JPH05193142A - 印字ヘッド用ノズル板の製作方法 - Google Patents
印字ヘッド用ノズル板の製作方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 配向依存性エッチングを用いてルーフシュー
タ型印字ヘッド用のアパーチャ板を製作する方法を提供
する。 【構成】 シリコンウェーハに対して２段階式配向依存
性エッチングを行なって、シリコンウェーハの一つの面
にトラフを形成し、及び、このトラフと同じまたは反対
の面に複数のアパーチャを形成する。
タ型印字ヘッド用のアパーチャ板を製作する方法を提供
する。 【構成】 シリコンウェーハに対して２段階式配向依存
性エッチングを行なって、シリコンウェーハの一つの面
にトラフを形成し、及び、このトラフと同じまたは反対
の面に複数のアパーチャを形成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は一般にルーフシュータ型
印字ヘッドのためのアパーチャ板を製作する方法に関
し、特に、配向依存性エッチングによって熱インクジェ
ット（ＴＩＪ）印字ヘッドのような印字ヘッドのための
アパーチャ板を形成する方法に関する。
印字ヘッドのためのアパーチャ板を製作する方法に関
し、特に、配向依存性エッチングによって熱インクジェ
ット（ＴＩＪ）印字ヘッドのような印字ヘッドのための
アパーチャ板を形成する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】熱的ドロップオンデマンド（drop-on-de
mand) 式インクジェット印字ヘッドに対しては２つの一
般的形態がある。一方の形態においては、インク滴は、
ノズルから、インクチャネル内のインクの流れと平行で
あって且つ印字ヘッドの泡発生用加熱素子の面と平行で
ある方向に進ませられる。かかる形態の印字ヘッドは、
例えば、米国特許第4,601,777 号に開示されている。こ
の形態は、しばしば、「エッジまたはサイドシュータ」
（edge or side shooter) と呼ばれる。他方の形態の熱
インクジェット印字ヘッドにおいては、インク滴は、ノ
ズルから、泡発生用加熱素子の面と直角の方向に進ませ
られる。かかる形態の印字ヘッドは、例えば、米国特許
第4,568,953 号及び第4,789,425 号に開示されている。
この後者の形態は「ルーフシュータ」（roofshooter)と
呼ばれている。
mand) 式インクジェット印字ヘッドに対しては２つの一
般的形態がある。一方の形態においては、インク滴は、
ノズルから、インクチャネル内のインクの流れと平行で
あって且つ印字ヘッドの泡発生用加熱素子の面と平行で
ある方向に進ませられる。かかる形態の印字ヘッドは、
例えば、米国特許第4,601,777 号に開示されている。こ
の形態は、しばしば、「エッジまたはサイドシュータ」
（edge or side shooter) と呼ばれる。他方の形態の熱
インクジェット印字ヘッドにおいては、インク滴は、ノ
ズルから、泡発生用加熱素子の面と直角の方向に進ませ
られる。かかる形態の印字ヘッドは、例えば、米国特許
第4,568,953 号及び第4,789,425 号に開示されている。
この後者の形態は「ルーフシュータ」（roofshooter)と
呼ばれている。
【０００３】米国特許第4,789,425 号に開示されている
「ルーフシュータ」型印字ヘッドにおいては、印字ヘッ
ドはシリコンヒータ板及び流体案内構造部材を具備して
いる。ヒータ板は、加熱素子の線形アレイ、付属のアド
レス指定電極、及び前記加熱素子アレイと平行の細長い
インク供給スロットを有す。前記構造部材は、少なくと
も１つのくぼみキャビティ、複数のノズル、及び前記く
ぼみキャビティ内にある複数の壁を有し、これら壁はイ
ンクをノズルに導くための個別チャネルを形成する。前
記くぼみキャビティ及び供給スロットは印字ヘッド内に
インクリザーバを形成する。
