JPH05222326A - Offset ink for forming silver conductor circuit and method for forming silver conductor circuit - Google Patents

Offset ink for forming silver conductor circuit and method for forming silver conductor circuit

Info

Publication number
JPH05222326A
JPH05222326A JP2686192A JP2686192A JPH05222326A JP H05222326 A JPH05222326 A JP H05222326A JP 2686192 A JP2686192 A JP 2686192A JP 2686192 A JP2686192 A JP 2686192A JP H05222326 A JPH05222326 A JP H05222326A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
conductor circuit
silver
silver conductor
pattern
forming
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2686192A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshihiko Yasui
俊彦 安井
Kiyoo Kamei
清雄 亀井
Akihiko Okuda
晃彦 奥田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tanaka Kikinzoku Kogyo KK
DIC Corp
Original Assignee
Tanaka Kikinzoku Kogyo KK
Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tanaka Kikinzoku Kogyo KK, Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd filed Critical Tanaka Kikinzoku Kogyo KK
Priority to JP2686192A priority Critical patent/JPH05222326A/en
Publication of JPH05222326A publication Critical patent/JPH05222326A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)
  • Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)

Abstract

PURPOSE:To provide the title ink which can readily form a desired printing pattern with high resolution and accuracy by offset printing. CONSTITUTION:The title ink contains a resin component comprising at least one resin selected from the group consisting of an alkyd resin, a modified alkyd resin, a modified epoxy resin, a polyurethane oil, rosin, and a maleinized oil, a solvent component, a metallic silver powder, and, if necessary, a flux component.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、電子工業材料として用
いられる各種基材上に銀導体回路を形成させるための印
刷インキと形成方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a printing ink and a forming method for forming a silver conductor circuit on various substrates used as electronic industrial materials.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、基材上に銀の導体回路を形成させ
るには銀ペーストを用いたスクリーン印刷法が盛んに用
いられてきた。この方法では安価で多量に印刷パターン
が作成できるが、50μmのライン/スペースのファイン
パターンではその形成が困難となるという欠点があっ
た。又、スクリーン印刷は版にスクリーンのメッシュを
用いることから、大きな基材への印刷に対しては位置ず
れを起こすことから位置精度が悪くなるという欠点があ
った。
2. Description of the Related Art Conventionally, a screen printing method using a silver paste has been widely used for forming a silver conductor circuit on a substrate. Although this method is inexpensive and can produce a large amount of printed patterns, it has a drawback that it is difficult to form a fine pattern having a line / space of 50 μm. Further, in screen printing, since a screen mesh is used for the plate, there is a disadvantage in that the positional accuracy deteriorates because of the positional deviation with respect to printing on a large base material.

【0003】一方、ファインパターンの形成方法とし
て、フォトリソ法が行われている。この方法は微細なフ
ァインパターンの形成ができるが、製造のための設備が
大掛かりになり、工程が複雑で手間を要することから、
生産コストが高くつき、安価に製品を供給できないとい
う欠点があった。
On the other hand, a photolithography method is used as a method for forming a fine pattern. Although this method can form a fine fine pattern, it requires a large amount of equipment for manufacturing, and the process is complicated and labor-intensive.
It has a drawback that the production cost is high and the product cannot be supplied inexpensively.

【0004】[0004]

【発明が解決しょうとする課題】本発明は上記従来法の
欠点を解消するためになされたもので樹脂成分、溶剤成
分、金属銀粉末および必要に応じてフラックス成分を含
有する銀導体回路用オフセット印刷インキを用いてパタ
ーンを基材上にオフセット印刷し、位置精度の高いかつ
ライン/スペースの解像力の高いファインパターン形成
法を提供するものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned drawbacks of the conventional method. It is an offset for a silver conductor circuit containing a resin component, a solvent component, a metallic silver powder and, if necessary, a flux component. A method for offset printing a pattern on a substrate using a printing ink to provide a fine pattern forming method with high positional accuracy and high line / space resolution.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明は、アルキッド樹
脂、変性アルキッド樹脂、変性エポキシ樹脂、ウレタン
化油、ロジンおよびマレイン化油より選ばれる少なくと
も1種以上の樹脂成分、溶剤成分、金属銀粉末および必
要に応じてフラックス成分を含有する銀導体回路用オフ
セット印刷インキに関するものである。
The present invention provides at least one resin component, solvent component, metallic silver powder selected from alkyd resins, modified alkyd resins, modified epoxy resins, urethanized oils, rosins and maleated oils. The present invention also relates to an offset printing ink for a silver conductor circuit, which contains a flux component if necessary.

【0006】さらに、本発明は、アルキッド樹脂、変性
アルキッド樹脂、変性エポキシ樹脂、ウレタン化油、ロ
ジンおよびマレイン化油より選ばれる少なくとも1種以
上の樹脂成分、溶剤成分、金属銀粉末および必要に応じ
てフラックス成分を含有する銀導体回路用オフセット印
刷インキを用いてパターンを基材上にオフセット印刷す
る工程、この印刷パターンをそのまま/又は活性エネル
ギー線の照射及び/又は加熱によって硬化せしめる工
程、硬化せしめた印刷パターンをそのまま/又は同一パ
ターンで重ね刷りする工程、乾燥もしくは焼成する工程
とから成ることを特徴とする銀導体回路の形成方法に関
するものである。
Furthermore, the present invention provides at least one resin component selected from alkyd resins, modified alkyd resins, modified epoxy resins, urethanized oils, rosin and maleated oils, a solvent component, a silver metal powder, and if necessary. Offset printing ink for silver conductor circuit containing flux component on the base material, the step of offset printing the pattern on the base material, the step of curing the printed pattern as it is or / and the irradiation with active energy rays and / or the heating, the curing The present invention relates to a method for forming a silver conductor circuit, which comprises a step of overprinting the printed pattern as it is or the same pattern, and a step of drying or firing.

【0007】本発明の樹脂はオフセット印刷の印刷適性
に合う樹脂を選ぶ必要があり、アルキッド樹脂、変性ア
ルキッド樹脂、変性エポキシ樹脂、ウレタン化油、ロジ
ンおよびマレイン化油などがよく、単独あるいは混合し
たものを用いる。樹脂量は銀の含有量によって異なるが
印刷適性から考慮すると3〜40%であるとよい。
As the resin of the present invention, it is necessary to select a resin suitable for the printability of offset printing, and alkyd resin, modified alkyd resin, modified epoxy resin, urethanized oil, rosin, maleated oil, etc. are preferable, and they may be used alone or in a mixture. Use one. The amount of resin varies depending on the content of silver, but is preferably 3 to 40% in consideration of printability.

