition , it is applied to a uniform and predetermined thickness. After application, the primer 12 is dried and cured at a temperature of 150 ° C. for 30 minutes. After that, the above-mentioned plating adhered composition 2 containing a curing agent is applied to the surface of the printed circuit board 10 in the Y-axis direction by screen printing to a uniform and predetermined thickness. After the application, the composition 2 to be plated is dried and cured at a temperature of 150 ° C. for 30 minutes. As a result, as shown in FIG. 2 (A), the printed board 10 and the composition to be plated 2 are firmly bonded. At this time, the thickness of the undercoating agent 12 is 20
˜30 μm is preferable, and the thickness of the composition to be plated 2 is preferably 20 to 30 μm.
【0027】上記のように、下塗り剤12を下塗りする
と、銅箔回路11との密着性が向上し、かつ回路の絶縁
性が確保できる。さらに、下塗り剤12をプリント基板
10のX軸方向にスクリーン印刷にて塗布したのち、メ
ッキ被着用組成物2をプリント基板10のY軸方向にス
クリーン印刷にて塗布するようにしたので、ピンホール
の発生を防止できるとともに、塗布表面の平滑化が図れ
る。As described above, when the undercoating agent 12 is undercoated, the adhesion with the copper foil circuit 11 is improved, and the insulation of the circuit can be secured. Furthermore, since the undercoating agent 12 is applied by screen printing in the X-axis direction of the printed circuit board 10, the composition 2 to be plated is applied by screen printing in the Y-axis direction of the printed circuit board 10. Can be prevented, and the coated surface can be smoothed.
【0028】このようにしてメッキ被着用組成物2の硬
化が終了すると、引き続き、その硬化したメッキ被着用
組成物2中の充填剤3を露出すると、図2の(B)で示
すようになる。この充填剤3の露出は、メッキ被着用組
成物2の表面をバフ研磨することにより行うのが一般的
だが、その表面処理は他の物理的または化学的な研磨で
もよい。When the curing of the composition 2 to be plated is completed in this way and the filler 3 in the cured composition 2 to be plated is subsequently exposed, it becomes as shown in FIG. 2 (B). .. The filler 3 is generally exposed by buffing the surface of the composition 2 to be plated, but the surface treatment may be other physical or chemical polishing.
【0029】次に、通常の無電解メッキ処理の前処理、
すなわち、クリーナコンディショナ、湯洗い、水洗い、
ソフトエッチング、水洗い、酸活性、水洗いなどの各処
理を順次行うが、ソフトエッチングに利用される過硫酸
ソーダ、酸活性に利用される粗製硫酸などにより、その
露出した多数の充填剤3は溶出され、図2の(C)で示
すようになる。このようにして充填剤3が溶出除去され
たあとには、充填剤3の微粒子の形状に対応した多数の
微小孔4の空洞が得られる。Next, the pretreatment of the usual electroless plating treatment,
In other words, cleaner conditioner, hot water wash, water wash,
Each treatment such as soft etching, washing with water, acid activation, and washing with water is sequentially performed, but the exposed large number of fillers 3 are eluted by sodium persulfate used for soft etching and crude sulfuric acid used for acid activation. , As shown in FIG. After the filler 3 is eluted and removed in this way, a large number of cavities of micropores 4 corresponding to the shape of the fine particles of the filler 3 are obtained.
【0030】引き続き、上記の状態にあるメッキ被着用
組成物2の表面に金、銀、銅、ニッケル、亜鉛などの無
電解メッキを施す。無電解メッキ液として、ここではシ
ープレットジャパン株式会社の商品番号「328A」を
使用し、メッキ条件は、メッキ温度が19℃〜22℃の
下でメッキ時間は20分とする。Subsequently, electroless plating of gold, silver, copper, nickel, zinc or the like is applied to the surface of the composition 2 to be plated in the above state. As the electroless plating solution, product number “328A” of Secret Japan Co., Ltd. is used here, and the plating condition is that the plating temperature is 19 ° C. to 22 ° C. and the plating time is 20 minutes.
