JPH05191243A - Signal transmission circuit and signal transmission control system - Google Patents

Signal transmission circuit and signal transmission control system

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JPH05191243A
JPH05191243A JP621292A JP621292A JPH05191243A JP H05191243 A JPH05191243 A JP H05191243A JP 621292 A JP621292 A JP 621292A JP 621292 A JP621292 A JP 621292A JP H05191243 A JPH05191243 A JP H05191243A
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JP
Japan
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transistor
transfer gate
transistors
turned
signal transmission
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Application number
JP621292A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshihide Nakamura
好秀 中村
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Abstract

PURPOSE:To attain the long service life by suppressing production of a hot carrier due to a short channel of a MOS transistor(TR) being a component of a signal transmission circuit in which plural transfer gates are connected in series. CONSTITUTION:A pM0S transistor(TR) Qp1 and an nMOS TR Qn2 are connected in series between input output nodes n1, n3, and the series connection of an nMOS TRQn1 and a pMOS TRQp2 is connected in parallel with the series connection of the TRs Qp1, Qn2. A 1st stage transfer gate TG1 is formed with the TRs Qp1, Qn1 and a 2nd stage transfer gate TG2 is formed with the TRs Qn2, Qp2. A transfer gate TG3 is formed between a node n21 between the TRs Qp1, Qn2 and a node n22 between the TRs Qn1, Qp2. The gate TG3 is turned on after the four TRs Qp1, Qn2 and Qn1, Qp2 are all turned on.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体集積回路技術さ
らにはトランスファゲートを有するMOS集積回路に適
用して特に有効な技術に関し、例えば複数のトランスフ
ァゲートが直列に接続されてなる信号伝達回路に利用し
て有用な技術に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit technique and a technique particularly effective when applied to a MOS integrated circuit having a transfer gate. For example, a signal transmission circuit having a plurality of transfer gates connected in series. Related to useful technology.

【0002】[0002]

【従来の技術】MOS集積回路における信号伝達用のト
ランスファゲートの一例として、一対のpチャンネルM
OSトランジスタとnチャンネルMOSトランジスタを
チャネルが並列となるように接続してなるCMOSトラ
ンスファゲートが公知である(1984年発行の「LS
Iハンドブック 電子通信学会編」(オーム社)145
ページ 図1.34)。このような構成のトランスファ
ゲートを、図5のように(2段の例を示す)直列に接続
し、このゲート端子に複数の制御信号φ1,φ2等を入
力して、該ゲートをオン/オフさせて信号の伝達/遮断
を制御することがある。
2. Description of the Related Art As an example of a transfer gate for signal transmission in a MOS integrated circuit, a pair of p-channel M
A CMOS transfer gate is known in which an OS transistor and an n-channel MOS transistor are connected so that their channels are parallel to each other ("LS Issued in 1984".
I Handbook, The Institute of Electronics and Communication Engineers "(Ohmsha) 145
Page Figure 1.34). The transfer gates having such a configuration are connected in series as shown in FIG. 5 (an example of two stages), and a plurality of control signals φ1, φ2, etc. are input to this gate terminal to turn on / off the gate. In some cases, signal transmission / cutoff is controlled.

【0003】さらに、上記構成のトランスファゲート自
体の信号伝達時の遅延時間、即ちトランスファゲートを
形成するMOSトランジスタのゲート電極を電荷が通過
するときに生じる遅延時間を積極的に利用して所望の遅
延素子を形成するために、トランスファゲートを複数段
直列に接続することも提案されている。
Furthermore, the delay time at the time of signal transmission of the transfer gate itself having the above structure, that is, the delay time generated when the charges pass through the gate electrode of the MOS transistor forming the transfer gate is positively utilized to obtain a desired delay. It has also been proposed to connect multiple transfer gates in series to form a device.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところでトランスファ
ゲートを形成するMOSトランジスタの寿命を縮めた
り、特性を劣化させる要因の一つとしてホットキャリア
現象が知られている。このホットキャリア現象は、トラ
ンジスタのチャネル長が短くなる程発生し易く、又、ト
ランジスタの動作速度が高速化するに従って増えること
が知られている。従って、トランスファゲートを高集積
化、高速化を図るようにした近年のLSIに用いた場
合、当該トランジスタでのホットキャリア現象が生じ易
く、トランスファゲートの寿命が短くなる傾向が生じ
る。
The hot carrier phenomenon is known as one of the factors that shorten the life of the MOS transistor forming the transfer gate or deteriorate the characteristics. It is known that this hot carrier phenomenon is more likely to occur as the channel length of the transistor becomes shorter, and increases as the operating speed of the transistor becomes faster. Therefore, when the transfer gate is used in a recent LSI designed for high integration and high speed, a hot carrier phenomenon is likely to occur in the transistor and the life of the transfer gate tends to be shortened.

【0005】このホットキャリアに起因するMOSトラ
ンジスタの寿命短縮を助長させる要因として、MOS
トランジスタのソース・ドレイン間に高い電圧が掛かる
こと、ゲート・ソース間の電位差VGが中間電位とな
ることがあげられる。即ち、素子の寿命(τ)は、ソー
ス・ドレイン間の電位差Vdsの逆数(1/Vds)に比例
して長くなり、ゲート・ソース間の電位差VGが、該VG
が変動し得る範囲の中間電位(例えば図6に示すグラフ
のVG1〜VG2間)となっているときに著しく短くなる
ことが知られている。従って、MOSトランジスタの寿
命を長く確保するには、少なくとも上記,の条件を
同時に満たすような動作状態を避けなければならない。
As a factor for promoting the shortening of the life of the MOS transistor due to this hot carrier, the MOS
A high voltage is applied between the source and the drain of the transistor, and the potential difference VG between the gate and the source is an intermediate potential. That is, the life (τ) of the element becomes longer in proportion to the reciprocal (1 / Vds) of the potential difference Vds between the source and the drain, and the potential difference VG between the gate and the source becomes the VG.
It is known that the value becomes remarkably short when it is an intermediate potential in the range in which V can fluctuate (for example, between VG1 and VG2 in the graph shown in FIG. 6). Therefore, in order to ensure a long life of the MOS transistor, it is necessary to avoid an operating state in which at least the above conditions are simultaneously satisfied.

