JPH05226776A - Laser diode array - Google Patents

Laser diode array

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JPH05226776A
JPH05226776A JP4069697A JP6969792A JPH05226776A JP H05226776 A JPH05226776 A JP H05226776A JP 4069697 A JP4069697 A JP 4069697A JP 6969792 A JP6969792 A JP 6969792A JP H05226776 A JPH05226776 A JP H05226776A
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JP
Japan
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active layer
laser
activating layer
conducting path
adjacent
Prior art date
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JP4069697A
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Japanese (ja)
Inventor
Masahiro Hibino
政博 日比野
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To suppress temperature increase and prevent laser performance deterioration by providing a wave conducting path which does not perform laser beam oscillation adjacent to an activating layer in the same shape as the activating layer and arranging the wave conducting path and the activating layer so as not to be next to each other in the adjacent laser diode. CONSTITUTION:The size of a wave conducting path 11 arranged adjacent to an activating layer 2 is the same as that of the activating layer 2. A half of the area of the activating layer 2 of the conventional LD array is replaced by the wave conducting path 11 and the activating layer 2 and the wave conducting path 11 are arranged so as not to be next to each other in the adjacent LD. As for the structure of the LD, for example, the activating layer 2 is constituted of a multi-quantum well and impurity diffusion is performed on a part equivalent to the wave conducting path 11 in the activating layer 2 or thermally disordering is performed on the part using fine laser beams, etc., and the wave conducting path is formed in the activating layer 2. Since the wave conducting path 11 is an inactive area, heat is not generated by the current concentration.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、レーザダイオードア
レイに関し、特に同一チップ上に複数のレーザダイオー
ドを配置したレーザダイオードアレイの熱特性の改善を
行ったものに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a laser diode array, and more particularly to a laser diode array in which a plurality of laser diodes are arranged on the same chip with improved thermal characteristics.

【0002】[0002]

【従来の技術】図3は、従来のレーザダイオード(以下
LDと略す)アレイのチップ配置を示す図であり、図に
おいて、1はチップであり,2はこのチップ1上に形成
された複数のLDの活性層であり、該活性層2ではキャ
リアが閉じ込められ、そこで該キャリアが再結合するこ
とによってレーザ光を生ずる。3aおよび3bは互いに
平行に対向して設けられた反射鏡であり、活性層2で生
じたレーザ光を該反射鏡3a,3b間で反射させて、レ
ーザ光を発振する共振器を構成している。4は反射鏡3
を通過して、各LDの外部に出力されるレーザ光(ピッ
チL)を表わす。なお、該図3に示す従来のLDアレイ
は、同一構造のLDを所望の個数、一列に並べたもので
あり、これにより、ピッチLのレーザ光を所望の本数だ
け出力することができる。
2. Description of the Related Art FIG. 3 is a diagram showing a chip arrangement of a conventional laser diode (hereinafter abbreviated as LD) array, in which 1 is a chip and 2 are a plurality of chips formed on the chip 1. This is the active layer of the LD, and carriers are confined in the active layer 2, where the carriers recombine to generate laser light. Reference numerals 3a and 3b denote reflecting mirrors provided in parallel to each other, and form a resonator that oscillates the laser light by reflecting the laser light generated in the active layer 2 between the reflecting mirrors 3a and 3b. There is. 4 is a reflector 3
Represents the laser light (pitch L) that is output to the outside of each LD after passing through. In the conventional LD array shown in FIG. 3, a desired number of LDs having the same structure are arranged in a line, whereby a desired number of laser beams having a pitch L can be output.

【0003】図4は、従来のLDアレイにおける各LD
の断面構造を示す図であり、ここでは、上記図3に示す
AB断面の一部を拡大して示しており、図中、図3と同
一符号は同一または相当部分を示す。図4において、5
はLDの基板、6は活性層2の両側に形成された電流ブ
ロック層であり、活性層2に効率良く電流を流すために
電流狭窄を行う。7はコンタクト層、8はコンタクト層
7上に設けられた電極、9は基板5側に設けられ、隣合
うLDと共通に基板5の下に設けられた共通電極、10
はLDアレイ中の各LDを個々のLDに分離するための
素子分離溝である。
FIG. 4 shows each LD in a conventional LD array.
4 is a diagram showing a sectional structure of FIG. 3, in which a part of the AB cross section shown in FIG. 3 is enlarged and shown, and the same reference numerals as those in FIG. 3 indicate the same or corresponding portions. In FIG. 4, 5
Is a substrate of the LD, and 6 is a current blocking layer formed on both sides of the active layer 2, and performs current confinement in order to efficiently flow a current to the active layer 2. Reference numeral 7 is a contact layer, 8 is an electrode provided on the contact layer 7, 9 is a common electrode provided on the substrate 5 side and provided under the substrate 5 in common with an adjacent LD, 10
Is an element isolation groove for separating each LD in the LD array into individual LDs.

