JPH05175331A - Adhesive sheet for dicing of semiconductor wafer - Google Patents

Adhesive sheet for dicing of semiconductor wafer

Info

Publication number
JPH05175331A
JPH05175331A JP32503991A JP32503991A JPH05175331A JP H05175331 A JPH05175331 A JP H05175331A JP 32503991 A JP32503991 A JP 32503991A JP 32503991 A JP32503991 A JP 32503991A JP H05175331 A JPH05175331 A JP H05175331A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pressure
sensitive adhesive
adhesive sheet
semiconductor wafer
dicing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP32503991A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshio Ochiai
敏男 落合
Yutaka Onose
豊 小野瀬
Kazuharu Sasaki
和治 佐々木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Kakoh Seishi KK
Original Assignee
Nippon Kakoh Seishi KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Kakoh Seishi KK filed Critical Nippon Kakoh Seishi KK
Priority to JP32503991A priority Critical patent/JPH05175331A/en
Publication of JPH05175331A publication Critical patent/JPH05175331A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PURPOSE:To provide an adhesive sheet for preventing circuits formed on the surface of a wafer from damage due to static electricity caused by cutting water or cleaning water jetted under high pressure when the semiconductor wafer is diced or cleaned. CONSTITUTION:An adhesive sheet for a semiconductor wafer includes an adhesive layer on a surface substrate made of a layer consisting of at least internal plasticized polyvinyl chloride film with a low electrical resistance.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、シリコンやガリウムヒ
素などの半導体ウエハをダイシングによりチップ化する
時に使用するウエハダイシング用粘着シートに関するも
のであって、特にダイシング時や洗浄時に高圧噴射され
る切削水や洗浄水によって発生する静電気でウエハチッ
プ表面の回路を破壊したり変質させたりすることを防ぐ
ことができる半導体ウエハダイシング用粘着シートに関
するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a pressure-sensitive adhesive sheet for wafer dicing, which is used when a semiconductor wafer such as silicon or gallium arsenide is diced into chips, and is particularly used for high-pressure cutting during dicing or cleaning. The present invention relates to a pressure-sensitive adhesive sheet for semiconductor wafer dicing, which can prevent the circuit on the surface of a wafer chip from being destroyed or altered by static electricity generated by water or cleaning water.

【0002】[0002]

【従来の技術】シリコンやガリウムヒ素などの半導体ウ
エハをウエハチップに分離するために半導体ウエハをあ
らかじめ粘着シートに貼着固定し、その後にダイシン
グ、洗浄、乾燥、エキスパンド、ピックアップ、マウン
ティング工程がとられているが、ダイシング、洗浄およ
び乾燥工程中ではウエハチップが脱離飛散したり、ピッ
クアップ工程では逆に粘着シートからウエハチップが剥
がれないといった問題が発生している。また、近年集積
度が高くなりウエハチップの面積が大きくなるにつれて
ピックアップがますます困難になってきている。
2. Description of the Related Art In order to separate a semiconductor wafer such as silicon or gallium arsenide into wafer chips, the semiconductor wafer is previously attached and fixed to an adhesive sheet, and then dicing, washing, drying, expanding, picking up and mounting steps are performed. However, during the dicing, cleaning and drying steps, the wafer chips are detached and scattered, and in the pickup step, on the contrary, the wafer chips are not peeled off from the adhesive sheet. In addition, pickup has become more difficult as the degree of integration increases and the area of wafer chips increases in recent years.