【0006】然るに、前述したようにMOSトランジス
タを含んでなるトランスファゲートを直列に複数接続さ
せた場合(図5参照)には、最後に導通状態すなわちオ
ン状態に遷移するトランスファゲートがオン状態に遷移
するとき、即ち、当該MOSトランジスタをオン状態に
遷移すべくそのゲート端子に印加される電圧VGを徐々
に上昇させたときに該トランジスタで必ず上記,の
条件を満たしてしまう。 より具体的には、表1の
[1]欄に示すように、仮に入出力ノードn31に電源電
位(Vdd)が印加され、入出力ノードn33が接地されて
GNDレベル(0V)となった状態で、先ず、入出力ノ
ードn31側のトランスファゲートTG1がオンされてい
る場合を考えると、該トランスファゲートTG1の両端
(n31〜n32間)での電位差が0Vであるため、中間ノ
ードn32の電圧が電源電圧値Vddのままとなる。このと
き、入出力ノードn33側のトランスファゲートTG2に
関しては、当該2つのトランジスタQp32,Qn32
のゲート電圧VGが徐々に上昇したとき、これらトラン
ジスタQp32,Qn32の夫々の両端に電圧Vddが印
加されることとなる。
However, when a plurality of transfer gates each including a MOS transistor are connected in series as described above (see FIG. 5), the transfer gate that finally transitions to the conductive state, that is, the on state, transitions to the on state. When that is done, that is, when the voltage VG applied to the gate terminal of the MOS transistor is gradually increased in order to transit to the ON state, the transistor always satisfies the above conditions. More specifically, as shown in the column [1] of Table 1, the power supply potential (Vdd) is temporarily applied to the input / output node n31 and the input / output node n33 is grounded to the GND level (0V). Then, first, considering the case where the transfer gate TG1 on the side of the input / output node n31 is turned on, the potential difference between both ends (between n31 and n32) of the transfer gate TG1 is 0 V, so that the voltage of the intermediate node n32 is The power supply voltage value Vdd remains unchanged. At this time, regarding the transfer gate TG2 on the input / output node n33 side, the two transistors Qp32, Qn32
When the gate voltage VG of the transistor Qp32 gradually increases, the voltage Vdd is applied to both ends of each of the transistors Qp32 and Qn32.

【表1】 [Table 1]

【0007】このようにトランジスタのゲート電圧VG
が上昇するときに、その両端に電源電圧Vddが印加され
ていると、VGが上記中間電位(VG1〜VG2)となっ
たときに、上記、の双方の条件が成立し、MOSト
ランジスタQp32,Qn32のゲート電極にホットキ
ャリアが生じ、トランスファゲート全体としての寿命も
短くなる。
Thus, the gate voltage VG of the transistor is
If the power supply voltage Vdd is applied to both ends of the MOS transistor when the voltage rises, both of the above conditions are satisfied when VG becomes the intermediate potential (VG1 to VG2), and the MOS transistors Qp32 and Qn32 are satisfied. Hot carriers are generated in the gate electrode of, and the life of the transfer gate as a whole is shortened.

【0008】反対に、表1の[2]欄に示すように、入
出力ノードn33にVddが印加され入出力ノードn31が接
地されてGNDレベル(0V)となっている状態でトラ
ンスファゲートTG1がオンされた場合には、中間ノー
ドn32,n32の電圧が0Vとなる。この状態からトラン
スファゲートTG2のMOSトランジスタQp32,Q
n32のVGが中間電位(VG1〜VG2)となると、上
記トランジスタQp32,Qn32の両端に電圧Vddが
印加されているため、上記,の条件が同時に成立し
てトランジスタQn32,Qp32の劣化が速くなり、
トランスファゲート全体としての寿命が短くなって、そ
の信頼性が低下する。又、トランスファゲートTG2が
先にオンした場合には、トランスファゲートTG2側に
て同様の現象が生じ、この場合にもトランスファゲート
の寿命が短くなる。
On the contrary, as shown in column [2] of Table 1, the transfer gate TG1 is operated in a state where Vdd is applied to the input / output node n33 and the input / output node n31 is grounded to the GND level (0V). When turned on, the voltage of the intermediate nodes n32, n32 becomes 0V. From this state, the MOS transistors Qp32, Q of the transfer gate TG2
When VG of n32 becomes an intermediate potential (VG1 to VG2), the voltage Vdd is applied to both ends of the transistors Qp32, Qn32, so that the above conditions are satisfied at the same time, and the transistors Qn32, Qp32 deteriorate faster,
The life of the transfer gate as a whole is shortened and its reliability is reduced. If the transfer gate TG2 is turned on first, a similar phenomenon occurs on the transfer gate TG2 side, and in this case as well, the life of the transfer gate is shortened.

【0009】本発明は上記事情に鑑みてなされたもの
で、トランスファゲートが複数直列に接続されて形成さ
れた信号伝達回路において、当該トランスファゲートを
形成するMOSトランジスタの短チャネル化を図った場
合であっても、トランスファゲートの短寿命化が生じる
ことなく、動作速度の高速化、高集積化が図られたLS
Iに適用可能な、信頼性の高い信号伝達回路を提供する
ことを目的とする。この発明の前記ならびにそのほかの
目的と新規な特徴については、本明細書の記述および添
附図面から明らかになるであろう。
The present invention has been made in view of the above circumstances. In a signal transfer circuit formed by connecting a plurality of transfer gates in series, the MOS transistor forming the transfer gates has a short channel. Even if there is, the LS has achieved high operating speed and high integration without shortening the life of the transfer gate.
An object of the present invention is to provide a highly reliable signal transfer circuit applicable to I. The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を説明すれば、下記のと
おりである。すなわち、本発明の信号伝達回路は、2つ
の入出力ノードの間にn形MOSトランジスタ及びp形
MOSトランジスタを含んでなる複数のトランジスタが
直列に接続されて第1のトランジスタ列が形成され、こ
れと同数の直列に接続されたトランジスタからなる第2
のトランジスタ列が上記入出力ノード間に上記第1のト
ランジスタ列と並列に形成されると共に、上記第1のト
ランジスタ列の複数のトランジスタと、これと同数の上
記第2のトランジスタ列のトランジスタとが互いに異な
る導電形で1対1に対応し、且つ第1のトランジスタ列
のトランジスタ間を接続する中間ノードとこれに対応す
る第2のトランジスタ列の中間ノードとがトランスファ
ゲートを介して接続されてなる。
The typical ones of the inventions disclosed in the present application will be outlined below. That is, in the signal transmission circuit of the present invention, a plurality of transistors including an n-type MOS transistor and a p-type MOS transistor are connected in series between two input / output nodes to form a first transistor row. Second transistor consisting of the same number of transistors connected in series as
Is formed in parallel with the first transistor array between the input / output nodes, and a plurality of transistors of the first transistor array and the same number of transistors of the second transistor array are provided. An intermediate node, which has a conductivity type different from each other and has a one-to-one correspondence and which connects the transistors of the first transistor row, and an intermediate node of the second transistor row, which corresponds to the intermediate node, are connected via a transfer gate. ..