【0008】本発明で用いる溶剤は固形の樹脂や添加物
を液状に溶解させる目的と粘度を下げるための粘ちょう
剤の役割のためにある。固形の樹脂を溶解させるために
用いられるものとしてキシレン、トルエン、ブタノー
ル、ミネラルスピリッツ、石油系溶剤(ソルベッソ、ナ
フサ)、ターピニョール等があり、その他粘度を下げる
ために3〜6号ソルベントが用いられる。
The solvent used in the present invention has the purpose of dissolving a solid resin or additive in a liquid state and the role of a thickener for decreasing the viscosity. Xylene, toluene, butanol, mineral spirits, petroleum-based solvents (solveso, naphtha), terpinol, etc. are used to dissolve the solid resin, and solvent Nos. 3 to 6 are used to lower the viscosity.

【0009】金属銀粉末は粒径0.05〜1.0μmの球状、
好ましくは 0.1〜 0.5μmの粒径で単分散したものがよ
い。フレーク状の粉末は 0.1〜10μm、更に好ましくは
0.5〜5μmのものがよく、球状のもの単独か、フレー
クを銀の割合で10%〜75%、好ましくは20%〜50%混ぜ
るとよい。この時の銀粉末の純度は95〜 99.99%のもの
を用いる。
The metallic silver powder is spherical with a particle size of 0.05 to 1.0 μm,
It is preferably monodispersed with a particle size of 0.1 to 0.5 μm. The flake powder is 0.1-10 μm, more preferably
It is preferably 0.5 to 5 μm, and spherical particles may be used alone or flakes may be mixed in a silver ratio of 10% to 75%, preferably 20% to 50%. The purity of silver powder at this time is 95-99.99%.

【0010】銀の球状粉末の粒径が0.05〜 1.0μmとし
たのは0.05μm以下では粒径が小さすぎ、弾性が出ない
ため印刷適性が不適であることと、サブミクロン以下の
粒径であるためハンドリングの困難さが生じるからであ
る。一方、1μm以上ではインキング時にローラー上の
均一にインキがのらずに安定した印刷ができないという
問題がある。
The particle size of the spherical silver powder is set to 0.05 to 1.0 μm because if the particle size is less than 0.05 μm, the particle size is too small and the elasticity is not obtained, and thus the printability is unsuitable. This is because the handling becomes difficult because of this. On the other hand, if it is 1 μm or more, there is a problem that stable printing cannot be performed because the ink is not evenly deposited on the roller during inking.

【0011】球状粉末にフレーク状粉末を混ぜるのはフ
レークがライン上に位置したとき粉末どおしの接触が大
きくとれ、導体の抵抗が下げられるという利点があるか
らである。
The reason why the flaky powder is mixed with the spherical powder is that when the flakes are located on the line, the powder and powder can make a large contact with each other and the resistance of the conductor can be reduced.

【0012】本発明の添加成分はレベリング剤、重合開
始剤、酸化促進剤、皮はり防止剤、増粘剤、金属キレー
ト樹脂、分散剤、フイラーであり、インキの適性に応じ
て添加する。例えば、レベリング剤であればシリコン系
化合物を 0.1〜数%添加するとよい。重合開始剤ではア
クリルオリゴマー、酸化促進剤ではナフテン酸コバル
ト、ナフテン酸マンガン、皮はり防止剤ではメチルエチ
ルケトンオキシム、増粘剤では増粘ワニス、金属キレー
ト樹脂ではアマニ油脂肪酸塩、ステアリン酸塩、オレイ
ン酸塩などがある。フィラーはAl23、TiO2、B
iO2、SnO2等の微粉末を用いればよく、0.05μmか
ら10μm以下の粉末を用いればよい。フィラーは焼成時
に銀薄膜内や銀と基材の界面に生ずるひずみを取り除
く、あるいは低減させる目的で加えるものである。又、
耐薬品性の向上にもつながる。
The additive components of the present invention are a leveling agent, a polymerization initiator, an oxidation accelerator, an anti-skinning agent, a thickener, a metal chelate resin, a dispersant and a filler, which are added depending on the suitability of the ink. For example, if it is a leveling agent, it is advisable to add 0.1 to several% of a silicon compound. Acrylic oligomers as polymerization initiators, cobalt naphthenate and manganese naphthenate as oxidation promoters, methyl ethyl ketone oxime as an anti-skin agent, thickening varnishes as thickeners, linseed oil fatty acid salts, stearates, oleic acid as metal chelate resins. There is salt etc. The filler is Al 2 O 3 , TiO 2 , B
A fine powder such as iO 2 or SnO 2 may be used, and a powder of 0.05 μm to 10 μm or less may be used. The filler is added for the purpose of removing or reducing the strain generated in the silver thin film or the interface between the silver and the substrate during firing. or,
It also leads to improved chemical resistance.

【0013】フラックス成分は有機金属化合物および/
又はガラスフリットで加えればよい。金属成分としてP
b、B、Si、Zn、Bi、Sn、Cr、Mn、Ti、
Al、アルカリ、アルカリ土類等が含まれているものを
選ぶ。有機金属化合物としては2−エチルヘキサン酸
塩、ナフテン酸塩、ネオデカン酸塩、金属アルコキシ
ド、アマニ油脂肪酸塩、オレイン酸塩、ステアリン酸塩
などが用いられる。
The flux component is an organometallic compound and / or
Alternatively, it may be added with a glass frit. P as a metal component
b, B, Si, Zn, Bi, Sn, Cr, Mn, Ti,
Select one that contains Al, alkali, alkaline earth, etc. As the organic metal compound, 2-ethylhexanoate, naphthenate, neodecanoate, metal alkoxide, linseed oil fatty acid salt, oleate, stearate and the like are used.

【0014】フラックス成分は銀の導体薄膜と基材との
密着をよくする目的で加えるものであり、例えば基材が
ガラス基板であればPbO2−B2 3−SiO2 、Pb
2−B2 3 −ZnO2 系の軟化点が 350〜 600℃程
度のガラスフリットを用いればよく、アルミナ基板であ
ればSiO2−Al23−CaO、SiO2−PbO−C
aO系高軟化点のガラスフリットを用いればよい。
The flux component is added for the purpose of improving the adhesion between the silver conductive thin film and the base material. For example, if the base material is a glass substrate, PbO 2 --B 2 O 3 --SiO 2 , Pb.
O 2 -B 2 O 3 -ZnO 2 based softening point of the well by using the glass frit of about 350 to 600 ° C., if alumina substrate SiO 2 -Al 2 O 3 -CaO, SiO 2 -PbO-C
An aO-based glass frit having a high softening point may be used.

