JPH0521861A - Magnetic resistance converting element - Google Patents
Magnetic resistance converting elementInfo
- Publication number
- JPH0521861A JPH0521861A JP3176920A JP17692091A JPH0521861A JP H0521861 A JPH0521861 A JP H0521861A JP 3176920 A JP3176920 A JP 3176920A JP 17692091 A JP17692091 A JP 17692091A JP H0521861 A JPH0521861 A JP H0521861A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- terminal
- terminal lead
- sensor
- magnetic resistance
- output
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 16
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 19
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 5
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 10
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 6
- 238000009795 derivation Methods 0.000 description 3
- 229910001030 Iron–nickel alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 229910003266 NiCo Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Hall/Mr Elements (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は磁気抵抗変換素子、例え
ば磁気スケール装置等の微小位置検出装置におけるその
磁気スケールからの磁界を検出する磁気抵抗効果(M
R)薄膜よりなる磁気抵抗変換素子に係わる。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetoresistive conversion element, for example, a magnetoresistive effect (M) for detecting a magnetic field from a magnetic scale in a minute position detecting device such as a magnetic scale device.
R) The present invention relates to a magnetoresistive conversion element composed of a thin film.
【0002】[0002]
【従来の技術】例えば磁気スケール等の一定の繰返し磁
化パターンに対する相対的変位による外部磁界変化を電
気信号に変換してその微小位置検出、さらにこれによる
長さ測定、移動量、さらに移動速度、回転速度等の検出
を行う微小位置検出装置における検出素子としてMR薄
膜よりなる磁気抵抗変換素子を用いるものがある。2. Description of the Related Art For example, a change in an external magnetic field due to a relative displacement with respect to a constant repetitive magnetization pattern of a magnetic scale or the like is converted into an electric signal to detect a minute position thereof, and further, a length measurement, a moving amount, a moving speed and a rotation are obtained. There is a device using a magnetoresistive conversion element made of an MR thin film as a detection element in a minute position detection device for detecting a speed and the like.
【0003】図3はその微小位置検出位置の配置構成図
を示す。11は、NS着磁パターンがピッチλをもって
繰返し配列された微小位置検出用の外部磁界を与える磁
気スケールで、この磁気スケール11の繰返しNS着磁
パターンの配列方向に磁気抵抗変換素子21が磁気スケ
ール11に対向して相対的に移行するようになされる。FIG. 3 shows an arrangement configuration diagram of the minute position detection position. Reference numeral 11 denotes a magnetic scale that provides an external magnetic field for minute position detection in which NS magnetization patterns are repeatedly arranged with a pitch λ, and the magnetoresistive conversion element 21 has a magnetic scale in the direction of arrangement of the repeated NS magnetization patterns of the magnetic scale 11. It is adapted to move relative to 11 facing.
【0004】この磁気抵抗変換素子21は、図4にその
回路構成を示すように、電源(Vcc)端子1と接地端
子2G1 及び2G2 間にそれぞれ対のMR薄膜よりなる
センサー部すなわち感磁部MR1 及びMR2 、MR3 及
びMR4 、MR5 及びMR6 が接続され、各対のセンサ
ー部の接続中点から、それぞれ出力端子12,34,5
6が導出される。また、これら対の直列接続によるセン
サー部と並列に基準出力取出し用の直列接続された抵抗
RS1及びRS2が接続され、その接続中点から基準電圧取
出し端子S12が導出された構成が採られる。As shown in the circuit configuration of FIG. 4, the magnetoresistive conversion element 21 includes a pair of MR thin films formed between a power source (Vcc) terminal 1 and ground terminals 2G 1 and 2G 2 , that is, a magnetic sensor. Sections MR 1 and MR 2 , MR 3 and MR 4 , MR 5 and MR 6 are connected, and output terminals 12, 34 and 5 are output from the connection midpoints of the sensor sections of each pair.