【0011】[0011]

【作用】上記第1のトランジスタ列を形成するMOSト
ランジスタは、第2のトランジスタ列側の対応するトラ
ンジスタと協働してトランスファゲートを形成すること
となって、トランスファゲートが直列に多段接続された
信号伝達回路が形成される。この信号伝達回路を構成す
る直列に接続された多段のトランスファゲートにあって
は、最後にオンとなるトランスファゲートのゲート電圧
が上昇するときには、既にオン状態となっている他のト
ランスファゲートの少なくとも1つで、しきい値電圧分
の電位差を発生させるトランジスタが存在することとな
るので、上記最後にオンされるトランスファゲートを構
成するトランジスタの両端に印加される電圧値が、上記
しきい値電圧分低下して、当該MOSトランジスタでの
ホットキャリアの発生が抑制される。
The MOS transistor forming the first transistor row forms a transfer gate in cooperation with the corresponding transistor on the second transistor row side, and the transfer gates are connected in multiple stages in series. A signal transfer circuit is formed. In the multi-stage transfer gates connected in series that constitute this signal transfer circuit, when the gate voltage of the transfer gate that is turned on last rises, at least one of the other transfer gates that are already turned on. Therefore, since there is a transistor that generates a potential difference corresponding to the threshold voltage, the voltage value applied across the transistor that constitutes the transfer gate that is turned on last is equal to the threshold voltage. As a result, the generation of hot carriers in the MOS transistor is suppressed.

【0012】[0012]

【実施例】以下、本発明の実施例を添付図面を参照して
説明する。 (第1実施例)図1は本発明の第1実施例の信号伝達回
路100の構成を示す回路図である。上記信号伝達回路
100は、図1に示すように、入出力ノードn1,n3間
に形成された第1のトランジスタ列(MOSトランジス
タQp1,Qn2)及びこれに並列接続される第2のト
ランジスタ列(MOSトランジスタQn1,Qp2)、
第1の中間ノードn21と第2の中間ノードn22間に配さ
れたトランスファゲートTG3とからなる。そして、第
1列側のトランジスタQp1とこれに対向する第2列側
の異なる導電型のトランジスタQn1とでCMOS構造
の1段目のトランスファゲートTG1が形成され、一
方、第1列側のトランジスタQn2とこれに対向する第
2列側の異なる導電型のトランジスタQp2とでCMO
S構造の2段目のトランスファゲートTG2が形成され
る。そして第1のトランスファゲートTG1の2つのM
OSトランジスタのゲート端子に制御パルスφ1,及び
その反転出力(以下「φ1’φ2’…」で表記する)φ
1’が、第2のトランスファゲートTG2の2つのMO
Sトランジスタのゲート端子に制御パルスφ2,及びそ
の反転出力φ2’が夫々入力されるようになっている。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. (First Embodiment) FIG. 1 is a circuit diagram showing the configuration of a signal transmission circuit 100 according to the first embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, the signal transfer circuit 100 includes a first transistor row (MOS transistors Qp1 and Qn2) formed between the input / output nodes n1 and n3 and a second transistor row (parallel to the first transistor row). MOS transistors Qn1, Qp2),
The transfer gate TG3 is arranged between the first intermediate node n21 and the second intermediate node n22. The transistor Qp1 on the first column side and the transistor Qn1 of the different conductivity type on the second column side opposite thereto form the first-stage transfer gate TG1 of the CMOS structure, while the transistor Qn2 on the first column side is formed. And a transistor Qp2 of a different conductivity type on the second column side facing the CMO
The second-stage transfer gate TG2 having the S structure is formed. And the two M's of the first transfer gate TG1
Control pulse φ1, and its inverted output (hereinafter referred to as “φ1′φ2 ′ ...”) φ to the gate terminal of the OS transistor φ
1'is the two MOs of the second transfer gate TG2
The control pulse φ2 and its inverted output φ2 ′ are input to the gate terminal of the S transistor, respectively.

【0013】また上記トランスファゲートTG3は、オ
ン状態に変換されたときに第1,2の中間ノードn21,
n22を短絡し、これら2つのノード(n21,n22)を同
電位とするものである。このトランスファゲートTG3
は、並列に接続された2つのMOSトランジスタ(pM
OSトランジスタQp3,nMOSトランジスタQn
3)から成り、これらトランジスタのゲート端子に制御
パルスφ3,及びその反転出力φ3’が入力されてその
オン/オフ制御が行われるようになっている。
Further, the transfer gate TG3 has the first and second intermediate nodes n21,
n22 is short-circuited so that these two nodes (n21, n22) have the same potential. This transfer gate TG3
Is two MOS transistors (pM
OS transistor Qp3, nMOS transistor Qn
The control pulse .phi.3 and its inverted output .phi.3 'are input to the gate terminals of these transistors, and the on / off control thereof is performed.

【0014】次に、図1に示す回路構成の信号伝達回路
100の実際の動作、特に後からオンとなるトランスフ
ァゲート(図示例では2段目のトランスファゲートTG
2とする)がオフ状態からオン状態に変換されるときの
動作状態について図2に示すタイミングチャートに従っ
て説明する。
Next, the actual operation of the signal transmission circuit 100 having the circuit configuration shown in FIG. 1, especially the transfer gate which is turned on later (the transfer gate TG of the second stage in the illustrated example).
2) will be described with reference to a timing chart shown in FIG.

【0015】今仮に、各トランスファゲートTG1,T
G2,TG3に入力される制御パルスφ1’,φ2’,
φ3’が図2に示すようなタイミングにて変化する場合
を考える。このとき入出力ノードn1にVdd(V)が印
加されノードn3が接地されていると、図1の各ノード
n21,n22,n3の電圧Vn21,Vn22,Vn3は、図2
に示すようにその値が変化する。
Now, temporarily, each transfer gate TG1, T
Control pulses φ1 ′, φ2 ′, which are input to G2 and TG3,
Consider a case where φ3 ′ changes at the timing shown in FIG. At this time, if Vdd (V) is applied to the input / output node n1 and the node n3 is grounded, the voltages Vn21, Vn22, Vn3 of the nodes n21, n22, n3 in FIG.
The value changes as shown in.

