JPH05181269A - Photosensitive planographic printing plate - Google Patents

Photosensitive planographic printing plate

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Publication number
JPH05181269A
JPH05181269A JP16864491A JP16864491A JPH05181269A JP H05181269 A JPH05181269 A JP H05181269A JP 16864491 A JP16864491 A JP 16864491A JP 16864491 A JP16864491 A JP 16864491A JP H05181269 A JPH05181269 A JP H05181269A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acid
diazo resin
photosensitive
group
printing plate
Prior art date
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Pending
Application number
JP16864491A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tomoyuki Matsumura
智之 松村
Keiichi Yugi
慶一 弓木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
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Publication date
Application filed by Konica Minolta Inc filed Critical Konica Minolta Inc
Priority to JP16864491A priority Critical patent/JPH05181269A/en
Publication of JPH05181269A publication Critical patent/JPH05181269A/en
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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain a photosensitive planographic printing plate having high liposensitive and sensitivity by incorporating a specified polymer compd. and a diazo resin into a photosensitive layer. CONSTITUTION:A polymer compd. and a diazo resin expressed by formulae (I)-(IV) (wherein R<1>, R<2>, R<3>, R<3+a> are hydrogen atoms, alkyl groups, or aryl groups, and A or B represents an end group) are incorporated into a photosensitive layer on a supporting body. This polymer compd. acts as a sensitization agent. The amt. of these compds. in the photosensitive layer is 0.5-30wt.%. As for the diazo resin to be used as a photosensitive material, it is preferable to use condensation copolymer diazo resins consisting of aromatic diazonium compd. and aromatic compd. having carboxyl groups or hydroxyl groups as the structural units. By this constitution, a photosensitive planographic printing plate having good ink depositing property is obtd. without decreasing the sensitivity.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、感光性平版印刷版に関
するものである。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a photosensitive lithographic printing plate.

【0002】[0002]

【発明の背景】従来より種々の感光性平版印刷版(以下
適宜PS版と称することもある)が提案されている。
BACKGROUND OF THE INVENTION Various photosensitive lithographic printing plates (hereinafter sometimes referred to as PS plates) have been proposed.

【0003】例えば従来より、ジアゾ樹脂を感光性化合
物として含有する感光層を有する感光性平版印刷版が提
案されている。
For example, conventionally, a photosensitive lithographic printing plate having a photosensitive layer containing a diazo resin as a photosensitive compound has been proposed.

【0004】感光性印刷版は、例えばネガ型の場合、通
常、これに陰画等を通して光線を照射し、光が照射され
た部分を重合あるいは架橋等させてこの部分を現像液に
不溶な状態とし、その後現像して光の非照射部分を現像
液に溶出させ、それぞれの部分を、水を反発して油性イ
ンキを受容する画像部、及び水を受容して油性インキを
反発する非画像部とする形で一般に用いられる。
When the photosensitive printing plate is, for example, a negative type, it is usually irradiated with a light beam through a negative image or the like, and the part irradiated with light is polymerized or crosslinked to make this part insoluble in a developing solution. , And then develop to elute the non-irradiated areas in the developer, and each area is defined as an image area that repels water and receives oil-based ink, and a non-image area that receives water and repels oil-based ink. It is generally used in the form.

【0005】ところが、ジアゾ樹脂を用いた従来の感光
性平版印刷版、例えば従来のネガ型PS版は、一般に表
面の感脂性が低く、印刷時にインキ着肉性が不充分であ
ったり、刷り出し時の損紙(ヤレ紙と称されている)が
多量に生じたりするなどの問題があった。
However, a conventional photosensitive lithographic printing plate using a diazo resin, for example, a conventional negative PS plate generally has a low surface oil sensitivity, and has insufficient ink receptivity during printing, or printing. There was a problem that a large amount of spoiled paper (called scrap paper) was generated.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする問題点】上述のように、ジア
ゾ樹脂及びバインダーから成る感光層を有する従来の例
えばネガ型感光性平版印刷版は、画像部の感脂性即ち平
版印刷に用いられる油性インキを受容する性能が低い。
このため、従来の印刷版を用いて印刷を行うとき、刷り
出しから正常なインキ着肉を示す印刷物を得るまで、着
肉不良即ち画像の濃度の低い印刷物が多数生じるという
問題があったものである。着肉不良を示す印刷物(ヤレ
紙)が多いことは、コスト面からも、また作業時間の面
からも好ましくないので、かかる問題点を解決すること
が望まれている。
As described above, a conventional negative photosensitive lithographic printing plate having a photosensitive layer composed of a diazo resin and a binder is, for example, an oil-based ink used for sensitizing the image area, that is, lithographic printing. The ability to accept is low.
For this reason, when printing is performed using a conventional printing plate, there is a problem that a large number of prints with poor ink-feeding, that is, a low image density, are produced from the start of printing until a print showing normal ink inking is obtained. is there. It is not preferable in terms of cost and working time that there are many printed matters (waste paper) showing defective inking, and therefore it is desired to solve such a problem.

【0007】この問題点の解決のため、各種の技術、例
えば各種感脂化剤を用いた技術が提案されている。しか
し従来の種々の感脂化剤は、これを添加して感光層を形
成すると、添加した感脂化剤が現像時に溶出してしまっ
て印刷時に必要な効果を上げられず、効果が不充分であ
ったり、感度等の性能が低下する等の問題があった。
In order to solve this problem, various techniques have been proposed, for example, techniques using various sensitizers. However, when various conventional oil sensitizers are added to form a photosensitive layer, the added oil sensitizers are dissolved during development and the effect required during printing cannot be enhanced, and the effect is insufficient. However, there is a problem that performance such as sensitivity is deteriorated.

【0008】本発明の目的は、上記問題点を解決して、
感脂性(インキ着肉性)が充分で、しかも感度が良好な
感光性平版印刷版を提供することである。
An object of the present invention is to solve the above problems and
An object of the present invention is to provide a photosensitive lithographic printing plate having sufficient oil sensitivity (ink receptivity) and good sensitivity.

【0009】[0009]

【問題点を解決するための手段】上記した問題点を解決
するため、本発明の感光性平版印刷版は、支持体上の少
なくとも一方の面に下記一般式(1)〜(4)のいずれ
かで表される高分子化合物から成る化合物群から任意に
選ばれた少なくとも1種の高分子化合物、及びジアゾ樹
脂を含有する感光層を有する構成とする。
In order to solve the above-mentioned problems, the photosensitive lithographic printing plate of the present invention has one of the following general formulas (1) to (4) on at least one surface of a support. The photosensitive layer contains a diazo resin and at least one polymer compound arbitrarily selected from the group of polymer compounds represented by

【化2】 [Chemical 2]

【0010】一般式(1)〜(4)中、R1 ,R2 ,R
3 ,・・・,R3+a は、水素原子、アルキル基(置換基
を有するものを含む)、またはアリール基(置換基を有
するものを含む)である。但し各式において、すべてが
水素原子をとることはない。A,Bは末端基を表す。
l,m,n,・・・,n+aは、各式において重合度に
より定まる数である。一般式(4)において、aは1以
上17以下の数である。
In the general formulas (1) to (4), R 1 , R 2 and R
3 , ..., R3 + a are hydrogen atoms, alkyl groups (including those having a substituent), or aryl groups (including those having a substituent). However, in each formula, not all hydrogen atoms are taken. A and B represent terminal groups.
l, m, n, ..., N + a are numbers determined by the degree of polymerization in each formula. In the general formula (4), a is a number of 1 or more and 17 or less.

【0011】以下本発明について更に説明する。本発明
に係る感光性平版印刷版の感光層中には一般式(1)〜
(4)のいずれかで表される高分子化合物の任意の少な
くとも1種の高分子化合物(以下適宜「本発明の高分子
化合物」と称することもある)が含有されるが、以下こ
の化合物について説明する。
The present invention will be further described below. In the photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate according to the present invention, the general formula (1)
Any at least one polymer compound represented by any one of (4) (hereinafter may be appropriately referred to as “polymer compound of the present invention”) is contained. explain.

【0012】一般式(1)〜(4)において、R1 ,R
2 ,R3 ,・・・,R3+a は、水素原子、アルキル基
(置換基を有するものを含む)、またはアリール基(置
換基を有するものを含む)であり、但し、各式におい
て、すべてが水素原子をとることはないが、この場合の
アルキル基としては、炭素数(置換基を有するときは主
鎖のアルキル部分の炭素数)が1〜25のものが好まし
く、1〜10のものはより好ましい。置換アルキル基で
ある場合、アルキル基に結合する置換基として、ハロゲ
ン原子、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アミノ基、カル
ボキシル、アリール基等を有するものが好ましい。アリ
ール基である場合、炭素数(置換基を有するときは、ア
リール基部分の炭素数)6〜20のものが好ましい。R
1 ,R2 ・・・が2以上存在するときは、R1 ,R2
・・のいずれかは水素であってよい。また、R1 ,R2
・・・がともに(置換)アルキル基、(置換)アリール
基であってよく、その組み合わせは任意である。一般式
(2)において、l:mの比は任意であるが、50:5
0〜96:4が好ましい。一般式(3)において、l:
m:nの比は任意であるが、(l+m):n=50:5
0〜96:4が好ましい。また一般式(4)において、
l:m:n:・・・:n+aの比は任意である。
In the general formulas (1) to (4), R 1 , R
2 , R 3 , ..., R 3 + a are hydrogen atoms, alkyl groups (including those having a substituent), or aryl groups (including those having a substituent), provided that in each formula, Not all of them take hydrogen atoms, but in this case, the alkyl group preferably has 1 to 25 carbon atoms (the number of carbon atoms in the alkyl portion of the main chain when having a substituent), preferably 1 to 10 carbon atoms. Those are more preferable. In the case of a substituted alkyl group, a substituent having a halogen atom, a hydroxy group, an alkoxy group, an amino group, a carboxyl group, an aryl group or the like is preferable as the substituent bonded to the alkyl group. When it is an aryl group, it preferably has 6 to 20 carbon atoms (the carbon number of the aryl group portion when it has a substituent). R
When there are two or more of 1 , R 2 ... R 1 , R 2 ·
Any of the ... May be hydrogen. In addition, R 1 , R 2
Both may be a (substituted) alkyl group or a (substituted) aryl group, and the combination thereof is arbitrary. In the general formula (2), the ratio of 1: m is arbitrary, but is 50: 5.
0 to 96: 4 is preferable. In the general formula (3), l:
The ratio of m: n is arbitrary, but (l + m): n = 50: 5
0 to 96: 4 is preferable. In the general formula (4),
The ratio of l: m: n: ...: n + a is arbitrary.

【0013】R1 ,R2 ・・・の中に水素原子があると
き、水素原子の総量は50モル%以下が好ましい。また
本発明の高分子化合物の重量平均分子量は、好ましくは
1,000から100,000である。
When there are hydrogen atoms in R 1 , R 2, ..., The total amount of hydrogen atoms is preferably 50 mol% or less. The weight average molecular weight of the polymer compound of the present invention is preferably 1,000 to 100,000.

