JPH05178890A - Compound having antagonism to endoserine - Google Patents

Compound having antagonism to endoserine

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JPH05178890A
JPH05178890A JP3361569A JP36156991A JPH05178890A JP H05178890 A JPH05178890 A JP H05178890A JP 3361569 A JP3361569 A JP 3361569A JP 36156991 A JP36156991 A JP 36156991A JP H05178890 A JPH05178890 A JP H05178890A
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JP
Japan
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lower alkyl
alkyl group
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hydrogen atom
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JP3361569A
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Japanese (ja)
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Kiyobumi Ishikawa
清文 石川
Toshio Nagase
敏雄 長瀬
Toshiaki Mase
俊明 間瀬
Kenji Niiyama
健治 新山
Masaki Ihara
正樹 伊原
Mitsuo Yano
光夫 矢野
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MSD KK
Original Assignee
Banyu Phamaceutical Co Ltd
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Abstract

PURPOSE:To obtain a new subject compound useful as a therapeutic agent for diseases such as hypertension, Raynaud disease and acute renal failure in which endoserin is participated because the compound exhibits strong antagonism through ETA, ETB receptor to endoserine. CONSTITUTION:A compound of formula I [R<1> is lower alkyl, aryl, etc.; p is 0-2; A<1> is single bond or divalent lower alkylene; R<2> is aralkyl, aryl, etc.; X<1> is O or NR<3> (R<3> is H or lower alkylene); R<4> is 5-10 membered heterocyclic lower alkyl or aryl-lower alkyl; X<3> is O or S; A<2> is formula II, formula III [Y is sulfo, phosphono, etc.; (t) is 2-6], etc.] or salt thereof. The compound of formula I wherein X<3> is O is obtained by condensing, e.g. a carboxylic acid of formula IV to an alpha-amino acid derivative of formula V (P<1> is carboxyl protecting group) to afford a compound of formula VI, deprotecting a protecting group P<1> of the compound and then condensing the deproteceted compound with a compound of the formula H-A<2>.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、内在性の強力な生理活
性ペプチドである3種のエンドセリン(エンドセリン−
1、エンドセリン−2及びエンドセリン−3)に対する
拮抗作用を有する新規化合物、その製造法及びその用途
に関するものである。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to three types of endothelins (endothelins) which are endogenous potent bioactive peptides.
1, a novel compound having an antagonistic action against endothelin-2 and endothelin-3), a process for producing the same, and a use thereof.

【0002】本発明の化合物は、エンドセリン受容体サ
ブタイプETA及び/又はETB受容体に対して高い親和
性を有し、エンドセリンの作用を阻害することにより、
血管拡張作用及び気管支拡張作用を有し、医薬の分野、
特に高血圧、肺高血圧、レイノー病、急性腎不全、心筋
梗塞、狭心症、脳梗塞、脳血管攣縮、動脈硬化症、気管
支喘息、胃潰瘍、糖尿病、エンドトキシンショック、エ
ンドトキシンを起因とする多臓器不全や播種性血管内凝
固及び/又はシクロスポリン誘発の腎障害や高血圧等の
治療剤として利用できる。
The compounds of the present invention have a high affinity for the endothelin receptor subtypes ET A and / or ET B receptors and, by inhibiting the action of endothelin,
It has vasodilatory action and bronchodilatory action,
In particular, multi-organ failure due to hypertension, pulmonary hypertension, Raynaud's disease, acute renal failure, myocardial infarction, angina, cerebral infarction, cerebral vasospasm, arteriosclerosis, bronchial asthma, gastric ulcer, diabetes, endotoxin shock, endotoxin and It can be used as a therapeutic agent for disseminated intravascular coagulation and / or cyclosporine-induced renal damage, hypertension and the like.

【0003】[0003]

【従来の技術】エンドセリンは21個のアミノ酸から成
るポリペプチドであり、ヒト、ブタの内皮細胞より産生
され、強力な血管収縮作用及び持続的で強い昇圧作用を
有する[ネイチャー(Nature)、第332巻、第
411頁−第415頁(1988年)参照]。また、エ
ンドセリンには、構造の類似したファミリーペプチドと
して、3種のエンドセリン(エンドセリン−1,エンド
セリン−2,エンドセリン−3)が人を含む動物で存在
していることが知られ、これらのペプチドは、いずれも
血管収縮作用及び昇圧作用を有することが知られている
[プロシーディング・ナショナル・アカデミー・オブ・
サイエンス(Proc. Natl.Acad.Sc
i.USA),86,2863−2867(1989)
参照]。
Endothelin is a polypeptide consisting of 21 amino acids, which is produced by human and porcine endothelial cells and has a strong vasoconstrictor action and a sustained and strong pressor action [Nature, No. 332]. Vol., Pp. 411-415 (1988)]. It is known that endothelin has three types of endothelin (endothelin-1, endothelin-2, endothelin-3) as family peptides having similar structures in animals including humans. , Both are known to have vasoconstrictor and pressor effects [Proceeding National Academy of
Science (Proc. Natl. Acad. Sc
i. USA), 86 , 2863-2867 (1989).
reference].

【0004】エンドセリンは、臨床上、本態性高血圧患
者、急性心筋梗塞患者、肺高血圧患者、レイノー病患
者、糖尿病患者、アテローム性動脈硬化症患者の血中及
び喘息患者の血中或は気道洗浄液中において正常人に比
べ明らかに増加していることが報告されている[日本高
血圧学会誌(Japan.J.Hypertensio
n),第12巻,第79頁(1989年)、ジャーナル
・オブ・バスキュラー・メディシン・アンド・バイオロ
ジー(J.Vascular MedicineBio
logy),第2巻,第207頁(1990年)、ダイ
アベトロジア(Diabetologia),第33
巻,第306頁−第310頁(1990年)、ジャーナ
ル・オブ・アメリカン・メディカル・アソシエーション
(J.Am.Med.Association),第2
64巻,第2868頁(1990年)及びザ・ランセッ
ト(The Lancet),第2巻,第747頁−第
748頁(1989年)及び第2巻,第1144頁−第
1147頁(1990年)参照]。
Endothelin is clinically found in essential hypertensive patients, acute myocardial infarction patients, pulmonary hypertension patients, Raynaud's disease patients, diabetic patients, atherosclerotic patients blood and asthma patients blood or airway lavage fluid. Have been reported to be significantly increased in comparison with normal persons [Journal of the Japanese Society of Hypertension (Japan. J. Hypertensio
n), Vol. 12, p. 79 (1989), Journal of Vascular Medicine and Biology (J. Vascular Medicine Bio).
, Vol. 2, p. 207 (1990), Diabetologia, 33.
Volume, pp. 306-310 (1990), Journal of American Medical Association (J. Am. Med. Association), 2nd.
64, 2868 (1990) and The Lancet, Volume 2, 747-748 (1989) and Volume 2, 1144-114 (1990). reference].

【0005】また、実験的脳血管攣縮モデルにおいて、
脳血管のエンドセリンに対する感受性の増加[日本脳循
環代謝学会(Japan.Soc.Cereb.Blo
odFlow & Metabol.)、第1巻、第7
3頁(1989年)]、急性腎不全モデルにおけるエン
ドセリン抗体による腎機能の改善[ジャーナル・オブ・
クリニカル・インベスティゲーション(J.Clin.
Invest.)、第83巻、第1762頁−第176
7頁(1989年)]、及び胃潰瘍モデルにおけるエン
ドセリン抗体による胃潰瘍発生の抑制[第19回 日本
実験潰瘍研究会抄録,第50頁(1991年)]等が報
告されていることより、エンドセリンはクモ膜下出血後
の脳血管攣縮及び急性腎不全の原因物質のひとつとして
考えられている。
In addition, in an experimental model of cerebral vasospasm,
Increased sensitivity of cerebrovascular to endothelin [Japan Society for Cerebral Circulation and Metabolism (Japan. Soc. Cereb. Blo
odFlow & Metabol. ), Volume 1, Volume 7
3 (1989)], Improvement of renal function by endothelin antibody in acute renal failure model [Journal of.
Clinical Investigation (J. Clin.
Invest. ), 83, 1762-176.
7 (1989)], and suppression of gastric ulcer development by endothelin antibody in gastric ulcer model [19th Annual Meeting of the Japanese Society for Experimental Ulcer Research, page 50 (1991)] and the like, endothelin is a spider. It is considered as one of the causative agents of cerebral vasospasm and acute renal failure after subarachnoid hemorrhage.

【0006】更にエンドセリンは血管内皮細胞のみなら
ず、気管上皮細胞、或は腎実質細胞からも遊離されるこ
とが明らかとなっている[フェブス・レターズ(FEB
SLetters)、第255巻、第129頁−第13
2頁(1989年)及びフェブス・レターズ(FEBS
Letters)、第249巻、第42頁−第46頁
(1989年)]。
Furthermore, it has been revealed that endothelin is released not only from vascular endothelial cells but also from tracheal epithelial cells or renal parenchymal cells [Febs Letters (FEB).
S Letters), Vol. 255, pp. 129-13.
Page 2 (1989) and Febs Letters (FEBS)
Letters), 249, 42-46 (1989)].

【0007】エンドセリンは、内因性生理活性ペプチド
であるレニン及び心房性ナトリウム利尿ホルモン、更に
は内皮細胞由来の血管弛緩因子(EDRF)、トロンボ
キサンA2、プロスタサイクリン、ノルアドレナリン、
アンジオテンシンII及びサブスタンスP等の生理活性
物質の遊離を調節していることも見出された[バイオケ
ミカル・アンド・バイオフィジカル・リサーチ・コミュ
ニケーションズ(Biochem.Biophys.R
es.Commun.)、第157巻、第1164頁−
第1168頁(1988年)、バイオケミカル・アンド
・バイオフィジカル・リサーチ・コミュニケーションズ
(Biochem.Biophys.Res.Comm
un.)、第155巻、第167頁−第172頁(19
89年)、プロシーディング・オブ・ザ・ナショナル・
アカデミー・オブ・サイエンス・オブ・ユーエスエー
(Proc.Natl.Acad.Sci.USA)、
第85巻、第9797頁−第9800頁(1989
年)、ジャーナル・オブ・カルジオバスキュラー・ファ
ーマコロジー(J.Cardiovasc.Pharm
acol.)、第13巻、第S89頁−第S92頁(1
989年)、日本高血圧学会誌(Japan.J.Hy
pertension)、第12巻、第76頁(198
9年)及びニューロサイエンス・レターズ(Neuro
science Letters)、第102巻、第1
79頁−第184頁(1989年)]。その他、消化管
平滑筋及び子宮平滑筋をも収縮する作用を有する[フェ
ブス・レターズ(FEBS Letters)、第24
7巻、第337頁−第340頁(1989年)、ヨーロ
ピアン・ジャーナル・オブ・ファーマコロジー(Eu
r.J.Pharmacol.)、第154巻、第22
7頁−第228頁(1988年)及びバイオケミカル・
アンド・バイオフィジカル・リサーチ・コミュニケーシ
ョンズ(Biochem.Biophys.Res.C
ommun.)、第159巻、第317頁−第323頁
(1989年)参照]。
Endothelin is an endogenous physiologically active peptide such as renin and atrial natriuretic hormone, vascular relaxation factor (EDRF) derived from endothelial cells, thromboxane A 2 , prostacyclin, noradrenaline,
It was also found that it regulates the release of physiologically active substances such as angiotensin II and substance P [Biochemical and Biophysical Research Communications (Biochem. Biophys. R).
es. Commun. ), Vol. 157, p. 1164-
Pp. 1168 (1988), Biochemical and Biophysical Research Communications (Biochem. Biophys. Res. Comm.
un. ), 155, 167-172 (19)
1989), Proceeding of the National
Academy of Science of USA (Proc. Natl. Acad. Sci. USA),
Volume 85, pp. 9797-9800 (1989)
Year), Journal of Cardiovascular Pharmacology (J. Cardiovasc. Pharm
acol. ), Vol. 13, pages S89-S92 (1
989), Journal of Japanese Society for Hypertension (Japan. J. Hy).
pertension, vol. 12, p. 76 (198)
9 years) and Neuroscience Letters (Neuro)
Science Letters), Volume 102, Volume 1
79-184 (1989)]. In addition, it also has an action of contracting gastrointestinal smooth muscle and uterine smooth muscle [FEBS Letters, No. 24
Volume 7, pp. 337-340 (1989), European Journal of Pharmacology (Eu
r. J. Pharmacol. ), Vol. 154, Vol. 22
Pages 7-228 (1988) and Biochemicals
And Biophysical Research Communications (Biochem. Biophys. Res. C)
ommun. ), 159, 317-323 (1989)].

【0008】またエンドセリンは、ラット血管平滑筋細
胞の増殖を促進することが見出され、動脈肥厚との関連
性が示唆されている[アテロスクレローシス(Athe
rosclerosis)、第78巻、第225頁−第
228頁(1989年)参照]。更に、エンドセリンの
受容体は末梢組織ばかりではなく中枢組織にも高濃度に
存在することが知られており、脳内に投与したエンドセ
リンが動物行動の変化をもたらすことから、エンドセリ
ンは神経機能の調節に対しても重要な役割を持っている
と考えられている[ニューロサイエンス・レターズ(N
euroscience Letters)、第97
巻、第276頁−第279頁(1989年)参照]。特
に、エンドセリンは、痛覚のメディエーターの一種であ
ることが示唆されている[ライフ・サイエンシズ(Li
fe Sciences)、第49巻、第PL−61頁
−第PL−65頁(1991年)]。
[0008] Endothelin was also found to promote the proliferation of rat vascular smooth muscle cells, and it has been suggested that endothelin is associated with arterial thickening [Atherosclerosis.
Rosclerosis), 78, 225-228 (1989)]. Furthermore, it is known that endothelin receptors are present at high concentrations not only in peripheral tissues but also in central tissues, and that endothelin administered in the brain causes changes in animal behavior. It is thought that it also has an important role for [Neuroscience Letters (N
euroscience Letters), 97th
Vol. 276-279 (1989)]. In particular, endothelin has been suggested to be a kind of pain mediator [Life Sciences (Li
fe Sciences), Vol. 49, PL-61-PL-65 (1991)].

【0009】一方、エンドトキシンは内因性エンドセリ
ン遊離を促す有力な候補物質の一つである。エンドトキ
シンを外因的に動物に投与した際、或は培養血管内皮細
胞に添加した際に、血中或は培養上清中のエンドセリン
濃度が顕著に上昇することが見出されており、エンドセ
リンがエンドトキシンを起因とする疾患に関与する重要
なメディエーターのひとつであると考えられている[バ
イオケミカル・アンド・バイオフィジカル・リサーチ・
コミュニケーションズ(Biochem.Biophy
s.Res.Commun.)、第161巻、第122
0頁(1989年)及びアクタ・フィジオロジカ・スカ
ンジナビカ(Acta Physiol.Scan
d.)、第137巻、第317頁(1989年)]。
On the other hand, endotoxin is one of the strong candidate substances that promote the release of endogenous endothelin. It has been found that when endotoxin is exogenously administered to animals or added to cultured vascular endothelial cells, the concentration of endothelin in blood or culture supernatant is significantly increased. It is considered to be one of the important mediators involved in diseases caused by [biochemical and biophysical research
Communications (Biochem.Biophy)
s. Res. Commun. ), Volume 161, 122
Page 0 (1989) and Acta Physiologica Scandinavian (Acta Physiol. Scan)
d. ), 137, 317 (1989)].

【0010】更に、シクロスポリンを培養腎細胞(LL
C−PK1細胞)に添加した際に、エンドセリンの分泌
が著明に亢進されることが報告されている[ヨーロピア
ン・ジャーナル・オブ・ファーマコロジー(Eur.
J. Pharmacol.)、第180巻、第191
頁−第192頁(1990年)]。また、シクロスポリ
ンをラットに投与すると、糸球体濾過量の減少及び血圧
の上昇が観察され、この時、循環中のエンドセリン量は
顕著な上昇を示していた。このシクロスポリン誘発の腎
障害はエンドセリンの抗体を投与することにより抑制さ
れる[キドニー・インターナショナル(Kidney
Int.)、第37巻、第1487頁−第1491頁
(1990年)]。このように、エンドセリンがシクロ
スポリン誘発のこれら疾患に重要な役割を果たしている
ことが示唆されている。
Further, cyclosporine was added to cultured kidney cells (LL
It has been reported that the secretion of endothelin is remarkably enhanced when added to C-PK1 cells [European Journal of Pharmacology (Eur.
J. Pharmacol. ), 180, 191
P.-p. 192 (1990)]. When cyclosporin was administered to rats, a decrease in glomerular filtration rate and an increase in blood pressure were observed, and at this time, the circulating endothelin level showed a marked increase. This cyclosporine-induced nephropathy is suppressed by administration of endothelin antibodies [Kidney International (Kidney International).
Int. ), 37, 1487-1491 (1990)]. Thus, it has been suggested that endothelin plays an important role in these cyclosporine-induced diseases.

【0011】これらのエンドセリンによるさまざまな作
用は、生体内に広く分布するエンドセリン受容体とエン
ドセリンとの結合により生じることが知られている[ア
メリカン・ジャーナル・オブ・フィジオロジー(Am.
J.Physiol.)、第256巻、第R856頁−
第R866頁(1989年)参照]。
It is known that various actions of these endothelins are caused by the binding of endothelin receptors widely distributed in the living body with the endothelin [American Journal of Physiology (Am.
J. Physiol. ), Vol. 256, page R856-
R 866 (1989)].

【0012】エンドセリン受容体は今までの研究から少
なくとも2種類のサブタイプが存在し、エンドセリンに
よる血管収縮作用もこれら2種のエンドセリン受容体サ
ブタイプを介して引き起こされることが知られている
[ジャーナル・オブ・カルジオバスキュラー・ファーマ
コロジー(J.Cardiovasc.Pharmac
ol.)、第17(Suppl.7)巻、第S119頁
−第S121頁(1991年)参照]。これらエンドセ
リン受容体サブタイプの一方は、エンドセリンファミリ
ーペプチドのET−3に比べET−1に選択性を有して
いるエンドセリン受容体(ETA)であり、他方はET
−1とET−3でほぼ同等の活性を有するエンドセリン
受容体(ETB)であり、これらそれぞれの受容体蛋白
はそれぞれ異なることが示されている[ネイチャー(N
ature)、第348巻、第730頁−第735頁
(1990年)参照]。
[0012] At least two subtypes of the endothelin receptor exist from the studies to date, and it is known that the vasoconstrictor action by endothelin is also mediated through these two endothelin receptor subtypes [Journal・ Of Cardiovascular Pharmacology (J. Cardiovasc. Pharmac
ol. ), Vol. 17 (Suppl. 7), S119-S121 (1991)]. One of these endothelin receptor subtypes is the endothelin receptor (ET A ) which has selectivity for ET-1 as compared to the endothelin family peptide ET-3, and the other is ET.
-1 and ET-3 are endothelin receptors (ET B ) having almost the same activity, and it has been shown that the respective receptor proteins are different [Nature (N
Nature), vol. 348, p. 730-p. 735 (1990)].

【0013】また、これらエンドセリンファミリーペプ
チド間の選択性の異なる2種のエンドセリン受容体サブ
タイプの組織内分布は異なっており、ETA受容体は心
血管系に多いのに対して、ETB受容体は脳、腎臓、
肺、心臓、血管など広範囲の組織に分布していることが
知られている。
The distribution of two endothelin receptor subtypes with different selectivities among these endothelin family peptides is different in the tissue, and ET A receptors are mainly present in the cardiovascular system, whereas ET B receptors are The body is the brain, the kidneys,
It is known to be distributed in a wide range of tissues such as lungs, heart and blood vessels.

【0014】これらエンドセリン受容体ETA及び/又
はETBへのエンドセリンの結合を特異的に阻害する物
質は、上に述べたエンドセリンの種々の生理作用に拮抗
し広範な分野で医薬品として有用であると考えられる。
A substance that specifically inhibits the binding of endothelin to these endothelin receptors ET A and / or ET B antagonizes various physiological actions of endothelin described above and is useful as a pharmaceutical in a wide range of fields. it is conceivable that.

【0015】[0015]

【発明が解決しようとする課題】エンドセリンは直接的
又は間接的(種々の内因性物質の遊離を調節)に血管性
及び非血管性の平滑筋を持続的に収縮させる内在性の生
理活性物質であり、その過剰生産や過剰分泌は高血圧
症、肺高血圧症、レイノー病、気管支喘息、胃潰瘍、糖
尿病、動脈硬化症、急性腎不全、心筋梗塞、狭心症、脳
血管攣縮及び脳梗塞の病因のひとつであると考えられ
る。また、エンドトキシンショック或はエンドトキシン
起因の多臓器不全、播種性血管内凝固等の疾患及びシク
ロスポリン誘発の腎障害や高血圧に対してエンドセリン
が重要なメディエーターとして働いていることが示唆さ
れている。エンドセリンの受容体としては、ETA受容
体及びETB受容体が知られており、ETA受容体拮抗物
質及び/又はETB受容体拮抗物質は、医薬として有用
である。本発明は、ETA及び/又はETB受容体で強く
拮抗活性を有する物質の発明により、上記の種々の病態
に対して従来にない新規な治療法を提供しようとするも
のである。
Endothelin is an endogenous physiologically active substance that directly or indirectly (regulates the release of various endogenous substances) continuously contracts vascular and non-vascular smooth muscle. Yes, its overproduction and over-secretion are the etiological factors of hypertension, pulmonary hypertension, Raynaud's disease, bronchial asthma, gastric ulcer, diabetes, arteriosclerosis, acute renal failure, myocardial infarction, angina, cerebral vasospasm and cerebral infarction. Considered to be one. Further, it has been suggested that endothelin acts as an important mediator for diseases such as multi-organ failure due to endotoxin shock or endotoxin, disseminated intravascular coagulation, and cyclosporine-induced renal damage and hypertension. ET A receptors and ET B receptors are known as receptors for endothelin, and ET A receptor antagonists and / or ET B receptor antagonists are useful as pharmaceuticals. The present invention aims to provide a novel therapeutic method for the above-mentioned various pathological conditions, which has never been achieved by the invention of a substance having a strong antagonistic activity at ET A and / or ET B receptors.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記の課
題を解決するために、種々の化合物を合成し、そのエン
ドセリン拮抗活性を調べた結果、一般式
[Means for Solving the Problems] In order to solve the above problems, the present inventors have synthesized various compounds and investigated their endothelin antagonistic activity.

【0017】[0017]

【化4】 {式中、R1は低級アルキル基、シクロアルキル基、シ
クロアルキル低級アルキル基、アラルキル基、アリール
基、5〜10員の複素環基又は5〜10員の複素環低級
アルキル基(該低級アルキル基、シクロアルキル基、シ
クロアルキル低級アルキル基、アラルキル基、アリール
基、5〜10員の複素環基及び5〜10員の複素環低級
アルキル基は、それぞれ独立に、それらの鎖上及び/又
は環上に低級アルキル基、ハロゲン原子、水酸基、低級
アルコキシ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、シア
ノ基、ホルミル基、低級アルカノイル基、カルボキシル
基、低級アルコキシカルボニル基、アミノ基、モノ低級
アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、ホルミル
アミノ基、アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、
カルバモイル基、N−モノ低級アルキルカルバモイル基
又はN,N−ジ低級アルキルカルバモイル基、メルカプ
ト基、低級アルキルチオ基又は低級アルカノイルチオ基
を有していてもよい)を示し;pは0〜2の整数を示
し;A1は単結合又は低級アルキル基で置換されていて
もよい2価の低級アルキレン基を示し;R2は低級アル
キル基、シクロアルキル基、シクロアルキル低級アルキ
ル基、アラルキル基、アリール基、5〜10員の複素環
基又は5〜10員の複素環低級アルキル基を示し;X1
は酸素原子又は式:−NR3−[式中、R3は水素原子又
は低級アルキル基を示す]で表される基を示し;R4
5〜10員の複素環低級アルキル基[該5〜10員の複
素環低級アルキル基は、その環上に低級アルキル又は
式:R41−CO−(CH2q−(式中、R41は水素原
子、低級アルキル基、水酸基、低級アルコキシ基、アラ
ルキルオキシ基、アミノ基、モノ低級アルキルアミノ基
又はジ低級アルキルアミノ基を示し;qは0〜6の整数
を示す)で表される基を有していてもよい]又はアリー
ル低級アルキル基[該アリール低級アルキル基は、その
環上にニトロ基、式:R42−CO−(CH2r−(式
中、R42は低級アルキル基、低級アルコキシ基、アミノ
基、モノ低級アルキルアミノ基又はジ低級アルキルアミ
ノ基を示し、rは0〜6の整数を示す)で表される基、
式:R42−CO−X2−(式中、R42は前記の意味を有
し、X2は酸素原子又は式:−NR43−(式中、R43
水素原子又は低級アルキル基を示す)で表される基又は
式:R44O−(CH2s−(式中、R44は水素原子又は
低級アルキル基を示し、sは0〜6の整数を示す)で表
される基を有していてもよい]を示し;X3は酸素原子
又は硫黄原子を示し;A2は下記一般式[II]〜[V
II]で表される基よりなる群から選ばれる任意の基を
示す。
[Chemical 4] {In the formula, R 1 is a lower alkyl group, a cycloalkyl group, a cycloalkyl lower alkyl group, an aralkyl group, an aryl group, a 5-10 membered heterocyclic group or a 5-10 membered heterocyclic lower alkyl group (the lower alkyl Group, cycloalkyl group, cycloalkyl lower alkyl group, aralkyl group, aryl group, 5- to 10-membered heterocyclic group and 5- to 10-membered heterocyclic lower alkyl group, each independently on their chain and / or Lower alkyl group, halogen atom, hydroxyl group, lower alkoxy group, nitro group, trifluoromethyl group, cyano group, formyl group, lower alkanoyl group, carboxyl group, lower alkoxycarbonyl group, amino group, mono-lower alkylamino group on the ring , Di-lower alkylamino group, formylamino group, alkanoylamino group, aroylamino group,
Carbamoyl group, N-mono-lower alkylcarbamoyl group or N, N-di-lower alkylcarbamoyl group, mercapto group, lower alkylthio group or lower alkanoylthio group may be present); p is an integer of 0 to 2; A 1 represents a single bond or a divalent lower alkylene group which may be substituted with a lower alkyl group; R 2 represents a lower alkyl group, a cycloalkyl group, a cycloalkyl lower alkyl group, an aralkyl group or an aryl group. A 5- to 10-membered heterocyclic group or a 5- to 10-membered heterocyclic lower alkyl group; X 1
Represents an oxygen atom or a group represented by the formula: —NR 3 — [wherein, R 3 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group]; R 4 represents a 5- to 10-membered heterocyclic lower alkyl group [5 The 10-membered heterocyclic lower alkyl group is a lower alkyl on the ring or has the formula: R 41 —CO— (CH 2 ) q — (wherein R 41 is a hydrogen atom, a lower alkyl group, a hydroxyl group, a lower alkoxy group). , An aralkyloxy group, an amino group, a mono-lower alkylamino group or a di-lower alkylamino group; q represents an integer of 0 to 6)] or an aryl-lower alkyl group [The aryl lower alkyl group has a nitro group on its ring, a compound represented by the formula: R 42 —CO— (CH 2 ) r — (wherein R 42 is a lower alkyl group, a lower alkoxy group, an amino group, a mono-lower alkylamino group. A group or a di-lower alkylamino group, r is Groups represented by 6 an integer of)
Formula: R 42 —CO—X 2 — (In the formula, R 42 has the above meaning, X 2 is an oxygen atom or a formula: —NR 43 — (In the formula, R 43 is a hydrogen atom or a lower alkyl group. represented by (wherein, R 44 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group, s is an integer of 0~6) - R 44 O- (CH 2) s: group or the formula represented by shown) May have a group]; X 3 represents an oxygen atom or a sulfur atom; A 2 represents the following general formulas [II] to [V
II] represents an arbitrary group selected from the group consisting of groups represented by [II].