【0016】具体的には、入力ノードn1に電源電圧Vd
dが印加され(Vn1=Vdd)、出力ノードn3が接地さ
れてGNDレベル(Vn3=0V)となっているときに
は、パルスφ1’が立上がった時点(図2中t1時点)
でノードn21の電圧値Vn21がVddに、ノードn22の電
圧値Vn22がVdd−VTHnに変化する。
Specifically, the power supply voltage Vd is applied to the input node n1.
When d is applied (Vn1 = Vdd) and the output node n3 is grounded to the GND level (Vn3 = 0V), the time when the pulse φ1 'rises (time t1 in FIG. 2).
Then, the voltage value Vn21 of the node n21 changes to Vdd, and the voltage value Vn22 of the node n22 changes to Vdd-VTHn.

【0017】このように(n1がVdd[V],n3が0[V]
で、且つトランスファゲートTG1が既にオンとなって
いる状態(表2の上欄[1]に示す状態)で、n22の電
圧値がVdd−VTHnとなるのは以下の理由による。即
ち、一段目のトランスファゲートTG1を形成するトラ
ンジスタQp1を電流が流れる条件としてソース・ドレ
イン間に大きな電位差が生じることを要件としないが、
nMOSトランジスタQn1に関しては、該トランジス
タQn1が実際にオンしてここを電流が流れるために
は、更に、ゲート・ドレイン間の電位差がしきい値電圧
VTHn以上となることが必要となるからである(換言す
れば、トランジスタQn1のソース・ドレイン間(n1
〜n21間)の電位差がVTHn必要となる)。このよう
に、φ2’が立上がる時点(図2中t2時点)では、中
間ノードn22の電位はVdd−VTHnとなり、後からオン
されるトランスファゲートTG2に関しては、これを形
成するpMOSトランジスタQp2のゲート電圧VGが
徐々に上昇されオンとなった場合、該トランジスタQp
2の両端(n22〜n3間)の電位差は上記VTHn分だけ低
下して、Vdd−VTHnとなる(図2のt1〜t2時点
間)。
Thus, (n1 is Vdd [V], n3 is 0 [V]
In addition, the voltage value of n22 becomes Vdd-VTHn when the transfer gate TG1 is already turned on (state shown in the upper column [1] of Table 2) for the following reason. That is, it is not required that a large potential difference be generated between the source and the drain under the condition that the current flows through the transistor Qp1 forming the transfer gate TG1 in the first stage,
With respect to the nMOS transistor Qn1, it is necessary that the potential difference between the gate and the drain be equal to or higher than the threshold voltage VTHn in order for the transistor Qn1 to actually turn on and the current to flow therethrough ( In other words, between the source and drain of the transistor Qn1 (n1
(Between n21 and n21) VTHn is required). Thus, at the time point when φ2 'rises (time point t2 in FIG. 2), the potential of the intermediate node n22 becomes Vdd-VTHn, and the transfer gate TG2 that is turned on later has the gate of the pMOS transistor Qp2. When the voltage VG is gradually increased and turned on, the transistor Qp
The potential difference between both ends (between n22 and n3) of 2 is reduced by VTHn to become Vdd-VTHn (between t1 and t2 in FIG. 2).

【表2】 [Table 2]

【0018】又、各トランスファゲートTG1,TG
2,TG3に、同様のタイミングで各制御パルスが入力
された際に、入出力ノードn1が接地されてGNDレベ
ルとなり、ノードn3に電源電圧Vddが印加されている
と、各ノードn21,n22,n1の電圧Vn21,Vn22,
Vn1は図3に示すようにその値が変化する。即ち、パ
ルスφ1’が立上がった時点(t1’時点)ではノード
n21の電圧値Vn21がVTHpに、ノードn22の電圧値V
n22が0Vに変化する。これは、この状態(n1が0
[V],n3がVdd[V]で、且つ1段目のトランスファゲ
ートTG1が既にオンとなっている状態;表2の、下欄
[2]に示す状態)では、当該トランジスタQn1,Q
p1を電流が流れる条件としてソース・ドレイン間に電
位差が生じることを要件としないが、トランジスタQp
1に関しては、該トランジスタQp1が実際にオンして
ここを電流が流れるためには、更に、ゲート・ソース間
の電位差がしきい値電圧VTHp以上となることが必要と
なるためである(換言すれば、トランジスタQp1のソ
ース・ドレイン間(n1〜n21間)の電圧差がVTHp必要
となる)。従ってこの場合、中間ノードn21の電圧はV
THpとなり、後からオンされるトランスファゲートTG
2のトランジスタQn2のゲート電圧VGが徐々に上昇
されオンとなった場合、該トランジスタQn2の両端
(n3〜n21間)の電位差は、GND側がVTHp上がった
分だけその電圧が低下して、Vdd−VTHpとなる(図3
のt1'〜t2'時点)。
Further, each transfer gate TG1, TG
2, when each control pulse is input to TG3 at the same timing, when the input / output node n1 is grounded to the GND level and the power supply voltage Vdd is applied to the node n3, each node n21, n22, n1 voltage Vn21, Vn22,
The value of Vn1 changes as shown in FIG. That is, when the pulse φ1 'rises (time t1'), the voltage value Vn21 of the node n21 becomes VTHp, and the voltage value Vn of the node n22 becomes VTHp.
n22 changes to 0V. This is this state (n1 is 0
[V] and n3 are Vdd [V], and the transfer gate TG1 of the first stage is already turned on; in the state shown in the lower column [2] of Table 2), the transistors Qn1 and Qn
Although it is not required that a potential difference be generated between the source and the drain as a condition for the current to flow through p1, the transistor Qp
Regarding No. 1, it is necessary for the potential difference between the gate and the source to be equal to or higher than the threshold voltage VTHp in order for the transistor Qp1 to be actually turned on and for the current to flow there. For example, the voltage difference between the source and drain (between n1 and n21) of the transistor Qp1 requires VTHp). Therefore, in this case, the voltage of the intermediate node n21 is V
Transfer gate TG that becomes THp and is turned on later
When the gate voltage VG of the second transistor Qn2 is gradually increased and turned on, the potential difference between both ends (between n3 and n21) of the transistor Qn2 decreases by VTHp on the GND side, and Vdd- VTHp (Fig. 3
T1'-t2 ').