「ルーフシュータ」型印字ヘッドにおいては、印字ヘッ
ドはシリコンヒータ板及び流体案内構造部材を具備して
いる。ヒータ板は、加熱素子の線形アレイ、付属のアド
レス指定電極、及び前記加熱素子アレイと平行の細長い
インク供給スロットを有す。前記構造部材は、少なくと
も１つのくぼみキャビティ、複数のノズル、及び前記く
ぼみキャビティ内にある複数の壁を有し、これら壁はイ
ンクをノズルに導くための個別チャネルを形成する。前
記くぼみキャビティ及び供給スロットは印字ヘッド内に
インクリザーバを形成する。
【０００４】前記供給スロットは、異方性エッチングに
よってヒータ板内に正確に形成且つ配置される。前記構
造部材は、２層のフォトレジスト、２段フラットニッケ
ル電鋳、または単一フォトレジスト層及び１段フラット
ニッケル電鋳のいずれかから作られる。ルーフシュータ
型の印字ヘッドには、サイドシュータ型のものに比べて
いくつかの利点がある。まず、ルーフシュータ型印字ヘ
ッドにはインク補給についての問題がない。即ち、ルー
フシュータ型印字ヘッドは、サイドシュータ型印字ヘッ
ドよりも遥かに高い印字速度で動作することができる。
また、ルーフシュータ型印字ヘッドには空気吸い込み問
題がない。サイドシュータ型印字ヘッドは、ノズルを通
じてインクチャネル内に空気を吸い込んで印字誤りを引
き起こす可能性がある。ところが、ルーフシュータ型印
字ヘッドは、この印字ヘッドの構造により、ノズルを通
じてインクチャネルに空気を吸い込むということがな
い。
よってヒータ板内に正確に形成且つ配置される。前記構
造部材は、２層のフォトレジスト、２段フラットニッケ
ル電鋳、または単一フォトレジスト層及び１段フラット
ニッケル電鋳のいずれかから作られる。ルーフシュータ
型の印字ヘッドには、サイドシュータ型のものに比べて
いくつかの利点がある。まず、ルーフシュータ型印字ヘ
ッドにはインク補給についての問題がない。即ち、ルー
フシュータ型印字ヘッドは、サイドシュータ型印字ヘッ
ドよりも遥かに高い印字速度で動作することができる。
また、ルーフシュータ型印字ヘッドには空気吸い込み問
題がない。サイドシュータ型印字ヘッドは、ノズルを通
じてインクチャネル内に空気を吸い込んで印字誤りを引
き起こす可能性がある。ところが、ルーフシュータ型印
字ヘッドは、この印字ヘッドの構造により、ノズルを通
じてインクチャネルに空気を吸い込むということがな
い。
【０００５】他の基本的なルーフシュータ型熱インクジ
ェット印字ヘッドが米国特許第4,791,440 号に開示され
ている。米国特許第4,791,440 号に開示されているルー
フシュータ型熱インクジェット印字ヘッドにおいては、
ヒータアレイが基体上に配置されている。アパーチャを
有するノズル板が前記基体の上面に接合されて印字ヘッ
ドを形成する。
ェット印字ヘッドが米国特許第4,791,440 号に開示され
ている。米国特許第4,791,440 号に開示されているルー
フシュータ型熱インクジェット印字ヘッドにおいては、
ヒータアレイが基体上に配置されている。アパーチャを
有するノズル板が前記基体の上面に接合されて印字ヘッ
ドを形成する。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、２段
式エッチング工程を用いてルーフシュータ型ＴＩＪ印字
ヘッドのためアパーチャ板を製作する方法を提供するこ
とにある。本発明の他の目的は、配向依存性エッチング
（ＯＤＥ）によってトラフ及びアパーチャをエッチング
するというＴＩＪ印字ヘッドのためのノズル板を製作す
る方法を提供することにある。
式エッチング工程を用いてルーフシュータ型ＴＩＪ印字
ヘッドのためアパーチャ板を製作する方法を提供するこ
とにある。本発明の他の目的は、配向依存性エッチング
（ＯＤＥ）によってトラフ及びアパーチャをエッチング
するというＴＩＪ印字ヘッドのためのノズル板を製作す
