JPH0369955A - Photosensitive planographic printing plate - Google Patents

Photosensitive planographic printing plate

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Publication number
JPH0369955A
JPH0369955A JP20617489A JP20617489A JPH0369955A JP H0369955 A JPH0369955 A JP H0369955A JP 20617489 A JP20617489 A JP 20617489A JP 20617489 A JP20617489 A JP 20617489A JP H0369955 A JPH0369955 A JP H0369955A
Authority
JP
Japan
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acid
formula
group
photosensitive
structural units
Prior art date
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Pending
Application number
JP20617489A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tomoyuki Matsumura
智之 松村
Shinichi Matsubara
真一 松原
Masabumi Uehara
正文 上原
Shinichi Fumiya
文屋 信一
Eriko Katahashi
片橋 恵理子
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Kasei Corp
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Mitsubishi Kasei Corp
Konica Minolta Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Kasei Corp, Konica Minolta Inc filed Critical Mitsubishi Kasei Corp
Priority to JP20617489A priority Critical patent/JPH0369955A/en
Publication of JPH0369955A publication Critical patent/JPH0369955A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To ensure satisfactory developability after storage over a long period of time, satisfactory printing resistance and ink retentivity by incorporating two kinds of high molecular compds. each contg. specified structural units in the molecule. CONSTITUTION:A high molecular compd. having structural units represented by formula I and a high molecular compd. contg. structural units represented by formula II and structural units represented by formula III in the molecule are incorporated into a photosensitive planographic printing plate. In the formula I, J is a divalent combining group and n is 0 or 1. In the formula II, R<16> is H, methyl, ethyl, methoxy, ethoxy or aryl. In the formula III, R<17> is H, methyl or ethyl and R<18> is alkyl or aryl. The high molecular compd. contg. structural units represented by the formula I in the molecule functions as a binder and the high molecular compd. contg. structural units represented by the formulae II, III functions as a sensitizer. Superior developability especially after storage over a long period of time, superior printing resistance and ink retentivity are ensured.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、感光性平版印刷版に関するものである。[Detailed description of the invention] [Industrial application field] The present invention relates to a photosensitive lithographic printing plate.

〔発明の背景〕[Background of the invention]

従来より種々の感光性平版印刷版が提案されている。 Various photosensitive lithographic printing plates have been proposed in the past.

従来の感光性平版印刷版として、カルボン酸基を含むア
クリル系樹脂を結合剤として含有するものがある。しか
しこのような感光性平版印刷版は、これを例えばネガ型
28版に用いた場合など、現像性、特に長期間保存した
場合の現像性が不充分であるという問題がある。また近
年、UVインキ(紫外線硬化性インキ)を用いての印刷
が増加しているが、上記感光性平版印刷版は、かかるU
Vインキでの印刷の場合、耐剛力が不充分であったり、
インキ着肉性が悪かったりするという問題を有する。
Some conventional photosensitive lithographic printing plates contain an acrylic resin containing a carboxylic acid group as a binder. However, such a photosensitive lithographic printing plate has a problem in that, when it is used, for example, in a negative 28 plate, its developability, particularly when stored for a long period of time, is insufficient. In addition, in recent years, printing using UV ink (ultraviolet curable ink) has been increasing, but the photosensitive planographic printing plate described above is
When printing with V ink, the rigidity is insufficient,
There is a problem that ink receptivity is poor.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明は、上記従来技術の問題点を解決して、現像性、
とくに長期保存後の現像性が充分であるとともに、UV
インキを用いて印刷する場合にも、耐刷力及びインキ着
肉性が充分である感光性平版印刷版を提供することを目
的とする。
The present invention solves the problems of the prior art described above, and improves developability and
In particular, it has sufficient developability after long-term storage, and
An object of the present invention is to provide a photosensitive planographic printing plate that has sufficient printing durability and ink receptivity even when printing with ink.

〔問題点を解決するための手段及び作用〕本発明の感光
性平版印刷版は、下記−数式〔I〕で示される構成単位
を分子中に含む高分子化合物、及び下記−数式(Vl)
で示される構成単位と下記一般式〔VII〕で示される
構成単位とを分子中に含む高分子化合物を含有すること
を特徴とする感光性平版印刷版であって、この構成によ
り、上記目的を達成したものである。
[Means and effects for solving the problems] The photosensitive lithographic printing plate of the present invention comprises a polymer compound containing a structural unit represented by the following formula [I] in its molecule, and a polymer compound containing the following formula (Vl).
A photosensitive lithographic printing plate characterized by containing a polymer compound containing a structural unit represented by the following general formula [VII] and a structural unit represented by the following general formula [VII] in the molecule, and with this structure, the above object can be achieved. This has been achieved.

一般式(1) %式% 但しJは2価の連結基を示し、nは0または1である。General formula (1) %formula% However, J represents a divalent linking group, and n is 0 or 1.

一般式(Vl) 但しRIkは水素原子、メチル基、エチル基、メトキシ
基、エトキシ基、またはアリール基を示す。
General formula (Vl) where RIk represents a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a methoxy group, an ethoxy group, or an aryl group.

一般式〔VII〕 但しR1’lは水素原子、メチル基またはエチル基を示
し、R11′はアルキル基またはアリール基を示す。
General formula [VII] where R1'l represents a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, and R11' represents an alkyl group or an aryl group.

以下、本発明について、更に説明する。The present invention will be further explained below.

まず、本発明の感光性平版印刷版の感光層が含有する、
−数式〔I〕で示される構成単位を分子中に含む高分子
化合物について、説明する。
First, the photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate of the present invention contains:
- A polymer compound containing a structural unit represented by formula [I] in its molecule will be explained.

前記−数式(I)において、Jは2価の連結基を示すが
、好ましくはJは直鎖、または分岐をもつアルキレン基
、またはアリーレン基である。更に好ましくは、n=1
で、Jが −〇Hz−または −G Hz CHt  
−の場合である。
In formula (I) above, J represents a divalent linking group, and preferably J is a linear or branched alkylene group or arylene group. More preferably, n=1
So, J is -〇Hz- or -GHz CHt
− This is the case.

−数式〔I〕で示される構成単位は、誘導体の形で分子
中に含まれていてもよい。例えば、置換基を有するもの
でもよい。このように、一般弐〔I〕で示される構造の
誘導体、ないしは置換された構成単位を分子中に含むも
のも、本発明に包含される。
- The structural unit represented by formula [I] may be contained in the molecule in the form of a derivative. For example, it may have a substituent. In this way, derivatives of the structure represented by general 2 [I] or those containing substituted structural units in the molecule are also included in the present invention.

上記のように一般式〔I〕で表される構成単位を分子中
に有する高分子化合物を、以下適宜、「成分(A)」と
称することにする。
The polymer compound having the structural unit represented by the general formula [I] in the molecule as described above will be appropriately referred to as "component (A)" hereinafter.

成分(A)は、本発明の感光性平版印刷版の感光層中に
おいて、結合剤(バインダー)として機能できるもので
ある。成分(A)は、アルカリ可溶性(ないしは膨潤性
)樹脂として作用させることができる。
Component (A) is capable of functioning as a binder in the photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate of the present invention. Component (A) can act as an alkali-soluble (or swellable) resin.

本発明の感光性平版印刷版の感光層は、結合剤として、
成分(A)以外の高分子化合物を含有することを妨げな
い。
The photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate of the present invention contains, as a binder,
Containing polymer compounds other than component (A) is not prohibited.

本発明において、成分(A)、また、結合剤として必要
に応じて含有されるそれ以外の高分子化合物は、好まし
くはその重量平均分子量が、20.000以上、500
.000以下のもので、また、好ましくは、親油性の高
分子化合物である。
In the present invention, component (A) and other polymer compounds contained as a binder if necessary preferably have a weight average molecular weight of 20.000 or more and 500.
.. 000 or less, and is preferably a lipophilic polymer compound.

より好ましくは、重量平均分子量が30.000以上3
00,000以下のものである。
More preferably, the weight average molecular weight is 30.000 or more.
00,000 or less.

なお上記分子量は、GPCによるポリスチレン標準によ
るものである。
Note that the above molecular weight is based on a polystyrene standard determined by GPC.

即ち、重量平均分子量の測定は、GPC(ゲルパーミェ
ーションクロマトグラフィー法)によって行うことがで
きる。数平均分子iMN及び重量平均分子量MWの算出
は柘植盛男、宮林達也、田中誠之著“日本化学会誌”8
00頁〜805頁(1972年)に記載の方法により、
オリゴマー領域のピークを均す(ピークの山と谷の中心
線を結ぶ)方法にて行うものとする。
That is, the weight average molecular weight can be measured by GPC (gel permeation chromatography). Calculation of number average molecular weight iMN and weight average molecular weight MW is based on Morio Tsuge, Tatsuya Miyabayashi, and Masayuki Tanaka, “Journal of the Chemical Society of Japan” 8.
By the method described on pages 00 to 805 (1972),
The test shall be performed by leveling the peaks of the oligomer region (by connecting the center lines of the peaks and valleys).

成分(A)として、更に好ましいものは、下記−数式(
n)で表されるモノマーから得られる構成単位を分子中
に有するものである。
More preferred component (A) is the following formula (
It has a structural unit obtained from the monomer represented by n) in its molecule.

−数式(n) 但し一般式(II)中、Xは、2価の連結基である。-Formula (n) However, in general formula (II), X is a divalent linking group.

−i式(II)で示される化合物の好ましい具体例とし
ては、イタコン酸、1−ブテン−2,4−ジカルボン酸
、1−ブテン−2,3−ジカルボン酸、1−ペンテン−
2,5−ジカルボン酸、1−ペンテン−2,4−ジカル
ボン酸、1−ペンテン−2,3−ジカルボン酸、1−ヘ
キセン−2,6−ジカルボン酸等を挙げることができる
-i Preferred specific examples of the compound represented by formula (II) include itaconic acid, 1-butene-2,4-dicarboxylic acid, 1-butene-2,3-dicarboxylic acid, and 1-pentene-dicarboxylic acid.
Examples include 2,5-dicarboxylic acid, 1-pentene-2,4-dicarboxylic acid, 1-pentene-2,3-dicarboxylic acid, and 1-hexene-2,6-dicarboxylic acid.

成分(A)は、 (1)−数式CI)で示される構成単位を分子中に含む
ことが必須であり、このような構成単位を含むものであ
れ任意に用いることができるが、特に好ましくは、−数
式〔I〕で示される構成単位を分子中に2〜20モル%
含有しているものを用いるのがよい。−数式CI)で示
される構成単位以外を与えるモノマーの好ましい例とし
ては、下記(2)〜(13)で示されるものを挙げるこ
とができる。
It is essential that component (A) contains a structural unit represented by (1)-formula CI) in the molecule, and any structure containing such a structural unit can be used, but particularly preferably , - 2 to 20 mol% of the structural unit represented by formula [I] in the molecule
It is better to use the one that contains it. - Preferred examples of monomers that provide structural units other than those represented by formula CI) include those shown in (2) to (13) below.

(2〉芳香族水酸基を有するモノマー、例えばN−(4
−ヒドロキシフェニル〉アクリルアミドまたはN−(4
−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、o −、m
−、p−ヒドロキシスチレン、o−、m−、p−ヒドロ
キシフェニル−アクリレートまたは−メタクリレート。
(2> Monomers having aromatic hydroxyl groups, such as N-(4
-Hydroxyphenyl〉acrylamide or N-(4
-hydroxyphenyl) methacrylamide, o -, m
-, p-hydroxystyrene, o-, m-, p-hydroxyphenyl-acrylate or -methacrylate.