【0003】これらの問題点を解決するために、紫外線
硬化型粘着シートを使用するようになってきたが、これ
らの粘着シートは電気抵抗値が高く、ダイシングや洗浄
時に使用する切削水や洗浄水によって発生する静電気を
除去することができないという問題点がある。これに対
し、切削水や洗浄水の中に静電気の発生を抑える添加剤
を加えたり、また、発生した静電気を除くためにダイシ
ング装置に除電器を取りつけたりする方法もとられてい
るが、必ずしも十分な効果が上がらなかったり、また、
ウエハチップの表面の回路を破壊したり、あるいは変質
させたりして、ウエハチップに悪影響を与えている。
In order to solve these problems, UV-curable pressure-sensitive adhesive sheets have come to be used, but these pressure-sensitive adhesive sheets have a high electric resistance value, and cutting water and cleaning water used during dicing and cleaning. There is a problem that the static electricity generated by this cannot be removed. On the other hand, a method of adding an additive that suppresses the generation of static electricity to cutting water or cleaning water, and attaching a static eliminator to a dicing device to remove the generated static electricity is also used, but Not enough effect, or
The circuit on the surface of the wafer chip is destroyed or altered to adversely affect the wafer chip.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】従来の紫外線硬化型粘
着シートは表面基材に使用されているポリオレフィンや
その複合フィルムの電気抵抗値が高く、また、粘着剤層
に使用されている粘着剤の主成分であるアクリル系粘着
剤や紫外線硬化型化合物も電気抵抗値が高い。そのため
ダイシング時の切削水や洗浄時の洗浄水を高圧噴射させ
ると、シリコンやガリウムヒ素等の半導体ウエハに静電
気が発生し帯電してしまい、これを除去することが難し
く、ウエハチップ表面の回路を破壊させたり変質させて
しまうという問題点がある。本発明は、このような問題
を解決するために、ダイシング時の切削水や洗浄時の洗
浄水によって、発生する静電気を速やかな除去を可能に
したことを特徴とした紫外線硬化型粘着シートを提供す
るものである。
The conventional UV-curable pressure-sensitive adhesive sheet has a high electric resistance value of the polyolefin or its composite film used as the surface base material, and also has a high electrical resistance of the pressure-sensitive adhesive used in the pressure-sensitive adhesive layer. Acrylic adhesives and UV-curable compounds, which are the main components, also have high electric resistance values. Therefore, when cutting water for dicing and cleaning water for cleaning are jetted under high pressure, static electricity is generated on a semiconductor wafer such as silicon or gallium arsenide, which makes it difficult to remove it. There is a problem of destroying or altering the quality. In order to solve such a problem, the present invention provides an ultraviolet-curable pressure-sensitive adhesive sheet characterized by enabling quick removal of static electricity generated by cutting water during dicing or cleaning water during cleaning. To do.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明では上記課題を解
決するため、鋭意研究した結果、以下に記述するような
粘着シートが有効であることを見い出し本発明を完成さ
せた。すなわち、本発明の粘着シートは、紫外線が透過
される表面基材が少なくとも電気抵抗値の低い内部可塑
化ポリ塩化ビニルフィルムからなる層であり、その基材
表面に粘着剤を形成させた半導体ウエハダイシング用粘
着シートである。さらに、本発明はその粘着剤として特
定の電気抵抗値の低いもので形成された半導体ウエハダ
イシング用粘着シートである。
In the present invention, in order to solve the above problems, as a result of intensive studies, the inventors have found that the adhesive sheet as described below is effective and completed the present invention. That is, the pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention is a semiconductor wafer in which a surface substrate to which ultraviolet rays are transmitted is a layer made of an internally plasticized polyvinyl chloride film having at least a low electric resistance value, and a pressure-sensitive adhesive is formed on the substrate surface. It is an adhesive sheet for dicing. Furthermore, the present invention is a pressure-sensitive adhesive sheet for semiconductor wafer dicing, which is formed of a material having a low specific electric resistance value as the pressure-sensitive adhesive.

【0006】これまでにポリオレフィンフィルムやポリ
塩化ビニル及びその共重合体フィルムを使用し紫外線硬
化型粘着剤層を形成させた紫外線硬化型粘着シートにつ
いての記載は多いが、本発明のように電気抵抗値の低い
表面基材を使用し、その表面に紫外線硬化型粘着剤、紫
外線重合性化合物、増感剤、さらに必要に応じて粘着付
与剤、可塑剤等を配合した電気抵抗値の低い紫外線硬化
型粘着剤層を設け、ダイシング時や洗浄時に発生する静
電気を除去できるようにした粘着シートについて記載さ
れたものは全くない。
Up to now, there have been many descriptions about the UV-curable pressure-sensitive adhesive sheet in which the UV-curable pressure-sensitive adhesive layer is formed by using the polyolefin film, polyvinyl chloride and its copolymer film, but like the present invention, the electric resistance UV curable with low electric resistance by using a surface base material with low value and compounding UV curable adhesive, UV polymerizable compound, sensitizer, and if necessary tackifier, plasticizer, etc. on the surface. There is no description of a pressure-sensitive adhesive sheet provided with a mold pressure-sensitive adhesive layer and capable of removing static electricity generated during dicing or cleaning.

