JPH05198904A - Fluoropolymer filled with ceramic in low content - Google Patents

Fluoropolymer filled with ceramic in low content

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JPH05198904A
JPH05198904A JP4129083A JP12908392A JPH05198904A JP H05198904 A JPH05198904 A JP H05198904A JP 4129083 A JP4129083 A JP 4129083A JP 12908392 A JP12908392 A JP 12908392A JP H05198904 A JPH05198904 A JP H05198904A
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Abstract

PURPOSE: To provide a fluoropolymer composite material, which is especially suitable for usage of joint layer in a multilayered circuit and other electronic circuits in which superior thermal, mechanical and electrical characteristic as well as fluidity are required. CONSTITUTION: This material comprises a ceramic (e.g. silica) filled fluoropolymer (e.g. polytetrafluoroethyene), and the ceramic is covered with a zirconate coupling agent (e.g. neopentyl (diaryloxy) tri (dioctyl) pyrophosphate zirconate) and/or titanate coupling agent (e.g. neopenyl (diaryl) oxytrineodecanonyltitanate), and the volume percent of ceramic therein is about 26 to 50%.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はフルオロポリマー複合材
料に係る。より詳細には本発明は、流動性を有するとと
もに優れた熱的、機械的及び電気的特性を有することが
必要な多層回路板及びその他の電子回路における結合層
として使用するために特に適したフルオロポリマー複合
材料に係る。本発明のフルオロポリマー複合材料はま
た、特に高pH(アルカリ性)環境中の化学的劣化に耐
性である。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to fluoropolymer composite materials. More specifically, the present invention is particularly suitable for use as a tie layer in multilayer circuit boards and other electronic circuits that need to have flowability and excellent thermal, mechanical and electrical properties. It relates to a polymer composite material. The fluoropolymer composites of the present invention are also resistant to chemical degradation, especially in high pH (alkaline) environments.

【0002】[0002]

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】本出願
人に譲渡されている米国特許第4849284号は、セ
ラミック充填フルオロポリマーを基材とする電気基板材
料を記載している。該材料はRogers Corpo
rationから商標RO−2800として市販されて
いる。この電気基板材料は、好ましくは少量の微細ガラ
ス繊維と共にシリカが充填されたポリテトラフルオロエ
チレンから成る。この材料の重要な特徴は、セラミック
表面に疎水性を与え且つその引張強さ、剥離強さ及び寸
法安定性を改良するシラン被膜材料によってセラミック
充填剤(シリカ)が被覆されていることである。米国特
許第4849284号の複合材料を回路基板または結合
層として使用する場合、複合材料中の充填剤の容積分率
は空隙なしとして50%以上である。
U.S. Pat. No. 4,849,284, assigned to the Applicant, describes electrical substrate materials based on ceramic-filled fluoropolymers. The material is Rogers Corpo
marketed under the trademark RO-2800. This electrical substrate material preferably comprises silica filled polytetrafluoroethylene with a small amount of fine glass fibers. An important feature of this material is that the ceramic filler (silica) is coated with a silane coating material which imparts hydrophobicity to the ceramic surface and improves its tensile strength, peel strength and dimensional stability. When the composite material of US Pat. No. 4,849,284 is used as a circuit board or tie layer, the volume fraction of filler in the composite material is 50% or more without voids.

【0003】米国特許第4849284号のセラミック
充填フルオロポリマーを基材とする電気基板材料は、剛
性プリント配線基板の形成に極めて適した基板材料であ
り、プリント配線基板の形成に使用される他の材料に比
べて改良された電気的性能を示す。この電気基板材料は
また、熱膨脹率が低く可撓性を有するため、表面固定の
確実性及び透孔被覆(plated through−
hole)の確実性も向上している。この電気基板材料
から成る個別シートを公知の方法によって積層し多層回
路板を形成し得る。実際、米国特許第4849284号
に開示された(Rogers Corporation
から商標RO−2810として市販されている)材料か
ら成る薄いフィルム状製品は、積層された複数の基板層
を互いに結合して多層回路板を形成させる結合層として
使用され得る。
The ceramic-filled fluoropolymer-based electrical substrate materials of US Pat. No. 4,849,284 are very suitable substrate materials for forming rigid printed wiring boards and other materials used in forming printed wiring boards. Shows improved electrical performance compared to. The electrical substrate material also has a low coefficient of thermal expansion and flexibility, so that it has a certain degree of surface fixation and a plated through-hole.
The certainty of the hole) is also improved. Individual sheets of this electrical substrate material can be laminated by known methods to form a multilayer circuit board. In fact, it was disclosed in US Pat. No. 4,849,284 (Rogers Corporation).
A thin film-like product made from the material (commercially available under the trademark RO-2810 from R.S.A.) can be used as a bonding layer to bond a plurality of laminated substrate layers together to form a multilayer circuit board.

