JPH05214364A - Detergent composition - Google Patents
Detergent compositionInfo
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- JPH05214364A JPH05214364A JP2022592A JP2022592A JPH05214364A JP H05214364 A JPH05214364 A JP H05214364A JP 2022592 A JP2022592 A JP 2022592A JP 2022592 A JP2022592 A JP 2022592A JP H05214364 A JPH05214364 A JP H05214364A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、低刺激性及び低脱脂力
の洗浄剤組成物に関する。FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a detergent composition having low irritation and low degreasing power.
【0002】[0002]
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来用
いられてきた洗浄剤組成物(例えばシャンプー)は刺激
性が強いため、かゆみの発生を促し、あるいはアレルギ
ーの原因となるものであり、アトピー性皮膚炎、接触皮
膚炎等の皮膚疾患の患者、特に刺激に弱い患者に用いる
ことはできなかった。更に、従来の洗浄剤組成物は、一
般に脱脂力が強すぎるために油分の滞留量等に大きな問
題があり、皮膚の乾燥やつっぱり感等の原因となり、こ
れが皮膚の正常な活動を妨げる要因となることもあっ
た。一方、脱脂力の弱い洗浄剤組成物は、泡立ちが悪い
等使用感の点で満足のいくものではなかった。2. Description of the Related Art Since the conventional detergent compositions (for example, shampoo) which have been used conventionally have strong irritancy, they promote the occurrence of itch or cause allergies. It could not be used for patients with skin diseases such as dermatitis and contact dermatitis, especially for patients who are vulnerable to irritation. Furthermore, the conventional detergent composition generally has a large problem in the amount of oil retained due to excessively high degreasing power, which causes dryness and a feeling of tightness of the skin, which is a factor that hinders normal skin activity. Sometimes it was. On the other hand, the detergent composition having weak degreasing power was not satisfactory in terms of usability such as poor foaming.
【0003】本発明の目的は、起泡性、洗浄性等の洗浄
剤としての必須の性能が良好であり、かつアトピー性皮
膚炎又はその他の皮膚疾患の患者、特に刺激に弱い患者
に用いることのできる低刺激性の洗浄剤組成物であっ
て、更に脱脂力の弱い洗浄剤組成物を提供することにあ
る。The object of the present invention is that it has good essential properties as a cleaning agent such as foamability and detergency, and is used for patients with atopic dermatitis or other skin diseases, especially for patients who are vulnerable to irritation. (EN) A low-irritant detergent composition which can be used, and further provides a detergent composition having a weak degreasing power.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記目的を
達成すべく鋭意研究を重ねてきた。その結果、ヒノキチ
オール又はその塩が、皮膚に対して極めて刺激性が低
く、しかも優れた防腐効果を有するものであり、化粧品
や洗剤等の皮膚と接触する組成物用の防腐剤として非常
に有用であることを見出した。そして、ヒノキチオール
又はその塩を防腐剤として用いると共に、界面活性剤と
して特定の陰イオン性界面活性剤及び両性界面活性剤の
少なくとも1種と、特定の弱酸性陰イオン界面活性剤と
を組み合わせて用いる場合に、洗浄性等の洗浄剤として
の必須の性能を十分に維持した上で、皮膚に対する刺激
性が著るしく低減され、かつ脱脂力の弱い洗浄剤組成物
が得られることを見出し、ここに本発明を完成するに至
った。The inventor of the present invention has conducted extensive studies to achieve the above object. As a result, hinokitiol or a salt thereof has extremely low irritation to the skin and has an excellent antiseptic effect, and is very useful as an antiseptic for a composition that comes into contact with the skin such as cosmetics and detergents. I found that there is. Then, hinokitiol or its salt is used as a preservative, and at least one of a specific anionic surfactant and an amphoteric surfactant is used as a surfactant in combination with a specific weakly acidic anionic surfactant. In this case, it has been found that, while sufficiently maintaining essential properties such as detergency as a cleaning agent, irritation to the skin is significantly reduced, and a degreasing agent having a weak degreasing power can be obtained. The present invention has been completed.
【0005】即ち本発明は、 i)一般式That is, the present invention includes: i) the general formula
【0006】[0006]
【化3】 [Chemical 3]
【0007】(式中、R1 は炭素数40以下の飽和又は
不飽和炭化水素基を示し、R2 は低級アルキル基を示
し、Aは低級アルキレン基を示す。)で表わされる陰イ
オン性界面活性剤又はその塩、及び一般式(Wherein R 1 represents a saturated or unsaturated hydrocarbon group having 40 or less carbon atoms, R 2 represents a lower alkyl group, and A represents a lower alkylene group). Activator or salt thereof, and general formula
【0008】[0008]
【化4】 [Chemical 4]
【0009】(式中、R3 は、炭素数40以下の飽和又
は不飽和炭化水素基を示し、R4 及びR5 はそれぞれ低
級アルキル基を示し、Bは低級アルキレン基を示す。)
で表わされる両イオン性界面活性剤からなる群から選ば
れた少なくとも1種の界面活性剤、 ii) 一般式 R6 O(CH2 CH2 O)nCH2 COOH (III) (式中、R6 は、炭素数40以下の飽和又は不飽和炭化
水素基を示し、1≦n≦10である。)で表わされる陰
イオン性界面活性剤又はその塩、並びに iii)ヒノキチオール又はその塩からなる防腐剤を含有す
ることを特徴とする洗浄剤組成物を提供するものであ
る。(In the formula, R 3 represents a saturated or unsaturated hydrocarbon group having 40 or less carbon atoms, R 4 and R 5 each represent a lower alkyl group, and B represents a lower alkylene group.)