【0014】本発明の高分子化合物の合成には、各種の
手段を採用でき、例えば、本発明の高分子化合物を合成
するに当たり、フマル酸ジエステル、フマル酸モノエス
テル、マレイン酸ジエステル、マレイン酸モノエステル
中から選ばれるモノマーの単独重合または共重合反応を
用いることができる。重合反応は、ラジカル重合、カチ
オン重合、アニオン重合等を用いることができるが、ラ
ジカル重合が適している。用いるべきモノマーの具体例
としては、フマル酸ジメチル、フマル酸ジエチル、フマ
ル酸ジn−プロピル、フマル酸ジイソプロピル、フマル
酸ジn−ブチル、フマル酸ジ−t−ブチル、フマル酸ジ
−イソブチル、フマル酸ジプロピル、フマル酸ジヘキシ
ル、フマル酸ジヘプチル、フマル酸ジオクチル、フマル
酸ジノニル、フマル酸ジデシル、フマル酸モノメチル、
フマル酸モノエチル、フマル酸モノイソプロピル、フマ
ル酸モノ−n−プロピル、フマル酸モノ−n−ブチル、
フマル酸モノ−イソブチル、フマル酸モノ−t−ブチ
ル、フマル酸モノプロピル、フマル酸モノヘキシル、フ
マル酸モノヘプチル、フマル酸モノオクチル、フマル酸
モノノニル、フマル酸モノデシル、フマル酸ジフェニ
ル、フマル酸ジトリル、フマル酸ジベンジル、フマル酸
メチルフェニル、フマル酸エチルベンジル等のフマル酸
エステル類と同様のマレイン酸ジエステル、マレイン酸
モノエステルが挙げられる。
Various means can be employed for synthesizing the polymer compound of the present invention. For example, when synthesizing the polymer compound of the present invention, fumaric acid diester, fumaric acid monoester, maleic acid diester, maleic acid monoester. A homopolymerization or copolymerization reaction of a monomer selected from the ester can be used. As the polymerization reaction, radical polymerization, cationic polymerization, anionic polymerization or the like can be used, but radical polymerization is suitable. Specific examples of the monomer to be used include dimethyl fumarate, diethyl fumarate, di-n-propyl fumarate, diisopropyl fumarate, di-n-butyl fumarate, di-t-butyl fumarate, di-isobutyl fumarate, and fumarate. Acid dipropyl, dihexyl fumarate, diheptyl fumarate, dioctyl fumarate, dinonyl fumarate, didecyl fumarate, monomethyl fumarate,
Monoethyl fumarate, monoisopropyl fumarate, mono-n-propyl fumarate, mono-n-butyl fumarate,
Mono-isobutyl fumarate, mono-t-butyl fumarate, monopropyl fumarate, monohexyl fumarate, monoheptyl fumarate, monooctyl fumarate, monononyl fumarate, monodecyl fumarate, diphenyl fumarate, ditolyl fumarate, fumarate Examples include maleic acid diesters and maleic acid monoesters similar to fumaric acid esters such as dibenzyl, methylphenyl fumarate, and ethylbenzyl fumarate.

【0015】次に本発明の高分子化合物の合成例を示
す。 (高分子化合物Aの合成法)フマル酸ジ−n−ブチル2
28gをメタノール100mlとアセトン100mlの
混合溶媒に溶解し、アゾビスイソブチロニトリル3.2
8gを加える。窒素気流下、6時間還溜した後、反応溶
液を3lの水にあけ、得られた白色結析を濾取乾燥し、
高分子化合物Aを得た。GPCにより高分子化合物Aの
重量平均分子量を測定したところ、12,000であっ
た。
Next, synthetic examples of the polymer compound of the present invention will be shown. (Synthesis Method of Polymer Compound A) Di-n-butyl fumarate 2
28 g was dissolved in a mixed solvent of 100 ml of methanol and 100 ml of acetone, and azobisisobutyronitrile 3.2 was added.
Add 8 g. After distilling under a nitrogen stream for 6 hours, the reaction solution was poured into 3 liters of water, and the obtained white precipitate was collected by filtration and dried,
Polymer compound A was obtained. The weight average molecular weight of the polymer compound A measured by GPC was 12,000.

【0016】(高分子化合物Bの合成法)高分子化合物
Aの合成法において、フマル酸ジ−n−ブチル228g
のかわりに、フマル酸ジエチル86gとフマル酸モノフ
ェニル96gを用いて、同様に合成し、高分子化合物B
を得た。この重量平均分子量は16,000であった。
(Synthesis Method of Polymer Compound B) In the synthesis method of Polymer Compound A, 228 g of di-n-butyl fumarate was used.
Instead of, 86 g of diethyl fumarate and 96 g of monophenyl fumarate were synthesized in the same manner to obtain polymer compound B.
Got The weight average molecular weight was 16,000.

【0017】本発明の感光性平版印刷版において、本発
明の高分子化合物は、感脂化剤として機能する。感光層
中における本発明の化合物の好ましい含有量は、0.5
〜30重量%であり、更に好ましくは、1〜20重量%
である。
In the photosensitive lithographic printing plate of the present invention, the polymer compound of the present invention functions as an oil sensitizer. The preferable content of the compound of the present invention in the photosensitive layer is 0.5.
To 30% by weight, more preferably 1 to 20% by weight
Is.

【0018】次に、本発明の感光性平版印刷版の感光層
が含有するジアゾ樹脂について説明する。
Next, the diazo resin contained in the photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate of the present invention will be described.

【0019】上記ジアゾ樹脂は、感光体として用いられ
るものである。本発明において使用できるジアゾ樹脂
は、任意である。
The above diazo resin is used as a photoconductor. Any diazo resin can be used in the present invention.

【0020】本発明において、ジアゾ樹脂として、カル
ボキシル基または水酸基のいずれか少なくとも一方の基
を1個以上有する芳香族化合物と、芳香族ジアゾニウム
化合物とを構成単位として含む共縮合ジアゾ樹脂を好ま
しく用いることができる。
In the present invention, as the diazo resin, a co-condensed diazo resin containing an aromatic compound having at least one of at least one of a carboxyl group and a hydroxyl group and an aromatic diazonium compound as constitutional units is preferably used. You can

【0021】このようなカルボキシル基及び/またはヒ
ドロキシ基を有する芳香族化合物は、少なくとも1つの
カルボキシル基で置換された芳香族環及び/または少な
くとも1つのヒドロキシル基で置換した芳香族環を分子
中に含むものであって、この場合、上記カルボキシル基
とヒドロキシル基とは同一の芳香族環に置換されていて
もよく、あるいは別の芳香族環に置換されていてもよ
い。このカルボキシル基あるいはヒドロキシル基は芳香
族環に直接結合してもよく、結合基を介して結合してい
るのでもよい。上記の芳香族としては、好ましくはアリ
ール基例えばフェニル基、ナフチル基を挙げることがで
きる。
Such an aromatic compound having a carboxyl group and / or a hydroxy group has an aromatic ring substituted with at least one carboxyl group and / or an aromatic ring substituted with at least one hydroxyl group in the molecule. In this case, the carboxyl group and the hydroxyl group may be substituted with the same aromatic ring or may be substituted with another aromatic ring. This carboxyl group or hydroxyl group may be directly bonded to the aromatic ring, or may be bonded via a bonding group. Preferred examples of the above-mentioned aromatic group include an aryl group such as a phenyl group and a naphthyl group.

【0022】上記本発明に用いることができる共縮合ジ
アゾ樹脂において、1つの芳香族環に結合するカルボキ
シル基の数は1または2が好ましく、また1つの芳香族
環に結合するヒドロキシル基の数は1乃至3が好まし
い。カルボキシル基または水酸基が結合基を介して芳香
族環に結合する場合には、該結合基としては、例えば炭
素数1乃至4のアルキレン基を挙げることができる。
In the co-condensed diazo resin usable in the present invention, the number of carboxyl groups bonded to one aromatic ring is preferably 1 or 2, and the number of hydroxyl groups bonded to one aromatic ring is preferably 1. 1 to 3 is preferable. When the carboxyl group or the hydroxyl group is bonded to the aromatic ring via the bonding group, examples of the bonding group include an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms.