【0004】セラミック充填剤が(55容量%以上の)
高い容積分率で含まれることは、セラミック充填フルオ
ロポリマー複合材料のレオロジー(例えば流動性)を顕
著に悪化させる。複合材料を結合用フィルムとして使用
するときまたはもともと剛性の構造物の開孔充填のため
に使用するときには、この影響を軽視できない。セラミ
ック充填剤を50〜55%の容積分率で含有する材料
は、充填剤をより高い容積分率で含有する材料に比べ
て、そのレオロジー特性がかなり改良されている。しか
しながら、フルオロポリマー複合材料の場合には、優れ
た流動性を与えることが必要であると同時に、優れた熱
的、機械的及び電気的特性が顕著に低下してはならな
い。
Ceramic filler (55% by volume or more)
Inclusion of high volume fractions significantly degrades the rheology (eg, flowability) of ceramic-filled fluoropolymer composites. This effect cannot be neglected when the composite material is used as a bonding film or for opening filling of originally rigid structures. Materials containing 50-55% volume fraction of ceramic filler have significantly improved their rheological properties compared to materials containing higher volume fractions of filler. However, in the case of fluoropolymer composites, it must be possible to provide good flowability, while at the same time the good thermal, mechanical and electrical properties must not be significantly reduced.

【0005】また、50%を上回る容積分率のセラミッ
ク材料を含有するフルオロポリマー複合材料は、そのレ
オロジー特性が悪化しているだけでなく、ある種の不良
環境、特に高pH(アルカリ性)浴に対する化学的耐性
も低下している。しかしながら、細線回路部品(例えば
マルチチップモジュール)の製造で極めて好ましい処理
方法としてしばしば使用される無電解銅めっきではこの
ような高pH浴(例えば、pH=12以上)を使用しな
ければならない。高レベル(50容量%以上)のセラミ
ック充填剤は、アルカリ性浴に長時間接触したフルオロ
ポリマー回路材料の化学的耐性を損なうことが知見され
た。アルカリ性浴に対する耐性低下の結果として劣化が
生じ、この劣化によってフルオロポリマー複合材料の疎
水性が低下し、この疎水性低下によって吸湿性が増加
し、これに対応して、複合回路材料の電気的特性が低下
する。
Fluoropolymer composite materials containing a volume fraction of ceramic material above 50% not only have their rheological properties worsened, but also to some adverse environments, especially high pH (alkaline) baths. Chemical resistance is also decreasing. However, such high pH baths (eg pH = 12 and above) must be used in electroless copper plating, which is often used as a highly preferred processing method in the manufacture of fine line circuit components (eg multi-chip modules). It has been found that high levels (50% or more by volume) of ceramic fillers impair the chemical resistance of fluoropolymer circuit materials that have been in prolonged contact with alkaline baths. Deterioration occurs as a result of the reduced resistance to alkaline baths, which reduces the hydrophobicity of the fluoropolymer composite, which in turn increases its hygroscopicity, and correspondingly the electrical properties of the composite circuit material. Is reduced.

【0006】米国特許第5061548号(本出願人に
譲渡されている)は、米国特許第4849284号に開
示された(シラン被膜を有する)セラミック充填剤の含
量を空隙なしとして45容量%という少ない値にしたと
きにも、複合材料が多層回路材料の結合層として、及び
ある種の剛性構造物の充填材料として使用できる適当な
熱的、機械的及び電気的特性を維持していることを開示
している。米国特許第5061548号のセラミック充
填フルオロポリマー複合材料は、米国特許第48492
84号の材料に比べて改良されたレオロジーを有してお
り、材料のz軸の熱膨張率(CTE)を過度に増加させ
ることなくアクセス用開孔及び構造を樹脂流によって充
填することができる。
US Pat. No. 5,061,548 (assigned to the Applicant) discloses a ceramic filler content (with a silane coating) disclosed in US Pat. No. 4,849,284 as low as 45% by volume without voids. However, it is disclosed that the composite material retains suitable thermal, mechanical and electrical properties that enable it to be used as a bonding layer in multilayer circuit materials and as a filling material for certain rigid structures. ing. The ceramic-filled fluoropolymer composite of US Pat. No. 5,061,548 is described in US Pat.
It has an improved rheology as compared to material No. 84, allowing access holes and structures to be filled with resin flow without unduly increasing the material's z-axis coefficient of thermal expansion (CTE). ..

【0007】米国特許第5024871号(本出願人に
譲渡されている)は、米国特許第4849284号に開
示された電気基板材料のセラミック充填剤のシラン被膜
をジルコネートカップリング剤及び/またはチタネート
カップリング剤で置換したときにも、得られた複合材料
が、米国特許第4849284号に記載された材料と同
様の優れた熱的、機械的及び電気的特性を維持すること
を開示している。
US Pat. No. 5,024,871 (assigned to the applicant) discloses a silane coating of a ceramic filler of an electrical substrate material disclosed in US Pat. No. 4,849,284 with a zirconate coupling agent and / or a titanate cup. It is disclosed that the resulting composite material retains the same excellent thermal, mechanical and electrical properties as the material described in U.S. Pat. No. 4,849,284 when replaced with a ring agent.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者は、米国特許第
4849284号に開示された高い充填剤含量(例えば
50%以上)のフルオロポリマー複合材料が高いpH浴
に長時間接触したときに生じる顕著な化学的劣化は、空
隙なしとして約26容量%という低い充填剤レベルを使
用することによって低減及び/または軽減し得ることを
知見した。セラミックをチタネート及び/またはジルコ
ネート被膜で被覆したときに、得られたセラミック充填
複合材料は優れた機械的及び電気特性を有しており、
(より高い充填剤レベルの複合材料に比較して)耐アル
カリ性がかなり改良されている。従って、本発明は、チ
タネート及び/またはジルコネートで被覆されたセラミ
ックを26〜50容量%の割合で含有するセラミック充
填フルオロポリマー複合材料を提供する。
SUMMARY OF THE INVENTION The inventor has found that high filler content (eg, 50% or more) fluoropolymer composites disclosed in US Pat. No. 4,849,284 occur when exposed to high pH baths for extended periods of time. It has been found that significant chemical degradation can be reduced and / or mitigated by using filler levels as low as about 26% by volume without voids. When the ceramic is coated with a titanate and / or zirconate coating, the resulting ceramic-filled composite material has excellent mechanical and electrical properties,
Significantly improved alkali resistance (compared to higher filler level composites). Accordingly, the present invention provides a ceramic-filled fluoropolymer composite material containing a titanate and / or zirconate coated ceramic in a proportion of 26-50% by volume.