At least one surfactant selected from the group consisting of zwitterionic surfactants represented by: ii) a general formula R 6 O (CH 2 CH 2 O) n CH 2 COOH (III) (wherein R 6 represents a saturated or unsaturated hydrocarbon group having 40 or less carbon atoms, and 1≤n≤10), and an anionic surfactant represented by the formula (1) or a salt thereof, and iii) a preservative composed of hinokitiol or a salt thereof The present invention provides a detergent composition containing an agent.
【0010】本明細書において低級アルキル基として
は、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル等
の炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を、特に
好ましくはメチル基を例示できる。In the present specification, the lower alkyl group is a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, tert-butyl, pentyl and hexyl. Particularly preferably, a methyl group can be exemplified.
【0011】炭素数が40以下の飽和又は不飽和炭化水
素基としては、例えばメチル、エチル、プロピル、イソ
プロピル、ブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシ
ル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシ
ル、ドデシル、11−メチルドデシル、10−メチルウ
ンデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、
ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシル、イコシル、
ヘンイコシル、ドコシル、テトラコシル、トリアコンチ
ル、ペンタトリアコンチル、テトラコンチル、ビニル、
アリル、イソプロペニル、エチニル、2−ペンチニル、
3−ブテニル、9−デセニル、シス−8−ヘプタデセニ
ル、トランス−8−ヘプタデセニル、2−デシニル、2
−オクチニル、ヤシ油アルキル等を挙げることができ、
之等の内で炭素数5〜19の飽和又は不飽和炭化水素基
は好ましく、炭素数7〜13の飽和又は不飽和炭化水素
基はより好ましい。特に、前記式(I)中R1 で定義さ
れる該基としては、ウンデシル、トリデシル等の炭素数
9〜13の飽和炭化水素基が好ましく、前記式(II)中R
3 で定義される該基としては、ヤシ油アルキル基やウン
デシル、トリデシル等の炭素数9〜13の飽和炭化水素
基が好ましく、前記式(III) 中R6 で定義される該基と
しては、ヤシ油アルキル基やウンデシル、トリデシル等
の炭素数9〜13の飽和炭化水素基が好ましい。Examples of the saturated or unsaturated hydrocarbon group having 40 or less carbon atoms include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, tert-butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl, undecyl, dodecyl, 11-methyldodecyl, 10-methylundecyl, tridecyl, tetradecyl, pentadecyl,
Heptadecyl, octadecyl, nonadecyl, icosyl,
Henicosyl, docosyl, tetracosyl, triacontyl, pentatriacontyl, tetracontyl, vinyl,
Allyl, isopropenyl, ethynyl, 2-pentynyl,
3-butenyl, 9-decenyl, cis-8-heptadecenyl, trans-8-heptadecenyl, 2-decynyl, 2
-Octynyl, coconut oil alkyl and the like,
Among them, a saturated or unsaturated hydrocarbon group having 5 to 19 carbon atoms is preferable, and a saturated or unsaturated hydrocarbon group having 7 to 13 carbon atoms is more preferable. Particularly, as the group defined by R 1 in the formula (I), a saturated hydrocarbon group having 9 to 13 carbon atoms such as undecyl and tridecyl is preferable, and R 1 in the formula (II) is preferable.
As the group defined by 3 , a coconut oil alkyl group, undecyl, a saturated hydrocarbon group having 9 to 13 carbon atoms such as tridecyl is preferable, and as the group defined by R 6 in the formula (III), A coconut oil alkyl group and a saturated hydrocarbon group having 9 to 13 carbon atoms such as undecyl and tridecyl are preferable.
【0012】低級アルキレン基としてはメチレン、エチ
レン、トリメチレン、2−メチルトリメチレン、2,2
−ジメチルトリメチレン、1−メチルトリメチレン、メ
チルメチレン、エチルメチレン、テトラメチレン、ペン
タメチレン、ヘキサメチレン基等の炭素数1〜6個の直
鎖又は分枝状のアルキレン基を挙げることができる。之
等の内で前記式(I)中Aで定義される該基としては、
好ましくはメチレン及びエチレン基を、より好ましくは
エチレン基を例示でき、また前記式(II)中Bで定義され
る該基としては、好ましくはエチレン及びトリメチレン
基を、より好ましくはトリメチレン基を例示できる。As the lower alkylene group, methylene, ethylene, trimethylene, 2-methyltrimethylene, 2,2
Examples thereof include linear or branched alkylene groups having 1 to 6 carbon atoms such as dimethyltrimethylene, 1-methyltrimethylene, methylmethylene, ethylmethylene, tetramethylene, pentamethylene and hexamethylene groups. Among these, as the group defined by A in the above formula (I),
Preferred are methylene and ethylene groups, more preferred are ethylene groups, and preferred examples of the group defined by B in the formula (II) are ethylene and trimethylene groups, more preferred is trimethylene group. ..