6 is derived. In addition, a configuration is adopted in which resistors R S1 and R S2 connected in series for extracting a reference output are connected in parallel with the sensor unit by the series connection of these pairs, and the reference voltage extraction terminal S 12 is derived from the midpoint of the connection. Be done.
【0005】各センサー部MR1 〜MR6 は、それぞれ
図3に示すように、磁気スケール11の着磁パターンの
配列方向Xに対して直交するY方向に延びる細線状パタ
ーンがジクザグパターンをもってかつそれぞれ対のジグ
ザグパターンが磁気スケール11の着磁ピッチλに対応
するピッチをもって配列形成されてかつセンサー部MR
1 とMR2 とが、またMR3 とMR4 とが、MR5 とM
R6 とが、それぞれ磁気スケール11の着磁ピッチλの
λ/2の整数倍になるように配置される。As shown in FIG. 3, each of the sensor portions MR 1 to MR 6 has a thin linear pattern extending in the Y direction orthogonal to the arrangement direction X of the magnetization pattern of the magnetic scale 11 and has a zigzag pattern. The pair of zigzag patterns are arrayed and formed at a pitch corresponding to the magnetization pitch λ of the magnetic scale 11, and the sensor unit MR is provided.
1 and MR 2 , MR 3 and MR 4 , MR 5 and M
R 6 and R 6 are arranged so as to each be an integral multiple of λ / 2 of the magnetization pitch λ of the magnetic scale 11.
【0006】また、各対のセンサー部MR1 及びMR2
間の出力端子12、MR3 及びMR 4 間の出力端子3
4、MR5 及びMR6 間の出力端子56、基準抵抗RS1
及びR S2間の端子S12及び電源Vcc端子1は、それぞ
れ充分大なる幅をもって上述の着磁パターンの配列方向
Xと直交するY方向に延長するように形成される。Further, each pair of sensor units MR1And MR2
Output terminal 12, MR3And MR FourOutput terminal 3 between
4, MRFiveAnd MR6Output terminal 56 between, reference resistance RS1
And R S2Terminal S between12And the power supply Vcc terminal 1 are respectively
With a sufficiently large width, the above-mentioned magnetization pattern arrangement direction
It is formed so as to extend in the Y direction orthogonal to X.
【0007】これら、各端子12,34,56,S12,
1は、それぞれ製造工程数の低減化、全体のパターンの
高密度高精度化のために、MR薄膜よりなる各センサー
部MR1 〜MR6 さらに基準出力取出し用抵抗RS1及び
RS2と共に同一の磁気抵抗効果薄膜によって形成した端
子導出部52によって形成する。即ち、例えばNiFe
あるいはNiCo等のMR薄膜の全面蒸着、スパッタ等
の成膜の後にフォトリソグラフィによる選択的エッチン
グ等によって各センサー部MR1 〜MR6 、抵抗RS1,
RS2等と同時に形成される。These terminals 12 , 34, 56, S 12 ,
In order to reduce the number of manufacturing steps and to increase the density and accuracy of the entire pattern, 1 is the same as the sensor units MR 1 to MR 6 made of MR thin film and the reference output extracting resistors R S1 and R S2 . It is formed by the terminal lead-out portion 52 formed of a magnetoresistive thin film. That is, for example, NiFe
Alternatively, the sensor parts MR 1 to MR 6 , the resistances R S1 ,
It is formed at the same time as R S2 .
【0008】このような構成による磁気抵抗変換素子に
よれば磁気スケール11から与えられる外部磁界によっ
て各出力端子12,34,56から、それぞれλ/3、
2λ/3の位置に対応する出力が取出され、任意の2つ
の出力端から図5においてA,B,C‥‥,a,b,c
‥‥の交点の出力によって位置情報が取出されることに
なる。According to the magnetoresistive conversion element having such a configuration, the external magnetic field applied from the magnetic scale 11 causes the output terminals 12, 34, 56 to output λ / 3, respectively.
The output corresponding to the position of 2λ / 3 is taken out, and A, B, C, ..., A, b, c in FIG.