【0023】上記共縮合ジアゾ樹脂の構成単位とするカ
ルボキシル基及び/またはヒドロキシル基を含有する芳
香族化合物の具体例としては、安息香酸、o−クロロ安
息香酸、m−クロロ安息香酸、p−クロロ安息香酸、フ
タル酸、テレフタル酸、ジフェニル酢酸、フェノキシ酢
酸、p−メトキシフェニル酢酸、p−メトキシ安息香
酸、2,4−ジメトキシ安息香酸、2,4−ジメチル安
息香酸、p−フェノキシ安息香酸、4−アニリノ安息香
酸、4−(m−メトキシアニリノ)安息香酸、4−(p
−メチルベンゾイル)安息香酸、4−(p−メチルアニ
リノ)安息香酸、4−フェニルスルホニル安息香酸、フ
ェノール、(o,m,p)−クレゾール、キシレノー
ル、レゾルシン、2−メチルレゾルシン、(o,m,
p)−メトキシフェノール、m−エトキシフェノール、
カテコール、フロログリシン、p−ヒドロキシエチルフ
ェノール、ナフトール、ピロガロール、ヒドロキノン、
p−ヒドロキシベンジルアルコール、4−クロロレゾル
シン、ビフェニル−4,4’−ジオール、1,2,4−
ベンゼントリオール、ビスフェノールA、2,4−ジヒ
ドロキシベンゾフェノン、2,3,4−トリヒドロキシ
ベンゾフェノン、p−ヒドロキシアセトフェノン、4,
4−ジヒドロキシジフェニルエーテル、4,4’−ジヒ
ドロキシジフェニルアミン、4,4’−ジヒドロキシジ
フェニルスルフィド、クミルフェノール、(o,m,
p)−クロロフェノール、(o,m,p)−ブロモフェ
ノール、サリチル酸、4−メチルサリチル酸、6−メチ
ルサリチル酸、4−エチルサリチル酸、6−プロピルサ
リチル酸、6−ラウリルサリチル酸、6−ステアリルサ
リチル酸、4,6−ジメチルサリチル酸、p−ヒドロキ
シ安息香酸、2−メチル−4−ヒドロキシ安息香酸、6
−メチル−4−ヒドロキシ安息香酸、2,6−ジメチル
−4−ヒドロキシ安息香酸、2,4−ジヒドロキシ安息
香酸、2,4−ジヒドロキシ−6−メチル安息香酸、
2,6−ジヒドロキシ安息香酸、2,6−ジヒドロキシ
−4−安息香酸、4−クロロ−2,6−ジヒドロキシ安
息香酸、4−メトキシ−2,6−ジオキシ安息香酸、没
食子酸、フロログルシンカルボン酸、2,4,5−トリ
ヒドロキシ安息香酸、m−ガロイル没食子酸、タンニン
酸、m−ベンゾイル没食子酸、m−(p−トルイル)没
食子酸、プロトカテクオイル−没食子酸、4,6−ジヒ
ドロキシフタル酸、(2,4−ジヒドロキシフェニル)
酢酸、(2,6−ジヒドロキシフェニル)酢酸、(3,
4,5−トリヒドロキシフェニル)酢酸、p−ヒドロキ
シメチル安息香酸、p−ヒドロキシエチル安息香酸、4
−(p−ヒドロキシフェニル)メチル安息香酸、4−
(o−ヒドロキシベンゾイル)安息香酸、4−(2,4
−ジヒドロキシベンゾイル)安息香酸、4−(p−ヒド
ロキシフェノキシ)安息香酸、4−(p−ヒドロキシア
ニリノ)安息香酸、ビス(3−カルボキシ−4−ヒドロ
キシフェニル)アミン、4−(p−ヒドロキシフェニル
スルホニル)安息香酸、4−(p−ヒドロキシフェニル
チオ)安息香酸等を挙げることができる。このうち特に
好ましいものは、サリチル酸、p−ヒドロキシ安息香
酸、p−メトキシ安息香酸、メタクロロ安息香酸であ
る。
Specific examples of the aromatic compound containing a carboxyl group and / or a hydroxyl group as the constitutional unit of the co-condensed diazo resin include benzoic acid, o-chlorobenzoic acid, m-chlorobenzoic acid and p-chloro. Benzoic acid, phthalic acid, terephthalic acid, diphenylacetic acid, phenoxyacetic acid, p-methoxyphenylacetic acid, p-methoxybenzoic acid, 2,4-dimethoxybenzoic acid, 2,4-dimethylbenzoic acid, p-phenoxybenzoic acid, 4 -Anilinobenzoic acid, 4- (m-methoxyanilino) benzoic acid, 4- (p
-Methylbenzoyl) benzoic acid, 4- (p-methylanilino) benzoic acid, 4-phenylsulfonylbenzoic acid, phenol, (o, m, p) -cresol, xylenol, resorcin, 2-methylresorcin, (o, m,
p) -methoxyphenol, m-ethoxyphenol,
Catechol, phloroglysin, p-hydroxyethylphenol, naphthol, pyrogallol, hydroquinone,
p-hydroxybenzyl alcohol, 4-chlororesorcin, biphenyl-4,4'-diol, 1,2,4-
Benzenetriol, bisphenol A, 2,4-dihydroxybenzophenone, 2,3,4-trihydroxybenzophenone, p-hydroxyacetophenone, 4,
4-dihydroxydiphenyl ether, 4,4′-dihydroxydiphenylamine, 4,4′-dihydroxydiphenyl sulfide, cumylphenol, (o, m,
p) -chlorophenol, (o, m, p) -bromophenol, salicylic acid, 4-methylsalicylic acid, 6-methylsalicylic acid, 4-ethylsalicylic acid, 6-propylsalicylic acid, 6-laurylsalicylic acid, 6-stearylsalicylic acid, 4 , 6-dimethylsalicylic acid, p-hydroxybenzoic acid, 2-methyl-4-hydroxybenzoic acid, 6
-Methyl-4-hydroxybenzoic acid, 2,6-dimethyl-4-hydroxybenzoic acid, 2,4-dihydroxybenzoic acid, 2,4-dihydroxy-6-methylbenzoic acid,
2,6-dihydroxybenzoic acid, 2,6-dihydroxy-4-benzoic acid, 4-chloro-2,6-dihydroxybenzoic acid, 4-methoxy-2,6-dioxybenzoic acid, gallic acid, phloroglucin carvone Acid, 2,4,5-trihydroxybenzoic acid, m-galloyl gallic acid, tannic acid, m-benzoyl gallic acid, m- (p-toluyl) gallic acid, protocatechuyl gallic acid, 4,6-dihydroxy Phthalic acid, (2,4-dihydroxyphenyl)
Acetic acid, (2,6-dihydroxyphenyl) acetic acid, (3,
4,5-trihydroxyphenyl) acetic acid, p-hydroxymethylbenzoic acid, p-hydroxyethylbenzoic acid, 4
-(P-hydroxyphenyl) methylbenzoic acid, 4-
(O-Hydroxybenzoyl) benzoic acid, 4- (2,4
-Dihydroxybenzoyl) benzoic acid, 4- (p-hydroxyphenoxy) benzoic acid, 4- (p-hydroxyanilino) benzoic acid, bis (3-carboxy-4-hydroxyphenyl) amine, 4- (p-hydroxyphenyl) Examples thereof include sulfonyl) benzoic acid and 4- (p-hydroxyphenylthio) benzoic acid. Of these, particularly preferable are salicylic acid, p-hydroxybenzoic acid, p-methoxybenzoic acid, and metachlorobenzoic acid.

【0024】上記共縮合ジアゾ樹脂の構成単位とする芳
香族ジアゾニウム化合物には、例えば特公昭49−48
001号に挙げられるようなジアゾニウム塩を用いるこ
とができるが、特に、ジフェニルアミン−4−ジアゾニ
ウム塩類が好ましい。ジフェニルアミン−4−ジアゾニ
ウム塩類は、4−アミノ−ジフェニルアミン類から誘導
されるが、このような4−アミノ−ジフェニルアミン類
としては、4−アミノ−ジフェニルアミン、4−アミノ
−3−メトキシ−ジフェニルアミン、4−アミノ−2−
メトキシ−ジフェニルアミン、4’−アミノ−2−メト
キシ−ジフェニルアミン、4’−アミノ−4−メトキシ
ジフェニルアミン、4−アミノ−3−メチルジフェニル
アミン、4−アミノ−3−エトキシ−ジフェニルアミ
ン、4−アミノ−3−β−ヒドロキシ−エトキシジフェ
ニルアミン、4−アミノ−ジフェニルアミン−2−スル
ホン酸、4−アミノ−ジフェニルアミン−2−カルボン
酸、4−アミノ−ジフェニルアミン−2’−カルボン酸
等を挙げることができる。特に好ましくは3−メトキシ
−4−アミノ−ジフェニルアミン、4−アミノ−ジフェ
ニルアミンである。
The aromatic diazonium compound used as the constitutional unit of the co-condensed diazo resin is, for example, Japanese Patent Publication No. 49-48.
Although diazonium salts such as those listed in No. 001 can be used, diphenylamine-4-diazonium salts are particularly preferable. The diphenylamine-4-diazonium salts are derived from 4-amino-diphenylamines, and such 4-amino-diphenylamines include 4-amino-diphenylamine, 4-amino-3-methoxy-diphenylamine, 4-amino-diphenylamine and 4-amino-3-methoxy-diphenylamine. Amino-2-
Methoxy-diphenylamine, 4'-amino-2-methoxy-diphenylamine, 4'-amino-4-methoxydiphenylamine, 4-amino-3-methyldiphenylamine, 4-amino-3-ethoxy-diphenylamine, 4-amino-3- Examples thereof include β-hydroxy-ethoxydiphenylamine, 4-amino-diphenylamine-2-sulfonic acid, 4-amino-diphenylamine-2-carboxylic acid and 4-amino-diphenylamine-2′-carboxylic acid. Particularly preferred are 3-methoxy-4-amino-diphenylamine and 4-amino-diphenylamine.

【0025】本発明に用いることができる共重合ジアゾ
樹脂としては、下記一般式(5)で表されるものが好ま
しい。
As the copolymerized diazo resin which can be used in the present invention, those represented by the following general formula (5) are preferable.

【化3】 [Chemical 3]

【0026】一般式(5)中、Aはカルボキシル基また
は水酸基のいずれか少なくとも一方を有する芳香族化合
物から導かれる基であり、このような芳香族化合物とし
ては、前記例示したものを挙げることができる。
In the general formula (5), A is a group derived from an aromatic compound having at least one of a carboxyl group and a hydroxyl group, and examples of such an aromatic compound include those exemplified above. it can.

【0027】式中、R11、R12及びR13は水素原子、ア
ルキル基またはフェニル基を示し、Rは水素原子、アル
キル基またはフェニル基を示し、Xは対アニオンを示
す。nは好ましくは1〜200の数を示す。
In the formula, R 11 , R 12 and R 13 represent a hydrogen atom, an alkyl group or a phenyl group, R represents a hydrogen atom, an alkyl group or a phenyl group, and X represents a counter anion. n preferably represents a number of 1 to 200.

【0028】本発明において共縮合ジアゾ樹脂を用いる
場合には、芳香族ジアゾニウム化合物を縮合させてなる
縮合ジアゾ樹脂と併用すると更に好ましい。
When a co-condensed diazo resin is used in the present invention, it is more preferably used in combination with a condensed diazo resin obtained by condensing an aromatic diazonium compound.

【0029】この場合においては、共縮合ジアゾ樹脂
は、ジアゾ樹脂中に5重量%以上、縮合ジアゾ樹脂は、
ジアゾ樹脂中に95重量%以下の量として併用されるこ
とが好ましい。更にこの場合、共縮合ジアゾ樹脂:縮合
ジアゾ樹脂の重量%比は、感度及び現像性を共に優れた
ものとするという点で特に望ましいのは、30〜70:
70〜30である。
In this case, the co-condensed diazo resin is 5% by weight or more in the diazo resin, and the condensed diazo resin is
It is preferably used in an amount of 95% by weight or less in the diazo resin. Further, in this case, the weight ratio of co-condensed diazo resin: condensed diazo resin is particularly preferably from 30 to 70: from the viewpoint of excellent sensitivity and developability.
70 to 30.

【0030】上記の共縮合ジアゾ樹脂や、これと併用し
て、またはジアゾ樹脂として独立して使用される縮合ジ
アゾ樹脂は、公知の方法、例えば、フォトグラフィック
・サイエンス・アンド・エンジニアリング(Phot
o.Sci.Eng.)第17巻、第33頁(197
3)、米国特許第2,063,631号、同第2,67
9,498号各明細書に記載の方法に従い、硫酸やリン
酸あるいは塩酸中でジアゾニウム塩、カルボキシ及びヒ
ドロキシル基を有する芳香族化合物及びアルデヒド類、
例えばパラホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベン
ズアルデヒドあるいはケトン類、例えばアセトン、アセ
トフェノンとを重縮合させることによって得られる。
The above-mentioned co-condensed diazo resin and the condensed diazo resin used in combination therewith or independently as the diazo resin are known in the art, for example, Photographic Science and Engineering (Phot).
o. Sci. Eng. ) Volume 17, page 33 (197)
3), U.S. Pat. Nos. 2,063,631 and 2,67
According to the method described in each specification of 9,498, aromatic compounds and aldehydes having a diazonium salt, carboxy and hydroxyl groups in sulfuric acid, phosphoric acid or hydrochloric acid,
For example, it can be obtained by polycondensation with paraformaldehyde, acetaldehyde, benzaldehyde or ketones such as acetone and acetophenone.

【0031】また、これら分子中にカルボキシル基及び
/またはヒドロキシル基を有する芳香族化合物、芳香族
ジアゾ化合物及びアルデヒド類またはケトン類は相互に
組み合わせ自由であり、更に各々2種以上を混ぜて共縮
合することも可能である。
The aromatic compounds, aromatic diazo compounds and aldehydes or ketones having a carboxyl group and / or a hydroxyl group in these molecules can be freely combined with each other, and two or more kinds of them can be mixed and co-condensed. It is also possible to do so.