【0013】一般式(I)、(II)又は(III) で表わされ
る界面活性剤は、同一の置換基を有するものだけでな
く、異なる種類の置換基を有するものを混合して用いて
もよい。The surfactants represented by the general formula (I), (II) or (III) are not only those having the same substituents but also those having different kinds of substituents, which are mixed and used. Good.
【0014】一般式(I)又は(III) で表わされる化合
物の塩としては、ナトリウム、カリウム塩等のアルカリ
金属塩、マグネシウム塩等のアルカリ土類金属塩、Cu
塩、Zn塩等の金属塩類等の無機塩、ジエタノールアミ
ン塩、2−アミノ−2−エチル−1,3−プロパンジオ
ール塩、トリエタノールアミン塩等のアルカノールアミ
ン塩、モルホリン塩、ピペラジン塩、ピペリジン塩等、
アンモニウム塩、アルギニン塩、リジン塩、ヒスチジン
塩等の塩基性アミノ酸塩等の有機塩類を挙げることがで
きる。塩基性アミノ酸としては、D体、L体又は之等の
混合物のいずれも使用できる。The salt of the compound represented by the general formula (I) or (III) includes alkali metal salts such as sodium and potassium salts, alkaline earth metal salts such as magnesium salt and Cu.
Salts, inorganic salts such as metal salts such as Zn salts, diethanolamine salts, alkanolamine salts such as 2-amino-2-ethyl-1,3-propanediol salts and triethanolamine salts, morpholine salts, piperazine salts, piperidine salts etc,
Examples thereof include organic salts such as basic amino acid salts such as ammonium salt, arginine salt, lysine salt and histidine salt. As the basic amino acid, any of a D-form, an L-form or a mixture thereof can be used.
【0015】ヒノキチオールの塩としては、上記した一
般式(I)又は(III) で表わされる化合物の塩と同様の
ものを挙げることができる。As the salt of hinokitiol, the same salts as the above-mentioned compounds of the formula (I) or (III) can be mentioned.
【0016】本発明の洗浄剤組成物では、界面活性剤と
しては、一般式(I)の陰イオン性界面活性剤及び一般
式(II)の両イオン性界面活性剤の少なくとも1種の界面
活性剤と、一般式(III) の界面活性剤とを用いる。之等
の界面活性剤は、優れた洗浄能力を有すると共に、皮膚
に対する刺激性が非常に低いものであり、また、これら
を組み合わせて用いる場合には脱脂力が弱くなり、皮膚
の乾燥やつっぱり感を低減できる。界面活性剤の使用割
合は、一般式(I)の陰イオン性界面活性剤及び一般式
(II)の両イオン性界面活性剤の総量と、一般式(III) の
界面活性剤との割合が、前者:後者(重量比)=1:2
0〜20:1の範囲、好ましくは4:1〜1:4の範
囲、より好ましくは4:1〜1:2の範囲となるように
すればよい。In the detergent composition of the present invention, as the surfactant, at least one surfactant selected from the anionic surfactants of the general formula (I) and the amphoteric surfactants of the general formula (II) is used. The agent and the surfactant of the general formula (III) are used. These surfactants have excellent detergency as well as extremely low irritation to the skin, and when they are used in combination, the degreasing power becomes weak and the skin feels dry and taut. Can be reduced. The ratio of the surfactant used is the anionic surfactant of the general formula (I) and the general formula (I).
The ratio of the total amount of the zwitterionic surfactant (II) to the surfactant of the general formula (III) is the former: the latter (weight ratio) = 1: 2.
The range may be 0 to 20: 1, preferably 4: 1 to 1: 4, and more preferably 4: 1 to 1: 2.
【0017】本発明では、特に、一般式(I)の陰イオ
ン性界面活性剤と一般式(II)の両イオン性界面活性剤と
を併用することが好ましく、併用により、洗浄性及び低
刺激性が極めて良好となり、また脱脂力も適度なものと
なる。併用する場合には、通常一般式(I)の界面活性
剤と一般式(II)の界面活性剤の使用割合は、前者:後者
(重量比)=1:20〜20:1の範囲、好ましくは
4:1〜1:3の範囲、より好ましくは4:1〜2:3
の範囲とすることができる。In the present invention, it is particularly preferable to use the anionic surfactant of the general formula (I) and the amphoteric surfactant of the general formula (II) in combination. The properties are extremely good, and the degreasing power is moderate. When used in combination, the ratio of the surfactant of general formula (I) to the surfactant of general formula (II) is usually in the range of former: latter (weight ratio) = 1: 20 to 20: 1, preferably Is in the range of 4: 1 to 1: 3, more preferably 4: 1 to 2: 3.
