JPH05186780A - 固体粒子流動床式の管状炭化水素クラッキング反応器の内部においてこれらの粒子と処理される炭化水素蒸気との混合物を均質化する方法および装置 - Google Patents

固体粒子流動床式の管状炭化水素クラッキング反応器の内部においてこれらの粒子と処理される炭化水素蒸気との混合物を均質化する方法および装置

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JPH05186780A JP3291398A JP29139891A JPH05186780A JP H05186780 A JPH05186780 A JP H05186780A JP 3291398 A JP3291398 A JP 3291398A JP 29139891 A JP29139891 A JP 29139891A JP H05186780 A JPH05186780 A JP H05186780A
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    • C10G11/00—Catalytic cracking, in the absence of hydrogen, of hydrocarbon oils
    • C10G11/14—Catalytic cracking, in the absence of hydrogen, of hydrocarbon oils with preheated moving solid catalysts
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明は固体粒子流動床式の管状炭化水素ク
ラッキング反応器（１）の内部においてこれらの粒子と
処理される炭化水素蒸気との混合物を均質化する方法お
よび装置に関するものである。 【構成】 本発明によれば、炭化水素噴射区域のすぐ下
流において、装入物の滴の少なくとも７５％が蒸発され
ている装入物反応区域の中に、前記反応器（１）の壁体
の内側面の少なくとも１つの箇所に、ガス状の流体を噴
射する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、固体粒子流動床式の管
状炭化水素クラッキング反応器の内部においてこれらの
粒子と処理される炭化水素蒸気との混合物を均質化する
方法および装置に関するものである。特に本発明の目的
は上昇または下降流動床において作動する実質的に垂直
な管状反応器の中において固体装入物の流動状態触媒ク
ラッキングに応用される前記の型の方法および装置を提
供するにある。
【０００２】
【従来の技術】周知のように、石油工業においては一般
に炭化水素転化工程が使用され、特に高分子量の高沸点
炭化水素分子を所望の用途に適したより低い沸点の低分
子量分子に分割するクラッキング工程が使用される。
【０００３】これらの転化工程の多くは、特に転化反応
に必要な熱をもたらす固体粒子（触媒粒子または非触媒
粒子）を炭化水素と非常に短時間接触させる流動床転化
技術を使用する。
【０００４】現在もっとも広く使用されている方法は、
いわゆる流動触媒クラッキング法である（Fluid Cataly
tic CrackingまたはＦＣＣ法）。しかしその他の流動床
転化法、特に熱クラッキング法または粘性還元法が開発
されている。
【０００５】説明の簡略のため、下記の説明においては
本発明を触媒クラッキング法に限定する。もちろん本発
明はクラッキングされる装入物が蒸気状態で触媒または
非触媒固体粒子と接触させられる大部分の流動床式炭化
水素転化法に応用する事ができる。
【０００６】クラッキング反応を条件付ける最も重要な
パラメータとして、処理される装入物と熱い触媒粒子と
の接触の迅速さと、流動床を成す触媒粒子の反応区域全
体の分布の均質性とを挙げる事ができる。
【０００７】流動床固体粒子と処理される装入物との伝