【0015】前記の樹脂、溶剤、添加剤および金属銀粉
末および必要に応じてフラックス成分はプレミックスの
後、三本ロールにて充分均質になるまで溶解、混練す
る。このように調整された銀導体回路用印刷インキを用
いてオフセット印刷することにより、所定パターンが得
られる。
The above-mentioned resin, solvent, additives, metallic silver powder and, if necessary, flux components are premixed and then melted and kneaded by a triple roll until they are sufficiently homogeneous. A predetermined pattern can be obtained by offset printing using the silver conductor circuit printing ink thus adjusted.

【0016】所定パターンの印刷方法はオフセット印刷
であり、平版、凹版のいずれであってもかまわず、版か
らブランケット、ブランケットから基材へとインキの転
写がおこなわれることにより所定パターンが得られる。
The method for printing the predetermined pattern is offset printing, which may be either a planographic printing plate or an intaglio printing plate, and the predetermined pattern is obtained by transferring the ink from the printing plate to the blanket or from the blanket to the substrate.

【0017】所定パターンのインキ転写が1回で十分に
行われない場合には重ね刷りを行えばよい。この重ね刷
りを行うことで、インキの転写総量および膜厚を増すこ
とができる。重ね刷りはそのまま続けて行ってよいが、
重ね刷りの際、バックトラッピングにより転写量が増さ
ないようであれば、重ね刷りの前にパターン上のインキ
を硬化させることでバックトラッピングを防止すること
ができる。硬化方法には活性エネルギー線の照射及び/
又は加熱によって硬化することができる。活性エネルギ
ー線は紫外線、赤外線、電子線を意味し、これらの活性
エネルギー線と加熱を組み合わせることにより硬化が進
む。硬化をより促進させるには紫外線硬化樹脂、重合開
始剤、酸化促進剤を添加するとよい。
When ink transfer of a predetermined pattern is not sufficiently performed once, overprinting may be performed. By performing this overprinting, the total amount of ink transfer and the film thickness can be increased. You can continue overprinting, but
In the case of overprinting, if the transfer amount does not increase due to backtrapping, backtrapping can be prevented by curing the ink on the pattern before overprinting. Irradiation with active energy rays and / or curing method
Alternatively, it can be cured by heating. Active energy rays mean ultraviolet rays, infrared rays, and electron rays, and curing proceeds by combining these active energy rays and heating. In order to further accelerate the curing, it is advisable to add an ultraviolet curable resin, a polymerization initiator and an oxidation accelerator.

【0018】上記のように基材上の印刷されたパターン
が平滑にならない場合には、印刷パターンをプレスする
ことにより表面の平滑化を促すことができる。この際プ
レスの回数やプレス圧を多くすると線の太りにつなが
る。
When the printed pattern on the base material is not smooth as described above, it is possible to promote the smoothing of the surface by pressing the printed pattern. At this time, increasing the number of presses and the press pressure leads to thickening of the line.

【0019】フラックス成分を含有する銀導体回路用印
刷インキを使用した場合にはオフセット印刷により得ら
れた所定パターンは焼成工程に供される。焼成温度は樹
脂成分、溶剤成分、添加成分等の内に含まれる有機物が
蒸発、昇華あるいは分解しなければならない温度で、 3
00℃以上であることが望まれる。又、銀と基材との密着
をよくするにはフラックス成分が融解し、基材との界面
に反応相を形成させなければならず、その融解に必要な
温度まで上げて焼成しなければならない。
When a silver conductor circuit printing ink containing a flux component is used, the predetermined pattern obtained by offset printing is subjected to a firing step. The firing temperature is the temperature at which organic substances contained in resin components, solvent components, additive components, etc. must evaporate, sublime, or decompose.
It is desired that the temperature is 00 ° C or higher. Also, in order to improve the adhesion between silver and the base material, the flux component must be melted and a reaction phase must be formed at the interface with the base material, and the temperature must be raised to the temperature required for melting and baked. .

【0020】[0020]

【実施例】【Example】

製造例1 アルキッド樹脂(大日本インキ化学工業製:ベッコゾー
ルEL−8001)20gに0.3μm球状金属銀粉末80gをプ
レミックスした後三本ロールにて混練し、銀インキを作
成した。
Production Example 1 20 g of an alkyd resin (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc .: Beckosol EL-8001) was premixed with 80 g of 0.3 μm spherical metallic silver powder and then kneaded with a three-roll to prepare a silver ink.

【0021】製造例2 フェノール変性アルキッド樹脂(大日本インキ化学工業
製:ベッコゾール1341)14.5gに 0.3μm球状金属銀粉
末85g、5号ソルベント 0.5gを加えてインキを作成し
た。
Production Example 2 An ink was prepared by adding 14.5 g of a phenol-modified alkyd resin (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc .: Beccosol 1341) to 85 g of 0.3 μm spherical metallic silver powder and 0.5 g of No. 5 solvent.

【0022】製造例3 脂肪酸変性エポキシ樹脂(大日本インキ化学工業製:ベ
ッコゾールP−786-50)13gに 0.8μm球状金属銀粉末
85g、5号ソルベント 0.5g、メチルエチルケトンオキ
シム1g、ナフテン酸コバルト 0.5gを混合、混練し、
インキを作成した。
Production Example 3 0.8 μm spherical metallic silver powder was added to 13 g of a fatty acid-modified epoxy resin (Dainippon Ink and Chemicals: Becksol P-786-50).
85 g, No. 5 solvent 0.5 g, methyl ethyl ketone oxime 1 g, cobalt naphthenate 0.5 g are mixed and kneaded.
I made an ink.

【0023】製造例4 ウレタン化油(大日本インキ化学工業製:バーノックT
D− 125)20gに 0.1μm球状金属銀粉末75g、5号ソ
ルベント 0.5g、メチルエチルケトンオキシム1g、増
粘ワニス 3.5gを混練し、インキを作成した。
Production Example 4 Urethane oil (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals: Burnock T
D-125) (20 g) was kneaded with 75 g of 0.1 μm spherical metallic silver powder, 0.5 g of No. 5 solvent, 1 g of methyl ethyl ketone oxime and 3.5 g of thickening varnish to prepare an ink.

【0024】製造例5 ロジン(大日本インキ化学工業製:ベッカサイトJ− 8
96)13gにクロロホルム20gと5号ソルベント6gを加
えて、ロジンを溶解した後、クロロホルムを減圧下で除
去する。 0.3μm球状金属銀粉末40gと5μmのフレー
ク状銀粉末40gにメチルエチルケトンオキシム1gを混
合、混練し、インキを作成した。
Production Example 5 Rosin (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc .: Becca Site J-8)
96) To 13 g, 20 g of chloroform and 6 g of No. 5 solvent are added to dissolve rosin, and then chloroform is removed under reduced pressure. 40 g of 0.3 μm spherical metallic silver powder and 40 g of 5 μm flaky silver powder were mixed with 1 g of methyl ethyl ketone oxime and kneaded to prepare an ink.