Can be in the range of.
【0018】洗浄剤組成物中の界面活性剤量は、洗浄効
果を充分に発揮する範囲であれば特に限定されないが、
界面活性剤総量として、全組成物中の3〜40重量%と
することが好ましく、5〜30重量%とすることがより
好ましい。The amount of the surfactant in the detergent composition is not particularly limited as long as it is in the range where the detergent effect is sufficiently exhibited.
The total amount of the surfactant is preferably 3 to 40% by weight, and more preferably 5 to 30% by weight, based on the whole composition.
【0019】ヒノキチオール又はその塩の配合量は、防
腐効果が発揮される量であれば特に限定されないが、洗
浄剤組成物中に0.001重量%以上とすることが好ま
しく、0.001〜1.0重量%とすることがより好ま
しい。The blending amount of hinokitiol or its salt is not particularly limited as long as the antiseptic effect is exerted, but it is preferably 0.001% by weight or more in the detergent composition, and 0.001 to 1 More preferably, it is set to 0.0% by weight.
【0020】ヒノキチオール又はその塩を防腐剤として
用い、これを上記した界面活性剤と共に配合することに
よって、皮膚に対する刺激性及び脱脂力が著るしく低減
され、更に良好な洗浄性能、防腐性能等を発揮する洗浄
剤組成物が得られる。By using hinokitiol or a salt thereof as an antiseptic and blending it with the above-mentioned surfactant, irritation to the skin and degreasing power are significantly reduced, and further good cleaning performance, antiseptic performance, etc. can be obtained. A cleaning composition that works is obtained.
【0021】本発明の洗浄剤組成物では、更に、(1)
一般式The detergent composition of the present invention further comprises (1)
General formula
【0022】[0022]
【化5】 [Chemical 5]
【0023】〔式中、R7 は炭素数40以下の飽和又は
不飽和炭化水素基を示し、R8 はナトリウム、カリウム
等のアルカリ金属;マグネシウム等のアルカリ土類金
属;銅、亜鉛等の金属イオンを示し、mは1又は2であ
る。〕で表わされる化合物、(2)ミラノールC2Mコ
ンク、ミラノールC2MコンクNP、ミラノール2MC
Aモデファイド、ミラノールHMSコンク(いずれもロ
ーヌ・プーラン社(RHONE POULENC SURFACTANTS & SPECI
ALITIES DIY.) 製造、香栄興業株式会社(KOEI PERFUMER
Y CO.,LTD.) 販売)等の通常のイミダゾリニウムベタイ
ン系両イオン性界面活性剤等を加えることができ、これ
らの添加によって、例えば、眼粘膜に対する刺激を減少
させることができる。添加量は、一般式(I)の陰イオ
ン性界面活性剤の10〜200重量%程度とすることが
好ましい。[Wherein R 7 represents a saturated or unsaturated hydrocarbon group having 40 or less carbon atoms, R 8 represents an alkali metal such as sodium or potassium; an alkaline earth metal such as magnesium; a metal such as copper or zinc; Represents an ion, and m is 1 or 2. ] (2) Milanol C2M Conc, Milanol C2M Conc NP, Milanol 2MC
A Modified, Milano HMS Conc (both Rhone Poulenc Surfactants & Special
ALITIES DIY.) Manufacturing, KOEI PERFUMER
Y CO., LTD.) Sales) etc., and a usual imidazolinium betaine-based zwitterionic surfactant or the like can be added, and by adding these, for example, irritation to the ocular mucosa can be reduced. The addition amount is preferably about 10 to 200% by weight of the anionic surfactant of the general formula (I).
【0024】本発明の洗浄剤組成物は、化粧品を使用す
ることのできる通常のpH範囲で用いることができ、一
般にそのpHは6.0〜8.0程度の範囲、好ましくは
6.4〜7.5程度の範囲内とするのが好ましい。The detergent composition of the present invention can be used in a usual pH range in which cosmetics can be used, and the pH is generally in the range of about 6.0 to 8.0, preferably 6.4 to. It is preferably within the range of about 7.5.