【0031】この無電解メッキ処理工程により、メッキ
金属5がメッキ被着用組成物2の無数の微小孔4の中ま
で侵入するとともに、メッキ被着用組成物2の表面上に
メッキ層が均一に形成されていく。By this electroless plating treatment step, the plating metal 5 penetrates into the innumerable micropores 4 of the composition 2 to be plated, and a plating layer is uniformly formed on the surface of the composition 2 to be plated. Will be done.
【0032】無電解メッキが終了すると、図2の(D)
で示すように所定の厚さの、メッキ膜が形成される。次
に、水洗い、乾燥、酸活性、水洗いの各工程をこの順序
で順次経たのち、電気メッキを行う。この電気メッキ
は、従来と同様に例えば硫酸銅五水塩などの薬品を使用
し、そのメッキ条件は、温度が22℃〜28℃の下でメ
ッキ時間は50〜70分とする。そして、電気メッキが
終了後は、防錆、乾燥の各処理を行って、全工程を終了
する。When the electroless plating is completed, FIG.
As shown by, a plating film having a predetermined thickness is formed. Next, after each step of washing with water, drying, acid activation, and washing with water in this order, electroplating is performed. This electroplating uses a chemical such as copper sulfate pentahydrate as in the conventional case, and the plating condition is that the temperature is 22 ° C. to 28 ° C. and the plating time is 50 to 70 minutes. Then, after the electroplating is finished, each process of rust prevention and drying is performed, and the whole process is finished.
【0033】このようにメッキ被着用組成物2を塗布
し、メッキ処理した後、そのメッキ層を回路パターンに
エッチングすることにより、メッキ被着用組成物2を絶
縁層とする多層のプリント基板ができるが、上記のよう
にメッキ被着用組成物2をプリント基板の銅箔表面全体
に塗布せずに選択的に塗布すれば、塗布しないラウンド
部分は下層の銅箔と直接接続され、スルーホールするこ
となく層間導通ができる。Thus, the composition to be plated 2 is applied, and after the plating treatment, the plated layer is etched into a circuit pattern to obtain a multilayer printed board having the composition 2 to be plated as an insulating layer. However, if the plating adhered composition 2 is selectively applied without being applied to the entire surface of the copper foil of the printed circuit board as described above, the uncoated round portion is directly connected to the underlying copper foil to form a through hole. There is no inter-layer conduction.
【0034】以上の処理により、本発明メッキ方法を実
施するのであるが、メッキ状態を比較するために、表2
で示すような比較試験を行った。すなわち、この比較試
験は、メッキ被着用組成物については表1の組成どおり
とし、充填剤についてのみ、その種類と平均粒子径を変
え、他は上記と同じ工程によりメッキを行った。その結
果を表2に示す。[0034] By the above processing, although the practice of the present invention a plating method, in order to compare the plating state, Table 2
A comparative test as shown in FIG. That is, this comparative study, for plating the sealing composition and exactly the composition of Table 1, the only filler, changing the average particle size and its kind, others were plated in the same process as described above. The results are shown in Table 2.
【0035】 [0035]
【表2】 表2において、形成メッキ層の厚さは、形成後のメッキ
層を剥離してその厚さをマイクロメータで測定した。剥
離強さは、形成後のメッキ層を25mm幅で帯状にカッ
ターナイフでカットし、その一部を引張り試験機により
強制的に180度方向に剥離する。このときの、引張り
速度は50mm/minとする。また表面状態の観察
は、メッキ表面の光沢を肉眼で観察し、良好なものを
「A」とし、乱反射が認められるものを「B」とした。
さらにピンホールの有無は、剥離したメッキ層を30倍
の顕微鏡で観察し、ピンホールの有無を検査した。 [Table 2] In Table 2, the thickness of the formed plated layer was measured by peeling off the formed plated layer and measuring the thickness with a micrometer. With respect to the peeling strength, the plated layer after formation is cut into a strip having a width of 25 mm with a cutter knife, and a part thereof is forcibly peeled in the direction of 180 ° by a tensile tester. At this time, the pulling speed is 50 mm / min. For the observation of the surface condition, the gloss of the plated surface was observed with the naked eye, "A" was good and "B" was diffuse reflection.
Further, the presence or absence of pinholes was examined by observing the peeled plating layer with a microscope of 30 times and inspecting the presence or absence of pinholes.