【0019】以上のように、信号伝達回路100を構成
する上記4つのトランジスタのうち後からオンされるト
ランスファゲートのトランジスタ(トランジスタQp
2,Qn2)に関しては、その信号伝達回路の入出力ノ
ードn1,n3の何れに電源電圧Vddが印加されているか
の確率1/2で、夫々、ゲート電圧上昇時のソース・ド
レイン間の電位差が低められる。
As described above, the transfer gate transistor (transistor Qp) that is turned on later is selected from the four transistors forming the signal transmission circuit 100.
2, Qn2), the probability that the power supply voltage Vdd is applied to which of the input / output nodes n1 and n3 of the signal transmission circuit is 1/2, and the potential difference between the source and drain when the gate voltage rises, respectively. Can be lowered.

【0020】このように、ゲート電圧が上昇してMOS
トランジスタがオン状態に移行する際に、該トランジス
タのソース・ドレイン間に加わる電圧がVTHn又はVTHp
だけ低められた場合、以下のような作用効果を生じる。
即ち、前述したようにホットキャリアによる劣化の度合
はソース・ドレイン間に生じる電位差Vdsに対し指数
関数的に増大することゲート電圧VGが中間電位(VG
1〜VG2)のとき増大することが知られており、上述
のようにゲートVGが徐々に上昇する際にソース・ドレ
イン間の電位差がVTH(=VTHn,VTHp)分減少されて
いるだけで従前の構成のトランスファゲート(図5)に
比して実用上十分な寿命の延長が図られる。
In this way, the gate voltage rises and the MOS
When the transistor is turned on, the voltage applied between the source and drain of the transistor is VTHn or VTHp.
If it is lowered only, the following action and effects are produced.
That is, as described above, the degree of deterioration due to hot carriers exponentially increases with respect to the potential difference Vds generated between the source and the drain. The gate voltage VG is at an intermediate potential (VG
1 to VG2), the potential difference between the source and drain is decreased by VTH (= VTHn, VTHp) when the gate VG is gradually increased as described above. In comparison with the transfer gate having the above structure (FIG. 5), the life can be extended practically enough.

【0021】尚、上述したホットキャリアを低減させる
ための動作(トランスファゲートTG3をオフにしてお
く)は、信号伝達回路100の、後からオンされる(2
段目)トランスファゲートが実際にオンするまでの間だ
け必要なものである。従って2段目のトランスファゲー
トTG2がオンされた後は、トランスファゲートTG3
をオンさせ、中間ノードn21,n22間を短絡状態とする
(図2のt3時点以降、図3のt3'時点以降)。これ
は、中間ノードn21,n22が分断されたままではノードn3
の電圧値が変動してしまうため、即ち図2の例ではトラ
ンジスタQn1,Qn2のソース端子にVddが印加さ
れ、しきい値電圧分(VTHn)出力低下し、図3の例で
はトランジスタQp1,Qp2のドレイン端子が接地さ
れ、しきい値電圧分(VTHp)出力が低下するからであ
る(図2のt2〜t3時点間,図3のt2'〜t3'時点
間)。従って、ノードn21,n22間を短絡することにより
最終出力がVTH分低下することを防ぐことができる。
尚、トランスファゲートTG3のオンタイミング(反転
出力φ3’の立上げタイミング)は、信号伝達回路10
0の2段目のトランスファゲートTG2のトランジスタ
Qp2,Qn2のゲート電圧が十分上昇してそのオン,
オフ状態が確定した時点(ホットキャリアが発生しなく
なった時点)以降とされる。
The above-described operation for reducing hot carriers (the transfer gate TG3 is turned off) is turned on later in the signal transmission circuit 100 (2).
(Stage) It is necessary only until the transfer gate is actually turned on. Therefore, after the transfer gate TG2 of the second stage is turned on, the transfer gate TG3
Is turned on to bring the intermediate nodes n21 and n22 into a short-circuited state (after time t3 in FIG. 2 and after time t3 ′ in FIG. 3). This is because if the intermediate nodes n21 and n22 remain separated, node n3
2 fluctuates, that is, in the example of FIG. 2, Vdd is applied to the source terminals of the transistors Qn1 and Qn2, and the threshold voltage (VTHn) output decreases, and in the example of FIG. 3, the transistors Qp1 and Qp2. 2 is grounded, and the threshold voltage (VTHp) output decreases (between t2 and t3 in FIG. 2 and t2 'to t3' in FIG. 3). Therefore, it is possible to prevent the final output from decreasing by VTH by short-circuiting between the nodes n21 and n22.
The on timing of the transfer gate TG3 (the rising timing of the inverted output φ3 ′) is the same as the signal transmission circuit 10
The gate voltage of the transistors Qp2 and Qn2 of the transfer gate TG2 of the second stage of 0 is sufficiently raised to turn it on,
It is assumed to be after the time when the off state is confirmed (the time when hot carriers are no longer generated).

【0022】尚、信号伝達回路100の制御パルス(パ
ルスφ1,反転出力φ1’,パルスφ2,反転出力φ
2’)は、該回路100が適用される回路(例えばフリ
ップフロップ回路)の作動制御内容に応じてその発生タ
イミングが変化されるものである。これに対しトランス
ファゲートTG3の制御パルス(φ3,反転出力φ
3’)は、適用される回路の動作に無関係のもので、そ
の立下/立上タイミングは、例えば、1段目,2段目の
トランスファゲートTG1,TG2が共にオンとなった
ことを条件に(反転出力φ1’と反転出力φ2’の2つ
のパルス信号が共にオンに変換され、双方のトランジス
タがオンとなった後)オンさせたり、或は共にオンとな
った後更に所定時間経過したときにトランスファゲート
TG3をオンさせるようにそのタイミングを適宜設定す
ればよい。
Control pulses for the signal transmission circuit 100 (pulse φ1, inverted output φ1 ', pulse φ2, inverted output φ
In 2 '), the generation timing is changed according to the operation control content of a circuit (for example, a flip-flop circuit) to which the circuit 100 is applied. On the other hand, the control pulse of the transfer gate TG3 (φ3, inverted output φ
3 ') is irrelevant to the operation of the applied circuit, and its fall / rise timing is, for example, on condition that both the transfer gates TG1 and TG2 of the first and second stages are turned on. After the two pulse signals of the inverted output φ1 'and the inverted output φ2' are both turned on and both transistors are turned on, or after both are turned on, a predetermined time has elapsed. At that time, the timing may be appropriately set so that the transfer gate TG3 is turned on.