【0025】製造例6 アルキッド樹脂(大日本インキ化学工業製:ベッコゾー
ルEL−8001)40gに重合開始剤(アクリルオリゴマ
ー)1g、メチルエチルケトン4g、0.3μm球状金属
銀粉末45gと8μmのフレーク状銀粉末15gとを混合、
混練し、インキを作成した。
Production Example 6 40 g of alkyd resin (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc .: Beckosol EL-8001), 1 g of polymerization initiator (acrylic oligomer), 4 g of methyl ethyl ketone, 45 g of 0.3 μm spherical metallic silver powder and 15 g of 8 μm flake silver powder. Mixed with,
Kneading was performed to prepare an ink.

【0026】比較例1 樹脂成分としてエチルセルロース 7.5gをメチルイソブ
チルケトン 7.5gに溶解させ、 0.3μmの球状金属銀粉
末80gとα−ターピニョールを5g加えて、プレミック
スした後、三本ロールにて均質になるまで十分に混練し
た。この銀ペーストを用いて50cm×50cmガラス基材に1
回スクリーン印刷( 325メッシュ)を行った。
Comparative Example 1 As a resin component, 7.5 g of ethyl cellulose was dissolved in 7.5 g of methyl isobutyl ketone, 80 g of 0.3 μm spherical metallic silver powder and 5 g of α-terpineol were added, premixed, and homogenized with a three-roll mill. Kneaded thoroughly until 1 x 50cm x 50cm glass substrate with this silver paste
Screen printing (325 mesh) was performed.

【0027】その結果30μmのライン/スペースのパタ
ーンは全体に隣接する線に接触し、ベタ状に印刷され、
全く解像されていなかった。50μmのライン/スペース
ではいくつかの部分において隣接する線と接触し、ショ
ートしていた。100μmのライン/スペースでは全てに
おいて解像されていた。
As a result, the pattern of 30 μm line / space contacts the line adjacent to the whole and is printed solidly,
It was not resolved at all. At the line / space of 50 μm, it was in contact with the adjacent line in some parts and short-circuited. All were resolved at 100 μm line / space.

【0028】ガラス基材上に印刷されたパターンの位置
ずれを測定した結果、50cm×50cmの印刷方向に対して縦
方向では+180μm、横方向では+80μmの位置ずれが
あった。このときの膜圧は20μmでシート抵抗は40mΩ
/□であった。
As a result of measuring the displacement of the pattern printed on the glass substrate, there was a displacement of +180 μm in the longitudinal direction and +80 μm in the lateral direction with respect to the printing direction of 50 cm × 50 cm. At this time, the membrane pressure is 20 μm and the sheet resistance is 40 mΩ.
It was / □.

【0029】実施例1 製造例1のインキを用いてガラス基板上に50cm×50cmの
所定パターンを4回重ね刷りのオフセット印刷を行った
結果30μmのライン/スペースの解像はされていた。縦
横方向の位置ずれは±5μm以下であった。
Example 1 The ink of Production Example 1 was used to perform offset printing by overprinting a predetermined pattern of 50 cm × 50 cm four times on a glass substrate. As a result, a line / space resolution of 30 μm was found. The positional deviation in the vertical and horizontal directions was ± 5 μm or less.

【0030】実施例2 製造例1のインキを用いて4回印刷後、紫外線を1分照
射する。同様に4回印刷と紫外線照射をくり返し、計20
回印刷した。30μmのライン/スペースは解像されてい
た。縦横方向の位置ずれはそれぞれ±5μm以下であっ
た。
Example 2 The ink of Production Example 1 was used to print 4 times and then irradiated with ultraviolet rays for 1 minute. Repeatedly printing four times and irradiating ultraviolet rays in the same way, totaling 20
Printed twice. The 30 μm line / space was resolved. The positional displacement in the vertical and horizontal directions was ± 5 μm or less.

【0031】実施例3 製造例2のインキを用いて4回印刷後、プレスした後紫
外線を1分照射した後同様に4回印刷とプレスおよび紫
外線照射をくり返し、計20回印刷した。これによりパタ
ーンの平滑化が進んだ。30μmのライン/スペースは一
部解像されていないが、50μmのライン/スペースは解
像されていた。縦横方向はそれぞれ20μm以下であっ
た。
Example 3 The ink of Production Example 2 was used to print four times, followed by pressing, irradiating with ultraviolet rays for 1 minute, printing in the same manner four times, repeated pressing and irradiation with ultraviolet rays, and printing 20 times in total. As a result, the smoothing of the pattern progressed. The 30 μm line / space was partially unresolved, but the 50 μm line / space was resolved. The vertical and horizontal directions were each 20 μm or less.

【0032】実施例4〜7 上記と同様な操作を行った結果を表1及び表2に記し
た。
Examples 4 to 7 Tables 1 and 2 show the results of the same operations as above.

【0033】[0033]

【表1】 [Table 1]

【0034】[0034]

【表2】 [Table 2]

【0035】製造例7 アルキッド樹脂(大日本インキ化学工業製:ベッコゾー
ルEL−8001)20gに0.3μm球状金属銀粉末80gをプ
レミックスした後三本ロールにて混練し、銀インキを作
製した。
Production Example 7 20 g of an alkyd resin (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc .: Beckosol EL-8001) was premixed with 80 g of 0.3 μm spherical metallic silver powder and then kneaded with a three-roll mill to prepare a silver ink.

【0036】製造例8 アルキッド樹脂(大日本インキ化学工業製:ベッコゾー
ルEL−8001)16gに0.3μm球状金属銀粉末80g、ガ
ラスフリット(旭硝子製:1350)4gをプレミックスし
た後三本ロールにて混練し、銀インキを作製した。
Production Example 8 16 g of alkyd resin (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc .: Beccosol EL-8001) was premixed with 80 g of 0.3 μm spherical metallic silver powder and 4 g of glass frit (1350 manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) and then three rolls were used. Kneading was performed to prepare a silver ink.

【0037】製造例9 フェノール変性アルキッド樹脂(大日本インキ化学工業
製:ベッコゾール1341)10g、 0.3μm球状金属銀末85
g、ガラスフリット(旭硝子製:1370) 4.5g、5号ソ
ルベント 0.5gを混合、混練しインキを作製した。
Production Example 9 10 g of a phenol-modified alkyd resin (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc .: Beckosol 1341), 0.3 μm spherical metallic silver powder
g, glass frit (Asahi Glass: 1370) 4.5 g, and No. 5 solvent 0.5 g were mixed and kneaded to prepare an ink.