【0009】[0009]

【実施例】本発明の上記及びその他の特徴及び利点は、
図面に基づく以下の詳細な記載より当業者に容易に理解
されよう。
The above and other features and advantages of the present invention include:
Those skilled in the art will readily understand from the following detailed description based on the drawings.

【0010】本発明のセラミック充填フルオロポリマー
複合材料は、セラミックが空隙なしとして約26容量%
という少ない量で存在することを除けば、米国特許第4
849284号、第5061548号及び第50248
71号に記載の複合材料と実質的に同様である。
The ceramic-filled fluoropolymer composite material of the present invention has a ceramic content of about 26% by volume without voids.
US Pat. No. 4 except that it is present in small amounts
No. 849284, No. 5061548 and No. 50248
Substantially similar to the composite material described in No. 71.

【0011】本発明の第1実施例は、空隙なしとしての
容積分率約0.26〜0.50で存在する粒状セラミック
充填剤と、同じく容積分率0.74〜0.50で存在する
フルオロポリマー(例えばPTFE)とから成る複合材
料を好ましい実施例として示す。好ましいセラミック充
填剤は、溶融アモルファスシリカであるが、砂及び粘土
のようなその他の粒状ケイ素質充填剤も使用し得る。更
に、ガラス繊維、固体ガラスビーズ及び砕いたガラスパ
ネルのような強化材を2重量%以下の量で使用してもよ
い。セラミック充填剤をチタネート及び/またはジルコ
ネート被膜で被覆する。その他のすべての組成的特徴及
び製造方法は米国特許第4849284号と同じであ
る。従って、その詳細に関しては米国特許第48492
84号を参照するとよい。本発明の材料は、PTFEポ
リマーにセラミック充填剤を分散させ凝固させる湿式混
合で製造してもよくまたはたPTFE微粉とセラミック
充填剤との乾式混合によって製造してもよい。
The first embodiment of the present invention is present with a particulate ceramic filler present in a volume fraction of about 0.26 to 0.50 without voids, and also in a volume fraction of 0.74 to 0.50. A composite material consisting of a fluoropolymer (eg PTFE) is shown as a preferred embodiment. The preferred ceramic filler is fused amorphous silica, but other particulate siliceous fillers such as sand and clay may also be used. In addition, reinforcing materials such as glass fibers, solid glass beads and crushed glass panels may be used in amounts up to 2% by weight. The ceramic filler is coated with a titanate and / or zirconate coating. All other compositional features and manufacturing methods are the same as in US Pat. No. 4,849,284. Therefore, for details thereof, see US Pat.
See No. 84. The material of the present invention may be prepared by wet mixing, in which the ceramic filler is dispersed and solidified in the PTFE polymer, or may be prepared by dry mixing of the PTFE fine powder and the ceramic filler.

【0012】適当なジルコネートカップリング剤の非限
定例は、ネオペンチル(ジアリルオキシ)トリ(ジオク
チル)ピロ−ホスフェートジルコネート及びネオペンチ
ル(ジアリルオキシ)トリ(N−エチレンジアミノ)エ
チルジルコネートである。後者のジルコネートは、Ke
nrich Petrochemicals,Inc.
から商標LZ−44として市販されている。
Non-limiting examples of suitable zirconate coupling agents are neopentyl (diallyloxy) tri (dioctyl) pyro-phosphate zirconate and neopentyl (diallyloxy) tri (N-ethylenediamino) ethyl zirconate. The latter zirconate is Ke
nrich Petrochemicals, Inc.
Under the trademark LZ-44.