The position information is taken out by the output of the intersection of.
【0009】ところが、上述した構成による場合、実際
上これら交点A,B,C‥‥,a,b,c‥‥の繰返し
交点にずれが発生して位置情報が不正確になる場合があ
る。これは、例えば図6に模式的に磁気スケール11の
NS着磁からの磁束を矢印をもって示すように、これに
よる外部磁界によって各端子部例えば接地端子部2
G 1 ,2G2 ,電源端子1等にその電界が与えられてこ
れに抵抗変化が生じることによる。すなわち、図4をみ
て明らかなように1つの例を挙げると、センサー部MR
1 及びMR2 に対して電源端子1及び接地端子2G1 、
間にこれら端子1及び2G 1 の端子導出部52における
この磁界による抵抗変化がそれぞれ直列に挿入されるこ
とになる。However, in the case of the above-mentioned configuration,
Repeat these intersections A, B, C, ..., a, b, c ...
The position information may be inaccurate due to the displacement at the intersection.
It This is, for example, schematically shown in FIG.
As shown by the arrow, the magnetic flux from NS magnetization
Each terminal part, for example, the ground terminal part 2
G 1, 2G2, The electric field is applied to the power supply terminal 1 etc.
This is because the resistance changes. That is, see FIG.
As is clear from the above, one example is the sensor unit MR.
1And MR2For power supply terminal 1 and ground terminal 2G1,
Between these terminals 1 and 2G 1In the terminal derivation unit 52 of
The resistance change due to this magnetic field is inserted in series.
Becomes
【0010】そして、これら端子導出部52における磁
気抵抗変換の、各MR即ちセンサー部に対する影響を回
避すべく同相に配置することは実際上全体のパターンの
配置構成からの制約からほとんど不可能である。したが
ってこの各端子導出部52による磁気抵抗変換によって
図5で説明した出力波形に歪みが発生し、これが各位置
情報として読出す交点A,B,C,‥‥,a,b,c‥
‥に位置ずれを発生して正確な微小位置検出を阻害す
る。And, it is practically almost impossible to arrange them in the same phase in order to avoid the influence of the magnetoresistive conversion in the terminal lead-out portion 52 on each MR, that is, the sensor portion, due to the restriction from the arrangement configuration of the entire pattern. .. Therefore, the output waveform described with reference to FIG. 5 is distorted by the magnetoresistive conversion by each terminal deriving unit 52, and this causes the intersections A, B, C, ..., A, b, c.
A position shift occurs in ..., which hinders accurate minute position detection.
【0011】しかも、これら各端子導出部52のパター
ンは、各センサー部に比してその抵抗値を小さくする必
要から実際上幅広に形成されるために、各端子導出部5
2のパターンの幅は、磁気スケール11のNS着磁ピッ
チλに近いものとなってきて、図6からもわかるよう
に、磁気スケールのNS着磁からの磁束が効果的にこの
各端子導出部52に導入されてしまって上述した位置検
出のずれの影響が大となる。In addition, since the pattern of each terminal lead-out portion 52 is actually formed wider than that of each sensor portion, it is necessary to make the resistance value smaller, so that each terminal lead-out portion 5 is formed.
The width of the pattern 2 becomes closer to the NS magnetizing pitch λ of the magnetic scale 11, and as can be seen from FIG. 6, the magnetic flux from the NS magnetizing of the magnetic scale is effective for each terminal lead portion. Since it is introduced into 52, the influence of the above-mentioned deviation of the position detection becomes large.
【0012】[0012]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述したよ
うに共通のMR薄膜によってセンサー部とこれよりの端
子導出部とが形成される磁気抵抗変換素子において、こ
の端子導出部による外部磁界に対する磁気抵抗変換効果
の影響を低減化して例えば微小位置検出を正確に行うこ
とができるようにする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention relates to a magnetoresistive conversion element in which a sensor section and a terminal lead-out section from the sensor section are formed by a common MR thin film as described above. The influence of the magnetoresistive conversion effect is reduced so that, for example, minute position detection can be accurately performed.