【0007】ここで表面基材として使用する内部可塑化
ポリ塩化ビニルフィルムとは、ポリ塩化ビニルにジブチ
ルフタレート(DBP)やジオクチルフタレート(DO
P)などの可塑剤を配合することなく、塩化ビニルと他
のモノマーを共重合することによって可塑性を付与した
ポリ塩化ビニルから得られたフィルムであって、しかも
電気抵抗値が低いフィルムを意味し、たとえば、塩化ビ
ニルと共重合し得るものモノマーを共重合させて得られ
る共重合体、特に、塩化ビニル−酢酸ビニル、塩化ビニ
ルー高級アルキルビニルエーテル、塩化ビニル−エチレ
ン酢酸ビニル、塩化ビニル−アクリレート、塩化ビニル
−エチレン、塩化ビニル−プロピレン等の共重合体をフ
ィルム化したものが挙げられる。この内部可塑化ポリ塩
化ビニルフィルムには、電気抵抗値を低い値に保持する
ことができるかぎり、自体公知の他の配合剤を配合させ
ることができる。
Here, the internally plasticized polyvinyl chloride film used as the surface substrate means polyvinyl chloride and dibutyl phthalate (DBP) or dioctyl phthalate (DO).
P) is a film obtained from polyvinyl chloride that has been plasticized by copolymerizing vinyl chloride with another monomer without adding a plasticizer such as P), and has a low electric resistance value. , For example, a copolymer obtained by copolymerizing a monomer which can be copolymerized with vinyl chloride, particularly vinyl chloride-vinyl acetate, vinyl chloride-higher alkyl vinyl ether, vinyl chloride-ethylene vinyl acetate, vinyl chloride-acrylate, chloride Examples thereof include films of copolymers such as vinyl-ethylene and vinyl chloride-propylene. This internally plasticized polyvinyl chloride film can be blended with other compounding agents known per se as long as the electrical resistance value can be maintained at a low value.

【0008】本発明における表面基材は、前記内部可塑
化ポリ塩化ビニルフィルムからなるものであるが、該フ
ィルムに限定されず、該フィルム層と他の電気抵抗値が
低い化合物との層からなるもの等、本発明が目的とする
紫外線透過性や電気特性を損なわないかぎり、他の層が
形成されていてもよい。
The surface substrate in the present invention is composed of the above-mentioned internally plasticized polyvinyl chloride film, but is not limited to the film, and is composed of a layer of the film layer and another compound having a low electric resistance value. Other layers may be formed, for example, as long as they do not impair the ultraviolet ray transmittance and electric characteristics intended by the present invention.

【0009】この内部可塑化ポリ塩化ビニルフィルムの
厚みとしては30ないし200ミクロン、好ましくは6
0ないし120ミクロンが良い。30ミクロン以下では
ポリダイシング時に回転刃がフィルム層を突切ってしま
う。また、200ミクロンを越えるとエキスパンド時に
充分に伸びないでピックアップが困難になる。
The thickness of the internally plasticized polyvinyl chloride film is 30 to 200 microns, preferably 6
0 to 120 microns is good. If the thickness is less than 30 μm, the rotary blade will cut through the film layer during polydicing. On the other hand, if it exceeds 200 microns, it will not be sufficiently expanded at the time of expanding and picking up will be difficult.

【0010】次に、紫外線硬化型粘着剤としては、エチ
レン−酢酸ビニル共重合体に塩化ビニルモノマーをグラ
フト重合させた樹脂に紫外線重合性プレポリマーおよび
/または紫外線重合性モノマーを配合させ、さらに、紫
外線硬化反応を向上させるために増感剤を配合させたも
のである。また、必要に応じて紫外線照射前後の接着力
を調節するために粘着付与剤および可塑剤が用いられる
ことがある。ここでいうエチレン−酢酸ビニル共重合体
に塩化ビニルモノマーをグラフト重合させた樹脂として
は、エチレン30ないし60重量部と酢酸ビニル70な
いし40重量部の比率で含むエチレン−酢酸ビニル共重
合体50ないし75重量部に対して塩化ビニルモノマー
を50ないし25重量部の割合でグラフト重合させたも
のが例示される。
Next, as the UV-curable pressure-sensitive adhesive, a resin obtained by graft-polymerizing a vinyl chloride monomer onto an ethylene-vinyl acetate copolymer is blended with a UV-polymerizable prepolymer and / or a UV-polymerizable monomer. It contains a sensitizer to improve the ultraviolet curing reaction. In addition, a tackifier and a plasticizer may be used to adjust the adhesive force before and after irradiation with ultraviolet rays, if necessary. The resin obtained by graft-polymerizing a vinyl chloride monomer to the ethylene-vinyl acetate copolymer referred to herein is an ethylene-vinyl acetate copolymer containing 50 to 40 parts by weight of ethylene and 70 to 40 parts by weight of vinyl acetate. An example is one in which vinyl chloride monomer is graft-polymerized at a ratio of 50 to 25 parts by weight with respect to 75 parts by weight.