【0036】この表2から、形成されたメッキ層の厚
さ、メッキ層の剥離強度、メッキの表面状態、およびピ
ンホールの発生の有無をそれぞれ比較すると、充填剤と
して炭酸カルシウムと硫酸バリウムが優れていることが
わかった。すなわち、充填剤の種類として炭酸カルシウ
ムまたは硫酸バリウムを選択すると、ピンホールのない
均一かつ比較的厚いメッキ層が短時間にでき、もって効
率的、経済的である(表2参照)。From Table 2, comparing the thickness of the formed plating layer, the peeling strength of the plating layer, the surface condition of the plating, and the presence or absence of pinholes, calcium carbonate and barium sulfate are excellent as the fillers. I found out. That is, when calcium carbonate or barium sulfate is selected as the type of filler, a uniform and relatively thick plating layer without pinholes can be formed in a short time, which is efficient and economical (see Table 2).
【0037】また、炭酸カルシウムまたは/および硫酸
バリウムはその平均粒子径が5.0μ以下、好ましくは
1.5μ以下が良いことがわかった。その理由は、熱硬
化させたメッキ被着用組成物中の充填剤を表面に露出さ
せて処理液により溶出させる場合に、充填剤を処理液に
より短時間で完全に溶出できる上に、通常のメッキ工程
の前処理の過程で溶出可能となるからである。それと同
時に、その充填剤の溶出後にできる微小孔の大きさが、
メッキ後の投錨効果の向上に寄与できると推察され、メ
ッキ膜の剥離強度が表2で示すように向上するからであ
る(表2参照)。It was also found that calcium carbonate and / or barium sulfate has an average particle size of 5.0 μm or less, preferably 1.5 μm or less. The reason for this is that when the filler in the heat-cured composition to be plated is exposed on the surface and eluted by the treatment liquid, the filler can be completely eluted by the treatment liquid in a short time, and the ordinary plating can be performed. This is because elution becomes possible during the pretreatment process. At the same time, the size of the micropores formed after the elution of the filler is
It is presumed that it can contribute to the improvement of the anchoring effect after plating, and the peeling strength of the plating film is improved as shown in Table 2 (see Table 2).
【0038】表2の比較試験では、メッキ被着用組成物
の充填剤として、炭酸カルシウム、または硫酸バリウム
が優れていることがわかり、その好適な平均粒子径も特
定できた。しかし、充填剤のメッキ被着用組成物中に占
める炭酸カルシウム、または硫酸バリウムの最適な混合
比(重量比)を見出すために、次に表3で示すような比
較試験を実施した。In the comparative test shown in Table 2, it was found that calcium carbonate or barium sulfate was excellent as the filler for the composition to be plated, and its suitable average particle size could be specified. However, in order to find out the optimum mixing ratio (weight ratio) of calcium carbonate or barium sulfate occupying in the composition to be plated with the filler, a comparative test as shown in Table 3 was performed.
【0039】[0039]
【表3】 この比較試験は、試料の充填剤が炭酸カルシウムの場合
にはその平均粒子径を0.8μとし、試料の充填剤が硫
酸バリウムの場合にはその平均粒子径を1.0μとし、
その添加量を30重量部,50重量部,100重量部,
150重量部,200重量部,230重量部,250重
量部のように変化させて行った。なお、各試料における
充填剤以外の成分、すなわち基剤、着色剤、分散剤、お
よび粘度調製用溶剤の各物質およびそれらの混合比は、
表1と同様である。[Table 3] In this comparative test, when the sample filler is calcium carbonate, the average particle size is 0.8μ, and when the sample filler is barium sulfate, the average particle size is 1.0μ,
30 parts by weight of the addition amount, 50 parts by weight, 100 parts by weight,
150 parts by weight , 200 parts by weight , 230 parts by weight , 250 parts by weight
It was carried out by changing like the quantity part. The components other than the filler in each sample, that is, the base, the colorant, the dispersant, and the substances for the viscosity adjusting solvent, and their mixing ratios,
The same as in Table 1.