【0018】[0018]

【化5】 [式中、Yはヒドロキシ低級アルキル基、スルホ基、ホ
スホノ基、式:−CO281(式中、R81は水素原子又
はカルボキシ保護基を示す)で表される基又は式:−C
ONR8283(式中、R82及びR83はそれぞれ独立に水
素原子、低級アルキル基、低級アルキルスルホニル基、
ベンゼン環上の任意の1〜5個の水素原子がそれぞれ独
立に低級アルキル基若しくはハロゲン原子で置換されて
いてもよいフェニルスルホニル基又はカルボキシ低級ア
ルキル基を示す)で表される基を示し;R51は水素原子
又は低級アルキル基を示すか、或は下記R61と一緒にな
ってメチレン基を示し;R53、R61及びR62はそれぞれ
独立に水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、
アリール基、アリール低級アルキル基、5〜10員の複
素環基又は5〜10員の複素環低級アルキル基(該低級
アルキル基、低級アルケニル基、アリール基、アリール
低級アルキル基、5〜10員の複素環基及び複素環低級
アルキル基は、それぞれ独立にそれらの鎖上及び/又は
環上に水酸基、低級アルキル基、ハロゲン原子、低級ア
ルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、カル
ボキシル基、保護されたカルボキシル基、アミノ基、モ
ノアルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、カルバ
モイル基、N−モノ低級アルキルカルバモイル基、N,
N−ジ低級アルキルアミノ基、低級アルコキシカルボニ
ルアミノ基又はアリールオキシカルボニルアミノ基を有
していてもよい)を示し、更にR61はR51と一緒になっ
てメチレン基を示すこともでき、R62は下記R52と一緒
になってメチレン基を示すことができ(但し、R51が低
級アルキル基を示す場合、R61は水素原子以外の基を示
し、R52が水素原子以外の基を示す場合、R62は水素原
子又は低級アルキル基を示す);R52は水素原子、アリ
ール基、アラルキル基、カルボキシル基、カルバモイル
基、N−モノ低級アルキルカルバモイル基、N,N−ジ
低級アルキルカルバモイル基又はN−アリールカルバモ
イル基を示すか、或はR7と一緒になって単結合を示
し;R7は水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ
基又は水酸基を示すか、或はR52と一緒になって単結合
を示し、tは2〜6の整数を示し;ZはCH又はNを示
し;vは1〜3の整数を示す]}で表される化合物又は
その製薬上許容される塩が強いETA及び/又はETB
容体拮抗活性を有することを見出し、本発明を完成し
た。
[Chemical 5] [In the formula, Y is a hydroxy lower alkyl group, a sulfo group, a phosphono group, a group represented by the formula: -CO 2 R 81 (wherein R 81 represents a hydrogen atom or a carboxy protecting group) or a formula: -C
ONR 82 R 83 (wherein R 82 and R 83 are each independently a hydrogen atom, a lower alkyl group, a lower alkylsulfonyl group,
R represents a group represented by any one to five hydrogen atoms on the benzene ring each independently represent a lower alkyl group or a phenylsulfonyl group or a carboxy lower alkyl group which may be substituted with a halogen atom); 51 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group, or represents a methylene group together with R 61 below; R 53 , R 61 and R 62 each independently represent a hydrogen atom, a lower alkyl group, a lower alkenyl group,
Aryl group, aryl lower alkyl group, 5-10 membered heterocyclic group or 5-10 membered heterocyclic lower alkyl group (the lower alkyl group, lower alkenyl group, aryl group, aryl lower alkyl group, 5-10 membered heterocyclic group The heterocyclic group and the heterocyclic lower alkyl group each independently have a hydroxyl group, a lower alkyl group, a halogen atom, a lower alkoxy group, an aryloxy group, an acyloxy group, a carboxyl group, or a protected group on the chain and / or the ring thereof. Carboxyl group, amino group, monoalkylamino group, di-lower alkylamino group, carbamoyl group, N-mono-lower alkylcarbamoyl group, N,
N-di-lower alkylamino group, lower alkoxycarbonylamino group or aryloxycarbonylamino group), and R 61 together with R 51 may represent a methylene group. 62 together with R 52 below may represent a methylene group (provided that when R 51 represents a lower alkyl group, R 61 represents a group other than a hydrogen atom and R 52 represents a group other than a hydrogen atom). R 62 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group when indicated); R 52 represents a hydrogen atom, an aryl group, an aralkyl group, a carboxyl group, a carbamoyl group, an N-mono-lower alkylcarbamoyl group, or an N, N-di-lower alkylcarbamoyl group. or a group or N- arylcarbamoyl, or represents a single bond together with R 7; or R 7 is a hydrogen atom, a lower alkyl group, a lower alkoxy group or a hydroxyl group , Or R 52 together with R 52 to represent a single bond, t represents an integer of 2 to 6; Z represents CH or N; v represents an integer of 1 to 3]} or It was found that the pharmaceutically acceptable salt thereof has a strong ET A and / or ET B receptor antagonistic activity, and completed the present invention.

【0019】次に、この明細書に記載されている各種略
号の意味を以下に示す。
The meanings of various abbreviations described in this specification are shown below.

【0020】 略号 略号の意味 DNle D−ノルロイシン DTrp D−トリプトファン DTrp(Boc) D−(Nin−tert−ブトキシカルボニ ル)トリプトファン DTrp(CHO) D−(Nin−ホルミル)トリプトファン DTrp(COOMe) D−(Nin−メトキシカルボニル)トリプ トファン Boc tert−ブトキシカルボニル Me メチル tBu tert−ブチル DCC N,N’−ジシクロヘキシルカルボジイミ ド DMAP 4−(ジメチルアミノ)ピリジン DMF N,N−ジメチルホルムアミド DMSO ジメチルスルホキシド NMP N−メチルピロリドン NMM N−メチルモルホリン EDCI・HCl 1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプ ロピル)カルボジイミド・塩酸塩 HOBT・H2O 1−ヒドロキシ−1H−ベンゾトリアゾー ル・一水和物 HOSu N−ヒドロキシスクシンイミド mCPBA メタクロロ過安息香酸 TBAHS 硫酸水素テトラ−n−ブチルアンモニウム TEA トリエチルアミン TFA トリフルオロ酢酸 THF テトラヒドロフラン TsCl p−トルエンスルホニル クロリド Ts p−トルエンスルホニル Z ベンジルオキシカルボニル MOPS 3−モルホリノプロパンスルホン酸 HEPES 2−[4−(2−ヒドロキシエチル)−1 −ピペラジニル]エタンスルホン酸 Tris トリス(ヒドロキシメチル)アミノメタン PMSF フェニルメタンスルホニル=フルオライド 次に、この明細書において用いられる各種用語の定義を
説明する。
Abbreviations Meaning of abbreviations DNle D-norleucine DTrp D-tryptophan DTrp (Boc) D- (N in -tert-butoxycarbonyl) tryptophan DTrp (CHO) D- (N in -formyl) tryptophan DTrp (COOMe) D- (N in - methoxycarbonyl) tryptophan Boc tert-butoxycarbonyl Me methyl t Bu tert-butyl DCC N, N'-dicyclohexyl carbo di imide DMAP 4-(dimethylamino) pyridine DMF N, N-dimethylformamide DMSO Dimethyl Sulfoxide NMP N-Methylpyrrolidone NMM N-Methylmorpholine EDCI.HCl 1-Ethyl-3- (3-dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride HOBT.H 2 O 1-Hide Roxy-1H-benzotriazol monohydrate HOSu N-hydroxysuccinimide mCPBA Metachloroperbenzoic acid TBAHS Tetra-n-butylammonium hydrogen sulfate TEA triethylamine TFA trifluoroacetic acid THF tetrahydrofuran TsCl p-toluenesulfonyl chloride Ts p-toluene Sulfonyl Z benzyloxycarbonyl MOPS 3-morpholinopropanesulfonic acid HEPES 2- [4- (2-hydroxyethyl) -1-piperazinyl] ethanesulfonic acid Tris tris (hydroxymethyl) aminomethane PMSF phenylmethanesulfonyl = fluoride The definitions of various terms used in the specification will be explained.

【0021】本明細書において、低級アルキル基とは、
炭素数が1〜6個の直鎖又は分枝状のアルキル基を意味
し、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イ
ソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチ
ル基、tert−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル
基、ネオペンチル基、tert−ペンチル基、1−メチ
ルブチル基、2−メチルブチル基、1,2−ジメチルプ
ロピル基、1−エチルプロピル基、ヘキシル基、イソヘ
キシル基、1−メチルペンチル基、2−メチルペンチル
基、3−メチルペンチル基、1,1−ジメチルブチル
基、1,2−ジメチルブチル基、2,2−ジメチルブチ
ル基、1−エチルブチル基、1,1,2−トリメチルプ
ロピル基、1,2,2−トリメチルプロピル基、1−エ
チル−2−メチルプロピル基、1−エチル−1−メチル
プロピル基等が挙げられる。
In the present specification, the lower alkyl group means
It means a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, specifically, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert. -Butyl group, pentyl group, isopentyl group, neopentyl group, tert-pentyl group, 1-methylbutyl group, 2-methylbutyl group, 1,2-dimethylpropyl group, 1-ethylpropyl group, hexyl group, isohexyl group, 1- Methylpentyl group, 2-methylpentyl group, 3-methylpentyl group, 1,1-dimethylbutyl group, 1,2-dimethylbutyl group, 2,2-dimethylbutyl group, 1-ethylbutyl group, 1,1,2 -Trimethylpropyl group, 1,2,2-trimethylpropyl group, 1-ethyl-2-methylpropyl group, 1-ethyl-1-methylpropyl group and the like. It is.

【0022】シクロアルキル基とは、シクロプロピル
基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシ
ル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノ
ニル基等を意味する。
The cycloalkyl group means a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group, a cyclononyl group and the like.

【0023】シクロアルキル低級アルキル基とは、3〜
9員のシクロアルキル基で置換されている低級アルキル
基を意味し、例えば、シクロプロピルメチル基、シクロ
プロピルエチル基、シクロプロピルプロピル基、シクロ
ブチルメチル基、シクロペンチルメチル基、シクロヘキ
シルメチル基、シクロヘプチルメチル基、シクロオクチ
ルメチル基、シクロノニルメチル基、シクロプロピルブ
チル基、シクロプロピルペンチル基、シクロプロピルヘ
キシル基、シクロプロピルヘプチル基、シクロプロピル
オクチル基、シクロプロピルノニル基、シクロペンチル
エチル基、シクロヘキシルエチル基、シクロペンチルプ
ロピル基、シクロヘキシルプロピル基等を挙げることが
できる。
The cycloalkyl lower alkyl group is 3 to
A lower alkyl group substituted with a 9-membered cycloalkyl group, for example, cyclopropylmethyl group, cyclopropylethyl group, cyclopropylpropyl group, cyclobutylmethyl group, cyclopentylmethyl group, cyclohexylmethyl group, cycloheptyl Methyl group, cyclooctylmethyl group, cyclononylmethyl group, cyclopropylbutyl group, cyclopropylpentyl group, cyclopropylhexyl group, cyclopropylheptyl group, cyclopropyloctyl group, cyclopropylnonyl group, cyclopentylethyl group, cyclohexylethyl group , Cyclopentylpropyl group, cyclohexylpropyl group and the like.

【0024】アリール基の具体例としては、フェニル
基、ナフチル基等が挙げられる。
Specific examples of the aryl group include a phenyl group and a naphthyl group.

【0025】アラルキル基とは、アリール基で置換され
ている低級アルキル基を意味し、具体的には、ベンジル
基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基、ナフチル
メチル基、ナルチルエチル基等が挙げられる。
The aralkyl group means a lower alkyl group substituted with an aryl group, and specific examples thereof include a benzyl group, a phenylethyl group, a phenylpropyl group, a naphthylmethyl group and a naphthylethyl group.

【0026】5〜10員の複素環基とは、窒素原子、酸
素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を少なくとも1個以上
含む5〜10員の単環若しくは縮合環の飽和若しくは不
飽和環状基を意味し、具体的には、ピロリル基、フリル
基、チエニル基、チアゾリル基、オキサゾリル基、イミ
ダゾリル基、ピロリジル基、テトラヒドロフリル基、テ
トラヒドロチエニル基、インドリル基、ベンゾフリル
基、ベンゾチエニル基、ジヒドロインドリル基、ピリジ
ル基、ピリミジル基、キノリル基、イソキノリル基、ピ
ペリジル基、テトラヒドロピラニル基、ピペラジニル基
等が挙げられる。
The 5- to 10-membered heterocyclic group means a 5- to 10-membered monocyclic or condensed ring saturated or unsaturated cyclic group containing at least one hetero atom such as nitrogen atom, oxygen atom and sulfur atom. Means, specifically, a pyrrolyl group, a furyl group, a thienyl group, a thiazolyl group, an oxazolyl group, an imidazolyl group, a pyrrolidyl group, a tetrahydrofuryl group, a tetrahydrothienyl group, an indolyl group, a benzofuryl group, a benzothienyl group, a dihydroindolyl group. Group, pyridyl group, pyrimidyl group, quinolyl group, isoquinolyl group, piperidyl group, tetrahydropyranyl group, piperazinyl group and the like.

【0027】5〜10員の複素環低級アルキル基とは、
窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を少なく
とも1個以上含む5〜10員の単環若しくは縮合環の飽
和若しくは不飽和の環状基を有する低級アルキル基を意
味し、例えば、ピロリルメチル基、フリルメチル基、チ
エニルメチル基、チアゾリルメチル基、オキサゾリルメ
チル基、イミダゾリルメチル基、ピロリニルメチル基、
イミダゾリニルメチル基、ピロリジルメチル基、テトラ
ヒドロフリルメチル基、テトラヒドロチエニルメチル
基、インドリルメチル基、ピリジルメチル基、ピリミジ
ルメチル基、キノリルメチル基、イソキノリルメチル
基、ピペリジルメチル基、テトラヒドロピラニルメチル
基、ピペラジニルメチル基、ピロリルエチル基、フリル
エチル基、チエニルプロピル基、イミダゾリルブチル
基、ピペリジルメチル基、ピペリジルプロピル基等を挙
げることができる。
The 5- to 10-membered heterocyclic lower alkyl group is
Nitrogen atom, oxygen atom, a lower alkyl group having a 5- to 10-membered monocyclic or condensed ring saturated or unsaturated cyclic group containing at least one hetero atom such as a sulfur atom, for example, a pyrrolylmethyl group, Furylmethyl group, thienylmethyl group, thiazolylmethyl group, oxazolylmethyl group, imidazolylmethyl group, pyrrolinylmethyl group,
Imidazolinylmethyl group, pyrrolidylmethyl group, tetrahydrofurylmethyl group, tetrahydrothienylmethyl group, indolylmethyl group, pyridylmethyl group, pyrimidylmethyl group, quinolylmethyl group, isoquinolylmethyl group, piperidylmethyl group, tetrahydropyranylmethyl group Group, piperazinylmethyl group, pyrrolylethyl group, furylethyl group, thienylpropyl group, imidazolylbutyl group, piperidylmethyl group, piperidylpropyl group and the like.

【0028】低級アルカノル基とは、炭素数2〜6個の
低級アルキルカルボニル基を意味し、具体的には、アセ
チル基、プロピオニル基、ブタノイル基、ペンタノイル
基、ヘキサノイル基等が挙げられる。
The lower alkanol group means a lower alkylcarbonyl group having 2 to 6 carbon atoms, and specific examples thereof include acetyl group, propionyl group, butanoyl group, pentanoyl group and hexanoyl group.

【0029】低級アルコキシカルボニル基とは、炭素数
が1〜6個の直鎖又は分枝状のアルキル基を有するアル
キルオキシカルボニル基を意味し、具体的には、メトキ
シカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカ
ルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカ
ルボニル基、イソブトキシカルボニル基、sec−ブト
キシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基、
ペンチルオキシカルボニル基、イソペンチルオキシカル
ボニル基、ネオペンチルオキシカルボニル基、tert
−ペンチルオキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボ
ニル基等が挙げられる。
The lower alkoxycarbonyl group means an alkyloxycarbonyl group having a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, specifically, a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, Propoxycarbonyl group, isopropoxycarbonyl group, butoxycarbonyl group, isobutoxycarbonyl group, sec-butoxycarbonyl group, tert-butoxycarbonyl group,
Pentyloxycarbonyl group, isopentyloxycarbonyl group, neopentyloxycarbonyl group, tert
Examples thereof include a pentyloxycarbonyl group and a hexyloxycarbonyl group.

【0030】モノ低級アルキルアミノ基とは、炭素数1
〜6個のアルキル基を1個有するアミノ基を意味し、例
えば、メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミ
ノ基、ヘキシルアミノ基、イソプロピルアミノ基等を挙
げることができる。
The mono-lower alkylamino group has 1 carbon atom.
It means an amino group having 1 to 6 alkyl groups, and examples thereof include a methylamino group, an ethylamino group, a propylamino group, a hexylamino group, and an isopropylamino group.

【0031】ジ低級アルキルアミノ基とは、炭素数1〜
6個のアルキル基を2個有するアミノ基を意味し、例え
ば、ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、ジエチ
ルアミノ基、メチルプロピルアミノ基、エチルプロピル
アミノ基、ブチルメチルアミノ基、ブチルエチルアミノ
基、ヘキシルメチルアミノ基、エチルヘキシルアミノ基
等を挙げることができる。
The di-lower alkylamino group has 1 to 1 carbon atoms.
It means an amino group having two 6 alkyl groups, for example, dimethylamino group, ethylmethylamino group, diethylamino group, methylpropylamino group, ethylpropylamino group, butylmethylamino group, butylethylamino group, hexyl Examples thereof include a methylamino group and an ethylhexylamino group.

【0032】低級アルコキシカルボニルアミノ基と
は、、炭素数1〜6個のアルキル基を有するアルキルオ
キシカルボニル基を有するアミノ基を意味し、例えば、
メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミ
ノ基、プロポキシカルボニルアミノ基、イソプロポキシ
カルボニルアミノ基、ブトキシカルボニルアミノ基、イ
ソブトキシカルボニルアミノ基、sec−ブトキシカル
ボニルアミノ基、tert−ブトキシカルボニルアミノ
基、ペンチルオキシカルボニルアミノ基、イソペンチル
オキシカルボニルアミノ基、ネオペンチルオキシカルボ
ニルアミノ基、tert−ペンチルオキシカルボニルア
ミノ基、ヘキシルオキシカルボニルアミノ基等を挙げる
ことができる。
The lower alkoxycarbonylamino group means an amino group having an alkyloxycarbonyl group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, for example,
Methoxycarbonylamino group, ethoxycarbonylamino group, propoxycarbonylamino group, isopropoxycarbonylamino group, butoxycarbonylamino group, isobutoxycarbonylamino group, sec-butoxycarbonylamino group, tert-butoxycarbonylamino group, pentyloxycarbonylamino group Group, isopentyloxycarbonylamino group, neopentyloxycarbonylamino group, tert-pentyloxycarbonylamino group, hexyloxycarbonylamino group and the like.

【0033】アリールオキシカルボニルアミノ基とは、
フェニルオキシカルボニルアミノ基、ナフチルオキシカ
ルボニルアミノ基等を意味する。
The aryloxycarbonylamino group is
It means a phenyloxycarbonylamino group, a naphthyloxycarbonylamino group or the like.

【0034】低級アルカノイルアミノ基とは、炭素数2
〜6個の低級アルキルカルボニル基を有するアミノ基を
意味し、例えば、アセチルアミノ基、プロピオニルアミ
ノ基、ブタノイルアミノ基、ペンタノイルアミノ基、ヘ
キサノイルアミノ基、N−アセチル−N−メチルアミノ
基、N−アセチル−N−エチルアミノ基、N−メチル−
N−プロピオニルアミノ基を挙げることができる。
The lower alkanoylamino group has 2 carbon atoms.
To an amino group having 6 lower alkylcarbonyl groups, for example, acetylamino group, propionylamino group, butanoylamino group, pentanoylamino group, hexanoylamino group, N-acetyl-N-methylamino group. , N-acetyl-N-ethylamino group, N-methyl-
Mention may be made of N-propionylamino groups.

【0035】アロイルアミノ基とは、ベンゾイルアミノ
基、ナフトイルアミノ基等を意味する。
The aroylamino group means a benzoylamino group, a naphthoylamino group and the like.

【0036】N−モノ低級アルキルカルバモイル基と
は、炭素数 1〜6個のアルキル基を1個有するN−モ
ノアルキルカルバモイル基を意味し、例えば、N−メチ
ルカルバモイル基、N−エチルカルバモイル基、N−プ
ロピルカルバモイル基、N−イソプロピルカルバモイル
基、N−ブチルカルバモイル基、N−ペンチルカルバモ
イル基、N−ヘキシルカルバモイル基、N−シクロプロ
ピルカルバモイル基、N−シクロペンチルカルバモイル
基、N−シクロヘキシルカルバモイル基等を挙げること
ができる。
The N-mono-lower alkylcarbamoyl group means an N-monoalkylcarbamoyl group having one alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, for example, N-methylcarbamoyl group, N-ethylcarbamoyl group, N-propylcarbamoyl group, N-isopropylcarbamoyl group, N-butylcarbamoyl group, N-pentylcarbamoyl group, N-hexylcarbamoyl group, N-cyclopropylcarbamoyl group, N-cyclopentylcarbamoyl group, N-cyclohexylcarbamoyl group, etc. Can be mentioned.

【0037】N,N−ジ低級アルキルカルバモイル基と
は、炭素数1〜6個のアルキル基を2個有するN,N−
ジアルキルカルバモイル基を意味し、例えば、N,N−
ジメチルカルバモイル基、N,N−ジエチルカルバモイ
ル基、N−エチル−N−メチルカルバモイル基、N−エ
チル−N−プロピルカルバモイル基、N−プロピル−N
−メチルカルバモイル基、N−シクロプロピル−N−エ
チルカルバモイル基、N−ブチル−N−メチルカルバモ
イル基、N−メチル−N−ペンチルカルバモイル基、N
−イソプロピル−N−メチルカルバモイル基等を挙げる
ことができる。
The N, N-di-lower alkylcarbamoyl group means N, N- having two alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms.
A dialkylcarbamoyl group is meant, for example, N, N-
Dimethylcarbamoyl group, N, N-diethylcarbamoyl group, N-ethyl-N-methylcarbamoyl group, N-ethyl-N-propylcarbamoyl group, N-propyl-N
-Methylcarbamoyl group, N-cyclopropyl-N-ethylcarbamoyl group, N-butyl-N-methylcarbamoyl group, N-methyl-N-pentylcarbamoyl group, N
-Isopropyl-N-methylcarbamoyl group and the like can be mentioned.

【0038】N−アリールカルバモイル基とは、N−フ
ェニルカルバモイル基、N−ナフチルカルバモイル基等
を意味する。
The N-arylcarbamoyl group means N-phenylcarbamoyl group, N-naphthylcarbamoyl group and the like.

【0039】アロイル基とは、アリールカルボニル基を
意味し、具体的には、ベンゾイル基等が挙げられる。
The aroyl group means an arylcarbonyl group, and specific examples thereof include a benzoyl group.

【0040】低級アルケニル基とは、炭素数が3〜6個
の直鎖又は分枝状のアルケニル基を意味し、具体的に
は、1−プロペニル基、2−プロペニル基、1−ブテニ
ル基、2−ブテニル基、3−ブテニル基、1−メチル−
2−プロペニル基、1−ペンテニル基、2−ペンテニル
基、3−ペンテニル基、4−ペンテニル基、3−メチル
−1−ブテニル基、2−メチル−3−ブテニル基、1−
メチル−2−ブテニル基、1−メチル−3−ブテニル
基、1,1−ジメチル−2−プロペニル基、1−ヘキセ
ニル基、2−ヘキセニル基、3−ヘキセニル基、4−ヘ
キセニル基、5−ヘキセニル基等が挙げられる。
The lower alkenyl group means a linear or branched alkenyl group having 3 to 6 carbon atoms, specifically, 1-propenyl group, 2-propenyl group, 1-butenyl group, 2-butenyl group, 3-butenyl group, 1-methyl-
2-propenyl group, 1-pentenyl group, 2-pentenyl group, 3-pentenyl group, 4-pentenyl group, 3-methyl-1-butenyl group, 2-methyl-3-butenyl group, 1-
Methyl-2-butenyl group, 1-methyl-3-butenyl group, 1,1-dimethyl-2-propenyl group, 1-hexenyl group, 2-hexenyl group, 3-hexenyl group, 4-hexenyl group, 5-hexenyl group Groups and the like.

【0041】ハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原
子、臭素原子又はヨウ素原子を意味する。
The halogen atom means a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom.

【0042】また、低級アルコキシ基とは、炭素数が1
〜6個の直鎖又は分枝状のアルキル基を有するアルキル
オキシ基を意味し、具体的には、メトキシ基、エトキシ
基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イ
ソブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキ
シ基、ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ネオ
ペンチルオキシ基、tert−ペンチルオキシ基、ヘキ
シルオキシ基、イソヘキシルオキシ基等が挙げられる。
The lower alkoxy group has a carbon number of 1
~ 6 means an alkyloxy group having a linear or branched alkyl group, specifically, a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group, a butoxy group, an isobutoxy group, a sec-butoxy group. , Tert-butoxy group, pentyloxy group, isopentyloxy group, neopentyloxy group, tert-pentyloxy group, hexyloxy group, isohexyloxy group and the like.

【0043】アリールオキシ基とは、フェノキシ基、ナ
フチルオキシ基等を意味する。
The aryloxy group means a phenoxy group, a naphthyloxy group and the like.

【0044】低級アルキルチオ基とは、炭素数1〜6個
のアルキルチオ基を意味し、例えば、メチルチオ基、エ
チルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ブ
チルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基等を挙げ
ることができる。
The lower alkylthio group means an alkylthio group having 1 to 6 carbon atoms, and examples thereof include a methylthio group, an ethylthio group, a propylthio group, an isopropylthio group, a butylthio group, a pentylthio group and a hexylthio group. it can.

【0045】低級アルカノイルチオ基とは、炭素数2〜
6個のアルカノイルチオ基を意味し、例えば、アセチル
チオ基、プロピオニルチオ基、ブタノイルチオ基、ペン
タノイルチオ基、ヘキサノイルチオ基等を挙げることが
できる。
The lower alkanoylthio group has 2 to 2 carbon atoms.
It means 6 alkanoylthio groups, and examples thereof include an acetylthio group, a propionylthio group, a butanoylthio group, a pentanoylthio group and a hexanoylthio group.

【0046】低級アルキルスルホニル基とは、炭素数1
〜6個のアルキルスルホニル基を意味し、例えば、メチ
ルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホ
ニル基、イソプロピルスルホニル基、ブチルスルホニル
基、イソブチルスルホニル基、ペンチルスルホニル基、
ヘキシルスルホニル基等を挙げることができる。
The lower alkylsulfonyl group has 1 carbon atom.
To 6 alkylsulfonyl groups, for example, methylsulfonyl group, ethylsulfonyl group, propylsulfonyl group, isopropylsulfonyl group, butylsulfonyl group, isobutylsulfonyl group, pentylsulfonyl group,
A hexyl sulfonyl group etc. can be mentioned.

【0047】低級アシルオキシ基とは、炭素数2〜6個
のアシルオキシ基を意味し、例えば、アセチルオキシ
基、プロピオニルオキシ基、ブタノイルオキシ基、ヘプ
タノイルオキシ基、ヘキサノイルオキシ基等を挙げるこ
とができる。
The lower acyloxy group means an acyloxy group having 2 to 6 carbon atoms, and examples thereof include an acetyloxy group, a propionyloxy group, a butanoyloxy group, a heptanoyloxy group and a hexanoyloxy group. You can

【0048】保護されたカルボキシル基における保護基
とは、メチル基、エチル基、プロピル基等の低級アルキ
ル基、ベンジル基を意味する。
The protecting group in the protected carboxyl group means a lower alkyl group such as methyl group, ethyl group and propyl group, and a benzyl group.

【0049】低級アルキル基で置換されていてもよい2
価の低級アルキレン基とは、炭素数1〜6個のアルキル
基で置換されていてもよい、1〜6個の炭素原子が直鎖
上に連結している2価のアルキレン基を意味し、例え
ば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン
基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、エチルエチ
レン基、メチルエチレン基等を挙げることができる。
2 which may be substituted with a lower alkyl group
The valent lower alkylene group means a divalent alkylene group in which 1 to 6 carbon atoms are linearly linked, which may be substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, For example, methylene group, ethylene group, propylene group, butylene group, pentamethylene group, hexamethylene group, ethylethylene group, methylethylene group and the like can be mentioned.

【0050】次に、一般式[I]において用いられてい
る符号の意味を具体例を挙げて説明することにより本発
明を更に詳細に説明する。
Next, the present invention will be described in more detail by explaining the meaning of the symbols used in the general formula [I] with specific examples.