(3〉脂肪族水酸基を有するモノマー、例えば2−ヒド
ロキシエチルアクリレートまたは2−ヒドロキシエチル
メタクリレート。
(3> Monomers having aliphatic hydroxyl groups, such as 2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxyethyl methacrylate.

(4)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、ア
クリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸−
2−クロロエチル、2−ヒドロキシエチルアクリレート
、グリシジルアクリレート、N−ジメチルアミノエチル
アクリレート等の(置換)アルキルアクリレート。
(4) Methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, octyl acrylate, acrylic acid-
(Substituted) alkyl acrylates such as 2-chloroethyl, 2-hydroxyethyl acrylate, glycidyl acrylate, and N-dimethylaminoethyl acrylate.

(5)メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、
プロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート、アミ
ルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、2
−ヒドロキシエチルメタクリレート、4−ヒドロキシブ
チルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、N−
ジメチルアミノエチルメタクリレート等の(置換)アル
キルメタクリレート。
(5) Methyl methacrylate, ethyl methacrylate,
Propyl methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, 2
-Hydroxyethyl methacrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, glycidyl methacrylate, N-
(Substituted) alkyl methacrylates such as dimethylaminoethyl methacrylate.

(6)アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチロ
ールアクリルアミド、N−メチロールメタクリアミド、
N−エチルアクリルア果ド、N−へキシルアクリルア壽
ド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−ヒドロキ
シエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド
、N−ニトロフェニルアミド、N−エチル−N−フェニ
ルアクリルアミド等のアクリルアミドもしくはメタクリ
ルアミド類。
(6) Acrylamide, methacrylamide, N-methylol acrylamide, N-methylol methacrylamide,
Acrylamides such as N-ethylacrylamide, N-hexylacrylamide, N-cyclohexylacrylamide, N-hydroxyethylacrylamide, N-phenylacrylamide, N-nitrophenylamide, N-ethyl-N-phenylacrylamide, etc. Or methacrylamide.

(7)エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニル
エーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピル
ビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニ
ルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテ
ル類。
(7) Vinyl ethers such as ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl vinyl ether, and phenyl vinyl ether.

(8)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビ
ニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル類
(8) Vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate, and vinyl benzoate.

(9)スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレン
、クロロメチルスチレン等のスチレン類。
(9) Styrenes such as styrene, α-methylstyrene, methylstyrene, and chloromethylstyrene.

(10)メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プ
ロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニル
ケトン類。
(10) Vinyl ketones such as methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone, and phenyl vinyl ketone.

(11)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジ
ェン、イソプレン等のオレフィン類。
(11) Olefins such as ethylene, propylene, isobutylene, butadiene, and isoprene.

(12) N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾ
ール、4−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタク
リレートリル等。
(12) N-vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole, 4-vinylpyridine, acrylonitrile, methacrylateril, etc.

(13)アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマ
ル酸等の不飽和結合を有するカルボン酸。
(13) Carboxylic acids having unsaturated bonds such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, and fumaric acid.

更に、上記モノマーと共重合し得るモノマーを共重合さ
せることにより、−数式CI)の構成単位以外のものを
含ませるようにしたものでもよい。
Furthermore, by copolymerizing a monomer that can be copolymerized with the above-mentioned monomer, it may be made to contain a constituent unit other than the structural unit of formula CI).

また、上記モノマーの共重合によって得られる共重合体
を、例えば、グリシジルメタクリレート、グリシジルア
クリレート等によって修飾したものも一般式(1)の構
成単位以外のものを与えるものに含まれるが、これらに
限られるものではない。
In addition, copolymers obtained by copolymerizing the above monomers and modified with glycidyl methacrylate, glycidyl acrylate, etc. are also included in the scope of those that provide structural units other than those of general formula (1), but are not limited to these. It's not something you can do.

更に具体的には、−数式CI)の構成単位以外を与える
ものとして、上記(2)、(3)に掲げたモノマー等を
含有する、水酸基を有する共重合体が好ましく、芳香族
性水酸基を有する共重合体が更に好ましい。
More specifically, it is preferable to use a copolymer having a hydroxyl group containing the monomers listed in (2) and (3) above as a unit other than the structural unit of the formula CI), and having an aromatic hydroxyl group. More preferred are copolymers having the following.

また上記共重合体には必要に応じて、ポリビニルブチラ
ール樹脂、ポリウレタン樹脂、ボリア≧ド樹脂、エポキ
シ樹脂、ノボラック樹脂、天然樹脂等を添加してもよい
Further, polyvinyl butyral resin, polyurethane resin, boria≧do resin, epoxy resin, novolak resin, natural resin, etc. may be added to the above copolymer as necessary.

一般式(1)の構成単位以外の構成を与えるものとして
特に好ましいのは、次に記す共重合体である。
The following copolymers are particularly preferred as those that provide a structure other than the structural units of general formula (1).

即ち、分子構造中に、 (a)アルコール性水酸基を有する構造単位及び/また
はフェノール性水酸基を有する構造単位を1〜50モル
%、 CHz   C−・・・・・・・・・ (III)わす
。) で表される構造単位を5〜40モル%、(c)下記−数
式(IV) I2 −CH2−C−・・・・・・・・・(IV)COOR” (式中、R12は水素原子、メチル基またはエチル基を
表わし、R13は、炭素原子数2〜12のアルキル基ま
たはアルキルW換アリール基を表わす。
That is, in the molecular structure, (a) 1 to 50 mol% of a structural unit having an alcoholic hydroxyl group and/or a structural unit having a phenolic hydroxyl group; . ) 5 to 40 mol% of the structural unit represented by (c) the following formula (IV) I2 -CH2-C-... (IV) COOR" represents an atom, a methyl group or an ethyl group, and R13 represents an alkyl group having 2 to 12 carbon atoms or an alkyl W-substituted aryl group.

で表わされる構造単位を25〜60モル%を含有する高
分子化合物が好ましい、かつその重量平均) 分子量が、30.000〜300 、000である共重
合体が、更に好ましい。
A copolymer containing 25 to 60 mol % of structural units represented by the formula is preferred, and a copolymer having a weight average molecular weight of 30,000 to 300,000 is more preferred.

上記(a)のアルコール性水酸基を有する構造単位を形
成するモノマーの具体例としては、特公昭52−736
4号に記載されたような下記−数式(V)に示した化合
物のごとく (メタ)アクリル酸エス−7二二 R目 CHz   C−・・・・・・・・・(V)Coo  
(CH2CHO)、H IS 式中、RI4は水素原子またはメチル基、R1%は水素
原子、メチル基、エチル基またはクロロメチル基を示し
、nは1〜10の整数を示す。
Specific examples of the monomer forming the structural unit having an alcoholic hydroxyl group in (a) above include Japanese Patent Publication No. 52-736
As described in No. 4, as in the compound shown in the following formula (V) (meth)acrylic acid ester-722R CHHz C-・・・・・・・・・(V)Coo
(CH2CHO), HIS In the formula, RI4 represents a hydrogen atom or a methyl group, R1% represents a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, or a chloromethyl group, and n represents an integer of 1 to 10.

(メタ)アクリル酸エステル類の例としては、2−ヒド
ロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプ
ロピル(メタ)アクリレート、2−ビトロキシペンチル
(メタ)アクリレート等が、また、アクリルアミド類の
例としては、N−メチロール(メタ)アクリルアミド、
N−ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド等が挙げ
られる。
Examples of (meth)acrylic acid esters include 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-bitroxypentyl (meth)acrylate, and examples of acrylamides include , N-methylol (meth)acrylamide,
Examples include N-hydroxyethyl (meth)acrylamide and the like.

好ましくは2−ヒドロキシエチル(メタ〉アクリレート
である。
Preferably it is 2-hydroxyethyl (meth)acrylate.

また、上記の(a)のフェノール性水酸基を有する構造
単位を形成するモノマーとしては、例えばN−(4−ヒ
ドロキシフェニル)−(メタ)アクリルアミド、N−(
2−ヒドロキシフェニル)−(メタ)アクリルアミド、
N−(4−ヒドロキシナフチル)−(メタ)アクリルア
ミド等の(メタ)アクリルアミド類のモノマー;o−、
m−またはp−ヒドロキシフェニル(メタ)アクリレー
トモノマー;o−、m−またはp−ヒドロキシスチレン
モノマー等が挙げられる。好ましくは、O−m−または
p−ヒドロキシフェニル(メタ)アクリレートモノマー
、N−(4−ヒドロキシフェニル)−(メタ)アクリル
アミドモノマーであり、さらに好ましくはN−(4−ヒ
ドロキシフェニル)−(メタ)アクリルアミドモノマー
である。
In addition, examples of monomers forming the structural unit having a phenolic hydroxyl group (a) include N-(4-hydroxyphenyl)-(meth)acrylamide, N-(
2-hydroxyphenyl)-(meth)acrylamide,
(meth)acrylamide monomers such as N-(4-hydroxynaphthyl)-(meth)acrylamide; o-,
Examples include m- or p-hydroxyphenyl (meth)acrylate monomers; o-, m- or p-hydroxystyrene monomers. Preferably, O-m- or p-hydroxyphenyl (meth)acrylate monomer, N-(4-hydroxyphenyl)-(meth)acrylamide monomer, more preferably N-(4-hydroxyphenyl)-(meth) It is an acrylamide monomer.

上記アルコール性水酸基を有する構造単位及び/または
フェノール性水酸基を有する構造単位は、高分子化合物
中、1〜50モル%、好ましくは、5〜30モル%の範
囲から選ばれる。
The structural unit having an alcoholic hydroxyl group and/or the structural unit having a phenolic hydroxyl group is selected from the range of 1 to 50 mol%, preferably 5 to 30 mol%, in the polymer compound.

前記−数式(II[)で表される構造単位を形成する、
側鎖にシアノ基を有するモノマーとしては、アクリロニ
トリル、メタクリロニトリル、2−ペンテンニトリル、
2−メチル−3−ブテンニトリル、2−シアノエチルア
クリレート、o−、m −1−シアノスチレン等が挙げ
られる。好ましくはアクリロニトリル、メタクリロニト
リルである。
- forming a structural unit represented by formula (II[);
Monomers having a cyano group in their side chains include acrylonitrile, methacrylonitrile, 2-pentenenitrile,
Examples include 2-methyl-3-butenenitrile, 2-cyanoethyl acrylate, o-, m-1-cyanostyrene, and the like. Preferred are acrylonitrile and methacrylonitrile.

該側鎖にシアノ基を有する構造単位の高分子化合物の分
子中に含有される割合は好ましくは5〜40モル%、よ
り好ましくは15〜35モル%の範囲から選ばれる。
The proportion of the structural unit having a cyano group in the side chain contained in the molecule of the polymer compound is preferably selected from the range of 5 to 40 mol%, more preferably 15 to 35 mol%.