【0032】カルボキシル基及びヒドロキシル基のうち
少なくとも一方を有する芳香族化合物と芳香族ジアゾニ
ウム化合物の仕込みモル比は、好ましくは1:0.1〜
0.1:1、より好ましくは1:0.5〜0.2:1、
更に好ましくは1:1〜0.2:1である。またこの場
合カルボキシル基及びヒドロキシル基のうち少なくとも
一方を有する芳香族化合物及び芳香族ジアゾニウム化合
物の合計とアルデヒド類またはケトン類とをモル比で通
常好ましくは1:0.6〜1.2、より好ましくは1:
0.7〜1.5で仕込み、低温で短時間、例えば3時間
程度反応させることにより、共縮合ジアゾ樹脂が得られ
る。
The charged molar ratio of the aromatic compound having at least one of a carboxyl group and a hydroxyl group to the aromatic diazonium compound is preferably 1: 0.1.
0.1: 1, more preferably 1: 0.5 to 0.2: 1,
More preferably, it is 1: 1 to 0.2: 1. Further, in this case, the total of the aromatic compound and the aromatic diazonium compound having at least one of a carboxyl group and a hydroxyl group and the aldehyde or the ketone are usually preferably in a molar ratio of 1: 0.6 to 1.2, and more preferably Is 1:
A co-condensed diazo resin is obtained by charging at 0.7 to 1.5 and reacting at low temperature for a short time, for example, for about 3 hours.

【0033】上記ジアゾ樹脂の対アニオンは、該ジアゾ
樹脂と安定に塩を形成し、かつ該樹脂を有機溶媒に可溶
となすアニオンを含む。このようなアニオンを形成する
ものとしては、デカン酸及び安息香酸及び安息香酸等の
有機カルボン酸、フェニルリン酸等の有機リン酸及びス
ルホン酸を含み、典型的な例としては、メタンスルホン
酸、クロロエタンスルホン酸、ドデカンスルホン酸、ベ
ンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、メシチレンス
ルホン酸、及びアントラキノンスルホン酸、2−ヒドロ
キシ−4−メトキシベンゾフェノン−5−スルホン酸、
ヒドロキシスルホン酸、4−アセチルベンゼンスルホン
酸、ジメチル−5−スルホイソフタレート等の脂肪族並
びに芳香族スルホン酸、2,2’,4,4’−テトラヒ
ドロキシベンゾフェノン、1,2,3−トリヒドロキシ
ベンゾフェノン、2,2’,4−トリヒドロキシベンゾ
フェノン等の水酸基含有芳香族化合物、ヘキサフルオロ
リン酸、テトラフルオロホウ酸等のハロゲン化ルイス
酸、ClO4 、IO4 等の過ハロゲン酸等を挙げること
ができる。但しこれに限られるものではない。これらの
中で、特に好ましいのは、ヘキサフルオロリン酸、2−
ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−5−スルホ
ン酸である。
The counter anion of the diazo resin includes an anion which forms a salt with the diazo resin in a stable manner and makes the resin soluble in an organic solvent. Examples of such anions include organic carboxylic acids such as decanoic acid and benzoic acid and benzoic acid, organic phosphoric acids such as phenylphosphoric acid and sulfonic acid, and typical examples include methanesulfonic acid, Chloroethanesulfonic acid, dodecanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, toluenesulfonic acid, mesitylenesulfonic acid, and anthraquinonesulfonic acid, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone-5-sulfonic acid,
Aliphatic and aromatic sulfonic acids such as hydroxysulfonic acid, 4-acetylbenzenesulfonic acid, dimethyl-5-sulfoisophthalate, 2,2 ', 4,4'-tetrahydroxybenzophenone, 1,2,3-trihydroxy benzophenone, 2,2 ', 4-hydroxyl group-containing aromatic compound of trihydroxy benzophenone, hexafluorophosphate, halide Lewis acids such as tetrafluoroboric acid, the like ClO 4, perhalogenic acid IO 4 such like You can However, it is not limited to this. Among these, particularly preferable are hexafluorophosphoric acid and 2-
Hydroxy-4-methoxybenzophenone-5-sulfonic acid.

【0034】上記の共縮合ジアゾ樹脂は、各単量体のモ
ル比及び縮合条件を種々変えることにより、その分子量
は任意の値として得ることができる。本発明において一
般に、好ましくは、分子量が約400乃至10,000
のものが有効に使用でき、より好ましくは、約800乃
至5,000のものが適当である。
The molecular weight of the above co-condensed diazo resin can be obtained as an arbitrary value by variously changing the molar ratio of each monomer and the condensation conditions. In the present invention, it is generally preferred that the molecular weight is about 400 to 10,000.
Those of about 800 to 5,000 are suitable, and those of about 800 to 5,000 are more suitable.

【0035】また、本発明において、上記した共縮合ジ
アゾ樹脂以外で、ジアゾ樹脂として好ましく使用できる
ものに、例えば、前掲のフォトグラフィック・サイエン
ス・アンド・エンジニアリング(Photo.Sci.
Eng.)第17巻、第33頁(1973)や、米国特
許第2,063,631号、同2,679,498号、
同3,050,502号各明細書、特開昭59−783
40号公報等にその製造方法が記載されているジアゾ化
合物と活性カルボニル化合物、例えばホルムアルデヒ
ド、アセトアルデヒドあるいはベンズアルデヒド等を硫
酸、リン酸、塩酸等の酸性媒体中で縮合させて得られた
ジアゾ樹脂、特公昭49−4001号公報に、その製造
方法が記載されているジアゾ化合物とジフェニル樹脂等
を挙げることができる。
In the present invention, in addition to the above-mentioned co-condensed diazo resin, those which can be preferably used as the diazo resin include, for example, the above-mentioned Photographic Science and Engineering (Photo.Sci.
Eng. ) Volume 17, page 33 (1973) and U.S. Pat. Nos. 2,063,631 and 2,679,498,
No. 3,050,502, JP-A-59-783
No. 40, etc., the production method is described, and a diazo resin obtained by condensing an active carbonyl compound such as formaldehyde, acetaldehyde or benzaldehyde in an acidic medium such as sulfuric acid, phosphoric acid, hydrochloric acid, etc. Examples of the diazo compound and diphenyl resin whose production method is described in JP-A-49-4001 can be cited.

【0036】上記の中で、本発明に好ましく用いること
ができるジアゾ樹脂は、下記一般式(6)で示され、し
かも、各式におけるnが5以上である樹脂を20モル%
以上、更に好ましくは、20〜60モル%含むものであ
る。式中、R11〜R13,R,X,nは、前記一般式
(5)におけるものと同義である。一般式(6)におい
て、R11,R12及びR13のアルキル基及びアルコキシ基
としては、例えば炭素数1〜5のアルキル基及び炭素数
1〜5のアルコキシ基が挙げられ、また、Rのアルキル
基としては、炭素数1〜5のアルキル基が挙げられる。
Among the above, the diazo resin which can be preferably used in the present invention is represented by the following general formula (6), and 20 mol% of the resin in which n in each formula is 5 or more is used.
Above, more preferably, it contains 20 to 60 mol%. In the formula, R 11 to R 13 , R, X, and n have the same meanings as in the general formula (5). In the general formula (6), examples of the alkyl group and the alkoxy group of R 11 , R 12 and R 13 include an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms and an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms. Examples of the alkyl group include alkyl groups having 1 to 5 carbon atoms.

【化4】 [Chemical 4]

【0037】かかる感光性ジアゾ樹脂は、公知の方法、
例えば前記した、フォトグラフィック・サイエンス・ア
ンド・エンジニアリングその他上記で引用の各米国特許
明細書等に記載の方法に従って、製造することができ
る。
The photosensitive diazo resin can be prepared by a known method,
For example, it can be manufactured according to the methods described in the above-mentioned US Pat.

【0038】なおその際、ジアゾニウム塩とアルデヒド
類を重縮合させるに当たって、両者をモル比で通常1:
0.6〜1:2、好ましくは、1:0.7〜1:1.5
で仕込み、低温で短時間、例えば10℃以下3時間程度
反応させることにより高感度ジアゾ樹脂が得られる。
At this time, in the polycondensation of the diazonium salt and the aldehyde, both are usually in a molar ratio of 1:
0.6-1: 2, preferably 1: 0.7-1: 1.5
Then, the high-sensitivity diazo resin is obtained by reacting at low temperature for a short time, for example, at 10 ° C. or less for about 3 hours.

【0039】一般式(6)で示されるジアゾ樹脂の対ア
ニオンとしては、前記共縮合ジアゾ樹脂について対アニ
オンとして挙げたものと同様なものを挙げることができ
る。
As the counter anion of the diazo resin represented by the general formula (6), the same counter anions as those mentioned for the co-condensed diazo resin can be mentioned.

【0040】次に、本発明の感光性平版印刷版は、感脂
化剤として機能する前記した一般式(1)〜(4)で表
される高分子化合物のいずれか少なくとも1種と、上記
ジアゾ樹脂とともに、感光性層中にバインダーとしての
高分子化合物を含有させることが好ましい。
Next, the photosensitive lithographic printing plate of the present invention contains at least one of the above-mentioned polymer compounds represented by the general formulas (1) to (4), which functions as an oil sensitizer, and the above-mentioned. It is preferable to include a polymer compound as a binder in the photosensitive layer together with the diazo resin.

【0041】本明細書において、以下説明するバインダ
ーとしての高分子化合物を含め、各種高分子化合物の分
子量を特定するには、ポリスチレン標準によるGPCに
より測定した分子量の値を用いることができる。即ち、
重量平均分子量の測定は、GPC(ゲルパーミエーショ
ンクロマトグラフィー法)によって行うことができ、数
平均分子量Mn及び重量平均分子量MWの算出は柘植盛
男、宮林達也、田中誠之著“日本化学会誌”800頁〜
805頁(1972年)に記載の方法により、オリゴマ
ー領域のピークを均す(ピークの山と谷の中心線を結
ぶ)方法にて行うことができる。
In the present specification, in order to specify the molecular weights of various polymer compounds including the polymer compound as a binder described below, the value of the molecular weight measured by GPC according to polystyrene standard can be used. That is,
The weight average molecular weight can be measured by GPC (gel permeation chromatography method), and the number average molecular weight Mn and the weight average molecular weight MW can be calculated by Morio Tsuge, Tatsuya Miyabayashi, and Masayuki Tanaka, "Chemical Society of Japan", p. 800. ~
According to the method described on page 805 (1972), it can be carried out by a method of leveling the peaks in the oligomer region (connecting the peak and valley center lines).

【0042】本発明において用いることができるバイン
ダーとしての高分子化合物は、その種類は任意である
が、例えば次のようなものを使用できる。即ち、用いる
ことができる高分子化合物としては、ポリアミド、ポリ
エーテル、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリスチ
レン、ポリウレタン、ポリビニルクロライド及びそのコ
ポリマー、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホル
マール樹脂、シエラック、エポキシ樹脂、フェノール樹
脂、アクリル樹脂等が挙げられる。
The polymer compound as a binder that can be used in the present invention may be of any type, and the following compounds can be used, for example. That is, as the polymer compound that can be used, polyamide, polyether, polyester, polycarbonate, polystyrene, polyurethane, polyvinyl chloride and copolymers thereof, polyvinyl butyral resin, polyvinyl formal resin, shellac, epoxy resin, phenol resin, acrylic resin, etc. Is mentioned.

【0043】好ましくは、下記(1)〜(12)に示す
モノマーの共重合体が挙げられる。
Preferred are copolymers of the monomers shown in the following (1) to (12).

【0044】(1)芳香族水酸基を有するモノマー、例
えばN−(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアミドま
たはN−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミ
ド、o−,m−,p−ヒドロキシスチレン、o−,m
−,p−ヒドロキシフェニル−アクリレートまたは−メ
タクリレート。
(1) A monomer having an aromatic hydroxyl group, for example, N- (4-hydroxyphenyl) acrylamide or N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide, o-, m-, p-hydroxystyrene, o-, m.
-, P-hydroxyphenyl-acrylate or -methacrylate.