【0025】本発明の洗浄剤組成物には、必要に応じて
その性能を損わない範囲で、他の界面活性剤や、高級ア
ルコール等の油剤、カチオン化セルロース等の毛髪柔軟
剤、グリセリン、プロピレングリコール、ソルビット、
マルチトール等の保湿剤、メチルセルロース、ヒドロキ
シメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、カ
ルボキシビニルポリマー、ポリビニルアルコール等の粘
度調整剤、加水分解コラーゲン等の皮膜形成剤、エタノ
ール等の溶剤、クエン酸、塩酸等のpH調節剤、紫外線
吸収剤、酸化防止剤、金属封鎖剤、殺菌剤、防腐剤、無
機塩、抗フケ剤、ビタミン類、消炎剤等の薬効剤、動植
物抽出剤、色素、香料等を適時配合することができる。
これらの添加剤は、添加によって洗浄剤組成物の刺激性
や脱脂力が高くなり過ぎないように注意することが必要
であり、例えば、アトピー性皮膚炎の患者用の洗浄剤組
成物として用いる場合には、後記試験例において示す皮
膚刺激指数が15程度以下となるように配合し、健常人
用の洗浄剤組成物として用いる場合には、皮膚刺激指数
が30程度以下となるように配合することが好ましい。In the detergent composition of the present invention, other surfactants, oil agents such as higher alcohols, hair softeners such as cationized cellulose, glycerin, Propylene glycol, sorbit,
Moisturizing agents such as maltitol, viscosity adjusting agents such as methyl cellulose, hydroxymethyl cellulose, hydroxyethyl cellulose, carboxyvinyl polymer, polyvinyl alcohol, film forming agents such as hydrolyzed collagen, solvents such as ethanol, pH adjusting agents such as citric acid and hydrochloric acid. , UV absorbers, antioxidants, sequestering agents, bactericides, antiseptics, inorganic salts, antidandruff agents, vitamins, antiphlogistics and other medicinal agents, animal and plant extractants, pigments, fragrances, etc. it can.
It is necessary to be careful not to increase the irritation and degreasing power of the detergent composition by adding these additives, for example, when using it as a detergent composition for patients with atopic dermatitis. Is blended so as to have a skin irritation index of about 15 or less shown in the test examples below, and when used as a cleansing composition for a healthy person, blended such that a skin irritation index of about 30 or less. Is preferred.
【0026】本発明の洗浄剤組成物は、その剤型につい
ては特に制限はなく、従来より公知の種々の剤型、例え
ば液体シャンプー、クリーム状洗顔料、ゲル状洗顔料、
ボディシャンプー、泡状清拭料(エアゾール容器充填
品)、食器等の器具用洗剤、ウェットティッシュ等とし
て用いることができる。There are no particular restrictions on the dosage form of the detergent composition of the present invention, and various conventionally known dosage forms such as liquid shampoo, cream-like face wash, gel-like face wash,
It can be used as a body shampoo, a foamy cleaning agent (filled with an aerosol container), a detergent for utensils such as tableware, a wet tissue and the like.
【0027】本発明洗浄剤組成物は、使用時に、必要に
応じて適宜、水で希釈して用いてもよい。The detergent composition of the present invention may be used by appropriately diluting it with water before use.
【0028】[0028]
【発明の効果】本発明の洗浄剤組成物は、皮膚に対する
刺激性が非常に低いことに加えて、起泡性、洗浄性等の
洗浄剤としての必須の性能も充分に満足するものであ
り、更に脱脂力が弱いことから皮膚の乾燥やつっばり感
をなくし、油分の滞留量をよりよい状態に維持するよう
に助け、皮膚の正常な活動を妨げる要因から保護するこ
とができるものである。かかる洗浄剤組成物は、アトピ
ー性皮膚炎又は他の皮膚疾患の患者に用いることができ
る他、健常人に対しても同等に有用である。EFFECTS OF THE INVENTION The cleaning composition of the present invention has extremely low irritation to the skin and, in addition, sufficiently satisfies essential properties as a cleaning agent such as foaming property and cleaning property. In addition, since it has a weak degreasing power, it can eliminate the feeling of dryness and tightness of the skin, help maintain the amount of oil retained in a better condition, and protect it from factors that interfere with the normal activity of the skin. .. Such a detergent composition can be used for patients with atopic dermatitis or other skin diseases, and is equally useful for healthy people.
【0029】[0029]
【実施例】以下、実施例を示して本発明をより詳細に説
明する。The present invention will be described in more detail below with reference to examples.
【0030】実施例1 下記配合の洗顔料組成物を調製した。Example 1 A face wash composition having the following composition was prepared.
【0031】 (W/W%) アラニネートLN−30* 7.5 スワノールAM−3130N** 5.5 ニッコールECTD−3NEX*** 2.3 ヒノキチオール 0.04 99.5%エタノール 0.5 pH調整剤、パール化剤 適 量 水にて 全量を100.0 (10W/W%水溶液のpH6.8)* アラニネートLN−30 日光ケミカルズ株式会社製、N−ラウロイル−N−メチ
ル−β−アラニンナトリウムを主成分とする界面活性剤** スワノールAM−3130N 日光ケミカルズ株式会社製、ヤシ油脂肪酸アミドプロピ
ルジメチルアミノ酢酸ベタインを主成分とする界面活性
剤*** ニッコールECTD−3NEX 日光ケミカルズ株式会社製、ポリオキシエチレン(3)
アルキルエーテル酢酸ナトリウムを主成分とする界面活
性剤上記洗顔料組成物は良好な洗浄性と低脱脂力を有す
るものであった。該組成物について以下の方法で皮膚刺
激性を評価した。(W / W%) Alaninate LN-30 * 7.5 Suwanol AM-3130N ** 5.5 Nikkor ECTD-3NEX *** 2.3 Hinokitiol 0.04 99.5% Ethanol 0.5 pH adjustment Agent, pearlizing agent 100.0 (10W / W% aqueous solution pH 6.8) with proper amount of water * Alaninate LN-30 Nikko Chemicals Co., Ltd., N-lauroyl-N-methyl-β-alanine sodium Surfactant with main component ** Suwanol AM-3130N manufactured by Nikko Chemicals Co., Ltd., surfactant containing coconut oil fatty acid amide propyldimethylaminoacetic acid betaine as a main component *** Nikkor ECTD-3NEX manufactured by Nikko Chemicals Co., Ltd., poly Oxyethylene (3)
Surfactant Containing Sodium Alkyl Ether Acetate as Main Component The above face wash composition had good detergency and low degreasing power. The skin irritation of the composition was evaluated by the following method.