【0004】次に動作について説明する。電極8,共通
電極9間に順方向電圧を加えることにより、活性層2に
電流が流れ込み、ここに、電流を集中させてキャリアを
閉じ込めるとともに光も閉じ込め、共振器を構成する反
射鏡3a,3b間でレーザ光を反射させて発振させ、最
終的に反射鏡3bを通過させてLD外部へレーザ光を放
出する。ここで、電極8および共通電極9は、電流供給
用の電極であり、発生した電流は導波路を通り活性層2
へ達する。このとき、電流ブロック層6は活性層2へ電
流を効率良く集中させる為の絶縁層となっており、これ
により、小さな入力電流でもLDのレーザ出力を確保す
るようにし、LDのレーザ出力特性の向上を図ることが
できるようになっている。
Next, the operation will be described. When a forward voltage is applied between the electrode 8 and the common electrode 9, a current flows into the active layer 2, and the current is concentrated in the active layer 2 to confine carriers and light, thereby forming a resonator. The laser light is reflected and oscillated between them, and finally passes through the reflecting mirror 3b to emit the laser light to the outside of the LD. Here, the electrode 8 and the common electrode 9 are electrodes for supplying a current, and the generated current passes through the waveguide and the active layer 2
Reach At this time, the current blocking layer 6 serves as an insulating layer for efficiently concentrating the current to the active layer 2, so that the laser output of the LD can be secured even with a small input current, and the laser output characteristic of the LD can be secured. It is possible to improve.

【0005】このように、LDが動作する際には電流が
活性層2付近に集中するので、発熱量は活性層2の周辺
が最も多く、高温になる部分でもある。図5は、単体L
Dの入力電流に対するレーザ出力特性の一例を示す図で
あり、横軸にLDに入力する電流(mA)を、縦軸にレ
ーザ出力(mW)をとっている。図5において、Tは活
性層2の周囲温度を示し、tH ,tL はtH >tL の関
係にある。また、T=tH ,T=tL で示す曲線はそれ
ぞれ活性層2の周囲温度が高い場合,低い場合の入力電
流とレーザ出力との関係を示している。図に示すよう
に、活性層2周辺の温度Tが高温(tH )になると、活
性層2周辺の温度Tが低温(tL )の場合にくらべてレ
ーザ出力が悪くなる。つまり、活性層2の周辺温度が高
いほどレーザの出力特性は悪くなる。
As described above, when the LD operates, the current is concentrated in the vicinity of the active layer 2, so that the amount of heat generated is greatest around the active layer 2 and is also a high temperature portion. Fig. 5 shows a single L
It is a figure which shows an example of the laser output characteristic with respect to the input current of D, and the electric current (mA) input into LD is taken on the horizontal axis, and the laser output (mW) is taken on the vertical axis. In FIG. 5, T indicates the ambient temperature of the active layer 2, and t H and t L have a relationship of t H > t L. The curves indicated by T = t H and T = t L show the relationship between the input current and the laser output when the ambient temperature of the active layer 2 is high and low, respectively. As shown in the figure, when the temperature T around the active layer 2 becomes high (t H ), the laser output becomes worse than when the temperature T around the active layer 2 is low (t L ). That is, the higher the ambient temperature of the active layer 2, the worse the output characteristics of the laser.