【0051】R1で示される基は低級アルキル基、シク
ロアルキル基、シクロアルキル低級アルキル基、アラル
キル基、アリール基、5〜10員の複素環基又は5〜1
0員の複素環低級アルキル基(該低級アルキル基、シク
ロアルキル基、シクロアルキル低級アルキル基、アラル
キル基、アリール基、5〜10員の複素環基及び5〜1
0員の複素環低級アルキル基は、それぞれ独立に、それ
らの鎖上及び/又は環上に低級アルキル基、ハロゲン原
子、水酸基、低級アルコキシ基、ニトロ基、トリフルオ
ロメチル基、シアノ基、ホルミル基、低級アルカノイル
基、カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基、ア
ミノ基、モノ低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルア
ミノ基、ホルミルアミノ基、アルカノイルアミノ基、ア
ロイルアミノ基、カルバノイル基、N−モノ低級アルキ
ルカルバモイル基又はN,N−ジ低級アルキルカルバモ
イル基、メルカプト基、低級アルキルチオ基又は低級ア
ルカノイルチオ基を有していてもよい)を意味する。鎖
上に上記置換基を有していてもよい低級アルキル基の具
体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソ
プロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル
基、tert−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル
基、ネオペンチル基、tert−ペンチル基、1,1−
ジメチルブチル基、1−エチル−1−メチルプロピル基
等が挙げられる。環上に上記置換基を有していてもよい
シクロアルキル基の具体例としては、シクロプロピル
基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシ
ル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノ
ニル基等が挙げられる。鎖上及び/又は環上に上記置換
基を有していてもよいシクロアルキル基低級アルキル基
の具体例としては、シクロプロピルメチル基、1−シク
ロプロピルエチル基、2−シクロプロピルエチル基、1
−シクロプロピルプロピル基、2−シクロプロピルプロ
ピル基、3−シクロプロピルプロピル基、シクロペンチ
ルメチル基、1−シクロペンチルエチル基、2−シクロ
ペンチルエチル基、1−シクロペンチルプロピル基、2
−シクロペンチルプロピル基、3−シクロペンチルプロ
ピル基、シクロヘキシルメチル基、1−シクロヘキシル
エチル基、2−シクロヘキシルエチル基、1−シクロヘ
キシルプロピル基、2−シクロヘキシルプロピル基、3
−シクロヘキシルプロピル基、シクロヘプチルメチル
基、1−シクロヘプチルエチル基、1−シクロヘプチル
プロピル基、1−シクロプロピル−1−メチルエチル
基、1−シクロブチル−1−メチルエチル基、1−シク
ロペンチル−1−メチルエチル基、1−シクロヘキシル
−1−メチルエチル基等が挙げられる。鎖上及び/又は
環上に上記置換基を有していてもよいアラルキル基の具
体例としては、ベンジル基、1−フェニルエチル基、2
−フェニルエチル基、1−フェニルプロピル基、2−フ
ェニルプロピル基、3−フェニルプロピル基、1−ナフ
チルメチル基、2−ナフチルメチル基等が挙げられる。
環上に上記置換基を有していてもよいアリール基の具体
例としては、フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチ
ル基等が挙げられる。環上に上記置換基を有していても
よい5〜10員の複素環基の具体例としては、2−ピロ
リル基、3−ピロリル基、2−フリル基、3−フリル
基、2−チエニル基、3−チエニル基、2−チアゾリル
基、4−チアゾリル基、5−チアゾリル基、オキサゾリ
ル基、イミダゾリル基、ピロリジノ基、ピペラジノ基、
テトラヒドロイソキノリル基等が挙げられる。鎖上及び
/又は環上に上記置換基を有していてもよい5〜10員
の複素環低級アルキル基の具体例としては、2−フリル
メチル基、3−フリルメチル基、2−チエニルメチル
基、3−チエニルメチル基、2−フェニルエチル基、2
−(2−フリル)エチル基、2−(3−フリル)エチル
基、2−(2−チエニル)エチル基、2−(3−チエニ
ル)エチル基等が挙げられる。
The group represented by R 1 is a lower alkyl group, a cycloalkyl group, a cycloalkyl lower alkyl group, an aralkyl group, an aryl group, a 5- to 10-membered heterocyclic group or 5-1.
0-membered heterocyclic lower alkyl group (the lower alkyl group, cycloalkyl group, cycloalkyl lower alkyl group, aralkyl group, aryl group, 5- to 10-membered heterocyclic group and 5-1
The 0-membered heterocyclic lower alkyl group is independently a lower alkyl group, a halogen atom, a hydroxyl group, a lower alkoxy group, a nitro group, a trifluoromethyl group, a cyano group or a formyl group on the chain and / or the ring thereof. , Lower alkanoyl group, carboxyl group, lower alkoxycarbonyl group, amino group, mono-lower alkylamino group, di-lower alkylamino group, formylamino group, alkanoylamino group, aroylamino group, carbanoyl group, N-monolower alkylcarbamoyl group or N, N-di-lower alkylcarbamoyl group, mercapto group, lower alkylthio group or lower alkanoylthio group may be present). Specific examples of the lower alkyl group which may have the above substituent on the chain include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, Pentyl group, isopentyl group, neopentyl group, tert-pentyl group, 1,1-
Examples thereof include a dimethylbutyl group and a 1-ethyl-1-methylpropyl group. Specific examples of the cycloalkyl group which may have the above-mentioned substituent on the ring include cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, cyclooctyl group, cyclononyl group and the like. Specific examples of the cycloalkyl group lower alkyl group which may have the above-mentioned substituent on the chain and / or ring include cyclopropylmethyl group, 1-cyclopropylethyl group, 2-cyclopropylethyl group, 1
-Cyclopropylpropyl group, 2-cyclopropylpropyl group, 3-cyclopropylpropyl group, cyclopentylmethyl group, 1-cyclopentylethyl group, 2-cyclopentylethyl group, 1-cyclopentylpropyl group, 2
-Cyclopentylpropyl group, 3-cyclopentylpropyl group, cyclohexylmethyl group, 1-cyclohexylethyl group, 2-cyclohexylethyl group, 1-cyclohexylpropyl group, 2-cyclohexylpropyl group, 3
-Cyclohexylpropyl group, cycloheptylmethyl group, 1-cycloheptylethyl group, 1-cycloheptylpropyl group, 1-cyclopropyl-1-methylethyl group, 1-cyclobutyl-1-methylethyl group, 1-cyclopentyl-1 -Methylethyl group, 1-cyclohexyl-1-methylethyl group and the like. Specific examples of the aralkyl group which may have the above-mentioned substituent on the chain and / or ring include benzyl group, 1-phenylethyl group and 2
-Phenylethyl group, 1-phenylpropyl group, 2-phenylpropyl group, 3-phenylpropyl group, 1-naphthylmethyl group, 2-naphthylmethyl group and the like.
Specific examples of the aryl group which may have the above substituent on the ring include a phenyl group, a 1-naphthyl group, a 2-naphthyl group and the like. Specific examples of the 5- to 10-membered heterocyclic group which may have the above substituents on the ring include 2-pyrrolyl group, 3-pyrrolyl group, 2-furyl group, 3-furyl group, 2-thienyl group. Group, 3-thienyl group, 2-thiazolyl group, 4-thiazolyl group, 5-thiazolyl group, oxazolyl group, imidazolyl group, pyrrolidino group, piperazino group,
A tetrahydroisoquinolyl group etc. are mentioned. Specific examples of the 5- to 10-membered heterocyclic lower alkyl group which may have the above-mentioned substituent on the chain and / or ring include 2-furylmethyl group, 3-furylmethyl group, 2-thienylmethyl group. Group, 3-thienylmethyl group, 2-phenylethyl group, 2
Examples thereof include a-(2-furyl) ethyl group, a 2- (3-furyl) ethyl group, a 2- (2-thienyl) ethyl group and a 2- (3-thienyl) ethyl group.

【0052】A1は単結合又は低級アルキル基で置換さ
れていてもよい2価の低級アルキレン基を意味し、2価
の低級アルキレン基の具体例としては、メチレン基、エ
チレン基、プロピレン基、ブチレン基等が挙げられる。
A 1 represents a single bond or a divalent lower alkylene group which may be substituted with a lower alkyl group, and specific examples of the divalent lower alkylene group include a methylene group, an ethylene group, a propylene group, Examples thereof include butylene group.

【0053】R2で示される基は低級アルキル基、シク
ロアルキル基、シクロアルキル低級アルキル基、アラル
キル基、アリール基、5〜10員の複素環基又は5〜1
0員の複素環低級アルキル基を意味する。低級アルキル
基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル
基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec
−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、イソペ
ンチル基、ネオペンチル基、tert−ペンチル基、
1,1−ジメチルブチル基、1−エチル−1−メチルプ
ロピル基、1,1,2−トリメチルプロピル基等が挙げ
られる。シクロアルキル基の具体例としては、シクロプ
ロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロ
ヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シ
クロノニル基等が挙げられる。シクロアルキル低級アル
キル基の具体例としては、シクロプロピルメチル基、1
−シクロプロピルエチル基、2−シクロプロピルエチル
基、1−シクロプロピル−1−メチルエチル基、シクロ
ブチルメチル基、1−シクロブチルエチル基、2−シク
ロブチルエチル基、1−シクロブチル−1−メチルエチ
ル基、シクロペンチルメチル基、1−シクロペンチルエ
チル基、2−シクロペンチルエチル基、1−シクロペン
チル−1−メチルエチル基、1−シクロヘキシルメチル
基、1−シクロヘキシルエチル基、1−シクロヘキシル
−1−メチルエチル基、1−シクロヘプチルメチル基、
1−シクロヘプチルエチル基、1−シクロオクチルメチ
ル基、1−シクロオクチルエチル基等が挙げられる。ア
ラルキル基の具体例としては、フェニルメチル基、フェ
ニルエチル基、フェニルプロピル基、1−ナフチルメチ
ル基、2−ナフチルメチル基等が挙げられる。アリール
基の具体例としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げ
られる。5〜10員の複素環基の具体例としては、2−
チエニル基、3−チエニル基、2−チアゾリル基、2−
フリル基、3−フリル基等が挙げられ、5〜10員の複
素環低級アルキル具体例としては、2−チエニルメチル
基、3−チエニルメチル基、2−チエニルエチル基、2
−チアゾリルメチル基、2−フリルメチル基等が挙げら
れる。
The group represented by R 2 is a lower alkyl group, a cycloalkyl group, a cycloalkyl lower alkyl group, an aralkyl group, an aryl group, a 5- to 10-membered heterocyclic group or 5-1.
It means a 0-membered heterocyclic lower alkyl group. Specific examples of the lower alkyl group include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, sec
-Butyl group, tert-butyl group, pentyl group, isopentyl group, neopentyl group, tert-pentyl group,
1,1-dimethylbutyl group, 1-ethyl-1-methylpropyl group, 1,1,2-trimethylpropyl group and the like can be mentioned. Specific examples of the cycloalkyl group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group and a cyclononyl group. Specific examples of the cycloalkyl lower alkyl group include a cyclopropylmethyl group, 1
-Cyclopropylethyl group, 2-cyclopropylethyl group, 1-cyclopropyl-1-methylethyl group, cyclobutylmethyl group, 1-cyclobutylethyl group, 2-cyclobutylethyl group, 1-cyclobutyl-1-methyl Ethyl group, cyclopentylmethyl group, 1-cyclopentylethyl group, 2-cyclopentylethyl group, 1-cyclopentyl-1-methylethyl group, 1-cyclohexylmethyl group, 1-cyclohexylethyl group, 1-cyclohexyl-1-methylethyl group , A 1-cycloheptylmethyl group,
Examples thereof include a 1-cycloheptylethyl group, a 1-cyclooctylmethyl group and a 1-cyclooctylethyl group. Specific examples of the aralkyl group include a phenylmethyl group, a phenylethyl group, a phenylpropyl group, a 1-naphthylmethyl group, a 2-naphthylmethyl group and the like. Specific examples of the aryl group include a phenyl group and a naphthyl group. Specific examples of the 5- to 10-membered heterocyclic group include 2-
Thienyl group, 3-thienyl group, 2-thiazolyl group, 2-
A furyl group, a 3-furyl group and the like can be mentioned. Specific examples of 5- to 10-membered heterocyclic lower alkyl include 2-thienylmethyl group, 3-thienylmethyl group, 2-thienylethyl group, 2
Examples thereof include a thiazolylmethyl group and a 2-furylmethyl group.

【0054】R4で示される5〜10員の複素環低級ア
ルキル基[該5〜10員の複素環低級アルキル基は、そ
の環上に低級アルキル又は式:R41−CO−(CH2q
−(式中、R41は水素原子、低級アルキル基、水酸基、
低級アルコキシ基、アラルキルオキシ基、アミノ基、モ
ノ低級アルキルアミノ基又はジ低級アルキルアミノ基を
示し;qは0〜 6の整数を示す)で表される基を有し
ていてもよい]又はアリール低級アルキル基[該アリー
ル低級アルキル基は、その環上にニトロ基、式:R42
CO−(CH2r−(式中、R42は低級アルキル基、低
級アルコキシ基、アミノ基、モノ低級アルキルアミノ基
又はジ低級アルキルアミノ基を示し、rは0〜6の整数
を示す)で表される基、式:R42−CO−X2−(式
中、R42は前記の意味を有し、X2は酸素原子又は式:
−NR43−(式中、R43は水素原子又は低級アルキル基
を示す)で表される基又は式:R44O−(CH2s
(式中、R44は水素原子又は低級アルキル基を示し、s
は0〜6の整数を示す)で表される基]の具体例として
は、3−インドリルメチル基、3−ベンゾチエニルメチ
ル基、(1−オキソ−3−ベンゾチエニル)メチル基、
(1,1−ジオキソ−3−ベンゾチエニル)メチル基、
(1−メチル−3−インドリル)メチル基、(1−エチ
ル−3−インドリル)メチル基、(1−プロピル−3−
インドリル)メチル基、(1−ブチル−3−インドリ
ル)メチル基、(1−ホルミル−3−インドリル)メチ
ル基、(1−アセチル−3−インドリル)メチル基、
(1−メトキシカルボニル−3−インドリル)メチル
基、(1−エトキシカルボニル−3−インドリル)メチ
ル基、(1−プロポキシカルボニル−3−インドリル)
メチル基、(1−tert−ブトキシカルボニル−3−
インドリル)メチル基、(1−ベンジルオキシカルボニ
ル−3−インドリル)メチル基、(1−カルバモイル−
3−インドリル)メチル基、(1−メチルカルバモイル
−3−インドリル)メチル基、(1−エチルカルバモイ
ル−3−インドリル)メチル基、(1−ホルミルメチル
−3−インドリル)メチル基、[1−(2−オキソプロ
ピル)−3−インドリル]メチル基、(1−カルボキシ
メチル−3−インドリル)メチル基、(1−メトキシカ
ルボニルメチル−3−インドリル)メチル基、(1−エ
トキシカルボニルメチル−3−インドリル)メチル基、
(1−tert−ブトキシカルボニルメチル−3−イン
ドリル)メチル基、(1−ベンジルオキシカルボニルメ
チル−3−インドリル)メチル基、(1−カルバモイル
メチル−3−インドリル)メチル基、(1−メチルカル
バモイルメチル−3−インドリル)メチル基、(1−エ
チルカルバモイルメチル−3−インドリル)メチル基、
[1−(2−ホルミルエチル)−3−インドリル]メチ
ル基、[1−(2−カルボキシエチル)−3−インドリ
ル]メチル基、ベンジル基、2−ニトロフェニルメチル
基、3−ニトロフェニルメチル基、4−ニトロフェニル
メチル基、2−アセチルフェニルメチル基、3−アセチ
ルフェニルメチル基、4−アセチルフェニルメチル基、
2−アセチルメチルフェニルメチル基、3−アセチルメ
チルフェニルメチル基、4−アセチルメチルフェニルメ
チル基、2−メトキシカルボニルフェニルメチル基、3
−メトキシカルボニルフェニルメチル基、4−メトキシ
カルボニルフェニルメチル基、2−エトキシカルボキシ
フェニルメチル基、3−エトキシカルボニルフェニルメ
チル基、4−エトキシカルボニルフェニルメチル基、2
−カルバモイルフェニルメチル基、3−カルバモイルフ
ェニルメチル基、4−カルバモイルフェニルメチル基、
2−メチルカルバモイルフェニルメチル基、3−メチル
カルバモイルフェニルメチル基、4−メチルカルバモイ
ルフェニルメチル基、2−ジメチルカルバモイルフェニ
ルメチル基、3−ジメチルカルバモイルフェニルメチル
基、4−ジメチルカルバモイルフェニルメチル基、2−
メトキシカルボニルフェニルエチル基、3−メトキシカ
ルボニルフェニルエチル基、4−メトキシカルボニルフ
ェニルエチル基、2−アセトキシフェニルメチル基、3
−アセトキシフェニルメチル基、4−アセトキシフェニ
ルメチル基、2−メトキシカルボニルオキシフェニルメ
チル基、3−メトキシカルボニルオキシフェニルメチル
基、4−メトキシカルボニルオキシフェニルメチル基、
2−アセチルアミノフェニルメチル基、3−アセチルア
ミノフェニルメチル基、4−アセチルアミノフェニルメ
チル基、2−メトキシカルボニルアミノフェニルメチル
基、3−メトキシカルボニルアミノフェニルメチル基、
4−メトキシカルボニルアミノフェニルメチル基、2−
ヒドロキシフェニルメチル基、3−ヒドロキシフェニル
メチル基、4−ヒドロキシフェニルメチル基、2−メト
キシフェニルメチル基、3−メトキシフェニルメチル
基、4−メトキシフェニルメチル基、2−メトキシフェ
ニルエチル基、3−メトキシフェニルエチル基、4−メ
トキシフェニルエチル基等が挙げられる。
A 5- to 10-membered heterocyclic lower alkyl group represented by R 4 [wherein the 5- to 10-membered heterocyclic lower alkyl group is a lower alkyl on the ring or the formula: R 41 -CO- (CH 2 ). q
-(Wherein R 41 is a hydrogen atom, a lower alkyl group, a hydroxyl group,
A lower alkoxy group, an aralkyloxy group, an amino group, a mono-lower alkylamino group or a di-lower alkylamino group; q represents an integer of 0 to 6)] or aryl lower alkyl [the aryl lower alkyl group, a nitro group on the ring, the formula: R 42 -
CO- (CH 2) r - (wherein, R 42 is a lower alkyl group, a lower alkoxy group, an amino group, a mono-lower alkylamino group or a di-lower alkylamino group, r represents an integer of 0 to 6) A group represented by the formula: R 42 —CO—X 2 — (wherein R 42 has the above meaning, X 2 is an oxygen atom or a formula:
A group represented by —NR 43 — (in the formula, R 43 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group) or a formula: R 44 O— (CH 2 ) s
(In the formula, R 44 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group, and s
Represents an integer of 0 to 6)], a specific example of a 3-indolylmethyl group, a 3-benzothienylmethyl group, a (1-oxo-3-benzothienyl) methyl group,
(1,1-dioxo-3-benzothienyl) methyl group,
(1-Methyl-3-indolyl) methyl group, (1-ethyl-3-indolyl) methyl group, (1-propyl-3-
Indolyl) methyl group, (1-butyl-3-indolyl) methyl group, (1-formyl-3-indolyl) methyl group, (1-acetyl-3-indolyl) methyl group,
(1-Methoxycarbonyl-3-indolyl) methyl group, (1-ethoxycarbonyl-3-indolyl) methyl group, (1-propoxycarbonyl-3-indolyl)
Methyl group, (1-tert-butoxycarbonyl-3-
Indolyl) methyl group, (1-benzyloxycarbonyl-3-indolyl) methyl group, (1-carbamoyl-
3-indolyl) methyl group, (1-methylcarbamoyl-3-indolyl) methyl group, (1-ethylcarbamoyl-3-indolyl) methyl group, (1-formylmethyl-3-indolyl) methyl group, [1- ( 2-oxopropyl) -3-indolyl] methyl group, (1-carboxymethyl-3-indolyl) methyl group, (1-methoxycarbonylmethyl-3-indolyl) methyl group, (1-ethoxycarbonylmethyl-3-indolyl) ) A methyl group,
(1-tert-Butoxycarbonylmethyl-3-indolyl) methyl group, (1-benzyloxycarbonylmethyl-3-indolyl) methyl group, (1-carbamoylmethyl-3-indolyl) methyl group, (1-methylcarbamoylmethyl) -3-indolyl) methyl group, (1-ethylcarbamoylmethyl-3-indolyl) methyl group,
[1- (2-Formylethyl) -3-indolyl] methyl group, [1- (2-carboxyethyl) -3-indolyl] methyl group, benzyl group, 2-nitrophenylmethyl group, 3-nitrophenylmethyl group , 4-nitrophenylmethyl group, 2-acetylphenylmethyl group, 3-acetylphenylmethyl group, 4-acetylphenylmethyl group,
2-acetylmethylphenylmethyl group, 3-acetylmethylphenylmethyl group, 4-acetylmethylphenylmethyl group, 2-methoxycarbonylphenylmethyl group, 3
-Methoxycarbonylphenylmethyl group, 4-methoxycarbonylphenylmethyl group, 2-ethoxycarboxyphenylmethyl group, 3-ethoxycarbonylphenylmethyl group, 4-ethoxycarbonylphenylmethyl group, 2
-Carbamoylphenylmethyl group, 3-carbamoylphenylmethyl group, 4-carbamoylphenylmethyl group,
2-methylcarbamoylphenylmethyl group, 3-methylcarbamoylphenylmethyl group, 4-methylcarbamoylphenylmethyl group, 2-dimethylcarbamoylphenylmethyl group, 3-dimethylcarbamoylphenylmethyl group, 4-dimethylcarbamoylphenylmethyl group, 2-
Methoxycarbonylphenylethyl group, 3-methoxycarbonylphenylethyl group, 4-methoxycarbonylphenylethyl group, 2-acetoxyphenylmethyl group, 3
-Acetoxyphenylmethyl group, 4-acetoxyphenylmethyl group, 2-methoxycarbonyloxyphenylmethyl group, 3-methoxycarbonyloxyphenylmethyl group, 4-methoxycarbonyloxyphenylmethyl group,
2-acetylaminophenylmethyl group, 3-acetylaminophenylmethyl group, 4-acetylaminophenylmethyl group, 2-methoxycarbonylaminophenylmethyl group, 3-methoxycarbonylaminophenylmethyl group,
4-methoxycarbonylaminophenylmethyl group, 2-
Hydroxyphenylmethyl group, 3-hydroxyphenylmethyl group, 4-hydroxyphenylmethyl group, 2-methoxyphenylmethyl group, 3-methoxyphenylmethyl group, 4-methoxyphenylmethyl group, 2-methoxyphenylethyl group, 3-methoxy Examples thereof include a phenylethyl group and a 4-methoxyphenylethyl group.

【0055】R51で示される基は水素原子又は低級アル
キル基を意味するか、又はR61と一緒になってメチレン
基を意味し、低級アルキル基の具体例としては、メチル
基、エチル基等が挙げられる。
The group represented by R 51 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group, or represents a methylene group together with R 61, and specific examples of the lower alkyl group include a methyl group, an ethyl group and the like. Is mentioned.

【0056】R61で示される基は水素原子、低級アルキ
ル基、低級アルケニル基、アリール基、アリール低級ア
ルキル基、5〜10員の複素環基又は5〜10員の複素
環低級アルキル基(該低級アルキル基、低級アルケニル
基、アリール基、アリール低級アルキル基、5〜10員
の複素環基及び複素環低級アルキル基は、それぞれ独立
にそれらの鎖上及び/又は環上に水酸基、低級アルキル
基、ハロゲン原子、低級アルコキシ基、アリールオキシ
基、アシルオキシ基、カルボキシル基、保護されたカル
ボキシル基、アミノ基、モノアルキルアミノ基、ジ低級
アルキルアミノ基、カルバモイル基、N−モノ低級アル
キルカルバモイル基、N,N−ジ低級アルキルアミノ
基、低級アルコキシカルボニルアミノ基又はアリールオ
キシカルボニルアミノ基を有していてもよい)を意味す
るか、又はR61と一緒になってメチレン基を意味する。
鎖上に上記置換基を有していてもよい低級アルキル基の
具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イ
ソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチ
ル基、tert−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル
基、ネオペンチル基、tert−ペンチル基、ヘキシル
基、ヒドロキシメチル基、1−ヒドロキシエチル基、2
−ヒドロキシエチル基、1−ヒドロキシプロピル基、2
−ヒドロキシプロピル基、3−ヒドロキシプロピル基、
1−ヒドロキシ−1−メチルエチル基、2−ヒドロキシ
−1−メチルエチル基、1−ヒドロキシブチル基、2−
ヒドロキシブチル基、3−ヒドロキシブチル基、4−ヒ
ドロキシブチル基、1−ヒドロキシ−1−メチルプロピ
ル基、2−ヒドロキシ−1−メチルプロピル基等が挙げ
られる。鎖上に上記置換基を有していてもよい低級アル
ケニル基の具体例としては、ビニル基、アリル基、2−
プロペニル基、イソプロペニル基、3−ブテニル基、2
−ブテニル基、1−ブテニル基、1−メチル−2−プロ
ペニル基、1−メチル−1−プロペニル基、1−エチル
−1−エテニル基、2−メチル−2−プロペニル基、2
−メチル−1−プロペニル基、4−ペンテニル基、5−
ペンテニル基等が挙げられる。環状に上記置換基を有し
ていてもよいアリール基の具体例としては、フェニル
基、1−ナフチル基、2−ナフチル基等が挙げられる。
環状に上記置換基を有していてもよいアリール低級アル
キル基の具体例としては、ベンジル基、1−フェニルエ
チル基、2−フェニルエチル基、1−フェニルプロピル
基、2−フェニルプロピル基、3−フェニルプロピル
基、1−メチル−2−フェニルエチル基、1−フェニル
ブチル基、2−フェニルブチル基、3−フェニルブチル
基、4−フェニルブチル基、1−フェニル−2−メチル
プロピル基、2−フェニル−1−メチルプロピル基等が
挙げられる。環状に上記置換基を有していてもよい複素
環基の具体例としては、2−チアゾリル基、4−チアゾ
リル基、5−チアゾリル基、2−チエニル基、3−チエ
ニル基、2−ピリジル基、3−ピリジル基、4−ピリジ
ル基、2−インドリル基、3−インドリル基、4−イミ
ダゾリル基等が挙げられる。環状に上記置換基を有して
いてもよい複素環低級アルキル基の具体例としては、2
−チアゾリルメチル基、4−チアゾリルメチル基、5−
チアゾリルメチル基、2−(2−チアゾリル)エチル
基、2−(4−チアゾリル)エチル基、2−(5−チア
ゾリル)エチル基、2−チエニルメチル基、3−チエニ
ルメチル基、2−(2−チエニル)エチル基、2−(3
−チエニル)エチル基、2−ピリジルメチル基、3−ピ
リジルメチル基、4−ピリジルメチル基、2−インドリ
ルメチル基、3−インドリルメチル基、4−イミダゾリ
ルメチル基等が挙げられる。
The group represented by R 61 is a hydrogen atom, a lower alkyl group, a lower alkenyl group, an aryl group, an aryl lower alkyl group, a 5- to 10-membered heterocyclic group or a 5- to 10-membered heterocyclic lower alkyl group ( The lower alkyl group, the lower alkenyl group, the aryl group, the aryl lower alkyl group, the 5- to 10-membered heterocyclic group and the heterocyclic lower alkyl group are independently a hydroxyl group or a lower alkyl group on their chain and / or ring. , Halogen atom, lower alkoxy group, aryloxy group, acyloxy group, carboxyl group, protected carboxyl group, amino group, monoalkylamino group, dilower alkylamino group, carbamoyl group, N-monolower alkylcarbamoyl group, N , N-di-lower alkylamino group, lower alkoxycarbonylamino group or aryloxycarbonylamido Or means may also be) have a group, or together with R 61 means a methylene group.
Specific examples of the lower alkyl group which may have the above substituent on the chain include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, Pentyl group, isopentyl group, neopentyl group, tert-pentyl group, hexyl group, hydroxymethyl group, 1-hydroxyethyl group, 2
-Hydroxyethyl group, 1-hydroxypropyl group, 2
-Hydroxypropyl group, 3-hydroxypropyl group,
1-hydroxy-1-methylethyl group, 2-hydroxy-1-methylethyl group, 1-hydroxybutyl group, 2-
Examples thereof include a hydroxybutyl group, a 3-hydroxybutyl group, a 4-hydroxybutyl group, a 1-hydroxy-1-methylpropyl group and a 2-hydroxy-1-methylpropyl group. Specific examples of the lower alkenyl group which may have the above-mentioned substituent on the chain include vinyl group, allyl group and 2-
Propenyl group, isopropenyl group, 3-butenyl group, 2
-Butenyl group, 1-butenyl group, 1-methyl-2-propenyl group, 1-methyl-1-propenyl group, 1-ethyl-1-ethenyl group, 2-methyl-2-propenyl group, 2
-Methyl-1-propenyl group, 4-pentenyl group, 5-
Examples thereof include a pentenyl group. Specific examples of the aryl group which may have the above substituent in a ring include a phenyl group, a 1-naphthyl group, a 2-naphthyl group and the like.
Specific examples of the aryl lower alkyl group which may have the above-mentioned substituent in a ring include benzyl group, 1-phenylethyl group, 2-phenylethyl group, 1-phenylpropyl group, 2-phenylpropyl group and 3 -Phenylpropyl group, 1-methyl-2-phenylethyl group, 1-phenylbutyl group, 2-phenylbutyl group, 3-phenylbutyl group, 4-phenylbutyl group, 1-phenyl-2-methylpropyl group, 2 -Phenyl-1-methylpropyl group and the like can be mentioned. Specific examples of the heterocyclic group which may have the above-mentioned substituent in the ring include 2-thiazolyl group, 4-thiazolyl group, 5-thiazolyl group, 2-thienyl group, 3-thienyl group, 2-pyridyl group. , 3-pyridyl group, 4-pyridyl group, 2-indolyl group, 3-indolyl group, 4-imidazolyl group and the like. Specific examples of the heterocyclic lower alkyl group which may have the above-mentioned substituent in the ring include 2
-Thiazolylmethyl group, 4-thiazolylmethyl group, 5-
Thiazolylmethyl group, 2- (2-thiazolyl) ethyl group, 2- (4-thiazolyl) ethyl group, 2- (5-thiazolyl) ethyl group, 2-thienylmethyl group, 3-thienylmethyl group, 2- (2- Thienyl) ethyl group, 2- (3
Examples include -thienyl) ethyl group, 2-pyridylmethyl group, 3-pyridylmethyl group, 4-pyridylmethyl group, 2-indolylmethyl group, 3-indolylmethyl group, 4-imidazolylmethyl group and the like.