【0013】[0013]
【課題を解決するための手段】本発明においては、図1
にその一例の微小位置検出装置に適用する場合の一例の
配置構成図を示すように、共通の磁気抵抗効果薄膜すな
わちMR薄膜51によりセンサー部MRとこれよりの端
子導出部52とが構成されてなる磁気抵抗変換素子21
において、その端子導出部52にスリット53を設け
る。In the present invention, as shown in FIG.
As shown in the layout diagram of an example when applied to the minute position detecting device of that example, the sensor unit MR and the terminal lead-out unit 52 from the sensor unit MR are configured by the common magnetoresistive thin film, that is, the MR thin film 51. Magnetoresistive conversion element 21
In, the slit 53 is provided in the terminal lead-out portion 52.
【0014】このスリット53は、実際にはこれに対す
る通電方向に沿って延びかつ図2に示すように磁気スケ
ール11からの磁束方向を横切る方向にそのスリットが
延長するように形成する。Actually, the slit 53 is formed so as to extend along the energization direction to the slit 53 and extend in the direction transverse to the direction of the magnetic flux from the magnetic scale 11 as shown in FIG.
【0015】[0015]
【作用】上述の本発明構成によれば、端子導出部52に
スリット53を設けたことによって外部磁界の導入が効
果的に回避されると共に、その通電に関してはこのスリ
ット53の延長方向を、その通電方向に沿って設けれ
ば、このスリット53を設けることによる端子導出部5
2の抵抗増大化を効果的に回避することができる。According to the above-described structure of the present invention, the introduction of the external magnetic field is effectively avoided by providing the slit 53 in the terminal lead-out portion 52, and the energization of the external magnetic field is controlled in the extension direction of the slit 53. If provided along the energizing direction, the terminal lead-out portion 5 by providing this slit 53
It is possible to effectively avoid the increase in resistance of No. 2.
【0016】このように本発明構成によるときは、端子
導出部52における外部磁界の影響を効果的に回避でき
ることによって上述した微小位置検出装置等に適用した
場合においてその位置情報出力を正確に得ることができ
る。As described above, according to the configuration of the present invention, the position information output can be accurately obtained in the case of being applied to the above-mentioned minute position detecting device or the like by effectively avoiding the influence of the external magnetic field in the terminal lead-out portion 52. You can
【0017】[0017]
【実施例】本発明による磁気抵抗変換素子は、図1に示
すように図3及び図4で説明したと同様に例えばセンサ
ー部MR1 〜MR6 による構成を採り得るものであり、
そのパターン及び構成は、図3で説明したと同様となし
得るものであって図1において図3と対応する部分には
同一符号を付す。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS As shown in FIG. 1, the magnetoresistive conversion element according to the present invention can adopt the structure of, for example, the sensor portions MR 1 to MR 6 as described in FIGS. 3 and 4.
The pattern and the configuration can be the same as those described with reference to FIG. 3, and the portions in FIG. 1 corresponding to those in FIG.
【0018】すなわち本発明においても、図4にその回
路構成を示すように、電源(Vcc)端子1と接地端子
2G1 及び2G2 間にそれぞれ対のMR薄膜よりなるセ
ンサー部すなわち感磁部MR1 及びMR2 、MR3 及び
MR4 、MR5 及びMR6 が接続され、各対のセンサー
部の接続中点から、それぞれ出力端子12,34,56
が導出される。また、これら対の直列接続によるセンサ
ー部と並列に基準出力取出し用の直列接続された抵抗R
S1及びRS2が接続されてその接続中点から基準電圧取出
し端子S12が導出された構成が採られる。That is, also in the present invention, as shown in the circuit configuration of FIG. 4, a sensor portion, ie, a magnetic sensitive portion MR, which is composed of a pair of MR thin films, is provided between the power supply (Vcc) terminal 1 and the ground terminals 2G 1 and 2G 2. 1 and MR 2 , MR 3 and MR 4 , MR 5 and MR 6 are connected, and the output terminals 12, 34 and 56 are respectively output from the connection midpoints of the sensor units of each pair.