【0006】従来のLDでは、上記のように電流ブロッ
ク層6を設けて活性層2に電流が集中するようにしてレ
ーザ出力を確保するようにしていたが、大きなレーザ出
力を得るほど、レーザ発振による発熱量を大きくしてし
まうことになり、活性層2の周辺温度を高くしてしまっ
ている。このため、共通電極9側にヒートシンク等を取
り付けることによって、該ヒートシンクよりレーザ発振
により生じる熱を逃がして、活性層2の温度を下げるよ
うにしている。
In the conventional LD, the current block layer 6 is provided as described above so that the current is concentrated in the active layer 2 to secure the laser output. However, the larger the laser output is, the more the laser oscillation occurs. As a result, the amount of heat generated is increased, and the ambient temperature of the active layer 2 is increased. Therefore, by attaching a heat sink or the like to the common electrode 9 side, the heat generated by the laser oscillation is released from the heat sink to lower the temperature of the active layer 2.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】従来のレーザダイオー
ドアレイは以上のように構成されているので、レーザ出
力を確保するためには活性層2周辺の温度を極力下げる
必要があり、このため電極9側にヒートシンク等を取り
付けるなどしていたが、発熱源である活性層2から放熱
面である共通電極9間に設けられている熱拡散層である
基板5の熱抵抗が大きい場合には、放熱の効率が悪くな
り、温度を下げることが困難であるという問題点があっ
た。これに対して、熱拡散層である基板5の放熱効率を
高めるため、該基板5の厚さを極力薄くするなどして熱
抵抗を小さくし、熱拡散をスムーズに行わせ、レーザ出
力を確保するなどの対策がとられてきたが、基板5の強
度のため、薄さは通常100μm程度が限度であり、半
導体レーザ装置のレーザ出力特性を良くすることは困難
であるという問題点があった。
Since the conventional laser diode array is constructed as described above, it is necessary to lower the temperature around the active layer 2 as much as possible in order to secure the laser output. Although a heat sink or the like is attached to the side, if the heat resistance of the substrate 5 which is the heat diffusion layer provided between the active layer 2 which is the heat source and the common electrode 9 which is the heat radiation surface is large, heat radiation is performed. However, there was a problem in that it was difficult to lower the temperature. On the other hand, in order to improve the heat dissipation efficiency of the substrate 5 which is a heat diffusion layer, the thickness of the substrate 5 is made as thin as possible to reduce the thermal resistance, and the thermal diffusion is smoothly performed to secure the laser output. However, due to the strength of the substrate 5, the thinness is usually limited to about 100 μm, and it is difficult to improve the laser output characteristics of the semiconductor laser device. ..

【0008】また、LDアレイにおいて隣接する各LD
間の距離、つまり、レーザ出力光間のピッチLは、近年
のデバイスの高密度化に伴ない50〜100μm程度ま
での微細さが要求されるので、発熱源である活性層2が
かなり近接することとなり、温度上昇や隣接する各LD
間での熱的干渉の影響をさらに受けやすくなり、半導体
レーザ装置のレーザ特性を悪くしてしまうなどの問題点
があった。
In addition, the LDs adjacent to each other in the LD array
The distance between them, that is, the pitch L between the laser output lights, is required to be as fine as about 50 to 100 μm in accordance with the recent increase in device density, so that the active layer 2 which is a heat source is considerably close to each other. This means that temperature rises and adjacent LDs
There is a problem in that the laser characteristics of the semiconductor laser device are deteriorated because the semiconductor laser device is more easily affected by thermal interference between them.

【0009】この発明は上記のような問題点を解消する
ためになされたもので、LDアレイの各LDにおいて、
発熱源である活性層と冷却面である共通電極間にある基
板の熱抵抗を下げることによって温度上昇を小さく抑
え、レーザ性能の低下を防止することのできるレーサダ
イオードアレイを得ることを目的とする。
The present invention has been made to solve the above problems, and in each LD of the LD array,
An object of the present invention is to obtain a laser diode array capable of preventing a decrease in laser performance by suppressing a temperature rise by lowering a thermal resistance of a substrate between an active layer which is a heat source and a common electrode which is a cooling surface. ..

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】この発明に係るレーザダ
イオードアレイは、活性層部と同じ形状でレーザ光の発
振を行わない導波路部を該活性層部に隣接して有し、ま
た、隣接するレーザダイオード間では該導波路部と活性
層部とは互いに隣合わないように配置したものである。
A laser diode array according to the present invention has a waveguide portion adjacent to the active layer portion, which has the same shape as the active layer portion and does not oscillate laser light. The waveguide portion and the active layer portion are arranged so as not to be adjacent to each other between the laser diodes.