【0011】次に、紫外線重合性プレポリマーとしては
ポリエステルモノアクリレート、ポリエステルジアクリ
レート、ポリエステルトリアクリレート、エポキシアク
リレート、ポリウレタンアクリレート、ポリエーテルア
クリレート、メラミンアクリレート、アルキッドアクリ
レート、シリコンアクリレート等であって、具体的には
イソデシルアクリレート、ステアリルアクリレート、ラ
ウリルアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリ
レート、1,4ブタンジオールジアクリレート、ポリエ
チレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコー
ルジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリ
レート、ペンタエリスリトールトリアクリレート等を挙
げることができる。
Next, as the UV-polymerizable prepolymer, there are polyester monoacrylate, polyester diacrylate, polyester triacrylate, epoxy acrylate, polyurethane acrylate, polyether acrylate, melamine acrylate, alkyd acrylate, silicon acrylate, etc. Is isodecyl acrylate, stearyl acrylate, lauryl acrylate, 1,3-butanediol diacrylate, 1,4 butanediol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, etc. Can be mentioned.

【0012】また、紫外線重合性モノマーとしては、単
官能性モノマーとして、2−エチルヘキシルアクリレー
ト、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキ
シプロピルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアク
リレート等があり、二官能性モノマーとしては、ジシク
ロボンタニルジアクリレート、1,3−ブタンジオール
ジアクリレート、1,4−ブタンジオールジアクリレー
ト、ポリエチレングリコールジアクリレート等がある。
また、三官能性以上のモノマーとしては、トリメチロー
ルプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールト
リアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレ
ート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等が
挙げられる。
The UV-polymerizable monomers include monofunctional monomers such as 2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate and tetrahydrofurfuryl acrylate, and the bifunctional monomers include: There are dicyclobontanyl diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, 1,4-butanediol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate and the like.
Examples of trifunctional or higher functional monomers include trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol triacrylate, and dipentaerythritol hexaacrylate.

【0013】これら紫外線重合性プレポリマーおよび/
または紫外線重合性モノマーの配合量はエチレン−酢酸
ビニル共重合体に塩化ビニルモノマーをグラフト重合さ
せた樹脂100重量部に対して1ないし500重量部、
好ましくは50ないし150重量部が良い。この範囲を
超えると粘着層に紫外線を照射した時に粘着層が固く脆
くなりエキスパンドが困難になる。
These UV-polymerizable prepolymers and / or
Alternatively, the amount of the UV-polymerizable monomer is 1 to 500 parts by weight based on 100 parts by weight of a resin obtained by graft-polymerizing a vinyl chloride monomer on an ethylene-vinyl acetate copolymer,
It is preferably 50 to 150 parts by weight. When it exceeds this range, when the adhesive layer is irradiated with ultraviolet rays, the adhesive layer becomes hard and brittle, and expansion becomes difficult.

【0014】また、増感剤としてはベンゾイン、ベンゾ
インエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテ
ル、ジフェニルスルファイド、アントラセン、ベンゾフ
ェノン、α−クロロアントラキノン、ジフェニルジスル
ファイド、ジアセチル、ヘキサクロルブタジエン、ペン
タクロルブタジエン、オクタクロロブテン、1−クロル
メチルナフタリン等を挙げることができ、0.1ないし
5重量%、好ましくは0.1ないし3重量%配合され
る。
As the sensitizer, benzoin, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, diphenyl sulfide, anthracene, benzophenone, α-chloroanthraquinone, diphenyl disulfide, diacetyl, hexachlorobutadiene, pentachlorobutadiene, octachloro. Butene, 1-chloromethylnaphthalene and the like can be mentioned, and they are mixed in an amount of 0.1 to 5% by weight, preferably 0.1 to 3% by weight.

【0015】さらに、必要に応じて用いられる粘着付与
剤としては、エチレン−酢酸ビニル共重合体に塩化ビニ
ルモノマーをグラフト重合させた樹脂、または、可塑剤
と相溶性を有するものであれば、公知のどのようなもの
でもよいが、具体的には、グリセリンエステルロジン、
ペンタエリスリットエステルロジン等のロジン及び変性
ロジンの誘導体、テルペンフェノール等のテルペン変性
体、アルキルフェノールおよび変性フェノール等のフェ
ノール樹脂等の1種または2種以上のものが用いられ
る。その配合量としてはエチレン−酢酸ビニル共重合体
に塩化ビニルモノマーをグラフト重合させた樹脂100
重量部に対して1ないし100重量部、好ましくは5な
いし30重量部が良い。粘着付与剤が100重量部以上
になると粘着剤層に紫外線を照射させても接着力が適切
に低減しなくなる。
Further, as the tackifier used if necessary, a resin obtained by graft-polymerizing an ethylene-vinyl acetate copolymer with a vinyl chloride monomer, or a resin having compatibility with a plasticizer is known. Any of the above may be used, but specifically, glycerin ester rosin,
One or more of rosin and modified rosin derivatives such as pentaerythritol rosin, terpene modified products such as terpene phenol, and phenolic resins such as alkylphenol and modified phenol are used. The compounding amount thereof is a resin 100 obtained by graft-polymerizing an ethylene-vinyl acetate copolymer with a vinyl chloride monomer.
1 to 100 parts by weight, preferably 5 to 30 parts by weight, relative to parts by weight. If the tackifier is 100 parts by weight or more, the adhesive force will not be appropriately reduced even if the pressure-sensitive adhesive layer is irradiated with ultraviolet rays.