【0013】適当なチタネートカップリング剤の例は、
ネオペンチル(ジアリル)オキシトリネオデカノニルチ
タネート、ネオペンチル(ジアリル)オキシトリ(ドデ
シル)ベンゼン−スルホニルチタネート、ネオペンチル
(ジアリル)オキシトリ(ジオクチル)ホスファトチタ
ネート、ネオペンチル(ジアリル)オキシトリ(ジオク
チル)ピロ−ホスファトチタネート、ネオペンチル(ジ
アリル)オキシトリ(N−エチレンジアミノ)エチルチ
タネート、ネオペンチル(ジアリル)オキシトリ(m−
アミノ)フェニルチタネート、ネオペンチル(ジアリ
ル)オキシトリヒドロキシカプロイルチタネートであ
る。これらのチタネートはすべて、Kenrich P
etrochemicals,Inc.から商標LIC
Aとして市販されている。
Examples of suitable titanate coupling agents are:
Neopentyl (diallyl) oxytrineodecanonyl titanate, neopentyl (diallyl) oxytri (dodecyl) benzene-sulfonyl titanate, neopentyl (diallyl) oxytri (dioctyl) phosphatotitanate, neopentyl (diallyl) oxytri (dioctyl) pyro-phosphatotitanate, Neopentyl (diallyl) oxytri (N-ethylenediamino) ethyl titanate, neopentyl (diallyl) oxytri (m-
Amino) phenyl titanate and neopentyl (diallyl) oxytrihydroxycaproyl titanate. All of these titanates are from Kenrich P
Trademark LIC from etrochemicals, Inc.
It is marketed as A.

【0014】本発明の電気基板材料の重要な特徴を実現
する好ましいジルコネート及びチタネート被膜は、充填
剤(セラミック)材料の1重量%である。
The preferred zirconate and titanate coating that achieves the important features of the electrical substrate materials of the present invention is 1% by weight of the filler (ceramic) material.

【0015】充填剤含量を約26容量%という低い値に
減らすことによって、アルカリ性環境に対するフルオロ
ポリマー複合材料の耐性がかなり強化される。アルカリ
性環境に対するこのような耐性強化は、1991年1月
17日出願のUSSN第641427号(本出願人に譲
渡されている)にシラン被膜と関連させて詳細に記載さ
れている。前出の特許第5024871号におけるよう
に、ジルコネート及びチタネート被膜は、シランと等し
い結果ではないにしてもシランに近い結果を与えるであ
ろう。従って、チタネート及び/またはジルコネートで
被覆されたセラミックを充填した本発明のフルオロポリ
マーは、シラン被覆複合材料と同じまたは同様の特性を
示すであろう。
By reducing the filler content to values as low as about 26% by volume, the fluoropolymer composite's resistance to alkaline environments is significantly enhanced. Such enhanced resistance to alkaline environments is described in detail in USSN 641427 filed Jan. 17, 1991 (assigned to the applicant) in connection with silane coatings. As in the above-referenced US Pat. No. 5,024,871, zirconate and titanate coatings will give results close to, if not equal to, silane. Thus, the titanate and / or zirconate coated ceramic filled fluoropolymers of the present invention will exhibit the same or similar properties as the silane coated composites.

【0016】本発明による低充填剤レベル(例えば27
〜37容量%)は、米国特許第4849284号の複合
材料の50容量%レベルに比べて化学的耐性をかなり強
化する。従って、充填剤レベル約26〜50容量%を有
する本発明の充填フルオロポリマー複合材料は、米国特
許第4849284号の(充填剤レベル50容量%以上
の)材料に比べて回路材料としてかなり有利である。
Low filler levels according to the invention (eg 27
˜37% by volume) significantly enhances chemical resistance compared to the 50% by volume level of the composite of US Pat. No. 4,849,284. Thus, the filled fluoropolymer composite material of the present invention having a filler level of about 26 to 50% by volume is a significant circuit material advantage over the material of US Pat. No. 4,849,284 (at or above 50% by volume filler level). ..

【0017】充填剤含量をこのように低減させることに
よって、本発明材料はレオロジーが改良されて「流動
性」となり、米国特許第4849284号に開示された
ような高い充填剤レベル(容積分率55%以上)の材料
によって充填することができなかった厚い金属ホイルの
比較的大きい開孔または回路の内側層を充填できるよう
になる。
By reducing the filler content in this manner, the material of the present invention has improved rheology and becomes "flowable", and high filler levels (volume fraction 55) as disclosed in US Pat. No. 4,849,284. % Or more) of material allows the filling of relatively large openings in thick metal foils or inner layers of circuits.

【0018】本発明の重要な特徴は、材料のz軸の熱膨
脹率(CTE)を過度に増加させることなくレオロジー
が改良されることである。30〜50容量%の充填剤を
含む製品のz軸の熱膨張率の測定値は、−55〜+12
0℃の温度範囲において、広く使用されている繊維強化
PTFEよりもかなり低い値(典型的には約200pp
m/℃)を示した。本発明の結合層と該層によって結合
されたRO2800ラミネートから成る多層回路板は、
繊維強化PTFE板よりもかなり低い熱膨張率を示し
た。このような熱膨張率の減少は、加熱サイクル及び高
温組立に対する透孔及び通路(vias)の被覆の確実
性を増加するという重要な利点を与える。
An important feature of the present invention is that the rheology is improved without unduly increasing the z-axis coefficient of thermal expansion (CTE) of the material. The z-axis coefficient of thermal expansion of a product containing 30 to 50% by volume of filler is -55 to +12.
In the temperature range of 0 ° C, much lower than the widely used fiber reinforced PTFE (typically about 200 pp
m / ° C.). A multilayer circuit board comprising a tie layer of the present invention and a RO2800 laminate joined by the layer,
It showed a much lower coefficient of thermal expansion than the fiber reinforced PTFE plate. Such a reduction in coefficient of thermal expansion provides the important advantage of increasing the reliability of the coating of through holes and vias for heating cycles and high temperature assembly.