【0011】[0011]

【作用】この発明におけるレーザダイオードアレイは、
隣接するLD間では活性層部と該活性層部に連続して配
置された導波路部とが互いに隣合わないように配置する
ようにしたので、発熱源である活性層部を分散配置する
こととなり、これにより温度上昇を抑えることができ、
また、発熱源を分散配置することによって、熱的干渉も
小さくなるので、活性層周辺の温度上昇を防ぐことがで
き、レーザ特性の低下を防ぐことができる。さらに、L
DのピッチLを変えることなく、所望のピッチLのまま
で熱抵抗を小さくすることができる。
The laser diode array according to the present invention is
Since the active layer portion and the waveguide portion continuously arranged in the active layer portion are arranged so as not to be adjacent to each other between the adjacent LDs, the active layer portion which is a heat source should be dispersedly arranged. , Which can suppress the temperature rise,
Further, by disposing the heat sources in a distributed manner, thermal interference is also reduced, so that it is possible to prevent a temperature rise around the active layer and prevent deterioration of laser characteristics. Furthermore, L
It is possible to reduce the thermal resistance while maintaining the desired pitch L without changing the pitch L of D.

【0012】また、導波路部と活性層部とを同じ形状,
寸法とした場合には、レーザダイオード全体の大きさを
従来の2倍にしたことになり、レーザ出力を低下させる
ことなく、放熱面の面積を増加して熱抵抗を小さくし、
活性層で生じる発熱を速やかに拡散することができる。
Further, the waveguide portion and the active layer portion have the same shape,
In the case of dimensions, the size of the entire laser diode is doubled from the conventional size, and the area of the heat dissipation surface is increased to reduce the thermal resistance without lowering the laser output.
The heat generated in the active layer can be quickly diffused.

【0013】[0013]

【実施例】以下、この発明の一実施例を図について説明
する。図1はこの発明の一実施例によるレーザダイオー
ド(以下LDと称す)アレイのチップ配置を示す図であ
り、図中、図3と同一符号は同一または相当部分を示
す。図1において、11は活性層2に隣接して配置され
た導波路であり、その大きさは活性層2と同じである。
図1に示すように、本発明のLDアレイでは、従来のL
Dアレイの活性層2の領域の半分を導波路11に置き換
え、さらに、隣接するLD間では、活性層2と導波路1
1とが互いに隣合わないように配置したものである。ま
た、図2はこの発明の一実施例によるLDアレイにおけ
る各LDの断面構造を示す図であり、ここでは、上記図
1に示すCD断面の一部を拡大して示しており、図中、
図1,図4と同一符号は同一または相当部分を示す。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a diagram showing a chip arrangement of a laser diode (hereinafter referred to as LD) array according to an embodiment of the present invention. In the figure, the same symbols as those in FIG. 3 indicate the same or corresponding portions. In FIG. 1, reference numeral 11 denotes a waveguide arranged adjacent to the active layer 2, and its size is the same as that of the active layer 2.
As shown in FIG. 1, in the LD array of the present invention, the conventional L array is used.
Half of the area of the active layer 2 of the D array is replaced with the waveguide 11, and between the adjacent LDs, the active layer 2 and the waveguide 1 are arranged.
1 and 1 are arranged so as not to be adjacent to each other. 2 is a diagram showing a sectional structure of each LD in an LD array according to an embodiment of the present invention. Here, a part of the CD section shown in FIG. 1 is shown in an enlarged manner.
The same reference numerals as those in FIGS. 1 and 4 denote the same or corresponding portions.

【0014】このLDの構造は、例えば活性層2をMQ
W(Multi Quantum Well:多重量子井戸)で構成し、そ
の後、該活性層2中の導波路11に当たる部分に不純物
拡散を行うことによって、あるいは、同部を細いレーザ
ビーム等で熱的にディスオーダ(無秩序化)する等の方
法によって活性層2中に導波路11を形成することがで
きる。
In this LD structure, for example, the active layer 2 is formed by MQ.
It is composed of W (Multi Quantum Well), and then impurities are diffused in a portion corresponding to the waveguide 11 in the active layer 2, or the same portion is thermally disordered by a thin laser beam or the like. The waveguide 11 can be formed in the active layer 2 by a method such as (disordering).

【0015】上記のようにして形成された導波路11
は、出力レーザ光に対して透明な導波路、つまり、レー
ザ光を吸収しない導波路となる。この導波路11は不活
性領域であるので、該導波路11に電流が流れても、活
性層2としての働きをすることはなく、電流集中により
熱が発生するということはない。
The waveguide 11 formed as described above
Is a waveguide that is transparent to the output laser light, that is, a waveguide that does not absorb the laser light. Since the waveguide 11 is an inactive region, even if a current flows through the waveguide 11, it does not function as the active layer 2 and heat is not generated due to current concentration.