Is derived. In addition, a resistor R connected in series for extracting a reference output in parallel with the sensor unit by connecting these pairs in series.
A configuration is adopted in which S1 and R S2 are connected and the reference voltage output terminal S 12 is derived from the midpoint of the connection.
【0019】各センサー部MR1 〜MR6 は、例えば磁
気スケール11の着磁パターンの配列方向Xに対して直
交するY方向に延びる細線状パターンがジクザクパター
ンをもってかつそれぞれ対のジグザグパターンが磁気ス
ケール11の着磁ピッチλに対応するピッチをもって配
列形成されてかつセンサー部MR1 とMR2 とが、また
MR3 とMR4 とが、MR5 とMR6 とが、それぞれ磁
気スケール11の着磁ピッチλのλ/2の整数倍になる
ように配置される。In each of the sensor units MR 1 to MR 6 , for example, a thin linear pattern extending in the Y direction orthogonal to the arrangement direction X of the magnetization pattern of the magnetic scale 11 has a zigzag pattern, and each pair of zigzag patterns has a magnetic scale. The magnetic scale 11 is magnetized by the sensor portions MR 1 and MR 2 , MR 3 and MR 4 , MR 5 and MR 6, which are arranged and arranged at a pitch corresponding to the magnetizing pitch λ of 11. It is arranged so as to be an integral multiple of λ / 2 of the pitch λ.
【0020】また、各対のセンサー部MR1 及びMR2
間の出力端子12、MR3 及びMR 4 間の出力端子3
4、MR5 及びMR6 間の出力端子56、基準抵抗RS1
及びR S2間の端子S12及びVcc端子1は、それぞれ充
分大なる幅をもって上述の着磁パターンの配列方向Xと
直交するY方向に延長するように形成される。Further, each pair of sensor units MR1And MR2
Output terminal 12, MR3And MR FourOutput terminal 3 between
4, MRFiveAnd MR6Output terminal 56 between, reference resistance RS1
And R S2Terminal S between12, And Vcc terminal 1 are
With a width that is larger than that of the above-mentioned magnetizing pattern array direction X
It is formed so as to extend in the orthogonal Y direction.
【0021】そして、これら、各端子12,34,5
6,S12,1は、それぞれ製造工程数の低減化、全体の
パターンの高密度、高精度化のために、MR薄膜よりな
る各センサー部MR1 〜MR6 さらに基準出力取出し用
抵抗RS1及びRS2と共に同一の磁気抵抗効果薄膜によっ
て形成した端子導出部52によって形成する。即ち、例
えばNiFeあるいはNiCo等のMR薄膜の全面蒸
着、スパッタ等の成膜の後にフォトリソグラフィによる
選択的エッチング等によって各センサー部MR1 〜MR
6 、抵抗RS1,RS2等と、同時に形成される。And, these terminals 12, 34, 5
6, S 12 , 1 are the sensor parts MR 1 to MR 6 made of an MR thin film and the reference output extracting resistor R S1 in order to reduce the number of manufacturing steps, increase the density of the entire pattern, and improve the accuracy. And R S2 together with the terminal lead-out portion 52 formed of the same magnetoresistive thin film. That is, the sensor parts MR 1 to MR are formed by vapor deposition of an MR thin film such as NiFe or NiCo on the whole surface, film formation such as sputtering, and then selective etching by photolithography.
6 , the resistors R S1 , R S2, etc. are formed at the same time.
【0022】そして、特に本発明においては、上述した
MR薄膜のフォトリソグラフィによってパターン化して
各センサー部MR1 〜MR6 、さらに各端子導出部52
さらに抵抗RS1,RS2の形成に際してそのMR導出部5
2にスリット53を形成する。In particular, in the present invention, the above-mentioned MR thin film is patterned by photolithography to form each sensor portion MR 1 to MR 6 and each terminal lead portion 52.