【0038】製造例10 脂肪酸変性エポキシ樹脂(大日本インキ化学工業製:ベ
ッコゾールP-786-50)10gに 0.5μm球状金属銀粉末85
g、5号ソルベント 0.5g、メチルエチルケトンキシム
1g、ナフテン酸コバルト 0.5g、ガラスフリット(旭
硝子製:1307)3.5gを混合、混練し、インキを作製し
た。
Production Example 10 0.5 μm spherical metallic silver powder 85 per 10 g of fatty acid-modified epoxy resin (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc .: Beckosol P-786-50)
g, No. 5 solvent 0.5 g, methyl ethyl ketone oxime 1 g, cobalt naphthenate 0.5 g, and glass frit (Asahi Glass: 1307) 3.5 g were mixed and kneaded to prepare an ink.

【0039】製造例11 ウレタン化油(大日本インキ化学工業製:バーノックT
D−125)15gに0.1μm球状金属銀粉75g、5号ソ
ルベント 0.5g、オイゲノール1g、増粘ワニス 3.5
g、オクチル酸ビスマス 2.5g、オクチル酸鉛2.5g混
合、混練し、インキを作製した。
Production Example 11 Urethane oil (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc .: Barnock T
D-125) 15 g 0.1 μm spherical metallic silver powder 75 g, No. 5 solvent 0.5 g, eugenol 1 g, thickening varnish 3.5
g, bismuth octylate 2.5 g, and lead octylate 2.5 g were mixed and kneaded to prepare an ink.

【0040】製造例12 アルキッド樹脂(大日本インキ化学工業製:ベッコゾー
ルEC−8001)15gに0.3μm球状金属銀粉末80g、ガ
ラスフリット(旭硝子製:1350)3g、オクチル酸ビス
マス 1.5g、フィラーとして 0.5gを混合、混練し、イ
ンキを作製した。
Production Example 12 80 g of 0.3 μm spherical metallic silver powder, 3 g of glass frit (1350 from Asahi Glass Co., Ltd.), 1.5 g of bismuth octylate, and 0.5 g of filler are added to 15 g of alkyd resin (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc .: Beckosol EC-8001). g was mixed and kneaded to prepare an ink.

【0041】製造例13 ロジン(大日本インキ化学工業製:ベッカサイトJ− 8
96)10gにクロロホルム20gと5号ソルベント6gを加
えて、ロジンを溶解した後、クロロホルムを減圧下で除
去した。これに 0.3μm球状金属銀粉末40g、5μmの
フレーク状銀粉末40g、メチルエチルケトンオキシム1
g、ガラスフリット(旭硝子製:1350)3gを混合、混
練しインキを作製した。
Production Example 13 Rosin (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc .: Becca Site J-8)
96) 20 g of chloroform and 6 g of No. 5 solvent were added to 10 g to dissolve rosin, and then chloroform was removed under reduced pressure. 40 g of 0.3 μm spherical metallic silver powder, 40 g of 5 μm flake-shaped silver powder, 1 methyl ethyl ketone oxime
g, and 3 g of glass frit (1350 manufactured by Asahi Glass) were mixed and kneaded to prepare an ink.

【0042】製造例14 アルキッド樹脂(大日本インキ化学工業製:ベッコゾー
ルEL−8001)35gに重合開始剤(アクリルオリゴマ)
1g、ジブチルカービトル4g、 0.3μm球状金属銀粉
末45gと8μmのフレーク状銀粉末15g、ガラスフリッ
ト(旭硝子製:1350)4g、オクチル酸ビスマス1gを
混合、混練し、インキを作製した。
Production Example 14 35 g of an alkyd resin (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc .: Beckosol EL-8001) was added to 35 g of a polymerization initiator (acrylic oligomer).
1 g, dibutyl carbitol 4 g, 0.3 μm spherical metallic silver powder 45 g, 8 μm flake silver powder 15 g, glass frit (Asahi Glass: 1350) 4 g, and bismuth octylate 1 g were mixed and kneaded to prepare an ink.

【0043】製造例15 アルキッド樹脂(大日本インキ化学工業製:ベッコゾー
ルEL−8001)15gに0.3μm球状金属銀粉末80g、ガ
ラスフリット(旭硝子製1581)3g、ナフテン酸ビスマ
ス 1.5g、アルミナフィラー 0.5gを混合、混練し、イ
ンキを作成した。
Production Example 15 80 g of 0.3 μm spherical metallic silver powder, 3 g of glass frit (1581 made by Asahi Glass), 1.5 g of bismuth naphthenate, and 0.5 g of alumina filler were added to 15 g of alkyd resin (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc .: Beckosol EL-8001). Was mixed and kneaded to prepare an ink.

【0044】比較例2 樹脂成分としてエチルセルロース 7.5gをメチルイソブ
チルケトン 7.5gに溶解させ、 0.3μmの球状金属銀粉
末75gとα−ターピニョールを5g、PbO2−B2
3 −SiO2 系の1μmのガラスフリット5gを加え
て、プレミックスした後、三本ロールにて均質になるま
で十分に混練した。この銀ペーストを用いて、50cm×50
cmのガラス基板に1回スクリーン印刷(325 メッシュ)
を行った。この所定パターンを印刷したガラス基板を電
気炉にて焼成した。この時の焼成プロファイルは 550℃
を30分で昇温、10分間保持した後1時間で冷却した。
Comparative Example 2 As a resin component, 7.5 g of ethyl cellulose was dissolved in 7.5 g of methyl isobutyl ketone, and 75 g of spherical metallic silver powder of 0.3 μm, 5 g of α-terpineol and PbO 2 -B 2 O were added.
After 5 g of 3- SiO 2 -based 1 μm glass frit was added and premixed, it was sufficiently kneaded with a three-roll mill until it became homogeneous. With this silver paste, 50 cm x 50
Screen printing once on cm glass substrate (325 mesh)
I went. The glass substrate on which this predetermined pattern was printed was baked in an electric furnace. The firing profile at this time is 550 ℃
Was heated for 30 minutes, held for 10 minutes, and then cooled for 1 hour.

【0045】その結果、30μmのライン1スペースのパ
ターンは全体に隣接する線に接触し、ベタ状に印刷さ
れ、全く解像されていなかった。
As a result, the pattern of 30 μm line 1 space contacted the line adjacent to the whole and was printed in a solid pattern, and was not resolved at all.

【0046】ガラス基材上に印刷されたパターンの位置
ずれを測定した結果、縦方向では+180μm、横方向で
は+80μmの位置ずれがあった。このときの膜圧は10μ
mでシート抵抗は2mΩ/□であった。
As a result of measuring the displacement of the pattern printed on the glass substrate, there was a displacement of +180 μm in the vertical direction and a displacement of +80 μm in the horizontal direction. The membrane pressure at this time is 10μ
The sheet resistance at m was 2 mΩ / □.