る方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明においては、２段
式配向依存性エッチングを用いてルーフシュータ型熱イ
ンクジェット印字ヘッドのためアパーチャ板を形成す
る。このアパーチャ板は、第１のエッチング段階によっ
て形成されたトラフ、及び第２のエッチング段階中に前
記トラフ内に形成された複数のノズルを有す。
式配向依存性エッチングを用いてルーフシュータ型熱イ
ンクジェット印字ヘッドのためアパーチャ板を形成す
る。このアパーチャ板は、第１のエッチング段階によっ
て形成されたトラフ、及び第２のエッチング段階中に前
記トラフ内に形成された複数のノズルを有す。
【０００８】以下、図面について本発明を詳細に説明す
る。図面においては、同様参照番号は同様部材を示す。
る。図面においては、同様参照番号は同様部材を示す。
【０００９】
【実施例】図１及び図２について本発明の実施例を説明
する。実質的に“１００”平面内にある主面を有するシ
リコンウェーハを作る。このウェーハ１０は、好ましく
は、５００μｍ（２０ミル）の高さＨp を有す。次に、
ウェーハ１０の上面２１をマスキング材料でマスクし、
そして異方性エッチングしてウェーハ１０内にトラフ２
０を形成する。トラフ２０は、外幅Ｗo 及び内幅Ｗi を
有す。ＯＤＥはウェーハ１０をウェーハ１０内のシリコ
ン原子の配向に従ってエッチングするので、前記トラフ
の端部は斜面となる。トラフの外幅Ｗo は好ましくは1.
８８７５×１０3 μｍ（７5.５ミル）である。トラフの
内幅Ｗi は好ましくは1.２５×１０3 μｍ（５０ミル）
である。トラフ２０は下方へエッチングされているが、
ウェーハを貫通してはいない。ウェーハの残っている底
壁２５は、ルーフシュータＴＩＪ印字ヘッドアパーチャ
板の所望の厚さに等しい厚さを有す。この距離、即ち底
壁厚さ、Ｈa は、ルーフシュータアパーチャ板に対し、
好ましくは、５０μｍ（２ミル）に等しい。
する。実質的に“１００”平面内にある主面を有するシ
リコンウェーハを作る。このウェーハ１０は、好ましく
は、５００μｍ（２０ミル）の高さＨp を有す。次に、
ウェーハ１０の上面２１をマスキング材料でマスクし、
そして異方性エッチングしてウェーハ１０内にトラフ２
０を形成する。トラフ２０は、外幅Ｗo 及び内幅Ｗi を
有す。ＯＤＥはウェーハ１０をウェーハ１０内のシリコ
ン原子の配向に従ってエッチングするので、前記トラフ
の端部は斜面となる。トラフの外幅Ｗo は好ましくは1.
８８７５×１０3 μｍ（７5.５ミル）である。トラフの
内幅Ｗi は好ましくは1.２５×１０3 μｍ（５０ミル）
である。トラフ２０は下方へエッチングされているが、
ウェーハを貫通してはいない。ウェーハの残っている底
壁２５は、ルーフシュータＴＩＪ印字ヘッドアパーチャ
板の所望の厚さに等しい厚さを有す。この距離、即ち底
壁厚さ、Ｈa は、ルーフシュータアパーチャ板に対し、
好ましくは、５０μｍ（２ミル）に等しい。
【００１０】次に、ウェーハ１０の、トラフ２０からの
反対面２２を、アパーチャ３０のパターンでマスクす
る。これらアパーチャ３０は、図３に示すようにウェー
ハ１０をヒータ板に接合すると、ＴＩＪ印字ヘッドに対
するノズルの役をなす。次いで、このマスクしたウェー
ハを異方性エッチングし、ＯＤＥのために縁が傾斜して
いる複数のアパーチャを形成する。熱インクジェット印
字ヘッドに対しては、これらアパーチャは、好ましく
は、５０μｍの内幅Ｎi 、及び１２０μｍの外幅Ｎ o を
有す。アパーチャ３０はトラフ２０の底壁２５を貫通し
てエッチングされる。アパーチャ３０は、シリコンウェ
ーハ１０から作ったアパーチャ板を用いて熱インクジェ
ット印字ヘッドを作るとき、アパーチャ３０の狭い方の
断面がヒータ板４０から遠くへ向くように、テーパ付け
される。これにより、ヒータ板４０上の抵抗体７０によ
ってアパーチャ３０から噴出させられるインクは円滑な
高速流れとなる。この円滑な高速流れにより、この熱イ
ンクジェット印字ヘッドによって行なわれる紙片上のイ