Further, when forming the resistors R S1 and R S2 , the MR derivation portion 5 thereof is formed.
The slit 53 is formed in 2.
【0023】このスリット53は端子導出部52におけ
る主たる電流通路に沿って延長し、その延長方向に各ス
リット53が断続的にあるいは連続的に形成し、かつ外
部磁界に対してその磁束の導入方向に対してスリット5
3が横切るように配置形成する。The slits 53 extend along the main current path in the terminal lead-out portion 52, and the slits 53 are formed intermittently or continuously in the extension direction, and the direction of introduction of the magnetic flux with respect to the external magnetic field. Against slit 5
3 is arranged and formed so as to cross.
【0024】このようにスリット53が設けられたこと
によって端子導出部52の磁気スケール11等からの外
部磁束に対する磁気抵抗が大となることから図2に模式
的に示すように端子導出部52への磁束導入の低減化が
はかられ、この端子導出部52における抵抗変化も小と
なる。Since the slit 53 is provided in this manner, the magnetic resistance of the terminal lead-out portion 52 to the external magnetic flux from the magnetic scale 11 and the like becomes large, so that the terminal lead-out portion 52 is connected to the terminal lead-out portion 52 as schematically shown in FIG. The introduction of magnetic flux is reduced, and the resistance change in the terminal lead-out portion 52 is also small.
【0025】尚、上述した例においては、各端子導出部
52を磁気スケール11の繰返しNS着磁パターンの配
列方向Xと直交するY方向に各センサー部MRの細線状
パターンに沿って形成するようにした場合であるが、こ
の導出部がY方向により傾いた方向に屈曲したパターン
を採る場合等種々の形状パターンを採る場合においても
本発明を適用することができる。In the above example, each terminal lead-out portion 52 is formed along the thin linear pattern of each sensor portion MR in the Y direction orthogonal to the arrangement direction X of the repeated NS magnetization pattern of the magnetic scale 11. However, the present invention can be applied to the case where various derivation patterns are adopted, such as the case where the lead-out portion takes a pattern bent in the direction inclined with respect to the Y direction.
【0026】また、上述した例においては、磁気スケー
ルにより外部磁界を与える磁気抵抗変換素子21に本発
明を適用した場合であるが、その他各種の外部磁界印加
手段による磁気抵抗変換素子に本発明を適用することが
できる。Further, in the above-mentioned example, the present invention is applied to the magnetoresistive conversion element 21 which gives the external magnetic field by the magnetic scale, but the present invention is applied to the magnetoresistive conversion element by various other external magnetic field applying means. Can be applied.
【0027】[0027]
【発明の効果】上述したように本発明構成によれば端子
導出部52における外部磁界の影響を効果的に回避でき
ることによって上述した微小位置検出装置等に適用した
場合においてその位置検出出力を正確に得ることができ
る。As described above, according to the configuration of the present invention, the effect of the external magnetic field in the terminal lead-out portion 52 can be effectively avoided, so that the position detection output can be accurately measured when applied to the above-mentioned minute position detecting device or the like. Obtainable.
【図1】本発明による磁気抵抗変換素子の一例を適用し
た微小位置検出装置の一例の略線的配置図である。FIG. 1 is a schematic line layout view of an example of a minute position detecting device to which an example of a magnetoresistive conversion element according to the present invention is applied.
【図2】本発明による端子導出部とスリットと外部磁界
との関係を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing a relationship between a terminal lead-out portion, a slit, and an external magnetic field according to the present invention.
【図3】従来の磁気抵抗変換素子を用いた微小位置検出
装置の略線的構成図である。FIG. 3 is a schematic configuration diagram of a minute position detecting device using a conventional magnetoresistive conversion element.
【図4】磁気抵抗変換素子の一例の回路図である。FIG. 4 is a circuit diagram of an example of a magnetoresistive conversion element.