【0057】R52で示される基は水素原子、アリール
基、アラルキル基、カルボキシ基、カルバモイル基、N
−モノ低級アルキルカルバモイル基、N,N−ジ低級ア
ルキルカルバモイル基又はN−アリールカルバモイル基
を意味するか或はR7と一緒になって単結合を形成す
る。
The group represented by R 52 is a hydrogen atom, an aryl group, an aralkyl group, a carboxy group, a carbamoyl group or an N group.
A mono-lower alkylcarbamoyl group, an N, N-di-lower alkylcarbamoyl group or an N-arylcarbamoyl group or together with R 7 form a single bond.

【0058】R62で示される基は水素原子、低級アルキ
ル基、低級アルケニル基、アリール基、アリール低級ア
ルキル基、5〜10員の複素環基又は5〜10員の複素
環低級アルキル基(該低級アルキル基、低級アルケニル
基、アリール基、アリール低級アルキル基、5〜10員
の複素環基及び複素環低級アルキル基は、それぞれ独立
にそれらの鎖上及び/又は環上に水酸基、低級アルキル
基、ハロゲン原子、低級アルコキシ基、アリールオキシ
基、アシルオキシ基、カルボキシル基、保護されたカル
ボキシル基、アミノ基、モノアルキルアミノ基、ジ低級
アルキルアミノ基、カルバモイル基、N−モノ低級アル
キルカルバモイル基、N,N−ジ低級アルキルアミノ
基、低級アルコキシカルボニルアミノ基又はアリールオ
キシカルボニルアミノ基を有していてもよい)を意味す
る。鎖上に上記置換基を有していてもよい低級アルキル
基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル
基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec
−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、イソペ
ンチル基、ネオペンチル基、tert−ペンチル基、ヘ
キシル基、ヒドロキシメチル基、1−ヒドロキシエチル
基、2−ヒドロキシエチル基、1−ヒドロキシプロピル
基、2−ヒドロキシプロピル基、3−ヒドロキシプロピ
ル基、1−ヒドロキシ−1−メチルエチル基、2−ヒド
ロキシ−1−メチルエチル基、1−ヒドロキシブチル
基、2−ヒドロキシブチル基、3−ヒドロキシブチル
基、4−ヒドロキシブチル基、1−ヒドロキシ−1−メ
チルプロピル基、2−ヒドロキシ−1−メチルプロピル
基等が挙げられる。鎖上に上記置換基を有していてもよ
い低級アルケニル基の具体例としては、ビニル基、アリ
ル基、2−プロペニル基、イソプロペニル基、3−ブテ
ニル基、2−ブテニル基、1−ブテニル基、1−メチル
−2−プロペニル基、1−メチル−1−プロペニル基、
1−エチル−1−エテニル基、2−メチル−2−プロペ
ニル基、2−メチル−1−プロペニル基、4−ペンテニ
ル基、5−ペンテニル基等が挙げられる。環状に上記置
換基を有していてもよいアリール基の具体例としては、
フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基等が挙げ
られる。環状に上記置換基を有していてもよいアリール
低級アルキル基の具体例としては、ベンジル基、1−フ
ェニルエチル基、2−フェニルエチル基、1−フェニル
プロピル基、2−フェニルプロピル基、3−フェニルプ
ロピル基、1−メチル−2−フェニルエチル基、1−フ
ェニルブチル基、2−フェニルブチル基、3−フェニル
ブチル基、4−フェニルブチル基、1−フェニル−2−
メチルプロピル基、2−フェニル−1−メチルプロピル
基等が挙げられる。環状に上記置換基を有していてもよ
い複素環基の具体例としては、2−チアゾリル基、4−
チアゾリル基、5−チアゾリル基、2−チエニル基、3
−チエニル基、2−ピリジル基、3−ピリジル基、4−
ピリジル基、2−インドリル基、3−インドリル基、4
−イミダゾリル基等が挙げられる。環状に上記置換基を
有していてもよい複素環低級アルキル基の具体例として
は、2−チアゾリルメチル基、4−チアゾリルメチル
基、5−チアゾリルメチル基、2−(2−チアゾリル)
エチル基、2−(4−チアゾリル)エチル基、2−(5
−チアゾリル)エチル基、2−チエニルメチル基、3−
チエニルメチル基、2−(2−チエニル)エチル基、2
−(3−チエニル)エチル基、2−ピリジルメチル基、
3−ピリジルメチル基、4−ピリジルメチル基、2−イ
ンドリルメチル基、3−インドリルメチル基、4−イミ
ダゾリルメチル基等が挙げられる。
The group represented by R 62 is a hydrogen atom, a lower alkyl group, a lower alkenyl group, an aryl group, an aryl lower alkyl group, a 5- to 10-membered heterocyclic group or a 5- to 10-membered heterocyclic lower alkyl group ( The lower alkyl group, the lower alkenyl group, the aryl group, the aryl lower alkyl group, the 5- to 10-membered heterocyclic group and the heterocyclic lower alkyl group are independently a hydroxyl group or a lower alkyl group on their chain and / or ring. , Halogen atom, lower alkoxy group, aryloxy group, acyloxy group, carboxyl group, protected carboxyl group, amino group, monoalkylamino group, dilower alkylamino group, carbamoyl group, N-monolower alkylcarbamoyl group, N , N-di-lower alkylamino group, lower alkoxycarbonylamino group or aryloxycarbonylamido Means may) have a group. Specific examples of the lower alkyl group which may have the above substituent on the chain include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group and sec.
-Butyl group, tert-butyl group, pentyl group, isopentyl group, neopentyl group, tert-pentyl group, hexyl group, hydroxymethyl group, 1-hydroxyethyl group, 2-hydroxyethyl group, 1-hydroxypropyl group, 2- Hydroxypropyl group, 3-hydroxypropyl group, 1-hydroxy-1-methylethyl group, 2-hydroxy-1-methylethyl group, 1-hydroxybutyl group, 2-hydroxybutyl group, 3-hydroxybutyl group, 4- Examples thereof include a hydroxybutyl group, a 1-hydroxy-1-methylpropyl group and a 2-hydroxy-1-methylpropyl group. Specific examples of the lower alkenyl group which may have the above substituent on the chain include vinyl group, allyl group, 2-propenyl group, isopropenyl group, 3-butenyl group, 2-butenyl group, 1-butenyl. Group, 1-methyl-2-propenyl group, 1-methyl-1-propenyl group,
1-ethyl-1-ethenyl group, 2-methyl-2-propenyl group, 2-methyl-1-propenyl group, 4-pentenyl group, 5-pentenyl group and the like can be mentioned. Specific examples of the aryl group which may have the above-mentioned substituent in a ring include:
Examples thereof include a phenyl group, a 1-naphthyl group and a 2-naphthyl group. Specific examples of the aryl lower alkyl group which may have the above-mentioned substituent in a ring include benzyl group, 1-phenylethyl group, 2-phenylethyl group, 1-phenylpropyl group, 2-phenylpropyl group and 3 -Phenylpropyl group, 1-methyl-2-phenylethyl group, 1-phenylbutyl group, 2-phenylbutyl group, 3-phenylbutyl group, 4-phenylbutyl group, 1-phenyl-2-
Examples thereof include a methylpropyl group and a 2-phenyl-1-methylpropyl group. Specific examples of the heterocyclic group which may have the above-mentioned substituent in the ring include 2-thiazolyl group, 4-
Thiazolyl group, 5-thiazolyl group, 2-thienyl group, 3
-Thienyl group, 2-pyridyl group, 3-pyridyl group, 4-
Pyridyl group, 2-indolyl group, 3-indolyl group, 4
—Imidazolyl group and the like. Specific examples of the heterocyclic lower alkyl group which may have the above-mentioned substituent in the ring include 2-thiazolylmethyl group, 4-thiazolylmethyl group, 5-thiazolylmethyl group, 2- (2-thiazolyl)
Ethyl group, 2- (4-thiazolyl) ethyl group, 2- (5
-Thiazolyl) ethyl group, 2-thienylmethyl group, 3-
Thienylmethyl group, 2- (2-thienyl) ethyl group, 2
-(3-thienyl) ethyl group, 2-pyridylmethyl group,
A 3-pyridylmethyl group, a 4-pyridylmethyl group, a 2-indolylmethyl group, a 3-indolylmethyl group, a 4-imidazolylmethyl group and the like can be mentioned.

【0059】R7で示される基は水素原子、低級アルキ
ル基、低級アルコキシ基又は水酸基を意味するか或はR
52と一緒になって単結合を形成する。低級アルキル基の
具体例としては、メチル基、エチル基等が挙げられ、低
級アルコキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキ
シ基等が挙げられる。
The group represented by R 7 means a hydrogen atom, a lower alkyl group, a lower alkoxy group or a hydroxyl group, or R
Together with 52 form a single bond. Specific examples of the lower alkyl group include a methyl group and an ethyl group, and specific examples of the lower alkoxy group include a methoxy group and an ethoxy group.

【0060】R82で示される基は水素原子、低級アルキ
ル基、低級アルキルスルホニル基、ベンゼン環上の任意
の1〜5個の水素原子がそれぞれ独立して低級アルキル
基若しくはハロゲン原子で置換されていてもよいフェニ
ルスルホニル基又はカルボキシメチル基を意味し、低級
アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、イソプロピル基、ブチル基等が挙げられ、低
級アルキルスルホニル基の具体例としては、メチルスル
ホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基
等が挙げられ、ベンゼン環上の任意の1〜5個の水素原
子がそれぞれ独立して低級アルキル基若しくはハロゲン
原子で置換されていてもよいフェニルスルホニル基の具
体例としては、フェニルスルホニル基、p−トリルスル
ホニル基、2,4,6−トリメチルフェニルスルホニル
基、2,4,6−トリイソプロピルフェニルスルホニル
基、2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニルスル
ホニル基等が挙げられる。
The group represented by R 82 is a hydrogen atom, a lower alkyl group, a lower alkylsulfonyl group, or any 1 to 5 hydrogen atoms on the benzene ring are independently substituted with a lower alkyl group or a halogen atom. It may be a phenylsulfonyl group or a carboxymethyl group, and specific examples of the lower alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group and a butyl group, and specific examples of the lower alkylsulfonyl group. Include a methylsulfonyl group, an ethylsulfonyl group, a propylsulfonyl group, and the like, and phenyl in which any 1 to 5 hydrogen atoms on the benzene ring may be independently substituted with a lower alkyl group or a halogen atom. Specific examples of the sulfonyl group include phenylsulfonyl group, p-tolylsulfonyl group, 2,4 6- trimethylphenyl sulfonyl group, 2,4,6-triisopropyl phenyl sulfonyl group, 2,3,4,5,6-pentafluorophenyl sulfonyl group and the like.

【0061】R83で示される基は水素原子又は低級アル
キル基を意味し、低級アルキル基の具体例としては、メ
チル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチ
ル基等が挙げられる。
The group represented by R 83 means a hydrogen atom or a lower alkyl group, and specific examples of the lower alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group and a butyl group.

【0062】R53で示される基は水素原子、低級アルキ
ル基、カルボキシ低級アルキル基、式:Ar−(C
2u−(式中、Ar及びuは前記の意味を有する)で
表される基を意味する。低級アルキル基の具体例として
は、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられ、カ
ルボキシ低級アルキル基の具体例としては、カルボキシ
メチル基、2−カルボキシエチル基等が挙げられ、式:
Ar−(CH2u−で表される基の具体例としては、ベ
ンジル基、2−フリルメチル基、3−フリルメチル基、
2−チエニルメチル基、3−チエニルメチル基等が挙げ
られる。
The group represented by R 53 is a hydrogen atom, a lower alkyl group, a carboxy lower alkyl group, a formula: Ar- (C
H 2 ) u- (wherein Ar and u have the above-mentioned meanings). Specific examples of the lower alkyl group include a methyl group, an ethyl group and a propyl group, and specific examples of the carboxy lower alkyl group include a carboxymethyl group and a 2-carboxyethyl group.
Ar- (CH 2) u - Specific examples of a group represented by the benzyl group, 2-furylmethyl group, 3-furylmethyl group,
Examples thereof include 2-thienylmethyl group and 3-thienylmethyl group.

【0063】次に本発明の新規化合物の製造法について
説明する。
Next, a method for producing the novel compound of the present invention will be described.

【0064】本発明化合物は一般的には、一般式[VI
II](式中、R1、R2、A1及びpは前記の意味を有
する)で表されるカルボン酸、一般式[IX](式中、
4、X1及びX3は前記の意味を有する)で表されるα
−アミノ酸若しくはα−ヒドロキシカルボン酸及び一般
式[X](式中、A2は前記の意味を有する)
The compounds of the present invention generally have the general formula [VI
II] (in the formula, R 1 , R 2 , A 1 and p have the above-mentioned meanings), a general formula [IX] (in the formula,
R 4 , X 1 and X 3 have the above-mentioned meanings)
-Amino acid or α-hydroxycarboxylic acid and the general formula [X] (wherein A 2 has the above meaning)

【0065】[0065]

【化6】 で表される化合物を逐次的に縮合させることにより製造
することができ、更には、必要に応じて、側鎖及び末端
の保護基を除去することにより製造することができる。
更にまた場合により、これら新規化合物を、その製薬上
許容される塩に変換することにより製造することができ
る。
[Chemical 6] It can be produced by sequentially condensing the compound represented by, and further, by removing the side chain and the terminal protecting group, if necessary.
Furthermore, in some cases, these novel compounds can be produced by converting them into their pharmaceutically acceptable salts.

【0066】以下具体的に説明する。A detailed description will be given below.

【0067】本発明化合物中、一般式[I]においてX
3が酸素原子であることを特徴とする化合物は、一般式
[VIII]で表されるカルボン酸を、一般式
In the compound of the present invention, X in the general formula [I]
The compound characterized in that 3 is an oxygen atom can be obtained by converting the carboxylic acid represented by the general formula [VIII] into the general formula

【0068】[0068]

【化7】 (式中、P1はカルボキシル保護基を示し、X1及びR4
は前記の意味を有する)で表されるα−アミノ酸誘導体
又はα−ヒドロキシカルボン酸誘導体と縮合させ、一般
[Chemical 7] (In the formula, P 1 represents a carboxyl protecting group, and X 1 and R 4
Has the above meaning) and is condensed with an α-amino acid derivative or α-hydroxycarboxylic acid derivative,

【0069】[0069]

【化8】 (式中、R1、R2、R4、A1、p及びP1は前記の意味
を有する)で表される化合物を製造し、次いで該化合物
のカルボキシル保護基P1を脱保護するか又は−OP1
分を適当なカルボキシル活性化基に変換した後、一般式
[X]で表される化合物と縮合させることにより製造す
ることができる。一般式[XII]及び[I]で表され
る化合物を得るための縮合反応は、DCC法、アジド
法、活性エステル法、混合酸無水物法等の公知の方法
[例えばエム・ボダンスキー(M.Bodansky)
及びエム・エイ・オンデッティ(M.A.Ondett
i)著、ペプチド・シンセシス、インターサイエンス、
ニューヨーク(PeptideSynthesis,I
nterscience,New York)1966
年; エフ・エム・フィン(F.M.Finn)及びケ
イ・ホフマン(K.Hofmann)著、ザ・プロテイ
ンズ(The Proteins), 第2巻, エイ
チ・ネンラス(H.Nenrath)及びアール・エル
・ヒル(R.L.Hill)編集、アカデミック・プレ
ス・インコーポレイテッド、ニューヨーク(Acade
mic Press Inc.,New York)1
976年;泉屋信夫他著、ペプチド合成、丸善(株)1
975年等に記載されている]により行うことができ
る。
[Chemical 8] A compound represented by the formula (wherein R 1 , R 2 , R 4 , A 1 , p and P 1 have the above-mentioned meanings) and then deprotecting the carboxyl protecting group P 1 of the compound. Alternatively, it can be produced by converting the -OP 1 moiety into a suitable carboxyl activating group and then condensing it with the compound represented by the general formula [X]. The condensation reaction for obtaining the compounds represented by the general formulas [XII] and [I] is performed by a known method such as DCC method, azide method, active ester method, mixed acid anhydride method [eg, M. Bodanski (M. Bodansky)
And M. Ondett
i) work, peptide synthesis, interscience,
New York (Peptide Synthesis, I
interscience, New York) 1966
Year; FM Finn and K. Hofmann, The Proteins, Volume 2, H. Nenrath and Earl L. Edited by RL Hill, Academic Press Incorporated, New York (Acade)
mic Press Inc. , New York) 1
976; Nobuo Izumiya et al., Peptide Synthesis, Maruzen Co., Ltd. 1
1975, etc.].

【0070】例えばDCC法による縮合を行う場合、一
般式[VIII]で表される化合物を約−40℃〜室温
にて、DMSO、NMP、DMF、THF、1,4−ジ
オキサン、アセトニトリル、ジクロロメタン、クロロホ
ルム等の溶媒中、例えばDCC(又はEDCI・HC
l)−HOBT・H2O等の縮合剤の作用により、一般
式[XI]で表される化合物と縮合させ、一般式[XI
I]で表される化合物を製造する。カルボキシル保護基
としてはメチル、エチル及びtert−ブチルエステル
等から選択されるが、縮合後の保護基の選択的除去が可
能であるように側鎖の官能基又は保護基に応じて選択す
べきである。例えば側鎖に酸性条件下で不安定であるが
塩基性条件下では安定な官能基や保護基が存在する場
合、カルボキシル基はメチル又はエチルエステルとして
保護することが好ましい。一方、側鎖に酸性条件下では
安定であるが塩基性条件下では不安定な官能基や保護基
が存在する場合、カルボキシル基はtert−ブチルエ
ステルとして保護することが好ましい。tert−ブチ
ルエステルは、ギ酸、TsOH又はTFA等の作用によ
り、容易に除去することができる。
For example, when condensation is performed by the DCC method, the compound represented by the general formula [VIII] is DMSO, NMP, DMF, THF, 1,4-dioxane, acetonitrile, dichloromethane at about -40 ° C to room temperature. In a solvent such as chloroform, for example DCC (or EDCI.HC
1) by the action of a condensing agent such as —HOBT · H 2 O, the compound represented by the general formula [XI] is condensed to give the compound of the general formula [XI]
I] is produced. The carboxyl protecting group is selected from methyl, ethyl, tert-butyl ester and the like, and should be selected according to the side chain functional group or protecting group so that the protecting group can be selectively removed after condensation. is there. For example, when a side chain has a functional group or a protecting group which is unstable under acidic conditions but stable under basic conditions, the carboxyl group is preferably protected as a methyl or ethyl ester. On the other hand, when the side chain has a functional group or a protecting group which is stable under acidic conditions but unstable under basic conditions, it is preferable to protect the carboxyl group as a tert-butyl ester. The tert-butyl ester can be easily removed by the action of formic acid, TsOH, TFA or the like.

【0071】このようにして製造された誘導体[XI
I]のカルボキシル保護基P1を除去して得られる化合
物に、上記と同様に縮合剤(例えばEDCI・HCl−
HOBT・H2O等)の存在下、一般式[X]で表され
る化合物を作用させ、目的とする化合物を製造すること
ができる。
The derivative thus prepared [XI
The compound obtained by removing the carboxyl protecting group P 1 of [I] is added to a condensing agent (for example, EDCI · HCl-
The target compound can be produced by reacting the compound represented by the general formula [X] in the presence of (HOBT.H 2 O etc.).

【0072】一方、X1が−NR4−(式中、R4は前記
の意味を有する)である上記化合物[XII]に、メタ
ノール又はDMF等の溶媒中、室温にて過剰のヒドラジ
ンを作用させてヒドラジドとした後、アジド法により目
的とする化合物を得ることもできる。即ち、該ヒドラジ
ドを塩酸、硫酸等の強酸存在下、亜硝酸低級アルキルエ
ステル(例えば亜硝酸tert−ブチル、亜硝酸イソア
ミル)又は亜硝酸アルカリ金属塩(例えば亜硝酸ナトリ
ウム、亜硝酸カリウム)等の試薬と反応させ、対応する
酸アジドに変換し(この反応は、約−60℃〜−15℃
の温度で水及び/又はDMF、THF若しくは1,4−
ジオキサン等の溶媒存在下に行うことができる)、引き
続き−70℃〜−60℃の温度でTEA等の三級アミン
を加えた後、化合物[X]を加え、−20℃〜室温にて
反応させることにより目的とする化合物[I]を得るこ
とができる。使用する[X]がカルボキシル基を含む場
合、該カルボキシル基は保護されていてもよいし、テト
ラブチルアンモニウム、トリエチルアンモニウム、ナト
リウム、カリウム等の塩として用いることもできる。
On the other hand, excess hydrazine is acted on the above compound [XII] in which X 1 is —NR 4 — (wherein R 4 has the above-mentioned meaning) in a solvent such as methanol or DMF at room temperature. The desired compound can also be obtained by the azide method after the hydrazide is formed. That is, the hydrazide is treated with a reagent such as a lower alkyl nitrite (eg, tert-butyl nitrite, isoamyl nitrite) or an alkali metal nitrite (eg, sodium nitrite, potassium nitrite) in the presence of a strong acid such as hydrochloric acid or sulfuric acid. Reaction and conversion to the corresponding acid azide (this reaction is about -60 ° C to -15 ° C)
Water and / or DMF, THF or 1,4-at the temperature of
It can be carried out in the presence of a solvent such as dioxane), followed by addition of a tertiary amine such as TEA at a temperature of -70 ° C to -60 ° C, followed by addition of the compound [X] and reaction at -20 ° C to room temperature. By doing so, the desired compound [I] can be obtained. When [X] to be used contains a carboxyl group, the carboxyl group may be protected or may be used as a salt of tetrabutylammonium, triethylammonium, sodium, potassium or the like.

【0073】以上の製造法では、化合物[VIII]、
[IX]及び[X]の縮合において化合物[X]の縮合
を最後に行い目的とする誘導体を製造しているが、一
方、化合物[VIII]の縮合を最後に行っても目的と
する誘導体を製造することができる。
In the above production method, the compound [VIII],
In the condensation of [IX] and [X], the compound [X] is condensed last to produce the desired derivative. On the other hand, even if the compound [VIII] is condensed last, the desired derivative is obtained. Can be manufactured.

【0074】即ち、一般式That is, the general formula

【0075】[0075]

【化9】 [式中、P2は水素原子又はα−アミノ保護基を示し、
4及びX1は前記の意味を有する]で表される化合物と
一般式[X]で表される化合物とをDCC法又はアジド
法等により縮合し、一般式
[Chemical 9] [In the formula, P 2 represents a hydrogen atom or an α-amino protecting group,
R 4 and X 1 have the above-mentioned meanings] and the compound represented by the general formula [X] are condensed by the DCC method or the azide method to give a compound represented by the general formula

【0076】[0076]

【化10】 (式中、R4、X1、A2及びP2は前記の意味を有する)
で表される化合物を得る。適当なα−アミノ保護基はZ
基、Boc基、p−メトキシベンジルオキシカルボニル
基及びp−ニトロベンジルオキシカルボニル基等のウレ
タン型保護基から選択され、また、[X]の末端にカル
ボキシル基が存在する場合、該カルボキシル基はエステ
ルとして保護することができる。例えば末端カルボキシ
ル基がtert−ブチルエステルとして保護された場
合、α−アミノ保護基としてはZ基又はBoc基が好ま
しい。Z基は接触水素化分解により、またBoc基は、
ギ酸、TFA等の緩和な酸を氷冷下で作用させることに
より、容易に除去することができるが、この条件下での
末端カルボキシル保護基は安定である。
[Chemical 10] (In the formula, R 4 , X 1 , A 2 and P 2 have the above meanings)
A compound represented by A suitable α-amino protecting group is Z
Group, a Boc group, a urethane-type protecting group such as a p-methoxybenzyloxycarbonyl group and a p-nitrobenzyloxycarbonyl group, and when a carboxyl group is present at the terminal of [X], the carboxyl group is an ester group. Can be protected as For example, when the terminal carboxyl group is protected as tert-butyl ester, the α-amino protecting group is preferably Z group or Boc group. Z group is by catalytic hydrogenolysis, and Boc group is
It can be easily removed by allowing a mild acid such as formic acid or TFA to act under ice cooling, but the terminal carboxyl protecting group is stable under this condition.

【0077】このようにして製造された誘導体[XI
V]のアミノ保護基P2を除去して得られる化合物に、
上記と同様に縮合剤(例えばEDCI・HCl−HOB
T・H2O等)存在下、カルボン酸[VIII]との縮
合を行い、目的とする化合物誘導体を製造することがで
きる。
The derivative thus prepared [XI
V], the compound obtained by removing the amino-protecting group P 2 from
Similar to the above, a condensing agent (for example, EDCI.HCl-HOB
In the presence of (T.H 2 O etc.), condensation with the carboxylic acid [VIII] can be carried out to produce the desired compound derivative.

【0078】以上の方法により製造された本発明化合物
は、必要に応じて末端の保護基を適切な方法により除去
することができる。例えば、カルボキシル基がtert
−ブチルエステルとして保護されている場合、酸分解に
より容易に除去できる。即ち、ギ酸、TFA等の緩和な
酸を作用させることで除去できる。またメチル又はエチ
ルエステルの場合、アルカリ性での加水分解により保護
基を除去できる。即ち、メタノール、エタノール、DM
F、THF、1,4−ジオキサン等の溶媒中、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム等を作用させることにより除
去できる。
In the compound of the present invention produced by the above method, the terminal protecting group can be removed by an appropriate method, if necessary. For example, if the carboxyl group is tert
-If protected as a butyl ester, it can be easily removed by acidolysis. That is, it can be removed by acting a mild acid such as formic acid or TFA. In the case of methyl or ethyl ester, the protecting group can be removed by alkaline hydrolysis. That is, methanol, ethanol, DM
It can be removed by acting sodium hydroxide, potassium hydroxide or the like in a solvent such as F, THF or 1,4-dioxane.

【0079】本発明化合物[I]中のX3が硫黄原子で
あることを特徴とする化合物を得るには、化合物[XI
II]と化合物[X]とを縮合させた後、ローエッソン
(Lawesson)試薬等と反応させて一般式
To obtain a compound characterized in that X 3 in the compound [I] of the present invention is a sulfur atom, the compound [XI
II] and the compound [X] are condensed and then reacted with Lawesson's reagent or the like to give a compound of the general formula

【0080】[0080]

【化11】 [式中、R4、X1、A2及びP2は前記の意味を有する]
で表される化合物に変換し、その後前記と同様にP2
脱保護して化合物[VIII]と縮合すればよい。ロー
エッソン試薬との反応は、溶媒として、THF、ベンゼ
ン、トルエン等を用い、室温〜溶媒の沸点温度にて行う
ことができる。
[Chemical 11] [Wherein R 4 , X 1 , A 2 and P 2 have the above meanings]
It may be converted to a compound represented by the formula (1), and then P 2 is deprotected and condensed with the compound [VIII] in the same manner as described above. The reaction with the Low Esson reagent can be carried out at room temperature to the boiling point of the solvent using THF, benzene, toluene or the like as the solvent.

【0081】本発明化合物のうち、一般式[I]におい
て、pが1又は2であることを特徴とする化合物は、前
記合成法の適当な段階において、pが0であることを特
徴とする化合物を、適当な酸化剤を用いて酸化すること
により製造することもできる。この酸化反応に用いられ
る酸化剤としては、過酸化水素、tert−ブチルヒド
ロペルオキシド、過ギ酸、過酢酸、mCPBA又は過ヨ
ウ素酸等が挙げられ、その使用する当量及び反応条件を
適当に調節することにより、一般式[I]においてpが
1又は2であるものを選択的に製造することができる。
また酸化反応は、前記化合物[XII]又は[I]に対
して行えばよいが、この際、[XII]又は[I]中に
酸化反応に対して不安定な基が存在する場合には、それ
らの官能基は、適当な保護基で保護しておく必要があ
る。例えば、カルボキシル基は低級アルキルエステルと
して保護することが好ましく、インドール環はホルミル
基や低級アルコキシカルボニル基等で保護しておくこと
が好ましい。反応は、ジクロロメタン、クロロホルム、
酢酸、ギ酸等の溶媒中、−50℃〜溶媒の沸点温度にて
行うことができる。次に、本発明化合物を製造するため
に重要な化合物[VIII]について、その製造法を述
べる。
Among the compounds of the present invention, the compound of the general formula [I] wherein p is 1 or 2 is characterized in that p is 0 at an appropriate stage of the above synthetic method. It is also possible to produce the compound by oxidizing with a suitable oxidizing agent. Examples of the oxidizing agent used in this oxidation reaction include hydrogen peroxide, tert-butyl hydroperoxide, performic acid, peracetic acid, mCPBA, and periodic acid. The equivalent weight to be used and reaction conditions should be adjusted appropriately. Thus, the compound of the general formula [I] in which p is 1 or 2 can be selectively produced.
The oxidation reaction may be carried out on the compound [XII] or [I]. At this time, when a group unstable to the oxidation reaction exists in [XII] or [I], Those functional groups should be protected with a suitable protecting group. For example, the carboxyl group is preferably protected as a lower alkyl ester, and the indole ring is preferably protected with a formyl group or a lower alkoxycarbonyl group. The reaction is dichloromethane, chloroform,
It can be carried out in a solvent such as acetic acid or formic acid at -50 ° C to the boiling temperature of the solvent. Next, the production method of the compound [VIII] which is important for producing the compound of the present invention will be described.