【0016】このように、LDアレイにおいて活性層2
に隣接して該活性層2と同一形状,同一寸法の導波路1
1を設け、また、隣接するLD間では活性層2と導波路
11とが互いに隣合わないように配置することによっ
て、隣接する2つまたは3つのLD間で活性層2が空間
的に近接していても、動作上、上下に隣接するLD間、
あるいは斜めに隣接するLD間は、不活性領域である導
波路11によって分離されており、結果的に発熱源を分
散配置することになるので、温度上昇を抑えることがで
きる。また、発熱源を分散配置することによって、熱的
干渉も小さくなるので、活性層2周辺の温度上昇を防
ぎ、レーザ特性の低下を防ぐことができる。さらに、活
性層2の分散配置はLDのピッチLを変えることなく行
え、所望のピッチLのままで熱抵抗を小さくすることが
できる。
As described above, in the LD array, the active layer 2
Adjacent to the active layer 2 and having the same shape and size as the waveguide 1
1 and by disposing the active layer 2 and the waveguide 11 so as not to be adjacent to each other between adjacent LDs, the active layers 2 are spatially close to each other between adjacent two or three LDs. However, in operation, between the LDs that are vertically adjacent to each other,
Alternatively, the LDs that are diagonally adjacent to each other are separated by the waveguide 11 that is an inactive region, and as a result, the heat sources are dispersedly arranged, so that the temperature rise can be suppressed. In addition, since the heat interference is reduced by disposing the heat sources in a distributed manner, it is possible to prevent the temperature rise around the active layer 2 and prevent the deterioration of the laser characteristics. Furthermore, the active layers 2 can be dispersedly arranged without changing the pitch L of the LDs, and the thermal resistance can be reduced while keeping the desired pitch L.

【0017】一方、上記のように不純物拡散あるいはデ
ィスオーダするなどの方法によって活性層2中に導波路
11を形成すると、該導波路分だけレーザ光を発生させ
る活性領域を小さくすること、すなわち、レーザ出力を
低下させることになるが、活性層2を従来のレーザダイ
オードアレイにおける活性層2の2倍の大きさにし、そ
の半分の部分に導波路11を形成するようにすると、つ
まり、LDアレイを構成する各LDの全体の大きさを従
来のものの2倍にすると、活性領域は従来と同じ大きさ
のまま維持できるので、レーザ出力特性は従来とほぼ同
じになり、さらに、導波路11を設けた分だけチップ面
積を大きくしたことによって、放熱面である電極9側の
面積を増加したことになるため、その分、熱抵抗は小さ
くなって活性層2で生じる発熱を速やかに拡散すること
ができ、レーザ特性の低下を防ぐことができる。
On the other hand, when the waveguide 11 is formed in the active layer 2 by a method such as impurity diffusion or disordering as described above, the active region for generating laser light is reduced by the amount of the waveguide, that is, Although the laser output is reduced, if the active layer 2 is made twice as large as the active layer 2 in the conventional laser diode array and the waveguide 11 is formed in the half of the active layer 2, that is, the LD array. If the overall size of each LD constituting the LD is doubled from the conventional one, the active region can be maintained at the same size as the conventional one, so that the laser output characteristic becomes almost the same as the conventional one, and the waveguide 11 is By increasing the chip area by the amount provided, the area on the side of the electrode 9 which is the heat dissipation surface is increased, so that the thermal resistance is reduced accordingly and the active layer 2 is reduced. Can diffuse quickly the heat generated, it is possible to prevent a decrease in laser characteristics.

【0018】[0018]

【発明の効果】以上のように、この発明に係るレーザダ
イオードアレイによれば、活性層に連続して、例えば該
活性層と同じ形状,寸法でレーザ光の発振を行わない導
波路を設け、隣接するLD間では活性層と導波路とが互
いに隣合わないように配置するようにしたので、動作
上、不活性領域である導波路によって発熱源である活性
層を分離することになり、温度上昇を抑えることがで
き、また、発熱源を分散配置することによって、熱的干
渉も小さくなるので、活性層周辺の温度上昇を防ぎ、レ
ーザ特性の低下を防ぐことができる効果がある。さら
に、活性層の分散配置はLDのピッチLを変えることな
く行えるので、所望のピッチLのままで熱抵抗を小さく
することができる効果がある。
As described above, according to the laser diode array of the present invention, a waveguide which is continuous with the active layer and has the same shape and size as the active layer and which does not oscillate laser light is provided. Since the active layer and the waveguide are arranged so as not to be adjacent to each other between the adjacent LDs, in operation, the active layer, which is the heat source, is separated by the waveguide, which is the inactive region. The rise can be suppressed, and the thermal interference can be reduced by disposing the heat sources in a distributed manner. Therefore, the temperature rise around the active layer can be prevented and the laser characteristics can be prevented from being deteriorated. Further, since the active layers can be dispersed and arranged without changing the pitch L of the LDs, there is an effect that the thermal resistance can be reduced with the desired pitch L.