【0040】次に、この比較試験の結果から、形成され
たメッキ層の厚さ、メッキ膜の剥離強度、メッキの表面
状態、およびピンホールの発生の有無を各試料について
比較すると、炭酸カルシウムの場合も硫酸バリウムの場
合も、重量比が50部以上が実用に供することがわか
る。Next, from the results of this comparative test, the thickness of the formed plating layer, the peeling strength of the plating film, the surface condition of the plating, and the presence or absence of pinholes were compared for each sample. In both the case and barium sulfate, it can be seen that a weight ratio of 50 parts or more is put to practical use.
【0041】しかし、充填剤の重量比が200部を越え
ると、メッキの剥離強度が低下しメッキ被着用組成物の
凝集破壊を呈すると同時に、脆くなって被膜適性が低下
する。しかも、重量比が200部を越えると、メッキ被
着用組成物の作成時に混合しにくくなってその製造が困
難になるという問題もある。However, if the weight ratio of the filler exceeds 200 parts, the peeling strength of the plating is reduced and the composition to be plated is cohesively destroyed, and at the same time, it becomes brittle and the suitability of the coating is deteriorated. Moreover, if the weight ratio exceeds 200 parts, there is a problem in that it is difficult to mix the composition to be plated when it is prepared, and the production thereof becomes difficult.
【0042】従って、本発明のメッキ方法に使用するメ
ッキ被着用組成物の充填剤は、炭酸カルシウムの場合も
硫酸バリウムの場合も、いずれもその添加量が50重量
部〜200重量部の範囲が最適であることがわかった。
その理由は充填剤の溶出後の空洞である微小孔の単位面
積あたりの密度が適正になると推察される。従って、こ
の微小孔の適正な密度により、メッキ後の投錨効果が向
上し、加熱下におけるメッキ層のふくれや密着不良の防
止が図れ、もって、熱衝撃強さが大幅に改善できる。Therefore, the filler of the composition to be plated to be used in the plating method of the present invention is 50 parts by weight to 200 parts by weight in both calcium carbonate and barium sulfate. The range of parts was found to be optimal.
It is presumed that the reason is that the density per unit area of the micropores, which are cavities after elution of the filler, is appropriate. Therefore, the proper density of the micropores improves the anchoring effect after plating, and can prevent swelling and poor adhesion of the plated layer under heating, thus greatly improving the thermal shock strength.
【0043】さらに、上記のメッキ後の投錨効果の向上
により、メッキ層の熱膨脹および熱収縮が抑制されるの
で、150℃〜−40℃の冷熱サイクルに耐え得るよう
になる。Further, since the anchoring effect after plating is improved, the thermal expansion and the thermal contraction of the plated layer are suppressed, so that it becomes possible to endure the heat cycle of 150 ° C to -40 ° C.
【0044】次に、本発明のメッキ方法における他の実
施例について説明する。Next, another embodiment of the plating method of the present invention will be described.
【0045】この実施例は、上記の実施例の各処理の後
に、さらにプリント基板10を所定の温度(例えば15
0°C)の下で、所定時間(例えば30分)に亘って加
熱する加熱処理を加えるものである。In this embodiment, the printed circuit board 10 is further heated to a predetermined temperature (for example, 15) after each processing of the above embodiments.
The heating treatment is performed by heating at 0 ° C. for a predetermined time (for example, 30 minutes).
【0046】このように加熱処理を加えた場合には、メ
ッキ層の剥離強度が、表2および表3で示すように、加
熱処理を加えない場合に比べて向上することがわかる。
その理由は、加熱処理を加えると、プリント基板10と
メッキ層との分子間距離が短縮し、2次結合力が増加し
て両者の接合がより強固になるからであると推察され
る。As shown in Tables 2 and 3, it can be seen that the peel strength of the plated layer is improved when the heat treatment is applied as compared with the case where the heat treatment is not applied.
It is presumed that the reason is that when heat treatment is applied, the intermolecular distance between the printed board 10 and the plating layer is shortened, the secondary bonding force is increased, and the bonding between the two becomes stronger.
【0047】以上は本発明のメッキ方法をプリント基板
に適用した場合である。しかし、このメッキ方法に適用
できる被メッキ物としては、上記のプリント基板のほか
に、電磁シールド用の素材、加飾用の製品などの耐熱性
を要する分野に広く適用が可能である。The above is the case where the plating method of the present invention is applied to a printed circuit board. However, as an object to be plated that can be applied to this plating method, in addition to the above-mentioned printed circuit board, it can be widely applied to a field requiring heat resistance such as a material for an electromagnetic shield and a product for decoration.