【0023】尚、上述の動作の説明では1段目のトラン
スファゲートTG1がオンした後に2段目のトランスフ
ァゲートTG2がオンした場合について説明したが、逆
に2段目のトランスファゲートTG2が先にオンした場
合にも同様に、1段目のトランスファゲートTG1を構
成するトランジスタのホットキャリア低減が図られる。
In the above description of the operation, the case in which the transfer gate TG1 in the first stage is turned on and then the transfer gate TG2 in the second stage is turned on has been described. Conversely, the transfer gate TG2 in the second stage is turned on first. Similarly, when turned on, the hot carriers of the transistor forming the first-stage transfer gate TG1 can be reduced.

【0024】(第2実施例)図4は、本発明の第2実施
例の信号伝達回路200の構成を示す回路図である。こ
の信号伝達制御手段200は、図4に示すように、入出
力ノードn11,n14間に形成された第1のトランジスタ
列(MOSトランジスタQp11,Qn12,Qp1
3)及びこれに並列接続される第2のトランジスタ列
(MOSトランジスタQn11,Qp12,Qn1
3)、第1の中間ノードn121と第2の中間ノードn122
との間に配されたトランスファゲートTG24、第3の
中間ノードn131と第4の中間ノードn132との間に配さ
れたトランスファゲートTG25とからなる。
(Second Embodiment) FIG. 4 is a circuit diagram showing a structure of a signal transmission circuit 200 according to a second embodiment of the present invention. As shown in FIG. 4, the signal transmission control means 200 includes a first transistor array (MOS transistors Qp11, Qn12, Qp1) formed between input / output nodes n11, n14.
3) and a second transistor array (MOS transistors Qn11, Qp12, Qn1) connected in parallel with this.
3), the first intermediate node n121 and the second intermediate node n122
And a transfer gate TG25 arranged between the third intermediate node n131 and the fourth intermediate node n132.

【0025】第1列側のトランジスタQp11とこれに
対向する第2列側の異なる導電型のトランジスタQn1
1とでCMOS構造の1段目のトランスファゲートTG
21が形成され、第1列側のトランジスタQn12とこ
れに対向する第2列側の異なる導電型のトランジスタQ
p12とでCMOS構造の2段目のトランスファゲート
TG2が形成され、更に、第1列側のトランジスタQp
13とこれに対向する第2列側の異なる導電型のトラン
ジスタQn13とでCMOS構造の3段目のトランスフ
ァゲートTG23が形成される。そして、第1のトラン
スファゲートTG21の2つのMOSトランジスタのゲ
ート端子に夫々制御パルスφ11及びその反転出力φ1
1’が、第2のトランスファゲートTG22の2つのM
OSトランジスタの夫々のゲート端子に制御パルスφ1
2及びその反転出力φ12’が、第3のトランスファゲ
ートTG23の2つのMOSトランジスタのゲート端子
に制御パルスφ13及びその反転出力φ13’が入力さ
れるようになっている。
The transistor Qp11 on the first column side and the transistor Qn1 of a different conductivity type on the second column side opposite to the transistor Qp11.
1 and the transfer gate TG of the first stage of the CMOS structure
21 is formed, and the transistor Qn12 on the first column side and the transistor Qn of a different conductivity type on the second column side opposite to the transistor Qn12.
The second stage transfer gate TG2 of the CMOS structure is formed with p12, and the transistor Qp on the first column side is further formed.
A transfer gate TG23 of the third stage of the CMOS structure is formed by 13 and the transistor Qn13 of the different conductivity type on the side of the second column facing the same. The control pulse φ11 and its inverted output φ1 are applied to the gate terminals of the two MOS transistors of the first transfer gate TG21, respectively.
1'is the two M's of the second transfer gate TG22.
Control pulse φ1 to each gate terminal of the OS transistor
The control pulse φ13 and its inverted output φ13 ′ are input to the gate terminals of the two MOS transistors of the third transfer gate TG23.

【0026】各中間ノード間に配設された上記トランス
ファゲートTG24,TG25は、オン状態に変換され
たときに第1,2の中間ノードn121,n122、第3,第
4の中間ノードn131,n132を夫々短絡し、2つのノー
ドを同電位とするものである。これら2つのトランスフ
ァゲートTG24,TG25は、共に並列に接続された
2つのMOSトランジスタから成り、これらトランジス
タのゲート端子には、制御パルスφ14及びその反転出
力φ14’、制御パルスφ15及びその反転出力φ1
5’が夫々入力されてそのオン/オフが制御されるよう
になっている。
The transfer gates TG24, TG25 arranged between the respective intermediate nodes are converted into the ON state so as to have the first and second intermediate nodes n121, n122 and the third and fourth intermediate nodes n131, n132. Are short-circuited to make the two nodes have the same potential. These two transfer gates TG24, TG25 are each composed of two MOS transistors connected in parallel, and the gate terminals of these transistors have a control pulse φ14 and its inverted output φ14 ′, a control pulse φ15 and its inverted output φ1.
5'is input to control ON / OFF of each.

【0027】このように構成された信号伝達制御手段2
00においては、仮にノードn11側に電源電圧Vddが印
加され、且つ、1段目,2段目のトランスファゲートT
G21,22が共にオンされているときには、上側の配
列(第1列)ではトランジスタQn12がVTHに相当す
る電位差を生じさせ、一方、下側の配列(第2列)では
トランジスタQn11がVTHに相当する電位差を生じさ
せているので、最後にオンに変換される最後段(3段
目)のトランスファゲートTG23を構成する2つのト
ランジスタQp13,Qn13の両端に掛かる電圧がV
TH分低下され、これら2つのトランジスタQp13,Q
n13でホットキャリアの発生が抑えられる。
The signal transmission control means 2 configured as described above
00, the power supply voltage Vdd is temporarily applied to the node n11 side, and the transfer gates T of the first and second stages are transferred.
When both G21 and 22 are turned on, the transistor Qn12 causes a potential difference corresponding to VTH in the upper array (first column), while the transistor Qn11 corresponds to VTH in the lower array (second column). Is generated, the voltage applied to both ends of the two transistors Qp13 and Qn13 forming the transfer gate TG23 of the last stage (third stage) that is finally turned on is V.
These two transistors Qp13, Q are lowered by TH.
Generation of hot carriers is suppressed by n13.