【0045】(2)脂肪族水酸基を有するモノマー、例
えば2−ヒドロキシエチルアクリレートまたは2−ヒド
ロキシエチルメタクリレート。
(2) Monomers having an aliphatic hydroxyl group, such as 2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxyethyl methacrylate.

【0046】(3)アクリル酸、メタアクリル酸、無水
マレイン酸、イタコン酸、無水イタコン酸等のα,β−
不飽和カルボン酸。
(3) α, β-of acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride, itaconic acid, itaconic anhydride, etc.
Unsaturated carboxylic acid.

【0047】(4)アクリル酸メチル、アクリル酸エチ
ル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル
酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、
アクリル酸−2−クロロエチル、2−ヒドロキシエチル
アクリレート、グリシジルアクリレート、N−ジメチル
アミノエチルアクリレート等の(置換)アルキルアクリ
レート。
(4) Methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, octyl acrylate,
(Substituted) alkyl acrylates such as 2-chloroethyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, glycidyl acrylate, N-dimethylaminoethyl acrylate.

【0048】(5)メチルメタクリレート、エチルメタ
クリレート、プロピルメタクリレート、ブチルメタクリ
レート、アミルメタクリレート、シクロヘキシルメタク
リレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、4−
ヒドロキシブチルメタクリレート、グリシジルメタクリ
レート、N−ジメチルアミノエチルメタクリレート等の
(置換)アルキルメタクリレート。
(5) Methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 4-
(Substituted) alkyl methacrylates such as hydroxybutyl methacrylate, glycidyl methacrylate and N-dimethylaminoethyl methacrylate.

【0049】(6)アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、N−メチロールアクリルアミド、N−メチロールメ
タクリアミド、N−エチルアクリルアミド、N−ヘキシ
ルアクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミ
ド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニ
ルアクリルアミド、N−ニトロフェニルアミド、N−エ
チル−N−フェニルアクリルアミド等のアクリルアミド
もしくはメタクリルアミド類。
(6) Acrylamide, methacrylamide, N-methylolacrylamide, N-methylolmethacrylamide, N-ethylacrylamide, N-hexylacrylamide, N-cyclohexylacrylamide, N-hydroxyethylacrylamide, N-phenylacrylamide, N- Acrylamide or methacrylamide such as nitrophenylamide and N-ethyl-N-phenylacrylamide.

【0050】(7)エチルビニルエーテル、2−クロロ
エチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテ
ル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、
オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等の
ビニルエーテル類。
(7) Ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether,
Vinyl ethers such as octyl vinyl ether and phenyl vinyl ether.

【0051】(8)ビニルアセテート、ビニルクロロア
セテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニ
ルエステル類。
(8) Vinyl acetates such as vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate and vinyl benzoate.

【0052】(9)スチレン、α−メチルスチレン、メ
チルスチレン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。
(9) Styrenes such as styrene, α-methylstyrene, methylstyrene and chloromethylstyrene.

【0053】(10)メチルビニルケトン、エチルビニ
ルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケト
ン等のビニルケトン類。
(10) Vinyl ketones such as methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone and phenyl vinyl ketone.

【0054】(11)エチレン、プロピレン、イソブチ
レン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン類。
(11) Olefins such as ethylene, propylene, isobutylene, butadiene and isoprene.

【0055】(12)N−ビニルピロリドン、N−ビニ
ルカルバゾール、4−ビニルピリジン、アクリロニトリ
ル、メタクリロニトル等。
(12) N-vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole, 4-vinylpyridine, acrylonitrile, methacrylonitr and the like.

【0056】更に、上記モノマーと共重合し得るモノマ
ーを共重合させてもよい。また、上記モノマーの共重合
によって得られる共重合対を、例えば、グリシジルメタ
クリレート、グリシジルアクリレート等によって修飾し
たものも含まれるが、これらに限られるものではない。
Further, a monomer copolymerizable with the above-mentioned monomer may be copolymerized. In addition, a copolymer pair obtained by copolymerizing the above-mentioned monomers is also modified, for example, with glycidyl methacrylate, glycidyl acrylate, etc., but is not limited thereto.

【0057】更に具体的には、上記(1)、(2)に掲
げたモノマー等を含有する、水酸基を有する共重合体が
好ましく、芳香族性水酸基を有する共重合体が更に好ま
しい。
More specifically, a hydroxyl group-containing copolymer containing the monomers listed in (1) and (2) above is preferable, and an aromatic hydroxyl group-containing copolymer is more preferable.

【0058】また上記共重合体には必要に応じて、ポリ
ビニルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド
樹脂、エポキシ樹脂、ノボラック樹脂、天然樹脂等を添
加してもよい。
If necessary, polyvinyl butyral resin, polyurethane resin, polyamide resin, epoxy resin, novolac resin, natural resin or the like may be added to the above copolymer.

【0059】本発明において、バインダーとしての高分
子化合物として特に好ましいのは、次に記す共重合体で
ある。
In the present invention, the following copolymers are particularly preferable as the polymer compound as the binder.

【0060】即ち、分子構造中に、(a)カルボキシル
基を有する構造単位を2モル%以上、好ましくは3〜2
0モル%、(b)アルコール性水酸基を有する構造単位
及び/またはフェノール性水酸基を有する構造単位を1
〜50モル%、(c)下記一般式(7)
That is, the structural unit (a) having a carboxyl group in the molecular structure is 2 mol% or more, preferably 3 to 2
0 mol%, (b) 1 unit of a structural unit having an alcoholic hydroxyl group and / or a structural unit having a phenolic hydroxyl group
˜50 mol%, (c) the following general formula (7)

【化5】 [Chemical 5]

【0061】(式中、R21は水素原子またはアルキル基
を表す。)で表される構造単位を5〜40モル%、
(d)下記一般式(8)
(Wherein R 21 represents a hydrogen atom or an alkyl group), a structural unit represented by 5 to 40 mol%,
(D) The following general formula (8)

【化6】 [Chemical 6]

【0062】(式中、R22は水素原子、メチル基または
エチル基を表し、R23は、炭素原子数1〜12のアルキ
ル基またはアルキル置換アリール基を表す。)で表され
る構造単位を25〜60モル%を含有する高分子化合物
が好ましい。
(Wherein R 22 represents a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, and R 23 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or an alkyl-substituted aryl group). Polymer compounds containing 25 to 60 mol% are preferred.

【0063】上記(b)のアルコール性水酸基を有する
構造単位を形成するモノマーの具体例としては、特公昭
52−7364号に記載されたような下記一般式(9)
に示した化合物のごとく(メタ)アクリル酸エステル類
や、アクリルアミド類が挙げられる。
Specific examples of the monomer forming the structural unit having an alcoholic hydroxyl group of the above (b) include the following general formula (9) as described in JP-B-52-7364.
(Meth) acrylic acid esters and acrylamides such as the compounds shown in 1.

【化7】 [Chemical 7]

【0064】式中、R24は水素原子またはメチル基、R
25は水素原子、メチル基、エチル基またはクロロメチル
基を示し、nは1〜10の整数を示す。
In the formula, R 24 is a hydrogen atom or a methyl group, and R 24 is
25 represents a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group or a chloromethyl group, and n represents an integer of 1 to 10.

【0065】(メタ) アクリル酸エステル類の例として
は、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−
ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロ
キシペンチル(メタ)アクリレート等が、また、アクリ
ルアミド類の例としては、N−メチロール(メタ)アク
リルアミド、N−ヒドロキシエチル(メタ)アクリルア
ミド等が挙げられる。好ましくは2−ヒドロキシエチル
(メタ)アクリレートである。
Examples of (meth) acrylic acid esters include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate and 2-hydroxyethyl (meth) acrylate.
Hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxypentyl (meth) acrylate and the like, and examples of acrylamides include N-methylol (meth) acrylamide and N-hydroxyethyl (meth) acrylamide. 2-hydroxyethyl (meth) acrylate is preferable.

【0066】また、上記の(b)のフェノール性水酸基
を有する構造単位を形成するモノマーとしては、例えば
N−(4−ヒドロキシフェニル)−(メタ)アクリルア
ミド、N−(2−ヒドロキシフェニル)−(メタ)アク
リルアミド、N−(4−ヒドロキシナフチル)−(メ
タ)アクリルアミド等の(メタ)アクリルアミド類のモ
ノマー;o−,m−またはp−ヒドロキシフェニル(メ
タ)アクリレートモノマー;o−,m−またはp−ヒド
ロキシスチレンモノマー等が挙げられる。好ましくは、
o−,m−またはp−ヒドロキシフェニル (メタ) アク
リレートモノマー、N−(4−ヒドロキシフェニル) −
(メタ)アクリルアミドモノマーであり、さらに好まし
くはN−(4−ヒドロキシフェニル)−(メタ)アクリ
ルアミドモノマーである。
Examples of the monomer (b) for forming the structural unit having a phenolic hydroxyl group include N- (4-hydroxyphenyl)-(meth) acrylamide and N- (2-hydroxyphenyl)-( Monomers of (meth) acrylamides such as (meth) acrylamide, N- (4-hydroxynaphthyl)-(meth) acrylamide; o-, m- or p-hydroxyphenyl (meth) acrylate monomers; o-, m- or p -Hydroxystyrene monomer and the like. Preferably,
o-, m- or p-hydroxyphenyl (meth) acrylate monomer, N- (4-hydroxyphenyl)-
It is a (meth) acrylamide monomer, more preferably an N- (4-hydroxyphenyl)-(meth) acrylamide monomer.

【0067】上記アルコール性水酸基を有する構造単位
及び/またはフェノール性水酸基を有する構造単位は、
高分子化合物中、1〜50モル%、好ましくは、5〜3
0モル%の範囲から選ばれる。
The structural unit having an alcoholic hydroxyl group and / or the structural unit having a phenolic hydroxyl group is
In the polymer compound, 1 to 50 mol%, preferably 5 to 3
It is selected from the range of 0 mol%.

【0068】前記一般式(7)で表される構造単位を形
成する、側鎖にシアノ基を有するモノマーとしては、ア
クリロニトリル、メタクリロニトリル、2−ペンテンニ
トリル、2−メチル−3−ブテンニトリル、2−シアノ
エチルアクリレート、o−,m−,p−シアノスチレン
等が挙げられる。好ましくはアクリロニトリル、メタク
リロニトリルである。該側鎖にシアノ基を有する構造単
位の高分子化合物の分子中に含有される割合は好ましく
は5〜40モル%、より好ましくは15〜35モル%の
範囲から選ばれる。
The monomer having a cyano group in the side chain forming the structural unit represented by the general formula (7) includes acrylonitrile, methacrylonitrile, 2-pentenenitrile, 2-methyl-3-butenenitrile, 2-cyanoethyl acrylate, o-, m-, p-cyanostyrene and the like can be mentioned. Preferred are acrylonitrile and methacrylonitrile. The ratio of the structural unit having a cyano group in the side chain contained in the molecule of the polymer compound is preferably 5 to 40 mol%, more preferably 15 to 35 mol%.