ンクの配置はより正確になる。
反対面２２を、アパーチャ３０のパターンでマスクす
る。これらアパーチャ３０は、図３に示すようにウェー
ハ１０をヒータ板に接合すると、ＴＩＪ印字ヘッドに対
するノズルの役をなす。次いで、このマスクしたウェー
ハを異方性エッチングし、ＯＤＥのために縁が傾斜して
いる複数のアパーチャを形成する。熱インクジェット印
字ヘッドに対しては、これらアパーチャは、好ましく
は、５０μｍの内幅Ｎi 、及び１２０μｍの外幅Ｎ o を
有す。アパーチャ３０はトラフ２０の底壁２５を貫通し
てエッチングされる。アパーチャ３０は、シリコンウェ
ーハ１０から作ったアパーチャ板を用いて熱インクジェ
ット印字ヘッドを作るとき、アパーチャ３０の狭い方の
断面がヒータ板４０から遠くへ向くように、テーパ付け
される。これにより、ヒータ板４０上の抵抗体７０によ
ってアパーチャ３０から噴出させられるインクは円滑な
高速流れとなる。この円滑な高速流れにより、この熱イ
ンクジェット印字ヘッドによって行なわれる紙片上のイ
ンクの配置はより正確になる。
【００１１】図３は、本発明方法によって作ったアパー
チャ板５０を用いるルーフシュータ型熱インクジェット
印字ヘッドを示すものである。アパーチャ板５０は、Ｏ
ＤＥによって形成したトラフ２０及びアパーチャ３０を
有するウェーハ１０の少なくとも一部分を含んでいる。
このアパーチャ板５０を、加熱素子、付属の電子工学装
置、及びポリイミド処理によって形成した適切なチャネ
ル構造を持っているヒータ板４０に接合する。ポリイミ
ドチャネル壁６０により、アパーチャ板５０はヒータ板
４０から間隔配置され、このようにして密閉チャネル構
造が作られる。ポリイミド壁６０の高さＧは、好ましく
は、２５μｍである。ヒータ板４０の寸法、即ち厚さ、
Ｈh は、好ましくは、５００μｍ（２０ミル）であり、
これは、本実施例のアパーチャ板５０を作るのに用いる
シリコンウェーハ１０と同じ厚さである。
チャ板５０を用いるルーフシュータ型熱インクジェット
印字ヘッドを示すものである。アパーチャ板５０は、Ｏ
ＤＥによって形成したトラフ２０及びアパーチャ３０を
有するウェーハ１０の少なくとも一部分を含んでいる。
このアパーチャ板５０を、加熱素子、付属の電子工学装
置、及びポリイミド処理によって形成した適切なチャネ
ル構造を持っているヒータ板４０に接合する。ポリイミ
ドチャネル壁６０により、アパーチャ板５０はヒータ板
４０から間隔配置され、このようにして密閉チャネル構
造が作られる。ポリイミド壁６０の高さＧは、好ましく
は、２５μｍである。ヒータ板４０の寸法、即ち厚さ、
Ｈh は、好ましくは、５００μｍ（２０ミル）であり、
これは、本実施例のアパーチャ板５０を作るのに用いる
シリコンウェーハ１０と同じ厚さである。
【００１２】ヒータ板４０は複数の抵抗体７０及びイン
ク供給チャネル８０を含んでいる。抵抗体７０は熱を発
生し、この熱がインクをインク供給チャネル８０からア
パーチャ３０を通じて噴出させる。図示の構成において
は、３００spi(２5.４mm（１インチ）当たりスポット
数）の解像度が得られる。これと異なるもっと小さな寸
法の構成を用いて６００spi の解像度を得ることもでき
る。アパーチャ板５０及びヒータ板４０を互いに接合
し、次いで、個別ダイにダイシングする。
ク供給チャネル８０を含んでいる。抵抗体７０は熱を発
生し、この熱がインクをインク供給チャネル８０からア
パーチャ３０を通じて噴出させる。図示の構成において
は、３００spi(２5.４mm（１インチ）当たりスポット
数）の解像度が得られる。これと異なるもっと小さな寸
法の構成を用いて６００spi の解像度を得ることもでき
る。アパーチャ板５０及びヒータ板４０を互いに接合
し、次いで、個別ダイにダイシングする。
【００１３】ＴＩＪ印字ヘッドに対し、これが使用され
ないときに適当な前面シールを提供するため、アパーチ
ャ板５０上のトラフ２０の壁２７を保有する。壁２７の