熱の改良のために出願人の行った研究により、現在まで
使用されている最も効率的なクラッキング装置中で実際
に得られる収率は理論値よりも低く、またこのような差
異は反応区域、特に処理される装入物の噴射区域中での
触媒粒子の分布不良によるものである事が判明した。
【０００８】フランス特願第２，５８５，０３０号およ
び第８９，１４７８７号において、出願人はすでに、反
応器中において触媒再生区域から出た熱い触媒流の軸方
向不規則性を改良し、炭化水素装入物の噴射区域上流の
触媒固体粒子の流動化を改良する手段をすでに提案し
た。
【０００９】しかし、処理される装入物の噴射区域の上
流において触媒流をできるだけ均質にするように触媒流
を調整しても、この区域の下流において触媒粒子の分布
が再び不均質となり、これらの粒子の分布密度は反応器
の中心よりも反応器壁体近くで高くなる事が発見され
た。
【００１０】触媒と反応器壁体との相互作用によるこの
ような触媒とガス相との自然な偏析傾向は、装入物の急
激な蒸発作用によって増幅される。このような蒸発作用
は触媒を反応器の壁体に向かって投げだし、従って壁体
の近くに触媒の豊富な区域が作られる。従って触媒の一
部は上昇流動床においても下降流動床においても、ゆっ
くりとしか前進せず、または装入物の逆方向擾乱（逆混
合作用、いわゆる「バックミキシング」）に従って移動
する傾向がある。
【００１１】出願人の研究によれば、このような理論値
と実測値との偏差は一部には装入物噴射後の反応区域中
での粒子の分布不良によるものである事が明らかになっ
た。このような分布不良は装入物の急激な蒸発と装入物
の高い噴射速度との競合作用による乱流と、触媒粒子の
反応器壁体に対する摩擦作用とによるものである。その
結果、逆混合として業界公知の現象が生じ、またその結
果として反応器の外周部において触媒粒子がほとんどま
たはまったく流動化されない事になる。従って、特に反
応器の外周部の粒子が滞留し、場合によっては反応器の
壁体に沿って逆進する。このように装入物噴射区域の下
流の反応区域全体において温度分布が不均一となる。壁
体の近くで粒子密度が過度に高くなるので、反応器の外
周部において温度が高くなりすぎるので装入物の過クラ
ッキングを生じ、所望の装入物転化を損ない、乾燥ガス
の生成を促進する。逆に噴霧された装入物が反応器中心
の不十分な密度の触媒粒子と接触すれば、これらの触媒
粒子によって加えられる熱量が所望の反応の生じるため
に必要な温度に達せず、触媒粒子の大きなコークス化を
生じ、触媒が不活性となる。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上昇式また
は下降式流動床炭化水素クラッキング反応器において処
理される炭化水素装入物の反応器中への噴射区域の下流
で、熱い固体粒子、特に触媒粒子の均一分布を保証する
手段によって前記の問題点を解決する事を課題とする。
【００１３】また本発明は、このような流動床クラッキ
ング反応器の反応区域全体において、熱い触媒粒子と炭
化水素蒸気との接触を均一にする事を課題とする。
【００１４】最後に本発明はこのような炭化水素クラッ
キング反応器の中に炭化水素装入物を噴射する区域の下
流において流体速度を均一になし逆混合を完全に防止す
る事を課題とする。
【００１５】
【課題を解決するための手段】従って本発明の目的は、
実質的に垂直に配置された管状反応器の中に熱い固体粒
子の流れを連続供給する段階と、反応器中のこれらの粒
子を希釈流動床状態に保持しながら上昇運動または下降
運動させる段階と、クラッキングされる少なくとも１種
の炭化水素装入物を反応器内部の希釈流動床の中に噴射
する事によって前記炭化水素装入物をこれらの粒子と接
触させる段階と、前記炭化水素と前記粒子との接触から
生じたガス相をこれらの粒子から分離する段階と、前記
ガス相とこのように分離された粒子とを回収する段階
と、場合によっては前記粒子を再活性化するように処理