【0016】次に、可塑剤としては、一般にポリ塩化ビ
ニル用可塑剤として用いられているものが使用できる
が、具体的にはフタル酸2−エチルヘキシル、フタル酸
ブチル等のフタル酸エステル系、アジピン酸2−エチル
ヘキシル、アジピン酸ブチル等の脂肪族二塩基酸エステ
ル系、リン酸トリブチル、リン酸トリフェニル、リン酸
トリクレジル等の無機酸エステル系、ポリエステル系、
エポキシ系、その他塩素化パラフィン等の1種または2
種以上のものが用いられる。その配合量としては、エチ
レン−酢酸ビニル共重合体に塩化ビニルモノマーをグラ
フト重合させた樹脂100重量部に対して1ないし50
重量部、好ましくは5ないし20重量部が良い。可塑剤
を50重量部以上にすると紫外線重合性化合物との相溶
性があるため、粘着剤層に紫外線を照射させても粘着層
が硬化せず接着力が低減し難くなり、また、シリコンウ
エハに転移して表面を汚染させることにある。
As the plasticizer, those generally used as a plasticizer for polyvinyl chloride can be used. Specifically, phthalate ester compounds such as 2-ethylhexyl phthalate and butyl phthalate, and adipine are used. 2-ethylhexyl acid, aliphatic dibasic acid ester such as butyl adipate, inorganic acid ester such as tributyl phosphate, triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, polyester,
Epoxy type, other 1 or 2 such as chlorinated paraffin
More than one species is used. The compounding amount is 1 to 50 with respect to 100 parts by weight of a resin obtained by graft-polymerizing a vinyl chloride monomer on an ethylene-vinyl acetate copolymer.
Parts by weight, preferably 5 to 20 parts by weight. When the amount of the plasticizer is 50 parts by weight or more, it is compatible with the UV-polymerizable compound. Therefore, even if the pressure-sensitive adhesive layer is irradiated with ultraviolet rays, the pressure-sensitive adhesive layer is not cured and the adhesive strength is difficult to reduce. It is to transfer and contaminate the surface.

【0017】本発明のウエハダイシング用粘着シート
は、前述の少なくとも内部可塑化ポリ塩化ビニルフィル
ムを一つの層とした表面基材の上に、前記紫外線硬化型
粘着剤の層を、公知の方法を用いて形成させることによ
り製造することができる。たとえば、エチレン−酢酸ビ
ニル共重合体に塩化ビニルモノマーをグラフト重合させ
た樹脂に紫外線重合性プレポリマーおよび/または紫外
線重合性モノマーおよび増感剤を添加し、また、必要に
より、粘着付与剤、可塑剤を配合した混合物を公知の有
機溶媒にて溶液とし、常法により前記表面基材に塗布・
乾燥して粘着剤層を形成し、半導体ウエハダイシング用
粘着シートを得る。好ましい有機溶媒としては、トルエ
ン、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、メチルエチルケ
トン等を挙げることができる。また、塗布する時に希釈
剤や乾燥時の熱のために、フィルムが軟化したり膨潤し
て作業性が困難な時には、粘着剤を剥離シートの上に塗
布して乾燥させ、その後に内部可塑化ポリ塩化ビニルフ
ィルムを貼合してもよい。この紫外線硬化型粘着剤層の
厚さは3ないし50ミクロンが良い。
The pressure-sensitive adhesive sheet for wafer dicing according to the present invention comprises a layer of the above-mentioned UV-curable pressure-sensitive adhesive formed on a surface substrate having at least the above-mentioned internal plasticized polyvinyl chloride film as one layer by a known method. It can be manufactured by forming it using. For example, an ultraviolet-polymerizable prepolymer and / or an ultraviolet-polymerizable monomer and a sensitizer are added to a resin obtained by graft-polymerizing an ethylene-vinyl acetate copolymer with a vinyl chloride monomer, and if necessary, a tackifier, a plasticizer The mixture containing the agent is made into a solution with a known organic solvent, and applied to the surface base material by a conventional method.
An adhesive layer is formed by drying to obtain an adhesive sheet for semiconductor wafer dicing. Preferred organic solvents include toluene, ethyl acetate, tetrahydrofuran, methyl ethyl ketone and the like. When workability is difficult due to the softening or swelling of the film due to the diluent or heat during drying, an adhesive is applied on the release sheet and dried, followed by internal plasticization. You may stick a polyvinyl chloride film. The thickness of this UV-curable pressure-sensitive adhesive layer is preferably 3 to 50 μm.