【図5】その出力の波形図である。FIG. 5 is a waveform diagram of its output.
【図6】その端子導出部と外部磁界との関係を示す図で
ある。FIG. 6 is a diagram showing a relationship between the terminal lead-out portion and an external magnetic field.
MR1 センサー部 MR2 センサー部 MR3 センサー部 MR4 センサー部 MR5 センサー部 MR6 センサー部 51 MR薄膜 52 端子導出部 53 スリット部 11 磁気スケールMR 1 sensor part MR 2 sensor part MR 3 sensor part MR 4 sensor part MR 5 sensor part MR 6 sensor part 51 MR thin film 52 terminal lead-out part 53 slit part 11 magnetic scale
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山田 時晴 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Tomoharu Yamada 6-735 Kita-Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Sony Corporation
Claims (1)
部とこれよりの端子導出部とが構成されてなる磁気抵抗
変換素子において、 上記端子導出部にスリットを設けてなることを特徴とす
る磁気抵抗変換素子。Claim: What is claimed is: 1. A magnetoresistive conversion element comprising a sensor section and a terminal lead-out section formed from the same magnetoresistive thin film, wherein a slit is provided in the terminal lead-out section. A magnetoresistive conversion element characterized by.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3176920A JPH0521861A (en) | 1991-07-17 | 1991-07-17 | Magnetic resistance converting element |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3176920A JPH0521861A (en) | 1991-07-17 | 1991-07-17 | Magnetic resistance converting element |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0521861A true JPH0521861A (en) | 1993-01-29 |
Family
ID=16022078
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3176920A Pending JPH0521861A (en) | 1991-07-17 | 1991-07-17 | Magnetic resistance converting element |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0521861A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004014567A (en) * | 2002-06-03 | 2004-01-15 | Murata Mfg Co Ltd | Magnetoelectric transducer |
JP2009271081A (en) * | 2009-08-03 | 2009-11-19 | Murata Mfg Co Ltd | Magnetic sensor |
-
1991
- 1991-07-17 JP JP3176920A patent/JPH0521861A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004014567A (en) * | 2002-06-03 | 2004-01-15 | Murata Mfg Co Ltd | Magnetoelectric transducer |
JP2009271081A (en) * | 2009-08-03 | 2009-11-19 | Murata Mfg Co Ltd | Magnetic sensor |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6107793A (en) | Magnetic sensing device unaffected by positioning error of magnetic field sensing elements | |
JP3186403B2 (en) | Magnetic sensor and signal conversion circuit | |
EP0048983B1 (en) | Rotation detecting means for a rotating body | |
JP2581421Y2 (en) | Magnetic sensor | |
KR20070087628A (en) | Bridge type sensor with tunable characteristic | |
JP3367230B2 (en) | Position detection device | |
GB2356059A (en) | Multilayer magnetoresistive sensor/bridge circuit arrangement | |
JP2000180207A (en) | Magnetism sensor | |
JPH0521861A (en) | Magnetic resistance converting element | |
JPS5918458A (en) | Rotation detector | |
JPH0151127B2 (en) | ||
JPS6243483B2 (en) | ||
WO2000040987A1 (en) | Utilization of a magneto-resistive material | |
JP3308123B2 (en) | Magnetoresistive sensor | |
JPS594646B2 (en) | Split type magnetoelectric conversion element | |
US5729132A (en) | Magnetoelectric conversion device | |
JPS60244813A (en) | Zero-point detecting device for magnetic encoder | |
JP2936684B2 (en) | Rotation sensor | |
JP2598782B2 (en) | Magnetic encoder device | |
JP2508345B2 (en) | Position detection device | |
JPS6382319A (en) | Magnetic scale detection element | |
JPS625284B2 (en) | ||
JP2968924B2 (en) | Magnetic detector | |
JPH0125281Y2 (en) | ||
JP3417144B2 (en) | Method of manufacturing position sensor and position sensor |