【0082】化合物[VIII]は、一般的に不斉合成
又はラセミ体の光学分割により、所望の立体化学を持っ
たものとして製造することができる。不斉合成で[VI
II]を得る場合には、相当するカルボン酸を、例えば
エバンス(Evans)らの方法[ジャーナル・オブ・
アメリカン・ケミカル・ソサエティー(J.Am.Ch
em.Soc.)第112巻、第8215−8216頁
(1990年)]により一般式
The compound [VIII] can be produced generally as one having a desired stereochemistry by asymmetric synthesis or optical resolution of a racemate. Asymmetric synthesis [VI
II], the corresponding carboxylic acid can be prepared, for example, by the method of Evans et al. [Journal of
American Chemical Society (J. Am. Ch
em. Soc. ) Vol. 112, pp. 8215-8216 (1990)]

【0083】[0083]

【化12】 (式中、R2は前記の意味を有する)で表されるN−ア
ルカノイルオキサゾリドンに変換後、ジクロロメタン等
の溶媒中、該オキサゾリドン誘導体を当量の四塩化チタ
ン等のルイス酸及びジイソプロピルエチルアミン若しく
はナトリウムヘキサメチルジシラジド等の塩基と処理
し、引き続き一般式
[Chemical 12] (Wherein R 2 has the above-mentioned meaning), after conversion into N-alkanoyloxazolidone, the oxazolidone derivative is converted into an equivalent amount of a Lewis acid such as titanium tetrachloride and diisopropylethylamine or sodium hexahydrate in a solvent such as dichloromethane. Treated with a base such as methyldisilazide and then treated with the general formula

【0084】[0084]

【化13】 (式中、E1は保護された水酸基又は適当な脱離基を示
し、E2は脱離基を示し、A1は前記の意味を有する)で
表される化合物と反応させることで、望みの立体化学を
有する化合物[VIII]の前駆体となる一般式
[Chemical 13] (Wherein E 1 represents a protected hydroxyl group or a suitable leaving group, E 2 represents a leaving group, and A 1 has the above-mentioned meaning). Having the stereochemistry of

【0085】[0085]

【化14】 (式中、E3は水酸基又はE1を示し、R2、A1及びE1
は前記の意味を有する)で表される化合物を製造する。
更に、化合物[XVIII]を一般式
[Chemical 14] (In the formula, E 3 represents a hydroxyl group or E 1 , and R 2 , A 1 and E 1
Has the above-mentioned meaning).
Further, the compound [XVIII] is represented by the general formula

【0086】[0086]

【化15】 (式中、R1及びpは前記の意味を有する)で表される
化合物と反応させることにより、所望の立体化学を有す
る化合物[VIII]を製造することができる。
[Chemical 15] Compound [VIII] having a desired stereochemistry can be produced by reacting with a compound represented by the formula (wherein R 1 and p have the above-mentioned meanings).

【0087】次に、ラセミ体の光学分割により望みの立
体化学を有する化合物を得る方法について述べる。適当
な方法により合成した一般式
Next, a method for obtaining a compound having a desired stereochemistry by optical resolution of a racemate will be described. General formula synthesized by an appropriate method

【0088】[0088]

【化16】 (式中、R1、R2、A1及びpは前記の意味を有する)
で表されるカルボン酸を、光学活性なアミンとの塩と
し、このジアステレオメリックな塩を、再結晶等の公知
の手法を用いて光学分割するか、或は該カルボン酸を、
光学活性なアルコール又はアミンと縮合させ、生じるジ
アステレオメリックなエステルまたはアミドをクロマト
グラフィー等の公知の手段を用いて分離し、該エステル
又はアミドを加水分解することにより、所望の立体化学
を有するカルボン酸[XX]を製造することができる。
この際、光学活性アルコール又はアミンとして、一般式
[XI]又は一般式[XIV]の脱保護体を用いれば、
その後縮合体をジアステレオマー分解することによりそ
のまま望みの立体化学を有する化合物[XII]又は
[I]を得ることができる。
[Chemical 16] (Wherein R 1 , R 2 , A 1 and p have the above-mentioned meanings)
The carboxylic acid represented by the following is converted to a salt with an optically active amine, and the diastereomeric salt is optically resolved by a known method such as recrystallization, or the carboxylic acid is
By condensation with an optically active alcohol or amine, the resulting diastereomeric ester or amide is separated by a known means such as chromatography, and the ester or amide is hydrolyzed to give a carboxylic acid having a desired stereochemistry. The acid [XX] can be produced.
At this time, if the deprotected form of the general formula [XI] or the general formula [XIV] is used as the optically active alcohol or amine,
Then, the condensate is diastereomerically decomposed to directly obtain the compound [XII] or [I] having the desired stereochemistry.

【0089】上記製法における反応中間体及び目的物は
それ自体は公知の精製方法(例えば再結晶、再沈澱、分
配操作、順相若しくは逆相クロマトグラフィー又はイオ
ン交換クロマトグラフィー等)により精製することがで
きる。
The reaction intermediate and the desired product in the above-mentioned production method can be purified by a purification method known per se (eg, recrystallization, reprecipitation, partitioning operation, normal phase or reverse phase chromatography or ion exchange chromatography). it can.

【0090】上記の製造法中に用いられる原料化合物と
しては市販の化合物を使用することができるが、以下の
原料化合物はそれぞれ公知の方法で製造したものを使用
した。
Commercially available compounds can be used as the raw material compounds used in the above production method, but the following raw material compounds were those produced by known methods.

【0091】DL−3−(3−エトキシカルボニルフェ
ニル)アラニン及びDL−3−(4−メトキシカルボニ
ルフェニル)アラニン[シンセシス(Synthesi
s),53(1984)] D−3−(3−ベンゾチエニル)アラニン[ケミカル・
アンド・ファーマシューティカル・ブレタン(Che
m.Pharm.Bull.),24,3149(19
76)] D−S−メチルシステイン、D−S−エチルシステイ
ン、D−S−n−プロピルシステイン[泉屋 信夫他
著、ペプチド合成、丸善 1975] D−ノルロイシノール[ジャーナル・オブ・アメリカン
・ケミカル・ソサエティー(J.Am.Chem.So
c.),107,7974(1985)に準じて合成し
た。] 尚、実施例により製造された化合物の構造と対応する実
施例No.及び化合物No.を以下の第1表に示す。
DL-3- (3-ethoxycarbonylphenyl) alanine and DL-3- (4-methoxycarbonylphenyl) alanine [Synthesis
s), 53 (1984)] D-3- (3-benzothienyl) alanine [Chemical
And Pharmaceutical Bulletin (Che
m. Pharm. Bull. ), 24 , 3149 (19
76)] D-S-methyl cysteine, D-S-ethyl cysteine, D-S-n-propyl cysteine [Nobuo Izumiya et al., Peptide Synthesis, Maruzen 1975] D-norleucinol [Journal of American Chemical Society. (J. Am. Chem. So
c. ), 107 , 7974 (1985). ] In addition, in Example No. corresponding to the structure of the compound manufactured by the Example. And compound No. Are shown in Table 1 below.

【0092】[0092]

【表1】 [Table 1]

【0093】[0093]

【表2】 次に、本発明のペプチド誘導体のエンドセリン拮抗作用
について述べる。ETA受容体へのエンドセリン結合阻害試験 ブタ大動脈平滑筋組織を4℃にて10mM MOPS
pH7.4緩衝液中でポリトロンによりホモジェナイズ
した。ホモジネートにショ糖を20%になるように加
え、1000Xgにて15分間遠心し、更に上澄を10
000Xgにて15分間遠心した。この上澄を更に、9
0000Xgにて40分間遠心し、得られた沈澱を5m
M HEPES/Tris pH7.4緩衝液中に懸濁
させ25mg/mlになるように膜分画を調製した。
[Table 2] Next, the endothelin antagonism of the peptide derivative of the present invention will be described. Endothelin binding inhibition test to ET A receptor Porcine aortic smooth muscle tissue was treated with 10 mM MOPS at 4 ° C.
Homogenize with Polytron in pH 7.4 buffer. Add 20% sucrose to the homogenate, centrifuge at 1000Xg for 15 minutes, and add 10% supernatant.
It was centrifuged at 000 × g for 15 minutes. Add this supernatant to 9
After centrifuging at 0000Xg for 40 minutes, the resulting precipitate is 5m.
The membrane fraction was prepared by suspending it in MHEPES / Tris pH 7.4 buffer to give 25 mg / ml.

【0094】この膜分画16μlを50mM Tris
/HCl pH7.4緩衝液A(10μM 塩化カルシ
ウム、10μM 塩化マグネシウム、0.1mM PM
SF、1μM ペプスタチンA、2μM ロイペプチ
ン、1mM 1,10−フェナンスロリン、0.1%
牛血清アルブミンを含む)340μl中に懸濁させた。
この懸濁液に、(A)最終濃度が0.2μMとなる非標
識エンドセリン−1(非特異的結合用)、(B)緩衝液
A(全結合用)、又は(C)最終濃度が1.1μMとな
る試験化合物各々4μlを加え、更にそれぞれに 125
I−エンドセリン−1(12000〜18000cp
m)40μlを加えた。これらの混合物を25℃にて4
時間インキュベーションし、グラスフィルターGF/C
にて濾過を行い、5mM HEPES/Tris pH
7.4(0.3%牛血清アルブミンを含む)にて洗浄後
グラスフィルター上の放射能量の測定より本発明化合物
1.1μMにおける125I−エンドセリン−1結合阻
害率D(%)を次式により求めた。
16 μl of this membrane fraction was added to 50 mM Tris
/ HCl pH 7.4 buffer A (10 μM calcium chloride, 10 μM magnesium chloride, 0.1 mM PM
SF, 1 μM pepstatin A, 2 μM leupeptin, 1 mM 1,10-phenanthroline, 0.1%
Suspension in 340 μl of bovine serum albumin).
To this suspension, (A) unlabeled endothelin-1 (for non-specific binding) with a final concentration of 0.2 μM, (B) buffer A (for total binding), or (C) a final concentration of 1 Add 4 μl of each test compound to give 1 μM, and add 125
I-endothelin-1 (12000-18000cp
m) 40 μl was added. Add these mixtures at 25 ° C for 4
Incubate for an hour, glass filter GF / C
Filtration at 5 mM HEPES / Tris pH
After washing with 7.4 (containing 0.3% bovine serum albumin), the 125 I-endothelin-1 binding inhibition rate D (%) at 1.1 μM of the compound of the present invention was determined by the following formula by measuring the radioactivity on a glass filter. Sought by.

【0095】[0095]

【数1】 これらの検定はすべて3重に行った。[Equation 1] All these tests were done in triplicate.

【0096】第2表に示すように、本発明化合物はET
A受容体へのエンドセリン結合に対して極めて強い阻害
活性を有することがわかった。尚、試験化合物は化合物
No.で示した。
As shown in Table 2, the compounds of the present invention are ET
It was found to have an extremely strong inhibitory activity on endothelin binding to the A receptor. The test compound is the compound No. It showed with.

【0097】[0097]

【表3】 ETB受容体へのエンドセリン結合阻害試験 ブタ小脳を4℃にて10mM MOPS pH7.4緩
衝液中でポリトロンによりホモジェナイズした。ホモジ
ネートにショ糖を20%になるように加え、1000X
gにて15分間遠心し、更に上澄を10000Xgにて
15分間遠心した。この上澄を更に、90000Xgに
て40分間遠心し、得られた沈澱を5mM HEPES
/Tris pH7.4緩衝液中に懸濁させ3.3mg
/mlになるように膜分画を調製した。
[Table 3] Assay for inhibition of endothelin binding to ET B receptor Porcine cerebellum was homogenized with Polytron in 10 mM MOPS pH 7.4 buffer at 4 ° C. Add 20% sucrose to the homogenate and add 1000X.
g for 15 minutes, and the supernatant was centrifuged at 10,000 × g for 15 minutes. This supernatant was further centrifuged at 90,000 × g for 40 minutes, and the resulting precipitate was washed with 5 mM HEPES.
/ Tris 3.3 mg suspended in pH 7.4 buffer
The membrane fraction was prepared so that it would be / ml.

【0098】この膜分画16μlを50mM Tris
/HCl pH7.4緩衝液A(10μM 塩化カルシ
ウム、10μM 塩化マグネシウム、0.1mM PM
SF、1μM ペプスタチンA、2μM ロイペプチ
ン、1mM 1,10−フェナンスロリン、0.1%
牛血清アルブミンを含む)340μl中に懸濁させた。
この懸濁液に、(A)最終濃度が0.2μMとなる非標
識エンドセリン−1(非特異的結合用)、(B)緩衝液
A(全結合用)、又は(C)最終濃度が1.1μMとな
る試験化合物各々4μlを加え、更にそれぞれに 125
I−エンドセリン−1(12000〜18000cp
m)40μlを加えた。これらの混合物を25℃にて4
時間インキュベーションし、グラスフィルターGF/C
にて濾過を行い、5mM HEPES/Tris pH
7.4(0.3%牛血清アルブミンを含む)にて洗浄後
グラスフィルター上の放射能量の測定より本発明化合物
1.1μMにおける125I−エンドセリン−1結合阻
害率D(%)を次式により求めた。
16 μl of this membrane fraction was added to 50 mM Tris
/ HCl pH 7.4 buffer A (10 μM calcium chloride, 10 μM magnesium chloride, 0.1 mM PM
SF, 1 μM pepstatin A, 2 μM leupeptin, 1 mM 1,10-phenanthroline, 0.1%
Suspension in 340 μl of bovine serum albumin).
To this suspension, (A) unlabeled endothelin-1 (for non-specific binding) with a final concentration of 0.2 μM, (B) buffer A (for total binding), or (C) a final concentration of 1 Add 4 μl of each test compound to give 1 μM, and add 125
I-endothelin-1 (12000-18000cp
m) 40 μl was added. Add these mixtures at 25 ° C for 4
Incubate for an hour, glass filter GF / C
Filtration at 5 mM HEPES / Tris pH
After washing with 7.4 (containing 0.3% bovine serum albumin), the 125 I-endothelin-1 binding inhibition rate D (%) at 1.1 μM of the compound of the present invention was determined by the following formula by measuring the radioactivity on a glass filter. Sought by.

【0099】[0099]

【数2】 これらの検定はすべて3重に行った。[Equation 2] All these tests were done in triplicate.

【0100】[0100]

【表4】 第3表に示すように、本発明化合物はETB受容体への
エンドセリン結合に対して極めて強い阻害活性を有する
ことがわかった。尚、試験化合物は化合物No.で示し
た。
[Table 4] As shown in Table 3, the compounds of the present invention were found to have extremely strong inhibitory activity on endothelin binding to the ET B receptor. The test compound is the compound No. It showed with.

【0101】このように本発明化合物は優れたエンドセ
リン拮抗作用を有し、医薬品の分野で血管拡張剤及び気
管支拡張剤として有用であり、高血圧症、肺高血圧症、
レイノ−病、急性腎不全、心筋梗塞、狭心症、脳梗塞、
脳血管攣縮、動脈硬化症、気管支喘息、胃潰瘍、糖尿
病、エンドトキシンショック、エンドトキシンを起因と
する多臓器不全や播種性血管内凝固及び/又はシクロス
ポリン誘発の腎障害や高血圧等の治療薬となり得る。こ
のような疾患の治療剤として使用する場合、本発明化合
物は単独或は他の治療薬と組み合わせて使用することも
できる。
As described above, the compound of the present invention has an excellent endothelin antagonism, and is useful as a vasodilator and a bronchodilator in the field of pharmaceuticals, and thus, hypertension, pulmonary hypertension,
Rayno's disease, acute renal failure, myocardial infarction, angina, cerebral infarction,
It can be a therapeutic drug for cerebral vasospasm, arteriosclerosis, bronchial asthma, gastric ulcer, diabetes, endotoxin shock, multi-organ failure caused by endotoxin, disseminated intravascular coagulation and / or cyclosporine-induced renal damage, hypertension and the like. When used as a therapeutic agent for such diseases, the compound of the present invention can be used alone or in combination with other therapeutic agents.

【0102】本発明化合物は、当分野で公知の固体又は
液体の賦形剤担体と混合し、非経口投与、経口投与又は
外部投与に適した医薬製剤の形で使用することができ
る。医薬製剤としては、例えば注射剤、吸入剤、シロッ
プ剤若しくは乳剤等の液剤、例えば錠剤、カプセル剤若
しくは粒剤等の固形剤又は例えば軟膏、座剤等の外用剤
等が挙げられる。また、これらの製剤には必要に応じて
助剤、安定剤、湿潤剤、乳化剤、吸収促進剤又は界面活
性剤等の通常使用される添加剤が含まれていてもよい。
添加剤としては注射用蒸留水、リンゲル液、グルコー
ス、ショ糖シロップ、ゼラチン、食用油、カカオ脂、エ
チレングリコール、ショ糖、とうもろこし澱粉、ステア
リン酸マグネシウム又はタルク等が挙げられる。
The compound of the present invention can be mixed with a solid or liquid excipient carrier known in the art, and used in the form of a pharmaceutical preparation suitable for parenteral administration, oral administration or external administration. Examples of the pharmaceutical preparation include liquid preparations such as injections, inhalants, syrups and emulsions, solid preparations such as tablets, capsules and granules, and external preparations such as ointments and suppositories. In addition, these preparations may optionally contain additives such as auxiliary agents, stabilizers, wetting agents, emulsifiers, absorption promoters or surfactants which are usually used.
Examples of the additive include distilled water for injection, Ringer's solution, glucose, sucrose syrup, gelatin, edible oil, cocoa butter, ethylene glycol, sucrose, corn starch, magnesium stearate or talc.

【0103】エンドセリン拮抗物質としての本発明化合
物の投与量は、投与方法、患者の年齢、体重、及び治療
する患者の容態等に応じて異なるが、成人に対する代表
的な投与方法は経口投与又は非経口投与であり、成人患
者に対して経口投与の場合1日あたり0.1〜100m
g/Kg体重であり、非経口投与の場合1日あたり0.
01〜10mg/Kg体重である。
The dose of the compound of the present invention as an endothelin antagonist varies depending on the administration method, the age and weight of the patient, the condition of the patient to be treated and the like. Typical administration methods for adults are oral administration and non-administration. Oral administration, 0.1 to 100 m per day for oral administration to adult patients
g / Kg body weight, and, in the case of parenteral administration, 0.1 per day.
01 to 10 mg / Kg body weight.

【0104】[0104]

【実施例】以下に実施例を挙げて本発明をより具体的に
説明するが、もとより本発明はこれらの実施例のみに限
定されるものではない。 実施例1化合物1A,1B,2A,2Bの合成 (1)2−シクロヘキシルチオメチル−4−メチルペン
タン酸の合成 氷冷したエタノール15ml中に、アルゴン雰囲気下水
素化ナトリウム56.5mg、シクロヘキサンチオール
0.86mlと2−イソブチル−2−プロペン酸エチル
1.60mlを加えた。混合物を室温まで昇温し、終夜
撹拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液(100ml)
を加え反応を停止し、酢酸エチル(30ml×3)にて
抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。残渣をドライ
カラムフラッシュクロマトグラフィー(メルク社製 シ
リカゲル60/ヘキサン:酢酸エチル=4:1)にて精
製し、2−シクロヘキシルチオメチル−4−メチルペン
タン酸エチル2.0gを無色油状物として得た。このも
の1.97gのエタノール(30ml)溶液に、1N水
酸化カリウム水溶液11.6mlを加え、5時間加熱還
流した。反応液を減圧濃縮後、残渣を水(30ml)に
溶解し、酢酸エチルにて洗浄した。水層に1N塩酸を加
えpH2とした後、酢酸エチル(30ml×3)にて抽
出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、目的物1.66g
を淡黄色油状物として得た。
The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited to these examples. Example 1 Synthesis of compounds 1A, 1B, 2A and 2B (1) Synthesis of 2-cyclohexylthiomethyl-4-methylpentanoic acid 56.5 mg of sodium hydride and 0 of cyclohexanethiol in 15 ml of ice-cooled ethanol under an argon atmosphere. 0.86 ml and 1.60 ml of ethyl 2-isobutyl-2-propenoate were added. The mixture was warmed to room temperature and stirred overnight. Saturated ammonium chloride aqueous solution (100 ml)
Was added to stop the reaction, and the mixture was extracted with ethyl acetate (30 ml × 3). The organic layer was washed with saturated brine and dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was evaporated under reduced pressure. The residue was purified by dry column flash chromatography (Merck & Co., Inc. silica gel 60 / hexane: ethyl acetate = 4: 1) to obtain 2.0 g of ethyl 2-cyclohexylthiomethyl-4-methylpentanoate as a colorless oil. .. To a solution of 1.97 g of this product in ethanol (30 ml) was added 11.6 ml of a 1N aqueous potassium hydroxide solution, and the mixture was heated under reflux for 5 hours. The reaction solution was concentrated under reduced pressure, the residue was dissolved in water (30 ml), and washed with ethyl acetate. The aqueous layer was adjusted to pH 2 with 1N hydrochloric acid and then extracted with ethyl acetate (30 ml × 3). The organic layer was washed with saturated brine and dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was evaporated under reduced pressure to give the desired product (1.66 g).
Was obtained as a pale yellow oil.

【0105】FAB−MS(m/e,(C13242
+H)+として):245 (2)DTrp(CHO)−OMe・TFAの合成 Boc−DTrp(CHO)−OH 2.05g、DM
AP 75.3mgとメタノール0.30mlのジクロ
ロメタン(20ml)溶液に、氷冷下EDCI・HCl
1.42gを加え、そのまま1時間、更に室温にて1
時間撹拌した。反応液をジクロロメタンで希釈後、10
%クエン酸水溶液及び飽和食塩水にて洗浄し、無水硫酸
マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して、Boc
−DTrp(CHO)−OMe 1.97gを得た。こ
のもの1.97gを氷冷下TFA15mlに溶解し、そ
のまま10分間撹拌後、減圧下TFAを留去した。残渣
にエーテルを加え析出した固体を濾取し、目的物1.9
2gを得た。
FAB-MS (m / e, (C 13 H 24 O 2 S
+ H) + ): 245 (2) Synthesis of DTrp (CHO) -OMe.TFA Boc-DTrp (CHO) -OH 2.05 g, DM
A solution of 75.3 mg of AP and 0.30 ml of methanol in dichloromethane (20 ml) was added to EDCI.HCl under ice cooling.
1.42 g was added, and the mixture was left for 1 hour and then at room temperature for 1 hour.
Stir for hours. After diluting the reaction solution with dichloromethane, 10
% Aqueous citric acid solution and saturated brine, and dried over anhydrous magnesium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and Boc
1.97 g of -DTrp (CHO) -OMe was obtained. 1.97 g of this product was dissolved in 15 ml of TFA under ice cooling, and the mixture was stirred for 10 minutes as it was, and then TFA was distilled off under reduced pressure. Ether was added to the residue and the precipitated solid was collected by filtration to obtain the desired product 1.9.
2 g was obtained.

【0106】FAB−MS(m/e,(C131423
+H)+として):247 (3)(2S)−2−シクロヘキシルチオメチル−4−
メチルペンタノイル−DTrp(CHO)−OMeの合
成 (1)で得られた2−シクロヘキシルチオメチル−4−
メチルペンタン酸1.31g、(2)で得られたDTr
p(CHO)−OMe・TFA 1.92g及びHOB
T・H2O 1.03gのジクロロメタン溶液(40m
l)に、氷冷下TEA 0.74ml及びEDCI・H
Cl 1.30gを加えた。混合物を室温で2時間撹拌
後、水(50ml)を加え酢酸エチルで抽出した。有機
層を10%クエン酸水溶液及び水で洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得られた
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ワコーゲ
ルC−200/クロロホルム:酢酸エチル=20:1)
にて分離精製し、目的物0.144gを無色油状物とし
て得た。
FAB-MS (m / e, (C 13 H 14 N 2 O 3
+ H) + ): 247 (3) (2S) -2-cyclohexylthiomethyl-4-
Synthesis of methylpentanoyl-DTrp (CHO) -OMe 2-Cyclohexylthiomethyl-4-obtained in (1)
1.31 g of methylpentanoic acid, DTr obtained in (2)
p (CHO) -OMeTFA 1.92 g and HOB
A solution of 1.03 g of T.H 2 O in dichloromethane (40 m
l), under ice cooling TEA 0.74 ml and EDCI · H
1.30 g of Cl was added. The mixture was stirred at room temperature for 2 hours, water (50 ml) was added, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with 10% aqueous citric acid solution and water, and dried over anhydrous magnesium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure and the obtained residue was subjected to silica gel column chromatography (Wakogel C-200 / chloroform: ethyl acetate = 20: 1).
Were isolated and purified by the procedure described above to obtain 0.144 g of the desired product as a colorless oily substance.

【0107】FAB−MS(m/e,(C263624
S+H)+として):4731 H−NMR(300MHz,CDCl3,δppm):
0.81(3H,d,J=6.2Hz),0.86(3
H,d,J=6.3Hz),1.00−2.00(13
H,m),2.28−2.45(1H,m),2.45
−2.68(2H,m),2.68−2.78(1H,
m),3.24−3.32(2H,m),3.71(3
H,s),5.02(1H,dt,J=7.4Hz,
6.1Hz),6.28(1H,d,J=7.4H
z),7.16−7.77(4H,m),8.34−
8.48(1H,m),9.05+9.40(1H,b
rs×2) (4)(2S)−2−[(RS)−シクロヘキシルスル
フィニルメチル]−4−メチルペンタノイル−DTrp
−OHの合成 (3)で得られた(2S)−2−シクロヘキシルチオメ
チル−4−メチルペンタノイル−DTrp(CHO)−
OMe 88.5mgのジクロロメタン(1ml)溶液
に、氷冷下mCPBA 32.9mgのジクロロメタン
(0.8ml)溶液を加え、そのまま1時間撹拌した。
溶媒を減圧留去して得た残渣を、中圧液体クロマトグラ
フィー(メルク社製 ローバーカラム リクロプレップ
SI60/ヘキサン:酢酸エチル=1:5)、引き続き
分取薄層クロマトグラフィー(メルク社製 シリカゲル
60F254/ヘキサン:酢酸エチル=1:5)にて精製
し、(2S)−2−[(RS)−シクロヘキシルスルフ
ィニルメチル]−4−メチルペンタノイル−DTrp
(CHO)−OMe 48.8mgを得た。このもの全
量をメタノール0.5mlに溶解し、1N水酸化ナトリ
ウム水溶液0.4mlを加え、室温で1.5時間撹拌し
た。反応液に1N塩酸を加えpH2とした後、減圧濃縮
乾固して得た固体をクロロホルムに溶解し、不溶物を濾
去した。クロロホルム層を減圧濃縮乾固し、目的物3
5.6mgを、淡黄色固体として得た。
FAB-MS (m / e, (C 26 H 36 N 2 O 4
S + H) + ): 473 1 H-NMR (300 MHz, CDCl 3 , δppm):
0.81 (3H, d, J = 6.2Hz), 0.86 (3
H, d, J = 6.3 Hz), 1.00-2.00 (13
H, m), 2.28-2.45 (1H, m), 2.45
-2.68 (2H, m), 2.68-2.78 (1H,
m), 3.24-3.32 (2H, m), 3.71 (3
H, s), 5.02 (1H, dt, J = 7.4Hz,
6.1 Hz), 6.28 (1H, d, J = 7.4H)
z), 7.16-7.77 (4H, m), 8.34-
8.48 (1H, m), 9.05 + 9.40 (1H, b
rs × 2) (4) (2S) -2-[(RS) -cyclohexylsulfinylmethyl] -4-methylpentanoyl-DTrp
Synthesis of -OH (2S) -2-Cyclohexylthiomethyl-4-methylpentanoyl-DTrp (CHO)-obtained in (3)
A solution of mCPBA (32.9 mg) in dichloromethane (0.8 ml) was added to a solution of OMe (88.5 mg) in dichloromethane (1 ml), and the mixture was stirred for 1 hour as it was.
The solvent was distilled off under reduced pressure, and the resulting residue was subjected to medium pressure liquid chromatography (Merck Rover Column Licroprep SI60 / hexane: ethyl acetate = 1: 5), followed by preparative thin layer chromatography (Merck silica gel 60F 254). / Hexane: ethyl acetate = 1: 5) and purified, (2S) -2-[(RS) -cyclohexylsulfinylmethyl] -4-methylpentanoyl-DTrp.
48.8 mg of (CHO) -OMe was obtained. The whole amount of this product was dissolved in 0.5 ml of methanol, 0.4 ml of a 1N sodium hydroxide aqueous solution was added, and the mixture was stirred at room temperature for 1.5 hours. The reaction mixture was adjusted to pH 2 with 1N hydrochloric acid, concentrated under reduced pressure to dryness, and the obtained solid was dissolved in chloroform, and the insoluble material was filtered off. The chloroform layer was concentrated under reduced pressure to dryness, and the target product 3
Obtained 5.6 mg as a pale yellow solid.