【0047】比較例3 製造例7のインキを用いてガラス基板上に50cm×50cmの
所定パターンを4回重ね刷りのオフセット印刷を行った
結果30μmのライン/スペースは解像されていた。縦横
方向の位置ずれは±5μm以下であった。このガラス基
板を従来例と同様に 550℃で焼成した。
Comparative Example 3 The ink of Production Example 7 was used to perform offset printing by overprinting a predetermined pattern of 50 cm × 50 cm four times on a glass substrate. As a result, a line / space of 30 μm was resolved. The positional deviation in the vertical and horizontal directions was ± 5 μm or less. This glass substrate was fired at 550 ° C. as in the conventional example.

【0048】その結果、30μmのライン/スペースの解
像および位置ずれは同様であった。しかし、密着力はテ
ープピールテストではがれる程弱かった。又、シート抵
抗は25mΩ/□であった。
As a result, the resolution and displacement of the line / space of 30 μm were similar. However, the adhesion was weak enough to peel off in the tape peel test. The sheet resistance was 25 mΩ / □.

【0049】実施例8 製造例8のインキを用いてガラス基板上に50cm×5
0cmの所定パターンを4回重ね刷りのオフセット印刷
を行った結果30μmのライン/スペースは解像されて
いた。縦横方向の位置ずれは±5μm以下であった。こ
のガラス基板を550℃で焼成した。
Example 8 50 cm × 5 was formed on a glass substrate using the ink of Production Example 8.
As a result of performing offset printing by overprinting a predetermined pattern of 0 cm four times, a line / space of 30 μm was resolved. The positional deviation in the vertical and horizontal directions was ± 5 μm or less. This glass substrate was baked at 550 ° C.

【0050】その結果、30μmライン/スペースの解
像および位置ずれは同様であった。密着力はテープピー
ルテストでははがれなかった。
As a result, the resolution and displacement of 30 μm line / space were similar. Adhesion did not come off in the tape peel test.

【0051】実施例9 製造例8のインキを用いて4回印刷後、紫外線を1分照
射する。同様に4回印刷と紫外線照射をくり返し、合計
20回印刷した。 550℃、10分で焼成した結果、30μmの
ライン/スペースは解像されており、縦横方向の位置ず
れはそれぞれ±5μm以下であった。
Example 9 After printing four times with the ink of Production Example 8, the ultraviolet ray is irradiated for 1 minute. Repeatedly printing 4 times and UV irradiation in the same way, total
Printed 20 times. As a result of firing at 550 ° C. for 10 minutes, the line / space of 30 μm was resolved, and the positional deviation in the vertical and horizontal directions was ± 5 μm or less.

【0052】実施例10 製造例9のインキを用いて4回印刷後、プレスした後紫
外線を1分照射した後、同様に4回印刷とプレスおよび
紫外線照射をくり返し、計20回印刷した。これによりパ
ターンの平滑化が進んだ。30μmのライン/スペースは
一部解像されていないところがあったが、50μmのライ
ン/スペースは解像されていた。縦横方向はそれぞれ20
μm以下であった。このガラス基板を 550℃、10分で焼
成した結果、解像は50μmのライン/スペースまでされ
ており、位置精度は焼成前と同様20μm以下であった。
シート抵抗は12mΩ/□で、密着力も良かった。
Example 10 After printing four times using the ink of Production Example 9, after pressing and irradiating with ultraviolet rays for 1 minute, printing was repeated four times, pressing and irradiation with ultraviolet rays were repeated in the same manner, and a total of 20 times were printed. As a result, the smoothing of the pattern progressed. Some of the 30 μm lines / spaces were not resolved, but the 50 μm lines / spaces were resolved. 20 in each direction
It was less than μm. As a result of firing this glass substrate at 550 ° C. for 10 minutes, the resolution was up to 50 μm line / space, and the positional accuracy was 20 μm or less as before firing.
The sheet resistance was 12 mΩ / □ and the adhesion was good.

【0053】実施例11〜15 上記と同様な操作を行った結果を表3、表4及び表5に
記した。
Examples 11 to 15 The results of the same operations as above are shown in Tables 3, 4 and 5.

【0054】実施例16 製造例15のインキを用いて50×50μmのアルミナ基板
に4回印刷後、紫外線を2分照射した後、くり返し計20
回印刷した。この印刷されたアルミナ基板を650℃で焼
成した。30μmのライン/スペースは解像されていた。
縦横方向の位置ずれはそれぞれ5μm以下であった。結
果を表3、表4及び表5に記した。
Example 16 The ink of Production Example 15 was used to print on an alumina substrate of 50 × 50 μm four times, after which it was irradiated with ultraviolet rays for 2 minutes, and then repeated 20 times.
Printed twice. The printed alumina substrate was fired at 650 ° C. The 30 μm line / space was resolved.
The positional deviation in the vertical and horizontal directions was 5 μm or less. The results are shown in Tables 3, 4 and 5.

【0055】[0055]

【表3】 [Table 3]

【0056】[0056]

【表4】 [Table 4]

【0057】[0057]

【表5】 [Table 5]

【0058】[0058]

【発明の効果】本発明の方法によればオフセット印刷に
より簡便に所定のパターンが得られ、しかも解像度と位
置精度の高い印刷パターンを形成させることができる。
According to the method of the present invention, a predetermined pattern can be easily obtained by offset printing, and a print pattern having high resolution and high positional accuracy can be formed.