【0028】反対に、ノードn14側に電源電圧Vddが印
加され、且つ、1段目,2段目のトランスファゲートが
共にオンされているときには、上側の配列(第1列)で
はトランジスタQp11がVTHに相当する電位差を生じ
させ、一方、下側の配列(第2列)ではトランジスタQ
p12がVTHに相当する電位差を生じさせているので、
この場合にも最後にオンに変換される最後段(3段目)
のトランスファゲートTG23を構成する2つのトラン
ジスタQp13,Qn13でホットキャリアの発生が抑
えられる。
On the contrary, when the power supply voltage Vdd is applied to the node n14 side and the transfer gates in the first and second stages are both turned on, the transistor Qp11 is connected to VTH in the upper array (first column). On the other hand, in the lower array (second column), the transistor Q
Since p12 causes a potential difference corresponding to VTH,
Also in this case, the last stage (3rd stage) that is finally turned on
The generation of hot carriers is suppressed by the two transistors Qp13 and Qn13 that form the transfer gate TG23.

【0029】尚、上述のように、3つのMOSトランジ
スタを直列に接続させ、且つ、これら直列に接続された
MOSトランジスタを異なる導電型のもの同士接続させ
ることにより、最後にオンするトランスファゲート以外
の各段のゲート(TG21,TG22)のトランジス
タ、即ち図4のQp11とQn12、及び、Qn11と
Qp12には、電源電圧Vddを入出力ノードn11,n14
の何れに印加されるかに拘らず、常に、ソース端子にV
dd[V]が印加されるnMOSトランジスタと、ドレイ
ン端子が0[V]となるpMOSトランジスタが必ず1
個存在するため、最後にオンするトランスファゲートT
G23では、ソース・ドレイン間の電位差がVdd−VTH
となって、ホットキャリアによる影響が抑えられる。
As described above, the three MOS transistors are connected in series, and the MOS transistors connected in series are connected to each other of different conductivity types. The power supply voltage Vdd is applied to the input / output nodes n11 and n14 of the transistors of the gates (TG21 and TG22) of each stage, that is, Qp11 and Qn12 and Qn11 and Qp12 of FIG.
Regardless of which is applied to the
The nMOS transistor to which dd [V] is applied and the pMOS transistor whose drain terminal is 0 [V] must be 1
Since there are individual transfer gates that turn on last
In G23, the potential difference between the source and drain is Vdd-VTH
Therefore, the influence of hot carriers can be suppressed.

【0030】更に、上述のように1つの列に含まれる3
つのMOSトランジスタ(例えば第1列ではQp11,
Qn12,Qp13と云う具合)に、必ずp形とn形の
トランジスタを含むようにすれば、全て同導電型のトラ
ンジスタにて一列を形成した場合に生じる、電源電圧V
dd側に位置するMOSトランジスタの基板バイアスの降
下、或はグラウンド側(0V側)に位置するMOSトラ
ンジスタによる電流帰還の発生が回避され、信号伝達回
路全体としての性能低下を防ぐことができる。
Furthermore, as described above, the 3 included in one column
Two MOS transistors (eg Qp11 in the first column,
Qn12 and Qp13) must include p-type and n-type transistors, the power supply voltage V generated when all the transistors of the same conductivity type form a line.
It is possible to prevent the substrate bias of the MOS transistor located on the dd side from dropping or the current feedback from occurring due to the MOS transistor located on the ground side (0 V side), and prevent the performance of the entire signal transmission circuit from deteriorating.

【0031】上述の動作説明では、3段目のトランスフ
ァゲートTG23が最後にオンとなった場合を例示した
が、上記作用効果は、2段目,3段目のトランスファゲ
ートTG22,23が先にオンとなっている状態で最後
に1段目のトランスファゲートTG21がオンされた場
合、或は、1段目,3段目のトランスファゲートが先に
オンとなっている状態で最後に2段目のトランスファゲ
ートTG22がオンされた場合であっても、同様にその
作用効果が得られる。
In the above description of the operation, the case where the transfer gate TG23 of the third stage is turned on lastly has been illustrated, but the above-mentioned effects are obtained first by the transfer gates TG22, 23 of the second and third stages. When the transfer gate TG21 of the first stage is turned on last while it is turned on, or when the transfer gates of the first and third stages are turned on first, the transfer gate TG21 of the second stage is finally turned on. Even when the transfer gate TG22 is turned on, the same operation and effect can be obtained.

【0032】以上説明したように、上述した実施例の信
号伝達回路は、入出力ノード間にn形MOSトランジス
タ及びp形MOSトランジスタを含んでなる複数のトラ
ンジスタが直列に接続されて第1のトランジスタ列が形
成され、これと同数の直列に接続されたトランジスタか
らなる第2のトランジスタ列が上記入出力ノード間に上
記第1のトランジスタ列と並列に形成されると共に、上
記第1のトランジスタ列の複数のトランジスタと、これ
と同数の第2のトランジスタ列のトランジスタとが互い
に異なる導電形で1対1に対応し、且つ第1のトランジ
スタ列のトランジスタ間を接続する中間ノードとこれに
対応する第2のトランジスタ列の中間ノードとがトラン
スファゲートを介して接続され、これによって上記第1
のトランジスタ列を形成する各トランジスタは、第2の
トランジスタ列の対応するトランジスタと協働してトラ
ンスファゲートを形成することとなって、全体としてト
ランスファゲートが直列に多段接続された信号伝達回路
が形成される。この信号伝達回路を構成する多段直列の
トランスファゲートは、最後にオンとなるトランスファ
ゲートがオンされるときには、既にオン状態となってい
る他の複数のトランスファゲートの少なくとも1つで、
しきい値電圧分の電位差を発生させるトランジスタが少
なくとも1つ存在することとなり、上記最後にオンされ
るトランスファゲートのトランジスタの両端に印加され
る電圧値が、上記しきい値電圧分低下して、当該MOS
トランジスタでのホットキャリアの発生が抑制される。
As described above, in the signal transmission circuit of the above-mentioned embodiment, the plurality of transistors including the n-type MOS transistor and the p-type MOS transistor are connected in series between the input / output nodes to form the first transistor. A column is formed, and a second transistor column composed of the same number of transistors connected in series is formed between the input / output nodes in parallel with the first transistor column, and A plurality of transistors and the same number of transistors in the second transistor row correspond to each other in different conductivity types one to one, and an intermediate node connecting the transistors in the first transistor row and a corresponding intermediate node. The intermediate node of the second transistor array is connected via the transfer gate, and the first node
Each of the transistors forming the transistor array of 1 forms a transfer gate in cooperation with the corresponding transistor of the second transistor array, and as a whole, a signal transfer circuit in which the transfer gates are connected in multiple stages in series is formed. To be done. The multi-stage series transfer gate that constitutes this signal transfer circuit is at least one of the plurality of other transfer gates that are already turned on when the transfer gate that is turned on last is turned on,
There is at least one transistor that generates a potential difference corresponding to the threshold voltage, and the voltage value applied across the transistor of the transfer gate that is turned on last is decreased by the threshold voltage, The MOS
Generation of hot carriers in the transistor is suppressed.