【0032】上記組成物の1%水溶液をしみ込ませたろ
紙をFinn chamber,Scanpor ta
peを用いて、12人の被験者に48時間閉鎖貼布し、
除去後、1時間と24時間に皮膚反応を判定した。判定
結果は、以下の基準で評点した。A filter paper impregnated with a 1% aqueous solution of the above composition was used in a Finn chamber, Scanpor ta.
Using pe, 12 subjects were put on a closed patch for 48 hours,
After the removal, the skin reaction was evaluated at 1 hour and 24 hours. The judgment result was evaluated according to the following criteria.
【0033】 反応なし 0 わずかな紅斑 0.5 明らかな紅斑 1.0 丘疹ないし浮腫を伴う紅斑 2.0 貼付除去後、1時間と24時間の判定結果のうち、評点
の高いほうの結果を選び、評点総和を被験者数で除し、
その商の百分率を皮膚刺激指数とした。No reaction 0 Slight erythema 0.5 Clear erythema 1.0 Erythema with papules or edema 2.0 After removal of the patch, the result with the highest score was selected from the results of 1 hour and 24 hours. , Total score divided by the number of subjects,
The percentage of the quotient was used as the skin irritation index.
【0034】比較として精製水についても同様の皮膚刺
激試験を行った。結果を下記表1に示す。As a comparison, a similar skin irritation test was performed on purified water. The results are shown in Table 1 below.
【0035】 以上の結果より、本発明の洗顔料組成物が極めて低刺激
性であることがわかる。[0035] From the above results, it can be seen that the face wash composition of the present invention is extremely hypoallergenic.
【0036】実施例2 下記配合のボディシャンプーを調製した。Example 2 A body shampoo having the following composition was prepared.
【0037】 (W/W%) アミゼット5C* 2.5 アラノンACE** 7.5 スワノールAM−3130N 3.0 ニッコールECTD−3NEX 3.0 ヒノキチオールナトリウム塩 0.05 濃グリセリン 5.0 金属キレート剤 適 量 pH調整剤 適 量 水にて 全量を100.0 (10W/W%水溶液のpH6.8)* アミゼット5C 川研ファインケミカル株式会社製、ポシオキシエチレン
(5)ヤシ油脂肪酸モノエタノールアミドを主成分とす
る界面活性剤** アラノンACE 川研ファインケミカル株式会社製、N−ココイル−N−
メチル−β−アラニンナトリウムを主成分とする界面活
性剤実施例3下記配合のシャンプーを調製した。(W / W%) Amizet 5C * 2.5 Alanone ACE ** 7.5 Suwanol AM-3130N 3.0 Nikkor ECTD-3NEX 3.0 Hinokitiol sodium salt 0.05 Concentrated glycerin 5.0 Metal chelating agent Proper amount pH adjuster Proper amount with water 100.0 (10W / W% aqueous solution pH 6.8) * Amizet 5C Kawaken Fine Chemicals Co., Ltd., posioxyethylene (5) coconut oil fatty acid monoethanolamide Surfactant as the main component ** Alanone ACE manufactured by Kawaken Fine Chemicals Co., Ltd., N-Cocoil-N-
Surfactant mainly containing methyl-β-alanine sodium Example 3 A shampoo having the following composition was prepared.
【0038】 (W/W%) アラニネートLN−30 38.0 アラノンAME* 1.0 スワノールAM−3130N 6.0 ニッコールECTD−6NEX** 4.0 ヒノキチオールトリエタノールアミン塩 0.1 香料 適 量 金属キレート剤 適 量 pH調整剤 適 量 水にて 全量を100.0 (10W/W%水溶液のpH6.5)* アラノンAME 川研ファインケミカル株式会社製、N−ミリストイル−
N−メチル−β−アラニンナトリウムを主成分とする界
面活性剤** ニッコールECTD−6NEX 日光ケミカルズ株式会社製、ポリオキシエチレン(6)
アルキルエーテル酢酸ナトリウムを主成分とする界面活
性剤 実施例4 下記配合の洗顔料を調製した。(W / W%) Alaninate LN-30 38.0 Alanone AME * 1.0 Suwanol AM-3130N 6.0 Nikkor ECTD-6NEX ** 4.0 Hinokitiol triethanolamine salt 0.1 Perfume Suitable amount Metal Chelating agent Appropriate amount pH adjusting agent Appropriate amount Water makes the total amount 100.0 (pH of 10 W / W% aqueous solution 6.5) * Aranone AME manufactured by Kawaken Fine Chemicals Co., Ltd., N-myristoyl-
Surfactant containing sodium N-methyl-β-alanine as a main component ** Nikkor ECTD-6NEX manufactured by Nikko Chemicals Co., Ltd., polyoxyethylene (6)
Surfactant mainly containing sodium alkyl ether acetate Example 4 A face wash having the following composition was prepared.