一部２９をダイシング除去して平らなアパーチャ板５０
にすることにより、これを他のルーフシュータ型ＴＩＪ
印字ヘッドアパーチャ板に適合させることもできる。次
に、図４及び図５について本発明の他の実施例を説明す
る。図４は、図１におけるように配向依存性エッチング
を行なってトラフ２０を形成した後のシリコンウェーハ
１０を示すものである。従って、トラフ２０を作る方法
については説明を省略する。
ないときに適当な前面シールを提供するため、アパーチ
ャ板５０上のトラフ２０の壁２７を保有する。壁２７の
一部２９をダイシング除去して平らなアパーチャ板５０
にすることにより、これを他のルーフシュータ型ＴＩＪ
印字ヘッドアパーチャ板に適合させることもできる。次
に、図４及び図５について本発明の他の実施例を説明す
る。図４は、図１におけるように配向依存性エッチング
を行なってトラフ２０を形成した後のシリコンウェーハ
１０を示すものである。従って、トラフ２０を作る方法
については説明を省略する。
【００１４】図１におけるトラフと同じ寸法にトラフ２
０を作ったら、トラフの底２５をマスクして複数のアパ
ーチャを形成する。次いでこのウェーハをＯＤＥによっ
てエッチングし、ウェーハ１０の底面２２へ向かって内
方へテーパ付けされた複数のアパーチャ３５を形成す
る。これらアパーチャ３５は、前述の実施例のアパーチ
ャと同じ寸法、即ちＮ0 ＝１２０μｍ及びＮ1 ＝５０μ
ｍを有す。アパーチャ３５は、シリコンウェーハ１０か
ら作ったアパーチャ板１００を用いて熱インクジェット
印字ヘッドを作るときにアパーチャ３５の狭い方の断面
がヒータ板４０から遠くへ向くように、テーパ付けされ
る。これにより、ヒータ板４０上の抵抗体７０によって
アパーチャ３５から噴出させられるインクは円滑な高速
流れとなる。この円滑な高速流れにより、この熱インク
ジェット印字ヘッドによって行なわれる紙片上のインク
の配置はより正確になる。これらアパーチャ３５は、前
述の実施例のアパーチャ３０と反対方向にある。即ち、
このアパーチャ３５を形成する仕方は、アパーチャ３５
をしてその最も狭い断面をヒータ板４０から遠いほうへ
向けさせるため、必然的にヒータ板４０をトラフ２０の
内部またはトラフの頂部に配置するということになると
いうことを意味する。
０を作ったら、トラフの底２５をマスクして複数のアパ
ーチャを形成する。次いでこのウェーハをＯＤＥによっ
てエッチングし、ウェーハ１０の底面２２へ向かって内
方へテーパ付けされた複数のアパーチャ３５を形成す
る。これらアパーチャ３５は、前述の実施例のアパーチ
ャと同じ寸法、即ちＮ0 ＝１２０μｍ及びＮ1 ＝５０μ
ｍを有す。アパーチャ３５は、シリコンウェーハ１０か
ら作ったアパーチャ板１００を用いて熱インクジェット
印字ヘッドを作るときにアパーチャ３５の狭い方の断面
がヒータ板４０から遠くへ向くように、テーパ付けされ
る。これにより、ヒータ板４０上の抵抗体７０によって
アパーチャ３５から噴出させられるインクは円滑な高速
流れとなる。この円滑な高速流れにより、この熱インク
ジェット印字ヘッドによって行なわれる紙片上のインク
の配置はより正確になる。これらアパーチャ３５は、前
述の実施例のアパーチャ３０と反対方向にある。即ち、
このアパーチャ３５を形成する仕方は、アパーチャ３５
をしてその最も狭い断面をヒータ板４０から遠いほうへ
向けさせるため、必然的にヒータ板４０をトラフ２０の
内部またはトラフの頂部に配置するということになると
いうことを意味する。
【００１５】次に図６について説明すると、図は、図５
に示すアパーチャ板１００から作ったルーフシュータＴ
ＩＪ印字ヘッドを示すものである。ヒータ板４０内の全
ての部材は前述の実施例におけると同じである。ヒータ
板４０を両面からエッチングし、これにより、インク供
給孔８０がヒータ板を貫通し、且つ１対の側部溝９０が
深さＨd まで部分的にだけヒータ板を通ってエッチング
されるようにする。溝９０のは幅はＨw である。インク