する段階と、この再活性化された粒子を反応器に再循環
させる段階とを含む熱い固体粒子流動床式の管状炭化水
素クラッキング反応器の内部においてこれらの粒子と処
理される炭化水素蒸気との混合物を均質化する方法にお
いて、前記炭化水素噴射区域のすぐ下流において、装入
物の滴の少なくとも７５％が蒸発されている装入物反応
区域の中に、前記反応器の壁体の内側面の少なくとも１
つの箇所に、ガス状の流体を噴射する段階を含む方法に
ある。
【００１６】好ましくは、ガス状流体は、反応器壁体の
内側面に環状または螺旋形に規則的に配置された複数の
箇所から噴射させる。
【００１７】ガス状流体は、反応器の反応器軸線と３０
゜乃至１５０゜の角度を成す面の中において反応器中に
噴射される。ガス状流体は、反応器の壁体に対して実質
的に接線方向に反応器中に噴射される。
【００１８】ガス流体を炭化水素装入物噴射区域のすぐ
下流に噴射する事により、この装入物の急激な蒸発によ
って予め反応器壁体の内側面に向かって押し戻されてい
た粒子を再び反応器の中心に戻す事ができる。その結
果、炭化水素装入物の噴射区域の下流の反応区域の中の
固体粒子分布をはるかに均一になす事ができ、従ってク
ラッキングされる炭化水素の液状生成物への転化率を改
良し、これに伴って固体粒子上のコークスの堆積を減少
させ、また乾燥ガスの生成量を低下させる事ができる。
【００１９】ガス状流体は、水素、窒素などの不活性ガ
ス、メタン、エタン、プロパン、ブタンまたはペンタン
などの軽質炭化水素、蒸発ガソリンおよび好ましくは水
蒸気を含むグループから選定される。
【００２０】ガス状流体は、循環固体粒子流量の０．０
０５乃至１重量％の流量で反応器中に噴射される。また
ガス状流体は、その噴射装置の出口において１乃至１０
０ｍ／ｓ、好ましくは２０乃至５０ｍ／ｓの速度を有す
る。
【００２１】ガス状流体の噴射圧はこの噴射速度と反応
器の作動条件とに依存する。
【００２２】噴射される流体の流量が循環流動床触媒量
と比較して小であるので、この流体の噴射温度は装入物
噴射区域の下流の粒子温度のプロフィルに対して大きな
影響を及ぼさない。
【００２３】また本発明の目的は、実質的に垂直に配置
された反応器を含み、この反応器は、熱い固体粒子流の
連続供給手段と、前記固体粒子を反応器中において希釈
流動床状態に保持しながら上昇運動または下降運動させ
る手段と、反応器内部の希釈流動床の中に少なくとも１
種の炭化水素装入物を噴射する手段と、前記炭化水素と
粒子との接触から生じたガス相の分離手段と、前記ガス
相と固体粒子の分離回収手段と、場合によって回収され
た粒子を反応のために処理する手段と、これらの処理さ
れた粒子を反応器に供給するために循環させる手段とを
含む熱い固体粒子流動床式の管状炭化水素クラッキング
反応器の内部においてこれらの粒子と処理される炭化水
素蒸気との混合物を均質化する装置において、この装置
は炭化水素装入物の噴射区域のすぐ下流において、反応
器壁体の内側面の少なくとも１箇所に、反応器中へのガ
ス状流体噴射手段を含む装置を提供するにある。
【００２４】前記ガス状流体噴射手段は、装入物噴射点
の下流に、反応器半径の０．５乃至６倍の距離に配置さ
れる。
【００２５】本発明の好ましい実施態様において、前記
ガス状流体噴射手段は、反応器の壁体の中に備えられて
圧下ガス源に接続されたチャンバを含み、このチャンバ
は少なくとも１つのオリフィスによって反応器の中に開
く。好ましくは、反応器軸線に対して規則的に環状およ
び螺旋形に分布された複数のチャンバとオリフィスを含
み、前記オリフィスは好ましくはスリット状を成す。
【００２６】本発明の他の実施態様において、反応器の
中にガス流体を噴射する手段は圧下ガス源に接続された
少なくとも１つのインゼクタを含み、前記インゼクタの
軸線は反応器の壁体内側面に対して実質的に接線を成
す。好ましくは前記複数のインゼクタを含み、これらの
インゼクタは反応器の軸線回りに規則的に分布され、ま