【0048】[0048]
【発明の効果】以上のようにメッキ被着用組成物の発明
では、充填剤として炭酸カルシウムまたは/および硫酸
バリウムを採用したので、メッキ層を形成する際に、均
一なメッキが短時間にでき、もってメッキ形成時の効率
性、経済性に寄与できる。As described above, in the invention of the composition to be coated with plating, since calcium carbonate or / and barium sulfate is used as the filler, uniform plating can be performed in a short time when the plating layer is formed, Therefore, it can contribute to the efficiency and economy of plating formation.
【0049】また、その充填剤の粒子径を5μ以下にし
たので、熱硬化させた充填剤を表面に露出させて処理液
により溶出させる場合に、充填剤を処理液により短時間
に完全に溶出でき、効率的である。それと同時に、その
充填剤の溶出後にできる微小孔の大きさがメッキ後の投
錨効果の向上に寄与できると推察され、メッキ膜の剥離
強度の向上に寄与できる。Further, since the particle size of the filler is set to 5 μm or less, when the heat-cured filler is exposed on the surface and eluted with the treatment liquid, the filler is completely eluted with the treatment liquid in a short time. Yes, it is efficient. At the same time, it is presumed that the size of the micropores formed after the elution of the filler can contribute to the improvement of the anchoring effect after plating, which can contribute to the improvement of the peel strength of the plated film.
【0050】さらに、充填剤を50重量部〜200重量
部の割合で充填した組成物は、その充填剤の溶出後にで
きる微小孔の単位面積あたりの密度が適正になると推察
される。従って、微小孔の密度の適正化により、メッキ
後の投錨効果が向上し、加熱下におけるメッキ層のふく
れや密着不良の防止に寄与できる。Further, it is assumed that the composition filled with the filler at a ratio of 50 parts by weight to 200 parts by weight has an appropriate density per unit area of the micropores formed after elution of the filler. .. Therefore, by optimizing the density of the micropores, the anchoring effect after plating is improved, which can contribute to the prevention of blistering and poor adhesion of the plating layer under heating.
【0051】さらに加えて、上記のメッキ後の投錨効果
の密度の向上により、メッキ層の熱膨脹および熱収縮が
抑制されるので、150℃〜−40℃の冷熱サイクルに
耐え得る。In addition, since the thermal expansion and the thermal contraction of the plating layer are suppressed by the improvement of the density of the anchoring effect after the plating, the thermal cycle of 150 ° C. to −40 ° C. can be endured.
【0052】次に、第1のメッキ方法の発明によれば、
耐熱性のあるプラスチックに対して、ピンホールのない
均一かつ比較的厚いメッキ層が短時間にでき、効率的、
経済的である。Next, according to the invention of the first plating method,
For heat-resistant plastic, a uniform and relatively thick plating layer without pinholes can be formed in a short time,
It is economical.
【0053】しかも、その形成されたメッキ層は、投錨
効果の向上によりメッキ膜の剥離強度が向上する上に、
投錨効果の向上により加熱下におけるメッキ層のふくれ
や密着不良の防止が図れる。さらに、その投錨効果の向
上により、メッキ層の熱膨脹および熱収縮が抑制される
ので、150℃〜−40℃の冷熱サイクルに耐え得る。
したがって、耐熱性プラスチックに対して実用に耐え得
るメッキ層の形成ができる。Moreover, the formed plating layer improves the peeling strength of the plating film due to the improved anchoring effect.
By improving the anchoring effect, it is possible to prevent swelling and poor adhesion of the plating layer under heating. Further, since the anchoring effect is improved, the thermal expansion and the thermal contraction of the plating layer are suppressed, so that the plating layer can withstand the heat cycle of 150 ° C to -40 ° C.
Therefore, it is possible to form a plating layer that can be practically used for heat-resistant plastic.