【0039】 (W/W%) アラニネートLN−30 7.0 ソフタゾリンNS* 1.5 スワノールAM−3130N 5.0 ニッコールECTD−3NEX 3.0 ニッコールCDS6000P** 2.5 ヒノキチオールL−アルギニン塩 0.02 パラオキシ安息香酸メチル 0.1 pH調整剤 適 量 水にて 全量を100.0 (10W/W%水溶液のpH6.8)* ソフタゾリンNS 川研ファインケミカル株式会社製、2−アルキル−N−
カルボキシエチル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニ
ウムベタインを主成分とする界面活性剤** ニッコールCDS6000P 日光ケミカルズ株式会社製、ポリエチレングリコールジ
ステアレートを主成分とする界面活性剤 実施例5 下記配合の器具洗浄料を調製した。(W / W%) Alaninate LN-30 7.0 Softofazoline NS * 1.5 Suwanol AM-3130N 5.0 Nikkor ECTD-3NEX 3.0 Nikkor CDS6000P ** 2.5 Hinokitiol L-arginine salt 0. 02 Methyl paraoxybenzoate 0.1 pH adjuster Appropriate amount 100.0 with water (pH of a 10 W / W% aqueous solution is 6.8) * Softofazoline NS Kawaken Fine Chemicals Co., Ltd. 2-alkyl-N-
Surfactant containing carboxyethyl-N-hydroxyethyl imidazolinium betaine as a main component ** Nikkor CDS6000P manufactured by Nikko Chemicals Co., Ltd., a surfactant containing polyethylene glycol distearate as a main component. The ingredients were prepared.
【0040】 (W/W%) アラノンALE* 8.0 スワノールAM−3130N 2.0 ニッコールECTD−6NEX 15.0 ヒノキチオールモルホリン塩 0.1 pH調整剤、増粘剤、色素 適 量 水にて 全量を100.0 (10W/W%水溶液のpH7.5)* アラノンALE 川研ファインケミカル株式会社製、N−ラウロイル−N
−メチル−β−アラニンナトリウムを主成分とする界面
活性剤 実施例6 下記配合の清拭料を調製した。(W / W%) Alanone ALE * 8.0 Suwanol AM-3130N 2.0 Nikkor ECTD-6NEX 15.0 Hinokitiol morpholine salt 0.1 pH adjuster, thickener, pigment Appropriate amount All with water 100.0 (pH 7.5 of 10 W / W% aqueous solution) * Alanone ALE Kawaken Fine Chemicals Co., Ltd., N-lauroyl-N
-Methyl-β-alanine sodium-based surfactant Example 6 A wiping agent having the following composition was prepared.
【0041】 (W/W%) ニッコールサルコシネートLK−30* 2.0 アラニネートLN−30 2.0 スワノールAM−3130N 0.5 ニッコールECTD−3NEX 3.0 ヒノキチオール 0.1 99.5%エタノール 2.0 pH調整剤 適 量 水にて 全量を100.0 (10W/W%水溶液のpH6.5)* ニッコールサルコシネートLK−30 日光ケミカルズ株式会社製、ラウロイルサルコシンカリ
ウムを主成分とする界面活性剤 実施例7 下記配合の洗顔料を調製した。(W / W%) Nikkor Sarcosinate LK-30 * 2.0 Alaninate LN-30 2.0 Suwanol AM-3130N 0.5 Nikkor ECTD-3NEX 3.0 Hinokitiol 0.1 99.5% Ethanol 2.0 pH adjuster Appropriate amount of water is 100.0 (10 W / W% aqueous solution pH 6.5) * Nikkor sarcosinate LK-30 Nikko Chemicals Co., Ltd., an interface containing potassium lauroyl sarcosine as a main component. Activator Example 7 A face wash having the following composition was prepared.
【0042】 (W/W%) アラニネートLN−30 7.5 スワノールAM−3130N 5.5 ニッコールECTD−3NEX 2.3 ヒノキチオール 0.02 パラオキシ安息香酸ブチル 0.1 パラオキシ安息香酸メチル 0.1 99.5%エタノール 0.5 pH調整剤、パール化剤 適 量 水にて 全量を100.0 (10W/W%水溶液のpH6.8) 実施例8 下記配合のシャンプーを調製した。(W / W%) Alaninate LN-30 7.5 Suwanol AM-3130N 5.5 Nikkor ECTD-3NEX 2.3 Hinokitiol 0.02 Butyl paraoxybenzoate 0.1 Methyl paraoxybenzoate 0.1 99. 5% ethanol 0.5 pH adjuster, pearlizing agent Appropriate amount 100.0 with water (pH of a 10 W / W% aqueous solution is 6.8) Example 8 A shampoo having the following composition was prepared.