【0069】前記一般式(8)で表される構造単位を形
成する、側鎖にカルボキシエステル基を有するモノマー
としては、エチルアクリレート、エチルメタアクリレー
ト、プロピルアクリレート、ブチルアクリレート、アミ
ルアクリレート、アミルメタアクリレート、ヘキシルア
クリレート、オクチルアクリレート、2−クロロエチル
アクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、グ
リシジルアクリレート等が挙げられる。該モノマーから
形成される単位は、高分子化合物中、好ましくは25〜
60モル%、より好ましくは、35〜60モル%の範囲
から選ばれる。
Examples of the monomer having a carboxy ester group in the side chain which forms the structural unit represented by the general formula (8) include ethyl acrylate, ethyl methacrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate and amyl methacrylate. , Hexyl acrylate, octyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, glycidyl acrylate and the like. The unit formed from the monomer is preferably 25 to 25 in the polymer compound.
60 mol%, more preferably 35 to 60 mol% is selected.

【0070】なお、以上の各構造単位は、具体例として
挙げたモノマーから形成された単位に限定されるもので
はない。
The above structural units are not limited to the units formed from the monomers given as specific examples.

【0071】本発明の感光性平版印刷版の感光層中に含
有される高分子化合物は、感光層を構成する感光性組成
物の固形分中に、好ましくは通常40〜99重量%、よ
り好ましくは50〜95重量%含有させる。また、本発
明に係る感光材料中に含有される感光性ジアゾ樹脂は、
同じく好ましくは通常1〜60重量%、より好ましくは
3〜30重量%含有させる。
The polymer compound contained in the photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate of the present invention is preferably 40 to 99% by weight, more preferably usually, in the solid content of the photosensitive composition constituting the photosensitive layer. Is contained in an amount of 50 to 95% by weight. Further, the photosensitive diazo resin contained in the photosensitive material according to the present invention,
Similarly, the content is usually preferably 1 to 60% by weight, more preferably 3 to 30% by weight.

【0072】本発明の感光性平版印刷版の感光層は、酸
及び/または酸無水物を含有することができる。
The photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate of the present invention can contain an acid and / or an acid anhydride.

【0073】この場合、感光層に含有される酸は任意の
有機酸、無機酸の中から任意に選択できる。有機酸とし
ては、モノカルボン酸、ポリカルボン酸のカルボキシル
基を少なくとも1個有する酸が好ましい。リンゴ酸、酒
石酸や、ポリアクリル酸(商品名ジュリマーとして市販
されているもの等)を好ましく用いることができる。無
機酸としては、リン酸などを用いることができる。
In this case, the acid contained in the photosensitive layer can be arbitrarily selected from organic acids and inorganic acids. As the organic acid, an acid having at least one carboxyl group of monocarboxylic acid or polycarboxylic acid is preferable. Malic acid, tartaric acid, and polyacrylic acid (commercially available under the trade name Jurimer) can be preferably used. Phosphoric acid or the like can be used as the inorganic acid.

【0074】酸無水物を含有する場合の、酸無水物の種
類も任意であり、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水安
息香酸など、脂肪族・芳香族モノカルボン酸から誘導さ
れるもの、無水コハク酸、無水マレイン酸、無水グルタ
ル酸、無水フタル酸など、脂肪族・芳香族ジカルボン酸
から誘導されるもの等を挙げることができる。
In the case of containing an acid anhydride, the kind of the acid anhydride is optional, and those derived from an aliphatic / aromatic monocarboxylic acid such as acetic anhydride, propionic anhydride, benzoic anhydride, and amber Examples thereof include acids, maleic anhydride, glutaric anhydride, phthalic anhydride, and the like derived from aliphatic / aromatic dicarboxylic acids.

【0075】本発明の感光性平版印刷版の感光層を形成
するための感光材料組成物には、色素、特に処理により
有色から無色になる、または変色する色素を含有させる
ことができる。好ましくは、有色から無色になる色素を
含有させる。
The light-sensitive material composition for forming the light-sensitive layer of the light-sensitive lithographic printing plate of the present invention may contain a dye, particularly a dye that changes from colored to colorless or discolors upon treatment. Preferably, a dye that changes from colored to colorless is included.

【0076】本発明の実施に際し、好ましく用いること
ができる色素として、次のものを挙げることができる。
The following are examples of dyes that can be preferably used in the practice of the present invention.

【0077】即ち、例えば、ビクトリアピュアブルーB
OH(保土谷化学社製)、オイルブルー#603(オリ
エント化学工業社製)、パテントピュアブルー(住友三
国化学社製)、クリスタルバイオレット、ブリリアント
グリーン、エチルバイオレット、メチルバイオレット、
メチルグリーン、エリスロシンB、ベイシックフクシ
ン、マラカイトグリーン、オイルレッド、m−クレゾー
ルパープル、ローダミンB、オーラミン、4−p−ジメ
チルアミノフェニルイミノナフトキン、シアノ−p−ジ
エチルアミノフェニルアセトアニリド等に代表されるト
リフェニルメタン系、ジフェニルメタン系、オキサジン
系、キサンテン系、イミノナフトキノン系、アゾメチン
系またはアントラキノン系の色素が、有色から無色ある
いは異なる有色へと変色する色素の例として挙げること
ができる。
That is, for example, Victoria Pure Blue B
OH (Hodogaya Chemical Co., Ltd.), Oil Blue # 603 (Orient Chemical Co., Ltd.), Patent Pure Blue (Sumitomo Mikuni Chemical Co., Ltd.), Crystal Violet, Brilliant Green, Ethyl Violet, Methyl Violet,
Triphenyl typified by methyl green, erythrosine B, basic fuchsin, malachite green, oil red, m-cresol purple, rhodamine B, auramine, 4-p-dimethylaminophenyliminonaphthoquine, cyano-p-diethylaminophenylacetanilide and the like. Methane-based, diphenylmethane-based, oxazine-based, xanthene-based, iminonaphthoquinone-based, azomethine-based or anthraquinone-based dyes can be mentioned as examples of dyes that change color from colorless to a different color.

【0078】特に好ましくはトリフェニルメタン系、ジ
フェニルメタン系色素が有効に用いられ、更に好ましく
はトリフェニルメタン系色素であり、特にビクトリアピ
ューアブルーBOHが好ましい。
Particularly preferred are triphenylmethane-based and diphenylmethane-based dyes, more preferred are triphenylmethane-based dyes, and Victoria Pure Blue BOH is particularly preferred.

【0079】上記変色剤は、感光層中に通常約0.5〜
約10重量%含有させることが好ましく、より好ましく
は約1〜5重量%含有させる。
The above color-changing agent is usually contained in the photosensitive layer in an amount of about 0.5-.
The content is preferably about 10% by weight, more preferably about 1 to 5% by weight.

【0080】本発明の感光性平版印刷版の感光層を形成
する感光性組成物には、更に種々の添加物を加えること
ができる。
Various additives can be further added to the photosensitive composition forming the photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate of the present invention.

【0081】添加物としては、塗布性を改良するための
アルキルエーテル類(例えばエチルセルロース、メチル
セルロース)、フッ素界面活性剤類や、ノニオン系界面
活性剤〔例えば、ブルロニックL−64(旭電化株式会
社製)〕、塗膜の柔軟性、耐摩耗性を付与するための可
塑剤(例えばブチルフタリル、ポリエチレングリコー
ル、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸
ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、
リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオ
クチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル
酸またはメタクリル酸のオリゴマー及びポリマー)、安
定剤〔例えば、リン酸、亜リン酸、有機酸(クエン酸、
シュウ酸、ベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン
酸、4−メトキシ−2−ヒドロキシベンゾフェノン−5
−スルホン酸、酒石酸等)〕等が挙げられる。これらの
添加剤の添加量は、その使用対象・目的によって異なる
が、一般に好ましくは全固形分に対して、0.01〜3
0重量%である。
Examples of the additives include alkyl ethers (eg, ethyl cellulose and methyl cellulose) for improving coating properties, fluorosurfactants, and nonionic surfactants [eg, Bourronic L-64 (manufactured by Asahi Denka Co., Ltd. )], A plasticizer for imparting flexibility and abrasion resistance to the coating film (for example, butylphthalyl, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate,
Tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, oligomers and polymers of acrylic acid or methacrylic acid), stabilizers [eg phosphoric acid, phosphorous acid, organic acids (citric acid,
Oxalic acid, benzenesulfonic acid, naphthalenesulfonic acid, 4-methoxy-2-hydroxybenzophenone-5
-Sulfonic acid, tartaric acid, etc.)] and the like. The amount of these additives added varies depending on the intended use and purpose, but is generally preferably 0.01 to 3 relative to the total solid content.
It is 0% by weight.

【0082】このような感光層を支持体上に設置するに
は、上述のジアゾ樹脂、並びに必要に応じ種々の添加剤
の所定量を適当な溶媒(メチルセロソルブ、エチルセロ
ソルブ、メチルセロソルブアセテート、アセトン、メチ
ルエチルケトン、メタノール、ジメチルホルムアミド、
ジメチルスルホキシド、水またはこれらの混合物等)中
に溶解させ感光性組成物の塗布液を調製し、これを支持
体上に塗布、乾燥すればよい。塗布する際の感光性組成
物の濃度は1〜50重量%の範囲とすることが望まし
い。この場合、感光性組成物の塗布量は、好ましくはお
おむね0.2〜10g/m2 程度とすればよい。
To install such a photosensitive layer on a support, the above-mentioned diazo resin and, if necessary, various amounts of various additives are added in a suitable solvent (methyl cellosolve, ethyl cellosolve, methyl cellosolve acetate, acetone). , Methyl ethyl ketone, methanol, dimethylformamide,
The coating solution of the photosensitive composition may be prepared by dissolving it in dimethyl sulfoxide, water or a mixture thereof, etc., and the solution may be coated on a support and dried. The concentration of the photosensitive composition at the time of coating is preferably in the range of 1 to 50% by weight. In this case, the coating amount of the photosensitive composition is preferably about 0.2 to 10 g / m 2 .

【0083】本発明の感光性平版印刷版において、感光
性組成物を塗布して感光層を形成する支持体としては、
種々のものが使用できる。感光性平版印刷版に使用する
場合は、特にアルミニウム板が好ましい。しかし、アル
ミニウム板を無処理のまま使用すると、感光性組成物の
接着性が悪く、また、感光性組成物が分解するという問
題がある。この問題をなくすために、従来、種々の提案
がなされている。
In the photosensitive lithographic printing plate of the present invention, the support for coating the photosensitive composition to form a photosensitive layer is
Various ones can be used. When used in a photosensitive lithographic printing plate, an aluminum plate is particularly preferable. However, when the aluminum plate is used without treatment, there are problems that the adhesiveness of the photosensitive composition is poor and the photosensitive composition is decomposed. In order to eliminate this problem, various proposals have hitherto been made.