【0019】また、この発明に係るレーザダイオードア
レイによれば、従来の活性層と同じ形状,寸法で導波路
を形成することにより、LD全体の大きさを従来の2倍
にしたことになるので、レーザ出力を低下させることな
く、放熱面の面積を増加して熱抵抗を小さくし、活性層
で生じる発熱を速やかに拡散することができ、レーザ特
性の低下を防ぐことができる効果がある。
Further, according to the laser diode array of the present invention, the size of the LD as a whole is doubled by forming the waveguide with the same shape and size as the conventional active layer. The effect of increasing the area of the heat radiating surface to reduce the thermal resistance and quickly diffusing the heat generated in the active layer without lowering the laser output and preventing the deterioration of the laser characteristics is obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明の一実施例によるレーザダイオードア
レイのチップ配置を示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing a chip arrangement of a laser diode array according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1に示すレーザダイオードアレイのレーザダ
イオード断面の一部を拡大して示した断面構造図であ
る。
FIG. 2 is a cross-sectional structural view showing an enlarged part of a cross section of a laser diode of the laser diode array shown in FIG.

【図3】従来のレーザダイオードアレイのチップ配置を
示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a chip layout of a conventional laser diode array.

【図4】図3に示すレーザダイオードアレイのAB断面
の一部を拡大して示した断面構造図である。
4 is a cross-sectional structural view showing an enlarged part of the AB cross section of the laser diode array shown in FIG.

【図5】単体レーザダイオードの入力電流に対するレー
ザ特性の一例を示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing an example of laser characteristics with respect to an input current of a single laser diode.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 チップ 2 活性層 3 反射鏡 4 レーザ光 5 基板 6 電流ブロック層 7 コンタクト層 8 電極 9 共通電極 10 素子分離溝 11 導波路 1 Chip 2 Active Layer 3 Reflector 4 Laser Light 5 Substrate 6 Current Blocking Layer 7 Contact Layer 8 Electrode 9 Common Electrode 10 Element Separation Groove 11 Waveguide

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 同一チップ上に、ストライプ状に形成さ
れた活性層部を有する複数のレーザダイオードを配置し
てなるレーザダイオードアレイにおいて、 前記各レーザダイオードの前記活性層部はレーザ光の発
振を行わない導波路部を該活性層部に連続して有し、隣
接するレーザダイオード間では該導波路部と活性層部と
は互いに隣合わないように配置されていることを特徴と
するレーザダイオードアレイ。
1. A laser diode array in which a plurality of laser diodes each having an active layer portion formed in a stripe shape are arranged on the same chip, wherein the active layer portion of each laser diode oscillates a laser beam. A laser diode characterized in that it has a waveguide portion which is not performed continuously in the active layer portion, and the waveguide portion and the active layer portion are arranged so as not to be adjacent to each other between adjacent laser diodes. array.
【請求項2】 上記活性層部とこれに連続する導波路部
とを同じ形状,寸法としたことを特徴とする請求項1記
載のレーザダイオードアレイ。
2. The laser diode array according to claim 1, wherein the active layer portion and the waveguide portion continuous with the active layer portion have the same shape and size.
JP4069697A 1992-02-17 1992-02-17 Laser diode array Pending JPH05226776A (en)

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JP4069697A JPH05226776A (en) 1992-02-17 1992-02-17 Laser diode array

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JP4069697A JPH05226776A (en) 1992-02-17 1992-02-17 Laser diode array

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001284575A (en) * 2000-04-04 2001-10-12 Mitsubishi Electric Corp Pressure-welded type semiconductor device, and stacked semiconductor device using the same
CN102801108A (en) * 2012-08-03 2012-11-28 中国科学院西安光学精密机械研究所 Multi-quantum-well semiconductor laser and preparation method thereof

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