【0018】このようにして得られた半導体ウエハダイ
シング用粘着シートの使用法の一例を説明する。先ず、
半導体ウエハをウエハダイシング用粘着シートの粘着剤
面に粘着固定する。この場合、本発明の紫外線硬化性粘
着剤は接着力が120ないし1000g/25mmで半
導体ウエハを固定できる。
An example of the method of using the thus obtained adhesive sheet for semiconductor wafer dicing will be described. First,
The semiconductor wafer is adhesively fixed to the adhesive surface of the adhesive sheet for wafer dicing. In this case, the ultraviolet curable pressure sensitive adhesive of the present invention can fix a semiconductor wafer with an adhesive force of 120 to 1000 g / 25 mm.

【0019】次に、ダイシングソーを使って半導体ウエ
ハの表面に形成されている素子を囲むように縦横に格子
状に完全カットする。この際、ダイシングソーの回転刃
がウエハをカットする時に摩擦熱が発生するために切削
水が噴出されウエハチップや回転刃を冷却したり洗浄し
たりする。さらに、次の洗浄工程では、ウエハのカット
時に発生する汚れや切り粉を洗浄するために高圧の超純
水が噴出される。この時にウエハ表面と超純水の摩擦に
より静電気が発生し易いが、本発明のウエハダイシング
用粘着シートを用いれば、静電気は速やかに除電され
る。
Next, a dicing saw is used to completely cut the elements formed on the surface of the semiconductor wafer in a grid pattern vertically and horizontally. At this time, since frictional heat is generated when the rotary blade of the dicing saw cuts the wafer, cutting water is ejected to cool or clean the wafer chip and the rotary blade. Further, in the next cleaning step, high-pressure ultrapure water is jetted to clean dirt and chips generated when the wafer is cut. At this time, static electricity is easily generated due to friction between the wafer surface and ultrapure water, but static electricity can be quickly eliminated by using the adhesive sheet for wafer dicing of the present invention.

【0020】以下、本発明を実施例に基づいて説明する
が、本発明はこの実施例に限定されるものではない。
The present invention will be described below based on examples, but the present invention is not limited to these examples.

【実施例1】エチレン−酢酸ビニル共重合体に塩化ビニ
ルモノマーを グラフト重合させた樹脂 スミグラフト(住友化学)*1 100重量部 紫外線硬化型化合物 ポリエステルオリゴマー(大日精化) 100重量部 増感剤 ベンゾフェノン 3重量部 粘着付与剤 エステルガム 20重量部 可塑剤 ジオクチルフタレート 10重量部 *1 エチレン−酢酸ビニル共重合体に塩化ビニルモノ
マーをグラフト重合させた樹脂は、エチレンを55重量
%含有するエチレン−酢酸ビニル共重合体50重量%と
塩化ビニルモノマー50重量%とのグラフト重合体であ
る。
Example 1 Resin obtained by graft-polymerizing a vinyl chloride monomer to an ethylene-vinyl acetate copolymer Sumigraft (Sumitomo Chemical) * 1 100 parts by weight UV-curable compound Polyester oligomer (Dainichiseika) 100 parts by weight Sensitizer benzophenone 3 parts by weight Tackifier Ester gum 20 parts by weight Plasticizer Dioctyl phthalate 10 parts by weight * 1 Resin obtained by graft-polymerizing vinyl chloride monomer on ethylene-vinyl acetate copolymer is ethylene-vinyl acetate containing 55% by weight of ethylene. It is a graft polymer of 50% by weight of a copolymer and 50% by weight of a vinyl chloride monomer.

【0021】上記、配合組成の紫外線硬化型粘着剤をト
ルエンと酢酸エチルの1:1混合溶剤に溶解して粘着剤
溶液を調製し、これをシリコーン樹脂がコートされてい
る厚さ50ミクロンのポリエステルフィルム上に、乾燥
後の厚みが10ミクロンになるようにアプリケーターを
用いて塗布し、100℃で2分間乾燥する。乾燥後に内
部可塑化ポリ塩化ビニルフィルム(厚さ100ミクロ
ン)の表面に前記の粘着剤がくるように貼合する。
An ultraviolet curable adhesive having the above composition was dissolved in a 1: 1 mixed solvent of toluene and ethyl acetate to prepare an adhesive solution, which was coated with a silicone resin and had a thickness of 50 μm. The film is applied onto the film using an applicator so that the thickness after drying is 10 μm, and dried at 100 ° C. for 2 minutes. After drying, the above-mentioned pressure-sensitive adhesive is attached to the surface of an internally plasticized polyvinyl chloride film (thickness 100 μm).