【0033】以上本発明者によってなされた発明を実施
例に基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施例に
限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で
種々変更可能であることはいうまでもない。例えば、上
記各実施例では、互いに並列に接続された第1,第2の
トランジスタ列を夫々2つのトランジスタを直列に接続
して形成した信号伝達回路100、及び第1,第2のト
ランジスタ列を夫々3つのトランジスタを直列に接続し
て形成した信号伝達回路200を例示したが、信号伝達
回路を構成する各トランジスタ列を、4つ以上のトラン
ジスタを直列に接続して形成した場合にも、本発明を適
用することができる。
Although the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiments, the invention is not limited to the above embodiments, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. Needless to say. For example, in each of the above embodiments, the signal transmission circuit 100 in which the first and second transistor rows connected in parallel with each other are formed by connecting two transistors in series, respectively, and the first and second transistor rows are formed. Although the signal transmission circuit 200 formed by connecting three transistors in series has been exemplified, each of the transistor rows forming the signal transmission circuit is also formed by connecting four or more transistors in series. The invention can be applied.

【0034】[0034]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば下記
のとおりである。短チャネル化が図られたMOSトラン
ジスタにより形成された信号伝達回路の、短チャネル化
に伴う短寿命化を抑え、該信号伝達回路を高速動作のL
SI等にも適用可能な信頼性の高い構成することができ
る。
The effects obtained by the typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows. It is possible to suppress the shortening of the life of a signal transmission circuit formed by a MOS transistor having a short channel due to the shortening of the channel and to operate the signal transmission circuit at a high speed.
A highly reliable configuration applicable to SI and the like can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】第1実施例の信号伝達回路100の構成を示す
回路図である。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a configuration of a signal transmission circuit 100 according to a first embodiment.

【図2】ノードn1にVddが印加された信号伝達回路10
0のゲート端子に入力される制御パルスの発生タイミン
グ及び各ノードでの電圧を示すタイミングチャートであ
る。
FIG. 2 is a signal transmission circuit 10 in which Vdd is applied to a node n1.
6 is a timing chart showing the generation timing of a control pulse input to the 0 gate terminal and the voltage at each node.

【図3】ノードn1が接地されてGNDレベルとなってい
る信号伝達回路100の各ノードでの電圧変化状態を示
すタイミングチャートである。
FIG. 3 is a timing chart showing a voltage change state at each node of the signal transmission circuit 100 in which the node n1 is grounded and is at the GND level.

【図4】第2実施例の信号伝達回路200の構成を示す
回路図である。
FIG. 4 is a circuit diagram showing a configuration of a signal transmission circuit 200 according to a second embodiment.

【図5】トランスファゲートを2段直列に接続した従来
の信号伝達回路300の構成を示す回路図である。
FIG. 5 is a circuit diagram showing a configuration of a conventional signal transmission circuit 300 in which transfer gates are connected in two stages in series.

【図6】ゲート電圧VGの値とMOSトランジスタの寿
命τの対数値との関係を表すグラフである。
FIG. 6 is a graph showing the relationship between the value of the gate voltage VG and the logarithmic value of the life τ of the MOS transistor.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

100 信号伝達回路 Tg1,Tg2,TG3 トランスファゲート Qp1〜Qp3 pMOSトランジスタ Qn1〜Qn3 nMOSトランジスタ φ1〜φ3,φ1’〜φ3’ 制御パルス VTHp,VTHn しきい値電圧 100 signal transmission circuit Tg1, Tg2, TG3 transfer gate Qp1 to Qp3 pMOS transistor Qn1 to Qn3 nMOS transistor φ1 to φ3, φ1 'to φ3' control pulse VTHp, VTHn threshold voltage

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 2つの入出力ノードの間にn形MOSト
ランジスタ及びp形MOSトランジスタを含んでなる複
数のトランジスタが直列に接続されて第1のトランジス
タ列が形成され、これと同数の直列に接続されたトラン
ジスタからなる第2のトランジスタ列が上記入出力ノー
ド間に上記第1のトランジスタ列と並列に形成されると
共に、上記第1のトランジスタ列の複数のトランジスタ
と、これと同数の第2のトランジスタ列のトランジスタ
とが互いに異なる導電形で1対1に対応し、且つ第1の
トランジスタ列のトランジスタ間を接続する中間ノード
とこれに対応する第2のトランジスタ列の中間ノードと
がトランスファゲートを介して接続されてなることを特
徴とする信号伝達回路。
1. A plurality of transistors including an n-type MOS transistor and a p-type MOS transistor are connected in series between two input / output nodes to form a first transistor row, and the same number of the transistors are connected in series. A second transistor string composed of connected transistors is formed in parallel with the first transistor string between the input / output nodes, and a plurality of transistors of the first transistor string and the same number of second transistors are formed. The transfer gates of the intermediate node connecting the transistors of the first transistor row and the corresponding intermediate node of the second transistor row corresponding to each other in one-to-one correspondence with the transistors of the other transistor row. A signal transmission circuit characterized by being connected via.
【請求項2】 互いに対向する上記中間ノードの間に接
続されたトランスファゲートは、n形MOSトランジス
タとp形MOSトランジスタが並列に接続されてなるC
MOS形トランスファゲートであることを特徴とする請
求項1に記載の信号伝達回路。
2. The transfer gate connected between the intermediate nodes facing each other is composed of an n-type MOS transistor and a p-type MOS transistor connected in parallel.
The signal transfer circuit according to claim 1, wherein the signal transfer circuit is a MOS type transfer gate.
【請求項3】 請求項1又は2に記載の上記中間ノード
間に接続されたトランスファゲートは、上記第1及び第
2のトランジスタ列を構成するトランジスタが全てオン
された後にオンされることを特徴とする信号伝達制御方
式。
3. The transfer gate connected between the intermediate nodes according to claim 1 or 2, wherein the transfer gate is turned on after all the transistors forming the first and second transistor rows are turned on. And signal transmission control method.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR100401526B1 (en) * 1996-04-04 2003-12-11 주식회사 하이닉스반도체 Logic circuit for preventing hot carrier effect

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KR100401526B1 (en) * 1996-04-04 2003-12-11 주식회사 하이닉스반도체 Logic circuit for preventing hot carrier effect

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