前記−数式CIV)で表される構造単位を形成する、側
鎖にカルボキシエステル基を有するモノマーとしては、
エチルアクリレート、エチルメタアクリレート、プロピ
ルアクリレート、ブチルアクリレート、アミルアクリレ
ート、アミルメタアクリレート、ヘキシルアクリレート
、オクチルアクリレート、2−クロロエチルアクリレー
ト、2−ヒドロキシエチルアクリレート、グリシジルア
クリレート等が挙げられる、該モノマーから形成される
単位は、高分子化合物中、好ましくは25〜60モル%
、好ましくは、35〜60モル%の範囲から選ばれる。
The monomer having a carboxy ester group in its side chain and forming the structural unit represented by formula CIV) is as follows:
Formed from the monomers such as ethyl acrylate, ethyl methacrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, amyl methacrylate, hexyl acrylate, octyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, glycidyl acrylate, etc. The unit preferably accounts for 25 to 60 mol% in the polymer compound.
, preferably from the range of 35 to 60 mol%.

なお、以上の各構造単位は、具体例として挙げたモノマ
ーから形成された単位に限定されるものではない。
Note that each of the above structural units is not limited to units formed from the monomers listed as specific examples.

本発明において、成分(A)として、例えば、次のよう
な組成のものを用いるのが好ましい。即ち、p−ヒドロ
キシフヱニルメタクリルアミド(HYPMA)及び/ま
たは2−ヒドロキシエチルメタクリレ−1−(HEMA
)が3〜30モル%、−数式(I)で示される構成単位
を与えるモノマーが5〜20モル%、エチルアクリレー
トが30〜70モル%、アクリロニトリルが5〜30モ
ル%の範囲の組成のものを、好ましく用いることができ
る。この組成のものは、アルカリ可溶性樹脂として作用
できる。
In the present invention, it is preferable to use, for example, a component having the following composition as component (A). That is, p-hydroxyphenylmethacrylamide (HYPMA) and/or 2-hydroxyethylmethacrylate-1-(HEMA
) is 3 to 30 mol%, the monomer providing the structural unit represented by formula (I) is 5 to 20 mol%, ethyl acrylate is 30 to 70 mol%, and acrylonitrile is 5 to 30 mol%. can be preferably used. This composition can act as an alkali-soluble resin.

本発明の実施に際して、感光性平版印刷版の感光層中に
は、結合剤として、本発明に係る成分(A)以外の高分
子化合物を含有させることができる。但しこの場合、結
合剤として作用する高分子化合物中、成分(A)が10
0〜20モル%含有されるのが好ましい。
In carrying out the present invention, a polymer compound other than the component (A) according to the present invention may be contained as a binder in the photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate. However, in this case, component (A) is 10
It is preferably contained in an amount of 0 to 20 mol%.

成分(A)と併用して、感光層の結合剤として用いるこ
とができる高分子化合物としては、前記(2)〜(13
)で挙げたモノマーの重合体ないし共重合体、また前記
−数式(II[)〜(V)で表される構造単位等を有す
る重合体ないし共重合体を挙げることができる。
Examples of the polymer compounds that can be used in combination with component (A) as a binder for the photosensitive layer include the above-mentioned (2) to (13).
Examples include polymers or copolymers of the monomers listed above, and polymers or copolymers having structural units represented by formulas (II[) to (V) above].

本発明の感光性平版印刷版の感光層中に含有される成分
(A)、及び必要に応じて結合剤として含有されるその
他の高分子化合物は、感光層の固形分中に、好ましくは
合計して通常40〜99重量%、より好ましくは50〜
95重景%含重量せる。
Component (A) contained in the photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate of the present invention and other polymeric compounds contained as a binder if necessary are preferably added together in the solid content of the photosensitive layer. usually 40 to 99% by weight, more preferably 50 to 99% by weight
The weight content is 95%.

次に、本発明の感光性平版印刷版の感光層が含有する、
−数式(VI)で示される構成単位と一般式〔■〕で示
される構成単位とを分子中に含む高分子化合物について
、説明する。
Next, the photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate of the present invention contains:
- A polymer compound containing a structural unit represented by the formula (VI) and a structural unit represented by the general formula [■] in its molecule will be explained.

以下このような高分子化合物を、「成分(B)」と称す
ることにする。
Hereinafter, such a polymer compound will be referred to as "component (B)."

成分(B)は、−aに親油性高分子化合物であり、感光
性平版印刷版の感光層中において、感脂化剤としての機
能を示すことができるものである。
Component (B) -a is a lipophilic polymer compound that can function as a liposensitizing agent in the photosensitive layer of a photosensitive lithographic printing plate.

成分(B)は、下記−数式〔■〕で示される化合物と、
無水マレイン酸の部分に式R”OH(式中R1l+は一
般式〔■〕における場合と同義である・)で示される。
Component (B) is a compound represented by the following formula [■],
The maleic anhydride portion is represented by the formula R''OH (in the formula, R11+ has the same meaning as in the general formula [■]).

アルコールを反応させ、必要により更に式R”OH(式
中R1?はメチル基またはエチル基を示す。)で示され
るアルコールを反応させることにより合成することがで
きる。
It can be synthesized by reacting an alcohol and, if necessary, further reacting an alcohol represented by the formula R''OH (in the formula, R1? represents a methyl group or an ethyl group).

(式中、RI6は一般式[VI)における場合と同義で
ある。) また別法として、上記−数式〔■〕で示される化合物と
、下記−数式(IXIで示される化合物とを共重合させ
て得ることもできる。
(In the formula, RI6 has the same meaning as in general formula [VI). ) Alternatively, it can also be obtained by copolymerizing the compound represented by the above formula [■] and the compound represented by the following formula (IXI).

(式中、RI?及びRI8は、一般式〔VII〕におけ
る場合と同義である。) 成分(B)は、例えば、米国特許第3,388.106
号、同第3.418.292号の各明細書に記載された
方法に準じて、当業者が容易に台底することができる。
(In the formula, RI? and RI8 have the same meanings as in the general formula [VII].) Component (B) is, for example, U.S. Patent No. 3,388.106
A person skilled in the art can easily determine the method according to the methods described in the specifications of No. 3,418,292.

成分(B)には、−数式(Vl)で示される構成単位及
び〔■〕で示される構成単位の他に、更に第三の構成単
位を共重合成分として含ませることができる。この様な
共重合成分は、成分(A)の共重合体において説明した
その他の付加重合性不飽和化合物の中から選択すること
ができる。
In addition to the structural unit represented by formula (Vl) and the structural unit represented by [■], component (B) may further contain a third structural unit as a copolymerization component. Such a copolymerization component can be selected from the other addition polymerizable unsaturated compounds described in the copolymer of component (A).

成分(B)の共重合体における、−数式(Vl)で示さ
れる構成単位の含有量は、約20〜80重量%であるこ
とが好ましく、より好ましくは、40〜70重景%で重
量。また一般式〔VII〕で示される構造単位は約20
〜80重量%であることが好ましく、より好ましくは、
40〜70重量%含有させられる。
The content of the structural unit represented by formula (Vl) in the copolymer of component (B) is preferably about 20 to 80% by weight, more preferably 40 to 70% by weight. Furthermore, the structural unit represented by general formula [VII] is approximately 20
It is preferably ~80% by weight, more preferably,
It is contained in an amount of 40 to 70% by weight.

成分(B)の重合体の分子量は、一般に好ましくは約5
00〜50.000の範囲が適当であり、より好ましく
は750〜30.000であり、最も好ましくは、80
0〜10.000である。
The molecular weight of the polymer of component (B) is generally preferably about 5
A suitable range is from 00 to 50.000, more preferably from 750 to 30.000, and most preferably from 80.000 to 30.000.
0 to 10.000.

成分(B)の重合体は、好ましくは感光層中に約0.2
〜20重量%、より好ましくは0.5〜5重量%含有さ
せられる。
The polymer of component (B) is preferably present in the photosensitive layer in an amount of about 0.2
It is contained in an amount of up to 20% by weight, more preferably in an amount of 0.5 to 5% by weight.

本発明の感光性平版印刷版の感光層には、各種の感光性
化合物を含有させることができる。
The photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate of the present invention can contain various photosensitive compounds.

例えば、ジアゾ樹脂を好ましく含有させることができる
For example, a diazo resin can be preferably included.

本発明において使用できるジアゾ樹脂は、任意である。Any diazo resin can be used in the present invention.

本発明において、ジアゾ樹脂として、カルボキシル基ま
たは水酸基のいずれか少な(とも一方の基を1個以上有
する芳香族化合物と、芳香族ジアゾニウム化合物とを構
成単位として含む共縮合ジアゾ樹脂を好ましく用いるこ
とができる。
In the present invention, as the diazo resin, it is preferable to use a co-condensed diazo resin containing as a constituent unit an aromatic compound having one or more carboxyl groups or hydroxyl groups (whichever one is less) and an aromatic diazonium compound. can.

このようなカルボキシル基及び/またはヒドロキシ基を
有する芳香族化合物は、少なくとも1つのカルボキシル
基で置換された芳香族環及び/または少なくとも1つの
ヒドロキシル基で置換した芳香族環を分子中に含むもの
であって、この場合、上記カルボキシル基とヒドロキシ
ル基とは同一の芳香族環に置換されていてもよく、ある
いは別の芳香族環に置換されていてもよい。このカルボ
キシル基あるいはヒドロキシル基は芳香族環に直接結合
してもよく、結合基を介して結合しているのでもよい。
Such an aromatic compound having a carboxyl group and/or a hydroxyl group is one that contains an aromatic ring substituted with at least one carboxyl group and/or an aromatic ring substituted with at least one hydroxyl group in the molecule. In this case, the carboxyl group and the hydroxyl group may be substituted on the same aromatic ring, or may be substituted on different aromatic rings. This carboxyl group or hydroxyl group may be bonded directly to the aromatic ring or may be bonded via a bonding group.

上記の芳香族としては、好ましくはアリール基例えばフ
ェニル基、ナフチル基を挙げることができる。
Preferred examples of the aromatic group include aryl groups such as phenyl and naphthyl groups.

上記本発明に用いることができる共縮合ジアゾ樹脂にお
いて、1つの芳香族環に結合するカルボキシル基の数は
1または2が好ましく、また1つの芳香族環に結合する
ヒドロキシル基の数は1乃至3が好ましい。カルボキシ
ル基または水酸基が結合基を介して芳香族環に結合する
場合には、該結合基としては、例えば炭素数1乃至4の
アルキレン基を挙げることができる。
In the co-condensed diazo resin that can be used in the present invention, the number of carboxyl groups bonded to one aromatic ring is preferably 1 or 2, and the number of hydroxyl groups bonded to one aromatic ring is 1 to 3. is preferred. When a carboxyl group or a hydroxyl group is bonded to an aromatic ring via a bonding group, examples of the bonding group include an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms.