【0084】例えば、アルミニウム板の表面を砂目立て
した後、ケイ酸塩で処理する方法(米国特許第2,71
4,066号)、有機酸塩で処理する方法(米国特許第
2,714,066号) 、ホスホン酸及びそれらの誘導
体で処理する方法(米国特許第3,220,832号)
、ヘキサフルオロジルコン酸カリウムで処理する方法
(米国特許第2,946,683号) 、陽極酸化する方
法及び陽極酸化後、アリカリ金属ケイ酸塩の水溶液で処
理する方法(米国特許第3,181,461号)等があ
る。
For example, a method in which the surface of an aluminum plate is grained and then treated with silicate (US Pat. No. 2,71,71)
4,066), a method of treating with an organic acid salt (US Pat. No. 2,714,066), a method of treating with phosphonic acid and derivatives thereof (US Pat. No. 3,220,832).
Of treating with potassium hexafluorozirconate
(U.S. Pat. No. 2,946,683), a method of anodizing, a method of treating with an aqueous solution of alkaline metal silicate after anodizing (US Pat. No. 3,181,461), and the like.

【0085】本発明の好ましい実施の態様においては、
アルミニウム板(アルミナ積層板を含む。以下同じ)
は、表面を脱脂した後、ブラシ研磨法、ボール研磨法、
化学研磨法、電解エッチング法等による砂目立てが施さ
れ、好ましくは、深くて均質な砂目の得られる電解エッ
チング法で砂目立てされる。陽極酸化処理は例えばリン
酸、クロム酸、ホウ酸、硫酸等の無機塩もしくはシュウ
酸等の有機酸の単独、あるいはこれらの酸2種以上を混
合した水溶液中で、好ましくは硫酸水溶液中で、アルミ
ニウム板を陽極として電流を通じることによって行われ
る。陽極酸化被膜量は5〜600mg/dm2 が好まし
く、更に好ましくは5〜30mg/dm2 である。
In a preferred embodiment of the invention,
Aluminum plate (including alumina laminate, the same applies below)
After degreasing the surface, brush polishing method, ball polishing method,
Graining is performed by a chemical polishing method, an electrolytic etching method, or the like, and preferably, an electrolytic etching method that can obtain a deep and uniform grain is performed. The anodizing treatment is carried out by using, for example, an inorganic salt such as phosphoric acid, chromic acid, boric acid, sulfuric acid or the like, or an organic acid such as oxalic acid alone, or an aqueous solution in which two or more kinds of these acids are mixed, preferably an aqueous sulfuric acid solution It is performed by passing an electric current through an aluminum plate as an anode. Anodic oxide coating weight is preferably 5~600mg / dm 2, more preferably from 5 to 30 mg / dm 2.

【0086】本発明の実施に際し、封孔処理を行う場
合、好ましくは濃度0.1〜3%のケイ酸ナトリウム水
溶液に、温度80〜95℃で10秒〜2分間浸漬してこ
の処理を行う。より好ましくはその後に40〜95℃の
水に10秒〜2分間浸漬して処理する。
When carrying out the pore-sealing treatment in the practice of the present invention, the treatment is preferably carried out by immersing in a sodium silicate aqueous solution having a concentration of 0.1 to 3% at a temperature of 80 to 95 ° C. for 10 seconds to 2 minutes. .. More preferably, it is then immersed in water at 40 to 95 ° C. for 10 seconds to 2 minutes for treatment.

【0087】本発明の感光性平版印刷版を現像処理する
現像液は、これを現像し得るものであれば、任意であ
る。
The developing solution for developing the photosensitive lithographic printing plate of the present invention is optional as long as it can develop the developing solution.

【0088】好ましくは、特定の有機溶媒と、アルカリ
剤と、水とを必要成分として含有する現像液を用いるこ
とができる。ここに特定の有機溶媒とは、現像液中に含
有させたとき、本発明の感光性組成物から成る層の非露
光部(非画像部)を溶解ないしは膨潤することができる
ものをいい、しかも常温(20℃)において水に対する
溶解度が10重量%以下の有機溶媒が好ましい。
Preferably, a developer containing a specific organic solvent, an alkaline agent and water as necessary components can be used. Here, the specific organic solvent means a solvent capable of dissolving or swelling the non-exposed area (non-image area) of the layer comprising the photosensitive composition of the present invention, when contained in the developer, and An organic solvent having a solubility in water of 10% by weight or less at room temperature (20 ° C) is preferable.

【0089】このような有機溶媒としては上記のような
特性を有するものでありさえすればよく、以下のものの
みに限定されるものではないが、これらを例示するなら
ば、例えば、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、
酢酸アミル、酢酸ベンジル、エチレングリコールモノブ
チルアセテート、乳酸ブチル、レブリン酸ブチルのよう
なカルボン酸エステル;エチルブチルケトン、メチルイ
ソブチルケトン、シクロヘキサノンのようなケトン類;
エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリ
コールベンジルエーテル、エチレングリコールモノフェ
ニルエーテル、ベンジルアルコール、メチルフェニルカ
ルビノール、n−アミルアルコール、メチルアミルアル
コールのようなアルコール類;キシレンのようなアルキ
ル置換芳香族炭化水素;メチレンジクロライド、エチレ
ンジクロライド、モノクロロベンゼンのようなハロゲン
化炭化水素などがある。これら有機溶媒は一種以上用い
てもよい。これら有機溶媒の中では、エチレングリコー
ルモノフェニルエーテルとベンジルアルコールが特に有
効である。また、これら有機溶媒の現像液中における含
有量は、好ましくはおおむね1〜20重量%であり、特
に2〜10重量%のときより好ましい結果を得る。
As such an organic solvent, any organic solvent may be used as long as it has the above-mentioned characteristics, and the organic solvent is not limited to the following. For example, ethyl acetate, Propyl acetate, butyl acetate,
Carboxylic acid esters such as amyl acetate, benzyl acetate, ethylene glycol monobutyl acetate, butyl lactate, butyl levulinate; ketones such as ethyl butyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone;
Alcohols such as ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol benzyl ether, ethylene glycol monophenyl ether, benzyl alcohol, methylphenyl carbinol, n-amyl alcohol, methyl amyl alcohol; alkyl-substituted aromatic hydrocarbons such as xylene; methylene There are halogenated hydrocarbons such as dichloride, ethylene dichloride and monochlorobenzene. One or more of these organic solvents may be used. Among these organic solvents, ethylene glycol monophenyl ether and benzyl alcohol are particularly effective. Further, the content of these organic solvents in the developer is preferably about 1 to 20% by weight, and particularly preferable results are obtained when the content is 2 to 10% by weight.

【0090】他方、現像液中に含有される好ましいアル
カリ剤としては、(A)ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリ
ウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化リチ
ウム、第二または第三リン酸のナトリウム、炭酸ナトリ
ウム、アンモニウム等の無機アルカリ剤、(B)モノ、
ジまたはトリメチルアミン、モノ,ジまたはトリエチル
アミン、モノまたはジイソプロピルアミン、n−ブチル
アミン、モノ、ジまたはトリエタノールアミン、モノ、
ジまたはトリイソプロパノールアミン、エチレンイミ
ン、エチレンジアミン等の有機アミン化合物等が挙げら
れる。
On the other hand, preferred alkaline agents contained in the developing solution include (A) sodium silicate, potassium silicate, potassium hydroxide, sodium hydroxide, lithium hydroxide, and sodium di- or triphosphate. , Inorganic alkali agents such as sodium carbonate and ammonium, (B) mono,
Di or trimethylamine, mono, di or triethylamine, mono or diisopropylamine, n-butylamine, mono, di or triethanolamine, mono,
Examples thereof include organic amine compounds such as di- or triisopropanolamine, ethyleneimine and ethylenediamine.

【0091】これらアルカリ剤の現像液中における含有
量は通常0.05〜4重量%であることが好ましく、よ
り好ましくは0.5〜2重量%である。
The content of these alkaline agents in the developing solution is usually preferably 0.05 to 4% by weight, more preferably 0.5 to 2% by weight.

【0092】また、保存安定性、耐刷性等をより以上に
高めるためには、水活性亜硫酸塩を現像液中に含有させ
ることが好ましい。このような水溶性亜硫酸塩として
は、亜硫酸のアルカリまたはアルカリ土類金属塩が好ま
しく、例えば亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫
酸リチウム、亜硫酸マグネシウム等がある。これらの亜
硫酸塩の現像液組成物における含有量は通常好ましくは
0.05〜4重量%で、より好ましくは0.1〜1重量
%である。
Further, in order to further improve the storage stability, printing durability and the like, it is preferable to include a water-active sulfite in the developer. As such a water-soluble sulfite, an alkali or alkaline earth metal salt of sulfite is preferable, and examples thereof include sodium sulfite, potassium sulfite, lithium sulfite and magnesium sulfite. The content of these sulfites in the developer composition is usually preferably 0.05 to 4% by weight, more preferably 0.1 to 1% by weight.

【0093】かかる現像液を、現像露光後の感光性組成
物と接触させたり、現像液により擦ったりすれば、おお
むね常温〜40℃にて10〜60秒後には、感光層の露
光部に悪影響を及ぼすことなく、非露光部が完全に除去
されて、現像がなされる。
When such a developing solution is brought into contact with the photosensitive composition after development exposure or rubbed with the developing solution, the exposed portion of the photosensitive layer is adversely affected after 10 to 60 seconds at room temperature to 40 ° C. The development is carried out by completely removing the non-exposed portion without affecting.

【0094】[0094]

【実施例】以下本発明の実施例について説明する。当然
のことではあるが、本発明は以下の各実施例によって限
定されるものではない。
EXAMPLES Examples of the present invention will be described below. As a matter of course, the present invention is not limited to the following examples.

【0095】以下の各実施例においては、バインダー樹
脂としてアルカリ可溶・膨潤性高分子化合物である下記
高分子化合物(1)(2)を用いた。また、ジアゾ樹脂
として、下記ジアゾ樹脂1,2を用いた。
In each of the following examples, the following polymer compounds (1) and (2), which are alkali-soluble and swellable polymer compounds, were used as the binder resin. The following diazo resins 1 and 2 were used as the diazo resin.

【0096】高分子化合物(1)の合成 N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド1
7.7g、メタクリル酸8.6g、アクリロニトリル1
0.6g、エチルアクリレート60.0g、及びアゾビ
スイソブチロニトリル1.64gを、アセトン−メタノ
ール 1:1混合溶液130mlに溶解し、窒素置換し
た後、60℃で6時間加熱した。
Synthesis of polymer compound (1) N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide 1
7.7 g, methacrylic acid 8.6 g, acrylonitrile 1
0.6 g, 60.0 g of ethyl acrylate, and 1.64 g of azobisisobutyronitrile were dissolved in 130 ml of an acetone-methanol 1: 1 mixed solution, the atmosphere was replaced with nitrogen, and the mixture was heated at 60 ° C. for 6 hours.

【0097】反応終了後、反応液を水5lに撹拌下注
ぎ、生じた白色沈澱を濾取乾燥して、高分子化合物
(1)を87g得た。
After the reaction was completed, the reaction solution was poured into 5 liters of water with stirring, and the white precipitate formed was collected by filtration and dried to obtain 87 g of polymer compound (1).

【0098】この高分子化合物(1)をゲルパーミエー
ションクロマトグラフィー(以下GPCと略記する。ポ
リスチレン標準) により分子量の測定をしたところ、重
量平均分子量は、82,000であった。なおGPC
(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法)による
重量平均分子量MWの算出は、柘植盛男、宮林達也、田
中誠之著“日本化学会誌”800頁〜805頁(197
2年)に記載の方法により、オリゴマー領域のピークを
均す(ピークの山と谷の中心線を結ぶ)方法にて行うこ
とができる。
The molecular weight of this polymer compound (1) was measured by gel permeation chromatography (hereinafter abbreviated as GPC. Polystyrene standard), and the weight average molecular weight was 82,000. GPC
The weight average molecular weight MW can be calculated by (gel permeation chromatography method) by Morio Tsuge, Tatsuya Miyabayashi and Masayuki Tanaka, "Journal of the Chemical Society of Japan", pages 800-805 (197).
According to the method described in (2 years), it can be performed by a method of leveling the peaks in the oligomer region (connecting the peaks and the center lines of the valleys).