【0043】 (W/W%) アラニネートLN−30 40.0 スワノールAM−3130N 10.0 ヒノキチオール 0.04 ニッコールECTD−3NEX 0.88 pH調整剤、金属イオン封鎖剤 適 量 水にて 全量を100.0 (10W/W%水溶液のpH6.8) 実施例9 下記配合のボディシャンプーを調製した。(W / W%) Alaninate LN-30 40.0 Suwanol AM-3130N 10.0 Hinokitiol 0.04 Nikkor ECTD-3NEX 0.88 pH adjuster, sequestering agent Appropriate amount The total amount is 100 with water. 0.0 (10 W / W% aqueous solution pH 6.8) Example 9 A body shampoo having the following formulation was prepared.
【0044】 (W/W%) アラノンALE 0.5 スワノールAM−3130N 2.0 ニッコールECTD−6NEX 17.6 ミラノールC2Mコンク* 2.0 ヒノキチオール 0.01 パール化剤、pH調整剤、保湿剤 適 量 水にて 全量を100.0 (10W/W%水溶液のpH7.0)* ミラノールC2Mコンク 香栄興業株式会社、ヤシ油アルキルN−カルボキシメト
キシエチル−N−カルボキシメチルイミタゾリニウムジ
ナトリウムヒドロキシドを主成分とする界面活性剤(W / W%) Alanone ALE 0.5 Swanol AM-3130N 2.0 Nikkor ECTD-6NEX 17.6 Milanol C2M Conc * 2.0 Hinokitiol 0.01 Pearling agent, pH adjuster, moisturizing agent Suitable The total amount is 100.0 (10 W / W% aqueous solution pH 7.0) with water. * Milanol C2M Conc Koei Kogyo Co., Ltd., coconut oil alkyl N-carboxymethoxyethyl-N-carboxymethyl imidazolinium disodium hydroxy. Surfactant mainly composed of
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C11D 1:06 1:90 1:10 3:20) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification code Internal reference number FI technical display area C11D 1:06 1:90 1:10 3:20)
Claims (1)
素基を示し、R2 は低級アルキル基を示し、Aは低級ア
ルキレン基を示す。)で表わされる陰イオン性界面活性
剤又はその塩、及び一般式 【化2】 (式中、R3 は、炭素数40以下の飽和又は不飽和炭化
水素基を示し、R4 及びR5 はそれぞれ低級アルキル基
を示し、Bは低級アルキレン基を示す。)で表わされる
両イオン性界面活性剤からなる群から選ばれた少なくと
も1種の界面活性剤、 ii) 一般式 R6 O(CH2 CH2 O)nCH2 COOH (III) (式中、R6 は、炭素数40以下の飽和又は不飽和炭化
水素基を示し、1≦n≦10である。)で表わされる陰
イオン性界面活性剤又はその塩、並びに iii)ヒノキチオール又はその塩からなる防腐剤を含有す
ることを特徴とする洗浄剤組成物。1. i) General formula: (In the formula, R 1 represents a saturated or unsaturated hydrocarbon group having 40 or less carbon atoms, R 2 represents a lower alkyl group, and A represents a lower alkylene group.) Or The salt, and the general formula: (In the formula, R 3 represents a saturated or unsaturated hydrocarbon group having 40 or less carbon atoms, R 4 and R 5 each represent a lower alkyl group, and B represents a lower alkylene group). At least one surfactant selected from the group consisting of organic surfactants, ii) a general formula R 6 O (CH 2 CH 2 O) n CH 2 COOH (III) (wherein R 6 is a carbon number Containing a saturated or unsaturated hydrocarbon group of 40 or less and 1 ≦ n ≦ 10) and an anionic surfactant represented by the formula (3), or iii) a preservative composed of hinokitiol or a salt thereof. A cleaning composition comprising:
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2022592A JPH05214364A (en) | 1992-02-05 | 1992-02-05 | Detergent composition |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2022592A JPH05214364A (en) | 1992-02-05 | 1992-02-05 | Detergent composition |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05214364A true JPH05214364A (en) | 1993-08-24 |
Family
ID=12021229
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022592A Pending JPH05214364A (en) | 1992-02-05 | 1992-02-05 | Detergent composition |
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Country | Link |
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JP (1) | JPH05214364A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1995034210A1 (en) * | 1994-06-15 | 1995-12-21 | Otsuka Pharmaceutical Co., Ltd. | Hinokitiol-containing composition filled in polyester vessel |
-
1992
- 1992-02-05 JP JP2022592A patent/JPH05214364A/en active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1995034210A1 (en) * | 1994-06-15 | 1995-12-21 | Otsuka Pharmaceutical Co., Ltd. | Hinokitiol-containing composition filled in polyester vessel |
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