上記共縮合ジアゾ樹脂の構成単位とするカルボキシル基
及び/またはヒドロキシル基を含有する芳香族化合物の
具体例としては、安息香酸、〇−クロロ安息香酸、m−
クロロ安息香酸、p−クロロ安息香酸、フタル酸、テレ
フタル酸、ジフェニル酢酸、フェノキシ酢酸、p−メト
キシフェニル酢酸、p−メトキシ安息香酸、2,4−ジ
メトキシ安息香酸、2.4−ジメチル安息香酸、p−フ
ェノキシ安息香酸、4−アニリノ安息香酸、4−(m−
メトキシアニリノ)安息香酸、4− (p −メチルベ
ンゾイル)安息香酸、4−(p−メチルアニリノ)安息
香酸、4−フェニルスルホニル安息香酸、フェノール、
(o、m、p)−クレゾール、キシレノール、レゾルシ
ン、2−メチルレゾルシン、(o、m、p)−メトキシ
フェノール、m−エトキシフェノール、カテコール、フ
ロログリシン、p−ヒドロキシエチルフェノール、ナフ
トール、ピロガロール、ヒドロキノン、p−ヒドロキシ
ベンジルアルコール、4−クロロレゾルシン、ビフェニ
ル−4,4゛−ジオール、l、2゜4−ベンゼントリオ
ール、ビスフェノールA12゜4−ジヒドロキシベンゾ
フェノン、2.3.4−トリヒドロキシベンゾフェノン
、p−ヒドロキシアセトフェノン、4.4−ジヒドロキ
シジフェニルエーテル、4. 4’  −ジヒドロキシ
ジフェニルアミン、4,4” −ジヒドロキシジフェニ
ルスルフィド、クミルフェノール、(o、m、p) −
クロロフェノール、(o、m、p)−ブロモフェノール
、サリチル酸、4−メチルサリチル酸、6−メチルサリ
チル酸、4−エチルサリチル酸、6−プロピルサリチル
酸、6−ラウリルサリチル酸、6−スチアリルサリチル
酸、4.6−シメチルサリチル酸、p−ヒドロキシ安息
香酸、2−メチル−4−ヒドロキシ安息香酸、6−メチ
ル−4−ヒドロキシ安息香酸、2,6−ジメチル−4−
ヒドロキシ安息香酸、2.4−ジヒドロキシ安息香酸、
2.4−ジヒドロキシ−6−メチル安息香酸、26−ジ
ヒドロキシ安息香酸、2.6−ジヒドロキシ−4−安息
香酸、4−クロロ−2,6−ジヒドロキシ安息香酸、4
−メトキシ−2,6−ジオキシ安息香酸、没食子酸、フ
ロログルシンカルボン酸、2.4.5−トリヒドロキシ
安息香酸、m−ガロイル没食子酸、タンニン酸、m−ベ
ンゾイル没食子酸、m−(p−)ルイル)没食子酸、プ
ロトカテクオイルー没食子酸、4.6−シヒドロキシフ
タル酸、(2,4−ジヒドロキシフェニル〉酢酸、(2
,6−ジヒドロキシフェニル)酢酸、(3,4,5−ト
リヒドロキシフェニル)酢酸、p−ヒドロキシメチル安
息香酸、p−ヒドロキシエチル安息香酸、4−(p−ヒ
ドロキシフェニル)メチル安息香酸、4−(o−ヒドロ
キシベンゾイル)安息香酸、4− (2,4−ジヒドロ
キシベンゾイル)安息香酸、4−(p−ヒドロキシフェ
ノキシ)安息香酸、4−(p−ヒドロキシアニリノ)安
息香酸、ビス(3−カルボキシ−4−ヒドロキシフェニ
ル)アミン、4− (p−ヒドロキシフェニルスルホニ
ル)安息香酸、4−(p−ヒドロキシフェニルチオ)安
息香酸等を挙げることができる。このうち特に好ましい
ものは、サリチル酸、p−ヒドロキシ安息香酸、p−メ
トキシ安息香酸、メタクロロ安息香酸である。
Specific examples of the aromatic compound containing a carboxyl group and/or hydroxyl group as a constitutional unit of the co-condensed diazo resin include benzoic acid, 〇-chlorobenzoic acid, m-
Chlorobenzoic acid, p-chlorobenzoic acid, phthalic acid, terephthalic acid, diphenylacetic acid, phenoxyacetic acid, p-methoxyphenylacetic acid, p-methoxybenzoic acid, 2,4-dimethoxybenzoic acid, 2,4-dimethylbenzoic acid, p-phenoxybenzoic acid, 4-anilinobenzoic acid, 4-(m-
Methoxyanilino)benzoic acid, 4-(p-methylbenzoyl)benzoic acid, 4-(p-methylanilino)benzoic acid, 4-phenylsulfonylbenzoic acid, phenol,
(o, m, p)-cresol, xylenol, resorcin, 2-methylresorcin, (o, m, p)-methoxyphenol, m-ethoxyphenol, catechol, phloroglycin, p-hydroxyethylphenol, naphthol, pyrogallol, Hydroquinone, p-hydroxybenzyl alcohol, 4-chlororesorcinol, biphenyl-4,4゛-diol, l,2゜4-benzenetriol, bisphenol A12゜4-dihydroxybenzophenone, 2.3.4-trihydroxybenzophenone, p -Hydroxyacetophenone, 4.4-dihydroxydiphenyl ether, 4. 4'-dihydroxydiphenylamine, 4,4''-dihydroxydiphenyl sulfide, cumylphenol, (o, m, p) -
Chlorophenol, (o, m, p)-bromophenol, salicylic acid, 4-methylsalicylic acid, 6-methylsalicylic acid, 4-ethylsalicylic acid, 6-propylsalicylic acid, 6-laurylsalicylic acid, 6-stialylsalicylic acid, 4.6 -Simethylsalicylic acid, p-hydroxybenzoic acid, 2-methyl-4-hydroxybenzoic acid, 6-methyl-4-hydroxybenzoic acid, 2,6-dimethyl-4-
Hydroxybenzoic acid, 2,4-dihydroxybenzoic acid,
2.4-dihydroxy-6-methylbenzoic acid, 26-dihydroxybenzoic acid, 2.6-dihydroxy-4-benzoic acid, 4-chloro-2,6-dihydroxybenzoic acid, 4
-Methoxy-2,6-dioxybenzoic acid, gallic acid, phloroglucincarboxylic acid, 2.4.5-trihydroxybenzoic acid, m-galloyl gallic acid, tannic acid, m-benzoyl gallic acid, m-(p -) gallic acid, protocatechoyl gallic acid, 4,6-cyhydroxyphthalic acid, (2,4-dihydroxyphenyl>acetic acid, (2
, 6-dihydroxyphenyl)acetic acid, (3,4,5-trihydroxyphenyl)acetic acid, p-hydroxymethylbenzoic acid, p-hydroxyethylbenzoic acid, 4-(p-hydroxyphenyl)methylbenzoic acid, 4-( o-hydroxybenzoyl)benzoic acid, 4-(2,4-dihydroxybenzoyl)benzoic acid, 4-(p-hydroxyphenoxy)benzoic acid, 4-(p-hydroxyanilino)benzoic acid, bis(3-carboxy- Examples include 4-hydroxyphenyl)amine, 4-(p-hydroxyphenylsulfonyl)benzoic acid, and 4-(p-hydroxyphenylthio)benzoic acid. Particularly preferred among these are salicylic acid, p-hydroxybenzoic acid, p-methoxybenzoic acid, and metachlorobenzoic acid.

上記共縮合ジアゾ樹脂の構成単位とする芳香族ジアゾニ
ウム化合物には、例えば特公昭49−48001号に挙
げられるようなジアゾニウム塩を用いることができるが
、特に、ジフェニルアξンー4−ジアゾニウム塩類が好
ましい。ジフェニルアミン−4−ジアゾニウム塩類は、
4−アミノージフェニルアごン類から誘導されるが、こ
のような4−アミノ−ジフェニルアミン類としては、4
−アミノジフェニルア果ン、4−アもノー3−メトキシ
ージフェニルアくン、4−アミノ−2−メトキシ−ジフ
ェニルアミン、4“ −アミノ−2−メトキシージフェ
ニルアミノ、4′ −アミノ−4−メトキシジフヱニル
アミン、4−アミノ−3−メチルジフェニルアミン、4
−アミノ−3−エトキシージフェニルア〔ン、4−アミ
ノ−3−β−ヒドロキシーニトキシジフエニルア案ン、
4−アミノ−ジフェニルアミン−2−スルホン酸、4−
アミノ−ジフェニルアミン−2−カルボン酸、4−アミ
ノ−ジフェニルアミン−2” −カルボン酸等を挙げる
ことができる。特に好ましくは3−メトキシ−4−アミ
ノージフェニルアミン、4−アミノ−ジフェニルアミン
である。
As the aromatic diazonium compound used as the structural unit of the above-mentioned co-condensed diazo resin, diazonium salts such as those listed in Japanese Patent Publication No. 49-48001 can be used, but diphenyla ξ-4-diazonium salts are particularly preferred. . Diphenylamine-4-diazonium salts are
These 4-amino-diphenylamines include 4-amino-diphenylamines.
-aminodiphenylamino, 4-amino-3-methoxydiphenylamino, 4-amino-2-methoxy-diphenylamine, 4'-amino-2-methoxydiphenylamino, 4'-amino-4- Methoxydiphenylamine, 4-amino-3-methyldiphenylamine, 4
-amino-3-ethoxydiphenylamine, 4-amino-3-β-hydroxynitoxydiphenylamine,
4-amino-diphenylamine-2-sulfonic acid, 4-
Examples include amino-diphenylamine-2-carboxylic acid, 4-amino-diphenylamine-2''-carboxylic acid, etc. Particularly preferred are 3-methoxy-4-aminodiphenylamine and 4-amino-diphenylamine.

本発明に用いることができる共縮合ジアゾ樹脂としては
、下記−数式(X)で表されるものが好ましい。
The co-condensed diazo resin that can be used in the present invention is preferably one represented by the following formula (X).

一般式(X) 一般式(X)中、Aはカルボキシル基または水酸基のい
ずれか少なくとも一方を有する芳香族化合物から導かれ
る基であり、このような芳香族化合物としては、前記例
示したものを挙げることができる。
General Formula (X) In General Formula (X), A is a group derived from an aromatic compound having at least one of a carboxyl group and a hydroxyl group, and examples of such aromatic compounds include those listed above. be able to.

式中、R8、R2及びR3は水素原子、アルキル基また
はフェニル基を示し、Rは水素原子、アルキル基または
フェニル基を示し、Xは対アニオンを示す。nは好まし
くは1〜200の数を示す。
In the formula, R8, R2 and R3 represent a hydrogen atom, an alkyl group or a phenyl group, R represents a hydrogen atom, an alkyl group or a phenyl group, and X represents a counter anion. n preferably represents a number from 1 to 200.

本発明において共縮合ジアゾ樹脂を用いる場合には、芳
香族ジアゾニウム化合物を縮合させてなる縮合ジアゾ樹
脂と併用するとさらに好ましい。
When a co-condensed diazo resin is used in the present invention, it is more preferable to use it in combination with a condensed diazo resin obtained by condensing an aromatic diazonium compound.

この場合においては、共縮合ジアゾ樹脂は、ジアゾ樹脂
中に5重量%以上、縮合ジアゾ樹脂は、ジアゾ樹脂中に
95重量%以下の量として併用されることが好ましい。
In this case, the co-condensed diazo resin is preferably used in an amount of 5% by weight or more in the diazo resin, and the condensed diazo resin is preferably used in an amount of 95% by weight or less in the diazo resin.

更にこの場合、共縮合ジアゾ樹脂:縮合ジアゾ樹脂の重
量%比は、感度及び現像性を共に優れたものとするとい
う点で特に望ましいのは、30〜70 : 70〜30
である。
Furthermore, in this case, the weight % ratio of co-condensed diazo resin to condensed diazo resin is preferably 30 to 70: 70 to 30 in order to achieve both excellent sensitivity and developability.
It is.