Claims (16)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 アルキッド樹脂、変性アルキッド樹脂、
変性エポキシ樹脂、ウレタン化油、ロジンおよびマレイ
ン化油より選ばれる少なくとも1種以上の樹脂成分、溶
剤成分および金属銀粉末を含有することを特徴とする銀
導体回路用オフセット印刷インキ。
1. An alkyd resin, a modified alkyd resin,
An offset printing ink for a silver conductor circuit, which contains at least one resin component selected from a modified epoxy resin, a urethanized oil, a rosin and a maleated oil, a solvent component and a metallic silver powder.
【請求項2】 さらに、フラックス成分を含有する請求
項1記載の銀導体回路用オフセット印刷インキ。
2. The offset printing ink for silver conductor circuits according to claim 1, further comprising a flux component.
【請求項3】 さらに、レベリング剤、重合開始剤、酸
化促進剤、皮はり防止剤、増粘剤、金属キレート樹脂お
よび分散剤の内の1種または2種以上を含有する請求項
1または請求項2に記載の銀導体回路用オフセット印刷
インキ。
3. The method according to claim 1, further comprising one or more of a leveling agent, a polymerization initiator, an oxidation accelerator, an anti-skinning agent, a thickener, a metal chelate resin and a dispersant. Item 2. The offset printing ink for silver conductor circuits according to Item 2.
【請求項4】 金属銀粉末が粒径0.05〜 1.0μmの球状
粉末及び/又は 0.5〜5μmのフレーク状粉末であるこ
とを特徴とする請求項1、請求項2または請求項3に記
載の銀導体回路用オフセット印刷インキ。
4. The silver according to claim 1, wherein the metallic silver powder is a spherical powder having a particle diameter of 0.05 to 1.0 μm and / or a flake powder having a particle diameter of 0.5 to 5 μm. Offset printing ink for conductor circuits.
【請求項5】 アルキッド樹脂、変性アルキッド樹脂、
変性エポキシ樹脂、ウレタン化油、ロジンおよびマレイ
ン化油より選ばれる少なくとも1種以上の樹脂成分、溶
剤成分および金属銀粉末を含有する銀導体回路用オフセ
ット印刷インキを用いてパターンを基材上にオフセット
印刷する工程、この印刷パターンをそのまま/又は活性
エネルギー線の照射及び/又は加熱によって硬化せしめ
る工程、硬化せしめた印刷パターンをそのまま/又は同
一パターンで重ね刷りする工程、乾燥する工程とから成
ることを特徴とする銀導体回路の形成方法。
5. An alkyd resin, a modified alkyd resin,
Offset a pattern on a substrate using an offset printing ink for a silver conductor circuit containing at least one resin component selected from a modified epoxy resin, urethanized oil, rosin and maleated oil, a solvent component and metallic silver powder. A step of printing, a step of curing this print pattern as it is / or by irradiation with active energy rays and / or heating, a step of overprinting the cured print pattern as it is / or the same pattern, and a step of drying. A method for forming a characteristic silver conductor circuit.
【請求項6】 金属銀粉末が粒径0.05〜 1.0μmの球状
粉末及び/又は 0.5〜5μmのフレーク状粉末であるこ
とを特徴とする請求項5に記載の銀導体回路の形成方
法。
6. The method for forming a silver conductor circuit according to claim 5, wherein the metallic silver powder is a spherical powder having a particle diameter of 0.05 to 1.0 μm and / or a flake powder having a particle diameter of 0.5 to 5 μm.
【請求項7】 所定パターンを基材上に印刷したのち、
この印刷パターンをプレスする事により印刷パターン表
面の平滑化を促す請求項5または請求項6に記載の銀導
体回路の形成方法。
7. After printing a predetermined pattern on a substrate,
The method for forming a silver conductor circuit according to claim 5 or 6, wherein the printed pattern is pressed to promote smoothing of the surface of the printed pattern.
【請求項8】 活性エネルギー線が紫外線、赤外線、電
子線の1種以上である請求項5、請求項6または請求項
7に記載の銀導体回路の形成方法。
8. The method for forming a silver conductor circuit according to claim 5, 6 or 7, wherein the active energy rays are one or more of ultraviolet rays, infrared rays and electron rays.
【請求項9】 銀導体回路用オフセット印刷インキがレ
ベリング剤、重合開始剤、酸化促進剤、皮はり防止剤、
増粘剤、金属キレート樹脂および分散剤の内の1種また
は2種以上を含有する請求項5、請求項6、請求項7ま
たは請求項8に記載の銀導体回路の形成方法。
9. A silver conductor circuit offset printing ink comprising a leveling agent, a polymerization initiator, an oxidation accelerator, an anti-skinning agent,
The method for forming a silver conductor circuit according to claim 5, claim 6, claim 7, or claim 8, containing one or more of a thickener, a metal chelate resin, and a dispersant.
【請求項10】 アルキッド樹脂、変性アルキッド樹
脂、変性エポキシ樹脂、ウレタン化油、ロジンおよびマ
レイン化油より選ばれる少なくとも1種以上の樹脂成
分、溶剤成分、金属銀粉末およびフラックス成分とを含
有する銀導体回路用オフセット印刷インキを用いてパタ
ーンを基材上にオフセット印刷する工程、この印刷パタ
ーンをそのまま/又は活性エネルギー線の照射及び/又
は加熱によって硬化せしめる工程、硬化せしめた印刷パ
ターンをそのまま/又は同一パターンで重ね刷りする工
程、焼成する工程とから成ることを特徴とする銀導体回
路の形成方法。
10. Silver containing at least one resin component selected from alkyd resin, modified alkyd resin, modified epoxy resin, urethanized oil, rosin and maleated oil, a solvent component, a metallic silver powder and a flux component. Step of offset printing a pattern on a substrate using an offset printing ink for a conductor circuit, step of curing this printing pattern as it is / or irradiation of active energy rays and / or heating, and printing of the cured pattern as it is / or A method of forming a silver conductor circuit, comprising the steps of overprinting with the same pattern and firing.
【請求項11】 焼成温度が 300℃以上であることを特
徴とする請求項10に記載の銀導体回路の形成方法。
11. The method for forming a silver conductor circuit according to claim 10, wherein the firing temperature is 300 ° C. or higher.
【請求項12】 金属銀粉末が粒径0.05〜 1.0μmの球
状粉及び/又は 0.5〜5μmのフレーク状粉末である請
求項10または請求項11に記載の銀導体回路の形成方
法。
12. The method for forming a silver conductor circuit according to claim 10, wherein the metallic silver powder is a spherical powder having a particle diameter of 0.05 to 1.0 μm and / or a flake powder having a particle diameter of 0.5 to 5 μm.
【請求項13】 所定パターンを基材上に印刷した後、
この印刷パターンをプレスすることにより印刷パターン
表面の平滑化を促す請求項10、請求項11または請求
項12に記載の銀導体回路の形成方法。
13. After printing a predetermined pattern on a substrate,
The method for forming a silver conductor circuit according to claim 10, 11 or 12, wherein the surface of the printed pattern is promoted by pressing the printed pattern.
【請求項14】 活性エネルギー線が紫外線、赤外線、
電子線の1種以上である請求項10、請求項11、請求
項12または請求項13に記載の銀導体回路の形成方
法。
14. The active energy rays are ultraviolet rays, infrared rays,
The method for forming a silver conductor circuit according to claim 10, claim 11, claim 12 or claim 13, which is one or more kinds of electron beams.
【請求項15】 銀導体回路用オフセット印刷インキが
さらにレベリング剤、重合開始剤、酸化促進剤、皮はり
防止剤、増粘剤、金属キレート樹脂、分散剤およびフィ
ラーの内の1種または2種以上を含有する請求項10、
請求項11、請求項12、請求項13または請求項14
に記載の銀導体回路の形成方法。
15. The offset printing ink for silver conductor circuits further comprises one or two of a leveling agent, a polymerization initiator, an oxidation accelerator, an anti-skinning agent, a thickener, a metal chelate resin, a dispersant and a filler. Claim 10 containing the above,
Claim 11, Claim 12, Claim 13 or Claim 14
A method for forming a silver conductor circuit according to.
【請求項16】 フラックス成分が有機金属化合物及び
/又はガラスフリットである請求項10、請求項11、
請求項12、請求項13、請求項14または請求項15
に記載の銀導体回路の形成方法。
16. The method according to claim 10, wherein the flux component is an organic metal compound and / or a glass frit.
Claim 12, Claim 13, Claim 14 or Claim 15
A method for forming a silver conductor circuit according to.
JP2686192A 1992-02-13 1992-02-13 Offset ink for forming silver conductor circuit and method for forming silver conductor circuit Pending JPH05222326A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2686192A JPH05222326A (en) 1992-02-13 1992-02-13 Offset ink for forming silver conductor circuit and method for forming silver conductor circuit