【0022】このようにして得られたウエハダイシング
用粘着シートを用いて粘着型塗布面の体積抵抗値、表面
抵抗値を超絶縁抵抗計によって測定しその結果を試験結
果表に示した。
Using the pressure-sensitive adhesive sheet for wafer dicing thus obtained, the volume resistance value and surface resistance value of the pressure-sensitive adhesive coated surface were measured by a super insulation resistance meter, and the results are shown in the test result table.

【0023】[0023]

【比較例1】 アクリル系粘着剤 100重量部 紫外線硬化型化合物 ポリエステルオリゴマー(大日精化) 100重量部 架橋剤 (コロネートL) 20重量部 増感剤 (ベンゾフェノン) 3重量部 上記、配合組成の紫外線硬化型粘着剤を実施例1と同様
に有機溶剤を用いて、粘着剤溶液を調製し、塗布、乾燥
し、乾燥後エチレン−酢酸ビニル共重合体フィルム10
0ミクロンに実施例1と同様に貼合した。このようにし
て得られたウエハダイシング用粘着シートを用いて実施
例1と同様の試験を行いその結果を試験結果表にした。
Comparative Example 1 Acrylic adhesive 100 parts by weight UV curable compound Polyester oligomer (Dainichiseika) 100 parts by weight Crosslinking agent (Coronate L) 20 parts by weight Sensitizer (benzophenone) 3 parts by weight The curable pressure sensitive adhesive was prepared in the same manner as in Example 1 except that the organic solvent was used to prepare a pressure sensitive adhesive solution, which was coated, dried, and dried.
It was stuck to 0 micron in the same manner as in Example 1. Using the pressure-sensitive adhesive sheet for wafer dicing thus obtained, the same test as in Example 1 was conducted, and the results are shown in the test result table.

【0024】[0024]

【試験結果】 註. 表面抵抗値は粘着テープの糊面の測定値。 上記の結果より明らかなように、実施例1では体積抵抗
値も表面抵抗値も比較例1に比べると相当低くなり、本
発明が目的とする半導体ウエハダイシング用粘着シート
として好適に使用されることが理解されるであろう。
【Test results】 Note. The surface resistance value is the value measured on the adhesive surface of the adhesive tape. As is clear from the above results, in Example 1, both the volume resistance value and the surface resistance value were considerably lower than those in Comparative Example 1, and it is suitable for use as the adhesive sheet for semiconductor wafer dicing intended by the present invention. Will be understood.

【0025】[0025]

【発明の効果】本発明によるウエハダイシング用粘着シ
ートを使用すると、半導体ウエハのダイシング時、ある
いは洗浄工程時の高圧噴出される切削水や洗浄水に静電
気が発生しても粘着剤層および表面基材フィルム層の体
積抵抗値および表面抵抗値の値が低いため、直ちに除電
されウエハ表面の回路を破壊させたり変質させるような
ことは防止できるという、優れた効果をもたらす。
When the pressure-sensitive adhesive sheet for wafer dicing according to the present invention is used, even when static electricity is generated in cutting water or cleaning water jetted at high pressure during dicing of a semiconductor wafer or during a cleaning process, the pressure-sensitive adhesive layer and surface substrate Since the material film layer has a low volume resistance value and a low surface resistance value, it is possible to prevent the electric charge from being immediately removed and destroying or degrading the circuit on the wafer surface, which is an excellent effect.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 紫外線が透過される表面基材と粘着剤と
からなる半導体ウエハダイシング用粘着シートにおい
て、表面基材が、少なくとも電気抵抗値の低い内部可塑
化ポリ塩化ビニルフィルムからなる層であることを特徴
とする半導体ウエハダイシング用粘着シート。
1. A pressure-sensitive adhesive sheet for semiconductor wafer dicing, comprising a surface substrate that transmits ultraviolet rays and a pressure-sensitive adhesive, wherein the surface substrate is a layer made of at least an internally plasticized polyvinyl chloride film having a low electric resistance value. An adhesive sheet for semiconductor wafer dicing, which is characterized in that
【請求項2】 前記粘着剤が、エチレン−酢酸ビニル共
重合体に塩化ビニルモノマーをグラフト重合させた樹脂
と、紫外線反応性プレポリマーおよび/または紫外線反
応型モノマーと、増感剤とを配合した、紫外線の照射に
よって接着力が低減する紫外線硬化型の粘着剤層である
ことを特徴とする請求項1記載の半導体ウエハダイシン
グ用粘着シート。
2. The adhesive comprises a resin prepared by graft-polymerizing an ethylene-vinyl acetate copolymer with a vinyl chloride monomer, an ultraviolet-reactive prepolymer and / or an ultraviolet-reactive monomer, and a sensitizer. The pressure-sensitive adhesive sheet for semiconductor wafer dicing according to claim 1, wherein the pressure-sensitive adhesive sheet is an ultraviolet-curable pressure-sensitive adhesive layer whose adhesive force is reduced by irradiation with ultraviolet rays.
【請求項3】 前記粘着剤が、さらに粘着付与剤あるい
は可塑剤を含むことを特徴とする請求項2記載の半導体
ウエハダイシング用粘着シート。
3. The pressure-sensitive adhesive sheet for semiconductor wafer dicing according to claim 2, wherein the pressure-sensitive adhesive further contains a tackifier or a plasticizer.
JP32503991A 1991-11-14 1991-11-14 Adhesive sheet for dicing of semiconductor wafer Pending JPH05175331A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP32503991A JPH05175331A (en) 1991-11-14 1991-11-14 Adhesive sheet for dicing of semiconductor wafer