上記の共縮合ジアゾ樹脂や、これと併用して、またはジ
アゾ樹脂として独立して使用される縮合ジアゾ樹脂は、
公知の方法、例えば、フォトグラフィック・サイエンス
・アンド・エンジニアリング(Photo、Sci、E
ng、)第17巻、第33頁(1973)、米国特許第
2,063,631号、同第2,679,498号各明
細書に記載の方法に従い、硫酸やリン酸あるいは塩酸中
でジアゾニウム塩、カルボキシ及びヒドロキシル基を有
する芳香族化合物及びアルデヒド類、例えばパラホルム
アルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒドある
いはケトン類、例えばアセトン、アセトフェノンとを重
縮合させることによって得られる。
The above-mentioned co-condensed diazo resins and condensed diazo resins used in combination with these or independently as diazo resins are:
Known methods such as Photographic Science and Engineering (Photo, Sci, E.
ng, Volume 17, Page 33 (1973), U.S. Patent No. 2,063,631, U.S. Patent No. 2,679,498. It is obtained by polycondensation of salts, aromatic compounds having carboxyl and hydroxyl groups, and aldehydes, such as paraformaldehyde, acetaldehyde, benzaldehyde, or ketones, such as acetone and acetophenone.

また、これら分子中にカルボキシル基及び/またはヒド
ロキシル基を有する芳香族化合物、芳香族ジアゾ化合物
及びアルデヒド類またはケトン類は相互に組合わせ自由
であり、さらに各々2種以上を混ぜて共縮合することも
可能である。
Furthermore, these aromatic compounds, aromatic diazo compounds, and aldehydes or ketones having carboxyl and/or hydroxyl groups in their molecules can be freely combined with each other, and two or more of each may be mixed and co-condensed. is also possible.

カルボキシル基及びヒドロキシル基のうち少なくとも一
方を有する芳香族化合物と芳香族ジアゾニウム化合物の
仕込みモル比は、好ましくは1:0.1〜0.1:1、
より好ましくはt:O,S〜0.2=1、更に好ましく
は1:1〜0.2:1である。
The molar ratio of the aromatic compound having at least one of a carboxyl group and a hydroxyl group to the aromatic diazonium compound is preferably 1:0.1 to 0.1:1,
More preferably t:O,S~0.2=1, still more preferably 1:1~0.2:1.

またこの場合カルボキシル基及びヒドロキシル基のうち
少なくとも一方を有する芳香族化合物及び芳香族ジアゾ
ニウム化合物の合計とアルデヒド類またはケトン類とを
モル比で通常好ましくは1:0.6〜1.2、より好ま
しくはi:o、’y〜1.5で仕込み、低温で短時間、
例えば3時間程度反応させることにより、共縮合ジアゾ
樹脂が得られる。
In this case, the molar ratio of the sum of aromatic compounds and aromatic diazonium compounds having at least one of a carboxyl group and a hydroxyl group to aldehydes or ketones is usually preferably 1:0.6 to 1.2, more preferably 1:0.6 to 1.2. Prepare at i:o, 'y ~ 1.5, and cook at low temperature for a short time.
For example, by reacting for about 3 hours, a co-condensed diazo resin can be obtained.

上記ジアゾ樹脂の対アニオンは、該ジアゾ樹脂と安定に
塩を形威し、かつ該樹脂を有機溶媒に可溶となすアニオ
ンを含む。このようなアニオンを形成するものとしては
、デカン酸及び安息香酸等の有機カルボン酸、フェニル
リン酸等の有機リン酸及びスルホン酸を含み、典型的な
例としては、メタンスルホン酸、クロロエタンスルホン
酸、ドデカンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トルエ
ンスルホン酸、メシチレンスルホン酸、及びアントラキ
ノンスルホン酸、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾ
フェノン−5−スルホン酸、ヒドロキシスルホン酸、4
−アセチルベンゼンスルホン酸、ジメチル−5−スルホ
イソフタレート等の脂肪族並びに芳香族スルホン酸、2
.2’ 、4.4’テトラヒドロキシベンゾフエノン、
1.2.3−トリヒドロキシベンゾフェノン、2.2’
4−トリヒドロキシベンゾフェノン等の水酸基含有芳香
族化合物、ヘキサフルオロリン酸、テトラフルオロホウ
酸等のハロゲン化ルイス酸、C14、IO4等の過ハロ
ゲン酸等を挙げることができる。
The counter anion of the diazo resin includes an anion that stably forms a salt with the diazo resin and makes the resin soluble in an organic solvent. Those that form such anions include organic carboxylic acids such as decanoic acid and benzoic acid, organic phosphoric acids such as phenylphosphoric acid, and sulfonic acids, and typical examples include methanesulfonic acid, chloroethanesulfonic acid, etc. , dodecanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, toluenesulfonic acid, mesitylenesulfonic acid, and anthraquinonesulfonic acid, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone-5-sulfonic acid, hydroxysulfonic acid, 4
- Aliphatic and aromatic sulfonic acids such as acetylbenzenesulfonic acid and dimethyl-5-sulfoisophthalate, 2
.. 2', 4,4'tetrahydroxybenzophenone,
1.2.3-trihydroxybenzophenone, 2.2'
Examples include hydroxyl group-containing aromatic compounds such as 4-trihydroxybenzophenone, halogenated Lewis acids such as hexafluorophosphoric acid and tetrafluoroboric acid, and perhalogen acids such as C14 and IO4.

但しこれに限られるものではない。これらの中で、特に
好ましいのは、ヘキサフルオロリン酸、2−ヒドロキシ
−4−メトキシベンゾフェノン−5−スルホン酸である
However, it is not limited to this. Among these, particularly preferred are hexafluorophosphoric acid and 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone-5-sulfonic acid.

上記の共縮合ジアゾ樹脂は、各単量体のモル比及び縮合
条件を種々変えることにより、その分子量は任意の値と
して得ることができる。本発明において一般に、好まし
くは、分子量が約400乃至10,000のものが有効
に使用でき、より好ましくは、約800乃至5.000
のものが適当である。
The above-mentioned co-condensed diazo resin can have an arbitrary molecular weight by varying the molar ratio of each monomer and the condensation conditions. In the present invention, in general, those having a molecular weight of about 400 to 10,000 can be effectively used, more preferably about 800 to 5,000.
is appropriate.

また、本発明において、上記した共縮合ジアゾ樹脂以外
で、ジアゾ樹脂として好ましく使用できるものに、例え
ば、前掲のフォトグラフィック・サンエンス・アンド・
エンジニアリング(Photo。
In addition, in the present invention, other than the above-mentioned co-condensed diazo resins, those that can be preferably used as diazo resins include, for example, the above-mentioned Photographic Science &
Engineering (Photo.

Sci、Eng、)第17巻、第33頁(1973)や
、米国特許第2,063,631号、同2,679,4
98号、同3゜050.502号各明細書、特開昭59
−78340号公報等にその製造方法が記載されている
ジアゾ化合物と活性カルボニル化合物、例えばホルムア
ルデヒド、アセトアルデヒドあるいはベンズアルデヒド
等を硫酸、リン酸、塩酸等の酸性媒体中で縮合させて得
られたジアゾ樹脂、特公昭49−4001号公報に、そ
の製造方法が記載されているジアゾ化合物とジフェニル
樹脂等を挙げることができる。
Sci, Eng.) Vol. 17, p. 33 (1973), and U.S. Pat.
No. 98, 3゜050.502 specifications, JP-A-59
A diazo resin obtained by condensing a diazo compound and an active carbonyl compound, such as formaldehyde, acetaldehyde or benzaldehyde, etc., in an acidic medium such as sulfuric acid, phosphoric acid, or hydrochloric acid, the manufacturing method of which is described in Publication No. 78340, etc. Examples include diazo compounds and diphenyl resins whose production methods are described in Japanese Patent Publication No. 49-4001.

上記の中で、本発明に好ましく用いることができるジア
ゾ樹脂は、下記−数式(XI)で示され、しかも、各式
におけるnが5以上である樹脂を20モル%以上、更に
好ましくは、20〜60モル%含むものである。式中、
R3〜R,、R,X+nは、前記−数式(X)における
ものと同義である。−数式(XI)において、R,、R
2及びR3のアルキル基及びアルコキシ基としては、例
えば炭素数1〜5のアルキル基及び炭素数l〜5のアル
コキシ基が挙げられ、また、Rのアルキル基としては、
炭素数1〜5のアルキル基が挙げられる。
Among the above, the diazo resin that can be preferably used in the present invention is represented by the following formula (XI), and contains 20 mol% or more of the resin in which n in each formula is 5 or more, more preferably 20 mol% or more. It contains ~60 mol%. During the ceremony,
R3 to R, , R, and X+n have the same meanings as in formula (X) above. - In formula (XI), R,,R
Examples of the alkyl group and alkoxy group of 2 and R3 include an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms and an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, and as the alkyl group of R,
Examples include alkyl groups having 1 to 5 carbon atoms.

−数式(XI) かかる感光性ジアゾ樹脂は、公知の方法、例えば前記し
た、フォトグラフィック・サイエンス・アンド・エンジ
ニアリングその他上記で引用の各米国特許明細書等に記
載の方法に従って、製造することができる。
- Formula (XI) Such a photosensitive diazo resin can be produced according to a known method, for example, the method described in the above-mentioned Photographic Science and Engineering and other U.S. patent specifications cited above. .

なおその際、ジアゾニウム塩とアルデヒド類を重縮合さ
せるに当たって、両者をモル比で通常l:0.6〜1:
2、好ましくは、1:0.7〜1:1.5で仕込み、低
温で短時間、例えば10℃以下3時間程度反応させるこ
とにより高感度ジアゾ樹脂が得られる。
At that time, when polycondensing the diazonium salt and the aldehyde, the molar ratio of both is usually 1:0.6 to 1:
2. A high-sensitivity diazo resin can be obtained by charging preferably at a ratio of 1:0.7 to 1:1.5 and reacting at a low temperature for a short period of time, for example, 10° C. or less for about 3 hours.

一般式(XI)で示されるジアゾ樹脂の対アニオンとし
ては、前記共縮合ジアゾ樹脂について対アニオンとして
挙げたものと同様なものを挙げることができる。
As the counter anion of the diazo resin represented by the general formula (XI), the same counter anions as those mentioned for the co-condensed diazo resin can be mentioned.

本発明の実施に際して、感光性平版印刷版の感光層は、
感光性物質としてジアゾ樹脂を3〜50重量%、より好
ましくは3〜30重量%含むことが好ましい。
In the practice of the present invention, the photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate is
It is preferable that the photosensitive material contains 3 to 50% by weight, more preferably 3 to 30% by weight of diazo resin.

本発明の感光性平版印刷物の感光層は、任意の有機酸、
無機酸、酸無水物を含有することができる。
The photosensitive layer of the photosensitive lithographic printed matter of the present invention may contain any organic acid,
It can contain inorganic acids and acid anhydrides.

有iMとしては、任意であるが、モノカルボン酸、ポリ
カルボン酸のカルボキシル基を少なくとも1個有する酸
が好ましい、リンゴ酸、酒石酸や、ポリアクリル酸(商
品名ジュリマーとして市販されているもの等)を好まし
く用いることができる。
Although the iM is arbitrary, acids having at least one carboxyl group such as monocarboxylic acids and polycarboxylic acids are preferred, such as malic acid, tartaric acid, and polyacrylic acid (such as those commercially available under the trade name Jurimer). can be preferably used.

無機酸としては、リン酸などを用いることができる。酸
無水物も任意であり、無水酢酸、無水プロピオン酸、無
水安息香酸なと、脂肪族・芳香族モノカルボン酸から誘
導されるもの、無水コハク酸、無水マレイン酸、無水グ
ルタル酸、無水フタル酸など、脂肪族・芳香族ジカルボ
ン酸から誘導されるもの等を挙げることができる。
As the inorganic acid, phosphoric acid or the like can be used. Acid anhydrides are also optional, such as acetic anhydride, propionic anhydride, benzoic anhydride, those derived from aliphatic/aromatic monocarboxylic acids, succinic anhydride, maleic anhydride, glutaric anhydride, phthalic anhydride. Examples include those derived from aliphatic/aromatic dicarboxylic acids.