【0019】本発明は、セラミック充填PTFE複合材
料によって有用なプリント配線基板が製造される多数の
用途で使用し得る。本発明は特に、エッチングされたC
IC電圧面もしくはアース面のようなもともと剛性の構
造物の開孔を充填するため、またはかかる構造物に結合
されるコアもしくは回路部品を固定するために使用され
る。例えば、第1図のAは、複数の開孔52を有する剛
性アース面構造50の断面図を示す。本発明のシート5
4、56(例えば容積分率約0.26〜0.50のセラミ
ック)をアース面50の両面に配置する。第1図のBに
おいては、第1図のAの積層体58が熱及び圧力下に貼
合わせされている。本発明の組成物は、十分な流動性を
有するので、開孔を完全に充填することができ、しかも
優れた熱的、機械的及び電気的特性を与える。
The present invention may be used in a number of applications where ceramic-filled PTFE composites produce useful printed wiring boards. The invention is particularly applicable to etched C
Used to fill openings in originally rigid structures, such as IC voltage or ground planes, or to secure cores or circuit components that are coupled to such structures. For example, FIG. 1A shows a cross-sectional view of a rigid ground plane structure 50 having a plurality of apertures 52. Sheet 5 of the present invention
4, 56 (for example, a ceramic having a volume fraction of about 0.26 to 0.50) are arranged on both sides of the ground plane 50. In FIG. 1B, the laminate 58 of FIG. 1A is laminated under heat and pressure. The composition of the present invention has sufficient fluidity so that it can completely fill the apertures and still provide excellent thermal, mechanical and electrical properties.

【0020】更に第2図によれば、本発明の複合材料
は、緻密化及び焼結が行なわれていないシートの形態に
加工され、多層プリント配線基板を結合するために使用
されるか、またはホイルの貼合わせによってプリント配
線基板を製造するために使用され得る。第2図では、か
かる多層回路板全体を符号10で示している。多層板1
0は複数の基板材料層12、14及び16を含み、これ
らの層はすべて電気基板材料、好ましくは米国特許第4
849284号、第5061548号、第502487
1号またはUSSN第641427号のセラミック充填
フルオロポリマー材料から成る。各基板層12、14及
び16は導電性パターン18、20、22及び24をそ
れぞれ有している。回路パターンを担持する基板層が回
路基板を形付けていることに注目されたい。被覆透孔2
6、28は選択された回路パターンを公知の方法で相互
接続する。
Further according to FIG. 2, the composite material of the present invention is processed into the form of a sheet which has not been densified and sintered and is used for bonding multilayer printed wiring boards, or It can be used to manufacture printed wiring boards by laminating foils. In FIG. 2, the multilayer circuit board as a whole is indicated by reference numeral 10. Multilayer board 1
0 comprises a plurality of substrate material layers 12, 14 and 16, all of which are electrical substrate materials, preferably US Pat.
No. 849284, No. 5061548, No. 502487
No. 1 or USSN 641427 ceramic-filled fluoropolymer material. Each substrate layer 12, 14 and 16 has a conductive pattern 18, 20, 22 and 24 respectively. Note that the substrate layer carrying the circuit pattern shapes the circuit board. Covered hole 2
6, 28 interconnect the selected circuit patterns in a known manner.

【0021】本発明によれば、本発明の組成を有する基
板材料から成る別々のシート30、32を接着剤層また
は結合層として使用し個々の回路基板を一緒に貼合わせ
る。かかるラミネートの好ましい形成方法では、1つ以
上の結合層と交互に配置された回路基板の積層体が得ら
れる。この積層体を次に融着させる。即ち、多層アセン
ブリ全体を溶融し、内部全体が一定の電気的特性及び機
械的特性を有する均質構造となるように融着させる。シ
ラン、チタネート及び/またはジルコネートで被覆され
たセラミックで充填されたフルオロポリマー以外の材料
から成る回路基板を貼合わせるために結合層30及び3
2が使用できることに注目されたい。しかしながら、好
ましい実施例では、多層回路板の回路基板が、前記セラ
ミック充填フルオロポリマーの電気基板材料のみから成
る。
According to the present invention, separate sheets 30, 32 of substrate material having the composition of the present invention are used as adhesive or tie layers to bond individual circuit boards together. A preferred method of forming such a laminate results in a laminate of circuit boards alternating with one or more tie layers. The laminate is then fused. That is, the entire multi-layer assembly is melted and fused such that the entire interior is a homogeneous structure with constant electrical and mechanical properties. Tie layers 30 and 3 for laminating circuit boards made of materials other than fluoropolymer filled ceramics coated with silane, titanate and / or zirconate
Note that 2 can be used. However, in a preferred embodiment, the circuit board of the multilayer circuit board consists only of the ceramic-filled fluoropolymer electrical board material.