た圧下ガス源に接続されたデストリビュータに接続され
ている。この実施態様においては、ガスジェットが複数
のインゼクタによって接線方向に導入されるので、反応
器壁体内側面の近くの固体粒子が螺旋運動によって反応
器内部に導入される。
【００２７】
【実施例】以下、本発明を図１乃至図６について説明す
る。
【００２８】まず図１乃至図３について説明する。
【００２９】図示のそれ自体公知の流動触媒クラッキン
グ装置において、再生された触媒がライン２を通して、
弁３の開閉によって決定される流量で管状反応器１の底
部に導入される。触媒粒子は、反応器底部に対するライ
ン５のガス体の噴射によって反応器の上部に向かって推
進される。前記のガス体噴射は流体分配器またはデフュ
ーザ４によって実施される。クラッキングされる装入物
は上部レベルにおいてライン７によって適当な噴霧装置
６によって触媒粒子流の中に導入される。
【００３０】反応器１はその上端においてケーシング８
の中に開き、このケーシング８は反応器１に対して同心
であって、一方ではバリスティックセパレータ９によっ
てガス流と触媒粒子を分離し、他方では不活性化された
触媒粒子のストリッピングを実施する。反応生成物はサ
イクロン１０の中で触媒粒子から分離され、前記サイク
ロンはケーシング８の上部に配置されその頂上に反応生
成物流を外部に排出するライン１１が配備されている。
不活性化された触媒粒子はケーシング８の下方に落下
し、そこでデフューザ１３がライン１２からストリッピ
ングガス流動床（一般に水蒸気）を供給する。このよう
にストリッピングされた不活性化触媒粒子は導管１５を
通して再生器１４の方に排出され、この導管の上に調整
弁１６が配置されている。
【００３１】この場合再生器１４は単一の再生チャンバ
を含み、不活性化された触媒粒子が流動床の上部に導入
され、これに対して燃焼ガスがサイクロン１９を通った
後にライン１８から排出される。
【００３２】ライン２１からデフューザ２０を通して空
気または酸素を噴入する事により、触媒粒子はその表面
上またはその細孔中になお存在するコークスおよび炭化
水素の燃焼によって流動床の中で再生される。このよう
に燃焼熱によって高温に成された触媒粒子がライン２を
通して反応器１の底部に戻る。
【００３３】前述のように、通常予め１５０乃至４００
℃の温度範囲に予熱され６から噴射される炭化水素装入
物は触媒粒子と接触する際にほとんど瞬間的に蒸発す
る。触媒粒子そのものは６００乃至９００℃の温度範囲
にある。このような急激な蒸発は触媒粒子を反応器１の
壁体の方向に投げ出す作用を示し、炭化水素装入物の噴
射区域の下流において触媒粒子の不規則な分布を生じ、
反応器１の壁体２５の内側面近くで再混合する危険があ
る。
【００３４】本発明はこのような欠点を除去するため、
反応器中に、炭化水素装入物の噴霧装置６のすぐ下流に
おいて、触媒粒子を反応器の軸線方向に押し戻すための
ガス流を噴射する。
【００３５】そのため本発明の実施態様においては、反
応器１の壁体２５の中に、反応器軸線回りに規則的に４
個のチャンバ２６を配置する。これらのチャンバ２６に
対して圧下ガス導管２８が接続され、各導管はそれぞれ
２つのスリット２９を通して反応器１の内部に開く。反
応器軸線回りに８個のスリット２９が環状に規則的に分
布されている。
【００３６】スリット２９から噴射されるガスジェット
は壁体２５に対して垂直に反応器１の内部に向かって送
られ、このようにして触媒粒子が壁体２５の近くに集合
する事を防止し、従って炭化水素蒸気と触媒粒子との接
触を改良させる。
【００３７】望ましくは前記の噴入ガスとして、約３５
０℃の温度の、また約１８バールの有効圧の水蒸気を使
用する事ができる。
【００３８】図４に図示の実施態様においては、反応器
３１は、ライン３２からこの反応器の中に循環される再
生触媒粒子を流動化する２つのシステムを含む。ライン
３５によって供給される第１デフューザ３４は、反応器