本発明の感光性平版印刷版の感光層には、色素、特に処
理により有色から無色になる、または変色する色素を含
有させることができる。好ましくは、有色から無色にな
る色素を含有させる。
The photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate of the present invention can contain a dye, particularly a dye that changes color from colored to colorless or changes color upon processing. Preferably, a pigment that changes from colored to colorless is contained.

本発明の実施に際し、好ましく用いることができる色素
として、次のものを挙げることができる。
In carrying out the present invention, the following can be mentioned as dyes that can be preferably used.

即ち、例えば、ビクトリアピュアブルーBOH(保土谷
化学社製)、オイルブルー1603(オリエント化学工
業社製)、パテントピュアプル−(住友三国化学社製)
、クリスタルバイオレット、ブリリアントグリーン、エ
チルバイオレット、メチルバイオレフト、メチルグリー
ン、エリスロシンB1ベイシックツクシン、マラカイト
グリーン、オイルレッド、m−クレゾールパープル、ロ
ーダミンB1オーラξン、4−p−ジメチルアミノフェ
ニルイミノナフトキン、シアノ−p−ジエチルアミノフ
ェニルアセトアニリド等に代表されるトリフェニルメタ
ン系、ジフェニルメタン系、オキサジン系、キサンチン
系、イミノナフトキノン系、アゾメチン系またはアント
ラキノン系の色素が、有色から無色あるいは異なる有色
へと変色する色素の例として挙げることができる。
That is, for example, Victoria Pure Blue BOH (manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.), Oil Blue 1603 (manufactured by Orient Chemical Industry Co., Ltd.), Patent Pure Blue (manufactured by Sumitomo Mikuni Chemical Co., Ltd.)
, crystal violet, brilliant green, ethyl violet, methyl violet, methyl green, erythrosin B1 basic tsuksin, malachite green, oil red, m-cresol purple, rhodamine B1 aura ξ, 4-p-dimethylaminophenyl imino naphthoquin , triphenylmethane-based, diphenylmethane-based, oxazine-based, xanthine-based, iminonaphthoquinone-based, azomethine-based, or anthraquinone-based pigments such as cyano-p-diethylaminophenyl acetanilide change color from colored to colorless or to a different color. Examples of pigments include:

特に好ましくはトリフェニルメタン系、ジフェニルメタ
ン系色素が有効に用いられ、更に好ましくはトリフェニ
ルメタン系色素であり、特にビクトリアビューアブルー
BOHが好ましい。
Particularly preferred are triphenylmethane-based and diphenylmethane-based dyes, more preferably triphenylmethane-based dyes, and Victoria Viewer Blue BOH is particularly preferred.

上記変色剤は、感光性組成物中に通常約0.5〜約10
重量%含有させることが好ましく、より好ましくは約1
〜5重量%含有させる。
The above-mentioned color changing agent is usually added in the photosensitive composition from about 0.5 to about 10
It is preferable to contain the amount by weight, more preferably about 1% by weight.
Contain up to 5% by weight.

本発明の感光性平版印刷版の感光層には、更に種々の添
加物を加えることができる。
Various additives can be further added to the photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate of the present invention.

例えば、塗布性を改良するためのアルキルエーテルRC
例えばエチルセルロース、メチルセルロース〉、フッ素
界面活性剤類や、ノニオン系界面活性剤〔例えば、ブル
ロニックL−64(旭電化株式会社製)〕、塗膜の柔軟
性、耐摩耗性を付与するための可塑剤(例えばブチルフ
タリル、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル
、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘ
キシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リ
ン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テト
ラヒドロフルフリル、アクリル酸またはメタクリル酸の
オリゴマー及びポリマー)を含有させることができる。
For example, alkyl ether RC to improve coating properties.
For example, ethyl cellulose, methyl cellulose>, fluorine surfactants, nonionic surfactants [e.g., Bluronic L-64 (manufactured by Asahi Denka Corporation)], plasticizers to impart flexibility and abrasion resistance to the coating film. (e.g. butyl phthalyl, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, acrylic acid or methacrylic acid) oligomers and polymers).

更に、画像部の感脂性を向上させるための感脂化剤(例
えば、特開昭55−527号公報記載のスチレン−無水
マレイン酸共重合体のアルコールによるハーフエステル
化物等)を加えて、これを併用することにより本発明に
おける成分(B)の感脂化剤としての機能を更に高める
ようにすることもできる。またその他の添加剤として、
安定剤〔例えば、リン酸、亜リン酸、有機酸(クエン酸
、シュウ酸、ベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン
酸、4−メトキシ−2−ヒドロキシベンゾフェノン−5
−スルホン酸、酒石酸等〉〕等を使用することができる
。これらの添加剤の添加量は、その使用対象・目的によ
って異なるが、一般に好ましくは全固形分に対して、0
.01〜30重量%である。
Further, an oil-sensitizing agent (for example, a half-ester of styrene-maleic anhydride copolymer with alcohol described in JP-A No. 55-527) is added to improve the oil-sensitivity of the image area. The function of component (B) as an oil sensitizing agent in the present invention can be further enhanced by using the component (B) in combination. In addition, as other additives,
Stabilizers [e.g. phosphoric acid, phosphorous acid, organic acids (citric acid, oxalic acid, benzenesulfonic acid, naphthalenesulfonic acid, 4-methoxy-2-hydroxybenzophenone-5
-sulfonic acid, tartaric acid, etc.). The amount of these additives added varies depending on the object and purpose of use, but it is generally preferable to add 0 to the total solid content.
.. 01 to 30% by weight.

次に、本発明の感光性平版印刷版は、上記の如き感光層
を、支持体上に設けることによって構成できるものであ
る。
Next, the photosensitive lithographic printing plate of the present invention can be constructed by providing a photosensitive layer as described above on a support.

感光層は、感光性組成物等を支持体上に塗布して設ける
ことができるが、この場合、感光性m放物を構成する前
述した高分子化合物、その他の添加剤等の所定量を適当
な溶媒(メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、メチル
セロソルブアセテート・アセトン、メチルエチルケトン
、メタノール、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホ
キシド、水またはこれらの混合物等)中に溶解させ感光
性組成物の塗布液を調節し、これを支持体上に塗布、乾
燥する手・段を用いることができる。塗布する際の感光
性組成物の濃度は1〜5(l量%の範囲とすることが望
ましい。この場合、感光性組成物の塗布量は、好ましく
はおおむね0.2〜10 g/rrr程度とすればよい
The photosensitive layer can be provided by coating a photosensitive composition etc. on a support, but in this case, a predetermined amount of the above-mentioned polymer compound and other additives constituting the photosensitive m-parabolite may be appropriately applied. Prepare a coating solution of the photosensitive composition by dissolving it in a suitable solvent (such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve, methyl cellosolve acetate/acetone, methyl ethyl ketone, methanol, dimethyl formamide, dimethyl sulfoxide, water or a mixture thereof) and support it. Means for applying and drying on the body can be used. The concentration of the photosensitive composition during coating is preferably in the range of 1 to 5 (l%). In this case, the coating amount of the photosensitive composition is preferably about 0.2 to 10 g/rrr. And it is sufficient.

本発明の感光性平版印刷版において、感光性層を形成す
る支持体としては、種々のものが使用できる。特にアル
1ニウム板が好ましい。しかし、アルミニウム板を無処
理のまま使用すると、感光性組成物の接着性が悪く、ま
た、感光性組成物が分解するという問題がある。この問
題をなくすために、従来、種々の提案がなされている。
In the photosensitive lithographic printing plate of the present invention, various supports can be used to form the photosensitive layer. Particularly preferred is an aluminum plate. However, if an aluminum plate is used without treatment, there are problems in that the adhesion of the photosensitive composition is poor and the photosensitive composition decomposes. In order to eliminate this problem, various proposals have been made in the past.

例えば、アルミニウム板の表面を砂目立てした後、ケイ
酸塩で処理する方法(米国特許第2.714゜066号
)、有機酸塩で処理する方法(米国特許第2.714.
066号)、ホスホン酸及びそれらの誘導体で処理する
方法(米国特許第3,220.832号)、ヘキサフル
オロジルコン酸カリウムで処理する方法(米国特許第2
,946.683号)、陽極酸化する方法及び陽極酸化
後、アリカリ金属ケイ酸塩の水溶液で処理する方法(米
国特許第3.181.461号)等がある。
For example, a method in which the surface of an aluminum plate is grained and then treated with a silicate (US Pat. No. 2.714.066), a method in which the surface of an aluminum plate is treated with an organic acid salt (US Pat. No. 2.714.
No. 066), treatment with phosphonic acids and their derivatives (U.S. Pat. No. 3,220,832), treatment with potassium hexafluorozirconate (U.S. Pat. No. 2
, 946.683), a method of anodizing, and a method of treating with an aqueous solution of alkali metal silicate after anodizing (US Pat. No. 3,181,461).

本発明の好ましい実施の態様においては、アルミニウム
板(アルミナ積層板を含む。以下同じ)は、表面を脱脂
した後、ブラシ研磨法、ポール研磨法、化学研磨法、電
解エツチング法等による砂目立てが施され、好ましくは
、深くて均質な砂目の得られる電解エツチング法で砂目
立される。陽極酸化処理は例えばリン酸、クロム酸、ホ
ウ酸、硫酸等の無機塩もしくはシュウ酸等の有機酸の単
独、あるいはこれらの酸2種以上を混合した水溶液中で
、好ましくは硫酸水溶液中で、アルミニウム板を陽極と
して電流を通じることによって行われる。陽極酸化被膜
量は5〜60■/d、(が好ましく、更に好ましくは5
〜30■/drrfである。
In a preferred embodiment of the present invention, the surface of the aluminum plate (including the alumina laminate; the same applies hereinafter) is degreased and then grained by a brush polishing method, a pole polishing method, a chemical polishing method, an electrolytic etching method, etc. The grain is preferably grained using an electrolytic etching method which produces deep and uniform grains. The anodizing treatment is carried out, for example, in an aqueous solution of an inorganic salt such as phosphoric acid, chromic acid, boric acid, or sulfuric acid, or an organic acid such as oxalic acid, or a mixture of two or more of these acids, preferably in an aqueous sulfuric acid solution. This is done by passing an electric current through an aluminum plate as an anode. The amount of anodic oxide film is preferably 5 to 60 μ/d, more preferably 5
~30■/drrf.

本発明の実施に際し、封孔処理を行う場合、好ましくは
濃度0.1〜3%のケイ素ナトリウム水溶液に、温度8
0〜95℃で10秒〜2分間浸漬してこの処理を行う。
When carrying out the pore sealing treatment in carrying out the present invention, it is preferable to add a sodium silicate aqueous solution with a concentration of 0.1 to 3% at a temperature of 8.
This treatment is carried out by immersion at 0 to 95°C for 10 seconds to 2 minutes.

より好ましくはその後に40〜95℃の水に10秒〜2
分間浸漬して処理する。
More preferably, it is then soaked in water at a temperature of 40 to 95°C for 10 seconds to 2
Soak and process for a minute.