【0022】米国特許第4849284号に記載された
ような高レベル(例えば50容量%以上)の充填剤を含
有する複合材料は、種々の設計のプリント配線基板(例
えば、本体コンピュータ用の大きい多層基板(CPUボ
ード)、軍用の表面実装アセンブリ、マイクロ波回路板
結合アセンブリ)の製造に極めて適している。しかしな
がら、誘電体の厚みに比較して厚い電圧面を要する場
合、特にMLBに使用する場合(例えば熱膨張率制御の
ための厚い電力面、厚い制御層を使用する場合)には、
前出の米国特許第5061548号で示されているよう
な適当な流動性を与えるために、充填剤含量を(45〜
50容量%に)低減させることが必要である。本発明に
よる約26〜50%の低い充填剤含量の材料は、マルチ
チップモジュール製造用回路加工技術の発達に対応でき
る。このようなマルチチップモジュールの製造では特
に、小さい開孔を設けるためにレーザドリルが使用さ
れ、また、優れた流動性及び無電解浴に対するアルカリ
耐性が必要である。本発明の低い充填剤含量では、(米
国特許第4849284号に記載された材料のような)
優れた従来の多層板を製造できないかもしれないが、米
国特許第4849284号に記載された材料は高速高密
度設計の好ましい実装技術として浮上したマルチチップ
モジュールには適していない。
Composite materials containing high levels (eg, 50% or more by volume) of fillers, such as those described in US Pat. No. 4,849,284, are used in printed wiring boards of various designs (eg, large multi-layer boards for host computers). (CPU board), military surface mount assembly, microwave circuit board bond assembly). However, when a voltage surface that is thicker than the thickness of the dielectric is required, especially when used for MLB (for example, when using a thick power surface for controlling thermal expansion coefficient and a thick control layer),
In order to provide suitable fluidity, as shown in the above-mentioned U.S. Pat. No. 5,061,548, the filler content (from 45 to
It is necessary to reduce (to 50% by volume). Materials with low filler content of about 26-50% according to the present invention can accommodate the development of circuit processing technology for multichip module manufacturing. Especially in the manufacture of such multi-chip modules, laser drills are used to provide small openings and also require good flowability and alkali resistance to electroless baths. With the low filler content of the present invention (such as the materials described in US Pat. No. 4,849,284)
While it may not be possible to produce excellent conventional multilayer boards, the materials described in US Pat. No. 4,849,284 are not suitable for multi-chip modules that have emerged as the preferred packaging technology for high speed, high density designs.

【0023】上記では本発明の好ましい実施例を図面に
基づいて説明した。しかしながら、本発明の要旨及び範
囲を逸脱することなく多くの変更及び置換が可能である
こと、、本文の記載は本発明の代表的且つ非限定的な記
載であることは理解されよう。
The preferred embodiments of the present invention have been described above with reference to the drawings. However, it should be understood that many modifications and substitutions can be made without departing from the spirit and scope of the present invention, and that the description in the text is a representative and non-limiting description of the present invention.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】第1図のAは本発明の複合材料が充填される前
の、そしてBは充填された後の開孔を有する剛性構造物
の立面断面図である。
FIG. 1A is an elevational cross-sectional view of a rigid structure having apertures before filling with a composite material of the present invention and B after filling.

【図2】第2図は本発明の熱可塑性複合材料をフィルム
状結合層として使用した多層回路板の立面断面図であ
る。
FIG. 2 is an elevational cross-sectional view of a multilayer circuit board using the thermoplastic composite material of the present invention as a film-like bonding layer.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 多層回路板 12、14、16 基板材料層 18、20、22、24 導電性パターン 26、28 被覆透孔 30、32 結合層 10 Multilayer Circuit Board 12, 14, 16 Substrate Material Layer 18, 20, 22, 24 Conductive Pattern 26, 28 Coated Through Hole 30, 32 Bonding Layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C08L 27/12 9166−4J (72)発明者 グオ・エス・スウエイ アメリカ合衆国、マサチユーセツツ・ 01532、ノースボロウ、バレンチン・ロー ド・60 (72)発明者 アレン・エフ・ホーン・ザ・サード アメリカ合衆国、コネテイカツト・06239、 ダニエルソン、ブロード・ストリート・95 (72)発明者 ブレツト・キルヘニイ アメリカ合衆国、コネテイカツト・06268、 ストアーズ、シヤデイ・レーン・25─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification number Internal reference number FI Technical display location C08L 27/12 9166-4J (72) Inventor Guo S Suway USA, Masachi Yousets 01532, Northborough, Valentin Rod 60 (72) Inventor Allen F Horn the Third United States, Connecticut 06239, Danielson, Broad Street 95 (72) Inventor Brett Kirheny United States, Connecticut 06268, Stores, Sheaday Lane 25