【0108】FAB−MS(m/e,(C243424
S+H)+として):447 (5)化合物1A及び1Bの合成 (4)で得られた(2S)−2−[(RS)−シクロヘ
キシルスルフィニルメチル]−4−メチルペンタノイル
−DTrp−OH 34.4mg、DTrp−OMe・
HCl 19.8mg及びHOBT・H2O 11.9
mgのジクロロメタン(0.7ml)懸濁液に、氷冷下
TEA 10.7μl及びEDCI・HCl 17.7
mgを加え、室温にて3時間撹拌した。反応液をジクロ
ロメタン(20ml)にて希釈し、飽和炭酸水素ナトリ
ウム水溶液、10%クエン酸水溶液及び水にて順次洗浄
し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。減圧下溶媒を
留去して得られた残渣を、分取薄層クロマトグラフィー
(メルク社製 シリカゲル60F254/ヘキサン:酢酸
エチル=1:5)により分離精製した。スルホキシドの
不斉に由来するジアステレオマーのうち、極性の低いも
のを化合物1A、極性の高いものを化合物1Bとし、化
合物1Aを15.7mg、化合物1Bを33.8mg得
た。化合物1A FAB−MS(m/e,(C364645S+H)+
して):647 Rf値:0.49(ヘキサン:酢酸エチル=1:5)化合物1B FAB−MS(m/e,(C364645S+H)+
して):647 Rf値:0.43(ヘキサン:酢酸エチル=1:5) (6)化合物2Aの合成 (5)で得られた化合物1A 14.4mgのメタノー
ル(0.2ml)溶液に1N水酸化ナトリウム水溶液4
4μlを加え、室温にて2時間撹拌した。反応液に1N
塩酸を加えpH2とした後、減圧濃縮乾固して得られた
残渣を、分取薄層クロマトグラフィー(3M社製 エム
ポアシリカゲルシート/クロロホルム:メタノール:酢
酸=10:1:1)にて精製し、目的物9.7mgを得
た。
FAB-MS (m / e, (C 24 H 34 N 2 O 4
S + H) + ): 447 (5) Synthesis of compounds 1A and 1B (2S) -2-[(RS) -cyclohexylsulfinylmethyl] -4-methylpentanoyl-DTrp-OH 34. 4 mg, DTrp-OMe
HCl 19.8 mg and HOBT.H 2 O 11.9
To a suspension of mg of dichloromethane (0.7 ml), 10.7 μl of TEA and EDCI.HCl 17.7 under ice cooling.
mg was added, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. The reaction solution was diluted with dichloromethane (20 ml), washed successively with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution, 10% aqueous citric acid solution and water, and dried over anhydrous magnesium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure and the obtained residue was separated and purified by preparative thin layer chromatography (Merck silica gel 60F 254 / hexane: ethyl acetate = 1: 5). Among the diastereomers derived from the asymmetry of sulfoxide, the one with low polarity was designated as compound 1A and the one with high polarity was designated as compound 1B, and 15.7 mg of compound 1A and 33.8 mg of compound 1B were obtained. Compound 1A FAB-MS (m / e, as (C 36 H 46 N 4 O 5 S + H) + ): 647 Rf value: 0.49 (hexane: ethyl acetate = 1: 5) Compound 1B FAB-MS (m / e e, (as C 36 H 46 N 4 O 5 S + H) + ): 647 Rf value: 0.43 (hexane: ethyl acetate = 1: 5) (6) Synthesis of compound 2A Compound 1A obtained in (5) A solution of 14.4 mg of methanol (0.2 ml) in 1N sodium hydroxide solution 4
4 μl was added, and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours. 1N in the reaction solution
The residue obtained by adding hydrochloric acid to pH 2 and concentrating to dryness under reduced pressure was purified by preparative thin-layer chromatography (3M company Empire silica gel sheet / chloroform: methanol: acetic acid = 10: 1: 1). Then, 9.7 mg of the desired product was obtained.

【0109】融点:137−141℃ IR(KBr,cm-1):3412,3064,293
8,2860,1734,1665,1524,145
8,1341,1233,1011,741 高分解能FAB−MS(m/e,(C354445S+
H)+として): 計算値 633.3111 測定値 633.31401 H−NMR(300MHz,DMSO−d6,δpp
m):0.55(3H,d,J=6.6Hz),0.6
2(3H,d,J=6.4Hz),1.00−2.20
(14H,m),2.50−2.90(4H,m),
3.10−3.30(3H,m),4.45(1H,
m),4.68(1H,m),6.93−7.08(4
H,m),7.10(1H,d,J=2.2Hz),
7.18(1H,d,J=2.2Hz),7.30(1
H,d,J=7.9Hz),7.33(1H,d,J=
7.6Hz),7.53(1H,d,J=7.9H
z),7.58(1H,d,J=7.6Hz),8.3
2(1H,d,J=6.7Hz),8.34(1H,
d,J=8.3Hz),10.77(1H,d,J=
2.2Hz),10.82(1H,d,J=2.2H
z) (7)化合物2Bの合成 (5)で得られた化合物1Bを用い、(6)と同様な反
応を行って目的物を得た。
Melting point: 137-141 ° C IR (KBr, cm -1 ): 3412, 3064, 293
8, 2860, 1734, 1665, 1524, 145
8,1341,1233,1011,741 High resolution FAB-MS (m / e, (C 35 H 44 N 4 O 5 S +
H) + ): Calculated value 633.3111 Measured value 633.3140 1 H-NMR (300 MHz, DMSO-d 6 , δpp.
m): 0.55 (3H, d, J = 6.6Hz), 0.6
2 (3H, d, J = 6.4 Hz), 1.00-2.20
(14H, m), 2.50-2.90 (4H, m),
3.10-3.30 (3H, m), 4.45 (1H,
m), 4.68 (1H, m), 6.93-7.08 (4
H, m), 7.10 (1H, d, J = 2.2 Hz),
7.18 (1H, d, J = 2.2Hz), 7.30 (1
H, d, J = 7.9 Hz), 7.33 (1H, d, J =
7.6 Hz), 7.53 (1H, d, J = 7.9H
z), 7.58 (1H, d, J = 7.6Hz), 8.3
2 (1H, d, J = 6.7 Hz), 8.34 (1H,
d, J = 8.3 Hz), 10.77 (1H, d, J =
2.2Hz), 10.82 (1H, d, J = 2.2H
z) (7) Synthesis of compound 2B Using the compound 1B obtained in (5), the same reaction as in (6) was carried out to obtain the desired product.

【0110】融点:138−142℃ IR(KBr,cm-1):3418,2932,286
0,1665,1581,1530,1458,139
2,1341,1236,1212,1131,110
4,1008,741 高分解能FAB−MS(m/e,(C354445S+
H)+として): 計算値 633.3111 測定値 633.31241 H−NMR(300MHz,DMSO−d6,δpp
m):0.57(3H,d,J=6.3Hz),0.6
5(3H,d,J=6.4Hz),0.79−1.37
(7H,m),1.47−1.91(6H,m),2.
70−2.91(4H,m),3.04−3.25(4
H,m),4.40−4.53(1H,m),4.53
−4.67(1H,m),6.94(1H,t,J=
7.8Hz),6.97(1H,t,J=7.9H
z),7.03(1H,t,J=7.8Hz),7.0
5(1H,t,J=7.9Hz),7.10(1H,
d,J=2.2Hz),7.18(1H,d,J=2.
3Hz),7.29(1H,d,J=7.8Hz),
7.32(1H,d,J=7.9Hz),7.52(1
H,d,J=7.8Hz),7.57(1H,d,J=
7.9Hz),8.05(1H,d,J=6.8H
z),8.37(1H,d,J=8.1Hz),10.
77(1H,d,J=2.3Hz),10.83(1
H,d,J=2.2Hz) 実施例2化合物3,4の合成 (1)(2S)−2−シクロヘキシルスルホニルメチル
−4−メチルペンタノイル−DTrp−OHの合成 実施例1−(3)で得られた(2S)−2−シクロヘキ
シルチオメチル−4−メチルペンタノイル−DTrp
(CHO)−OMe 48.2mgのジクロロメタン
(0.5ml)溶液にmCPBA 43.9mgを加
え、室温で1時間撹拌した。以下、実施例1−(4)と
同様な操作を行うことにより、目的物41.2mgを得
た。
Melting point: 138-142 ° C IR (KBr, cm -1 ): 3418, 2932, 286
0, 1665, 1581, 1530, 1458, 139
2,1341,1236,1212,1131,110
4,1008,741 High resolution FAB-MS (m / e, (C 35 H 44 N 4 O 5 S +
H) + ): Calculated value 633.3111 Measured value 633.3124 1 H-NMR (300 MHz, DMSO-d 6 , δpp.
m): 0.57 (3H, d, J = 6.3Hz), 0.6
5 (3H, d, J = 6.4 Hz), 0.79-1.37
(7H, m), 1.47-1.91 (6H, m), 2.
70-2.91 (4H, m), 3.04-3.25 (4
H, m), 4.40-4.53 (1H, m), 4.53
-4.67 (1H, m), 6.94 (1H, t, J =
7.8 Hz), 6.97 (1H, t, J = 7.9H
z), 7.03 (1H, t, J = 7.8Hz), 7.0
5 (1H, t, J = 7.9Hz), 7.10 (1H,
d, J = 2.2 Hz), 7.18 (1H, d, J = 2.
3Hz), 7.29 (1H, d, J = 7.8Hz),
7.32 (1H, d, J = 7.9Hz), 7.52 (1
H, d, J = 7.8 Hz), 7.57 (1H, d, J =
7.9 Hz), 8.05 (1H, d, J = 6.8H
z), 8.37 (1H, d, J = 8.1 Hz), 10.
77 (1H, d, J = 2.3Hz), 10.83 (1
H, d, J = 2.2 Hz) Example 2 Synthesis of compounds 3 and 4 (1) Synthesis of (2S) -2-cyclohexylsulfonylmethyl-4-methylpentanoyl-DTrp-OH Example 1- (3) (2S) -2-Cyclohexylthiomethyl-4-methylpentanoyl-DTrp obtained in
To a solution of 48.2 mg of (CHO) -OMe in dichloromethane (0.5 ml) was added 43.9 mg of mCPBA, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. Then, the same operation as in Example 1- (4) was performed to obtain 41.2 mg of the desired product.

【0111】FAB−MS(m/e,(C243425
S+H)+として):463 (2)化合物3の合成 (1)で得られた(2S)−2−シクロヘキシルスルホ
ニルメチル−4−メチルペンタノイル−DTrp−OH
を用い、実施例1−(5)と同様な操作を行い、目的物
を得た。
FAB-MS (m / e, (C 24 H 34 N 2 O 5
S + H) + ): 463 (2) Synthesis of compound 3 (2S) -2-cyclohexylsulfonylmethyl-4-methylpentanoyl-DTrp-OH obtained in (1).
Using the above, the same operation as in Example 1- (5) was performed to obtain the desired product.

【0112】FAB−MS(m/e,(C364646
S+H)+として):663 (3)化合物4の合成 (2)で得られた化合物3を用い、実施例1−(6)と
同様な操作を行い、目的物を得た。
FAB-MS (m / e, (C 36 H 46 N 4 O 6
As S + H) + ): 663 (3) Synthesis of Compound 4 Using the compound 3 obtained in (2), the same operation as in Example 1- (6) was carried out to obtain the desired product.

【0113】融点:128−137℃ IR(KBr,cm-1):3382,3064,293
8,2866,1734,1662,1581,152
7,1461,1392,1344,1296,126
9,1233,1128,744,612 高分解能FAB−MS(m/e,(C354446S+
H)+として): 計算値 649.3060 測定値 649.30401 H−NMR(300MHz,DMSO−d6,δpp
m):0.51(3H,d,J=6.4Hz),0.6
0(3H,d,J=6.1Hz),0.90−2.00
(13H,m),2.70−2.98(4H,m),
3.00−3.27(4H,m),4.39−4.52
(1H,m),4.52−4.69(1H,m),6.
91−7.09(4H,m),7.12(1H,d,J
=2.0Hz),7.19(1H,d,J=2.1H
z),7.28(1H,d,J=7.2Hz),7.3
2(1H,d,J=7.8Hz),7.52(1H,
d,J=7.2Hz),7.63(1H,d,J=7.
8Hz),8.12−8.25(1H,m),8.46
(1H,d,J=8.4Hz),10.77(1H,
d,J=2.1Hz),10.84(1H,d,J=
2.0Hz) 実施例3化合物5A,5B,6A,6Bの合成 (1)(2S)−2−ベンジルオキシメチル−4−メチ
ルペンタン酸の合成 (S)−(−)−4−ベンジル−2−オキサゾリジノン
900mgのTHF(12ml)溶液に、アルゴン雰囲
気下n−ブチルリチウムのヘキサン溶液(1.64M)
3.16mlを−78℃にて加え、次いで4−メチルペ
ンタン酸クロリド0.71mlを加えた。反応液を氷冷
温度まで昇温し、30分間撹拌した。反応液に1M炭酸
カリウム水溶液5mlを加え、室温にて1時間撹拌後、
揮発成分を減圧留去した。有機物をジクロロメタンで抽
出し、水及び飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウ
ムにて乾燥した。この溶液を減圧濃縮して、無色油状物
1.31gを得た。この油状物1.27gのジクロロメ
タン(12ml)溶液に、アルゴン雰囲気下四塩化チタ
ンのジクロロメタン溶液(1.0M)4.85mlを氷
冷下にて滴下し、5分間撹拌した。次いで氷冷下ジイソ
プロピルエチルアミン0.84mlを滴下し、30分間
撹拌した。この溶液にベンジル クロロメチル エーテ
ル1.29mlを氷冷下滴下し、更に1.5時間撹拌し
た。反応液に水を加えた後、有機層を酢酸エチルで希釈
し、分離した。この溶液を飽和食塩水にて洗浄し、無水
硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮した。残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(メルク社製 シリカ
ゲル60/酢酸エチル:ヘキサン=1:6)にて精製
し、無色油状物1.45gを得た。この油状物156m
gのTHF−H2O(3:1,v/v)7.5ml溶液
に、氷冷下30%過酸化水素水0.2ml及び水酸化リ
チウム・一水和物33.2mgを加え、1時間撹拌し
た。反応液に、氷冷下1.5N亜硫酸ナトリウム水溶液
0.58mlを加えることにより過剰の過酸化物を除去
した後、炭酸水素ナトリウム水溶液を加えpHを9〜1
0に調整した。THFを減圧留去した水層をジクロロメ
タンにて洗浄後、1N塩酸により酸性にし、酢酸エチル
で抽出した。抽出液を飽和食塩水にて洗浄後、減圧濃縮
することにより目的物87.5mgを得た。
Melting point: 128-137 ° C. IR (KBr, cm -1 ): 3382, 3064, 293
8, 2866, 1734, 1662, 1581, 152
7,1461,1392,1344,1296,126
9,1233,1128,744,612 High Resolution FAB-MS (m / e, (C 35 H 44 N 4 O 6 S +
H) + ): Calculated value 649.3060 Measured value 649.3040 1 H-NMR (300 MHz, DMSO-d 6 , δpp
m): 0.51 (3H, d, J = 6.4Hz), 0.6
0 (3H, d, J = 6.1Hz), 0.90-2.00
(13H, m), 2.70-2.98 (4H, m),
3.00-3.27 (4H, m), 4.39-4.52
(1H, m), 4.52-4.69 (1H, m), 6.
91-7.09 (4H, m), 7.12 (1H, d, J
= 2.0 Hz), 7.19 (1H, d, J = 2.1H
z), 7.28 (1H, d, J = 7.2 Hz), 7.3
2 (1H, d, J = 7.8Hz), 7.52 (1H,
d, J = 7.2 Hz), 7.63 (1H, d, J = 7.
8 Hz), 8.12-8.25 (1H, m), 8.46
(1H, d, J = 8.4 Hz), 10.77 (1H,
d, J = 2.1 Hz), 10.84 (1H, d, J =
2.0 Hz) Example 3 Synthesis of compounds 5A, 5B, 6A, 6B (1) Synthesis of (2S) -2-benzyloxymethyl-4-methylpentanoic acid (S)-(-)-4-benzyl-2 -A solution of 900 mg of oxazolidinone in THF (12 ml) was added to a solution of n-butyllithium in hexane (1.64 M) under an argon atmosphere.
3.16 ml was added at -78 ° C followed by 0.71 ml 4-methylpentanoic acid chloride. The reaction solution was heated to ice-cooling temperature and stirred for 30 minutes. To the reaction solution was added 5 ml of 1M potassium carbonate aqueous solution, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour,
The volatile components were distilled off under reduced pressure. The organic matter was extracted with dichloromethane, washed with water and saturated saline, and dried over anhydrous magnesium sulfate. The solution was concentrated under reduced pressure to obtain 1.31 g of a colorless oily substance. To a solution of 1.27 g of this oily substance in dichloromethane (12 ml), 4.85 ml of a solution of titanium tetrachloride in dichloromethane (1.0 M) was added dropwise under an argon atmosphere under ice cooling, and the mixture was stirred for 5 minutes. Next, 0.84 ml of diisopropylethylamine was added dropwise under ice cooling, and the mixture was stirred for 30 minutes. To this solution, 1.29 ml of benzyl chloromethyl ether was added dropwise under ice cooling, and the mixture was further stirred for 1.5 hours. After adding water to the reaction solution, the organic layer was diluted with ethyl acetate and separated. This solution was washed with saturated saline, dried over anhydrous magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (Merck, Inc. silica gel 60 / ethyl acetate: hexane = 1: 6) to obtain 1.45 g of a colorless oil. 156m of this oil
g in THF-H 2 O (3: 1, v / v) 7.5 ml solution, 30% hydrogen peroxide aqueous solution 0.2 ml and lithium hydroxide monohydrate 33.2 mg were added under ice cooling, and 1 Stir for hours. After removing excess peroxide by adding 0.58 ml of 1.5 N sodium sulfite aqueous solution to the reaction solution under ice cooling, an aqueous sodium hydrogen carbonate solution was added to adjust the pH to 9-1.
Adjusted to 0. The THF was distilled off under reduced pressure, the aqueous layer was washed with dichloromethane, acidified with 1N hydrochloric acid, and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with saturated saline and then concentrated under reduced pressure to obtain 87.5 mg of the desired product.

【0114】1H−NMR(90MHz,CDCl3,δ
ppm):0.92(6H,d,J=7Hz),1.0
5−1.90(3H,m),2.81(1H,m),
3.40−3.80(2H,m),4.53(2H,
s),7.17−7.40(5H,m) (2)[(2S)−2−p−トルエンスルホニルオキシ
メチル−4−メチルペンタノイル]−DTrp(Bo
c)−OMeの合成 (1)で得た化合物87.5mgのジクロロメタン(2
ml)溶液に、DTrp(Boc)−OMe・HCl
133mg、NMM 43μl及びEDCI・HCl
78.2mgを氷冷下順次加え、2時間撹拌した。反応
液を酢酸エチルにて希釈し、水にて洗浄後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。この溶液を減圧濃縮し、残渣を
分取薄層クロマトグラフィー(メルク社製 シリカゲル
60F254/酢酸エチル:ヘキサン=1:2)にて精製
し、縮合体148mgを得た。これをメタノール1.5
mlに溶解し、10%パラジウム炭素20mgと共に常
圧水素雰囲気下室温にて20時間撹拌した。触媒を濾去
し、濾液を減圧濃縮することにより、対応するアルコー
ル体117mgを得た。このアルコール体117mgの
ジクロロメタン(1.2ml)溶液に、アルゴン雰囲気
下、ピリジン24μl、TsCl 57mg及びDMA
P触媒量を室温下加え、そのまま24時間撹拌した。反
応液を酢酸エチルで希釈し、10%クエン酸水溶液及び
飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥
した。この溶液を減圧濃縮し、残渣を分取薄層クロマト
グラフィー(メルク社製 シリカゲル60F254/酢酸
エチル:ヘキサン=1:2)にて精製し、目的物85m
gを得た。
1 H-NMR (90 MHz, CDCl 3 , δ
ppm): 0.92 (6H, d, J = 7Hz), 1.0
5-1.90 (3H, m), 2.81 (1H, m),
3.40-3.80 (2H, m), 4.53 (2H,
s), 7.17-7.40 (5H, m) (2) [(2S) -2-p-toluenesulfonyloxymethyl-4-methylpentanoyl] -DTrp (Bo
c) Synthesis of -OMe 87.5 mg of the compound obtained in (1) in dichloromethane (2
ml) solution, DTrp (Boc) -OMe.HCl
133 mg, NMM 43 μl and EDCI · HCl
78.2 mg was sequentially added under ice cooling, and the mixture was stirred for 2 hours. The reaction solution was diluted with ethyl acetate, washed with water, and dried over anhydrous magnesium sulfate. The solution was concentrated under reduced pressure, and the residue was purified by preparative thin layer chromatography (Merck & Co., Inc. silica gel 60F 254 / ethyl acetate: hexane = 1: 2) to obtain a condensate 148 mg. This is methanol 1.5
It was dissolved in ml and stirred with 20 mg of 10% palladium carbon at room temperature for 20 hours under a hydrogen atmosphere at atmospheric pressure. The catalyst was filtered off, and the filtrate was concentrated under reduced pressure to obtain 117 mg of the corresponding alcohol compound. To a solution of 117 mg of this alcohol derivative in dichloromethane (1.2 ml), under argon atmosphere, 24 μl of pyridine, 57 mg of TsCl and DMA.
The amount of P catalyst was added at room temperature, and the mixture was stirred as it was for 24 hours. The reaction solution was diluted with ethyl acetate, washed successively with 10% aqueous citric acid solution and saturated brine, and dried over anhydrous magnesium sulfate. This solution was concentrated under reduced pressure, and the residue was purified by preparative thin layer chromatography (Merck & Co., Inc. silica gel 60F 254 / ethyl acetate: hexane = 1: 2) to obtain 85 m of the desired product.
g was obtained.

【0115】1H−NMR(300MHz,CDCl3
δppm):0.74(3H,d,J=6.4Hz),
0.75(3H,d,J=6.4Hz),1.04−
1.16(1H,m),1.20−1.34(1H,
m),1.34−1.46(1H,m),1.66(9
H,s),2.42(3H,s),2.47−2.60
(1H,m),3.17(1H,dd,J=5.9H
z,14.5Hz),3.24(1H,dd,J=4.
2Hz,14.5Hz),3.70(3H,s),3.
98(1H,dd,J=5.4Hz,9.4Hz),
4.07(1H,dd,J=9.4Hz,14.0H
z),4.92(1H,ddd,J=4.2Hz,5.
9Hz,8.1Hz),6.21(1H,d,J=8.
1Hz),7.22(1H,t,J=7.4Hz),
7.29(2H,d,J=8.3Hz),7.30(1
H,t,J=7.4Hz),7.39(1H,s),
7.49(1H,d,J=7.4Hz),7.71(2
H,d,J=8.3Hz),8.11(1H,d,J=
7.4Hz) (3)[(2S)−2−シクロヘプチルスルフィニルメ
チル−4−メチルペンタノイル]−DTrp−OHの合
成 水素化ナトリウム4.1mgのDMF(0.5ml)懸
濁液に、アルゴン雰囲気下シクロヘプタンチオール23
mgを氷冷下加え、5分間撹拌した。このチオレート溶
液に、(2)で得られた化合物84.7mgのDMF
(1.5ml)溶液を氷冷下加え、更に20分間撹拌し
た。反応液に10%クエン酸水溶液を加えた後、酢酸エ
チルにて希釈し、有機層を分離した。この溶液を水で洗
浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥後、溶媒を減圧留
去した。残渣を分取薄層クロマトグラフィー(メルク社
製 シリカゲル60F254/酢酸エチル:ヘキサン=
1:3)にて精製し、無色油状物73.2mgを得た。
この油状物72mgのジクロロメタン(3ml)溶液
に、氷冷下、mCPBA 23mgを加え30分間撹拌
した。この反応液を濃縮し、残渣を加え30分間撹拌し
た。この反応液を濃縮し、残渣を分取薄層クロマトグラ
フィー(メルク社製 シリカゲル60F254/酢酸エチ
ル:ヘキサン=2:1)で精製し、得られた淡黄色油状
物69mgに、氷冷下ギ酸(1ml)を加え室温で7時
間撹拌した。この溶液を減圧濃縮し、メタノール0.5
mlに溶解し、氷冷下1N水酸化ナトリウム水溶液14
5μlを加え、室温にて24時間撹拌した。メタノール
を減圧留去し、水を加え1N塩酸で酸性とし、酢酸エチ
ルで抽出し、飽和食塩水にて洗浄した。この溶液を無水
硫酸マグネシウムで乾燥後減圧濃縮し、残渣を分取薄層
クロマトグラフィー(3M社製エムポアシリカゲルシー
ト/クロロホルム:メタノール:酢酸=30:1:1)
にて精製することにより目的物23mgを得た。
1 H-NMR (300 MHz, CDCl 3 ,
δppm): 0.74 (3H, d, J = 6.4Hz),
0.75 (3H, d, J = 6.4Hz), 1.04-
1.16 (1H, m), 1.20-1.34 (1H,
m), 1.34 to 1.46 (1H, m), 1.66 (9
H, s), 2.42 (3H, s), 2.47-2.60.
(1H, m), 3.17 (1H, dd, J = 5.9H
z, 14.5 Hz), 3.24 (1H, dd, J = 4.
2Hz, 14.5Hz), 3.70 (3H, s), 3.
98 (1H, dd, J = 5.4Hz, 9.4Hz),
4.07 (1H, dd, J = 9.4Hz, 14.0H
z), 4.92 (1H, ddd, J = 4.2 Hz, 5.
9 Hz, 8.1 Hz), 6.21 (1H, d, J = 8.
1Hz), 7.22 (1H, t, J = 7.4Hz),
7.29 (2H, d, J = 8.3 Hz), 7.30 (1
H, t, J = 7.4 Hz), 7.39 (1H, s),
7.49 (1H, d, J = 7.4Hz), 7.71 (2
H, d, J = 8.3 Hz), 8.11 (1H, d, J =
7.4 Hz) (3) Synthesis of [(2S) -2-cycloheptylsulfinylmethyl-4-methylpentanoyl] -DTrp-OH Argon was added to a suspension of 4.1 mg of sodium hydride in DMF (0.5 ml) and argon. Cycloheptanethiol 23 under atmosphere
mg was added under ice cooling and stirred for 5 minutes. To this thiolate solution, 84.7 mg of DMF obtained in (2) was added.
The solution (1.5 ml) was added under ice cooling, and the mixture was further stirred for 20 minutes. A 10% aqueous citric acid solution was added to the reaction solution, and the mixture was diluted with ethyl acetate, and the organic layer was separated. The solution was washed with water, dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was evaporated under reduced pressure. The residue was subjected to preparative thin-layer chromatography (Merck & Co., Inc. silica gel 60F 254 / ethyl acetate: hexane =
Purification at 1: 3) yielded 73.2 mg of a colorless oil.
23 mg of mCPBA was added to a solution of 72 mg of this oily substance in dichloromethane (3 ml) under ice cooling, and the mixture was stirred for 30 minutes. The reaction solution was concentrated, the residue was added, and the mixture was stirred for 30 minutes. The reaction mixture was concentrated, and the residue was purified by preparative thin layer chromatography (Merck & Co., Inc. silica gel 60F 254 / ethyl acetate: hexane = 2: 1). 69 mg of the obtained pale yellow oily substance was cooled with formic acid under ice cooling. (1 ml) was added and the mixture was stirred at room temperature for 7 hours. This solution was concentrated under reduced pressure and methanol 0.5
Dissolve in 1 ml of 1N aqueous solution of sodium hydroxide under ice cooling 14
5 μl was added, and the mixture was stirred at room temperature for 24 hours. Methanol was distilled off under reduced pressure, water was added, acidified with 1N hydrochloric acid, extracted with ethyl acetate, and washed with saturated brine. This solution was dried over anhydrous magnesium sulfate and then concentrated under reduced pressure, and the residue was subjected to preparative thin layer chromatography (3M Empore silica gel sheet / chloroform: methanol: acetic acid = 30: 1: 1).
23 mg of the target product was obtained by purification.