【0099】高分子化合物(2)の合成 2 −ヒドロキシエチルメタクリレート13.0g、メタ
クリル酸8.6g、アクリロニトリル10.6g、エチ
ルアクリレート60.0g、及びアゾビスイソブチロニ
トリル1.64gを、アセトン−メタノール1:1混合
溶液130mlに溶解し、窒素置換した後、60℃で6
時間加熱した。
Synthesis of polymer compound (2) 2-hydroxyethyl methacrylate 13.0 g, methacrylic acid 8.6 g, acrylonitrile 10.6 g, ethyl acrylate 60.0 g, and azobisisobutyronitrile 1.64 g were mixed with acetone. -Dissolve in 130 ml of a 1: 1 mixed solution of methanol and replace with nitrogen, and
Heated for hours.

【0100】以下高分子化合物(1)の方法と同様にし
て、高分子化合物(2)を83g得た。
Thereafter, 83 g of the polymer compound (2) was obtained in the same manner as the polymer compound (1).

【0101】この高分子化合物(2)をGPCにより分
子量の測定をしたところ、重量平均分子量は67,00
0であった。
When the molecular weight of this polymer compound (2) was measured by GPC, the weight average molecular weight was 67,000.
It was 0.

【0102】ジアゾ樹脂1の合成 p−ジアゾジフェルニルアミン硫酸塩14.5gを、氷
冷下で40gの濃硫酸に溶解した。この反応溶液に1.
05gのパラホルムアルデヒドをゆっくり添加した。こ
の際、反応温度が10℃を超えないように添加していっ
た。その後、2時間氷冷下で撹拌を続けた。この反応混
合液を、氷冷下、500mlのエタノールに滴下し、生
じた沈澱を濾別した。エタノールで沈澱を洗浄した後、
この沈澱を100mlの純水に溶解し、この液に、6.
8gの塩化亜鉛を溶解した水溶液を加えた。生じた沈澱
をろ別した後、エタノールで洗い、150mlの純水に
溶解させた。この液に、8gのヘキサフルオロリン酸ア
ンモニウムを溶解した水溶液を加え、生じた沈澱を濾別
し、水、エタノールで洗った後、25℃で3日間乾燥し
て、ジアゾ樹脂1を得た。
Synthesis of diazo resin 1 14.5 g of p-diazodifernylamine sulfate was dissolved in 40 g of concentrated sulfuric acid under ice cooling. To this reaction solution
05 g paraformaldehyde was added slowly. At this time, the reaction temperature was added so as not to exceed 10 ° C. Then, stirring was continued under ice cooling for 2 hours. The reaction mixture was added dropwise to 500 ml of ethanol under ice cooling, and the generated precipitate was filtered off. After washing the precipitate with ethanol,
This precipitate was dissolved in 100 ml of pure water, and this solution was added to 6.
An aqueous solution in which 8 g of zinc chloride was dissolved was added. The precipitate formed was filtered off, washed with ethanol and dissolved in 150 ml of pure water. An aqueous solution in which 8 g of ammonium hexafluorophosphate was dissolved was added to this solution, the resulting precipitate was filtered off, washed with water and ethanol, and then dried at 25 ° C. for 3 days to obtain diazo resin 1.

【0103】ジアゾ樹脂2の合成 p−ジアゾジフェルニルアミン硫酸塩21.75g及び
p−ヒドロキシ安息香酸3.5gを、氷冷下で90gの
濃硫酸に溶解した。この反応溶液に、2.7gのパラホ
ルムアルデヒドをゆっくり添加した。この際、反応温度
が10℃を超えないように添加していった。その後、2
時間氷冷下で撹拌を続けた。この反応混合液を、氷冷
下、1lのエタノールに滴下し、生じた沈澱を濾別し
た。エタノールで沈澱を洗浄した後、この沈澱を200
mlの純水に溶解し、この液に、10.5gの塩化亜鉛
を溶解した水溶液を加えた。生じた沈澱を濾別した後、
エタノールで洗い、300mlの純水に溶解させた。こ
の液に、13.7gのヘキサフルオロリン酸アンモニウ
ムを溶解した水溶液を加え、生じた沈澱を濾別し、水、
エタノールで洗った後、25℃で3日間乾燥して、ジア
ゾ樹脂2を得た。
Synthesis of diazo resin 2 21.75 g of p-diazodifernylamine sulfate and 3.5 g of p-hydroxybenzoic acid were dissolved in 90 g of concentrated sulfuric acid under ice cooling. 2.7 g of paraformaldehyde was slowly added to the reaction solution. At this time, the reaction temperature was added so as not to exceed 10 ° C. Then 2
Stirring was continued under ice cooling for an hour. The reaction mixture was added dropwise to 1 liter of ethanol under ice cooling, and the generated precipitate was separated by filtration. After washing the precipitate with ethanol, the precipitate is washed with 200
It was dissolved in pure water (ml), and an aqueous solution in which 10.5 g of zinc chloride was dissolved was added to this solution. After filtering off the resulting precipitate,
It was washed with ethanol and dissolved in 300 ml of pure water. To this solution, an aqueous solution in which 13.7 g of ammonium hexafluorophosphate was dissolved was added, the resulting precipitate was filtered off, water,
After washing with ethanol, it was dried at 25 ° C. for 3 days to obtain diazo resin 2.

【0104】次に実施例を、比較例とあわせて説明す
る。 実施例−1,2及び比較例−1,2 アルミニウム板を10wt%水酸化ナトリウム水溶液に
て脱塩し、これを1.8%塩酸浴中で25℃、30A/
dm2 、30秒の電流密度条件で電解エッチングし、水
洗後、30%硫酸浴中で30℃、6.5A/dm2 の条
件で30秒間陽極酸化処理した。次に1wt%メタケイ
酸ナトリウム水溶液により、85℃、30秒間封孔処理
し、水洗乾燥して、平版印刷版用支持体としてのアルミ
ニウム版を得た。
Next, examples will be described together with comparative examples. Examples-1 and 2 and Comparative Examples-1 and 2 Aluminum plates were desalted with a 10 wt% sodium hydroxide aqueous solution, and this was dewatered in a 1.8% hydrochloric acid bath at 25 ° C and 30 A /.
Electrolytic etching was performed under a current density condition of dm 2 for 30 seconds, washed with water, and then anodized for 30 seconds in a 30% sulfuric acid bath at 30 ° C. and 6.5 A / dm 2 . Next, a 1 wt% sodium metasilicate aqueous solution was used for sealing treatment at 85 ° C. for 30 seconds, followed by washing with water and drying to obtain an aluminum plate as a lithographic printing plate support.

【0105】このアルミニウム版に表1に示される感光
液を、乾燥後の塗膜重量が20mg/dm2 になるよう
に塗布して、感光性平版印刷版試料を作成した。
The photosensitive solutions shown in Table 1 were applied to this aluminum plate so that the coating film weight after drying was 20 mg / dm 2 , to prepare a photosensitive lithographic printing plate sample.

【表1】 [Table 1]

【0106】得られた試料にネガ透明原画を置き、2k
Wのメタルハライドランプで60cmの距離から30秒
露光した後、コニカPS版自動現像機PSK−910と
コニカPS版現像液SDN−21(4倍希釈)(ともに
コニカ(株)製)を用いて27℃、20秒間の現像処理
を行った。
A negative transparent original image is placed on the obtained sample and 2 k
After exposing with a metal halide lamp of W from a distance of 60 cm for 30 seconds, 27 using Konica PS plate automatic processor PSK-910 and Konica PS plate developer SDN-21 (4 times dilution) (both manufactured by Konica Corporation) Development processing was performed at 20 ° C. for 20 seconds.

【0107】各試料の感度は、コニカ製ステップタブレ
ットを原画に用いて露光・現像を行った際のベタ段数で
比較した。また、得られた版は、コニカPSガム液SG
Q−3(2倍に希釈)を塗り、乾燥後、ハイデルベルグ
GTO印刷機で印刷を行い、画線部のガムが除去され、
正常な着肉が得られるまでに何枚の用紙を要するかを比
較し、インキ着肉性の評価とした。各々の結果は、表2
に示す。
The sensitivities of the respective samples were compared by the number of solid steps when exposure and development were performed using a Konica step tablet as an original image. In addition, the obtained plate is Konica PS gum liquid SG
After applying Q-3 (diluted 2 times) and drying, printing with Heidelberg GTO printing machine, the gum in the image area is removed,
The number of sheets required to obtain normal inking was compared, and the ink inking property was evaluated. The results are shown in Table 2.
Shown in.

【表2】 [Table 2]

【0108】表2から、実施例−1,2ともに、比較例
2に比べ、感度を低下させることなく、インキ着肉性を
向上させたものであることが判る。これに対し、比較例
−1は、インキ着肉性は向上しているものの、感度は低
下していることが判る。また、実施例−1においては、
インキ着肉性・感度がいずれも向上している。
It can be seen from Table 2 that both Examples-1 and 2 have improved ink receptivity without lowering the sensitivity as compared with Comparative Example 2. On the other hand, in Comparative Example-1, it is found that the ink receptivity is improved but the sensitivity is lowered. Moreover, in Example-1,
Both ink receptivity and sensitivity are improved.

【0109】[0109]

【発明の効果】上述の如く、本発明により感度を低下さ
せることなく、良好なインキ着肉性をもつ感光性平版印
刷版を得ることができた。
As described above, according to the present invention, a photosensitive lithographic printing plate having good ink receptivity can be obtained without lowering the sensitivity.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】支持体上の少なくとも一方の面に下記一般
式(1)〜(4)のいずれかで表される高分子化合物か
ら成る化合物群から任意に選ばれた少なくとも1種の高
分子化合物、及びジアゾ樹脂を含有する感光層を有する
構成としたネガ型感光性平版印刷版。 【化1】 一般式(1)〜(4)中、R1 ,R2 ,R3 ,・・・,
R3+a は、水素原子、アルキル基(置換基を有するもの
を含む)、またはアリール基(置換基を有するものを含
む)である。但し各式において、すべてが水素原子をと
ることはない。A,Bは末端基を表す。l,m,n,・
・・,n+aは、各式において重合度により定まる数で
ある。一般式(4)において、aは1以上17以下の数
である。
1. At least one polymer selected from the group consisting of polymer compounds represented by any of the following general formulas (1) to (4) on at least one surface of a support. A negative photosensitive lithographic printing plate having a photosensitive layer containing a compound and a diazo resin. [Chemical 1] In the general formulas (1) to (4), R 1 , R 2 , R 3 , ...,
R3 + a is a hydrogen atom, an alkyl group (including those having a substituent), or an aryl group (including those having a substituent). However, in each formula, not all hydrogen atoms are taken. A and B represent terminal groups. l, m, n, ...
.., n + a are numbers determined by the degree of polymerization in each formula. In the general formula (4), a is a number of 1 or more and 17 or less.
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