Claims (17)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 フルオロポリマー材料とセラミック充填
剤材料とを含み、前記充填剤材料が基板材料全体の約2
6〜50容量%以上の量で存在し、前記セラミック充填
剤がジルコネートまたはチタネート被膜で被覆されてい
ることを特徴とする電気基板材料。
1. A fluoropolymer material and a ceramic filler material, wherein the filler material comprises about 2% of the total substrate material.
An electrical substrate material, characterized in that it is present in an amount of 6 to 50% by volume or more and the ceramic filler is coated with a zirconate or titanate coating.
【請求項2】 少なくとも1つの導電性材料層が、前記
電気基板材料の少なくとも1部分に配置されていること
を特徴とする請求項1に記載の材料。
2. Material according to claim 1, characterized in that at least one layer of electrically conductive material is arranged on at least part of the electrical substrate material.
【請求項3】 前記フルオロポリマー材料が、ポリテト
ラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロペン、テトラ
フルオロエチレンまたはペルフルオロアルキルビニルエ
ーテルから成るグループから選択されることを特徴とす
る請求項1に記載の材料。
3. The material of claim 1, wherein the fluoropolymer material is selected from the group consisting of polytetrafluoroethylene, hexafluoropropene, tetrafluoroethylene or perfluoroalkyl vinyl ether.
【請求項4】 前記セラミック充填剤がシリカから成る
ことを特徴とする請求項1に記載の材料。
4. The material of claim 1, wherein the ceramic filler comprises silica.
【請求項5】 前記ジルコネート被膜が、ネオペンチル
(ジアリルオキシ)トリ(ジオクチル)ピロ−ホスフェ
ートジルコネート及びネオペンチル(ジアリルオキシ)
トリ(N−エチレンジアミノ)エチルジルコネートから
成るグループから選択されることを特徴とする請求項1
に記載の材料。
5. The zirconate coating comprises neopentyl (diallyloxy) tri (dioctyl) pyro-phosphate zirconate and neopentyl (diallyloxy).
A material selected from the group consisting of tri (N-ethylenediamino) ethyl zirconate.
The material described in.
【請求項6】 前記チタネート被膜が、ネオペンチル
(ジアリル)オキシトリネオデカノニルチタネート、ネ
オペンチル(ジアリル)オキシトリ(ドデシル)ベンゼ
ン−スルホニルチタネート、ネオペンチル(ジアリル)
オキシトリ(ジオクチル)ホスファトチタネート、ネオ
ペンチル(ジアリル)オキシトリ(ジオクチル)ピロ−
ホスファトチタネート、ネオペンチル(ジアリル)オキ
シトリ(N−エチレンジアミノ)エチルチタネート、ネ
オペンチル(ジアリル)オキシトリ(m−アミノ)フェ
ニルチタネート、及びネオペンチル(ジアリル)オキシ
トリヒドロキシカプロイルチタネートから成るグループ
から選択されることを特徴とする請求項1に記載の材
料。
6. The titanate coating comprises neopentyl (diallyl) oxytrineodecanonyl titanate, neopentyl (diallyl) oxytri (dodecyl) benzene-sulfonyl titanate, neopentyl (diallyl).
Oxytri (dioctyl) phosphatotitanate, neopentyl (diallyl) oxytri (dioctyl) pyro-
Selected from the group consisting of phosphatotitanate, neopentyl (diallyl) oxytri (N-ethylenediamino) ethyl titanate, neopentyl (diallyl) oxytri (m-amino) phenyl titanate, and neopentyl (diallyl) oxytrihydroxycaproyl titanate. Material according to claim 1, characterized in that
【請求項7】 少なくとも第1回路層と第2回路層とを
含む多層回路において、第1回路層と第2回路層との間
に接着剤層がサンドイッチされており、前記接着剤層が
フルオロポリマー材料とセラミック充填剤材料とを含
み、前記充填剤材料が接着剤層全体の約26〜50容量
%以上の量で存在し、前記セラミック充填剤がチタネー
トまたはジルコネート被膜で被覆されていることを特徴
とする多層回路。
7. In a multilayer circuit including at least a first circuit layer and a second circuit layer, an adhesive layer is sandwiched between the first circuit layer and the second circuit layer, and the adhesive layer is fluoro. Comprising a polymeric material and a ceramic filler material, said filler material being present in an amount of greater than or equal to about 26-50% by volume of the total adhesive layer, said ceramic filler being coated with a titanate or zirconate coating. Characteristic multi-layer circuit.
【請求項8】 少なくとも1つの被覆透孔を有すること
を特徴とする請求項7に記載の多層回路。
8. The multilayer circuit according to claim 7, which has at least one covering hole.
【請求項9】 前記フルオロポリマー材料が、ポリテト
ラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロペン、テトラ
フルオロエチレンまたはペルフルオロアルキルビニルエ
ーテルから成るグループから選択されることを特徴とす
る請求項7に記載の多層回路。
9. The multilayer circuit of claim 7, wherein the fluoropolymer material is selected from the group consisting of polytetrafluoroethylene, hexafluoropropene, tetrafluoroethylene or perfluoroalkyl vinyl ether.
【請求項10】 前記セラミック充填剤がシリカから成
ることを特徴とする請求項7に記載の多層回路。