【0116】FAB−MS(m/e,(C253624
S+H)+として):461 (4)化合物5A、5Bの合成 (3)で得られた化合物20mgとDTrp−OMe・
HCl 12mgをジクロロメタン0.5mlに溶解
し、NMM 5.3μlを室温にて加え、更に氷冷下H
OBT・H2O 6.5mg及びEDCI・HCl
9.2mgを加え、室温にて2時間撹拌した。この溶液
を減圧濃縮し、残渣を酢酸エチルに溶解後、5%炭酸水
素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水にて洗浄し、無水硫
酸マグネシウムにて乾燥した。この溶液を減圧濃縮し、
残渣を分取薄層クロマトグラフィー(メルク社製 シリ
カゲル60F254/酢酸エチル:ヘキサン=4:1)に
て分離精製することにより、目的とするスルホキシド体
をジアステレオ異性体として、それぞれ3.6mg(化
合物5A、低極性)、13mg(化合物5B、高極性)
得た。 化合物5A FAB−MS(m/e,(C374845S+H)+
して):661 Rf値:0.27(ヘキサン:酢酸エチル=1:5) 化合物5B FAB−MS(m/e,(C374845S+H)+
して):661 Rf値:0.21(ヘキサン:酢酸エチル=1:5) (5)化合物6A、6Bの合成 (4)で得られた化合物5A及び5Bを用い、実施例1
−(6)と同様の反応を行うことにより、目的物を得
た。 化合物6A 融点:103−108℃ IR(KBr,cm-1):3322,3058,292
6,2860,1734,1659,1533,146
4,1344,1233,1101,1011,741 高分解能FAB−MS(m/e,(C364645S+
H)+として): 計算値 647.3267 測定値 647.32341 H−NMR(300MHz,Acetone−d6,δ
ppm):0.62(3H,d,J=6.3Hz),
0.65(3H,d,J=6.3Hz),0.82−
1.20(3H,m),1.24−2.00(12H,
m),2.57(1H,dd,J=3.5Hz,12.
8Hz),2.65−2.90(3H,m),2.91
(1H,dd,J=10.5Hz,14.5Hz),
3.04(1H,dd,J=9.2Hz,12.8H
z),3.26−3.38(2H,m),4.66−
4.80(2H,m),6.98−7.13(4H,
m),7.15(1H,d,J=1.3Hz),7.2
1(1H,d,J=1.3Hz),7.30(1H,
d,J=7.3Hz),7.36(1H,d,J=8.
2Hz),7.38(1H,d,J=8.2Hz),
7.54(1H,d,J=8.2Hz),7.57(1
H,d,J=8.2Hz),8.17(1H,d,J=
8.4Hz),10.09(1H,d,J=1.3H
z),10.11(1H,d,J=1.3Hz) 化合物6B 融点:123−128℃ IR(KBr,cm-1):3412,3058,292
6,2860,1713,1662,1524,146
4,1443,1359,1344,1230,110
1,1011,741 高分解能FAB−MS(m/e,(C364645S+
H)+として): 計算値 647.3267 測定値 647.31761 H−NMR(300MHz,Acetone−d6,δ
ppm):0.65(3H,d,J=6.0Hz),
0.70(3H,d,J=6.0Hz),0.80−
0.93(1H,m),1.05−1.20(2H,
m),1.25−2.00(12H,m),2.55
(1H,dd,J=2.8Hz,12.7Hz),2.
65−2.90(3H,m),2.93(1H,dd,
J=9.8Hz,14.9Hz),3.02(1H,d
d,J=10.9Hz,12.7Hz),3.20−
3.38(2H,m),4.70−4.87(2H,
m),6.93−7.12(4H,m),7.15(1
H,d,J=1.3Hz),7.24(1H,d,J=
1.3Hz),7.35(1H,d,J=8.2H
z),7.38(1H,d,J=8.2Hz),7.4
0(1H,d,J=6.2Hz),7.59(1H,
d,J=8.2Hz),7.62(1H,d,J=8.
2Hz),7.80(1H,d,J=7.8Hz),1
0.00(1H,d,J=1.3Hz),10.12
(1H,d,J=1.3Hz) 実施例4化合物7A,7B,8A,8Bの合成 (1)2−アセチルチオメチル−4−メチルペンタン酸
の合成 2−イソブチル−2−ペンテン酸4.98gをチオ酢酸
5mlに溶解し、アルゴン雰囲気下85℃にて2時間加
熱撹拌した。過剰のチオ酢酸を減圧下留去して得られた
残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(メルク
社製 シリカゲル60/クロロホルム→酢酸エチル)に
て精製し、目的物6.46gを無色固体として得た。
FAB-MS (m / e, (C 25 H 36 N 2 O 4
S + H) + ): 461 (4) Synthesis of compounds 5A and 5B 20 mg of the compound obtained in (3) and DTrp-OMe.
Dissolve 12 mg of HCl in 0.5 ml of dichloromethane, add 5.3 μl of NMM at room temperature, and further add H under ice cooling.
OBT · H 2 O 6.5 mg and EDCI · HCl
9.2 mg was added, and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours. The solution was concentrated under reduced pressure, the residue was dissolved in ethyl acetate, washed with 5% aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated brine, and dried over anhydrous magnesium sulfate. This solution is concentrated under reduced pressure,
The residue was purified by preparative thin layer chromatography (Merck silica gel 60F 254 / ethyl acetate: hexane = 4: 1) to recover purified by a sulfoxide body of interest as diastereoisomers, each 3.6 mg ( Compound 5A, low polarity), 13 mg (Compound 5B, high polarity)
Obtained. Compound 5A FAB-MS (m / e, as (C 37 H 48 N 4 O 5 S + H) + ): 661 Rf value: 0.27 (hexane: ethyl acetate = 1: 5) Compound 5B FAB-MS (m / e e, (as C 37 H 48 N 4 O 5 S + H) + ): 661 Rf value: 0.21 (hexane: ethyl acetate = 1: 5) (5) Synthesis of compounds 6A and 6B (4) Example 1 using compounds 5A and 5B
The desired product was obtained by carrying out the same reaction as in (6). Compound 6A Melting point: 103-108 ° C IR (KBr, cm -1 ): 3322, 3058, 292
6,2860,1734,1659,1533,146
4,134,1233,1101,1011,741 High resolution FAB-MS (m / e, (C 36 H 46 N 4 O 5 S +
H) + ): Calculated value 647.3267 Measured value 647.3234 1 H-NMR (300 MHz, Acetone-d 6 , δ)
ppm): 0.62 (3H, d, J = 6.3Hz),
0.65 (3H, d, J = 6.3Hz), 0.82-
1.20 (3H, m), 1.24-2.00 (12H,
m), 2.57 (1H, dd, J = 3.5Hz, 12.
8 Hz), 2.65-2.90 (3H, m), 2.91
(1H, dd, J = 10.5Hz, 14.5Hz),
3.04 (1H, dd, J = 9.2Hz, 12.8H
z), 3.26-3.38 (2H, m), 4.66-
4.80 (2H, m), 6.98-7.13 (4H,
m), 7.15 (1H, d, J = 1.3 Hz), 7.2
1 (1H, d, J = 1.3 Hz), 7.30 (1H,
d, J = 7.3 Hz), 7.36 (1H, d, J = 8.
2Hz), 7.38 (1H, d, J = 8.2Hz),
7.54 (1H, d, J = 8.2Hz), 7.57 (1
H, d, J = 8.2 Hz), 8.17 (1H, d, J =
8.4 Hz), 10.09 (1H, d, J = 1.3H
z), 10.11 (1H, d, J = 1.3 Hz) Compound 6B Melting point: 123-128 ° C IR (KBr, cm -1 ): 3412, 3058, 292
6,2860, 1713, 1662, 1524, 146
4,1443,1359,1344,1230,110
1,1011,741 High resolution FAB-MS (m / e, (C 36 H 46 N 4 O 5 S +
H) + ): Calculated value 647.3267 Measured value 647.3176 1 H-NMR (300 MHz, Acetone-d 6 , δ)
ppm): 0.65 (3H, d, J = 6.0Hz),
0.70 (3H, d, J = 6.0Hz), 0.80-
0.93 (1H, m), 1.05-1.20 (2H,
m), 1.25-2.00 (12H, m), 2.55
(1H, dd, J = 2.8Hz, 12.7Hz), 2.
65-2.90 (3H, m), 2.93 (1H, dd,
J = 9.8Hz, 14.9Hz), 3.02 (1H, d
d, J = 10.9 Hz, 12.7 Hz), 3.20-
3.38 (2H, m), 4.70-4.87 (2H,
m), 6.93-7.12 (4H, m), 7.15 (1
H, d, J = 1.3 Hz), 7.24 (1H, d, J =
1.3 Hz), 7.35 (1H, d, J = 8.2H
z), 7.38 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.4
0 (1H, d, J = 6.2Hz), 7.59 (1H,
d, J = 8.2 Hz), 7.62 (1H, d, J = 8.
2Hz), 7.80 (1H, d, J = 7.8Hz), 1
0.00 (1H, d, J = 1.3Hz), 10.12
(1H, d, J = 1.3 Hz) Example 4 Synthesis of compounds 7A, 7B, 8A, 8B (1) Synthesis of 2-acetylthiomethyl-4-methylpentanoic acid 2-isobutyl-2-pentenoic acid 4. 98 g was melt | dissolved in 5 ml of thioacetic acid, and it heat-stirred at 85 degreeC under argon atmosphere for 2 hours. The residue obtained by distilling off excess thioacetic acid under reduced pressure was purified by silica gel column chromatography (Merck & Co., Inc. silica gel 60 / chloroform → ethyl acetate) to obtain 6.46 g of the desired product as a colorless solid.

【0117】FAB−MS(m/e,(C9163S+
H)+として):205 (2)(2S)−2−アセチルチオメチル−4−メチル
ペンタノイル−DTrp−OMeの合成 (1)で得られた2−アセチルチオメチル−4−メチル
ペンタン酸4.00g、DTrp−OMe 4.99
g、NMM 2.15ml及びHOBT・H2O3.0
4gのジクロロメタン(65ml)−DMF(40m
l)混合溶液に、氷冷下、EDCI・HCl 3.75
gを加え、そのまま30分間、更に室温にて2.5時間
撹拌した。溶媒を減圧留去し、残渣を酢酸エチルに溶解
した。この溶液を、水、7.5%炭酸水素ナトリウム水
溶液、1N塩酸及び飽和食塩水にて順次洗浄し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得ら
れた残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(メ
ルク社製 シリカゲル60/ヘキサン:酢酸エチル=
2:1→3:2)にて精製し、目的物を2.28g得
た。
FAB-MS (m / e, (C 9 H 16 O 3 S +
H) + ): 205 (2) (2S) -2-Acetylthiomethyl-4-methylpentanoyl-DTrp-OMe Synthesis 2-acetylthiomethyl-4-methylpentanoic acid 4 obtained in (1) 0.000 g, DTrp-OMe 4.99.
g, NMM 2.15 ml and HOBT · H 2 O3.0
4 g of dichloromethane (65 ml) -DMF (40 m
l) To the mixed solution under ice cooling, EDCI · HCl 3.75
g was added, and the mixture was stirred as it was for 30 minutes and further at room temperature for 2.5 hours. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was dissolved in ethyl acetate. This solution was washed successively with water, a 7.5% aqueous sodium hydrogen carbonate solution, 1N hydrochloric acid and saturated brine, and dried over anhydrous magnesium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure and the resulting residue was subjected to silica gel column chromatography (Merck & Co., Inc. silica gel 60 / hexane: ethyl acetate =
The product was purified by 2: 1 → 3: 2) to obtain 2.28 g of the desired product.

【0118】FAB−MS(m/e,(C212824
S+H)+として):405 (3)(2S)−2−シクロペンチルメチルチオメチル
−4−メチルペンタノイル−DTrp−OMeの合成 (2)で得られたアミノ酸誘導体240mgのメタノー
ル(2ml)溶液を−30℃に冷却し、アルゴン雰囲気
下ナトリウムメトキシド37.6mgのメタノール(2
ml)溶液を滴下し、0〜10℃にて2.5時間撹拌し
た。反応溶液を再び−10℃に冷却し、シクロペンチル
メチルブロミド220mgのメタノール(2ml)溶液
を加え、室温にて13.5時間撹拌し、更に、40℃に
て1.5時間加熱撹拌した。反応液に飽和塩化アンモニ
ウム水溶液を加えて反応を停止し、酢酸エチルにて抽出
した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した。溶媒を減圧留去後得らえた残渣を、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(ワコーゲルC−2
00/ヘキサン:酢酸エチル=3:1)にて精製し、目
的物175mgを無色油状物として得た。
FAB-MS (m / e, (C 21 H 28 N 2 O 4
S + H) + ): 405 (3) Synthesis of (2S) -2-cyclopentylmethylthiomethyl-4-methylpentanoyl-DTrp-OMe 240 mg of the amino acid derivative obtained in (2) in methanol (2 ml) was added to -30 The mixture was cooled to ℃, and under argon atmosphere, sodium methoxide (37.6 mg) in methanol (2
ml) solution was added dropwise, and the mixture was stirred at 0 to 10 ° C for 2.5 hours. The reaction solution was cooled to −10 ° C. again, a solution of 220 mg of cyclopentylmethyl bromide in methanol (2 ml) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 13.5 hours and further heated and stirred at 40 ° C. for 1.5 hours. A saturated ammonium chloride aqueous solution was added to the reaction solution to stop the reaction, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with saturated saline and dried over anhydrous magnesium sulfate. The residue obtained after evaporation of the solvent under reduced pressure was subjected to silica gel column chromatography (Wakogel C-2
The product was purified with 00 / hexane: ethyl acetate = 3: 1) to obtain 175 mg of the desired product as a colorless oil.

【0119】FAB−MS(m/e,(C253623
S+H)+として):445 (4)(2S)−2−シクロペンチルメチルチオメチル
−4−メチルペンタノイル−DTrp(COOMe)−
OMeの合成 (3)で得られたアミノ酸誘導体161mg、粉末の水
酸化ナトリウム38.5mg及びTBAHS 13.6
mgのジクロロメタン(1.5ml)懸濁液に、氷冷
下、クロロギ酸メチル70μlのジクロロメタン(1.
5ml)溶液を滴下した。反応液を室温にて終夜撹拌
後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて反応を停止
し、エーテルにて抽出した。エーテル層を飽和食塩水で
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留
去した。得らえた残渣を、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(ワコーゲルC−200/ヘキサン:酢酸エチ
ル=4:1)にて精製し、目的物166mgを無色粉末
として得た。
FAB-MS (m / e, (C 25 H 36 N 2 O 3
S + H) + ): 445 (4) (2S) -2-cyclopentylmethylthiomethyl-4-methylpentanoyl-DTrp (COOMe)-
Synthesis of OMe 161 mg of amino acid derivative obtained in (3), powder 38.5 mg sodium hydroxide and TBAHS 13.6
A suspension of 70 mg of methyl chloroformate in dichloromethane (1.
5 ml) solution was added dropwise. The reaction mixture was stirred overnight at room temperature, saturated aqueous ammonium chloride solution was added to stop the reaction, and the mixture was extracted with ether. The ether layer was washed with saturated brine and dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was evaporated under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (Wakogel C-200 / hexane: ethyl acetate = 4: 1) to obtain 166 mg of the desired product as a colorless powder.

【0120】FAB−MS(m/e,(C273825
S+H)+として):503 (5)(2S)−2−[(RS)−シクロペンチルメチ
ルチオスルフィニルメチル]−4−メチルペンタノイル
−DTrp(COOMe)−OMeの合成 (4)で得られたアミノ酸誘導体を、実施例1−(4)
と同様な方法によりmCPBAと反応させ、目的物を得
た。
FAB-MS (m / e, (C 27 H 38 N 2 O 5
S + H) + ): 503 (5) (2S) -2-[(RS) -Cyclopentylmethylthiosulfinylmethyl] -4-methylpentanoyl-DTrp (COOMe) -OMe Synthesis of amino acid derivative obtained in (4) Example 1- (4)
The desired product was obtained by reacting with mCPBA in the same manner as in.

【0121】FAB−MS(m/e,(C273826
S+H)+として):519 (6)化合物7A、7Bの合成 (5)で得られたアミノ酸誘導体29.7mgのメタノ
ール(1.0ml)溶液に、氷冷下1N水酸化ナトリウ
ム水溶液69μl及び水60μlを加え、そのまま1.
5時間撹拌した。1N水酸化ナトリウム水溶液30μl
を追加し、氷冷下更に1.5時間撹拌した。反応液に飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えた後、エーテルにて
洗浄し、10%クエン酸水溶液で液性を酸性とした。有
機物を酢酸エチルで抽出し、水及び飽和食塩水で洗浄
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧濃縮乾
固して白色粉末26.1mgを得た。この粉末26.1
mg、DNle−OtBu・HCl 15.7mg及び
HOBT・H2O 11.6mgのDMF(0.5m
l)溶液に、氷冷下NMM 8.0μl及びEDCI・
HCl 14.2mgを加え、そのまま30分間、更に
室温にて3時間撹拌した。溶媒を減圧留去し、残渣を酢
酸エチルに溶解し、10%クエン酸水溶液、飽和炭酸水
素ナトリウム水溶液、水及び飽和食塩水にて洗浄後、無
水硫酸マグネシウムにて乾燥した。溶媒を減圧濃縮して
得た残渣を、分取薄層クロマトグラフィー(メルク社製
シリカゲル60F254/ベンゼン:酢酸エチル=1:
1)にて分離精製した。スルホキシドの不斉に由来する
ジアステレオマーのうち、極性の低いものを化合物7
A、極性の高いものを化合物7Bとし、化合物7Aを
7.6mg、1化合物7Bを17.3mg得た。 化合物7A FAB−MS(m/e,(C365537S+H)+
して):674 Rf値:0.46(ヘキサン:酢酸エチル=1:3) 化合物7B FAB−MS(m/e,(C365537S+H)+
して):674 Rf値:0.40(ヘキサン:酢酸エチル=1:3) (7)化合物8Aの合成 (6)で得られた化合物7A 7.5mgを、氷冷下T
FA 2.2mlに溶解し、そのまま15分間、更に室
温にて1.5時間撹拌した。TFAを減圧留去後、残渣
をジクロロメタン−メタノール−ヘキサンより再沈し、
化合物8A 5.1mgを得た。
FAB-MS (m / e, (C 27 H 38 N 2 O 6
S + H) as a +): 519 (6) Compound 7A, in methanol (1.0 ml) solution of the resulting amino acid derivative 29.7mg in the synthesis of 7B (5), sodium under ice-cooling 1N hydroxide solution 69μl and water 60μl And add 1.
Stir for 5 hours. 30 μl of 1N sodium hydroxide solution
Was added, and the mixture was stirred under ice cooling for another 1.5 hours. A saturated aqueous solution of sodium hydrogen carbonate was added to the reaction solution, followed by washing with ether and acidification of the solution with a 10% aqueous solution of citric acid. The organic matter was extracted with ethyl acetate, washed with water and saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was concentrated to dryness under reduced pressure to give 26.1 mg of white powder. This powder 26.1
mg, DNle-O t Bu · HCl 15.7mg and HOBT · H 2 O 11.6mg of DMF (0.5 m
l) To the solution, under ice cooling, 8.0 μl of NMM and EDCI.
HCl (14.2 mg) was added, and the mixture was stirred as it was for 30 minutes and further at room temperature for 3 hours. The solvent was evaporated under reduced pressure, the residue was dissolved in ethyl acetate, washed with 10% aqueous citric acid solution, saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution, water and saturated brine, and dried over anhydrous magnesium sulfate. The residue obtained by concentrating the solvent under reduced pressure was subjected to preparative thin-layer chromatography (Merck silica gel 60F 254 / benzene: ethyl acetate = 1: 1).
Separated and purified in 1). Of the diastereomers derived from the asymmetry of sulfoxides, the less polar one was identified as compound 7
A having a high polarity and compound 7B were designated as compound 7B to obtain 7.6 mg of compound 7A and 17.3 mg of compound 7B. Compound 7A FAB-MS (m / e, as (C 36 H 55 N 3 O 7 S + H) + ): 674 Rf value: 0.46 (hexane: ethyl acetate = 1: 3) Compound 7B FAB-MS (m / e, (as C 36 H 55 N 3 O 7 S + H) + ): 674 Rf value: 0.40 (hexane: ethyl acetate = 1: 3) (7) Synthesis of compound 8A Compound 7A obtained in (6) 7.5 mg of T under ice cooling
It was dissolved in 2.2 ml of FA and stirred for 15 minutes as it was, and further for 1.5 hours at room temperature. After the TFA was distilled off under reduced pressure, the residue was reprecipitated from dichloromethane-methanol-hexane,
5.1 mg of compound 8A was obtained.

【0122】融点:193−194℃1 H−NMR(300MHz,CDCl3,δppm):
0.66(3H,d,J=6.1Hz),0.71(3
H,d,J=6.1Hz),0.86(3H,t,J=
6.8Hz),1.08−1.33(8H,m),1.
52−1.72(6H,m),1.78−1.96(3
H,m),2.12−2.28(1H,m),2.50
(1H,dd,J=4.2Hz,12.9Hz),2.
59(1H,dd,J=8.7Hz,12.7Hz),
2.66−2.76(1H,m),2.93(1H,d
d,J=6.4Hz,12.9Hz),3.16−3.
39(3H,m),4.01(3H,s),4.36
(1H,dt,J=7.6Hz,4.5Hz),4.7
0(1H,ddd,J=4.2Hz,6.4Hz,7.
0Hz),6.53(1H,d,J=7.0Hz),
7.26(1H,t,J=7.8Hz),7.35(1
H,t,J=7.8Hz),7.51(1H,s),
7.62(1H,d,J=7.8Hz),7.72(1
H,d,J=7.8Hz),8.16(1H,d,J=
7.6Hz) (8)化合物8Bの合成 (6)で得られた化合物7Bを用い、(7)と同様の操
作を行うことにより、目的物を得た。
Melting point: 193-194 ° C. 1 H-NMR (300 MHz, CDCl 3 , δ ppm):
0.66 (3H, d, J = 6.1Hz), 0.71 (3
H, d, J = 6.1 Hz), 0.86 (3H, t, J =
6.8 Hz), 1.08-1.33 (8H, m), 1.
52-1.72 (6H, m), 1.78-1.96 (3
H, m), 2.12-2.28 (1H, m), 2.50
(1H, dd, J = 4.2Hz, 12.9Hz), 2.
59 (1H, dd, J = 8.7Hz, 12.7Hz),
2.66-2.76 (1H, m), 2.93 (1H, d
d, J = 6.4 Hz, 12.9 Hz), 3.16-3.
39 (3H, m), 4.01 (3H, s), 4.36
(1H, dt, J = 7.6Hz, 4.5Hz), 4.7
0 (1H, ddd, J = 4.2Hz, 6.4Hz, 7.
0Hz), 6.53 (1H, d, J = 7.0Hz),
7.26 (1H, t, J = 7.8Hz), 7.35 (1
H, t, J = 7.8 Hz), 7.51 (1H, s),
7.62 (1H, d, J = 7.8Hz), 7.72 (1
H, d, J = 7.8 Hz), 8.16 (1H, d, J =
7.6 Hz) (8) Synthesis of Compound 8B Using the compound 7B obtained in (6), the same operation as (7) was performed to obtain the target product.

【0123】融点:194−195℃1 H−NMR(300MHz,CDCl3,δppm):
0.76(3H,d,J=6.1Hz),0.78(3
H,d,J=5.4Hz),0.83(3H,t,J=
6.9Hz),1.14−1.29(8H,m),1.
52−1.70(6H,m),1.70−1.82(1
H,m),1.82−1.96(2H,m),2.22
(1H,sept,J=7.6Hz),2.54−2.
61(2H,m),2.83(1H,dd,J=6.0
Hz,12.7Hz),2.91−3.00(1H,
m),3.12(1H,t,J=12.0Hz),3.
21−3.33(2H,m),3.99(3H,s),
4.31(1H,dt,J=5.4Hz,7.4H
z),4.82(1H,ddd,J=4.9Hz,6.
0Hz,7.1Hz),7.10(1H,d,J=7.
1Hz),7.17(1H,d,J=7.4Hz),
7.25(1H,t,J=7.8Hz),7.33(1
H,t,J=7.8Hz),7.55(1H,s),
7.69(1H,d,J=7.8Hz),8.15(1
H,d,J=7.8Hz) 実施例5化合物9の合成 DTrp−OMe・HClを用いて、実施例4−(6)
と同様な反応を行い目的物を得た(スルホキシドの不斉
に由来するジアステレオマー比=1:3)。
Melting point: 194-195 ° C. 1 H-NMR (300 MHz, CDCl 3 , δ ppm):
0.76 (3H, d, J = 6.1Hz), 0.78 (3
H, d, J = 5.4 Hz), 0.83 (3H, t, J =
6.9 Hz), 1.14 to 1.29 (8H, m), 1.
52-1.70 (6H, m), 1.70-1.82 (1
H, m), 1.82-1.96 (2H, m), 2.22.
(1H, sept, J = 7.6 Hz), 2.54-2.
61 (2H, m), 2.83 (1H, dd, J = 6.0)
Hz, 12.7 Hz), 2.91-3.00 (1H,
m), 3.12 (1H, t, J = 12.0 Hz), 3.
21-3.33 (2H, m), 3.99 (3H, s),
4.31 (1H, dt, J = 5.4Hz, 7.4H
z), 4.82 (1H, ddd, J = 4.9 Hz, 6.
0 Hz, 7.1 Hz), 7.10 (1H, d, J = 7.
1Hz), 7.17 (1H, d, J = 7.4Hz),
7.25 (1H, t, J = 7.8Hz), 7.33 (1
H, t, J = 7.8 Hz), 7.55 (1H, s),
7.69 (1H, d, J = 7.8Hz), 8.15 (1
H, d, J = 7.8 Hz) Example 5 Synthesis of compound 9 Using DTrp-OMe.HCl, Example 4- (6)
The target compound was obtained by carrying out the same reaction as described above (diastereomer ratio derived from asymmetry of sulfoxide = 1: 3).

【0124】融点:174−179℃ IR(KBr,cm-1):3298,2956,174
3,1662,1539,1461,1386,126
0,1224,1092,1020,744 高分解能FAB−MS(m/e,(C384847S+
H)+として): 計算値 705.3322 測定値 705.33361 H−NMR(300MHz,CDCl3,δppm):
0.64+0.73(3H,d×2,J=6.3Hz,
4.9Hz),0.68+0.75(3H,d×2,J
=6.4Hz,5.4Hz),0.85−1.31(4
H,m),1.43−1.92(7H,m),2.12
−2.29(1H,m),2.40−2.58(2H,
m),2.70−3.01(4H,m),3.10−
3.34(3H,m),3.63+3.67(3H,s
×2),3.97(3H,s),4.82(2H,d
t,J=7.4Hz,5.4Hz),5.90−6.0
8+6.26−6.41(1H,m×2),6.73−
6.80(1H,m),6.87(1H,brs),
7.06(1H,t,J=7.5Hz),7.15(1
H,t,J=7.5Hz),7.24(1H,t,J=
7.8Hz),7.29−7.51(3H,m),7.
53−7.61(2H,m),8.15(1H,d,J
=7.8Hz),8.71−8.76+8.78−8.
85(1H,brs×2) 実施例6化合物10の合成 実施例4−(5)で得られた(2S)−2−[(RS)
−シクロペンチルメチルチオスルフィニルメチル]−4
−メチルペンタノイル−DTrp(COOMe)−OM
e 50mgのジオキサン(0.8ml)溶液に、室温
にて1N水酸化ナトリウム水溶液0.39mlを加え、
そのまま2時間撹拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリ
ウム水溶液を加え、エーテルにて洗浄後、水層を10%
クエン酸水溶液にて酸性とし、酢酸エチルにて抽出し
た。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムにて乾燥した。この溶液を減圧濃縮乾固するこ
とにより、(2S)−2−[(RS)−シクロペンチル
メチルチオスルフィニルメチル]−4−メチルペンタノ
イル−DTrp−OH 45.9mgを得た。このもの
に、実施例1−(5)、(6)と同様の反応を行い目的
物を得た(スルホキシドの不斉に由来するジアステレオ
マー比=1:3)。
Melting point: 174-179 ° C. IR (KBr, cm −1 ): 3298, 2956, 174
3,1662, 1539, 1461, 1386, 126
0,1224,1092,1020,744 High resolution FAB-MS (m / e, (C 38 H 48 N 4 O 7 S +
H) + ): Calculated value 705.3322 Measured value 705.3336 1 H-NMR (300 MHz, CDCl 3 , δppm):
0.64 + 0.73 (3H, d × 2, J = 6.3 Hz,
4.9 Hz), 0.68 + 0.75 (3H, d × 2, J
= 6.4 Hz, 5.4 Hz), 0.85-1.31 (4
H, m), 1.43-1.92 (7H, m), 2.12
-2.29 (1H, m), 2.40-2.58 (2H,
m), 2.70-3.01 (4H, m), 3.10-
3.34 (3H, m), 3.63 + 3.67 (3H, s
X2), 3.97 (3H, s), 4.82 (2H, d)
t, J = 7.4 Hz, 5.4 Hz), 5.90-6.0.
8 + 6.26-6.41 (1H, m × 2), 6.73−
6.80 (1H, m), 6.87 (1H, brs),
7.06 (1H, t, J = 7.5Hz), 7.15 (1
H, t, J = 7.5 Hz), 7.24 (1H, t, J =
7.8 Hz), 7.29-7.51 (3H, m), 7.
53-7.61 (2H, m), 8.15 (1H, d, J
= 7.8 Hz), 8.71-8.76 + 8.78-8.
85 (1H, brs × 2) Example 6 Synthesis of compound 10 (2S) -2-[(RS) obtained in Example 4- (5)
-Cyclopentylmethylthiosulfinylmethyl] -4
-Methylpentanoyl-DTrp (COOMe) -OM
e To a solution of 50 mg of dioxane (0.8 ml) was added 0.39 ml of 1N sodium hydroxide aqueous solution at room temperature,
The mixture was stirred as it was for 2 hours. A saturated aqueous solution of sodium hydrogen carbonate was added to the reaction solution, and the mixture was washed with ether, and then the aqueous layer was washed with 10%.
The mixture was acidified with an aqueous citric acid solution and extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with water and saturated saline and dried over anhydrous magnesium sulfate. The solution was concentrated under reduced pressure to dryness to obtain (2S) -2-[(RS) -cyclopentylmethylthiosulfinylmethyl] -4-methylpentanoyl-DTrp-OH (45.9 mg). This product was subjected to the same reactions as in Examples 1- (5) and (6) to obtain the desired product (diastereomer ratio derived from asymmetry of sulfoxide = 1: 3).