【0054】次に第2のメッキ方法の発明では、第1の
メッキ方法の発明の各処理の後に、さらに被メッキ物を
所定の温度で所定時間に亘って加熱する加熱処理を加え
たので、被メッキ物とメッキ層との分子間距離が短縮
し、2次結合力が増大して両者の接合がより強固となっ
てさらにメッキの接合強度が向上する。Next, in the second plating method invention, after each treatment of the first plating method invention, a heating treatment for further heating the object to be plated at a predetermined temperature for a predetermined time is added. The intermolecular distance between the object to be plated and the plating layer is shortened, the secondary bonding force is increased, the bond between the two becomes stronger, and the bond strength of the plating is further improved.
【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]
【図1】本発明のメッキ方法を説明する工程図である。FIG. 1 is a process diagram illustrating a plating method of the present invention.
【図2】本発明のメッキ方法をプリント基板に適用した
場合の工程図である。FIG. 2 is a process diagram when the plating method of the present invention is applied to a printed circuit board.
【符号の説明】 1 被メッキ物 2 メッキ被着用組成物 3 充填剤 4 微小孔 5 メッキ金属 10 プリント基板 11 銅箔 12 下塗り剤[Explanation of symbols] 1 plated object 2 plated coated composition 3 filler 4 micropores 5 plated metal 10 printed circuit board 11 copper foil 12 undercoating agent
Claims (4)
径が5μ以下の炭酸カルシウムを50部〜200部充填
してなるメッキ被着用組成物。1. A composition to be plated, which comprises 50 to 200 parts of calcium carbonate having a particle size of 5 μm or less as a filler in a resin having a reactive group.
径が5μ以下の硫酸バリウムを50部〜200部充填し
てなるメッキ被着用組成物。2. A plating adhered composition obtained by filling 50 to 200 parts of barium sulfate having a particle size of 5 μm or less as a filler in a resin having a reactive group.
着用組成物を、被メッキ物に塗布する塗布処理工程と、 その塗布したメッキ被着用組成物を重合硬化する硬化処
理工程と、 その硬化したメッキ被着用組成物中の充填剤を露出する
表面処理工程と、 その露出した充填剤を溶出する溶出処理工程と、 その溶出処理後のメッキ被着用組成物の表面に無電解メ
ッキを施すメッキ処理工程と、 からなるメッキ被着用組成物を用いたメッキ方法。3. A coating treatment step of applying the composition to be plated according to claim 1 or 2 to an article to be plated, and a curing treatment step of polymerizing and curing the composition to be plated. A surface treatment step of exposing the filler in the cured plating adhered composition, an elution treatment step of eluting the exposed filler, and electroless plating on the surface of the plated adhered composition after the elution treatment. And a plating method using a composition to be plated, which comprises:
着用組成物を、被メッキ物に塗布する塗布処理工程と、 その塗布したメッキ被着用組成物を重合硬化する硬化処
理工程と、 その硬化したメッキ被着用組成物中の充填剤を露出する
表面処理工程と、 その露出した充填剤を溶出する溶出処理工程と、 その溶出処理後のメッキ被着用組成物の表面に無電解メ
ッキを施すメッキ処理工程と、 そのメッキ処理を施した被メッキ物を所定の温度で所定
時間に亘って加熱する加熱処理工程と、 からなるメッキ被着用組成物を用いたメッキ方法。4. A coating treatment step of applying the plating adhered composition according to claim 1 or 2 to an object to be plated, and a curing treatment step of polymerizing and curing the applied plated adherence composition. A surface treatment step of exposing the filler in the cured plating adhered composition, an elution treatment step of eluting the exposed filler, and electroless plating on the surface of the plated adhered composition after the elution treatment. A plating method using a composition to be plated, comprising: a plating treatment step to be performed; and a heating treatment step to heat the plating subject to the plating treatment at a predetermined temperature for a predetermined time.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6905492A JPH05230276A (en) | 1992-02-18 | 1992-02-18 | Composition applied to article to be plated and method for plating therewith |
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JP6905492A JPH05230276A (en) | 1992-02-18 | 1992-02-18 | Composition applied to article to be plated and method for plating therewith |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JPH05230276A true JPH05230276A (en) | 1993-09-07 |
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ID=13391474
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JP (1) | JPH05230276A (en) |
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