10. The multilayer circuit of claim 7, wherein the ceramic filler comprises silica.
【請求項11】 前記ジルコネート被膜が、ネオペンチ
ル(ジアリルオキシ)トリ(ジオクチル)ピロ−ホスフ
ェートジルコネート及びネオペンチル(ジアリルオキ
シ)トリ(N−エチレンジアミノ)エチルジルコネート
から成るグループから選択されることを特徴とする請求
項7に記載の多層回路。
11. The zirconate coating is selected from the group consisting of neopentyl (diallyloxy) tri (dioctyl) pyro-phosphate zirconate and neopentyl (diallyloxy) tri (N-ethylenediamino) ethyl zirconate. The multilayer circuit according to claim 7.
【請求項12】 前記チタネート被膜が、ネオペンチル
(ジアリル)オキシトリネオドデカノニルチタネート、
ネオペンチル(ジアリル)オキシトリ(ドデシル)ベン
ゼン−スルホニルチタネート、ネオペンチル(ジアリ
ル)オキシトリ(ジオクチル)ホスファトチタネート、
ネオペンチル(ジアリル)オキシトリ(ジオクチル)ピ
ロ−ホスファトチタネート、ネオペンチル(ジアリル)
オキシトリ(N−エチレンジアミノ)エチルチタネー
ト、ネオペンチル(ジアリル)オキシトリ(m−アミ
ノ)フェニルチタネート、及びネオペンチル(ジアリ
ル)オキシトリヒドロキシカプロイルチタネートから成
るグループから選択されることを特徴とする請求項7に
記載の多層回路。
12. The titanate coating comprises neopentyl (diallyl) oxytrineododecanoyl titanate,
Neopentyl (diallyl) oxytri (dodecyl) benzene-sulfonyl titanate, neopentyl (diallyl) oxytri (dioctyl) phosphatotitanate,
Neopentyl (diallyl) oxytri (dioctyl) pyro-phosphatotitanate, neopentyl (diallyl)
8. A compound selected from the group consisting of oxytri (N-ethylenediamino) ethyl titanate, neopentyl (diallyl) oxytri (m-amino) phenyl titanate, and neopentyl (diallyl) oxytrihydroxycaproyl titanate. The described multilayer circuit.
【請求項13】 基板を少なくとも部分的に貫通する少
なくとも1つの開孔を有する剛性基板と、前記少なくと
も1つの開孔内の複合材料とを含み、前記複合材料が、
フルオロポリマー材料とセラミック充填剤材料とを含
み、前記セラミック充填剤材料が複合材料全体の約26
〜50容量%以上の量で存在し、前記セラミック充填剤
がチタネートまたはジルコネート被膜によって被覆され
ていることを特徴とする製品。
13. A rigid substrate having at least one aperture at least partially penetrating the substrate, and a composite material in the at least one aperture, the composite material comprising:
A fluoropolymer material and a ceramic filler material, said ceramic filler material comprising about 26% of the total composite material.
A product, characterized in that it is present in an amount of ˜50% by volume or more and the ceramic filler is coated with a titanate or zirconate coating.
【請求項14】 前記フルオロポリマー材料が、ポリテ
トラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロペン、テト
ラフルオロエチレンまたはペルフルオロアルキルビニル
エーテルから成るグループから選択されることを特徴と
する請求項13に記載の製品。
14. A product as set forth in claim 13 wherein said fluoropolymer material is selected from the group consisting of polytetrafluoroethylene, hexafluoropropene, tetrafluoroethylene or perfluoroalkyl vinyl ethers.
【請求項15】 前記セラミック充填剤がシリカから成
ることを特徴とする請求項13に記載の製品。
15. A product as set forth in claim 13 wherein the ceramic filler comprises silica.
【請求項16】 前記ジルコネート被膜が、ネオペンチ
ル(ジアリルオキシ)トリ(ジオクチル)ピロ−ホスフ
ェートジルコネート及びネオペンチル(ジアリルオキ
シ)トリ(N−エチレンジアミノ)エチルジルコネート
から成るグループから選択されることを特徴とする請求
項13に記載の製品。
16. The zirconate coating is selected from the group consisting of neopentyl (diallyloxy) tri (dioctyl) pyro-phosphate zirconate and neopentyl (diallyloxy) tri (N-ethylenediamino) ethyl zirconate. The product according to claim 13.
【請求項17】 前記チタネート被膜が、ネオペンチル
(ジアリル)オキシトリネオデカノニルチタネート、ネ
オペンチル(ジアリル)オキシトリ(ドデシル)ベンゼ
ン−スルホニルチタネート、ネオペンチル(ジアリル)
オキシトリ(ジオクチル)ホスファトチタネート、ネオ
ペンチル(ジアリル)オキシトリ(ジオクチル)ピロ−
ホスファトチタネート、ネオペンチル(ジアリル)オキ
シトリ(N−エチレンジアミノ)エチルチタネート、ネ
オペンチル(ジアリル)オキシトリ(m−アミノ)フェ
ニルチタネート、及びネオペンチル(ジアリル)オキシ
トリヒドロキシカプロイルチタネートから成るグループ
から選択されることを特徴とする請求項13に記載の製
品。
17. The titanate coating comprises neopentyl (diallyl) oxytrineodecanonyl titanate, neopentyl (diallyl) oxytri (dodecyl) benzene-sulfonyl titanate, neopentyl (diallyl).
Oxytri (dioctyl) phosphatotitanate, neopentyl (diallyl) oxytri (dioctyl) pyro-
Selected from the group consisting of phosphatotitanate, neopentyl (diallyl) oxytri (N-ethylenediamino) ethyl titanate, neopentyl (diallyl) oxytri (m-amino) phenyl titanate, and neopentyl (diallyl) oxytrihydroxycaproyl titanate. The product according to claim 13, characterized in that
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