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2686192A JPH05222326A (en) 1992-02-13 1992-02-13 Offset ink for forming silver conductor circuit and method for forming silver conductor circuit

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH05222326A true JPH05222326A (en) 1993-08-31

Family

ID=12205074

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2686192A Pending JPH05222326A (en) 1992-02-13 1992-02-13 Offset ink for forming silver conductor circuit and method for forming silver conductor circuit

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH05222326A (en)

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1997048257A1 (en) * 1996-06-12 1997-12-18 Brunel University Electrical circuit
JP2004168961A (en) * 2002-11-22 2004-06-17 Konica Minolta Holdings Inc Active energy beam-curing type ink and printed material by using the same
US6824857B2 (en) 2001-04-02 2004-11-30 Nashua Corporation Circuit elements having an embedded conductive trace and methods of manufacture
JP2005248061A (en) * 2004-03-05 2005-09-15 Toyo Ink Mfg Co Ltd Conductive ink and non-contact medium using the same
JP2009026896A (en) * 2007-07-18 2009-02-05 Taiyo Ink Mfg Ltd Translucent conductive film
JP2010087131A (en) * 2008-09-30 2010-04-15 Mitsubishi Materials Corp Conductive ink composition and solar cell module formed using the composition
JP2011512426A (en) * 2008-01-30 2011-04-21 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア Conductive ink having organometallic modifier
JP2011514397A (en) * 2008-01-30 2011-05-06 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア Conductive ink
JP2012503840A (en) * 2008-08-29 2012-02-09 エスエスシーピー・カンパニー・リミテッド Conductive paste composition
US9305854B2 (en) 2012-08-21 2016-04-05 Stats Chippac, Ltd. Semiconductor device and method of forming RDL using UV-cured conductive ink over wafer level package
WO2017195491A1 (en) * 2016-05-10 2017-11-16 バンドー化学株式会社 Electroconductive ink
EP3530706A1 (en) * 2018-02-27 2019-08-28 Fundación Cetena Method for producing a conductive ink for offset printing and conductive ink thus produced

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6356234B1 (en) 1996-06-12 2002-03-12 R T Microwave Limited Electrical circuit
WO1997048257A1 (en) * 1996-06-12 1997-12-18 Brunel University Electrical circuit
US6824857B2 (en) 2001-04-02 2004-11-30 Nashua Corporation Circuit elements having an embedded conductive trace and methods of manufacture
JP2004168961A (en) * 2002-11-22 2004-06-17 Konica Minolta Holdings Inc Active energy beam-curing type ink and printed material by using the same
JP4595353B2 (en) * 2004-03-05 2010-12-08 東洋インキ製造株式会社 Conductive ink and non-contact type medium using the same
JP2005248061A (en) * 2004-03-05 2005-09-15 Toyo Ink Mfg Co Ltd Conductive ink and non-contact medium using the same
JP2009026896A (en) * 2007-07-18 2009-02-05 Taiyo Ink Mfg Ltd Translucent conductive film
JP2011514397A (en) * 2008-01-30 2011-05-06 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア Conductive ink
JP2011512426A (en) * 2008-01-30 2011-04-21 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア Conductive ink having organometallic modifier
JP2012503840A (en) * 2008-08-29 2012-02-09 エスエスシーピー・カンパニー・リミテッド Conductive paste composition
JP2010087131A (en) * 2008-09-30 2010-04-15 Mitsubishi Materials Corp Conductive ink composition and solar cell module formed using the composition
US9305854B2 (en) 2012-08-21 2016-04-05 Stats Chippac, Ltd. Semiconductor device and method of forming RDL using UV-cured conductive ink over wafer level package
WO2017195491A1 (en) * 2016-05-10 2017-11-16 バンドー化学株式会社 Electroconductive ink
JP6262404B1 (en) * 2016-05-10 2018-01-17 バンドー化学株式会社 Conductive ink
EP3530706A1 (en) * 2018-02-27 2019-08-28 Fundación Cetena Method for producing a conductive ink for offset printing and conductive ink thus produced

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6942825B2 (en) Silver compound paste
JPH05222326A (en) Offset ink for forming silver conductor circuit and method for forming silver conductor circuit
US20160249460A1 (en) Conductive Ink Composition for Offset or Reverse-Offset Printing
KR101685469B1 (en) Improved Hot Melt Compositions
CN101523508B (en) Organic silver complex compound used in paste for conductive pattern forming
JP5320962B2 (en) Conductive composition, method for forming conductive film, and conductive film
JP2003506882A (en) Diffusion barrier and adhesive for application of PARMOD ™ to rigid printed wiring boards
JPH05311103A (en) Printing ink for silver conductor circuit and method for forming silver conductor circuit
JP2011503240A (en) Electrode composition for offset printing, electrode manufacturing method using the same, and plasma display panel using the same
JP2007280881A (en) Conductive composition, formation method of conductive coating, and conductive coating
KR20070048257A (en) Sliver paste composition
JP2009105034A (en) Conductive composition, forming method for conductive film, and conductive film
JPH05266708A (en) Printing ink for silver conductor circuit and method of forming silver conductor circuit
US7429341B2 (en) Electroconductive composition, method for producing electroconductive film, and electroconductive film
KR20080029655A (en) Electrical conductive paste and substrate using the same
JP5693253B2 (en) Conductive composition and conductive film
EP0843319B1 (en) Paste for burn-in layer
US8562808B2 (en) Polymer thick film silver electrode composition for use as a plating link
KR101332406B1 (en) Electroconductive paste composition for low temperature plasticity and method of producing the same
JP5135818B2 (en) Ink composition for printing, method for producing the same, method for forming electrode for plasma display panel using the composition, and electrode therefor
JP2008243484A (en) Conductive metal paste, and method of forming metal film
JP5320974B2 (en) Conductive composition, substrate with conductive film, and method for producing the same
JP2663590B2 (en) Screen printing ink for forming thin film resistor and method for forming thin film resistor using this ink
US20090277582A1 (en) Thick film recycling method
JPH03268403A (en) Manufacture of resistor paste