底部に、ライン３２と反応器の接続部の下方において、
触媒粒子の均一化を保証する強力な流動化を保持する事
のできる量の流体を噴射する。第２デフューザ４３はラ
イン４４から供給され、ライン３２と反応器との接続点
の下流に配置され、１．５ｍ／ｓ以上、好ましくは２乃
至１０ｍ／ｓの範囲内の軸方向速度で反応器中を上昇す
る触媒粒子の一定流量と共に希釈流動化状態を生じるの
に必要な量の流体を噴入する。
【００３９】本発明によれば、炭化水素装入物の噴霧装
置３６のすぐ下流区域に、反応器の軸線に対する垂直面
において対称的に配置された４つの点において反応器の
壁体に対して接線方向にガスを噴入するシステムが備え
られる。
【００４０】各噴入管４６はライン４７によって供給さ
れる流体デストリビュータ４５に接続されている。反応
器の複数点に同時に接線方向噴入が実施されるので、反
応器３１の壁体の近くの流動相を、噴入される流体量に
正比例した回転速度で回転させる事ができる。ガス流体
は触媒粒子の流動化に使用されるガスと同一型とする事
が好ましい。
【００４１】インゼクタと反応器の対称軸線の直交面と
の成す角度は、所望の回転運動を得るように噴入される
流体量を最小限に成すため小角度とする事が好ましい。
またこれらのインゼクタは、流動床の優れた均質性を得
るために反応器の回転対称をできるだけ尊重しなければ
ならない。
【００４２】最後に図６は、触媒粒子の下降希釈流式管
状反応器の中において本発明の均質化装置を使用する場
合を示す。
【００４３】この実施態様において、再生された触媒粒
子がライン５２から反応器５１の上部に導入されこの反
応器の中を重力で下降する。触媒流量を制御するために
弁５３が備えられる。まず弁５３の上流において、ライ
ン５４からガスを供給されるデフューザ５５が触媒粒子
とガスを流動床状態に保持する。この弁５３の下流にお
いて、ライン５７から供給されるデフューザ５８により
反応器中に第２ガス流噴入する事によって、触媒粒子は
希釈流動状態に保持される。
【００４４】つぎにクラッキングされる装入物が、触媒
粒子の流れ方向において、反応器軸線に対して例えば３
０゜乃至６０゜の角度で傾斜された噴射器５６によって
反応器５５の中に導入される。
【００４５】これらの噴射器５６のすぐ下流に、図５に
示すものと同一型の本発明による均質化装置が配備され
る。すなわちこの均質化装置は反応器５１に対して接線
方向に配置されたインゼクタ６６を含み、これらのイン
ゼクタはデストリビュータ６５に接続され、このデスト
リビュータがライン６７によって圧下ガスを供給され
る。
【００４６】以下本発明を実施例ついて説明するが本発
明はこれによって限定されるものではない。
【００４７】実施例 図１に示す全体的型の触媒クラッキング装置の中で、同
一の炭化水素装入物について２回の触媒クラッキングテ
ストを実施した。一方のテスト（テスト１）は本発明に
よる均質化装置を使用する事なく実施される。第２テス
ト（テスト２）は図３および図４に図示の装置を使用し
て実施された。
【００４８】処理された装入物は下記の特性を有する真
空蒸留物である。
【００４９】 −密度（゜ＡＰＩ） ： ２１． −硫黄（重量％） ： １．３ −塩基性窒素（重量ｐｐｍ） ：７３０． −バナジウム（ｐｐｍ） ： ２． −ニッケル（ｐｐｍ） ： １． −コンラドソン炭素（重量％） ： １．５ これらの２テスト中の操作条件は下記の表１に示されて
いる。
【００５０】 表 １ テスト １ テスト ２ 装入物噴射点の上流の触媒温度（℃） ７３４ ７２０ 装入物噴射温度（℃） ２５０ ２５０ 反応器終点温度（℃） ５２９ ５２９ 触媒の型 ゼオライト 同左 ＵＳＹ ガス状態の流体の流量（ｔ／ｈ） ０ ２ 流動床に対する噴射流体の重量％ ０ ０．１９ ガス流体の噴射速度（ｍ／ｓ） − ４０ テスト１と２の結果を下記の表２に示す。