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP32503991A JPH05175331A (en) 1991-11-14 1991-11-14 Adhesive sheet for dicing of semiconductor wafer

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH05175331A true JPH05175331A (en) 1993-07-13

Family

ID=18172469

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP32503991A Pending JPH05175331A (en) 1991-11-14 1991-11-14 Adhesive sheet for dicing of semiconductor wafer

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH05175331A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004281616A (en) * 2003-03-14 2004-10-07 Toray Ind Inc Manufacturing method and manufacturing apparatus of circuit board
JP2005225068A (en) * 2004-02-13 2005-08-25 Gunze Ltd Manufacturing method of semiconductive substrate film for dicing
JP2005340525A (en) * 2004-05-27 2005-12-08 Goo Chemical Co Ltd Substrate holder for wiring board, intermediate material for wiring board, and process for producing wiring board
JP2021015953A (en) * 2019-03-12 2021-02-12 住友ベークライト株式会社 Adhesive tape and base material for adhesive tape

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004281616A (en) * 2003-03-14 2004-10-07 Toray Ind Inc Manufacturing method and manufacturing apparatus of circuit board
JP2005225068A (en) * 2004-02-13 2005-08-25 Gunze Ltd Manufacturing method of semiconductive substrate film for dicing
JP2005340525A (en) * 2004-05-27 2005-12-08 Goo Chemical Co Ltd Substrate holder for wiring board, intermediate material for wiring board, and process for producing wiring board
JP2021015953A (en) * 2019-03-12 2021-02-12 住友ベークライト株式会社 Adhesive tape and base material for adhesive tape

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6010782A (en) Thin adhesive sheet for working semiconductor wafers
JP3388674B2 (en) Energy ray-curable pressure-sensitive adhesive composition and method of using the same
TWI589668B (en) Semiconductor processing adhesive tape
JPH0616524B2 (en) Adhesive thin plate for fixing semiconductor wafers
KR20170122185A (en) A method of manufacturing a semiconductor chip and a mask-integrated surface protection tape
JPH10337823A (en) Base material and pressure sensitive adhesive tape using the material
JP4247956B2 (en) Antistatic dicing tape
JP2008001838A (en) Adhesive film used for grinding reverse surface of semiconductor wafer and method for grinding the same
JP6006936B2 (en) Dicing sheet with protective film forming layer and chip manufacturing method
JP2009138026A (en) Energy ray-curable chip protecting film
KR102391661B1 (en) Semiconductor chip manufacturing method, surface protection tape
WO2017082212A1 (en) Mask-integrated surface protection tape
JP6800213B2 (en) Mask integrated surface protection tape
JP2004256793A (en) Adhesive tape for sticking wafer
JP2004331743A (en) Pressure-sensitive adhesive sheet and method for using the same
JPH07105368B2 (en) Adhesive sheet for semiconductor wafer dicing
JPH09298173A (en) Wafer protecting adhesive sheet
TWI809030B (en) Sheet material for workpiece processing and method of manufacturing the processed workpiece
TWI717654B (en) Manufacturing method of semiconductor chip
JP2008218930A (en) Energy ray hardening type chip protecting film
JPWO2018083987A1 (en) Stealth dicing adhesive sheet
JPH05175331A (en) Adhesive sheet for dicing of semiconductor wafer
JPH0630353B2 (en) Method of protecting semiconductor wafer
JP3073239B2 (en) Adhesive sheet for attaching wafer
JP4663081B2 (en) Adhesive film for semiconductor wafer back grinding and semiconductor wafer back grinding method using the same