供給孔８０は内幅Ｉa 及び外幅Ｉb を有す。
に示すアパーチャ板１００から作ったルーフシュータＴ
ＩＪ印字ヘッドを示すものである。ヒータ板４０内の全
ての部材は前述の実施例におけると同じである。ヒータ
板４０を両面からエッチングし、これにより、インク供
給孔８０がヒータ板を貫通し、且つ１対の側部溝９０が
深さＨd まで部分的にだけヒータ板を通ってエッチング
されるようにする。溝９０のは幅はＨw である。インク
供給孔８０は内幅Ｉa 及び外幅Ｉb を有す。
【００１６】インク供給孔８０の壁の傾斜角はαであ
り、これは好ましくは５4.７°に等しい。溝壁の補角的
傾斜角はβであり、これは好ましくは１２5.３°に等し
い（即ち、この壁の実際の傾斜は５4.７°である）。 Ｈw 、Ｈd 、Ｉa 、Ｉb 及びＨh 間の関係は次式のとお
りである。即ち、 Ｈd ＝（Ｈw ／２）tan （５4.７°）＝（Ｈw ／２）（1.４１） Ｈd ＝0.７０６（Ｈw ） （１） Ｈh ＝｛（Ｉb −Ｉa ）／２｝（1.４１） （２） これらの式から、当業者は、アパーチャ板１００ととも
に用いるのに必要な正確な寸法を有するヒータ板４０を
作ることができる。
り、これは好ましくは５4.７°に等しい。溝壁の補角的
傾斜角はβであり、これは好ましくは１２5.３°に等し
い（即ち、この壁の実際の傾斜は５4.７°である）。 Ｈw 、Ｈd 、Ｉa 、Ｉb 及びＨh 間の関係は次式のとお
りである。即ち、 Ｈd ＝（Ｈw ／２）tan （５4.７°）＝（Ｈw ／２）（1.４１） Ｈd ＝0.７０６（Ｈw ） （１） Ｈh ＝｛（Ｉb −Ｉa ）／２｝（1.４１） （２） これらの式から、当業者は、アパーチャ板１００ととも
に用いるのに必要な正確な寸法を有するヒータ板４０を
作ることができる。
【００１７】以上、本発明をその実施例について説明し
たが、本発明はこれに限定されるものではない。本発明
についての以上の説明から解るように、特許請求の範囲
に記載のごとき本発明の精神及び範囲を逸脱することな
しに種々の変形及び変更を行なうことが可能である。
たが、本発明はこれに限定されるものではない。本発明
についての以上の説明から解るように、特許請求の範囲
に記載のごとき本発明の精神及び範囲を逸脱することな
しに種々の変形及び変更を行なうことが可能である。
【図１】シリコンウェーハを配向依存性エッチングして
ウェーハ内にトラフを形成するエッチング工程の第１の
段階を示す線図である。
ウェーハ内にトラフを形成するエッチング工程の第１の
段階を示す線図である。
【図２】図１のシリコンウェーハを該ウェーハの反対面
から２回目の配向依存性エッチングを行なってトラフ内
に複数のアパーチャを形成するエッチング工程の第２の
段階を示す線図である。
から２回目の配向依存性エッチングを行なってトラフ内
に複数のアパーチャを形成するエッチング工程の第２の
段階を示す線図である。
【図３】図２のシリコンウェーハをアパーチャ板として
使用するルーフシュータ型熱インクジェット印字ヘッド
の線図である。
使用するルーフシュータ型熱インクジェット印字ヘッド
の線図である。
【図４】シリコンウェーハを配向依存性エッチングして
ウェーハ内にトラフを形成する他のエッチング工程の第
１の段階を示す線図である。
ウェーハ内にトラフを形成する他のエッチング工程の第
１の段階を示す線図である。
【図５】図４のシリコンウェーハをトラフと同じ面から
２回目の配向依存性エッチングを行なってトラフ内に複
数のアパーチャを形成する他のエッチング工程の第２の
段階を示す線図である。
２回目の配向依存性エッチングを行なってトラフ内に複
数のアパーチャを形成する他のエッチング工程の第２の
段階を示す線図である。
【図６】図５のシリコンウェーハをアパーチャ板として
使用するルーフシュータ型熱インクジェット印字ヘッド
の線図である。
使用するルーフシュータ型熱インクジェット印字ヘッド
の線図である。
１０ シリコンウェーハ ２０ トラフ ２５ 底壁 ３０、３５ アパーチャ