【００５１】 表 ２ テスト １ テスト ２ 乾燥ガス（装入物の重量％） ４．６５ ４．３５ ＧＰＬ（重量％） １６．０７ １６．３８ ガソリン（重量％） ４５．８２ ４６．９０ 軽質希釈剤（重量％） １５．８２ １５．４２ スラリ（重量％） １１．７９ １１．１３ コークス（重量％） ５．４０ ５．３６ ２２０℃での転化率（容量％） ７２．３９ ７３．４５ Ｃ３以上の炭化水素の液体収率 ７７．７１ ７８．７０
【００５２】この表は転化率が反応選択性と共に改良さ
れた事を示す（１重量％増大）。乾燥ガスと触媒スラリ
の減少に対してガソリンの増大が見られる。さらに表１
は装入物噴射点の上流における触媒温度の顕著な低下を
示し、これは再生器温度の１４゜の低下に相当する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の均質化装置の第１実施例を備えた希釈
上昇触媒流を使用する炭化水素触媒クラッキングプラン
トの概略図。
【図２】図１のプラントの一部の拡大断面図。
【図３】図１のＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿った断面図。
【図４】本発明の均質化装置の第２実施例を備えた希釈
上昇触媒流を使用する反応器の一部を示す概略図。
【図５】図４の反応器の噴射装置の断面図。
【図６】本発明の均質化装置の第３実施例を備えた希釈
上昇触媒流を使用する反応器の一部の断面図。
【符号の説明】
１、３１、５１ 反応器 ２、３２、５２ 固体粒子供給手段 ４；３４、４３；５５、５８ ディストリビュータ ６、３６、５６ 炭化水素噴射手段 ８、９、１０ ガス相分離手段 １４ 再生器 ２５ 反応器壁体 ２６、２９；４６；６６ ガス状流体噴射手段 ４５、６５ ディストリビュータ
フロントページの続き (72)発明者 マルク、フェルサン フランス国サン、タドレス、リュ、シェ フ、ド、コー、24 (72)発明者 ティエリ、パテュロー フランス国モンティビリエール、フォンテ ーヌ、ル、マレ、リュ、デ、フレーヌ、10 (72)発明者 ドゥニ、ポンビアンヌ フランス国モンルージュ、リュ、ジュー ル、ゲスド、２

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】実質的に垂直に配置された管状反応器の中
    に熱い固体粒子の流れを連続供給する段階と、反応器中
    のこれらの粒子を希釈流動床状態に保持しながら上昇運
    動または下降運動させる段階と、クラッキングされる少
    なくとも１種の炭化水素装入物を反応器内部の希釈流動
    床の中に噴射する事によって前記炭化水素装入物をこれ
    らの粒子と接触させる段階と、前記炭化水素と前記粒子
    との接触から生じたガス相をこれらの粒子から分離する
    段階と、前記ガス相とこのように分離された粒子とを回
    収する段階と、場合によっては前記粒子を再活性化する
    ように処理する段階と、この再活性化された粒子を反応
    器に再循環させる段階とを含む熱い固体粒子流動床式の
    管状炭化水素クラッキング反応器の内部においてこれら
    の粒子と処理される炭化水素蒸気との混合物を均質化す
    る方法において、前記炭化水素噴射区域のすぐ下流にお
    いて、装入物の滴の少なくとも７５％が蒸発されている
    装入物反応区域の中に、前記反応器の壁体の内側面の少
    なくとも１つの箇所に、ガス状の流体を噴射する段階を
    含む事を特徴とする方法。
  2. 【請求項２】ガス状流体は、反応器壁体の内側面に環状
    または螺旋形に規則的に配置された複数の箇所から噴射
    させる事を特徴とする請求項１に記載の方法。
  3. 【請求項３】ガス状流体は、反応器の反応器軸線と３０
    ゜乃至１５０゜の角度を成す面の中において反応器中に
    噴射される事を特徴とする請求項１または２のいずれか
    に記載の方法。