本発明の感光性平版印刷版は、従来の常法により感光さ
れ現像することができる。即ち、例えば、線画像、網点
画像等を有する透明原画を通して感光し、次いで、水性
現像液で現像することにより、原画に対してネガのリー
フ像を得ることができる。
The photosensitive lithographic printing plate of the present invention can be exposed and developed by conventional methods. That is, for example, a negative leaf image can be obtained with respect to the original image by exposing the transparent original image having a line image, halftone image, etc. to light, and then developing with an aqueous developer.

露光に好適な光源としては、カーボンアーク灯、水銀灯
、キセノンランプ、メタルハライドランプ、ストロボ等
が挙げられる。
Light sources suitable for exposure include carbon arc lamps, mercury lamps, xenon lamps, metal halide lamps, strobes, and the like.

本発明の感光性平版印刷版を現像処理する現像液は、こ
れを現像し得るものであれば、任意である。
Any developer can be used to develop the photosensitive lithographic printing plate of the present invention as long as it can develop the plate.

好ましくは、特定の有機溶媒と、アルカリ剤と、水とを
必要成分として含有する現像液を用いることができる。
Preferably, a developer containing a specific organic solvent, an alkaline agent, and water as necessary components can be used.

ここに特定の有機溶媒とは、現像液中に含有させたとき
、本発明の感光性組成物から成る層の非露光部(非画像
部)を溶解ないしは膨潤することができるものをいい、
しかも常温(20℃)において水に対する溶解度が10
重量%以下の有機溶媒が好ましい。このような有機溶媒
としては上記のような特性を有するものでありさえすれ
ばよく、以下のもののみに限定されるものではないが、
これらを例示するならば、例えば、酢酸エチル、酢酸プ
ロピル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸ベンジル、エチ
レングリコールモノブチルアセテート、乳酸ブチル、レ
ブリン酸ブチルのようなカルボン酸エステル; エチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロ
ヘキサノンのようなケトン類; エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリ
コールベンジルエーテル、エチレングリコールモノフェ
ニルエーテル、ベンジルアルコール、メチルフェニルカ
ルビノール、n−アミルアルコール、メチルアくルアル
コールのようなアルコール頻; キシレンのようなアルキル置換芳香族炭化水素;メチレ
ンジクロライド、エチレンジクロライド、モノクロロベ
ンゼンのようなハロゲン化炭化水素などがある。これら
有機溶媒は一種以上用いてもよい。これら有機溶媒の中
では、エチレングリコールモノフェニルエーテルとベン
ジルアルコールが特に有効である。また、これら有機溶
媒の現像液中における含有量は、好ましくはおおむねl
〜20重量%であり、特に2〜10重量%のときより好
ましい結果を得る。
The specific organic solvent herein refers to one that can dissolve or swell the non-exposed area (non-image area) of the layer made of the photosensitive composition of the present invention when contained in the developer.
Furthermore, the solubility in water at room temperature (20°C) is 10.
% or less of organic solvent is preferred. Such organic solvents only need to have the above characteristics, and are not limited to the following:
Examples of these include carboxylic acid esters such as ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, amyl acetate, benzyl acetate, ethylene glycol monobutyl acetate, butyl lactate, butyl levulinate; ethyl butyl ketone, methyl isobutyl ketone. , ketones such as cyclohexanone; alcohols such as ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol benzyl ether, ethylene glycol monophenyl ether, benzyl alcohol, methylphenyl carbinol, n-amyl alcohol, methylalkyl alcohol; such as xylene alkyl-substituted aromatic hydrocarbons; halogenated hydrocarbons such as methylene dichloride, ethylene dichloride, and monochlorobenzene. One or more of these organic solvents may be used. Among these organic solvents, ethylene glycol monophenyl ether and benzyl alcohol are particularly effective. Further, the content of these organic solvents in the developer is preferably about 1
-20% by weight, and particularly preferable results are obtained when the content is 2-10% by weight.

他方、現像液中に含有される好ましいアルカリ剤として
は、 (A)ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、水酸化カリ
ウム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、第二または
第三リン酸のナトリウム、炭酸ナトリウム、アンモニウ
ム等の無機アルカリ剤、(B)モノ、ジまたはトリメチ
ルアミン、モノ。
On the other hand, preferred alkaline agents contained in the developer include (A) sodium silicate, potassium silicate, potassium hydroxide, sodium hydroxide, lithium hydroxide, sodium di- or tri-phosphate, and sodium carbonate; , inorganic alkali agents such as ammonium, (B) mono-, di- or trimethylamine, mono.

ジまたはトリエチルアミン、モノまたはジイソプロピル
アミン、n−ブチルアミン、モノ、ジまたはトリエタノ
ールアミン、モノ、ジまたはトリイソプロパノ−ルア藁
ン、エチレンイミン、エチレンジアミン等の有機アミン
化合物等が挙げられる。
Examples include organic amine compounds such as di- or triethylamine, mono- or diisopropylamine, n-butylamine, mono-, di- or triethanolamine, mono-, di- or triisopropanol, ethyleneimine, ethylenediamine, and the like.

これらアルカリ剤の現像液中における含有量は通常0.
05〜4重量%であることが好ましく、より好ましくは
0.5〜2重量%である。
The content of these alkaline agents in the developer is usually 0.
It is preferably 0.05 to 4% by weight, more preferably 0.5 to 2% by weight.

また、保存安定性、耐刷性等をより以上に高めるために
は、水活性亜硫酸塩を現像液中に含有させることが好ま
しい。このような水溶性亜硫酸塩としては、亜硫酸のア
ルカリまたはアルカリ土類金属塩が好ましく、例えば亜
硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜
硫酸マグネシウム等がある。これらの亜硫酸塩の現像液
組成物における含有量は通常好ましくは0.05〜4重
量%で、より好ましくは0.1〜1重量%である。
Further, in order to further improve storage stability, printing durability, etc., it is preferable to include a water-active sulfite in the developer. Such water-soluble sulfites are preferably alkali or alkaline earth metal salts of sulfite, such as sodium sulfite, potassium sulfite, lithium sulfite, magnesium sulfite, and the like. The content of these sulfites in the developer composition is usually preferably 0.05 to 4% by weight, more preferably 0.1 to 1% by weight.

かかる現像液を、現像露光後の感光性組成物と接触させ
たり、現像液によりすったりすれば、おおむね常温〜4
0℃にて10〜60秒後には、感光層の露光部に悪影響
を及ぼすことなく、非露光〔実施例〕 以下本発明の実施例について説明する。当然のことでは
あるが、本発明は以下の各実施例によって限定されるも
のではない。
If such a developer is brought into contact with the photosensitive composition after development and exposure, or is rubbed with the developer, the temperature will be approximately room temperature to 4.
After 10 to 60 seconds at 0[deg.] C., the exposed area of the photosensitive layer was not exposed to light without any adverse effect [Example] Examples of the present invention will be described below. As a matter of course, the present invention is not limited to the following examples.

実施例の具体的な説明に先立ち、各実施例及び比較例で
用いる高分子化合物、及びジアゾ樹脂について説明する
Prior to specific descriptions of Examples, the polymer compounds and diazo resins used in each Example and Comparative Example will be described.

窒素気流下で、アセトン65gとメタノール65gの混
合溶媒に、p−ヒドロキシフェニルメタクリルアミド(
IIyPMA) 17.7g、エチルアクリレート(E
A)57.0g、アクリロニトリル(AN)12.7g
1イタコン酸(IA) 11.7g、及びアゾビスイソ
ブチロニトリル1.64gを溶解し、この混合液を攪拌
しながら60℃で6時間還流した。反応終了後、反応液
を水中に投じて、高分子化合物を沈澱させた。これをろ
取し、50℃で一昼夜真空乾燥させた。
Under a nitrogen stream, p-hydroxyphenylmethacrylamide (
IIyPMA) 17.7g, ethyl acrylate (E
A) 57.0g, acrylonitrile (AN) 12.7g
11.7 g of itaconic acid (IA) and 1.64 g of azobisisobutyronitrile were dissolved, and the mixture was refluxed at 60° C. for 6 hours with stirring. After the reaction was completed, the reaction solution was poured into water to precipitate the polymer compound. This was collected by filtration and vacuum-dried at 50°C overnight.

得られた高分子化合物をテトラヒドロフラン(TIF)
にWI解し、ゲルパーミェーションクロマトグラフィー
CGPC:ポリスチレン標準)により測定したところ、
重量平均分子量は、80.000であった。
The obtained polymer compound was diluted with tetrahydrofuran (TIF).
When measured by gel permeation chromatography (CGPC: polystyrene standard),
The weight average molecular weight was 80.000.

窒素気流下で、アセトン65gとメタノール65gの混
合溶媒に、2−ヒドロキシエチルメタクリレート(HE
MA)13.3g 、エチルアクリレ−) (EA)5
0.0g 、アクリロニトリル(AN) 15.9g、
イタコンM (IA)11.7g、及びアゾビスイソブ
チロニトリル1.64gを溶解し、この混合液を攪拌し
なから60°Cで6時間還流した。反応終了後、反応液
を水中に投じて、高分子化合物を沈澱させた。これをろ
取し、50℃で一昼夜真空乾燥させた。
Under a nitrogen stream, 2-hydroxyethyl methacrylate (HE) was added to a mixed solvent of 65 g of acetone and 65 g of methanol.
MA) 13.3g, ethyl acrylate) (EA)5
0.0g, acrylonitrile (AN) 15.9g,
11.7 g of Itacon M (IA) and 1.64 g of azobisisobutyronitrile were dissolved, and the mixture was refluxed at 60°C for 6 hours without stirring. After the reaction was completed, the reaction solution was poured into water to precipitate the polymer compound. This was collected by filtration and vacuum-dried at 50°C overnight.

得られた高分子化合物をテトラヒドロフラン(THF)
に溶解シ、ゲルパーミェーションクロマトグラフィー(
GPC:ポリスチレン標準)により測定したところ、重
量平均分子量は、75.000であった。
The obtained polymer compound was dissolved in tetrahydrofuran (THF).
Dissolve in gel permeation chromatography (
As measured by GPC (polystyrene standard), the weight average molecular weight was 75.000.

官   人 (3)の入 (の9   人 )窒素気流
下で、アセトン65gとメタノール65gの混合溶媒に
、p−ヒドロキシフェニルメタクリルアミド(HyPM
A) 17.7g、エチルアクリレート(HA) 57
.0g、アクリロニトリル(AN) 12.7g、メタ
クリル酸(MAA)7.7g、及びアゾビスイソブチロ
ニトリル1.64gを溶解し、この混合液を攪拌しなが
ら60℃で6時間還流した。反応終了後、反応液を水中
に投じて、高分子化合物を沈澱させた。これをろ取し、
50℃で一昼夜真空乾燥させた。
(9 people) Under a nitrogen stream, add p-hydroxyphenylmethacrylamide (HyPM) to a mixed solvent of 65 g of acetone and 65 g of methanol.
A) 17.7g, ethyl acrylate (HA) 57
.. 0 g, acrylonitrile (AN) 12.7 g, methacrylic acid (MAA) 7.7 g, and azobisisobutyronitrile 1.64 g were dissolved, and the mixture was refluxed at 60° C. for 6 hours with stirring. After the reaction was completed, the reaction solution was poured into water to precipitate the polymer compound. Filter this out,
It was vacuum-dried at 50° C. for one day and night.