【0125】融点:133−139℃ IR(KBr,cm-1):3412,3058,295
6,2872,1731,1662,1521,146
1,1341,1233,1014,741 高分解能FAB−MS(m/e,(C354445S+
H)+として): 計算値 633.3111 測定値 633.31211 H−NMR(300MHz,DMSO−d6,δpp
m):0.57(3H,d,J=5.9Hz),0.6
4(3H,d,J=6.1Hz),0.89−0.95
(1H,m),0.95−1.02(1H,m),1.
06−1.15(3H,m),1.18−1.28(4
H,m),1.83−1.90(2H,m),2.02
−2.16(1H,m),2.36−2.97(6H,
m),3.04−3.51(3H,m),4.41−
4.52(1H,m),4.54−4.65(1H,
m),6.92−7.08(4H,m),7.11(1
H,brs),7.17(1H,brs),7.29
(1H,d,J=8.0Hz),7.32(1H,d,
J=8.0Hz),7.52(1H,d,J=8.0H
z),7.58(1H,d,J=8.0Hz),8.1
3(1H,d,J=7.3Hz),8.34(1H,
d,J=8.3Hz),10.76(1H,s),1
0.83(1H,s),12.40−12.50(1
H,brs)
Melting point: 133-139 ° C. IR (KBr, cm −1 ): 3412, 3058, 295
6,2872,1731,1662,1521,146
1,1341,1233,1014,741 High resolution FAB-MS (m / e, (C 35 H 44 N 4 O 5 S +
H) + ): Calculated value 633.3111 Measured value 633.3121 1 H-NMR (300 MHz, DMSO-d 6 , δpp.
m): 0.57 (3H, d, J = 5.9Hz), 0.6
4 (3H, d, J = 6.1Hz), 0.89-0.95
(1H, m), 0.95-1.02 (1H, m), 1.
06-1.15 (3H, m), 1.18-1.28 (4
H, m), 1.83-1.90 (2H, m), 2.02
-2.16 (1H, m), 2.36-2.97 (6H,
m), 3.04-3.51 (3H, m), 4.41-
4.52 (1H, m), 4.54-4.65 (1H,
m), 6.92-7.08 (4H, m), 7.11 (1
H, brs), 7.17 (1H, brs), 7.29
(1H, d, J = 8.0 Hz), 7.32 (1H, d,
J = 8.0 Hz), 7.52 (1H, d, J = 8.0H)
z), 7.58 (1H, d, J = 8.0 Hz), 8.1
3 (1H, d, J = 7.3Hz), 8.34 (1H,
d, J = 8.3 Hz), 10.76 (1H, s), 1
0.83 (1H, s), 12.40-12.50 (1
H, brs)

【0126】[0126]

【発明の効果】本発明の化合物は、内在性の生理活性ペ
プチドであるエンドセリンに対して強い拮抗作用を有す
ることから、抗エンドセリン剤として有用であり、更に
エンドセリンが関与する血管及び気管筋収縮作用に拮抗
する薬剤として、ひいてはヒトの高血圧症、肺高血圧
症、レイノー病、気管支喘息、動脈硬化症、急性腎不
全、心筋梗塞、狭心症、脳梗塞、脳血管攣縮、胃潰瘍及
び糖尿病の治療薬として有用である。また、エンドトキ
シンショック、エンドトキシン起因の多臓器不全若しく
は播種性血管内凝固更にシクロスポリン誘発の腎障害及
び高血圧等の治療薬としても有用である。
INDUSTRIAL APPLICABILITY The compound of the present invention has a strong antagonistic effect on endothelin, which is an endogenous physiologically active peptide, and is therefore useful as an anti-endothelin agent. Further, it has an action of contracting blood vessels and tracheal muscle in which endothelin is involved. As a drug that antagonizes, eventually, a therapeutic drug for human hypertension, pulmonary hypertension, Raynaud's disease, bronchial asthma, arteriosclerosis, acute renal failure, myocardial infarction, angina, cerebral infarction, cerebral vasospasm, gastric ulcer and diabetes Is useful as It is also useful as a therapeutic drug for endotoxin shock, multi-organ failure caused by endotoxin, disseminated intravascular coagulation, and cyclosporine-induced renal damage and hypertension.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 A61K 31/22 8413−4C 31/27 8413−4C 31/40 7252−4C 31/42 7252−4C 31/66 ADP 8314−4C 37/02 AAM ABN ABR ABS ABU 8314−4C ABX ACD ACL ACV C07D 209/14 9283−4C 209/18 9283−4C 209/20 9283−4C 261/10 (72)発明者 新山 健治 東京都目黒区下目黒2丁目9番3号 萬有 製薬株式会社中央研究所内 (72)発明者 伊原 正樹 東京都目黒区下目黒2丁目9番3号 萬有 製薬株式会社中央研究所内 (72)発明者 矢野 光夫 東京都目黒区下目黒2丁目9番3号 萬有 製薬株式会社中央研究所内─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification code Office reference number FI Technical indication location A61K 31/22 8413-4C 31/27 8413-4C 31/40 7252-4C 31/42 7252-4C 31/66 ADP 8314-4C 37/02 AAM ABN ABR ABS ABU 8314-4C ABX ACD ACL ACV C07D 209/14 9283-4C 209/18 9283-4C 209/20 9283-4C 261/10 (72) Inventor Niiyama Kenji 2-9-3 Shimomeguro, Meguro-ku, Tokyo Banyu Pharmaceutical Co., Ltd. Central Research Institute (72) Inventor Masaki Ihara 2-3-9 Shimomeguro, Meguro-ku, Tokyo Manari Central Research Institute (72) ) Inventor Mitsuo Yano 2-9-3 Shimomeguro, Meguro-ku, Tokyo Manyu Pharmaceutical Co., Ltd. Central Research Laboratory

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】一般式 【化1】 {式中、R1は低級アルキル基、シクロアルキル基、シ
クロアルキル低級アルキル基、アラルキル基、アリール
基、5〜10員の複素環基又は5〜10員の複素環低級
アルキル基(該低級アルキル基、シクロアルキル基、シ
クロアルキル低級アルキル基、アラルキル基、アリール
基、5〜10員の複素環基及び5〜10員の複素環低級
アルキル基は、それぞれ独立に、それらの鎖上及び/又
は環上に低級アルキル基、ハロゲン原子、水酸基、低級
アルコキシ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、シア
ノ基、ホルミル基、低級アルカノイル基、カルボキシル
基、低級アルコキシカルボニル基、アミノ基、モノ低級
アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、ホルミル
アミノ基、アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、
カルバモイル基、N−モノ低級アルキルカルバモイル基
又はN,N−ジ低級アルキルカルバモイル基、メルカプ
ト基、低級アルキルチオ基又は低級アルカノイルチオ基
を有していてもよい)を示し;pは0〜2の整数を示
し;A1は単結合又は低級アルキル基で置換されていて
もよい2価の低級アルキレン基を示し;R2は低級アル
キル基、シクロアルキル基、シクロアルキル低級アルキ
ル基、アラルキル基、アリール基、5〜10員の複素環
基又は5〜10員の複素環低級アルキル基を示し;X1
は酸素原子又は式:−NR3−[式中、R3は水素原子又
は低級アルキル基を示す]で表される基を示し;R4
5〜10員の複素環低級アルキル基[該5〜10員の複
素環低級アルキル基は、その環上に低級アルキル又は
式:R41−CO−(CH2q−(式中、R41は水素原
子、低級アルキル基、水酸基、低級アルコキシ基、アラ
ルキルオキシ基、アミノ基、モノ低級アルキルアミノ基
又はジ低級アルキルアミノ基を示し;qは0〜6の整数
を示す)で表される基を有していてもよい]又はアリー
ル低級アルキル基[該アリール低級アルキル基は、その
環上にニトロ基、式:R42−CO−(CH2r−(式
中、R42は低級アルキル基、低級アルコキシ基、アミノ
基、モノ低級アルキルアミノ基又はジ低級アルキルアミ
ノ基を示し、rは0〜6の整数を示す)で表される基、
式:R42−CO−X2−(式中、R42は前記の意味を有
し、X2は酸素原子又は式:−NR43−(式中、R43
水素原子又は低級アルキル基を示す)で表される基又は
式:R44O−(CH2s−(式中、R44は水素原子又は
低級アルキル基を示し、sは0〜6の整数を示す)で表
される基を有していてもよい]を示し;X3は酸素原子
又は硫黄原子を示し;A2は下記一般式[II]〜[V
II]で表される基よりなる群から選ばれる任意の基を
示す。 【化2】 [式中、Yはヒドロキシ低級アルキル基、スルホ基、ホ
スホノ基、式:−CO281(式中、R81は水素原子又
はカルボキシ保護基を示す)で表される基又は式:−C
ONR8283(式中、R82及びR83はそれぞれ独立に水
素原子、低級アルキル基、低級アルキルスルホニル基、
ベンゼン環上の任意の1〜5個の水素原子がそれぞれ独
立に低級アルキル基若しくはハロゲン原子で置換されて
いてもよいフェニルスルホニル基又はカルボキシ低級ア
ルキル基を示す)で表される基を示し;R51は水素原子
又は低級アルキル基を示すか、或は下記R61と一緒にな
ってメチレン基を示し;R53、R61及びR62はそれぞれ
独立に水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、
アリール基、アリール低級アルキル基、5〜10員の複
素環基又は5〜10員の複素環低級アルキル基(該低級
アルキル基、低級アルケニル基、アリール基、アリール
低級アルキル基、5〜10員の複素環基及び複素環低級
アルキル基は、それぞれ独立にそれらの鎖上及び/又は
環上に水酸基、低級アルキル基、ハロゲン原子、低級ア
ルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、カル
ボキシル基、保護されたカルボキシル基、アミノ基、モ
ノアルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、カルバ
モイル基、N−モノ低級アルキルカルバモイル基、N,
N−ジ低級アルキルアミノ基、低級アルコキシカルボニ
ルアミノ基又はアリールオキシカルボニルアミノ基を有
していてもよい)を示し、更にR61はR51と一緒になっ
てメチレン基を示すこともでき、R62は下記R52と一緒
になってメチレン基を示すことができ(但し、R51が低
級アルキル基を示す場合、R61は水素原子以外の基を示
し、R52が水素原子以外の基を示す場合、R62は水素原
子又は低級アルキル基を示す);R52は水素原子、アリ
ール基、アラルキル基、カルボキシル基、カルバモイル
基、N−モノ低級アルキルカルバモイル基、N,N−ジ
低級アルキルカルバモイル基又はN−アリールカルバモ
イル基を示すか、或はR7と一緒になって単結合を示
し;R7は水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ
基又は水酸基を示すか、或はR52と一緒になって単結合
を示し、tは2〜6の整数を示し;ZはCH又はNを示
し;vは1〜3の整数を示す]}で表される化合物又は
その製薬上許容される塩。
1. A general formula: {In the formula, R 1 is a lower alkyl group, a cycloalkyl group, a cycloalkyl lower alkyl group, an aralkyl group, an aryl group, a 5-10 membered heterocyclic group or a 5-10 membered heterocyclic lower alkyl group (the lower alkyl Group, cycloalkyl group, cycloalkyl lower alkyl group, aralkyl group, aryl group, 5- to 10-membered heterocyclic group and 5- to 10-membered heterocyclic lower alkyl group, each independently on their chain and / or Lower alkyl group, halogen atom, hydroxyl group, lower alkoxy group, nitro group, trifluoromethyl group, cyano group, formyl group, lower alkanoyl group, carboxyl group, lower alkoxycarbonyl group, amino group, mono-lower alkylamino group on the ring , Di-lower alkylamino group, formylamino group, alkanoylamino group, aroylamino group,
Carbamoyl group, N-mono-lower alkylcarbamoyl group or N, N-di-lower alkylcarbamoyl group, mercapto group, lower alkylthio group or lower alkanoylthio group may be present); p is an integer of 0 to 2; A 1 represents a single bond or a divalent lower alkylene group which may be substituted with a lower alkyl group; R 2 represents a lower alkyl group, a cycloalkyl group, a cycloalkyl lower alkyl group, an aralkyl group or an aryl group. A 5- to 10-membered heterocyclic group or a 5- to 10-membered heterocyclic lower alkyl group; X 1
Represents an oxygen atom or a group represented by the formula: —NR 3 — [wherein, R 3 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group]; R 4 represents a 5- to 10-membered heterocyclic lower alkyl group [5 The 10-membered heterocyclic lower alkyl group is a lower alkyl on the ring or has the formula: R 41 —CO— (CH 2 ) q — (wherein R 41 is a hydrogen atom, a lower alkyl group, a hydroxyl group, a lower alkoxy group). , An aralkyloxy group, an amino group, a mono-lower alkylamino group or a di-lower alkylamino group; q represents an integer of 0 to 6)] or an aryl-lower alkyl group [The aryl lower alkyl group has a nitro group on its ring, a compound represented by the formula: R 42 —CO— (CH 2 ) r — (wherein R 42 is a lower alkyl group, a lower alkoxy group, an amino group, a mono-lower alkylamino group. A group or a di-lower alkylamino group, r is Groups represented by 6 an integer of)
Formula: R 42 —CO—X 2 — (In the formula, R 42 has the above meaning, X 2 is an oxygen atom or a formula: —NR 43 — (In the formula, R 43 is a hydrogen atom or a lower alkyl group. represented by (wherein, R 44 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group, s is an integer of 0~6) - R 44 O- (CH 2) s: group or the formula represented by shown) May have a group]; X 3 represents an oxygen atom or a sulfur atom; A 2 represents the following general formulas [II] to [V
II] represents an arbitrary group selected from the group consisting of groups represented by [II]. [Chemical 2] [In the formula, Y is a hydroxy lower alkyl group, a sulfo group, a phosphono group, a group represented by the formula: -CO 2 R 81 (wherein R 81 represents a hydrogen atom or a carboxy protecting group) or a formula: -C
ONR 82 R 83 (wherein R 82 and R 83 are each independently a hydrogen atom, a lower alkyl group, a lower alkylsulfonyl group,
R represents a group represented by any one to five hydrogen atoms on the benzene ring each independently represent a lower alkyl group or a phenylsulfonyl group or a carboxy lower alkyl group which may be substituted with a halogen atom); 51 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group, or represents a methylene group together with R 61 below; R 53 , R 61 and R 62 each independently represent a hydrogen atom, a lower alkyl group, a lower alkenyl group,
Aryl group, aryl lower alkyl group, 5-10 membered heterocyclic group or 5-10 membered heterocyclic lower alkyl group (the lower alkyl group, lower alkenyl group, aryl group, aryl lower alkyl group, 5-10 membered heterocyclic group The heterocyclic group and the heterocyclic lower alkyl group each independently have a hydroxyl group, a lower alkyl group, a halogen atom, a lower alkoxy group, an aryloxy group, an acyloxy group, a carboxyl group, or a protected group on the chain and / or the ring thereof. Carboxyl group, amino group, monoalkylamino group, di-lower alkylamino group, carbamoyl group, N-mono-lower alkylcarbamoyl group, N,
N-di-lower alkylamino group, lower alkoxycarbonylamino group or aryloxycarbonylamino group), and R 61 together with R 51 may represent a methylene group. 62 together with R 52 below may represent a methylene group (provided that when R 51 represents a lower alkyl group, R 61 represents a group other than a hydrogen atom and R 52 represents a group other than a hydrogen atom). R 62 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group when indicated); R 52 represents a hydrogen atom, an aryl group, an aralkyl group, a carboxyl group, a carbamoyl group, an N-mono-lower alkylcarbamoyl group, or an N, N-di-lower alkylcarbamoyl group. or a group or N- arylcarbamoyl, or represents a single bond together with R 7; or R 7 is a hydrogen atom, a lower alkyl group, a lower alkoxy group or a hydroxyl group , Or R 52 , together with R 52 , represents a single bond, t represents an integer of 2 to 6; Z represents CH or N; v represents an integer of 1 to 3]} or A pharmaceutically acceptable salt thereof.
【請求項2】R1が低級アルキル基、低級アルキル基で
置換されていてもよいシクロアルキル基、低級アルキル
基で置換されていてもよいシクロアルキル低級アルキル
基、アリール基、アラルキル基、5〜10員のヘテロア
リール基又は5〜10員のヘテロアリール低級アルキル
基(該アリール基、アラルキル基、ヘテロアリール基及
びヘテロアリール低級アルキル基は、それらの環上に、
低級アルキル基、ハロゲン原子、水酸基、低級アルコキ
シ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、シアノ基、ホ
ルミル基、低級アルカノイル基、カルボキシル基、低級
アルコキシカルボニル基、アミノ基、ホルミルアミノ
基、低級アルカノイルアミノ基、カルバモイル基、N−
モノ低級アルキルカルバモイル基、N,N−ジ低級アル
キルカルバモイル基、メルカプト基及び低級アルキルチ
オ基からなる群から選ばれる同一又は異なる1〜5個の
置換基を有していてもよい)であり;A1は単結合であ
るか又は低級アルキル基で置換されていてもよい炭素数
1〜3個の2価のアルキレン基であり;R2は低級アル
キル基、シクロアルキル基、シクロアルキル低級アルキ
ル基、アリール基、5〜10員のヘテロアリール基、ア
リール低級アルキル基、5〜10員のヘテロアリール低
級アルキル基であり;R4はインドール環1位が、低級
アルキル基若しくは式:R41−CO−(CH2q−(式
中、R41は水素原子、低級アルキル基、水酸基、低級ア
ルコキシ基、ベンジルオキシ基、アミノ基、モノ低級ア
ルキルアミノ基又はジ低級アルキルアミノ基であり、q
は0〜6である)で表される基で置換されていてもよい
3−インドリルメチル基、3−ベンゾチエニルメチル
基、(1−オキソ−3−ベンゾチエニル)メチル基、
(1,1−ジオキソ−3−ベンゾチエニル)メチル基、
ナフチルメチル基、アリール低級アルキル基又は単環性
ヘテロアリール低級アルキル基(該アリール低級アルキ
ル基及び単環性ヘテロアリール低級アルキル基は、環上
にニトロ基、式:R43−CO−(CH2r−(式中、R
43は低級アルキル基、低級アルコキシ基、アミノ基、モ
ノ低級アルキルアミノ基又はジ低級アルキルアミノ基で
あり、rは0〜6の整数である)で表される基、式:R
43−CO−X2−[式中、R43は前記の意味を有し、X2
は酸素原子又は式:−NR44−(式中、R44は水素原子
又は低級アルキル基である)で表される基又は式:R45
O−(CH2s−(式中、R45は水素原子又は低級アル
キル基であり、sは0〜6の整数である)で表される基
を有していてもよい]であり;Aは下記一般式[II]
〜[VII]で表される基よりなる群から選ばれる任意
の基である。 【化3】 [式中、Yはヒドロキシメチル基、スルホ基、ホスホノ
基、式:−CO281(式中、R81は水素原子、低級ア
ルキル基又はベンジル基である)で表される基又は式:
−CO NR8283(式中、R82は水素原子、低級アルキ
ル基、低級アルキルスルホニル基、ベンゼン環上の任意
の1〜5個の水素原子がそれぞれ独立して低級アルキル
基若しくはハロゲン原子で置換されていてもよいフェニ
ルスルホニル基又はカルボキシメチル基であり、R83
水素原子又は低級アルキル基である)で表される基であ
り;R51は水素原子又は低級アルキル基であるか又は下
記のR61と一緒になってメチレン基であり;R61は水素
原子、水酸基、低級アルコキシ基若しくは低級アルキル
チオ基で置換されていてもよい低級アルキル基、低級ア
ルケニル基、フェニル基、チエニル基、チアゾリル基、
ピリジル基、ベンゼン環上の任意の水素原子が水酸基、
アミノ基、モノ低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキル
アミノ基若しくはベンジルオキシ基で置換されていても
よいフェニル低級アルキル基、チエニル低級アルキル
基、チアゾリル低級アルキル基、ピリジル低級アルキル
基、イミダゾリル低級アルキル基、インドリル低級アル
キル基、カルバモイル低級アルキル基又はN−ベンジル
オキシカルボニル−ω−アミノ低級直鎖アルキル基であ
るか或はR51と一緒になってメチレン基であり(但し、
51が低級アルキル基である場合、R61は水素原子以外
の基である);R52は水素原子、フェニル基、ベンジル
基、カルボキシル基、カルバモイル基又はN−フェニル
カルバモイル基であるか或はR7と一緒になって単結合
であり;R62は水素原子、低級アルキル基、フェニル低
級アルキル基、チエニル低級アルキル基、チアゾリル低
級アルキル基、ピリジル低級アルキル基、インドリル低
級アルキル基、フェニル基、カルバモイル基又はN−フ
ェニルカルバモイル基であり(但し、R52が水素原子以
外の基である場合、R62は水素原子又は低級アルキル基
である);R53は水素原子、低級アルキル基、カルボキ
シ低級アルキル基、式:Ar−(CH2u−(式中、A
rはフェニル基、フリル基、チエニル基であり、uは1
又は2である)で表される基]}である請求項1記載の
化合物又はその製薬上許容される塩。
2. R1Is a lower alkyl group, a lower alkyl group
Optionally substituted cycloalkyl group, lower alkyl
Cycloalkyl lower alkyl optionally substituted with groups
Group, aryl group, aralkyl group, 5-10 membered heteroar group
Reel group or 5-10 membered heteroaryl lower alkyl
Group (the aryl group, aralkyl group, heteroaryl group and
And heteroaryl lower alkyl groups are on their rings,
Lower alkyl group, halogen atom, hydroxyl group, lower alkoxy
Si group, nitro group, trifluoromethyl group, cyano group,
Rumil group, lower alkanoyl group, carboxyl group, lower
Alkoxycarbonyl group, amino group, formylamino
Group, lower alkanoylamino group, carbamoyl group, N-
Mono-lower alkylcarbamoyl group, N, N-di-lower alkyl
Kircarbamoyl group, mercapto group and lower alkyl group
1 to 5 identical or different selected from the group consisting of
A may have a substituent);1Is a single bond
Or the number of carbon atoms that may be substituted with a lower alkyl group
1 to 3 divalent alkylene groups; R2Is lower al
Kill group, cycloalkyl group, cycloalkyl lower alk
Group, aryl group, 5- to 10-membered heteroaryl group,
Lille lower alkyl group, 5-10 membered heteroaryl low
A primary alkyl group; RFourIs indole ring 1st position is lower
Alkyl group or formula: R41-CO- (CH2)q− (Expression
Medium, R41Is a hydrogen atom, lower alkyl group, hydroxyl group,
Lucoxy group, benzyloxy group, amino group, mono-lower group
A alkylamino group or a di-lower alkylamino group, q
Is 0 to 6), and may be substituted with a group represented by
3-indolylmethyl group, 3-benzothienylmethyl group
Group, (1-oxo-3-benzothienyl) methyl group,
(1,1-dioxo-3-benzothienyl) methyl group,
Naphthylmethyl group, aryl lower alkyl group or monocyclic
Heteroaryl lower alkyl group (the aryl lower alkyl
Group and monocyclic heteroaryl lower alkyl group are on the ring.
Nitro group, formula: R43-CO- (CH2)r-(In the formula, R
43Is a lower alkyl group, a lower alkoxy group, an amino group,
A lower alkylamino group or a dilower alkylamino group
And r is an integer of 0 to 6), a group represented by the formula: R
43-CO-X2-[Wherein R43Has the above meaning, X2
Is an oxygen atom or a formula: -NR44-(In the formula, R44Is a hydrogen atom
Or a lower alkyl group) or a group represented by the formula: R45
O- (CH2)s-(In the formula, R45Is a hydrogen atom or lower alkyl
And a s is an integer of 0 to 6)
May have the following formula]; A is the following general formula [II]
~ Any selected from the group consisting of groups represented by [VII]
It is the basis of [Chemical 3][Wherein Y is a hydroxymethyl group, a sulfo group, a phosphono group]
Group, formula: -CO2R81(In the formula, R81Is a hydrogen atom,
A group or formula represented by the formula:
-CO NR82R83(In the formula, R82Is a hydrogen atom, lower alk
Group, lower alkylsulfonyl group, optional on benzene ring
1 to 5 hydrogen atoms of are independently lower alkyl
A phenyl group optionally substituted by a group or a halogen atom
Is a sulfonyl group or a carboxymethyl group, R83Is
A hydrogen atom or a lower alkyl group)
R; R51Is a hydrogen atom or a lower alkyl group or
R of note61Together with is a methylene group; R61Is hydrogen
Atom, hydroxyl group, lower alkoxy group or lower alkyl
A lower alkyl group optionally substituted with a thio group, a lower alkyl group
Lucenyl group, phenyl group, thienyl group, thiazolyl group,
Pyridyl group, any hydrogen atom on the benzene ring is a hydroxyl group,
Amino group, mono-lower alkylamino group, di-lower alkyl
Even if it is substituted with an amino group or a benzyloxy group
Good phenyl lower alkyl group, thienyl lower alkyl
Group, thiazolyl lower alkyl group, pyridyl lower alkyl
Group, imidazolyl lower alkyl group, indolyl lower alkyl group
Kill group, carbamoyl lower alkyl group or N-benzyl
Oxycarbonyl-ω-amino lower linear alkyl group
R or R51Together with is a methylene group (however,
R51Is a lower alkyl group, R61Is other than hydrogen atom
R); R52Is hydrogen atom, phenyl group, benzyl
Group, carboxyl group, carbamoyl group or N-phenyl
A carbamoyl group or R7Single bond with
And R62Is hydrogen atom, lower alkyl group, low phenyl
Primary alkyl group, thienyl lower alkyl group, thiazolyl low
Primary alkyl group, pyridyl lower alkyl group, indolyl low
Grade alkyl group, phenyl group, carbamoyl group or N-phenyl group
A phenylcarbamoyl group (provided that R is52Is hydrogen atom or more
R is an external group62Is a hydrogen atom or a lower alkyl group
R;53Is a hydrogen atom, lower alkyl group, carboxy
Si lower alkyl group, formula: Ar- (CH2)u-(In the formula, A
r is a phenyl group, a furyl group or a thienyl group, and u is 1
Or a group represented by 2]]}.
A compound or a pharmaceutically acceptable salt thereof.
【請求項3】請求項1記載の化合物又はその製薬上許容
される塩を含有することを特徴とするエンドセリン拮抗
剤。
3. An endothelin antagonist, which comprises the compound according to claim 1 or a pharmaceutically acceptable salt thereof.
【請求項4】請求項1記載の一般式[I]で表されるペ
プチド誘導体又はその製薬上許容される塩を含有するこ
とを特徴とする高血圧、肺高血圧、レイノー病、急性腎
不全、心筋梗塞、狭心症、脳梗塞、脳血管攣縮、動脈硬
化症、気管支喘息、胃潰瘍、糖尿病、エンドトキシンシ
ョック、エンドトキシンを起因とする多臓器不全や播種
性血管内凝固及び/又はシクロスポリン誘発の腎障害や
高血圧等の治療薬。
4. Hypertension, pulmonary hypertension, Raynaud's disease, acute renal failure, myocardium, which comprises the peptide derivative represented by the general formula [I] or the pharmaceutically acceptable salt thereof according to claim 1. Infarction, angina, cerebral infarction, cerebral vasospasm, arteriosclerosis, bronchial asthma, gastric ulcer, diabetes, endotoxin shock, multi-organ failure caused by endotoxin, disseminated intravascular coagulation and / or cyclosporine-induced renal damage, Remedy for high blood pressure.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0626174A2 (en) 1993-04-21 1994-11-30 Takeda Chemical Industries, Ltd. Methods and compositions for the prophylactic and/or therapeutic treatment of organ hypofunction
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US6147051A (en) * 1993-04-21 2000-11-14 Takeda Chemical Industries Ltd. Methods and compositions for the prophylactic and/or therapeutic treatment of organ hypofunction
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