  4. 【請求項４】ガス状流体は、反応器の壁体に対して実質
    的に接線方向に反応器中に噴射される事を特徴とする請
    求項１または２に記載の方法。
  5. 【請求項５】ガス状流体は、水素、窒素などの不活性ガ
    ス、１乃至５炭素原子の軽質炭化水素、蒸発ガソリンお
    よび水蒸気を含むグル−プから選定される事を特徴とす
    る請求項１乃至４のいずれかに記載の方法。
  6. 【請求項６】ガス状流体は、循環固体粒子流量の０．０
    ０５乃至１重量％の流量で反応器中に噴射される事を特
    徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の方法。
  7. 【請求項７】ガス状流体は、１乃至１００ｍ／ｓ、好ま
    しくは２０乃至５０ｍ／ｓの速度で反応器中に噴射され
    る事を特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の方
    法。
  8. 【請求項８】実質的に垂直に配置された反応器（１、３
    １、５１）を含み、この反応器は、熱い固体粒子流の連
    続供給手段（２、３２、５２）と、前記固体粒子を反応
    器中において希釈流動床状態に保持しながら上昇運動ま
    たは下降運動させる手段（４；３４、４３；５５、５
    ８）と、反応器内部の希釈流動床の中に少なくとも１種
    の炭化水素装入物を噴射する手段（６、３６、５６）
    と、前記炭化水素と粒子との接触から生じたガス相の分
    離手段（８、９、１０）と、前記ガス相と固体粒子の分
    離回収手段と、場合によって回収された粒子を反応のた
    めに処理する手段（１４）と、これらの処理された粒子
    を反応器に供給するために循環させる手段とを含む熱い
    固体粒子流動床式の管状炭化水素クラッキング反応器の
    内部においてこれらの粒子と処理される炭化水素蒸気と
    の混合物を均質化する装置において、この装置は炭化水
    素装入物の噴射区域のすぐ下流において、反応器壁体
    （２５）の内側面の少なくとも１箇所に、反応器中への
    ガス状流体噴射手段（２６、２９；４６；６６）を含む
    事を特徴とする装置。
  9. 【請求項９】前記ガス状流体噴射手段は、装入物噴射点
    の下流に、反応器半径の０．５乃至６倍の距離に配置さ
    れる事を特徴とする請求項８に記載の装置。
  10. 【請求項１０】前記ガス状流体噴射手段は、反応器の壁
    体（２５）の中に備えられて圧下ガス源に接続されたチ
    ャンバ（２６）を含み、このチャンバ（２６）は少なく
    とも１つのオリフィス（２９）によって反応器（１）の
    中に開く事を特徴とする請求項８または９のいずれかに
    記載の装置。
  11. 【請求項１１】反応器軸線に対して規則的に環状および
    螺旋形に分布された複数のチャンバ（２６）とオリフィ
    ス（２９）を含み、前記オリフィスは好ましくはスリッ
    ト状を成す事を特徴とする請求項１０に記載の装置。
  12. 【請求項１２】反応器（３１、５１）の中にガス流体を
    噴射する手段は圧下ガス源に接続された少なくとも１つ
    のインゼクタ（４６、６６）を含み、前記インゼクタの
    軸線は反応器の壁体内側面に対して実質的に接線を成
    し、また反応器軸線に対して垂直である事を特徴とする
    請求項８に記載の装置。
  13. 【請求項１３】複数のインゼクタ（４６、６６）を含
    み、これらのインゼクタは反応器（３１、５１）の軸線
    回りに規則的に分布され、また圧下ガス源に接続された
    デストリビュータ（４５、６５）に接続されている事を
    特徴とする請求項１２に記載の装置。
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