得られた高分子化合物をテトラヒドロフラン(THF)
にi9解し、ゲルパーミェーションクロマトグラフィー
(GPC:ポリスチレン標準)により測定したところ、
重量平均分子量は、78,000であったジアゾ1b(
1)のA p−ジアゾジフェニルアミン硫酸塩14.5 g  (
50ミリモル)を、水冷下で40gの濃硫酸に溶解した
The obtained polymer compound was dissolved in tetrahydrofuran (THF).
i9 and measured by gel permeation chromatography (GPC: polystyrene standard),
The weight average molecular weight of diazo 1b (
1) A p-diazodiphenylamine sulfate 14.5 g (
50 mmol) was dissolved in 40 g of concentrated sulfuric acid under water cooling.

この反応液に1.05 g  (35ミリモル)のパラ
ホルムアルデヒドをゆっくり滴下した。この際、反応温
度が10℃を超えないように添加していった。その後、
2時間水冷下で攪拌を続けた。この反応混合液を、水冷
下、500−のエタノールに滴下し、生じた沈澱をろ別
した。エタノールで沈澱を洗浄した後、100To1の
純水に溶解し、この液に、6.8gの塩化亜鉛を溶解し
た水溶液を加えた。生じた沈澱をろ別した後、エタノー
ルで洗い、150−の純水に溶解させた。この液に、8
gのへキサフルオロリン酸アンモニウムを溶解した水溶
液を加え、生じた沈澱をろ別し、水、エタノールで洗っ
た後、25℃で3日間乾燥して、ジアゾ樹脂(1)を得
た。
1.05 g (35 mmol) of paraformaldehyde was slowly added dropwise to this reaction solution. At this time, the addition was carried out so that the reaction temperature did not exceed 10°C. after that,
Stirring was continued for 2 hours under water cooling. This reaction mixture was added dropwise to 500 ml of ethanol under water cooling, and the resulting precipitate was filtered off. After washing the precipitate with ethanol, it was dissolved in 100To1 pure water, and an aqueous solution in which 6.8 g of zinc chloride was dissolved was added to this solution. The resulting precipitate was filtered off, washed with ethanol, and dissolved in 150-pure water. In this liquid, add 8
An aqueous solution in which ammonium hexafluorophosphate (g) was dissolved was added, and the resulting precipitate was filtered off, washed with water and ethanol, and then dried at 25° C. for 3 days to obtain diazo resin (1).

乏ヱ1凰巌堡坐企底 p−ヒドロキシ安息香酸3.5 g (25ミリモル)
、及びp−ジアゾジフェニルアミン硫酸塩21.75 
g(75ミリモル)を、水冷下で90gの濃硫酸に溶解
した。このン容液に、2.7 g (90ミリモル)の
バラホルムアルデヒドをゆっくり添加した。この際、反
応温度が10℃を超えないように添加した。2時間反応
溶液を攪拌した後、1Nのエタノールに滴下し、生じた
沈澱をろ別し、エタノールで洗浄した。沈澱を200 
Wiの純水に溶解し、10.5gの塩化亜鉛を溶解した
水溶液を加えた。生じた沈澱をろ過し、エタノールで洗
浄した後、300−の純水に溶解した。この溶液に、1
3.7 gのへキサフルオロリン酸アンモニウムを溶解
した水溶液を添加した。生じた沈澱をろ別し、水、エタ
ノールで洗浄した後、25℃で、−日乾燥して、ジアゾ
樹脂(2)を得た。
3.5 g (25 mmol) of p-hydroxybenzoic acid
, and p-diazodiphenylamine sulfate 21.75
g (75 mmol) was dissolved in 90 g of concentrated sulfuric acid under water cooling. To this solution, 2.7 g (90 mmol) of paraformaldehyde was slowly added. At this time, the addition was made so that the reaction temperature did not exceed 10°C. After stirring the reaction solution for 2 hours, it was added dropwise to 1N ethanol, and the resulting precipitate was filtered out and washed with ethanol. Precipitate 200
An aqueous solution containing 10.5 g of zinc chloride dissolved in Wi pure water was added. The resulting precipitate was filtered, washed with ethanol, and then dissolved in 300-pure water. Add 1 to this solution
An aqueous solution containing 3.7 g of ammonium hexafluorophosphate was added. The resulting precipitate was filtered, washed with water and ethanol, and then dried at 25°C for - days to obtain a diazo resin (2).

ジアゾ15(3)のA ジアゾ樹脂(2)の合成において、p−ヒドロキシ安息
香酸の代わり、にp−メトキシ安息香酸4.2g(25
ミリモル)を用いて同様に合威し、ジアゾ樹脂(3)を
得た。
A of Diazo 15 (3) In the synthesis of diazo resin (2), 4.2 g of p-methoxybenzoic acid (25
In the same manner, a diazo resin (3) was obtained.

次に実施例について比較例とともに説明する。Next, examples will be described together with comparative examples.

実施例1〜3.比較例1,2 砂目立て、陽極酸化されたアルミニウム板を支持体とし
、該支持体上に、次の組成の感光液(a)または(b)
を、固型分1.8g/m”の塗布量となるように塗布し
た後、乾燥して、感光性平版印刷版試料を得た。
Examples 1-3. Comparative Examples 1 and 2 A grained and anodized aluminum plate was used as a support, and a photosensitive solution (a) or (b) having the following composition was placed on the support.
was coated at a coating weight of 1.8 g/m'' solid content and dried to obtain a photosensitive lithographic printing plate sample.

感光液(a)(成分(B)含有の感光液)90g 感光液(b)(成分(B)を含有しない感光液)巳エチ
レングリコールモノメチルエーテル190g 各実施例(及び比較例)を構成するのに用いた感光液、
及び感光液組成中に示した高分子化合物表−l 得られた試料にネガ透明原画を置き、2kWのメタルハ
ライドランプで60a++の距離から30秒露光した後
、コニカPS版現像液5DN−21に27℃、20秒間
浸漬した後、軽く脱脂綿でこすって現像した。
Photosensitive liquid (a) (photosensitive liquid containing component (B)) 90g Photosensitive liquid (b) (photosensitive liquid not containing component (B)) 190g ethylene glycol monomethyl ether Constituting each example (and comparative example) The photosensitive liquid used for
and Table 1 of polymer compounds shown in the composition of the photosensitive solution A negative transparent original image was placed on the obtained sample, exposed for 30 seconds from a distance of 60a++ with a 2kW metal halide lamp, and then exposed to Konica PS plate developer 5DN-21 for 27 seconds. ℃ for 20 seconds, and then rubbed lightly with absorbent cotton and developed.

得られた版は、ハイデルベルグGTO印刷機で印刷し、
紙面の汚れぐあいにより、現像性を評価した。
The resulting plate was printed on a Heidelberg GTO printing press and
Developability was evaluated based on the amount of dirt on the paper surface.

また、塗布後の試料を強制保存(温度55℃、湿度20
%RH15日間)した後に、上述の方法と同様にして、
露光・現像・印刷を行い、保存現像性を評価した。
In addition, the sample after coating was forcibly stored (temperature: 55°C, humidity: 20°C).
%RH for 15 days), then in the same manner as above,
Exposure, development, and printing were performed to evaluate storage developability.

また、UVインキ(果菜ベストキュアーBF紅、果菜色
素製)を用いて印刷を行い、各試料の印刷可能枚数を比
較した。
In addition, printing was performed using UV ink (Kasai Best Cure BF Beni, manufactured by Kasai Shiki), and the number of printable sheets of each sample was compared.

また、露光・現像後の版のベタ部を、UVインキ洗い油
(ソルフィット、クラレ製)を含んだスポンジで1分間
こすり、版のベタ部の濃度を濃度計(赤色光)で測定し
、UVインキ洗い油でこする前後の濃度差を比較し、U
Vインキ洗い油耐性を評価した。
In addition, after exposure and development, the solid area of the plate was rubbed with a sponge containing UV ink cleaning oil (Solfit, manufactured by Kuraray) for 1 minute, and the density of the solid area of the plate was measured with a densitometer (red light). Compare the density difference before and after rubbing with UV ink cleaning oil, and
V ink washing oil resistance was evaluated.

また、インキ着肉性の評価を、次のようにして行った。Further, ink receptivity was evaluated as follows.

即ち、上記と同様に露光・現像を行った試料に、コニカ
PS版ガム液5GQ−3(2倍に希釈)を塗り、乾燥後
、印刷を行った。画線部のガムが除去され、正常な着肉
が得られるのに何枚要するかを比較した。
That is, a sample exposed and developed in the same manner as above was coated with Konica PS version gum solution 5GQ-3 (diluted twice), and after drying, printing was performed. The number of sheets required to remove the gum in the image area and obtain normal inking was compared.

表−2 表−2から、実施例1〜3については、塗布直後未保存
の現像性も、また、強制保存後の保存現像性も、いずれ
も優れていることがわかる。更に、UVインキ耐剛力も
良好であり、かつUV洗い油耐性も良くて、UVインキ
適正に優れるものである。また更にインキ着肉性も良好
である。
Table 2 From Table 2, it can be seen that Examples 1 to 3 are excellent in both the developability immediately after application and unstored, as well as the storage developability after forced storage. Furthermore, it has good UV ink stiffness resistance, good UV washing oil resistance, and is excellent in UV ink suitability. Furthermore, the ink receptivity is also good.

これに対し、成分(A)は含むが、成分(B)は含まな
い比較例1は、現像性、UVインキ適性に優れるものの
、インキ着肉性で劣る。
On the other hand, Comparative Example 1, which contains component (A) but does not contain component (B), has excellent developability and suitability for UV ink, but is poor in ink receptivity.

また、成分(A)(B)いずれも含まない比較例2は、
UVインキ適性に関してもかなり劣り、インキ着肉性も
劣るものである。
In addition, Comparative Example 2, which does not contain either components (A) or (B),
The suitability for UV inks is also quite poor, and the ink receptivity is also poor.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

上述の如く、本発明の感光性平版印刷版は、現像性特に
長期保存後の現像性に優れ、また、UVインキを用いて
印刷する場合にも、耐剛力及びインキ着肉性に優れると
いう効果を有する。
As mentioned above, the photosensitive lithographic printing plate of the present invention has excellent developability, particularly after long-term storage, and also has excellent stiffness resistance and ink adhesion when printing with UV ink. has.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、下記一般式〔 I 〕で示される構成単位を分子中に
含む高分子化合物、及び下記一般式〔VI〕で示される構
成単位と下記一般式〔VII〕で示される構成単位とを分
子中に含む高分子化合物を含有する感光層が設けられて
いることを特徴とする感光性平版印刷版。 一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ 但しJは2価の連結基を示し、nは0または1である。 一般式〔VI〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ 但しR^1^6は水素原子、メチル基、エチル基、メト
キシ基、エトキシ基、またはアリール基を示す。 一般式〔VII〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ 但しR^1^7は水素原子、メチル基またはエチル基を
示し、R^1^8はアルキル基またはアリール基を示す
[Scope of Claims] 1. A polymer compound containing a structural unit represented by the following general formula [I] in its molecule, and a structural unit represented by the following general formula [VI] and the following general formula [VII] 1. A photosensitive lithographic printing plate, comprising a photosensitive layer containing a polymer compound containing a structural unit in its molecule. General formula [I] ▲Mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ However, J represents a divalent linking group, and n is 0 or 1. General formula [VI] ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ However, R^1^6 represents a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a methoxy group, an ethoxy group, or an aryl group. General formula [VII] ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ However, R^1^7 represents a hydrogen atom, methyl group, or ethyl group, and R^1^8 represents an alkyl group or an aryl group.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05204137A (en) * 1992-01-23 1993-08-13 Fuji Photo Film Co Ltd Production of photosensitive planographic printing plate

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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