Claims (1)
- 【請求項１】 ルーフシュータ型熱インクジェット印字
ヘッドのためのノズル板を製作する方法において、 （ａ）配向依存性エッチングによってシリコンウェーハ
の第１の平坦面にトラフをエッチングする段階を有し、
前記トラフは所定寸法の底壁を形成するように前記シリ
コンウェーハを通って全体の厚さよりも短く延び、前記
底壁と前記シリコンウェーハの前記第１の平坦面から反
対の第２の平坦面との間の距離は前記ノズル板の一部を
包含するノズルの厚さを決定し、更に、 （ｂ）前記第２の平坦面上に耐エッチング性マスクを置
く段階を有し、前記マスクはその上に複数のアパーチャ
を形成するパターンを含んでおり、更に、 （ｃ）配向依存性エッチングによって前記底壁と前記シ
リコンウェーハの前記第２の平坦面との間に前記第２の
平坦面から複数のノズル形成用アパーチャをエッチング
する段階を有しており、前記複数のノズル形成用アパー
チャは前記底壁の所定寸法内に形成され、前記複数のノ
ズルの前記エッチングは前記トラフを形成するエッチン
グとは別個の独立のエッチング段階であることを特徴と
するノズル板製作方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US07/738,015 US5160577A (en) | 1991-07-30 | 1991-07-30 | Method of fabricating an aperture plate for a roof-shooter type printhead |
| US07/738015 | 1991-07-30 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05193142A true JPH05193142A (ja) | 1993-08-03 |
Family
ID=24966213
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4192233A Pending JPH05193142A (ja) | 1991-07-30 | 1992-07-20 | 印字ヘッド用ノズル板の製作方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5160577A (ja) |
| JP (1) | JPH05193142A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010105405A (ja) * | 2002-06-26 | 2010-05-13 | Samsung Electronics Co Ltd | インクジェットプリンタヘッドの製造方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
1991
- 1991-07-30 US US07/738,015 patent/US5160577A/en not_active Expired - Fee Related
-
1992
- 1992-07-20 JP JP4192233A patent/JPH05193142A/ja active Pending
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| JP2010105405A (ja) * | 2002-06-26 | 2010-05-13 | Samsung Electronics Co Ltd | インクジェットプリンタヘッドの製造方法 |
Also Published As
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|---|---|
| US5160577A (en) | 1992-11-03 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20010521 |